JP2001067660A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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JP2001067660A
JP2001067660A JP24337799A JP24337799A JP2001067660A JP 2001067660 A JP2001067660 A JP 2001067660A JP 24337799 A JP24337799 A JP 24337799A JP 24337799 A JP24337799 A JP 24337799A JP 2001067660 A JP2001067660 A JP 2001067660A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic film
film
heating
substrate
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JP24337799A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroto Takeshita
弘人 竹下
Kazumasa Shimoda
一正 下田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance mass productivity by depositing a magnetic film on a nonmagnetic substrate and heating a heating element formed with ruggedness on a concentric circle, then pressing the heating element to the magnetic film. SOLUTION: After the magnetic film 3 is deposited on a substrate 1, a metal mold 11 alternately concentrically formed with projecting parts and recessed parts is heated and is pressed onto the magnetic film 3. The regions of the magnetic film 3 abutting on the projecting parts of the metal mold 11 are heated and are made nonmagnetic or higher in coercive force by pressing the metal mold 11 to the magnetic film 3. Consequently, the magnetical recording in the heated regions is made difficult. The heating temperature is preferably in a range of 70 to 500 deg.C. A protective film 4 is deposited on the magnetic film 3 after the heating to the magnetic film 3. The substrate 1 consists of a nonmagnetic material and the metal mold 11 consists of Ni or Ni alloy. For example, the depth of the recessed parts of the metal mold 11 is about 0.5 μm, the width in the radial direction of the recessed parts is about 1.8 μm and the width in the radial direction of the projecting parts is about 0.4 μm. The heating of the magnetic film 3 by pressing of the metal mold allows the formation of plural guard bands at a time and contributes to the shortening of a work period.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクドライ
ブに適用される磁気記録媒体とその媒体の製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium applied to a hard disk drive and a method for manufacturing the medium.

【0002】近年、情報記憶装置の中心的役割を担うハ
ードディスクドライブに対し、小型化および大容量化が
要求されている。これらの要求は磁気ディスク媒体の面
記録密度の向上により実現される。面記録密度には、デ
ィスク媒体の円周方向の線記録密度と半径方向のトラッ
ク密度があり、これらのいずれか或いは両方を向上させ
ることによって、高い面記録密度を得ることができる。
本発明は、特にトラック密度の向上に寄与する技術であ
る。
In recent years, a hard disk drive that plays a central role in an information storage device has been required to be reduced in size and increased in capacity. These requirements are realized by improving the areal recording density of the magnetic disk medium. The areal recording density includes a linear recording density in the circumferential direction and a track density in the radial direction of the disk medium. A high areal recording density can be obtained by improving one or both of them.
The present invention is a technique that particularly contributes to improvement in track density.

【0003】[0003]

【従来技術】従来技術においては、図1(a)に示され
るように、アルミニウム基板などの非磁性基板2にクロ
ム層を形成して下地膜3となし、下地膜3の上にコバル
トを主分とする合金からなる磁性膜4を形成し、磁性膜
4上にアモルファスカーボンのような保護膜6を形成さ
れた磁気ディスク媒体60が提供されている。
2. Description of the Related Art In the prior art, as shown in FIG. 1A, a chromium layer is formed on a nonmagnetic substrate 2 such as an aluminum substrate to form a base film 3, and cobalt is mainly formed on the base film 3. A magnetic disk medium 60 is provided in which a magnetic film 4 made of an alloy is formed and a protective film 6 such as amorphous carbon is formed on the magnetic film 4.

【0004】磁気ディスク媒体のトラック密度を高める
ためには、記録用磁気ヘッドのコア幅を狭めて記録トラ
ックの幅を縮小することが必要である。ところが、情報
の記録に磁気ヘッドを用いる方式では、記録ヘッド側面
から生じる漏れ磁場によって記録トラックと記録トラッ
クとの間の部分(ガードバンド)に余計な記録が行われ
てしまう。このような領域はサイドイレーズと呼ばれ、
再生時におけるノイズの原因となる。さらに、トラック
密度の向上を図って記録用磁気ヘッドのコア幅を狭めて
も、ギャップ長およびヘッド浮上量を小さくしない限
り、サイドイレーズの幅はほとんど変化しないため、ト
ラック幅の減少に伴い、記録データを再生する際のS/
N比を確保するのが難しくなってくる。
In order to increase the track density of the magnetic disk medium, it is necessary to reduce the width of the recording track by reducing the core width of the recording magnetic head. However, in a method using a magnetic head for recording information, extra recording is performed in a portion (guard band) between recording tracks due to a leakage magnetic field generated from the side of the recording head. Such an area is called side erase,
This causes noise during playback. Furthermore, even if the core width of the recording magnetic head is reduced by improving the track density, the width of the side erase hardly changes unless the gap length and the head flying height are reduced. S / when reproducing data
It becomes difficult to secure the N ratio.

【0005】そこで、図1(b)に示されるように、予
めディスク基板2の円周方向に沿ってグルーブ9を形成
しておき、これをガードバンドに割り当てることによ
り、トラックを物理的に分離するディスク媒体61が提
案されている。この磁気ディスク媒体61では、グルー
ブの深さが十分あれば、書き込みヘッドからの漏れ磁場
がガードバンドに届かない。そのため、ガードバンドに
磁気的な記録できないため、トラックエッジノイズが抑
制され、トラックの高密度化に有効と考えられている。
Therefore, as shown in FIG. 1B, grooves 9 are formed in advance in the circumferential direction of the disk substrate 2 and are assigned to guard bands to physically separate tracks. A disk medium 61 has been proposed. In this magnetic disk medium 61, if the depth of the groove is sufficient, the leakage magnetic field from the write head does not reach the guard band. Therefore, since magnetic recording cannot be performed in the guard band, track edge noise is suppressed, and it is considered to be effective in increasing the track density.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、グルーブが形
成された媒体には、最終的に表面に高低差が数10nm
〜数100nmの凹凸が残る。今後の磁気ディスク媒体
の高密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上量が30nm以下
になることを考えると、信頼性の面で以下に示す理由に
よる問題が生じてくる。
However, the medium on which the groove is formed has a height difference of several tens nm on the surface.
Unevenness of several hundred nm remains. Considering that the flying height of the magnetic head will be reduced to 30 nm or less with the increase in the density of magnetic disk media in the future, problems will arise in terms of reliability due to the following reasons.

【0007】ハードディスクドライブでは、ディスクが
高速回転することにより発生する空気流が磁気ヘッドを
搭載したスライダを浮上させ、磁気ヘッドはディスクと
非接触で記録および再生を行っている。ところが、ディ
スクの表面に凹凸が存在すると、空気流の乱れを介して
スライダの浮上量の変動が発生し、不安定になることが
知られている。このことは、浮上量が50nm〜100
nmと比較的大きい場合には余り問題にならなかった
が、今後要求される30nm以下の極低浮上量では大き
な問題となる。
In a hard disk drive, an air flow generated by the high-speed rotation of a disk causes a slider on which a magnetic head is mounted to fly, and the magnetic head performs recording and reproduction without contacting the disk. However, it is known that if there are irregularities on the surface of the disk, the flying height of the slider fluctuates due to the turbulence of the air flow, and becomes unstable. This means that the flying height is 50 nm to 100 nm.
Although it was not a problem when the diameter was relatively large as nm, it became a serious problem when an extremely low flying height of 30 nm or less required in the future.

【0008】そこで、本発明の第1の目的は、記録密度
が高い磁気記録媒体を提供することである。
Accordingly, a first object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a high recording density.

【0009】本発明の第2の目的は、トラックエッジノ
イズを抑えた磁気記録媒体を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a magnetic recording medium with reduced track edge noise.

【0010】本発明の第3の目的は、磁気ヘッドの浮上
を安定させることである。
[0010] A third object of the present invention is to stabilize the flying of a magnetic head.

【0011】本発明の第4の目的は、低コストで磁気記
録媒体を製造することである。
[0011] A fourth object of the present invention is to manufacture a magnetic recording medium at low cost.

【0012】[0012]

【課題を解決する手段】上記グルーブをガードバンドに
割り当てる技術においては、グルーブによって記録トラ
ック間を空間的に非磁性化し、サイドイレーズを抑制す
る。これに対して、本発明では、加熱による化学変化も
しくは結晶化等を利用し、ガードバンドとなる部分の記
録磁性膜を非磁性化したり保磁力を高くしたりすること
により、磁気的な書き込みを不可能にする。
In the technique of allocating a groove to a guard band, the groove is spatially demagnetized between recording tracks to suppress side erase. On the other hand, in the present invention, magnetic writing is performed by using a chemical change or crystallization due to heating to demagnetize or increase the coercive force of a portion of the recording magnetic film serving as a guard band. Make it impossible.

【0013】本発明の第1の発明では、非磁性基板上に
磁性膜を成膜し、同心円上に凹凸が形成された発熱体を
加熱して磁性膜に押圧することにより、磁気記録媒体を
製造する。凸面を当てられた領域は、加熱により保磁力
が高くなり過ぎて磁気記録ができず、ガードバンドに割
り当てられる。凹面に対向する領域は磁気記録可能であ
り、記録トラックに割り当てられる。この製法を用いる
ことにより、第1に、ガードバンドは磁気的な記録が書
き込み不能な状態になるため、トラックエッジノイズの
低減が図れ、S/Nが向上する。第2に、グルーブの形
成のような整形加工が不要となるため、製造コストの低
減が図れる。また、媒体表面は滑らかな状態に保たれ、
へッドの浮上量を更に小さくすることが可能となり、円
周方向の記録密度(線密度)の向上が図れる。更に、ガ
ードバンドの幅をより狭めることが可能になることか
ら、半径方向の記録密度(トラック密度)の向上も図れ
る。第3に、一度に複数の記録トラックとガードバンド
の形成が可能なため、工期の短縮が図れる。
In a first aspect of the present invention, a magnetic film is formed on a non-magnetic substrate, and a heating element having concavities and convexities formed on concentric circles is heated and pressed against the magnetic film, thereby forming a magnetic recording medium. To manufacture. In the region having the convex surface, the coercive force becomes too high due to heating, so that magnetic recording cannot be performed, and the region is allocated to a guard band. The area facing the concave surface can be magnetically recorded and is assigned to a recording track. First, by using this manufacturing method, the guard band is in a state where magnetic recording cannot be performed, so that track edge noise can be reduced and S / N can be improved. Secondly, since shaping such as the formation of grooves is not required, manufacturing costs can be reduced. Also, the media surface is kept smooth,
The flying height of the head can be further reduced, and the recording density (linear density) in the circumferential direction can be improved. Furthermore, since the width of the guard band can be further reduced, the recording density (track density) in the radial direction can be improved. Third, since a plurality of recording tracks and guard bands can be formed at once, the construction period can be shortened.

【0014】本発明の第2の発明では、非磁性基板上に
磁性膜を成膜し、レーザー光を半球状または超半球状の
レンズで集光して磁性膜上に照射することにより、磁気
記録媒体を製造する。レーザー光を照射された領域は、
加熱により保磁力が高くなり過ぎて磁気的な記録ができ
ず、ガードバンドに割り当てられる。レーザー光が照射
されない領域は磁気的な記録が可能であり、記録トラッ
クに割り当てられる。この製法を用いることにより、第
1の発明で述べられた第1および第2の利点のほか、レ
ーザースポット径を極限まで絞り込むことが可能である
ことから、第1の発明よりも、ガードバンドの幅をより
一層狭めることができ、トラック密度を更に高めること
ができる。
According to a second aspect of the present invention, a magnetic film is formed on a non-magnetic substrate, and a laser beam is condensed by a hemispherical or hyper-hemispherical lens and irradiated on the magnetic film, thereby obtaining a magnetic film. Manufacture a recording medium. The area irradiated with laser light
Heating causes the coercive force to be too high to perform magnetic recording, and is assigned to a guard band. The area not irradiated with the laser beam can be magnetically recorded and is assigned to a recording track. By using this manufacturing method, in addition to the first and second advantages described in the first invention, the laser spot diameter can be narrowed to the limit. The width can be further reduced, and the track density can be further increased.

【0015】望ましくは、上記第1および第2の発明に
おいて、具体的には、磁性膜として、遷移金属と希土類
金属の合金を成膜する。これにより、磁性膜を加熱する
ことによって、保磁力が10kOe以上にまで上げら
れ、磁気ヘッドによる記録が困難な状態を作り出すこと
ができる。
Preferably, in the first and second inventions, specifically, an alloy of a transition metal and a rare earth metal is formed as the magnetic film. Thereby, by heating the magnetic film, the coercive force is increased to 10 kOe or more, and it is possible to create a state where recording by the magnetic head is difficult.

【0016】また、発熱体あるいはレーザーによる磁性
膜に対する加熱温度は、70°C〜500°Cにするこ
とが望ましい、70°C以上で加熱することにより、通
常の温度環境におけて、磁性膜の磁気的特性が変化する
ことが防止される。500°C以下で加熱することによ
り、基板の変形を防止することができる。
The heating temperature of the magnetic film by the heating element or the laser is preferably in the range of 70 ° C. to 500 ° C. By heating at 70 ° C. or more, the magnetic film can be heated in a normal temperature environment. Is prevented from being changed. By heating at 500 ° C. or lower, deformation of the substrate can be prevented.

【0017】更に、第1の発明において、発熱体はNi
あるいはNi合金で構成されることが望ましい。光ディ
スクの分野においては、既に、トラッキング用のグルー
ブやピット等を形成するための金型にNiあるいはNi
合金が用いられている。そこで、この金型を第1の発明
の発熱体に転用することにより、製造コストの高騰を抑
制することができる。
Further, in the first invention, the heating element is Ni
Alternatively, it is desirable to be composed of a Ni alloy. In the field of optical discs, Ni or Ni is already used in a mold for forming grooves or pits for tracking.
Alloys are used. Then, by diverting this mold to the heating element of the first invention, it is possible to suppress a rise in manufacturing cost.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図2に本発明の磁気記録媒体10
の断面を示す。即ち、基板1上に、下地膜2、磁性膜
3、保護膜4が順次積層され、保護膜6上には潤滑剤7
の層が形成されている。以下に、磁気記録媒体1を構成
する各膜について説明する。
FIG. 2 shows a magnetic recording medium 10 according to the present invention.
2 shows a cross section of FIG. That is, the base film 2, the magnetic film 3, and the protective film 4 are sequentially laminated on the substrate 1, and the lubricant 7 is formed on the protective film 6.
Is formed. Hereinafter, each film constituting the magnetic recording medium 1 will be described.

【0019】基板2は非磁性体からなり、円盤状の形状
を有する。基板2を構成する材料としては、NiPメッ
キが施されたアルミニウム(アルミニウム合金を含む)
ディスク、ガラス(強化ガラスも含む)ディスク、表面
酸化膜を有するシリコンディスク、SiCディスク、カ
ーボンディスク、プラスチックディスク、セラミックデ
ィスク等を包含する。基板2は、円周方向にテクスチャ
加工が施されていてもいなくてもよい。また、基板2の
サイズは、所望とする媒体の種類や適用先の磁気ディス
ク装置等に応じて決められ、一般的には、直径が1イン
チ〜3.5インチ、厚さは0.5mm〜1.0mmであ
る。
The substrate 2 is made of a non-magnetic material and has a disk shape. As a material forming the substrate 2, aluminum plated with NiP (including an aluminum alloy)
Discs, glass (including tempered glass) discs, silicon discs having a surface oxide film, SiC discs, carbon discs, plastic discs, ceramic discs and the like are included. The substrate 2 may or may not be textured in the circumferential direction. The size of the substrate 2 is determined according to the type of a desired medium, a magnetic disk device to which the substrate 2 is applied, and the like. Generally, the diameter is 1 inch to 3.5 inches, and the thickness is 0.5 mm to 0.5 mm. 1.0 mm.

【0020】下地膜3はクロムを主成分とする非磁性金
属材料からなるものであり、具体的な材料として、クロ
ムのみを主成分とする金属材料、或いは、CrW、Cr
V、CrTi、CrMo等のクロム合金が挙げられる。
下地膜3は、例えば、マグネトロンスパッタ法により成
膜される。下地膜3は、200°C〜300°Cの基板
温度、1〜10mTorrのArガス圧力、100〜5
00VのDCバイアス電圧の条件下で成膜されるのが好
ましい。また、マグネトロンスパッタ法に代わる他の成
膜法として、例えば、蒸着法、イオンビームスパッタ法
等が挙げられる。下地膜3の膜厚は、S/N比を高める
ためには、10nm〜100nmの範囲内に設定される
のが好ましい。下地膜の膜厚が10nmを下回ると、磁
気特性が十分に得られない問題が生じ、反対に、100
nmを超えると、ヘッドの浮上が不安定になる傾向があ
る。なお、下地膜3は必ずしも必要ではなく、基板2上
に下地膜を介さず磁性膜4を積層される構造であっても
よい。また、下地膜3は多層構造を有していてもよい。
The underlayer 3 is made of a non-magnetic metal material containing chromium as a main component. As a specific material, a metal material containing only chromium as a main component, or CrW, Cr
Chromium alloys such as V, CrTi, CrMo, and the like.
The base film 3 is formed, for example, by a magnetron sputtering method. The base film 3 has a substrate temperature of 200 ° C. to 300 ° C., an Ar gas pressure of 1 to 10 mTorr,
The film is preferably formed under the condition of a DC bias voltage of 00V. Further, as another film forming method instead of the magnetron sputtering method, for example, a vapor deposition method, an ion beam sputtering method and the like can be mentioned. It is preferable that the thickness of the base film 3 be set in the range of 10 nm to 100 nm in order to increase the S / N ratio. If the thickness of the underlayer is less than 10 nm, there arises a problem that magnetic properties cannot be sufficiently obtained.
If it exceeds nm, the flying of the head tends to be unstable. The base film 3 is not always necessary, and a structure in which the magnetic film 4 is stacked on the substrate 2 without the base film interposed therebetween may be used. Further, the base film 3 may have a multilayer structure.

【0021】磁性膜4は、500°C程度までの加熱に
よって、冷却後(室温)に残留磁化を失う(非磁性
化)、もしくは、保磁力が加熱前の2倍以上になる材料
が用いられる。磁性膜4の具体的な材料としては、Sm
CoやNdFeといった遷移金属と重希土類金属との化
合物がある。これらの材料は、室温で成膜されると、通
常、アモルファス状の組織を形成する。膜の保磁力は
1.5〜3kOeと、通常のハードディスクに用いられ
る磁性膜のそれと同等の値を示す。しかし、アモルファ
スを示す磁性膜は、300〜600°Cで加熱されると
結晶化し、保磁力が10kOe以上と飛躍的に上昇す
る。磁性膜4は、例えば、マグネトロンスパッタ法によ
り成膜される。磁性膜4は、基板が室温状態、1〜10
mTorrのArガス圧力の条件下で成膜されるのが望
ましい。また、マグネトロンスパッタ法に代わる他の成
膜法として、例えば、蒸着法、イオンビームスパッタ法
等が挙げられる。
The magnetic film 4 is made of a material that loses residual magnetization (non-magnetization) after cooling (room temperature) by heating up to about 500 ° C. or has a coercive force twice or more that before heating. . As a specific material of the magnetic film 4, Sm
There are compounds of transition metals such as Co and NdFe and heavy rare earth metals. When these materials are deposited at room temperature, they usually form an amorphous structure. The coercive force of the film is 1.5 to 3 kOe, which is equivalent to that of a magnetic film used for a normal hard disk. However, the magnetic film showing an amorphous state is crystallized when heated at 300 to 600 ° C., and the coercive force is dramatically increased to 10 kOe or more. The magnetic film 4 is formed, for example, by a magnetron sputtering method. The magnetic film 4 has a substrate at room temperature,
It is desirable to form a film under the condition of Ar gas pressure of mTorr. Further, as another film forming method instead of the magnetron sputtering method, for example, a vapor deposition method, an ion beam sputtering method, or the like can be given.

【0022】基板1上に磁性膜3が成膜された後、磁性
膜3を同心円上に加熱し、基板の半径方向に沿って、保
磁力が高い領域と低い領域を交互に形成する。具体的に
は、同心円上に溝が形成され、加熱された金型を磁性膜
3上に押圧する手法と、磁性膜3の上にレーザー光を同
心円上に照射する手法とがある。それぞれの手法を用い
たときにおける、加熱処理の工程を以下に説明する。
A.金型で押圧する手法図3は、磁性膜を加熱する金型
を示す図であり、図3(a)は金型の平面図、図3
(b)は半径方向に沿った断面図である。金型はNiま
たはNi合金からなる。金型の表面には、凸部(図3
(a)において、斜線をかけられた領域)と凹部が同心
円状に形成されており、凹の深さは約0.5μm、凹部
の半径方向の幅は約1.8μm、凸部の半径方向の幅は
約0.4μmである。
After the magnetic film 3 is formed on the substrate 1, the magnetic film 3 is heated concentrically to alternately form high and low coercive regions along the radial direction of the substrate. Specifically, there are a method in which a groove is formed on a concentric circle and a heated mold is pressed onto the magnetic film 3, and a method in which a laser beam is concentrically irradiated on the magnetic film 3. The steps of the heat treatment when each method is used will be described below.
A. FIG. 3 is a view showing a mold for heating a magnetic film, and FIG. 3A is a plan view of the mold, and FIG.
(B) is a cross-sectional view along the radial direction. The mold is made of Ni or a Ni alloy. The surface of the mold has convex portions (FIG. 3).
In (a), a hatched area) and a concave portion are formed concentrically, the depth of the concave portion is about 0.5 μm, the radial width of the concave portion is about 1.8 μm, and the radial direction of the convex portion. Is about 0.4 μm.

【0023】ところで、光ディスクの基板は、トラッキ
ング用のグルーブやピット等が形成されている。この基
板は、所要のパターンが形成された金型に液状のプラス
チック樹脂を流し込み、冷却する、いわゆる射出成形と
呼ばれる手法により作製される。この金型は、ガラス基
板等にフォトリソグラフィ技術を用いてパターンを施
し、これに金属材料をメッキ法を用いて塗布し、硬化し
た後に剥がすことにより作製される。金属材料として
は、一般的に、取り扱いの容易と精度が高い基板が作製
されるという理由から、NiあるいはNi系合金が用い
られる。
On the substrate of the optical disk, tracking grooves and pits are formed. This substrate is manufactured by pouring a liquid plastic resin into a mold on which a required pattern is formed and cooling it, that is, a technique called injection molding. This mold is manufactured by applying a pattern to a glass substrate or the like by using a photolithography technique, applying a metal material to the pattern by a plating method, curing the metal material, and then peeling the cured product. In general, Ni or a Ni-based alloy is used as the metal material because a substrate that is easy to handle and has high precision is manufactured.

【0024】本発明の金型11も、可能な限り現状技術
を利用し、コストアップを回避することを目的として、
材料としてNiあるいはNiを含む合金が用いられ、上
述の光ディスク基板の金型と同様の手法により作製され
る。
The mold 11 of the present invention also utilizes the state-of-the-art technology as much as possible and aims to avoid cost increase.
Ni or an alloy containing Ni is used as the material, and is manufactured by the same method as the above-described mold for the optical disk substrate.

【0025】図4は、金型押圧による磁性膜の加熱処理
を示す図であり、ディスクおよび金型の半径方向に沿っ
た断面を表している。
FIG. 4 is a view showing the heat treatment of the magnetic film by pressing the mold, and shows a cross section of the disk and the mold along the radial direction.

【0026】加熱処理は、図4(a)に示される段階、
即ち、磁性膜3が成膜され、保護膜4が成膜される前に
実施される。
The heat treatment includes the steps shown in FIG.
That is, it is performed before the magnetic film 3 is formed and before the protective film 4 is formed.

【0027】そして、図4(b)に示されるように、加
熱された金型11を磁性膜3の上に押圧する。
Then, as shown in FIG. 4B, the heated mold 11 is pressed onto the magnetic film 3.

【0028】金型11を磁性膜に押圧することにより、
図4(c)に示されるように、磁性膜3の金型11の凸
部に当接する領域が加熱され、非磁性化、或いは高保磁
力化される。その結果、加熱された領域に対する磁気的
な記録が困難となる。磁性膜3に対する加熱時間は30
秒程度が好ましい。
By pressing the mold 11 against the magnetic film,
As shown in FIG. 4C, a region of the magnetic film 3 which comes into contact with the convex portion of the mold 11 is heated to be demagnetized or have a high coercive force. As a result, magnetic recording on the heated area becomes difficult. The heating time for the magnetic film 3 is 30
Seconds are preferred.

【0029】ところで、稼働中におけるハードディスク
ドライブでは、ディスクの温度は70°C程度まで上昇
する。従って、その程度の温度において、磁気ディスク
に、磁気ヘッドによる記録ができないような高保磁力化
や非磁性化が起きてしまうことは許されない。つまり、
室温(約25°C)〜70°C程度の温度範囲におい
て、磁性膜は磁気的に安定であることが必要である。そ
のため、磁性膜に対する加熱温度は、70°C以上であ
ることが望ましい。磁性膜を70°C以上に加熱するこ
とにより、通常の温度環境下において、磁性膜の磁気的
特性の変化を防ぐことができる。
Incidentally, in a hard disk drive during operation, the temperature of the disk rises to about 70 ° C. Therefore, at such a temperature, the magnetic disk is not allowed to have high coercive force or non-magnetization that cannot be recorded by the magnetic head. That is,
In a temperature range from room temperature (about 25 ° C.) to about 70 ° C., the magnetic film needs to be magnetically stable. Therefore, the heating temperature for the magnetic film is desirably 70 ° C. or higher. By heating the magnetic film to 70 ° C. or higher, it is possible to prevent a change in the magnetic characteristics of the magnetic film under a normal temperature environment.

【0030】一方、加熱により、基板が変形することも
許されない。最近、2.5インチディスクの基板とし
て、剛性が高く、平面平滑性が良好であるという理由か
ら、ガラス基板が用いられるようになってきた。ガラス
は、500°C以上で熱せられると変形するため、高過
ぎる温度で磁性膜を加熱することは望ましくない。従っ
て、上記理由により、加熱温度は、70°C〜500°
Cの範囲から選ばれるのが望ましい。
On the other hand, the substrate is not allowed to be deformed by the heating. Recently, a glass substrate has been used as a 2.5-inch disk substrate because of its high rigidity and good flatness. Heating the magnetic film at too high a temperature is undesirable because glass deforms when heated above 500 ° C. Therefore, for the above reason, the heating temperature is 70 ° C. to 500 ° C.
It is desirable to select from the range of C.

【0031】磁性膜に対する加熱後、図4(d)に示さ
れるように、磁性膜3上に保護膜4が成膜される。
After heating the magnetic film, a protective film 4 is formed on the magnetic film 3 as shown in FIG.

【0032】以上のような、金型押圧による磁性膜の加
熱においては、1度に複数のガードバンドを形成するこ
とができるため、量産性の向上、工期の短縮が図れ、製
造コストの低減に有効である。B.レーザー照射により
加熱する手法磁性膜3が成膜されたのち、図5に示され
るように、ディスク10を回転させながら、光源13か
ら発せられたレーザー光をソリッドイマージョンレンズ
12で集光し、磁性膜3に当てる。媒体の回転に伴っ
て、磁性膜3はディスクの周方向に沿って加熱される。
In the heating of the magnetic film by pressing the mold as described above, since a plurality of guard bands can be formed at one time, the productivity can be improved, the construction period can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced. It is valid. B. Heating method by laser irradiation After the magnetic film 3 is formed, as shown in FIG. 5, while rotating the disk 10, the laser light emitted from the light source 13 is condensed by the solid immersion lens 12, and Apply to membrane 3. As the medium rotates, the magnetic film 3 is heated along the circumferential direction of the disk.

【0033】図6は、レーザー照射による磁性膜の加熱
処理を示す図であり、ディスクの断面を表している。
FIG. 6 is a view showing a heat treatment of the magnetic film by laser irradiation, and shows a cross section of the disk.

【0034】図6(a)に示されるように、レーザー照
射による加熱処理も、金型押圧による加熱処理と同様
に、磁性膜3が成膜され、保護膜4が成膜される前に実
施される。
As shown in FIG. 6A, the heat treatment by laser irradiation is also performed before the magnetic film 3 is formed and the protective film 4 is formed, similarly to the heat treatment by pressing the mold. Is done.

【0035】そして、図6(b)に示されるように、磁
性膜3のガードバンドする領域上に、集光レンズ12で
絞られたレーザー光を照射する。レーザースポット径
は、所望のガードバンドの幅と同じになるように調節さ
れる。集光レンズ12として、ソリッドイマージョンレ
ンズと呼ばれる球形のレンズの一部がそぎ落とされた半
球状もしくは超半球状のものを用いることにより、通常
のレンズよりも、スポット径を狭めるられる。ここで
は、集光レンズ12の口径は約1mm、厚さは約0.5
mmであり、材料としては、BaF等が用いられる。例
えば、レーザー光の波長λ=400nmとし、屈折率n
=2の超半球状の集光レンズ12を採用すれば、スポッ
ト径を約100nmまで絞ることができる。レーザー光
の照射時間は、一本のガードバンド当り、約0.1秒で
ある。
Then, as shown in FIG. 6B, a laser beam narrowed by the condenser lens 12 is irradiated onto the guard band region of the magnetic film 3. The laser spot diameter is adjusted to be the same as the desired guard band width. The spot diameter can be made smaller than that of a normal lens by using, as the condenser lens 12, a hemispherical or hyperhemispherical lens having a part of a spherical lens called a solid immersion lens cut off. Here, the diameter of the condenser lens 12 is about 1 mm, and the thickness is about 0.5 mm.
mm, and BaF or the like is used as a material. For example, the wavelength λ of the laser beam is set to 400 nm, and the refractive index n
If the super hemispherical condenser lens 12 of = 2 is adopted, the spot diameter can be reduced to about 100 nm. The irradiation time of the laser beam is about 0.1 second per one guard band.

【0036】レーザースポットはディスクの半径方向に
移動し、磁性膜3は半径方向について所定間隔おきに加
熱される。その結果、図6(c)に示されるように、磁
性膜上に、半径方向に沿って、非磁性化、或いは高保磁
力化された領域が断続的に形成される。
The laser spot moves in the radial direction of the disk, and the magnetic film 3 is heated at predetermined intervals in the radial direction. As a result, as shown in FIG. 6C, a nonmagnetic or high coercive force region is intermittently formed on the magnetic film along the radial direction.

【0037】磁性膜に対する加熱後、図6(d)に示さ
れるように、磁性膜3上に保護膜4が成膜される。
After heating the magnetic film, a protective film 4 is formed on the magnetic film 3 as shown in FIG.

【0038】以上のような、ソリッドイマージョンレン
ズによって集光されたレーザー光による磁性膜の加熱に
おいては、通常のレンズによる集光および上述の金型に
よる押圧よりも、加熱領域の半径方向の幅を小さくする
ことができる。その結果、ガードバンドの幅が極めて小
さくなり、高トラック密度化に有効である。
In the heating of the magnetic film by the laser light condensed by the solid immersion lens as described above, the radial width of the heated area is made smaller than the condensing by the normal lens and the pressing by the mold described above. Can be smaller. As a result, the width of the guard band becomes extremely small, which is effective for increasing the track density.

【0039】保護膜6は、カーボン単体、またはカーボ
ンを含む化合物からなり、例えば、WC、SiC、B4
C、水素含有カーボンや、高い硬度を有する点で注目さ
れているダイヤモンドライクカーボン(DLC)が挙げ
られる。保護膜6は、マグネトロンスパッタ法等のスパ
ッタ法により成膜されるのが好ましく、適当な成膜の条
件としては、例えば、20°C〜100°Cの成膜温
度、1〜10mTorrのArガス圧力が挙げられる。
また、スパッタ法に代えて他の成膜法、例えば、蒸着
法、イオンビームスパッタ法等を使用してもよい。保護
膜6の膜厚は、種々の要因に依存し、広い範囲内で決定
されるが、好ましくは、5nm〜20nmである。
The protective film 6 is made of carbon alone or a compound containing carbon, for example, WC, SiC, B 4
C, hydrogen-containing carbon, and diamond-like carbon (DLC), which has attracted attention because of its high hardness. The protective film 6 is preferably formed by a sputtering method such as a magnetron sputtering method. Suitable film forming conditions include, for example, a film forming temperature of 20 ° C. to 100 ° C., and an Ar gas of 1 to 10 mTorr. Pressure.
Further, instead of the sputtering method, another film forming method, for example, an evaporation method, an ion beam sputtering method, or the like may be used. The thickness of the protective film 6 depends on various factors and is determined within a wide range, but is preferably 5 nm to 20 nm.

【0040】潤滑膜7は、フロロカーボン樹脂系の材料
からなり、膜厚0.5nm〜2nmである。潤滑膜7
は、上記材料を含有する溶液中に媒体1を浸すことによ
り、記媒体に潤滑剤の膜が形成される。膜厚は、溶液中
の材料の濃度や媒体を溶液から引き上げる速さに依存す
る。
The lubricating film 7 is made of a fluorocarbon resin material and has a thickness of 0.5 nm to 2 nm. Lubricating film 7
By immersing the medium 1 in a solution containing the above materials, a lubricant film is formed on the recording medium. The film thickness depends on the concentration of the material in the solution and the speed at which the medium is pulled out of the solution.

【0041】さらに、本発明は、上記ディスク媒体を搭
載するディスク装置にある。本発明のディスク装置にお
いては、基本的には、ディスク媒体に対して情報の記録
を行うための記録ヘッド部及び情報の再生を行う再生ヘ
ッド部を備える磁気ヘッドを包含する。特に、再生ヘッ
ド部は、磁界の強さに応じて電気抵抗が変化する磁気抵
抗素子を使用した磁気抵抗効果型ヘッド、すなわち、M
Rヘッドを備えていることが好ましい。
Further, the present invention resides in a disk device on which the above-mentioned disk medium is mounted. The disk device of the present invention basically includes a magnetic head including a recording head unit for recording information on a disk medium and a reproducing head unit for reproducing information. In particular, the reproducing head is a magneto-resistive head using a magneto-resistive element whose electric resistance changes according to the strength of the magnetic field, ie, M
It is preferable to have an R head.

【0042】本発明のディスク装置は、図7及び図8に
示される通りである。なお、図8はディスク装置の平面
図(カバーを除いた状態)、図10は図9の線分A−A
にそった断面図である。
The disk device of the present invention is as shown in FIGS. 8 is a plan view of the disk device (with the cover removed), and FIG. 10 is a line segment AA in FIG.
FIG.

【0043】磁気ディスク10は、ベースプレート51
上に設けられたスピンドルモータ52によって駆動され
る。本実施形態においては、ディスク媒体は3枚備えら
れている。
The magnetic disk 10 has a base plate 51
It is driven by a spindle motor 52 provided above. In the present embodiment, three disk media are provided.

【0044】ヘッドスライダを支持する駆動するアクチ
ュエータ53は、ベースプレート51の上に回転可能に
支持される。アクチュエータ53の一端には、ディスク
10の記録面と平行な方向に延びる複数のヘッドアーム
54が形成されている。ヘッドアーム54の一端には、
サスペンション55が取り付けられる。サスペンション
55のフレクシャー部にヘッドスライダ1が図示されな
い絶縁膜を介して取り付けられている。アクチュエータ
53の他端には、コイル57が取り付けられている。
The driving actuator 53 for supporting the head slider is rotatably supported on the base plate 51. At one end of the actuator 53, a plurality of head arms 54 extending in a direction parallel to the recording surface of the disk 10 are formed. At one end of the head arm 54,
The suspension 55 is attached. The head slider 1 is attached to a flexure portion of the suspension 55 via an insulating film (not shown). A coil 57 is attached to the other end of the actuator 53.

【0045】ベースプレート51上には、マグネット及
びヨークで構成された磁気回路58が設けられ、この磁
気回路58の磁気ギャップ内に、上記コイル57が配置
されている。そして、磁気回路58とコイル57とでム
ービングコイル型のリニアモータ(VCM:ボイスコイ
ルモータ)が構成されている。そして、これらベースプ
レート51の上部はカバー59で覆われている。
A magnetic circuit 58 composed of a magnet and a yoke is provided on the base plate 51, and the coil 57 is disposed in a magnetic gap of the magnetic circuit 58. The magnetic circuit 58 and the coil 57 constitute a moving coil type linear motor (VCM: voice coil motor). The upper portions of the base plates 51 are covered with a cover 59.

【0046】次に、上記構成のディスク装置の作動を説
明する。ディスク10が停止している時には、スライダ
40はディスク10の退避ゾーンに接触し停止してい
る。
Next, the operation of the disk device having the above configuration will be described. When the disk 10 is stopped, the slider 40 contacts the retraction zone of the disk 10 and stops.

【0047】次に、磁気ディスク10がスピンドルモー
タ52によって、高速で回転駆動されると、この磁気デ
ィスク10の回転による発生する空気流によって、スラ
イダ40は微小間隔をもってディスク面から浮上する。
この状態でコイル57に電流を流すと、コイル57には
推力が発生し、アクチュエータ53が回転する。これに
より、ヘッド(スライダ40)を磁気ディスク10の所
望のトラック上に移動させ、データのリード/ライトを
行なうことができる。
Next, when the magnetic disk 10 is driven to rotate at a high speed by the spindle motor 52, the slider 40 flies from the disk surface at a minute interval due to the air flow generated by the rotation of the magnetic disk 10.
When a current is applied to the coil 57 in this state, a thrust is generated in the coil 57, and the actuator 53 rotates. As a result, the head (slider 40) can be moved to a desired track on the magnetic disk 10 to read / write data.

【0048】[0048]

【実施例】以下、本発明をその典型的な実施例を参照し
て説明する。 1.磁気記録媒体(磁気ディスク)の作製 本実施例では、断面構造が図2に示される磁気ディスク
Aが、各膜を以下に述べる条件に基づいて作製された基
板1は2.5インチのガラスディスクである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to typical embodiments. 1. Preparation of Magnetic Recording Medium (Magnetic Disk) In the present embodiment, a magnetic disk A having a cross-sectional structure shown in FIG. It is.

【0049】下地膜2は、Cr単層からなり、スパッタ
室のArガス圧5mTorr、DCパワー300Wのス
パッタ条件のもとで、基板1の上に厚さ20nmに成膜
された。
The underlayer 2 was formed of a single layer of Cr, and was formed to a thickness of 20 nm on the substrate 1 under sputtering conditions of an Ar gas pressure of a sputtering chamber of 5 mTorr and a DC power of 300 W.

【0050】磁性膜3は、CoSmからなる単層であ
り、スパッタ室内のArガス圧5mTorr、DCパワ
ー200Wのスパッタ条件のもとで、前記下地膜3の上
に厚さ20nmに成膜された。
The magnetic film 3 is a single layer made of CoSm, and is formed to a thickness of 20 nm on the underlayer 3 under the sputtering conditions of an Ar gas pressure of 5 mTorr and a DC power of 200 W in the sputtering chamber. .

【0051】磁性膜3が成膜された後、400°Cに加
熱された金型11(図4参照)を磁性膜3の上に押圧
し、磁性膜3におけるガードバンドとなる領域を加熱し
た。金型11の材料はNiからなり、凸部の幅は0.4
μm、凹部の幅は1.8μm、凹部の深さは0.5μm
である。
After the formation of the magnetic film 3, the mold 11 (see FIG. 4) heated to 400 ° C. was pressed onto the magnetic film 3, and the area of the magnetic film 3 to be a guard band was heated. . The material of the mold 11 is made of Ni, and the width of the convex portion is 0.4.
μm, the width of the recess is 1.8 μm, and the depth of the recess is 0.5 μm
It is.

【0052】保護膜4は、Cからなり、磁性膜3が加熱
された後、スパッタ室内のArガス圧5mTorr、D
Cパワー400Wの条件のもと、磁性膜3の上に厚さ1
0nmに成膜された。
The protective film 4 is made of C. After the magnetic film 3 is heated, the Ar gas pressure in the sputtering chamber is 5 mTorr,
Under the condition of a C power of 400 W, a thickness of 1
The film was formed to a thickness of 0 nm.

【0053】また、磁気ディスクAの比較対象として、
磁性膜に対する加熱処理が省かれたことを除き、磁気デ
ィスクAと同じ製造条件で磁気ディスクBが作製され
た。 2.磁気ディスクの評価 まず、磁気ディスクA、Bに対し、磁気信号をディスク
の円周方向に沿って記録し、その記録に対して所定レベ
ルの再生出力が得られる半径方向の幅(実効トラック
幅)を測定した。測定結果は図9に示される。なお、本
評価で使用された磁気ヘッドにおける記録ヘッドのコア
幅は2.0μm、再生ヘッドのコア幅は1.5μmであ
る。
As a comparison target of the magnetic disk A,
A magnetic disk B was manufactured under the same manufacturing conditions as the magnetic disk A, except that the heat treatment for the magnetic film was omitted. 2. Evaluation of Magnetic Disk First, a magnetic signal is recorded on the magnetic disks A and B along the circumferential direction of the disk, and a radial width (effective track width) at which a predetermined level of reproduction output is obtained for the recording. Was measured. The measurement results are shown in FIG. The core width of the recording head in the magnetic head used in this evaluation was 2.0 μm, and the core width of the reproducing head was 1.5 μm.

【0054】図9に示されるように、ガードバンドに対
して加熱処理が施された磁気ディスクAにおいて、実効
トラック幅は1.81μmであり、金型11の凹部の幅
で規定されていることがわかる。つまり、ガードバンド
に割り当てられた領域にはほとんど磁気信号が記録され
なかったことを意味する。一方、磁気ディスクBにおい
ては、実効トラック幅は記録ヘッドのコア幅よりも大き
い2.23μmであり、、サイドイレーズの影響が現れ
ていることが分かる。この結果から、局部的な加熱によ
り、サイドイレーズの抑制が可能となり、トラック密度
が上げられることが分かる。
As shown in FIG. 9, in the magnetic disk A in which the guard band has been subjected to the heat treatment, the effective track width is 1.81 μm, which is defined by the width of the concave portion of the mold 11. I understand. That is, it means that almost no magnetic signal was recorded in the area assigned to the guard band. On the other hand, in the case of the magnetic disk B, the effective track width is 2.23 μm, which is larger than the core width of the recording head, and it can be seen that the influence of side erasure appears. From these results, it can be seen that local erasing can suppress side erasure and increase track density.

【0055】次に、ガードバンドと記録トラックの保磁
力比が磁気ディスクの実効トラック幅に与える影響を調
べた。ここでは、ガードバンドと記録トラックの保磁力
の比率がそれぞれ異なる複数の磁気ディスクが作製され
た。これらの媒体の膜構造、製法は上記磁気ディスクA
と同じであるが、ガードバンドの加熱に用いられる金型
の温度がそれぞれ異なる。図10は、ガードバンドの保
磁力/トラックの保磁力に対する実効トラック幅を示す
グラフである。図10より、保磁力比が大きい程、実効
トラック幅は縮小し、ガードバンドの保磁力が記録トラ
ックの保磁力の2倍の条件のときに、実効トラック幅
は、金型の凹部の幅と同じ1.8μmとなる。図10に
示される結果から、ガードバンドの磁性膜の保磁力は、
記録トラックのそれの2倍は必要であるといえる。
Next, the effect of the coercivity ratio between the guard band and the recording track on the effective track width of the magnetic disk was examined. Here, a plurality of magnetic disks having different ratios of the coercive force between the guard band and the recording track were manufactured. The film structure and manufacturing method of these media are the same as those described above for the magnetic disk A.
But the temperatures of the molds used for heating the guard bands are different. FIG. 10 is a graph showing the effective track width with respect to the coercive force of the guard band / the coercive force of the track. From FIG. 10, it can be seen that the larger the coercive force ratio, the smaller the effective track width, and when the coercive force of the guard band is twice the coercive force of the recording track, the effective track width is equal to the width of the concave portion of the mold. The same is 1.8 μm. From the results shown in FIG. 10, the coercive force of the guard band magnetic film is:
It can be said that twice that of the recording track is necessary.

【0056】更に、本実施例においては、磁性膜を構成
するCoのSmにおけるSmム含有量が保磁力に与える
影響を調べた。ここでは、SmCo合金がスパッタ成膜
され、Sm含有量がそれぞれ異なる複数の基板を400
°Cでアニールし、アニール前後における保磁力測定し
た。図11(a)は、Smの含有量に対する加熱前後に
おける保磁力を示し、図11(b)は、Smの含有量に
対する加熱前と加熱後における保磁力の比を示す。
Further, in the present embodiment, the influence of the Sm content in the Sm of Co constituting the magnetic film on the coercive force was examined. Here, an SmCo alloy is formed by sputtering, and a plurality of substrates having different Sm contents are deposited on a 400
Annealing was performed at ° C, and coercive force before and after annealing was measured. FIG. 11A shows the coercive force before and after heating with respect to the Sm content, and FIG. 11B shows the ratio of the coercive force before and after heating with respect to the Sm content.

【0057】図10に示される結果より、ガードバンド
(加熱部分)の保磁力は記録トラック(非加熱部分)の
保磁力よりも2倍以上必要であることを述べたが、図1
1(a)、(b)に示される結果より、加熱部分の保磁
力を非加熱部分の保磁力の2倍にするには、CoSm磁
性膜中におけるSmの含有率が10〜24at%の範囲
から選べばよいことがわかる。
From the results shown in FIG. 10, it was stated that the coercive force of the guard band (heated portion) was required to be at least twice as large as the coercive force of the recording track (unheated portion).
According to the results shown in FIGS. 1A and 1B, in order to make the coercive force of the heated portion twice as large as that of the non-heated portion, the Sm content in the CoSm magnetic film is in the range of 10 to 24 at%. It is clear that you should choose from.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の製法による
と、ガードバンドを磁気記録が不能な状態にすることが
でき、S/Nの向上、高トラック密度化が図れる。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, the guard band can be made in a state where magnetic recording cannot be performed, and the S / N can be improved and the track density can be increased.

【0059】また、加熱によりガードバンドを作り出す
ため、グルーブを形成する従来の製法と比較して、製造
コストが安くなる。また、高い表面平滑度が得られるた
め、ヘッドの低浮上量化が実現でき、線記録密度の向上
が図れる。更に。グルーブの幅を狭めることができ、ト
ラック密度がより一層の向上する。加熱を金型のによる
加熱により、工期の短縮が図れ、製造コストの低減が達
成できる。
Further, since the guard band is created by heating, the manufacturing cost is reduced as compared with the conventional manufacturing method of forming a groove. In addition, since a high surface smoothness can be obtained, the flying height of the head can be reduced, and the linear recording density can be improved. Further. The groove width can be reduced, and the track density can be further improved. By heating with a mold, the construction period can be shortened and the production cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の磁気記録媒体の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a conventional magnetic recording medium.

【図2】本発明における磁気記録媒体の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a magnetic recording medium according to the present invention.

【図3】加熱に用いられる金型を示す図である。FIG. 3 is a view showing a mold used for heating.

【図4】金型の押圧により磁気記録媒体を加熱する工程
を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a step of heating a magnetic recording medium by pressing a mold.

【図5】レーザー加熱装置を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a laser heating device.

【図6】レーザー照射により磁気記録媒体を加熱する工
程を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a step of heating a magnetic recording medium by laser irradiation.

【図7】本発明の実施の形態における磁気ディスク装置
の平面図である。
FIG. 7 is a plan view of the magnetic disk drive according to the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態における磁気ディスク装置
の断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of the magnetic disk drive according to the embodiment of the present invention.

【図9】従来および本発明の磁気記録媒体におけるトラ
ック実効幅を示す表である。
FIG. 9 is a table showing effective track widths in the magnetic recording media of the related art and the present invention.

【図10】ガードバンド保磁力/記録トラック保磁力に
対するトラック実効幅を示すグラフである。
FIG. 10 is a graph showing a track effective width with respect to guard band coercive force / recording track coercive force.

【図11】Sm含有量に対するガードバンド保磁力/記
録トラック保磁力を示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing guard band coercive force / recording track coercive force with respect to Sm content.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板 2・・・下地膜 3・・・磁性膜 4・・・保護膜 11・・・金型 12・・・ソリッドイマージョンレンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Base film 3 ... Magnetic film 4 ... Protective film 11 ... Die 12 ... Solid immersion lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D006 BB01 BB07 DA03 DA04 EA03 5D112 AA05 AA24 BB01 GA00 GA19 GB01 GB04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5D006 BB01 BB07 DA03 DA04 EA03 5D112 AA05 AA24 BB01 GA00 GA19 GB01 GB04

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板上に磁性膜を成膜する工程
と、 同心円状に凹凸が形成された発熱体を加熱し、該発熱体
の凹凸面を前記磁性膜上に押圧する工程と、を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A step of forming a magnetic film on a non-magnetic substrate, a step of heating a heating element having concentric unevenness formed thereon, and pressing the uneven surface of the heating element onto the magnetic film. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising:
【請求項2】 非磁性基板上に磁性膜を成膜する工程
と、 レーザー光を半球状または超半球状のレンズで集光し、
前記磁性膜上に同心円状に照射する工程と、を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. A step of forming a magnetic film on a non-magnetic substrate, and focusing a laser beam with a hemispherical or super hemispherical lens.
Irradiating the magnetic film concentrically onto the magnetic film.
【請求項3】 前記磁性膜として、遷移金属と希土類金
属の合金を成膜することを特徴とする請求項1または請
求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein an alloy of a transition metal and a rare earth metal is formed as the magnetic film.
【請求項4】 前記発熱体として、NiまたはNi合金
を用いることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒
体の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein Ni or a Ni alloy is used as the heating element.
【請求項5】 70°C〜500°Cに前記磁性膜を加
熱することを特徴とする請求項1または請求項2に記載
の磁気記録媒体の製造方法。
5. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic film is heated to 70 ° C. to 500 ° C.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007242182A (en) * 2006-03-10 2007-09-20 Fujitsu Ltd Method for manufacturing magnetic recording medium, and magnetic recording medium
JP2007257736A (en) * 2006-03-23 2007-10-04 Fujitsu Ltd Magnetic recording medium manufacturing method and magnetic recording medium
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