JP2001048595A - Surface treatment of substrate having glass layer and treated product - Google Patents

Surface treatment of substrate having glass layer and treated product

Info

Publication number
JP2001048595A
JP2001048595A JP11321273A JP32127399A JP2001048595A JP 2001048595 A JP2001048595 A JP 2001048595A JP 11321273 A JP11321273 A JP 11321273A JP 32127399 A JP32127399 A JP 32127399A JP 2001048595 A JP2001048595 A JP 2001048595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass layer
substrate
metal
layer
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11321273A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Kuno
裕明 久野
Shigeo Imai
茂雄 今井
Hiroyuki Miyamoto
博幸 宮本
Arata Matsumoto
新 松本
Shinji Ito
慎二 伊藤
Takahiro Morita
隆博 森田
Noriyuki Sugiyama
紀幸 杉山
Shozo Yamamoto
章造 山本
Akito Suzuki
昭人 鈴木
Kazuhiko Hattori
和彦 服部
Shungo Tokushima
俊吾 徳島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inax Corp
Original Assignee
Inax Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inax Corp filed Critical Inax Corp
Priority to JP11321273A priority Critical patent/JP2001048595A/en
Publication of JP2001048595A publication Critical patent/JP2001048595A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2204/00Glasses, glazes or enamels with special properties
    • C03C2204/02Antibacterial glass, glaze or enamel

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the effective development of an action of a metal such as Ag, Cu and Zn in a surface-treatment of a substrate having a glass layer and provide a product having a glass layer, etc., imparted with excellent surface characteristics and producible with suppressed loss of the metal. SOLUTION: A substrate 15 having a glass layer 12 and a treating agent containing Ag, etc., are prepared beforehand and the glass layer 12 is brought into contact with the treating agent at <100 deg.C to form a treated layer 14. A necessary amount of Ag can be taken into the glass layer 12 by this process by the ion exchange of the alkali metal ion in the layer with anion of Ag, etc. The unnecessary treated layer 14 is optionally removed and the product is heated at a temperature below the glass transition point of the glass layer 12 to effect the impregnation of Ag.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス層をもつ基
体の表面処理方法と、ガラス層をもつ製品とに関する。
この処理方法は、ガラス層をもつ基体からなる処理後の
製品に抗菌機能をもたせるために用いて好適である。
The present invention relates to a method for treating a surface of a substrate having a glass layer, and a product having a glass layer.
This treatment method is suitable for use in imparting an antibacterial function to a treated product comprising a substrate having a glass layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、Ag、Cu、Zn等の金属は抗
菌性を有することが知られている。このため、従来、抗
菌機能を有する例えばガラス製品、セラミックス製品又
はホウロウ製品を製造せんとする場合、それらの抗菌機
能を付与する前の半製品全体がガラス層であったり、そ
れら半製品が基体上に釉薬層というガラス層を有するた
め、基体の製造時又は釉薬層の形成時に同時に抗菌剤を
ガラス層中に分散させることが一般的になされている。
こうしてガラス層中に抗菌剤を分散させることとすれ
ば、基体を製造すると同時に又は基体の表面に釉薬層を
形成すると同時にそれらの製品に抗菌機能を付与するこ
とができる。
2. Description of the Related Art For example, metals such as Ag, Cu, and Zn are known to have antibacterial properties. For this reason, conventionally, when manufacturing glass products, ceramic products, or enamel products having an antibacterial function, for example, the entire semi-finished product before imparting the antibacterial function is a glass layer, or the semi-finished product is formed on a substrate. In general, since a glass layer called a glaze layer is provided, an antibacterial agent is generally dispersed in the glass layer at the same time as the production of the base or the formation of the glaze layer.
By dispersing the antibacterial agent in the glass layer in this way, it is possible to impart an antibacterial function to those products at the same time as manufacturing the substrate or forming a glaze layer on the surface of the substrate.

【0003】また、セラミックスからなる半製品の表面
にリン酸銀の粉末を積層させ、これを焼成する方法が提
案されている(特開平6−234585号公報)。この
方法は粉末を用いる点に特色を有し、この方法によって
もセラミックス製品に抗菌機能を持たせることができ
る。さらに、セラミックスからなる半製品のガラス層に
抗菌性を有する金属の塩を接触させた後、ガラスの転移
点以上の温度でこれを加熱処理する方法も提案されてい
る(特開平8−217492号公報)。この方法によれ
ば、ガラス層中のイオンと金属イオンとをイオン交換に
より置換することができ、これによりセラミックス製品
に抗菌機能を持たせることができる。
Further, a method has been proposed in which a silver phosphate powder is laminated on the surface of a semi-finished product made of ceramics and then fired (JP-A-6-234585). This method has a feature in that powder is used, and this method can also give a ceramic product an antibacterial function. Furthermore, there has been proposed a method in which a metal layer having antibacterial properties is brought into contact with a glass layer of a semi-finished product made of ceramics, and then heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-217492). Gazette). According to this method, the ions in the glass layer and the metal ions can be replaced by ion exchange, whereby the ceramic product can have an antibacterial function.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記一般的な
方法により、ガラス層中に抗菌剤を含有させる場合、そ
れら抗菌剤は製品全体に亘って満遍なく分散したり、概
略400〜500μmの厚みを有する釉薬層の全厚みに
亘って満遍なく分散してしまう。例えば、図10に示す
ように、基体としての陶磁器からなる素地200の表面
に抗菌剤204を含有する釉薬層202を形成する場
合、抗菌剤204は釉薬層202の全厚みに亘って満遍
なく分散してしまう。この場合、釉薬層202中の抗菌
剤204が細菌206に作用し、これを死減させ、或い
はその繁殖を抑制することができるものの、真に抗菌作
用を行っているのは、釉薬層202の表面近傍に位置す
る抗菌剤204のみである。発明者らの知見によれば、
真に抗菌作用を行っているのは釉薬層202の表面から
数十nm程度の極く表層に存在する抗菌剤204のみで
ある。このため、これより奥の内部に位置する抗菌剤2
04はただ単に釉薬層202中に存在するだけであり、
抗菌作用を行ってはいない。
However, when an antibacterial agent is contained in the glass layer by the above-mentioned general method, the antibacterial agent is dispersed evenly over the whole product or has a thickness of about 400 to 500 μm. It will be evenly distributed over the entire thickness of the glaze layer. For example, as shown in FIG. 10, when a glaze layer 202 containing an antibacterial agent 204 is formed on the surface of a ceramic body 200 as a base, the antibacterial agent 204 is dispersed evenly over the entire thickness of the glaze layer 202. Would. In this case, although the antibacterial agent 204 in the glaze layer 202 acts on the bacteria 206 to kill or suppress the growth thereof, the antibacterial agent that truly performs the antibacterial action is the glaze layer 202. Only the antibacterial agent 204 located near the surface. According to the findings of the inventors,
Only the antibacterial agent 204 existing on the very surface layer of about several tens of nm from the surface of the glaze layer 202 actually has an antibacterial effect. For this reason, the antibacterial agent 2 located inside
04 only exists in the glaze layer 202,
No antibacterial effect.

【0005】換言すれば、抗菌のためにはガラス層の表
面から数十nm程度の極く表層のみに抗菌剤が存在して
おれば足り、それより奥の内部については抗菌剤は特に
存在していなくても良いことになる。このため、従来の
ようにガラス層中全体に抗菌剤を分散させるのでは、抗
菌剤を無駄に消費することとなる。しかも、従来では、
基体の製造時又は釉薬層の形成時に同時に抗菌剤をガラ
ス層中に分散させることとしていたため、基体の製造又
は釉薬層の形成のための溶融又は焼成の過程において、
抗菌剤が表面から炉内に揮発しやすい。このため、やは
り高価な抗菌剤の無駄を生じるとともに、最も必要とさ
れる表面において抗菌剤の濃度が薄くなり、効果的な抗
菌作用が得られ難いといった間題がある。
[0005] In other words, for antibacterial purposes, it is sufficient for the antibacterial agent to be present only on the very surface layer of about several tens of nm from the surface of the glass layer, and the antibacterial agent is particularly present in the interior of the glass layer. You don't have to. For this reason, if the antibacterial agent is dispersed throughout the glass layer as in the related art, the antibacterial agent is wasted. Moreover, conventionally,
Since the antibacterial agent was to be dispersed in the glass layer at the same time as the production of the substrate or the formation of the glaze layer, during the melting or firing process for the production of the substrate or the formation of the glaze layer,
Antibacterial agents are likely to evaporate from the surface into the furnace. For this reason, expensive antibacterial agents are wasted, and the concentration of the antibacterial agents is reduced on the most required surface, which makes it difficult to obtain an effective antibacterial effect.

【0006】この点、上記特開平6−234585号公
報記載の方法も、リン酸銀の粉末を積層した後で焼成を
行うことから、同様である。また、この方法では、抗菌
処理のために再度焼成を行うことから、エネルギーの消
費が大きいという欠点もある。また、特開平8−217
492号公報記載の方法の場合、ガラス転移点以上の温
度で加熱処理を行うことから、ガラス転移点を超えたと
ころでガラス層が軟化してしまう。このため、これを冷
却固化して製品としたとき、未反応の金属イオンがガラ
ス層の表面に付着したり、ガラス層内に一部だけ取り込
まれ、金属塩の無駄使いを生じてしまう。また、未反応
の金属イオンにより製品の表面性状が悪化し、美観が損
なわれるという欠点を有する。特に、デザイン性が重視
されるタイル等の場合にはこれが大きな欠点となってし
まう。
In this respect, the method described in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-234585 is also the same, since firing is performed after laminating silver phosphate powder. In addition, this method has another disadvantage that energy consumption is large because baking is performed again for antibacterial treatment. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-217
In the case of the method described in Japanese Patent No. 492, since the heat treatment is performed at a temperature higher than the glass transition point, the glass layer is softened when the temperature exceeds the glass transition point. For this reason, when this is cooled and solidified to obtain a product, unreacted metal ions adhere to the surface of the glass layer or are partially incorporated into the glass layer, resulting in waste of metal salts. In addition, there is a disadvantage that the surface properties of the product are deteriorated by unreacted metal ions, and the appearance is impaired. In particular, this is a serious drawback in the case of tiles or the like in which design is important.

【0007】これらの不具合は、抗菌性を有する金属を
ガラス層に取り込む場合ばかりでなく、他の目的で金属
をガラス層に取り込む場合にも該当する。本発明は、上
記従来の実情に鑑みてなされたものであって、ガラス層
をもつ基体の表面処理方法及びガラス層をもつ製品に関
し、Ag、Cu、Zn等の金属による作用を効果的に発
揮可能とするとともに、それらの金属の無駄を生じさせ
ず、かつ製品に優れた表面性状をもたせ得るようにする
ことを解決すべき課題としている。
[0007] These problems apply not only to the case where a metal having antibacterial properties is incorporated into the glass layer, but also to the case where the metal is incorporated into the glass layer for another purpose. The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and relates to a surface treatment method for a substrate having a glass layer and a product having a glass layer, and effectively exerts an action of a metal such as Ag, Cu, and Zn. It is an object of the present invention to make it possible and to make the product have excellent surface properties without causing waste of the metal.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のガラス層をもつ
基体の表面処理方法は、ガラス層をもつ基体と、金属を
含む処理剤とを用意し、100°C未満の温度で該ガラ
ス層に該処理剤を接触させることにより、該ガラス層中
のアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンを該
金属のイオンにイオン交換することを特徴とする。
The surface treatment method for a substrate having a glass layer according to the present invention comprises preparing a substrate having a glass layer and a treating agent containing a metal, and treating the glass layer at a temperature lower than 100 ° C. The alkali metal ion or the alkaline earth metal ion in the glass layer is ion-exchanged for the metal ion by bringing the treatment agent into contact with the treatment agent.

【0009】基体としてはガラス製品、セラミックス製
品又はホウロウ製品の半製品を採用することができる。
セラミックス製品としてはタイルや衛生陶器その他を採
用することができる。また、本発明のガラス層をもつ製
品は、ガラス層をもつ基体からなり、ガラス層の表面側
には、ガラス層中のアルカリ金属イオン又はアルカリ土
類金属イオンからイオン交換された金属のイオンを高い
濃度で含む金属リッチ層をもつことを特徴とする。
As the substrate, semi-finished products of glass products, ceramic products or enamel products can be employed.
As ceramic products, tiles, sanitary ware, and the like can be used. Further, the product having a glass layer of the present invention comprises a substrate having a glass layer, and on the surface side of the glass layer, ions of a metal ion-exchanged from alkali metal ions or alkaline earth metal ions in the glass layer. It is characterized by having a metal rich layer containing a high concentration.

【0010】発明者らの試験結果によれば、基体のガラ
ス層に100°C未満の温度で処理剤を接触させるだけ
でガラス層中のアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金
属イオンが金属のイオン(以下、金属イオンという。)
にイオン交換され、金属イオンがガラス層中に取り込ま
れる。そして、ガラス層中に置換する金属イオンの量
は、処理剤の濃度、接触温度及び接触時間等の調整によ
り決定し得る。そして、これにより金属イオンはガラス
層全体に亘って満遍なく拡散せず、ガラス層の表面側に
イオン交換された金属イオンを高い濃度で含む金属リッ
チ層をもつこととなる。
According to the test results of the inventors, the alkali metal ion or the alkaline earth metal ion in the glass layer is changed to the metal ion (metal ion) only by bringing the treatment agent into contact with the glass layer of the substrate at a temperature lower than 100 ° C. Hereinafter, it is called a metal ion.)
And the metal ions are taken into the glass layer. The amount of metal ions to be substituted in the glass layer can be determined by adjusting the concentration of the treatment agent, the contact temperature, the contact time, and the like. As a result, the metal ions do not diffuse evenly throughout the glass layer, and a metal-rich layer containing a high concentration of ion-exchanged metal ions is provided on the surface side of the glass layer.

【0011】このため、金属リッチ層より奥の内部には
無駄な金属イオンが存在せず、金属イオンを無駄に消費
することもない。このため、金属として抗菌性を有する
Ag、Cu、Zn等の抗菌金属を採用すれば、ガラス層
の表面の金属リッチ層にかかる抗菌金属が高い濃度で含
まれていることになるため、それらの抗菌金属が細菌に
作用し、これを死減させ、或いはその繁殖を抑制するこ
とができる。また、金属リッチ層より奥の内部には無駄
な抗菌金属が存在せず、抗菌金属を無駄に消費すること
もない。
Therefore, there is no useless metal ion inside the metal-rich layer, and the metal ion is not wasted. For this reason, if antibacterial metals such as Ag, Cu, and Zn having antibacterial properties are employed as the metals, the antibacterial metals related to the metal-rich layer on the surface of the glass layer will be contained at a high concentration, and therefore those metals Antimicrobial metals can act on bacteria to kill them or inhibit their proliferation. Further, there is no useless antibacterial metal inside the metal-rich layer, and the antibacterial metal is not wasted.

【0012】また、本発明の処理方法では、100°C
未満の温度で処理剤をガラス層に接触させることから、
基体の製造後又は釉薬層の形成後にその処理を行うこと
ができる。このため、焼成等の過程において処理剤の金
属が表面から炉内に揮発することがないとともに、10
0°C未満の温度という低温下での処理のためにエネル
ギーの消費も抑制することができる。
In the processing method of the present invention, the temperature of 100 ° C.
Contacting the treatment agent with the glass layer at a temperature of less than
The treatment can be performed after the production of the substrate or after the formation of the glaze layer. For this reason, the metal of the treating agent does not volatilize into the furnace from the surface in the course of baking and the like, and
Energy consumption can be suppressed because the treatment is performed at a low temperature of less than 0 ° C.

【0013】さらに、本発明の処理方法では、100°
C未満というガラス層のガラス転移点よりかなり低温下
での処理のため、処理中にガラス層が軟化することはな
い。このため、処理後の製品に未反応の金属イオンがガ
ラス層の表面に付着したりすること等がなく、金属の無
駄使いを生じないとともに、製品の表面性状、美観が維
持される。
Further, in the processing method of the present invention, 100 °
Since the treatment is performed at a temperature much lower than the glass transition point of the glass layer of less than C, the glass layer does not soften during the treatment. For this reason, unreacted metal ions do not adhere to the surface of the glass layer on the product after the treatment, and the metal is not wasted, and the surface properties and appearance of the product are maintained.

【0014】したがって、本発明の処理方法では、金属
による作用を効果的に発揮可能とするとともに、金属の
無駄を生じさせず、かつ製品に優れた表面性状をもたせ
得ることができる。処理剤としては、蒸着による金属、
金属微粉末、金属を含むコロイド、金属をイオンで溶解
させた溶液を採用することができる。金属としては、抗
菌性を有しない金属の他、抗菌性を有するAg、Cu、
Zn等の抗菌金属を採用することができる。具体的に
は、有機銀・銅化合物や銀・銅担持無機化合物であり、
(1)銀、銅、銀−銅合金、(2)リン酸銀、硝酸銀、
塩化銀、硫化銀、酸化銀、硫酸銀、クエン酸銀、乳酸
銀、(3)リン酸第一銅、リン酸第二銅、有機銅化合
物、塩化第一銅、塩化第二銅、硫化第一銅、酸化第一
銅、酸化第二銅、硫化第二銅、硫化第一銅、硫化第二
銅、クエン酸銅、乳酸銅等を採用することができる。ま
た、亜鉛についても、同様に、有機亜鉛化合物や亜鉛担
持無機化合物であり、亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫化
亜鉛、硫酸亜鉛、乳酸亜鉛等を採用することができる。
これらの金属は、単体であってもよく、合金であっても
よく、また化合物であってもよい。しかし、本発明の処
理方法では、100°C未満という低温下での接触によ
りイオン交換を行わしめるため、接触時間の短縮化を図
るためには、溶解度が高い金属の大きさがより小さいコ
ロイドや溶液を採用することが好ましい。より好ましく
は、硝酸銀、硫酸銀等の溶液を採用することである。コ
ロイドでは金属の大きさが原子より大きいのに対し、こ
れらの溶液では金属の大きさが原子と同等だからであ
る。かかる金属をイオンで溶解させた溶液は、金属イオ
ンと溶媒とを含む処理液として具体化可能である。ま
た、コロイドは金属微粒子を大量に含有することが好ま
しく、溶液は金属イオンを高濃度で溶解させていること
が好ましい。処理剤は70重量%以上で金属又は金属化
合物を含むことが好ましい。これらにより接触時間の短
縮化を図ることができるからである。
Therefore, according to the treatment method of the present invention, it is possible to effectively exert the action of the metal, to prevent waste of the metal, and to give the product an excellent surface property. As a treatment agent, metal by vapor deposition,
A metal fine powder, a colloid containing a metal, or a solution in which a metal is dissolved by ions can be used. As the metal, in addition to metals having no antibacterial properties, Ag, Cu,
An antibacterial metal such as Zn can be used. Specifically, organic silver-copper compounds and silver-copper-supported inorganic compounds,
(1) silver, copper, silver-copper alloy, (2) silver phosphate, silver nitrate,
Silver chloride, silver sulfide, silver oxide, silver sulfate, silver citrate, silver lactate, (3) cuprous phosphate, cupric phosphate, organic copper compounds, cuprous chloride, cupric chloride, Copper, cuprous oxide, cupric oxide, cupric sulfide, cuprous sulfide, cupric sulfide, copper citrate, copper lactate, and the like can be used. Similarly, zinc is an organic zinc compound or a zinc-supporting inorganic compound, and zinc, zinc oxide, zinc chloride, zinc sulfide, zinc sulfate, zinc lactate, or the like can be used.
These metals may be a simple substance, an alloy, or a compound. However, in the treatment method of the present invention, since ion exchange is performed by contact at a low temperature of less than 100 ° C., in order to shorten the contact time, a colloid having a smaller size of a highly soluble metal and It is preferred to employ a solution. More preferably, a solution of silver nitrate, silver sulfate or the like is used. This is because the size of the metal is larger than the atom in the colloid, whereas the size of the metal is equal to the atom in these solutions. A solution in which such a metal is dissolved by ions can be embodied as a treatment liquid containing metal ions and a solvent. The colloid preferably contains a large amount of metal fine particles, and the solution preferably dissolves metal ions at a high concentration. The treating agent preferably contains a metal or a metal compound at 70% by weight or more. This is because these can shorten the contact time.

【0015】本発明の処理方法では、かかる溶液を処理
剤として採用する場合、溶媒の沸点未満の温度でガラス
層に処理液を接触させることができる。つまり、溶媒が
水の場合は100°C未満となる。溶媒の沸点未満の温
度で接触させれば、処理液からなる未乾燥の処理層が乾
燥しにくく、余分な処理層を高い割合で除去することが
できる。こうして除去すれば、処理後の製品に未反応の
金属イオンがガラス層の表面に付着したりすること等が
なく、金属の無駄使いを生じないとともに、製品の表面
性状、美観が維持される。また、除去後の処理液を高い
割合で再利用することが可能であり、製造コストの低廉
化を実現できる。
In the treatment method of the present invention, when such a solution is employed as a treatment agent, the treatment liquid can be brought into contact with the glass layer at a temperature lower than the boiling point of the solvent. That is, when the solvent is water, the temperature is lower than 100 ° C. If the contact is made at a temperature lower than the boiling point of the solvent, the undried treated layer composed of the treatment liquid is not easily dried, and the excess treated layer can be removed at a high rate. By removing in this manner, unreacted metal ions do not adhere to the surface of the glass layer, etc., on the processed product, so that metal is not wasted, and the surface properties and appearance of the product are maintained. Further, the processing solution after the removal can be reused at a high rate, and the manufacturing cost can be reduced.

【0016】接触温度が100°Cより低い範囲でより
高ければ、接触時間を短くできる。このため、冬場の工
場内の常温を考慮し、15°C以上の温度でガラス層に
処理剤を接触させることが好ましい。また、焼成炉の余
熱等を考慮し、40°C以上の温度でガラス層に処理剤
を接触させることが好ましい。また、ガラス層及び/又
は処理剤を処理温度と同等の温度にしてガラス層に処理
剤を接触させることが好ましい。ガラス層又は処理剤が
処理温度と同等の温度であれば、一方から他方への熱の
移動がなく、接触時間により決定したガラス層中に置換
する金属イオンの量を変化させないことができる。特
に、ガラス層及び処理剤を処理温度と同等の温度にして
ガラス層に処理剤を接触させることが好ましい。ガラス
層及び処理剤が処理温度と同等の温度であれば、熱の移
動がほとんどをなくなり、品質を安定させることができ
る。
If the contact temperature is higher in a range lower than 100 ° C., the contact time can be shortened. For this reason, it is preferable that the treatment agent is brought into contact with the glass layer at a temperature of 15 ° C. or more in consideration of the normal temperature in the factory in winter. Further, it is preferable that the treatment agent is brought into contact with the glass layer at a temperature of 40 ° C. or more in consideration of the residual heat of the firing furnace. Further, it is preferable that the glass layer and / or the treating agent be brought into a temperature equivalent to the treating temperature and the treating agent is brought into contact with the glass layer. If the temperature of the glass layer or the treatment agent is equal to the treatment temperature, there is no heat transfer from one side to the other, and the amount of metal ions substituted in the glass layer determined by the contact time can be kept unchanged. In particular, it is preferable that the glass layer and the treatment agent are brought into a temperature equivalent to the treatment temperature and the treatment agent is brought into contact with the glass layer. When the temperature of the glass layer and the treatment agent is equal to the treatment temperature, heat transfer hardly occurs, and the quality can be stabilized.

【0017】処理液からなる未乾燥の処理層を形成後、
余分な処理層を除去することが好ましい。除去後の処理
液を再利用すれば、製品コストの低廉化を実現できるか
らである。処理層の乾燥の程度は、溶媒、ガラス層の温
度等によって変化する。これらの点を考慮し、処理層が
乾燥しにくい場合には長時間の接触が可能であることか
ら、低濃度の処理液を採用することができる。また、処
理層が乾燥しやすい場合には短時間の接触が好ましいこ
とから、高濃度の処理液を採用することができる。
After forming an undried processing layer comprising a processing liquid,
It is preferable to remove an excess processing layer. This is because if the processing solution after the removal is reused, the product cost can be reduced. The degree of drying of the treatment layer varies depending on the solvent, the temperature of the glass layer, and the like. In consideration of these points, when the processing layer is difficult to dry, long-term contact is possible, so that a low-concentration processing liquid can be employed. In addition, when the treatment layer is easy to dry, short-time contact is preferable, so that a treatment solution having a high concentration can be employed.

【0018】処理剤の接触後、ガラス層のガラス転移点
未満の温度でそのガラス層を加熱し、ガラス層中に取り
込んだ金属イオンをガラス層中に浸透させることが好ま
しい。従来は、金属微粉末や金属塩を接触させた後、金
属イオンの拡散と浸透とを一体とした加熱により行って
いたと考えられる。このため、従来におけるガラス層中
における金属イオンは、加熱時間によって全体の量が増
加しやすく、抗菌等のために必要な量を超えてさらに金
属イオンを拡散、浸透させやすく、金属の無駄な消費を
生じやすいと考えられる。これに対し、本発明の処理方
法では、イオン交換によりガラス層中に抗菌等のために
必要な量だけ取り込まれた金属イオンがかかる加熱によ
りガラス層中に浸透することとなる。こうして加熱した
としても、その際に既に処理剤を取り除いておくのであ
れば、ガラス層中における金属イオンは、加熱前に比し
て、全体の量が増加することはなく、濃度の傾斜が変化
するだけであると考えられる。このため、抗菌等のため
に必要な量を超えてさらに金属イオンを取り込み、浸透
させることはないため、金属の無駄な消費を防止するこ
とができる。また、金属イオンにおける濃度の傾斜変化
はガラス層中において緩やかに生じるため、むやみに長
時間加熱しない限り、ガラス層全体に亘って満遍なく金
属イオンが拡散することはなく、ガラス層の表面側に未
だ金属リッチ層を存在させやすい。さらに、加熱前に処
理剤を取り除いておくのであれば、加熱中、処理剤に含
まれる金属の還元による黒色化及びそれによるガラス層
の斑点状汚れの付着を防止できる。
After the contact of the treating agent, it is preferable to heat the glass layer at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer so that the metal ions incorporated in the glass layer penetrate into the glass layer. Conventionally, it is considered that the diffusion and permeation of metal ions are integrally performed by heating after contacting fine metal powder or metal salt. For this reason, the total amount of metal ions in the conventional glass layer tends to increase due to the heating time, and the metal ions easily diffuse and penetrate beyond the amount required for antibacterial and the like, resulting in wasteful consumption of metal. Is likely to occur. On the other hand, in the treatment method of the present invention, metal ions taken into the glass layer by ion exchange in an amount required for antibacterial and the like permeate into the glass layer by such heating. Even if heating is performed in this way, if the treatment agent is already removed at that time, the amount of metal ions in the glass layer does not increase as compared to before heating, and the concentration gradient changes. It is thought that it only does. For this reason, it is not necessary to take in and permeate a metal ion more than the amount required for antibacterial and the like, so that wasteful consumption of metal can be prevented. In addition, since the gradient change in the concentration of metal ions occurs slowly in the glass layer, the metal ions do not diffuse evenly throughout the entire glass layer unless the heating is performed for a long time, and the metal ions still remain on the surface side of the glass layer. It is easy to have a metal rich layer. Further, if the treatment agent is removed before heating, blackening due to reduction of the metal contained in the treatment agent during heating and the adhesion of spot-like stains on the glass layer due to the reduction can be prevented.

【0019】かかる加熱は、ガラス層のガラス転移点未
満の温度という比較的低温下で行われるため、金属が表
面から揮発しにくく、かつ表面の金属リッチ層の存在を
維持することができる。また、エネルギーの消費も小さ
い。さらに、ガラス層の軟化も生じないため、製品の表
面性状、美観を維持することができる。処理層を一度除
去しただけでは処理液がガラス層の表面に残留するので
あれば、その状態のまま加熱すると製品のガラス層の表
面が汚れることとなる。このため、加熱前にガラス層の
表面を水等により洗浄することが好ましい。
Since such heating is performed at a relatively low temperature of less than the glass transition point of the glass layer, the metal is less likely to volatilize from the surface, and the presence of the metal-rich layer on the surface can be maintained. Also, energy consumption is small. Furthermore, since the softening of the glass layer does not occur, the surface properties and appearance of the product can be maintained. If the treatment liquid remains on the surface of the glass layer only once after removing the treatment layer, heating the glass layer in that state will stain the surface of the glass layer of the product. Therefore, it is preferable to wash the surface of the glass layer with water or the like before heating.

【0020】300°C未満の温度でガラス層を加熱す
ることが好ましく、より好ましくは200°C未満、更
に好ましくは150°C未満の温度である。この理由
は、300°C未満であれば十分にガラス層中に金属の
イオンを浸透させやすく、200°C未満であれば未だ
十分にガラス層中に金属のイオンを浸透させやすいから
である。また、150°C未満であれば、未だガラス層
中に金属のイオンを浸透させやすい一方、加熱直後に製
品を室温状態に出すという急激な温度変化に対してもガ
ラス層に微少なクラック等の欠陥を発生させることはな
いからである。
Preferably, the glass layer is heated at a temperature below 300 ° C., more preferably below 200 ° C., even more preferably below 150 ° C. The reason for this is that if the temperature is lower than 300 ° C., the metal ions easily penetrate sufficiently into the glass layer, and if the temperature is lower than 200 ° C., the metal ions still easily penetrate sufficiently into the glass layer. If the temperature is lower than 150 ° C., the metal ions are still easy to penetrate into the glass layer. This is because no defect is generated.

【0021】処理剤からなる処理層を形成後にガラス層
のガラス転移点未満の温度でガラス層を加熱することに
より、ガラス層中に金属のイオンを取り込むとともに浸
透させ、この後に処理層を除去することも好ましい。除
去後の処理液を再利用すれば、製品コストの低廉化を実
現できるからである。基体のガラス層が予め金属を含む
ことも好ましい。こうであれば、ガラス層の表面側から
行うイオン交換により初期の金属の作用を発揮可能であ
り、かつガラス層の表面側から行うイオン交換のみによ
り作用を効果的に発揮可能な金属をガラス層中に取り込
む場合に比して、耐久性が向上するとともに、消費する
金属量が減少して製造コストの低廉化を実現することが
できる。
By heating the glass layer at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer after forming the processing layer made of the processing agent, metal ions are taken into and penetrated into the glass layer, and then the processing layer is removed. It is also preferred. This is because if the processing solution after the removal is reused, the product cost can be reduced. It is also preferred that the glass layer of the substrate contains a metal in advance. If this is the case, a metal capable of exhibiting the action of the initial metal by ion exchange performed from the surface side of the glass layer and effectively exerting the action only by ion exchange performed from the surface side of the glass layer can be used. As compared with the case where the metal is taken in, the durability is improved, the amount of metal consumed is reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

【0022】すなわち、ガラス層の表面側から行うイオ
ン交換のみにより、金属をガラス層中に取り込む場合、
ガラス層の表面側には上述の金属リッチ層が形成される
こととなる。本発明者らの試験結果によれば、かかる金
属リッチ層は、表面側にピークをもち、奥の内部側に向
かって反比例的に減衰する濃度を有している。このた
め、使用後にある程度表面から摩耗が進行する場合もあ
ることを考慮すると、大量の金属をイオン交換して表面
側よりやや奥の内部の金属の濃度を高くしなければ、か
かる金属リッチ層の金属のみで作用を効果的に発揮させ
ることができない。このため、この場合には、耐久性の
向上と製造コストの低廉化とを両立することができな
い。
That is, when the metal is taken into the glass layer only by ion exchange performed from the surface side of the glass layer,
The above-mentioned metal-rich layer will be formed on the surface side of the glass layer. According to the test results of the present inventors, such a metal-rich layer has a concentration that has a peak on the surface side and attenuates inversely to the inner side at the back. For this reason, considering that the wear may progress from the surface to some extent after use, unless a large amount of metal is ion-exchanged to increase the concentration of the metal inside the surface slightly behind the surface side, such a metal-rich layer may be damaged. The effect cannot be effectively exerted only with metal. For this reason, in this case, it is impossible to achieve both improvement in durability and reduction in manufacturing cost.

【0023】他方、ガラス層に予め金属を含ませておく
場合には、本発明者らの試験結果によれば、それらの金
属の濃度は表面側で最も低く、奥の内部側に向かって徐
々に増加し、いづれ飽和する傾向を示す。このため、こ
の場合には、使用後にある程度表面から摩耗が進行した
場合において、ガラス層に大量の金属を含ませて飽和す
る濃度をある程度高くしなければ、やはりこれらの金属
のみで作用を効果的に発揮させることができない。この
ため、この場合には、初期に金属の作用を発揮しにく
い。
On the other hand, in the case where metals are contained in the glass layer in advance, according to the test results of the present inventors, the concentrations of those metals are lowest on the surface side and gradually increase toward the inner side at the back. And tends to saturate. For this reason, in this case, even if the wear progresses to some extent from the surface after use, unless the glass layer contains a large amount of metal and the concentration that saturates the glass layer is increased to some extent, the effect is effective only with these metals. Can not be demonstrated. For this reason, in this case, it is difficult to exhibit the action of the metal in the initial stage.

【0024】この点、ガラス層に予め金属を含ませてお
くとともに、そのガラス層の表面側からイオン交換を行
って金属を取り込めば、ガラス層の表面側に金属リッチ
層が形成されるとともに、その金属リッチ層の濃度とほ
ぼ同じ濃度で飽和する金属を含めることができる。つま
り、基体のガラス層は金属リッチ層より奥の内部にも金
属を含むことととなる。こうであれば、使用直後の表面
からの摩耗前には金属リッチ層により優れた金属の作用
が発揮され、使用後のある程度表面から摩耗が進行した
場合においては、内部の金属によりやはり優れた金属の
作用が発揮されることとなる。このため、初期に金属の
作用を発揮可能であり、かつ耐久性の向上と製造コスト
の低廉化とを両立させることができる。
In this regard, if a metal is previously contained in the glass layer and the metal is taken in by ion exchange from the surface side of the glass layer, a metal-rich layer is formed on the surface side of the glass layer, A metal that saturates at approximately the same concentration as that of the metal-rich layer can be included. That is, the glass layer of the base contains metal even inside the metal rich layer. In this case, the metal-rich layer exhibits excellent metal action before wear from the surface immediately after use, and when the wear progresses from the surface to some extent after use, the metal inside is also superior to the metal inside. Will be exerted. For this reason, the action of the metal can be exhibited at the initial stage, and both improvement in durability and reduction in manufacturing cost can be achieved.

【0025】こうして、ガラス層に予め金属を含ませて
おくとともに、そのガラス層の表面側からイオン交換を
行って金属を取り込む場合、基体のガラス層の全体に予
め金属を含ませることはある程度やむを得ないものの、
そのガラス層の全体に表面側からイオン交換を行って金
属を取り込むばかりでなく、より強力に金属の作用が要
求されるガラス層の部位にのみ表面側からイオン交換を
行って金属を取り込むことができる。抗菌金属を用いる
場合には、基体のガラス層の全体に予め抗菌金属を含ま
せつつ、大便器の封水部やリムから水が流れる部位等、
水の接触する部位にのみ表面側からイオン交換を行って
金属を取り込むことができる。
In this way, when the metal is previously contained in the glass layer and the metal is taken in by ion exchange from the surface side of the glass layer, it is unavoidable to include the metal in the entire glass layer of the substrate in advance to some extent. Although not
Not only can the entire glass layer be ion-exchanged from the surface side to take in the metal, but also the metal layer can be ion-exchanged from the surface side only at the part of the glass layer where the action of the metal is required more strongly. it can. In the case of using an antibacterial metal, the antibacterial metal is contained in the entire glass layer of the base in advance, and a portion where water flows from a water sealing portion or a rim of a toilet, etc.
The metal can be taken in by ion-exchange from the surface side only at the site that comes into contact with water.

【0026】ガラス層中の金属として、ガラス層を構成
する釉薬中に予め添加した抗菌金属を採用すれば、使用
直後の表面からの摩耗前には金属リッチ層により優れた
抗菌作用が発揮され、使用後のある程度表面から摩耗が
進行した場合においては、内部の抗菌金属によりやはり
優れた抗菌作用が発揮されることとなる。このため、初
期に抗菌金属の作用を発揮可能であり、かつ耐久性の向
上と製造コストの低廉化とを両立させることができる。
If the antibacterial metal previously added to the glaze constituting the glass layer is adopted as the metal in the glass layer, the antimicrobial action is more excellently exhibited by the metal-rich layer immediately before use and before abrasion from the surface. When the wear progresses from the surface to some extent after use, the excellent antibacterial action is also exhibited by the internal antibacterial metal. For this reason, the action of the antibacterial metal can be exhibited at the initial stage, and both improvement in durability and reduction in manufacturing cost can be achieved.

【0027】抗菌剤によりガラス層中に抗菌金属を含ま
せる場合、その抗菌剤は釉薬中に0.05〜10重量%
の割合で含まれていることが好ましい。これにより、抗
菌剤はガラス層の金属リッチ層より奥の内部に0.05
〜10重量%の割合で含まれることとなる。発明者らの
試験結果によれば、かかる範囲で抗菌作用が実用的であ
る。
When an antibacterial metal is contained in the glass layer by the antibacterial agent, the antibacterial agent is contained in the glaze at 0.05 to 10% by weight.
Is preferably contained at a ratio of As a result, the antibacterial agent is placed inside the glass layer deeper than the metal rich layer by 0.05%.
To 10% by weight. According to the test results of the inventors, the antibacterial action is practical within such a range.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明は以下のように実施され得
る。実施形態では、図1に示すように、素地10の表面
に釉薬層というガラス層12をもつセラミックスの半製
品を基体15に本発明を具体化している。まず、図1
(I)に示すように、ガラス層12の表面に処理剤を塗
布し、処理層14を形成する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention can be implemented as follows. In the embodiment, as shown in FIG. 1, the present invention is embodied in a base material 15 of a semi-finished ceramic product having a glass layer 12 called a glaze layer on the surface of a substrate 10. First, FIG.
As shown in (I), a treatment agent is applied to the surface of the glass layer 12 to form a treatment layer 14.

【0029】金属粉末を処理剤とする場合、界面活性剤
とともに金属粉末を存在させ、図2(A)に示すよう
に、これをノズル16によりガラス層12の表面にスプ
レーすることができる。また、図2(B)に示すよう
に、処理剤18を篩20内に入れ、仕切板24を後退さ
せることによって篩20の網目22からガラス層12の
表面に塗布する方法を採用することもできる。この場
合、図2(B)(I)に示すように、ガラス層12の表
面に処理剤18を振りかけ、図2(B)(II)に示す
ように、ガラス層12上の処理剤18が所定量になった
時点で仕切板24により網目22を塞ぎ、網目22から
処理剤18が落下しないようにすることができる。さら
に、静電塗布(付着)法、その他の方法を用いることも
可能である。
When a metal powder is used as the treating agent, the metal powder may be present together with a surfactant, and sprayed onto the surface of the glass layer 12 by a nozzle 16 as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 2B, a method in which the treatment agent 18 is put into a sieve 20 and the partition plate 24 is retracted to apply the treatment agent 18 from the mesh 22 of the sieve 20 to the surface of the glass layer 12 may be adopted. it can. In this case, as shown in FIGS. 2B and 2I, the treating agent 18 is sprinkled on the surface of the glass layer 12, and as shown in FIGS. When the predetermined amount is reached, the mesh 22 is closed by the partition plate 24, so that the treatment agent 18 does not fall from the mesh 22. Further, it is also possible to use an electrostatic coating (adhesion) method or another method.

【0030】他方、液体状の処理剤を塗布する場合、図
2(A)に示すように、ノズル16によりガラス層12
の表面にスプレーすることができる。また、基体15を
含めて全体を処理剤中に浸漬するどぶ漬け方法(ディッ
ピング)を採用することもできる。さらに、スクリーン
状に処理剤を垂らし、その中を基体15を通過させる幕
掛け法を採用することもできる。また、超音波により処
理剤のミストを発生させ、このミストをガラス層12に
付着させる方法を採用することもできる。
On the other hand, when a liquid processing agent is applied, as shown in FIG.
Can be sprayed on the surface. Further, a dipping method (dipping) in which the entire body including the base 15 is immersed in the treatment agent may be employed. Further, it is also possible to employ a curtaining method in which the treatment agent is suspended in a screen shape and the substrate 15 passes through the treatment agent. Further, a method of generating a mist of the treatment agent by ultrasonic waves and attaching the mist to the glass layer 12 can also be adopted.

【0031】こうして処理層14中の金属イオンがガラ
ス層12に取り込まれる。図1(I)に示すように、処
理液からなる未乾燥の処理層14を形成後、又は図1
(II)に示すように、ガラス層のガラス転移点未満の
温度でガラス層12を加熱後、図1(III)に示すよ
うに、処理層14を適宜の方法で除去することができ
る。
Thus, the metal ions in the treatment layer 14 are taken into the glass layer 12. As shown in FIG. 1 (I), after forming an undried processing layer 14 made of a processing liquid, or as shown in FIG.
After heating the glass layer 12 at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer as shown in (II), the treatment layer 14 can be removed by an appropriate method as shown in FIG. 1 (III).

【0032】ガラス層12上の処理層14を除去するた
めには、例えば、図3(A)に示すように、処理層14
を拭き取ったり、掻き取ったりする手段を採用すること
ができる。また、図3(B)に示すように、水や空気等
をノズル26から勢い良く噴霧して吹き飛ばす手段を採
用することもできる。さらに、図3(C)に示すよう
に、基体15を含む全体を水等の液体28中に浸漬する
手段を採用することもできる。除去した処理層14は回
収して再利用可能である。図3(A)、(B)及び
(C)に示す手段の場合、除去した処理層14を容易に
回収して再利用できる。
In order to remove the processing layer 14 on the glass layer 12, for example, as shown in FIG.
Means for wiping or scraping off. In addition, as shown in FIG. 3B, a means for spraying water, air, or the like from the nozzle 26 with vigor and blowing it off may be employed. Further, as shown in FIG. 3C, a means for immersing the entire body including the base 15 in a liquid 28 such as water can be adopted. The removed treatment layer 14 can be collected and reused. In the case of the means shown in FIGS. 3A, 3B and 3C, the removed treatment layer 14 can be easily collected and reused.

【0033】ガラス層のガラス転移点未満の温度でガラ
ス層を加熱する場合、図4に示すように、ガラス層12
又は素地10及びガラス層12をトンネルキルン、ロー
ラーハースキルン等の焼成炉30で焼成した後、これに
連続した加熱炉32内に搬入する手段を採用することが
できる。また、焼成炉30での焼成後、一旦これを冷却
し、その後に加熱炉32内に搬入する手段を採用するこ
ともできる。すなわち、焼成炉30による焼成とは不連
続に加熱炉32で加熱を行うことができる。
When the glass layer is heated at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer, as shown in FIG.
Alternatively, it is possible to employ a method in which the substrate 10 and the glass layer 12 are fired in a firing furnace 30 such as a tunnel kiln or a roller hearth kiln, and are then carried into a heating furnace 32 that is continuous with the firing. In addition, after firing in the firing furnace 30, it is also possible to adopt a means for cooling the firing once and then carrying it into the heating furnace 32. That is, heating can be performed in the heating furnace 32 discontinuously from firing in the firing furnace 30.

【0034】また、加熱を連続式に行う場合、図5に示
すように、まず、基体15を焼成炉30内で移動させな
がら焼成(例えば1200°Cで焼成)する。そして、
焼成炉30内又は焼成炉30外において、例えば100
°C程度までこれが冷却すれば、続いて基体15のガラ
ス層12の表面に例えば銀化合物からなる処理剤を接触
させ、処理層14を形成する。ここで余分な処理層14
を除去することができる。次いで、連続的に加熱炉32
内にこれを搬入し、移動させ、所定の加熱温度で所定時
間かけて加熱を行う。この際、スプレーをかけながら、
又はミストを発生させた密閉された加熱炉32内を所定
の時間移動させながら、銀化合物を接触させるととも
に、加熱することもできる。処理層14を形成後に余分
な処理層14の除去を行わない場合、加熱炉32から出
た時点で余分な処理層14を除去することができる。な
お、既に焼成された基体15に対して処理を行う場合に
は、その基体15に処理層14を接触させ、必要により
余分な処理層14を除去し、加熱炉32に搬入する。そ
して、処理層14を形成後に余分な処理層14の除去を
行わない場合、加熱炉32から出た時点で余分な処理層
14を除去する。
When the heating is performed in a continuous manner, as shown in FIG. 5, first, the base 15 is baked (for example, baked at 1200 ° C.) while being moved in the sintering furnace 30. And
In the baking furnace 30 or outside the baking furnace 30, for example, 100
After cooling to about ° C, the surface of the glass layer 12 of the substrate 15 is then brought into contact with a treatment agent made of, for example, a silver compound to form a treatment layer 14. Here, the extra processing layer 14
Can be removed. Next, the heating furnace 32 is continuously
This is carried in, moved, and heated at a predetermined heating temperature for a predetermined time. At this time, while spraying,
Alternatively, the silver compound can be brought into contact and heated while moving in the sealed heating furnace 32 in which mist is generated for a predetermined time. If the unnecessary processing layer 14 is not removed after the processing layer 14 is formed, the unnecessary processing layer 14 can be removed when the processing layer 14 is removed from the heating furnace 32. When processing is performed on the substrate 15 that has already been baked, the processing layer 14 is brought into contact with the substrate 15, an unnecessary processing layer 14 is removed if necessary, and the substrate 15 is carried into the heating furnace 32. Then, when the processing layer 14 is not removed after the processing layer 14 is formed, the processing layer 14 is removed when the processing layer 14 is removed from the heating furnace 32.

【0035】他方、加熱をバッチ式で行う場合、図6
(I)に示すように、まず一定量の基体15をまとめて
焼成炉30内に挿入した後、図6(II)に示すよう
に、出入口の炉蓋を閉じた状態で基体15を焼成(例え
ば1200°Cで焼成)する。そして、図6(III)
に示すように、例えば100°C程度までこれが冷却す
れば、図6(IV)に示すように、基体15のガラス層
12の表面に例えば銀化合物からなる処理剤を接触さ
せ、処理層14を形成する。ここで余分な処理層14を
除去することもできる。次いで、図6(V)に示すよう
に、加熱炉32内に所定の加熱温度で所定時間保持し、
加熱を行う。そして、図6(VI)に示すように、加熱
が済んだ時点で製品を外に取り出す。この後、図6(V
II)に示すように、処理層14を形成後に余分な処理
層14の除去を行わない場合には、余分な処理層14を
除去する。
On the other hand, when the heating is performed in a batch system, FIG.
As shown in (I), first, a fixed amount of the base 15 is collectively inserted into the firing furnace 30, and then, as shown in FIG. 6 (II), the base 15 is fired in a state where the entrance and exit furnace lids are closed ( For example, firing at 1200 ° C.). Then, FIG. 6 (III)
As shown in FIG. 6, when this is cooled to, for example, about 100 ° C., as shown in FIG. 6 (IV), a treatment agent made of, for example, a silver compound is brought into contact with the surface of the glass layer 12 of the base member 15 to form Form. Here, the extra processing layer 14 can be removed. Then, as shown in FIG. 6 (V), the heating furnace 32 is held at a predetermined heating temperature for a predetermined time,
Perform heating. Then, as shown in FIG. 6 (VI), when the heating is completed, the product is taken out. Thereafter, FIG.
As shown in II), when the extra processing layer 14 is not removed after the formation of the processing layer 14, the extra processing layer 14 is removed.

【0036】以上はあくまで1つの処理の例を示したに
過きないもので、他の方法で処理することも勿論可能で
ある。
The above is only an example of one processing, and it is of course possible to perform processing by another method.

【0037】[0037]

【実施例1】次に本発明の実施例1を詳述する。図7
(A)に示すように、下記組成の陶磁器からなる素地1
0の表面に下記組成の釉薬からなるガラス層(釉薬層)
12をもつ基体15を用意する。なお、ガラス層12の
ガラス転移点は700°Cである。
Embodiment 1 Next, Embodiment 1 of the present invention will be described in detail. FIG.
As shown in (A), a substrate 1 made of ceramic having the following composition
Glass layer (glaze layer) consisting of glaze of the following composition on the surface of 0
A substrate 15 having 12 is prepared. The glass transition point of the glass layer 12 is 700 ° C.

【0038】これらの基体15におけるガラス層12の
表面に処理剤としてのAg3PO4微粉末(平均粒径0.
3μm)を0.3mmの厚みで積層し、処理層14を形
成する。 <素地10の調合割合(重量%)> 長石:28.2 珪砂:11.8 セリサイト:15.0 粘土:45.0 <釉薬の調合割合(重量%)> 長石:53.7 珪砂:9.8 石灰:12.3 ドロマイト:4.8 蛙目:5.1 亜鉛華:2.0 ジルコン:10.1 フリット:2.2 そして、これらを200°C×2時間(試料A)、15
0°C×2時間(試料B)、15°C×2時間(試料
C)又は4°C×2時間(試料D)の条件で加熱する。
On the surface of the glass layer 12 of the substrate 15, Ag 3 PO 4 fine powder (average particle size: 0.3 μm) was used as a treating agent.
3 μm) are laminated with a thickness of 0.3 mm to form the treatment layer 14. <Mixing ratio of base 10 (% by weight)> Feldspar: 28.2 Silica sand: 11.8 Sericite: 15.0 Clay: 45.0 <Mixing ratio of glaze (% by weight)> Feldspar: 53.7 Silica sand: 9 8.8 Lime: 12.3 Dolomite: 4.8 Frog: 5.1 Zinc flower: 2.0 Zircon: 10.1 Frit: 2.2 And these were added at 200 ° C. × 2 hours (sample A), 15
Heating is performed under the conditions of 0 ° C. × 2 hours (sample B), 15 ° C. × 2 hours (sample C), or 4 ° C. × 2 hours (sample D).

【0039】また、AgNO3を3.0重量%含有する
水溶液を処理液として用意し、図7(B)に示すよう
に、同種の基体15におけるガラス層12の表面にこの
処理液を0.001g/cm2で塗布し、処理層14を
形成する。そして、これらを200°C×2時間(試料
E)、150°C×2時間(試料F)、15°C×2時
間(試料G)又は4°C×2時間(試料H)の条件で加
熱する。
An aqueous solution containing 3.0% by weight of AgNO 3 was prepared as a treatment liquid, and this treatment liquid was applied to the surface of the glass layer 12 of the same type of substrate 15 as shown in FIG. 001 g / cm 2 is applied to form a treatment layer 14. Then, these were subjected to the conditions of 200 ° C. × 2 hours (sample E), 150 ° C. × 2 hours (sample F), 15 ° C. × 2 hours (sample G) or 4 ° C. × 2 hours (sample H). Heat.

【0040】この後、ガラス層12上の処理層14を除
去し、続いてフィルム密着法による抗菌力試験に供し
た。抗菌力試験及び評価は下記にて行った。 <試験方法> 試験菌の培養: (1)試験菌をNA培地(普通寒天培地)にて移植し、
温度35〜37°Cで16〜24時間培養(前々培養)
した。
Thereafter, the treated layer 14 on the glass layer 12 was removed, and then subjected to an antibacterial test by a film adhesion method. The antibacterial test and evaluation were performed as follows. <Test method> Culture of test bacteria: (1) Transfer the test bacteria in NA medium (normal agar medium),
Culture at a temperature of 35 to 37 ° C for 16 to 24 hours (pre-culture)
did.

【0041】(2)前項(1)で前々培養した菌をNA
培地に1白金耳移植し、温度35〜37°Cで16〜2
0時間培養(前培養)した。 接種用菌液の調製:NB培地(普通ブイヨン培地)をリ
ン酸緩衝液で500倍に希釈してpHを7.0±0.2
に調製した「1/500NB培地」とし、これに前培養
した菌を均一に分散させ、接種用菌液とした。
(2) The bacterium pre-cultured in (1) above is subjected to NA
One platinum loop was transplanted to the medium, and the temperature was 35 to 37 ° C and 16 to 2
The cells were cultured for 0 hours (pre-culture). Preparation of bacterial solution for inoculation: NB medium (normal broth medium) was diluted 500-fold with phosphate buffer to adjust the pH to 7.0 ± 0.2.
The 1/500 NB medium prepared above was used, and the pre-cultured bacteria were uniformly dispersed therein to obtain a bacterial solution for inoculation.

【0042】試験片の調製: (1)上記試験試料A〜Hを50±2mm角(厚さ10
mm以内)の正方形に切断し、その全面をエタノールを
染み込ませた局方ガーゼ又は脱脂綿で軽く2〜3回拭い
た後、乾燥させる(前処理)。各々3個用意し、抗菌加
工試験片とした。
Preparation of test pieces: (1) The above test samples A to H were placed in a 50 ± 2 mm square (thickness 10
(within mm), and gently wipe the entire surface 2-3 times with ethanol-soaked gauze or absorbent cotton before drying (pre-treatment). Three samples were prepared for each, and used as antibacterial processed test pieces.

【0043】(2)比較サンプルとして、上記銀化合物
の塗布及び加熱を行わない無加工試料を用意し、これを
(1)の試験試料と同じ大きさに切断し、抗菌加工試験
片と同様に前処理する。これを3個用意し、無加工試験
片とした。 試験操作: (1)抗菌加工試験片(3個)及び無加工試験片(3
個)をそれぞれ滅菌シャーレに入れ、その試験面に接種
用菌液0.4ml(1.0〜5.0×105の菌を含
む)を接種し、その上に被覆フィルムを被せて蓋をした
後、温度35±1°C、相対湿度90%以上の条件下で
保存した。
(2) As a comparative sample, a non-processed sample in which the above-mentioned silver compound was not applied and heated was prepared, cut into the same size as the test sample in (1), and processed similarly to the antibacterial processed test piece. Preprocess. Three of these were prepared and used as unprocessed test pieces. Test operation: (1) Antibacterial processed test piece (3 pieces) and non-processed test piece (3
) Were placed in a sterile petri dish, and the test surface was inoculated with 0.4 ml (including 1.0 to 5.0 × 10 5 bacteria) of the inoculum solution, covered with a covering film, and covered. After that, it was stored under conditions of a temperature of 35 ± 1 ° C. and a relative humidity of 90% or more.

【0044】(2)対照区用に3個の滅菌シャーレを用
意し、それぞれに置いた下敷きフィルムの上に接種用菌
液0.4mlを接種し、その上に被覆フィルムを被せて
蓋をした後、温度35±1°C、相対湿度90%以上の
条件下で保存した。 生菌数の測定: (1)3個の滅菌シャーレを用意し、それぞれ各試験片
に接種したのと同量の接種用菌液を入れ、その上に被覆
フィルムを被せる。この後、SCDLP培地(10m
l)を用いて直ちにそれぞれ被覆フィルムに付着してい
る菌をシャーレ中に十分に洗い出す。SA培地(標準寒
天培地)を使用した寒天平板培養法(温度35±1°C
で40〜48時間培養)により、洗い出した液1ml中
の生菌数を測定し、3個の生菌数(「接種直後対照
区」)の平均値を求め、それを10倍した値をAとし
た。
(2) Three sterile petri dishes were prepared for the control plot, 0.4 ml of the inoculum was inoculated on the underlaying film placed on each, and a cover film was placed on top of the inoculated bacterial solution and covered. Thereafter, it was stored under the conditions of a temperature of 35 ± 1 ° C. and a relative humidity of 90% or more. Measurement of viable cell count: (1) Prepare three sterile Petri dishes, add the same amount of bacterial liquid for inoculation as inoculated to each test piece, and cover with a coating film. Thereafter, the SCDLP medium (10 m
Immediately in step (1), the bacteria adhering to the coating film are sufficiently washed out into a Petri dish. Agar plate culture method using SA medium (standard agar medium) (temperature: 35 ± 1 ° C)
), The number of viable bacteria in 1 ml of the washed solution was measured, the average value of the three viable cell counts ("control group immediately after inoculation") was determined, and the value obtained by multiplying the average value by A was 10 times. And

【0045】なお、生菌数測定時の希釈は滅菌リン酸緩
衝生理食塩水を用いて行った。 (2)保存24時間後の対照区用滅菌シャーレ(3個)
について、それぞれ前項の滅菌シャーレと同様にして測
定した3個の生菌数(「対照区」)の平均値を求め、そ
れを10倍した値をBとした。 (3)保存24時間後の無加工試験片(3個)につい
て、SCDLP培地(10ml)を用いてそれぞれ試験
片及び被覆フィルムに付着している菌を滅菌シャーレ中
に十分洗い出す。SA培地を使用した寒天平板培養法
(温度35±1°Cで40〜48時間培養)により、洗
い出した液1mlの中の生菌数を測定し、3個の生菌数
(「無加工試験区」)の平均値を求め、それを10倍し
た値をCとした。
The dilution at the time of measuring the number of viable cells was performed using sterile phosphate buffered saline. (2) Sterile Petri dish for control 24 hours after storage (3 pieces)
, The average of three viable cell counts (“control”) measured in the same manner as in the sterilized petri dish described above was determined, and the value obtained by multiplying the average by 10 was designated as B. (3) With respect to the unprocessed test pieces (3 pieces) 24 hours after storage, the bacteria adhering to each of the test piece and the coating film are sufficiently washed out in a sterilized petri dish using the SCDLP medium (10 ml). The number of viable bacteria in 1 ml of the washed liquid was measured by an agar plate culture method using SA medium (cultured at a temperature of 35 ± 1 ° C. for 40 to 48 hours). The average value of “ku” was determined, and a value obtained by multiplying the average value by 10 was designated as C.

【0046】(4)保存24時間後の抗菌加工試験片
(3個)について、それぞれ無加工試験片と同様にして
測定した3個の生菌数(「抗菌加工試験区」)の平均値
を求め、それを10倍した値をDとした。 <試験結果の表示>次式により「増減値差」を計算し
た。小数点以下2桁目は切り捨てた。
(4) The average value of three viable cell counts ("antimicrobial processing test section") of the three antimicrobial processed test pieces 24 hours after storage was measured in the same manner as the non-processed test pieces. Then, a value obtained by multiplying it by 10 was designated as D. <Display of test results>"Difference in increase / decrease value" was calculated by the following equation. The second digit after the decimal point was truncated.

【0047】{log(C/A)−log(D/A)}
={log(C/D)} <試験成立条件>下記4項目の試験成立条件をすべて満
たすとき、その試験は有効と見なす。 (1)「接種直後対照区」及び「対照区」の各3個の生
菌数について、次式による計算を行ない、その計算値が
0.2以下であること。
{Log (C / A) -log (D / A)}
= {Log (C / D)} <Test Successful Condition> When all of the following four conditions are satisfied, the test is considered valid. (1) For each of the three viable cell counts in the “control section immediately after inoculation” and the “control section”, calculate using the following formula, and the calculated value is 0.2 or less.

【0048】 (最高対数値−最低対数値)/(対数平均値)≦0.2 (2)A(「接義直後後対照区」の平均値)に対するB
(「対照区」の平均値)の滅少率が90%以下であるこ
と。 {(A−B)/A}×100≦90 (3)「接種直後対照区」の各3個の生菌数について、
それらの平均値が1.0〜5.0×105/枚の範囲に
あること。
(Highest log value−lowest log value) / (log mean value) ≦ 0.2 (2) B for A (average value of “control group immediately after joining”)
(Average value of “control”) 90% or less. {(AB) / A} × 100 ≦ 90 (3) For each of the three viable cell counts in the “control group immediately after inoculation”,
Their average value is in the range of 1.0 to 5.0 × 10 5 / sheet.

【0049】(4)「無加工試験区」の各3個の生菌数
がすべて1.0×103/枚以上であること。 <試験菌株> (1)Staphylococcus aureus IFO12732(AT
CC6538P) (2)Escherichia coil IFO3972(ATCC8
739) <試験の準備>器具、機器および材料: (1)ピペット(牛乳ピペット、1mlおよび10ml
以上分注可能なメスピペット、あるいは自動ピペッタ
ー) (2)恒温器(±1°C以内の精度で運転可能な機種) (3)デシケーター (4)滅菌シャーレ(内径80mm〜100mm、高さ
15mm〜25mmのもの) (5)被覆フィルム(微生物検査用として市販されてい
る「ストマッカー400型用ポリ袋(オルガノ:180
mm×300mm×0.09mm)」などを無菌的に4
0±2mm角の大きさに切って作る) (6)下敷きフィルム(被覆フィルムを50mm角以上
の大きさに切って作る) 培地等: (1)普通プイヨン培地(NB培地) 肉エキス:5.0g ペプトン:10.0g 塩化ナトリウム:5.0g 精製水:1,000ml pH:7.0〜7.2 (2)普通寒天培地(NA培地) NB培地(1)に寒天を1.5%添加したもの (3)標準寒天培地(SA培地) 酵母エキス:2.5g トリプトン:5.0g グルコース:1.0g 寒天:15.0g 精製水:1,000ml pH:7.1±0.1 (4)SCDLP培地 カゼイン製ペプトン:17.0g 大豆製ペプトン:3.0g 塩化ナトリウム:5.0g リン酸−水素カリウム:2.5g グルコース:2.5g レシチン:1.0g ポリソルベート80:7.0g 精製水:l,000ml pH:6.8〜7.2 (5)エタノール(純度99%以上) (7)リン酸緩衝生理食塩水 KH2PO434gを精製水500mlに溶解し、1NN
aOHでpH7.2に調整後、精製水を加えて1000
mlとする。この液1.25mlを生理用食塩水(0.
85%NaCl)で800倍に希釈して1000mlと
する。
(4) The viable cell count of each of the three non-processed test plots is 1.0 × 10 3 / sheet or more. <Test strain> (1) Staphylococcus aureus IFO12732 (AT
CC6538P) (2) Escherichia coil IFO3972 (ATCC8
739) <Test preparation> Instruments, equipment and materials: (1) Pipette (milk pipette, 1 ml and 10 ml)
(2) thermostat (model that can be operated with accuracy within ± 1 ° C) (3) desiccator (4) sterile petri dish (inner diameter 80mm-100mm, height 15mm- (5) Coated film (a plastic bag for “Stromacker 400” commercially available for microbial testing (organo: 180
mm x 300 mm x 0.09 mm)
(6) Underlay film (made by cutting a coated film into a size of 50 mm square or more) Medium etc .: (1) Normal puyon medium (NB medium) Meat extract: 0 g Peptone: 10.0 g Sodium chloride: 5.0 g Purified water: 1,000 ml pH: 7.0-7.2 (2) Normal agar medium (NA medium) 1.5% of agar was added to NB medium (1) (3) Standard agar medium (SA medium) Yeast extract: 2.5 g Tryptone: 5.0 g Glucose: 1.0 g Agar: 15.0 g Purified water: 1,000 ml pH: 7.1 ± 0.1 (4 ) SCDLP medium Peptone made of casein: 17.0 g Peptone made of soybean: 3.0 g Sodium chloride: 5.0 g Potassium hydrogen phosphate: 2.5 g Glucose: 2.5 g Lecithin: 1.0 g Polysorbet 80: 7.0 g Purified water: l, 000ml pH: 6.8~7.2 ( 5) ethanol (purity 99%) (7) dissolved in purified water 500ml phosphate buffered saline KH 2 PO 4 34g And 1NN
After the pH was adjusted to 7.2 with aOH, purified water was added to add 1000
ml. 1.25 ml of this solution was added to a physiological saline solution (0.
(800% with 85% NaCl) to make 1000 ml.

【0050】<評価>試料A〜Dのフィルム密着法によ
る抗菌力試験の結果を表1に示す。試科A〜Dの増減値
差の結果を表2に示す。試料E〜Hのフィルム密着法に
よる抗菌力試験の結果を表3に示す。試料E〜Hの増減
値差の結果を表4に示す。増減値差2.0以上が抗菌力
有りと判定した。なお、<10は検出不能を示す。
<Evaluation> Table 1 shows the results of the antibacterial test of the samples A to D by the film adhesion method. Table 2 shows the results of the difference between the increase and decrease values of the test subjects A to D. Table 3 shows the results of the antibacterial test of the samples E to H by the film adhesion method. Table 4 shows the results of the difference between the increase and decrease values of the samples E to H. An increase / decrease value difference of 2.0 or more was judged to have antibacterial activity. Note that <10 indicates that detection is not possible.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】[0054]

【表4】 [Table 4]

【0055】表1〜表4より、15〜200°Cの温度
で加熱したもの(試料A〜C、E〜G)は優れた抗菌能
力を有することが分る。これは、処理剤の接触によりA
gイオンがガラス層12中に取り込まれ、さらに加熱に
よりAgイオンが浸透したこと、またそのAgイオンが
ガラス層12の表面に近い程高い濃度で含まれ、Agリ
ッチ層を有することによる効果である。
Tables 1 to 4 show that the samples heated at a temperature of 15 to 200 ° C. (samples A to C and EG) have excellent antibacterial ability. This is because A
The g ions are taken into the glass layer 12 and the Ag ions have penetrated by heating, and the Ag ions are contained in a higher concentration nearer to the surface of the glass layer 12, which is an effect of having an Ag rich layer. .

【0056】また、試料Aについてのガラス層12中の
Ag濃度を二次イオン質量分析にて測定し、表面からの
深さ(nm)と自然対数による濃度指数(Intensity(C
ounts))との関係を求めた。結果を図8に示す。図
中、Aは試料Aについての測定結果を示す。また、X
は、従来法に従って子め抗菌剤としてのAg3PO4を含
有させた釉薬により素地10上に施釉し、続いて焼成し
たものについての測定結果を示す。
The Ag concentration in the glass layer 12 of the sample A was measured by secondary ion mass spectrometry, and the depth (nm) from the surface and the concentration index (Intensity (C)
ounts)) and sought a relationship. FIG. 8 shows the results. In the figure, A indicates the measurement result of Sample A. Also, X
Shows the measurement results of a product which was glazed on the substrate 10 with a glaze containing Ag 3 PO 4 as an antibacterial agent according to the conventional method, and then fired.

【0057】図8より、従来法によるXの場合は、ガラ
ス層12の表面に近くなる程Agの濃度が低くなってい
ることがわかる。これに対し、実施例1による試料Aの
場合は、低温度での加熱にもかかわらず、Agイオンが
取り込まれ、さらに浸透していること、またAgイオン
がガラス層12の表面に近づく程高い濃度で含まれ、A
gリッチ層を有することがわかる。
FIG. 8 shows that in the case of X according to the conventional method, the concentration of Ag is lower as the surface is closer to the surface of the glass layer 12. On the other hand, in the case of the sample A according to the first embodiment, the Ag ions are taken in and further penetrated in spite of heating at a low temperature, and the higher the Ag ions are, the closer to the surface of the glass layer 12. Concentration, A
It turns out that it has a g-rich layer.

【0058】[0058]

【実施例2】次に本発明の実施例2を詳述する。上記実
施例1と同様、0.01重量%、2重量%、10重量
%、70重量%又は80重量%でAgNO3を含有する
水溶液を処理液として用意する。そして、4°C、10
°C、30°C又は50°Cの接触温度の下、図7
(B)に示すように、同種の基体15におけるガラス層
12の表面にこの処理液を0.001g/cm2で塗布
し、未乾燥の処理層14を形成する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail. As in Example 1, an aqueous solution containing 0.01% by weight, 2% by weight, 10% by weight, 70% by weight or 80% by weight and containing AgNO 3 is prepared as a treatment liquid. And 4 ° C, 10
FIG. 7 under a contact temperature of 30 ° C., 30 ° C. or 50 ° C.
As shown in (B), this treatment liquid is applied at a rate of 0.001 g / cm 2 on the surface of the glass layer 12 of the same kind of substrate 15 to form an undried treatment layer 14.

【0059】この後、1秒、10秒、1分、3分、又は
10分の接触時間の下、余分な処理層14を除去するそ
して、これらを100°C×30秒間の条件で加熱す
る。抗菌試験結果を表5及び表6に示す。表5は大腸菌
(E.coli)、表6は黄色ブドウ球菌(S.aureus)による
結果を示す。
Thereafter, the excess treatment layer 14 is removed under a contact time of 1 second, 10 seconds, 1 minute, 3 minutes, or 10 minutes, and these are heated at 100 ° C. for 30 seconds. . Tables 5 and 6 show the results of the antibacterial test. Table 5 shows the results with E. coli, and Table 6 shows the results with S. aureus.

【0060】[0060]

【表5】 [Table 5]

【0061】[0061]

【表6】 [Table 6]

【0062】表5及び表6より、70重量%以上でAg
NO3を含有する水溶液を処理液とすれば、例え4°C
という接触温度であっても、Agイオンがガラス層12
中に取り込まれることがわかる。特に、接触時間を長く
すればその傾向が大きい。また、接触温度が溶媒である
水の沸点である100°Cより低い範囲でより高けれ
ば、接触時間を短くできることがわかる。
As shown in Tables 5 and 6, Ag was found to be 70% by weight or more.
If an aqueous solution containing NO 3 is used as the treatment liquid, for example, 4 ° C.
Ag ions are in contact with the glass layer 12
It turns out that it is taken in. In particular, the longer the contact time, the greater the tendency. Further, it can be seen that the contact time can be shortened if the contact temperature is higher in a range lower than 100 ° C., which is the boiling point of water as a solvent.

【0063】また、表5及び表6より、接触後、100
°C×30秒間の条件で加熱するのであれば、例え1秒
間の接触時間後に処理層14を除去しても、優れた抗菌
能力を有することが分る。これは、処理液の接触により
必要量のAgイオンがガラス層12中に取りこまれ、さ
らに加熱により浸透したこと、またそのAgイオンがガ
ラス層12の表面に近い程高い濃度で含まれ、Agリッ
チ層を有することによる効果である。
Further, according to Tables 5 and 6, after contact, 100
If the heating is performed under the condition of ° C. × 30 seconds, even if the treatment layer 14 is removed after the contact time of 1 second, it is understood that it has excellent antibacterial ability. This is because the required amount of Ag ions is taken into the glass layer 12 by contact with the processing liquid and further penetrated by heating, and the Ag ions are contained in a higher concentration as the surface of the glass layer 12 is closer to the surface. This is the effect of having a rich layer.

【0064】処理液中のAgNO3の濃度が2重量%、
接触温度が30°C、接触時間が1分であり、接触後1
00°Cで30秒の加熱を行った試料と、処理液中のA
gNO3の濃度が70重量%、接触温度が30°C、接
触時間が1秒であり、接触後100°Cで30秒の加熱
を行った試料とについて、ガラス層12の表面の微量元
素の量(atom%)をX線光電子分光(XPS)法に
より測定した。ここで、XPS法は、超真空中においた
試料のガラス層12の表面に湾曲した単結晶で分光した
集束軟X線を照射し、表面から出た光電子をアナライザ
ーで検出し、その情報を元素の定量に用いる方法であ
る。AgNO3の濃度が2重量%の試料についての結果
を表7に示し、AgNO3の濃度が70重量%の試料に
ついての結果を表8に示す。
When the concentration of AgNO 3 in the processing solution is 2% by weight,
The contact temperature is 30 ° C, the contact time is 1 minute, and 1
A sample heated at 00 ° C. for 30 seconds and A in the processing solution
The concentration of gNO 3 was 70% by weight, the contact temperature was 30 ° C., the contact time was 1 second, and the sample was heated at 100 ° C. for 30 seconds after the contact. The amount (atom%) was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Here, in the XPS method, the surface of the glass layer 12 of the sample placed in an ultra-vacuum is irradiated with focused soft X-rays that are separated by a curved single crystal, photoelectrons emitted from the surface are detected by an analyzer, and the information is analyzed by element analysis. This method is used for the determination of Table 7 shows the results for the sample having the AgNO 3 concentration of 2% by weight, and Table 8 shows the results for the sample having the AgNO 3 concentration of 70% by weight.

【0065】[0065]

【表7】 [Table 7]

【0066】[0066]

【表8】 [Table 8]

【0067】表7より、試料のガラス層12は、内部に
比べて表面側でAgイオンが多く、逆にNaイオンと比
べてKが極端に少なくなっていることがわかる。このた
め、イオン交換は、互いにイオン半径の近い主にKイオ
ンとAgイオンとで生じたことがわかる。したがって、
処理剤の接触により基体15のガラス層12中のKイオ
ンがAgイオンにイオン交換されて取り込まれ、さらに
加熱によりAgイオンがガラス層12の内部に浸透する
ことがわかる。
From Table 7, it can be seen that the glass layer 12 of the sample has more Ag ions on the surface side as compared to the inside, and conversely the K is extremely smaller than Na ions. For this reason, it can be seen that the ion exchange occurred mainly between K ions and Ag ions having mutually close ionic radii. Therefore,
It can be seen that K ions in the glass layer 12 of the substrate 15 are ion-exchanged into Ag ions by the contact of the treatment agent and are taken in, and further, the Ag ions penetrate into the glass layer 12 by heating.

【0068】また、表8より、AgNO3の濃度が70
重量%という高濃度の処理液を用いれば、接触時間が1
秒であっても、AgNO3の濃度が2重量%という低濃
度の処理液を用いる場合に比し、略同量のAgイオンを
ガラス層12の内部に浸透できることがわかる。
From Table 8, it can be seen that the concentration of AgNO 3 was 70%.
When a processing solution having a high concentration of 1% by weight is used, the contact time is 1
It can be seen that even in the case of seconds, substantially the same amount of Ag ions can permeate into the glass layer 12 as compared with the case where the processing solution having a low concentration of AgNO 3 of 2% by weight is used.

【0069】[0069]

【試験1】まず、上記実施例1の釉薬と、抗菌剤として
の銀粉(銀99%以上、平均粒径10μm)とを用意
し、釉薬中に抗菌剤を0.01重量%、0.05重量
%、0.1重量%、0.5重量%、1.0重量%、1
0.0重量%含有させ、これを素地10上に施釉し、続
いて焼成したものを製造する。得られた各試料のガラス
層12について、大腸菌(E.coli)及び黄色ブドウ球菌
(S.aureus)による増減値差を求めた。表2等と同様、
結果を表9に示す。
[Test 1] First, the glaze of Example 1 and silver powder (99% or more silver, average particle size 10 μm) as an antibacterial agent were prepared, and the antibacterial agent was contained in the glaze at 0.01% by weight and 0.05%. %, 0.1%, 0.5%, 1.0%, 1%
0.05% by weight, which is glazed on the base material 10 and subsequently fired to produce a product. With respect to the glass layer 12 of each of the obtained samples, a difference between increase and decrease values due to Escherichia coli (E. coli) and S. aureus was determined. As in Table 2, etc.
Table 9 shows the results.

【0070】[0070]

【表9】 [Table 9]

【0071】また、各試料のガラス層12について、研
摩前の増減値差と、表面を0.1μm研摩した後の増減
値差とを比較した。表2等と同様、結果を表10及び表
11に示す。表10は大腸菌(E.coli)による結果を示
し、表11は黄色ブドウ球菌(S.aureus)による結果を
示す。
The difference between the increase and decrease before polishing was compared with the difference between the increase and decrease after polishing the surface of the glass layer 12 of each sample by 0.1 μm. As in Table 2 and the like, the results are shown in Tables 10 and 11. Table 10 shows the results with E. coli, and Table 11 shows the results with S. aureus.

【0072】[0072]

【表10】 [Table 10]

【0073】[0073]

【表11】 [Table 11]

【0074】表9〜表11より、ガラス層12に予め抗
菌金属を含ませておく場合には、表面から摩耗がある程
度進行しなければ、抗菌金属の作用を効果的に発揮しに
くいことがわかる。つまり、この場合には、初期に抗菌
金属の作用を発揮しにくいことがわかる。これは、こう
してガラス層12に予め抗菌金属を含ませておく場合に
は、抗菌金属の濃度が表面側で最も低く、奥の内部側に
向かって徐々に増加し、いづれ飽和する傾向を示すから
である。
As can be seen from Tables 9 to 11, when the antibacterial metal is contained in the glass layer 12 in advance, it is difficult to effectively exert the action of the antibacterial metal unless abrasion proceeds from the surface to some extent. . That is, in this case, it is understood that the action of the antibacterial metal is hardly exhibited at the initial stage. This is because, when the antibacterial metal is contained in the glass layer 12 in advance, the concentration of the antibacterial metal is lowest on the surface side, gradually increases toward the inner side at the back, and tends to be saturated. It is.

【0075】[0075]

【試験2】また、上記実施例1の釉薬と、抗菌剤として
の銀粉(銀99%以上、平均粒径10μm)とを用意
し、釉薬中に抗菌剤を0.01重量%、0.05重量
%、0.1重量%、0.5重量%、1.0重量%、1
0.0重量%含有させ、これを素地10上に施釉し、続
いて焼成したものを製造する。
[Test 2] Further, the glaze of Example 1 and silver powder (99% or more of silver, average particle size of 10 μm) as an antibacterial agent were prepared. %, 0.1%, 0.5%, 1.0%, 1%
0.05% by weight, which is glazed on the base material 10 and subsequently fired to produce a product.

【0076】得られた各試料のガラス層12の表面に実
施例1と同種のAg3PO4微粉末を0.3mmの厚みで
積層し、処理層14を形成する。そして、これらを20
0°C×2時間(加熱条件a)、150°C×2時間
(加熱条件b)、15°C×2時間(加熱条件c)又は
4°C×2時間(加熱条件d)の条件で加熱する。
The same type of Ag 3 PO 4 fine powder as in Example 1 is laminated on the surface of the glass layer 12 of each of the obtained samples at a thickness of 0.3 mm to form a treatment layer 14. And these are 20
0 ° C × 2 hours (heating condition a), 150 ° C × 2 hours (heating condition b), 15 ° C × 2 hours (heating condition c) or 4 ° C × 2 hours (heating condition d) Heat.

【0077】この後、ガラス層12上の処理層14を除
去し、研摩前の増減値差と、表面を0.1μm研摩した
後の増減値差とを比較した。表2等と同様、結果を表1
2〜表15に示す。表12及び表13は大腸菌(E.col
i)による結果を示し、表14及び表15は黄色ブドウ
球菌(S.aureus)による結果を示す。また、表12及び
表14は加熱条件a〜cによる結果を示し、表13及び
表15は加熱条件dによる結果を示す。
Thereafter, the treated layer 14 on the glass layer 12 was removed, and the difference between the increase and decrease before polishing and the difference between after and after polishing the surface by 0.1 μm were compared. As in Table 2, etc., the results are shown in Table 1.
2 to Table 15. Tables 12 and 13 show E. coli (E.
Table 14 and Table 15 show the results with S. aureus. Tables 12 and 14 show results under heating conditions a to c, and Tables 13 and 15 show results under heating conditions d.

【0078】[0078]

【表12】 [Table 12]

【0079】[0079]

【表13】 [Table 13]

【0080】[0080]

【表14】 [Table 14]

【0081】[0081]

【表15】 [Table 15]

【0082】[0082]

【試験3】さらに、上記実施例1の釉薬と、抗菌剤とし
ての銀粉(銀99%以上、平均粒径10μm)とを用意
し、釉薬中に抗菌剤を0.01重量%、0.05重量
%、0.1重量%、0.5重量%、1.0重量%、1
0.0重量%含有させ、これを素地10上に施釉し、続
いて焼成したものを製造する。
[Test 3] Further, the glaze of the above-mentioned Example 1 and silver powder (99% or more of silver, average particle size of 10 μm) as an antibacterial agent were prepared, and the antibacterial agent was 0.01% by weight and 0.05% in the glaze. %, 0.1%, 0.5%, 1.0%, 1%
0.05% by weight, which is glazed on the base material 10 and subsequently fired to produce a product.

【0083】実施例1と同種のAgNO3を3.0重量
%含有する水溶液(処理液)を用意し、得られた各試料
のガラス層12の表面にこの処理液を0.001g/c
2で塗布し、処理層14を形成する。そして、これら
を200°C×2時間(加熱条件a)、150°C×2
時間(加熱条件b)、15°C×2時間(加熱条件c)
又は4°C×2時間(加熱条件d)の条件で加熱する。
An aqueous solution (treatment liquid) containing 3.0% by weight of AgNO 3 of the same kind as in Example 1 was prepared, and the surface of the glass layer 12 of each of the obtained samples was coated with 0.001 g / c of this treatment liquid.
m 2 to form a treatment layer 14. Then, these were heated at 200 ° C. × 2 hours (heating condition a), at 150 ° C. × 2
Time (heating condition b), 15 ° C x 2 hours (heating condition c)
Alternatively, heating is performed under the condition of 4 ° C. × 2 hours (heating condition d).

【0084】この後、ガラス層12上の処理層14を除
去し、研摩前の増減値差と、表面を0.1μm研摩した
後の増減値差とを比較した。表2等と同様、結果を表1
6〜表19に示す。表16及び表17は大腸菌(E.col
i)による結果を示し、表18及び表19は黄色ブドウ
球菌(S.aureus)による結果を示す。また、表16及び
表18は加熱条件a〜cによる結果を示し、表17及び
表19は加熱条件dによる結果を示す。
Thereafter, the treated layer 14 on the glass layer 12 was removed, and the difference between before and after the polishing and the difference after the surface was polished by 0.1 μm were compared. As in Table 2, etc., the results are shown in Table 1.
6 to Table 19. Tables 16 and 17 show E. coli (E.col).
Table 18 and Table 19 show the results with S. aureus. Tables 16 and 18 show the results under heating conditions a to c, and Tables 17 and 19 show the results under heating condition d.

【0085】[0085]

【表16】 [Table 16]

【0086】[0086]

【表17】 [Table 17]

【0087】[0087]

【表18】 [Table 18]

【0088】[0088]

【表19】 [Table 19]

【0089】表12〜表19より、加熱条件a〜cにお
いて、釉薬中の抗菌剤の添加量に関係なく、研摩前に抗
菌効果が現れることがわかる。これはガラス層12表面
に形成されたAgリッチ層によるものである。また、
0.1μm研摩後においては、釉薬中の抗菌剤の添加量
が0.05wt%以上であれば、抗菌効果が現れてい
る。釉薬中に抗菌剤を添加するだけで0.1μmの研摩
後も抗菌効果を有していたのは、抗菌剤の添加量が0.
1wt%以上の場合である。これは加熱条件でAgイオ
ンがガラス層12に取り込まれる過程により、ガラス層
12の内部にAgイオンが拡散するため、ガラス層12
内部の抗菌効果が高くなったためである。
From Tables 12 to 19, it can be seen that under the heating conditions a to c, the antibacterial effect appears before polishing, regardless of the amount of the antibacterial agent added in the glaze. This is due to the Ag-rich layer formed on the surface of the glass layer 12. Also,
After the polishing of 0.1 μm, the antibacterial effect appears when the amount of the antibacterial agent in the glaze is 0.05 wt% or more. The only reason that the antibacterial agent had an antibacterial effect even after the polishing of 0.1 μm by adding the antibacterial agent to the glaze was that the amount of the antibacterial agent added was 0.
It is the case of 1 wt% or more. This is because Ag ions are diffused into the glass layer 12 by the process of taking Ag ions into the glass layer 12 under heating conditions.
This is because the internal antibacterial effect has increased.

【0090】また、釉薬中に銀粉を添加するだけの方法
においては、十分な抗菌効果のためには、その添加量が
0.5wt以上であることが必要である。しかし、釉薬
中に銀粉を添加するとともに、ガラス層12の表面から
Agイオンを拡散すれば、釉薬中の銀粉の添加量が0.
05wt%であっても、表面の抗菌効果が高くなること
はもちろんのこと、表面から100nm研摩した後であ
っても高い抗菌効果を発揮できる。このため、釉薬中に
抗菌剤を添加するとともに、ガラス層12の表面から抗
菌金属のイオンを拡散すれば、十分な抗菌効果のための
抗菌剤の使用量を1/10程度に抑え得ることがわか
る。
In the method in which silver powder is only added to the glaze, it is necessary that the addition amount is 0.5 wt or more for a sufficient antibacterial effect. However, when silver powder is added to the glaze and Ag ions are diffused from the surface of the glass layer 12, the amount of silver powder in the glaze is reduced to 0.1.
Even if the content is 05 wt%, the antibacterial effect on the surface is increased, and the high antibacterial effect can be exhibited even after polishing the surface by 100 nm. Therefore, by adding an antibacterial agent to the glaze and diffusing antibacterial metal ions from the surface of the glass layer 12, the amount of the antibacterial agent used for a sufficient antibacterial effect can be suppressed to about 1/10. Understand.

【0091】したがって、抗菌剤によりガラス層12中
に抗菌金属を含ませる場合、その抗菌剤が釉薬中に0.
05〜10重量%の割合で含まれておれば、実使用場面
において、研摩を考慮しても、十分な抗菌効果を発揮す
るといえる。
Therefore, when an antibacterial metal is contained in the glass layer 12 by the antibacterial agent, the antibacterial agent is added to the glaze at 0.1%.
If it is contained at a ratio of from 0.05 to 10% by weight, it can be said that a sufficient antibacterial effect is exhibited even in consideration of polishing in actual use.

【0092】[0092]

【実施例3】次に本発明の実施例3を詳述する。上記試
験2、3と同様、釉薬中に抗菌剤を0.01重量%、
0.05重量%、0.1重量%、0.5重量%、1.0
重量%、10.0重量%含有させ、これを素地10上に
施釉し、続いて焼成したものを製造する。
Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail. 0.01% by weight of antibacterial agent in glaze
0.05% by weight, 0.1% by weight, 0.5% by weight, 1.0%
% By weight and 10.0% by weight, which is glazed on the substrate 10 and subsequently fired.

【0093】また、上記実施例2と同様、0.01重量
%、2重量%、10重量%、70重量%又は80重量%
でAgNO3を含有する水溶液を処理液として用意す
る。そして、4°C、10°C、30°C又は50°C
の接触温度の下、焼成後の基体15におけるガラス層1
2の表面にこの処理液を0.001g/cm2で塗布
し、未乾燥の処理層14を形成する。
Also, as in Example 2, 0.01% by weight, 2% by weight, 10% by weight, 70% by weight or 80% by weight
, An aqueous solution containing AgNO 3 is prepared as a treatment liquid. And 4 ° C, 10 ° C, 30 ° C or 50 ° C
The glass layer 1 on the substrate 15 after firing under the contact temperature of
This treatment liquid is applied to the surface of No. 2 at a rate of 0.001 g / cm 2 to form an undried treatment layer 14.

【0094】この後、1秒の接触時間の下、余分な処理
層14を除去するそして、これらを100°C×30秒
間の条件で加熱する。この後、表面を0.1μm研磨し
た後の増減偏差を表20及び表21に示す。表20は大
腸菌(E.coli)、表21は黄色ブドウ球菌(S.aureus)
による結果を示す。
Thereafter, the excess treatment layer 14 is removed under a contact time of 1 second, and these are heated under conditions of 100 ° C. × 30 seconds. Thereafter, Table 20 and Table 21 show deviations of increase and decrease after polishing the surface by 0.1 μm. Table 20 shows E. coli, and Table 21 shows S. aureus.
The results are shown in FIG.

【0095】釉薬表面研磨前及び研磨後の抗菌効果につ
いて比較する。研磨前の抗菌効果について表5及び表6
は釉薬中に抗菌剤が全く含まれていない場合であるが研
磨前(未研磨)においては接触温度が10°C以上であ
れば抗菌効果が現れることを示している。これはガラス
層12表面に形成されたAgリッチ層によるものであ
る。この事から研磨前(未研磨)であれば釉薬中に含ま
れる抗菌剤量はゼロの場合も含めて任意の量で抗菌効果
が現れると言える。
The antibacterial effects before and after polishing the glaze surface are compared. Tables 5 and 6 for antibacterial effect before polishing
Indicates that no antibacterial agent is contained in the glaze, but before the polishing (unpolished), the antibacterial effect appears when the contact temperature is 10 ° C. or higher. This is due to the Ag-rich layer formed on the surface of the glass layer 12. From this, it can be said that the antibacterial effect appears in an arbitrary amount before the polishing (unpolished), including the antibacterial agent contained in the glaze even if the amount is zero.

【0096】また、0.1μm研磨後においては表20
及び表21より釉薬中の抗菌剤が0.05重量%以上で
あり、接触温度が10°C以上であれば抗菌効果が現れ
ている。釉薬中に抗菌剤を添加するだけでは0.1μm
研磨後に抗菌効果を有していたのは抗菌剤添加量が0.
1重量%以上の場合である。これは加熱条件でAgイオ
ンがガラス層12に取り込まれる過程により、ガラス層
12内部にAgイオンが拡散するためにガラス層12内
部の抗菌効果が高くなったためである。
Further, after polishing with 0.1 μm, Table 20 was obtained.
According to Table 21 and Table 21, the antibacterial effect in the glaze is 0.05% by weight or more and the contact temperature is 10 ° C or more. 0.1μm just by adding antibacterial agent to glaze
The antibacterial effect after polishing was that the amount of antibacterial agent added was 0.1%.
It is the case of 1% by weight or more. This is because the Ag ions are diffused into the glass layer 12 by the process in which the Ag ions are taken into the glass layer 12 under the heating condition, so that the antibacterial effect inside the glass layer 12 is enhanced.

【0097】[0097]

【表20】 [Table 20]

【0098】[0098]

【表21】 [Table 21]

【0099】[0099]

【試験4】また、ガラス層12の表面側から行うイオン
交換のみによりAgをガラス層12中に取り込んだ試料
1と、ガラス層12に予めAgを含ませておいた試料2
と、ガラス層12に予めAgを含ませておくとともに、
そのガラス層12の表面側からイオン交換を行ってAg
を取り込んだ試料3とについて、ガラス層12中のAg
濃度を二次イオン質量分析にて測定し、表面からの深さ
(nm)と自然対数による濃度指数(Intensity(Count
s))との関係を求めた。結果を図9に示す。
[Test 4] Sample 1 in which Ag was incorporated into glass layer 12 only by ion exchange performed from the surface side of glass layer 12, and Sample 2 in which Ag was previously contained in glass layer 12
And while preliminarily including Ag in the glass layer 12,
By performing ion exchange from the surface side of the glass layer 12, Ag
Ag in the glass layer 12 with respect to the sample 3 in which
The concentration was measured by secondary ion mass spectrometry, and the depth (nm) from the surface and the concentration index (Intensity (Count)
s)). FIG. 9 shows the results.

【0100】図9の試料1より、ガラス層12の表面側
から行うイオン交換のみにより、Agをガラス層12中
に取り込む場合、ガラス層12の表面側にはAgリッチ
層が形成されることがわかる。かかるAgリッチ層は、
表面側にピークをもち、奥の内部側に向かって反比例的
に減衰する濃度を有している。このため、使用後にある
程度表面から摩耗が進行する場合もあることを考慮する
と、大量のAgをイオン交換して表面側よりやや奥の内
部のAgの濃度を高くしなければ、かかるAgリッチ層
のAgみで作用を効果的に発揮させることができない。
このため、この場合には、耐久性の向上と製造コストの
低廉化とを両立することができないことがわかる。
From the sample 1 in FIG. 9, when Ag is introduced into the glass layer 12 only by ion exchange performed from the surface side of the glass layer 12, an Ag-rich layer may be formed on the surface side of the glass layer 12. Understand. Such an Ag-rich layer is
It has a peak on the surface side and a concentration that attenuates inversely toward the inner side at the back. For this reason, considering that wear may progress from the surface to some extent after use, unless a large amount of Ag is ion-exchanged to increase the concentration of Ag inside the surface slightly behind the surface side, the Ag-rich layer may have a large thickness. The effect cannot be exhibited effectively only with Ag.
Therefore, in this case, it can be seen that it is impossible to achieve both improvement in durability and reduction in manufacturing cost.

【0101】他方、図9の試料2より、ガラス層12に
予めAgを含ませておく場合には、それらのAgの濃度
は表面側で最も低く、奥の内部側に向かって徐々に増加
し、いづれ飽和する傾向を示すことがわかる。このた
め、この場合には、使用後にある程度表面から摩耗が進
行した場合において、ガラス層12に大量のAgを含ま
せて飽和する濃度をある程度高くしなければ、やはりこ
れらのAgのみで作用を効果的に発揮させることができ
ない。このため、この場合には、初期に金属の作用を発
揮しにくいことがわかる。
On the other hand, from the sample 2 in FIG. 9, when Ag is contained in the glass layer 12 in advance, the concentration of those Ag is the lowest on the surface side and gradually increases toward the inner side at the back. It can be seen that they tend to be saturated. For this reason, in this case, in the case where the wear progresses from the surface to some extent after use, unless the glass layer 12 contains a large amount of Ag and the concentration that saturates the glass layer 12 is increased to some extent, the effect of the Ag alone is effective. Can not be effectively demonstrated. For this reason, in this case, it is understood that the function of the metal is hardly exhibited at the initial stage.

【0102】この点、図9の試料3より、ガラス層12
に予めAgを含ませておくとともに、そのガラス層12
の表面側からイオン交換を行ってAgを取り込めば、ガ
ラス層12の表面側にAgリッチ層が形成されるととも
に、そのAgリッチ層の濃度とほぼ同じ濃度で飽和する
Agを含め得ることがわかる。つまり、基体15のガラ
ス層12はAgリッチ層より奥の内部にもAgを含むこ
とととなる。こうであれば、使用直後の表面からの摩耗
前にはAgリッチ層により優れた抗菌作用が発揮され、
使用後のある程度表面から摩耗が進行した場合において
は、内部のAgによりやはり優れた抗菌作用が発揮され
ることがわかる。このため、こうであれば、初期にAg
の作用を発揮可能であり、かつ耐久性の向上と製造コス
トの低廉化とを両立させ得ることがわかる。
In this regard, from the sample 3 in FIG.
To the glass layer 12 in advance.
It can be understood that if the Ag is taken in by ion exchange from the surface side of the glass layer, an Ag-rich layer is formed on the surface side of the glass layer 12 and Ag that saturates at the same concentration as that of the Ag-rich layer can be included. . That is, the glass layer 12 of the base 15 also contains Ag in the interior deeper than the Ag-rich layer. In this case, the Ag-rich layer exerts an excellent antibacterial action before wear from the surface immediately after use,
It can be seen that when the wear progresses from the surface to some extent after use, excellent antibacterial action is also exhibited by the Ag inside. Therefore, if this is the case, Ag
It can be seen that the effect of (1) can be exerted, and that both improvement in durability and reduction in manufacturing cost can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】同実施形態における処理層の形成方法の一例を
示す図である。
FIG. 2 is a view showing an example of a method for forming a processing layer in the embodiment.

【図3】同実施形態における処理層の除去方法の説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a method of removing a processing layer according to the first embodiment.

【図4】同実施形態における加熱方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a heating method in the embodiment.

【図5】図4の加熱方法を更に具体化した例を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing an example in which the heating method of FIG. 4 is further embodied.

【図6】図4の加熱方法の更に異なる具体例を示した図
である。
FIG. 6 is a view showing still another specific example of the heating method of FIG. 4;

【図7】本発明の一実施例の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of one embodiment of the present invention.

【図8】同実施例において得られたガラス層のAgの濃
度の測定結果を示した図である。
FIG. 8 is a view showing a measurement result of a concentration of Ag in a glass layer obtained in the same example.

【図9】同実施例において得られたガラス層のAgの濃
度の測定結果を示した図である。
FIG. 9 is a view showing a measurement result of a concentration of Ag in a glass layer obtained in the same example.

【図10】本発明の背景説明のための説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining the background of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…素地 12…ガラス層(釉薬層) 14…処理層 15…基体 18…処理剤、処理液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base material 12 ... Glass layer (glaze layer) 14 ... Processing layer 15 ... Substrate 18 ... Processing agent, processing liquid

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮本 博幸 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 松本 新 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 伊藤 慎二 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 森田 隆博 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 杉山 紀幸 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 山本 章造 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 鈴木 昭人 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 服部 和彦 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 (72)発明者 徳島 俊吾 愛知県常滑市鯉江本町5丁目1番地 株式 会社イナックス内 Fターム(参考) 4G059 AA01 AC30 HB02 HB12 HB17 HB18 4H011 AA02 BA01 BB18 BC18 DA01 DC10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroyuki Miyamoto 5-1-1 Koie Honcho, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inside Inax Corporation (72) Inventor Shin Shin Matsumoto 5-1-1 Koie Honcho, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inax Corporation (72) Inventor Shinji Ito 5-1-1 Koiehoncho, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inax Corporation (72) Inventor Takahiro Morita 5-1-1 Koiehonmachi, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inax Corporation (72) Inventor Noriyuki Sugiyama 5-1-1 Koiehonmachi, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inax Corporation (72) Inventor Shozo Yamamoto 5-1-1 Koiehonmachi, Tokoname-shi, Aichi Prefecture Inax Corporation (72) Inventor Akito Suzuki Tokoname Suzuki 5-1-1 Koie Honcho, Ichiichi Inax Co., Ltd. (72) Inventor Kazuhiko Hattori Tokoname, Aichi Prefecture 5-1-1 Emotocho Inax Co., Ltd. (72) Inventor Shungo Tokushima 5-1-1 Koiehoncho, Tokoname-shi, Aichi F-term in Inax Co., Ltd. 4G059 AA01 AC30 HB02 HB12 HB17 HB18 4H011 AA02 BA01 BB18 BC18 DA01 DC10

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス層をもつ基体と、金属を含む処理剤
とを用意し、100°C未満の温度で該ガラス層に該処
理剤を接触させることにより、該ガラス層中のアルカリ
金属イオン又はアルカリ土類金属イオンを該金属のイオ
ンにイオン交換することを特徴とするガラス層をもつ基
体の表面処理方法。
An alkali metal ion in the glass layer is prepared by preparing a substrate having a glass layer and a treatment agent containing a metal and bringing the treatment agent into contact with the glass layer at a temperature of less than 100 ° C. Alternatively, a surface treatment method for a substrate having a glass layer, wherein the alkaline earth metal ion is ion-exchanged for the metal ion.
【請求項2】15°C以上の温度でガラス層に処理剤を
接触させることを特徴とする請求項1記載のガラス層を
もつ基体の表面処理方法。
2. The method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to claim 1, wherein the treatment agent is brought into contact with the glass layer at a temperature of 15 ° C. or higher.
【請求項3】40°C以上の温度でガラス層に処理剤を
接触させることを特徴とする請求項2記載のガラス層を
もつ基体の表面処理方法。
3. The surface treatment method for a substrate having a glass layer according to claim 2, wherein the treatment agent is brought into contact with the glass layer at a temperature of 40 ° C. or higher.
【請求項4】ガラス層及び/又は処理剤を処理温度と同
等の温度にして該ガラス層に該処理剤を接触させること
を特徴とする請求項1、2又は3記載のガラス層をもつ
基体の表面処理方法。
4. The substrate having a glass layer according to claim 1, wherein the glass layer and / or the treating agent are brought into a temperature equivalent to the treating temperature and the treating agent is brought into contact with the glass layer. Surface treatment method.
【請求項5】金属は抗菌性を有するものであることを特
徴とする請求項1、2、3又は4記載のガラス層をもつ
基体の表面処理方法。
5. The method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to claim 1, wherein the metal has antibacterial properties.
【請求項6】処理剤は金属のイオンと溶媒とを含む処理
液であることを特徴とする請求項1、2、3、4又は5
記載のガラス層をもつ基体の表面処理方法。
6. The processing agent according to claim 1, wherein the processing agent is a processing solution containing a metal ion and a solvent.
A surface treatment method for a substrate having the glass layer described above.
【請求項7】溶媒の沸点未満の温度でガラス層に処理液
を接触させることを特徴とする請求項6記載のガラス層
をもつ基体の表面処理方法。
7. The surface treatment method for a substrate having a glass layer according to claim 6, wherein the treatment liquid is brought into contact with the glass layer at a temperature lower than the boiling point of the solvent.
【請求項8】処理液からなる未乾燥の処理層を形成後、
余分な該処理層を除去することを特徴とする請求項7記
載のガラス層をもつ基体の表面処理方法。
8. After forming an undried processing layer comprising a processing liquid,
8. The method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to claim 7, wherein the excess treatment layer is removed.
【請求項9】処理剤の接触後、ガラス層のガラス転移点
未満の温度で該ガラス層を加熱し、該ガラス層中に取り
込んだ該金属のイオンを該ガラス層中に浸透させること
を特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7又は8
記載のガラス層をもつ基体の表面処理方法。
9. The method according to claim 1, wherein after the contacting of the treating agent, the glass layer is heated at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer, so that the ions of the metal taken in the glass layer penetrate into the glass layer. Claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 8
A surface treatment method for a substrate having the glass layer described above.
【請求項10】処理剤からなる処理層を形成後にガラス
層のガラス転移点未満の温度で該ガラス層を加熱するこ
とにより、該ガラス層中に該金属のイオンを取り込むと
ともに浸透させ、この後に該処理層を除去することを特
徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7記載のガ
ラス層をもつ基体の表面処理方法。
10. After forming a treatment layer comprising a treatment agent, the glass layer is heated at a temperature lower than the glass transition point of the glass layer to take in and permeate the ions of the metal into the glass layer. The surface treatment method for a substrate having a glass layer according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7, wherein the treatment layer is removed.
【請求項11】300°C未満の温度でガラス層を加熱
することを特徴とする請求項9又は10記載のガラス層
をもつ基体の表面処理方法。
11. The method for surface treatment of a substrate having a glass layer according to claim 9, wherein the glass layer is heated at a temperature lower than 300 ° C.
【請求項12】200°C未満の温度でガラス層を加熱
することを特徴とする請求項11記載のガラス層をもつ
基体の表面処理方法。
12. The method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to claim 11, wherein the glass layer is heated at a temperature lower than 200 ° C.
【請求項13】150°C未満の温度でガラス層を加熱
することを特徴とする請求項12記載のガラス層をもつ
基体の表面処理方法。
13. The method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to claim 12, wherein the glass layer is heated at a temperature of less than 150 ° C.
【請求項14】基体は、ガラス製品、セラミックス製品
又はホウロウ製品の半製品であることを特徴とする請求
項1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、
12又は13記載のガラス層をもつ基体の表面処理方
法。
14. The substrate according to claim 1, wherein the substrate is a semi-finished product of a glass product, a ceramic product or an enamel product.
14. A surface treatment method for a substrate having a glass layer according to 12 or 13.
【請求項15】基体のガラス層は予め金属を含むことを
特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7、8、
9、10、11、12、13又は14記載のガラス層を
もつ基体の表面処理方法。
15. The glass substrate according to claim 1, wherein the glass layer contains a metal in advance.
A method for treating a surface of a substrate having a glass layer according to 9, 10, 11, 12, 13 or 14.
【請求項16】ガラス層中の金属は、該ガラス層を構成
する釉薬中に予め添加された抗菌性を有するものである
ことを特徴とする請求項15記載のガラス層をもつ基体
の表面処理方法。
16. The surface treatment of a substrate having a glass layer according to claim 15, wherein the metal in the glass layer has an antibacterial property previously added to the glaze constituting the glass layer. Method.
【請求項17】ガラス層をもつ基体からなり、該ガラス
層の表面側には、該ガラス層中のアルカリ金属イオン又
はアルカリ土類金属イオンからイオン交換された金属の
イオンを高い濃度で含む金属リッチ層をもつことを特徴
とするガラス層をもつ製品。
17. A metal comprising a substrate having a glass layer, and a metal containing, at a high concentration, ions of a metal ion-exchanged from an alkali metal ion or an alkaline earth metal ion in the glass layer on the surface side of the glass layer. Products with a glass layer characterized by having a rich layer.
【請求項18】基体のガラス層は金属リッチ層より奥の
内部にも金属を含むことを特徴とする請求項18記載の
ガラス層をもつ製品。
18. The product having a glass layer according to claim 18, wherein the glass layer of the substrate further includes a metal inside the metal rich layer.
【請求項19】金属リッチ層及び内部の金属は抗菌性を
有するものであることを特徴とする請求項19記載のガ
ラス層をもつ製品。
19. The product having a glass layer according to claim 19, wherein the metal-rich layer and the metal inside have an antibacterial property.
JP11321273A 1999-03-19 1999-11-11 Surface treatment of substrate having glass layer and treated product Pending JP2001048595A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11321273A JP2001048595A (en) 1999-03-19 1999-11-11 Surface treatment of substrate having glass layer and treated product

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7670899 1999-03-19
JP15841699 1999-06-04
JP11-76708 1999-06-04
JP11-158416 1999-06-04
JP11321273A JP2001048595A (en) 1999-03-19 1999-11-11 Surface treatment of substrate having glass layer and treated product

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001048595A true JP2001048595A (en) 2001-02-20

Family

ID=27302226

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11321273A Pending JP2001048595A (en) 1999-03-19 1999-11-11 Surface treatment of substrate having glass layer and treated product

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001048595A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001051426A1 (en) * 2000-01-14 2001-07-19 Inax Corporation Product having glass layer and method for assessing the same
JP2001199821A (en) * 2000-01-14 2001-07-24 Inax Corp Product having glass layer and method for judging the product
WO2005030665A1 (en) * 2003-09-30 2005-04-07 Schott Ag Antimicrobial glass and glass ceramic surfaces and their production
JP2008524097A (en) * 2004-12-16 2008-07-10 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー Antimicrobial substrate
US7709027B2 (en) 2001-08-22 2010-05-04 Schott Ag Antimicrobial, anti-inflammatory, wound-healing glass powder and use thereof
US8080490B2 (en) 2003-02-25 2011-12-20 Schott Ag Antimicrobial phosphate glass
US20150246847A1 (en) * 2012-01-19 2015-09-03 The University Of Dundee Ion Exchange Substrate and Metalized Product and Apparatus and Method for Production Thereof

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001051426A1 (en) * 2000-01-14 2001-07-19 Inax Corporation Product having glass layer and method for assessing the same
JP2001199821A (en) * 2000-01-14 2001-07-24 Inax Corp Product having glass layer and method for judging the product
US7709027B2 (en) 2001-08-22 2010-05-04 Schott Ag Antimicrobial, anti-inflammatory, wound-healing glass powder and use thereof
US8080490B2 (en) 2003-02-25 2011-12-20 Schott Ag Antimicrobial phosphate glass
WO2005030665A1 (en) * 2003-09-30 2005-04-07 Schott Ag Antimicrobial glass and glass ceramic surfaces and their production
WO2005033034A1 (en) * 2003-09-30 2005-04-14 Schott Ag Antimicrobial glass surfaces of glass powders
WO2005042437A2 (en) * 2003-09-30 2005-05-12 Schott Ag Antimicrobial glass and glass ceramic surfaces and their production
WO2005042437A3 (en) * 2003-09-30 2009-08-27 Schott Ag Antimicrobial glass and glass ceramic surfaces and their production
JP2008524097A (en) * 2004-12-16 2008-07-10 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー Antimicrobial substrate
US20150246847A1 (en) * 2012-01-19 2015-09-03 The University Of Dundee Ion Exchange Substrate and Metalized Product and Apparatus and Method for Production Thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5836377B2 (en) Coated antibacterial chemically tempered glass and method for producing the same
RU2423328C2 (en) Substrate with antimicrobial properties
CN108779024B (en) Antibacterial chemically strengthened glass and optimized manufacturing method thereof
JP2007507407A (en) Antibacterial glass, glass ceramic surface and method for producing the same
TW201245089A (en) Antimicrobial action of cu, cuo and cu2o nanoparticles on glass surfaces and durable coatings
CN1557756A (en) Antimicrobial glass and glass-like products and method of preparing same
WO2008047810A1 (en) Antibacterial substratum and process for producing the same
US20140356406A1 (en) Antimicrobial Articles and Methods of Making and Using Same
JP2000053451A (en) Antibacterial glass product and its production
EP0926256B1 (en) Antibacterial metallic materials and method of production thereof
JP2001048595A (en) Surface treatment of substrate having glass layer and treated product
EP1270527A1 (en) Product having glass layer and method for assessing the same
JP2001026466A (en) Manufacture of antibacterial glass
JP2001080941A (en) Antifouling treatment of substrate with glass layer and its product
JPH0898876A (en) Multifunctional material having antimicrobial property and its production
CN109906209B (en) Method for preparing glass surface with sodium calcium silicate glass having biological killing effect
JP2000273972A (en) Humidity controlling building material
JP2000143369A (en) Surface-treating agent and antimicrobial pottery product and its production
JPH07268653A (en) Aluminum enameled sheet having antibacterial property and antifungal property
JPH09299724A (en) Sterilizing filter
JP2000037446A (en) Stain-proof.deodorant.antibacterial article and manufacture of the same
JP2962504B2 (en) Enamel plate having antibacterial and antifungal properties and method for producing the same
JP2002060285A (en) Method of producing antibacterial pottery
JP2002146453A (en) Silver alloy material and antibacterial material
CN115490540A (en) Antibacterial ceramic and antibacterial performance enhanced preparation method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050620

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081028

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090303