JP2001037201A - Motor device, stage equipment and exposure device - Google Patents

Motor device, stage equipment and exposure device

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JP2001037201A
JP2001037201A JP11205706A JP20570699A JP2001037201A JP 2001037201 A JP2001037201 A JP 2001037201A JP 11205706 A JP11205706 A JP 11205706A JP 20570699 A JP20570699 A JP 20570699A JP 2001037201 A JP2001037201 A JP 2001037201A
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coil
armature
motor device
armature coils
armature coil
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Keiichi Tanaka
慶一 田中
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Nikon Corp
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Windings For Motors And Generators (AREA)
  • Linear Motors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a motor device excellent in controllability which can reduce a cost by miniaturization and improvement of efficiency of assembling work. SOLUTION: An armature coil 44 is so wound that both end portions 64a, 64b of a coil winding exist outside the coil. Terminal pins 65a, 65b are collectively formed integrally with the coil 44 interposing a molding member 49, and both of the end portions 64a, 64b are connected with the terminal pins 65a, 65b. On a retaining member 12 on which the coil is mounted, sockets 22 are arranged corresponding to the respective terminal pins. Only by connecting the terminal pins 65a, 65b with the corresponding sockets 22, fixing and electrical connection of the coil is completed in one-shot action. An armature unit is constituted of a large number of the coils 44 and generates thrust excellent in linearlity by electromagnetic mutual action with a magnetic pole unit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、モータ装置、ステ
ージ装置及び露光装置に係り、さらに詳しくは、電機子
ユニットと磁極ユニットとの間に生じる電磁相互作用に
よって駆動力を発生する高効率なモータ装置、該モータ
装置を備えたステージ装置、及び該ステージ装置を備え
た露光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a motor device, a stage device, and an exposure device, and more particularly, to a high-efficiency motor that generates a driving force by an electromagnetic interaction generated between an armature unit and a magnetic pole unit. The present invention relates to an apparatus, a stage device provided with the motor device, and an exposure apparatus provided with the stage device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体素子、液晶表示等を製
造するためのリソグラフィ工程では、マスク又はレチク
ル(以下、「レチクル」と総称する)に形成されたパタ
ーンを投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエ
ハ又はガラスプレート等の基板(以下,適宜「ウエハ又
は基板」という)上に転写する露光装置が用いられてい
る。かかる露光装置としては,近年、いわゆるステッパ
やいわゆるスキャニング・ステッパ等の逐次移動型の投
影露光装置が主として用いられている。この種の露光装
置では,レチクルに形成されたパターンをウエハ上の複
数のショット領域に順次転写する必要から、ウエハを保
持して2次元移動する基板ステージが設けられている。
また、この種の露光装置では、レチクルとウエハとの重
ね合せを高精度に行うことが重要であることから、ステ
ージの移動中にウエハが位置ずれしないよう、ウエハは
ステージ上に設けられたウエハホルダ上に真空吸着ある
いは静電吸着により保持される。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a lithography process for manufacturing a semiconductor device, a liquid crystal display, or the like, a pattern formed on a mask or a reticle (hereinafter, collectively referred to as a “reticle”) is exposed to a resist or the like via a projection optical system. There is used an exposure apparatus that transfers an image onto a substrate such as a wafer or a glass plate (hereinafter, appropriately referred to as “wafer or substrate”) on which is coated. In recent years, as such an exposure apparatus, a sequentially moving projection exposure apparatus such as a so-called stepper or a so-called scanning stepper has been mainly used. In this type of exposure apparatus, a substrate stage that holds the wafer and moves two-dimensionally is provided because it is necessary to sequentially transfer the pattern formed on the reticle to a plurality of shot areas on the wafer.
In addition, in this type of exposure apparatus, it is important that the reticle and the wafer are superimposed with high accuracy. Therefore, the wafer is placed on a wafer holder provided on the stage so that the wafer does not shift during the movement of the stage. It is held thereon by vacuum suction or electrostatic suction.

【0003】基板ステージの駆動装置として、従来は、
回転モータと送りねじあるいはボールねじとを組み合わ
せた接触式の駆動装置が用いられていたが、半導体素子
の高集積化、ウエハの大型化等に伴い、近年では,ウエ
ハをより高速に、機械的な案内面の精度等に影響されず
高精度に位置制御するとともに,機械的な摩擦を回避し
て長寿命とするために、ウエハが載置されたステージ
(テーブル)を非接触で2次元方向に駆動するステージ
装置が開発されている。かかる非接触駆動のステージ装
置の駆動源としては、1軸リニアモータを2次元配置し
たもの、あるいは直接的にステージを2次元駆動する磁
気浮上型あるいは空気浮上型の2次元リニアアクチュエ
ータ(平面モータ)が用いられる。
Conventionally, as a driving device for a substrate stage,
A contact-type driving device that combines a rotary motor and a feed screw or a ball screw has been used. In order to control the position with high accuracy without being affected by the precision of the guide surface, etc., and to avoid mechanical friction and extend the life, the stage (table) on which the wafer is mounted is contacted in two-dimensional directions. A stage device that drives the motor has been developed. As a drive source of such a non-contact drive stage device, a one-axis linear motor is two-dimensionally arranged, or a magnetic levitation type or air levitation type two-dimensional linear actuator (plane motor) that directly drives a stage two-dimensionally. Is used.

【0004】リニアモータあるいは平面モータの駆動方
式としては、可変磁気抵抗駆動方式とローレンツ電磁力
駆動方式とがあるが、近年では、発生推力が大きく、小
型化が容易である点に着目して可変磁気抵抗駆動方式が
主流であった。
There are a variable reluctance drive method and a Lorentz electromagnetic force drive method as a drive method of a linear motor or a planar motor. In recent years, however, the variable drive is performed by paying attention to the fact that the generated thrust is large and the miniaturization is easy. The magnetoresistive drive method was the mainstream.

【0005】その後、永久磁石の高性能化に伴い、磁気
回路設計が容易で推力リプルが小さく、このため高分解
能な位置制御が可能となる電磁力駆動方式のリニアモー
タが見直されており、このリニアモータを2次元方向に
展開した平面モータも提案されている(例えば、米国特
許第519,745号参照)。電磁力駆動方式はローレ
ンツ力に基づく理論的設計が容易であり、高帯域まで電
流と推力との線形性が良く、特に無鉄心の場合には推力
むらも少ないため、制御性に優れている利点があるが、
可変磁気抵抗駆動方式並みの駆動力を発生する電磁力駆
動方式のリニアモータあるいは平面モータの実現のため
には、より高性能な永久磁石が必要不可欠である。かか
る電磁力駆動方式のモータの実現のため、より高性能な
永久磁石の出現が待望されていたのであるが、最近にな
って、エネルギ積が40MGOe以上の高性能磁石が市
場に出始めてきており、再び電磁力駆動方式が脚光を集
めるに至っている。
[0005] Subsequently, with the advancement of the performance of permanent magnets, electromagnetic force driven linear motors that can easily design magnetic circuits and have small thrust ripples and thus enable high-resolution position control have been reviewed. A planar motor in which a linear motor is developed in a two-dimensional direction has also been proposed (for example, see US Pat. No. 519,745). The electromagnetic drive method is easy to theoretically design based on Lorentz force, has good linearity of current and thrust up to the high band, and has excellent controllability, especially when there is no iron core, since there is little uneven thrust. There is,
In order to realize a linear motor or a planar motor of an electromagnetic drive type that generates a driving force comparable to that of the variable reluctance drive system, a higher performance permanent magnet is indispensable. For the realization of such an electromagnetic drive motor, the emergence of higher performance permanent magnets has been anticipated. However, recently, high performance magnets having an energy product of 40 MGOe or more have begun to appear on the market. The electromagnetic drive system has once again attracted the limelight.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】電磁力駆動方式の平面
モータ等は、周知の如く、磁極ユニットと電機子ユニッ
トとを備え、電機子ユニットは、固定子側及び可動子側
のいずれに配置される場合にも複数の電機子コイルを有
している。これは、例えば、電機子ユニットを固定子側
とする場合には、可動子のストローク範囲の全範囲にわ
たって多くの電機子コイルを配置する必要があり、電機
子ユニットを可動子側とする場合には、安定した駆動力
を継続的に発生するためには複数の電機子コイルを必要
とするからである。
As is well known, an electromagnetic force-driven flat motor or the like includes a magnetic pole unit and an armature unit, and the armature unit is disposed on either the stator side or the mover side. Also have a plurality of armature coils. This is because, for example, when the armature unit is on the stator side, it is necessary to arrange many armature coils over the entire stroke range of the mover, and when the armature unit is on the mover side. This is because a plurality of armature coils are required to continuously generate a stable driving force.

【0007】ところで、無鉄心の電機子コイルは、従
来、心材のまわりに導電性の線材(コイル巻き線)を内
側から外側に巻回した後、巻回された線材から心材を取
り外すという工程を経て製造されていたことから、必然
的に、電流供給回路に受電のため接続される線材の両端
(以下、適宜「受電端」と呼ぶ)の一方は、電機子コイ
ルの内側(中空部)に存在し、他方は電機子コイルの外
側に存在することとなっていた。このため、配線作業の
効率化のため、コイルの外側(又は内側)に受電端の双
方を配置しようとすると、内側(又は外側)の受電端
を、コイルの上部空間を介して外側(又は内側)に配置
するか、コイルを支持するコイル支持部材に凹溝を形成
し、その凹溝の内部空間を介して外側(又は内側)に配
置する必要があった。前者の場合、コイルの上部に余計
に配線スペースを確保することが必要となり、結果的に
電機子ユニットの大型化の一因になる。後者の場合に
は、電機子ユニットの大型化の要因とはならないが、上
記の凹溝をコイルの数と同じだけ形成しなければならな
いので、作業工数が増え、その分コストアップを招いて
いた。
Conventionally, a coreless armature coil has a process in which a conductive wire (coil winding) is wound around a core from the inside to the outside, and then the core is removed from the wound wire. Inevitably, one end of the wire connected to the current supply circuit for power reception (hereinafter, appropriately referred to as “power reception end”) is located inside the armature coil (hollow portion). And the other was to be outside the armature coil. For this reason, in order to increase the efficiency of the wiring work, if it is attempted to arrange both the power receiving ends outside (or inside) the coil, the inside (or outside) power receiving end is placed outside (or inside) through the upper space of the coil. ) Or a groove is formed in the coil supporting member that supports the coil, and the groove must be disposed outside (or inside) through the internal space of the groove. In the former case, it is necessary to secure an extra wiring space above the coil, which results in an increase in the size of the armature unit. In the latter case, this does not cause an increase in the size of the armature unit, but since the above-described concave grooves must be formed as many as the number of coils, the number of work steps increases, and the cost increases accordingly. .

【0008】本発明は、かかる事情の下でなされたもの
であり、その第1の目的は、小型化及び組み立て作業の
効率化によるコストの低減を可能とし、かつ制御性に優
れたモータ装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made under such circumstances, and a first object of the present invention is to provide a motor device which enables cost reduction by downsizing and efficient assembly work, and which is excellent in controllability. To provide.

【0009】また、本発明の第2の目的は、組み立て作
業の容易化及びコストの低減を図ることができるととも
に、ステージの位置制御性の向上が可能なステージ装置
を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a stage device which can facilitate the assembling work and reduce the cost, and can improve the controllability of the position of the stage.

【0010】更に、本発明の第3の目的は、露光精度及
びスループットをともに向上させることができ、かつコ
ストの低減が可能な露光装置を提供することにある。
A third object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of improving both the exposure accuracy and the throughput and reducing the cost.

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0011】請求項1に記載の発明は、電機子コイル
(44)を複数含む電機子ユニット(61)と、前記電
機子コイルとの間に生じる電磁相互作用によって所定方
向の駆動力を発生する磁石を有する磁極ユニット(5
1)とを備えたモータ装置において、前記各電機子コイ
ルは、そのコイル巻き線(64)の両端部(64a、6
4b)がともに当該コイルの外側又は内側に存在するよ
うに巻かれていることを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, a driving force in a predetermined direction is generated by an electromagnetic interaction generated between an armature unit (61) including a plurality of armature coils (44) and the armature coil. Magnetic pole unit with magnet (5
1), each of the armature coils is provided at both ends (64a, 6a) of the coil winding (64).
4b) is characterized by being wound so as to be present outside or inside the coil.

【0012】これによれば、各電機子コイルは、そのコ
イル巻き線の両端部(受電端)がともに当該コイルの外
側又は内側に存在するように巻かれているので、何らの
困難を伴うことなく、コイルの外側(又は内側)に受電
端の双方を配置することができ、配線作業を効率化する
ことができる。この場合、前述したコイルの上側の配線
スペースの確保や、コイル下側の凹溝の形成等が不要と
なる。また、電機子ユニットと磁極ユニットとの間の電
磁相互作用によって駆動力を発生する電磁力駆動方式が
採用されていることから、制御性の優れたものとなって
いる。従って、本発明によると、小型化及び組み立て作
業(配線作業)の効率化によるコストの低減、及び電磁
力駆動方式による優れた制御性の確保が可能となる。
According to this, since each armature coil is wound so that both ends (power receiving ends) of the coil winding are present outside or inside the coil, no difficulty is involved. Instead, both the power receiving ends can be arranged outside (or inside) the coil, and the wiring work can be made more efficient. In this case, it is not necessary to secure the wiring space above the coil and to form the concave groove below the coil. Further, since an electromagnetic force driving method for generating a driving force by electromagnetic interaction between the armature unit and the magnetic pole unit is employed, the controllability is excellent. Therefore, according to the present invention, it is possible to reduce the cost by reducing the size and increasing the efficiency of the assembling work (wiring work), and to ensure excellent controllability by the electromagnetic force driving method.

【0013】この場合において、各電機子コイルは、単
一のセグメントから成るものであっても良いが、請求項
2に記載の発明の如く、前記各電機子コイル(44)
は、積層された複数のセグメント(42)を有し、各セ
グメント間が接着され、隣接層のセグメントを形成する
コイル巻き線の端部同士を結線して形成されていても良
い。かかる場合には、電機子コイル1個当たりの配設ス
ペースとして予定された空間に合わせて、セグメントの
数(層数)を決定することにより、その空間の形状に合
わせたコイルを作成することができる。また、任意の厚
みのセグメントを従来の手法により大量生産し、例えば
各セグメントを交互に裏表にして偶数層積層し、かつセ
グメント間を接着し、隣接層のセグメントを形成するコ
イル巻き線の端部同士を結線することにより内入れ内出
しのコイルや外入れ外出しのコイルを簡単に製造するこ
とができる。
[0013] In this case, each armature coil may be composed of a single segment.
May have a plurality of stacked segments (42), the segments are bonded together, and the ends of the coil windings forming the segments of the adjacent layer are connected to each other. In such a case, by determining the number of segments (the number of layers) in accordance with the space that is to be arranged as the space for arranging one armature coil, it is possible to create a coil that matches the shape of the space. it can. In addition, segments having an arbitrary thickness are mass-produced by a conventional method. For example, each segment is alternately turned upside down, an even number of layers are stacked, and the segments are bonded to form an end portion of a coil winding that forms a segment of an adjacent layer. By connecting them together, it is possible to easily manufacture a coil that is put in and put out and a coil that is put in and out.

【0014】この場合において、請求項3に記載の発明
の如く、前記隣接層のセグメントを形成するコイル巻き
線の端部同士を所望の位置で結線しても良い。例えば、
隣接層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士
をそれぞれのセグメントの外側の任意の位置で結線する
ことにより、結線作業の能率が向上する。特に、隣接層
のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士をそれ
ぞれのセグメントの外側の4隅の位置で結線すると、例
えば平面モータ装置などにおいて、平面視角型の電機子
コイルを複数隣接してマトリクス状に配列させる場合
に、隣接コイルとの間に生じるデッドスペースにその結
線部の半田のはみ出しを位置させることができるので、
電機子コイルの配置の密集度を向上させることができ、
結果的にスペース効率の向上が可能である。
[0014] In this case, the ends of the coil windings forming the segments of the adjacent layer may be connected at desired positions. For example,
By connecting the ends of the coil windings forming the segments of the adjacent layers at an arbitrary position outside each segment, the efficiency of the connection operation is improved. In particular, when the ends of the coil windings forming the segments of the adjacent layers are connected at the four outer corner positions of each segment, for example, in a planar motor device or the like, a plurality of armature coils of a planar-viewing type are arranged adjacent to each other. When arranging in a matrix, the protrusion of the solder at the connection part can be located in the dead space generated between adjacent coils,
Armature coil arrangement density can be improved,
As a result, space efficiency can be improved.

【0015】請求項1〜3に記載の各発明に係るモータ
装置において、各電機子コイルのコイル巻き線(電線)
は断面円形の電線であっても良いが、請求項4に記載の
発明の如く、前記各電機子コイルのコイル巻き線は、平
角偏平電線であることが望ましい。かかる場合には、長
方形断面を有する平角偏平電線が各電機子コイルのコイ
ル巻き線として用いられるので、隣り合うコイル巻き線
同士が面接触をし、隣り合う電線同士が線接触をする断
面丸型の電線を使用した場合と比べ、電機子コイルにお
ける電線の占積率が向上し、それに応じて電流密度を向
上させることができ、結果的に装置を大型化することな
く、発生推力(発生するローレンツ電磁力)の向上が可
能になる。
In the motor device according to each of the first to third aspects of the present invention, the coil winding (electric wire) of each armature coil.
May be an electric wire having a circular cross section, but it is preferable that the coil winding of each armature coil is a flat rectangular electric wire as in the invention according to claim 4. In such a case, a flat rectangular flat wire having a rectangular cross section is used as the coil winding of each armature coil, so that adjacent coil windings make surface contact with each other and adjacent wires make line contact with each other. As compared with the case where the electric wire is used, the space factor of the electric wire in the armature coil is improved, and the current density can be improved accordingly. As a result, the generated thrust (generated Lorentz electromagnetic force) can be improved.

【0016】請求項1〜4に記載の各発明に係るモータ
装置において、請求項5に記載の発明の如く、前記各電
機子コイルには、電気的絶縁体から成り所定の一方の面
に一対の受電用端子(65a、65b)が一体的に設け
られたモールド部材(49)が取り付けられ、前記コイ
ル巻き線の両端部が前記一対の受電用端子にそれぞれ接
続されていても良い。かかる場合には、各電機子コイル
を組み付ける際に、受電用端子をこれに対応する給電用
端子に接続するのみで、電機子コイルに対する給電のた
めの電気的な接続が完了し、組み付け時に半田等を用い
て受電用端子と電機子コイルの端部とを結線する等の作
業が不要となり、組み付け作業(配線作業)が容易とな
る。
In the motor device according to each of the first to fourth aspects of the present invention, as in the fifth aspect of the present invention, each of the armature coils is made of an electrical insulator and a pair of A molded member (49) integrally provided with the power receiving terminals (65a, 65b) may be attached, and both ends of the coil winding may be connected to the pair of power receiving terminals, respectively. In such a case, when assembling each armature coil, only the power receiving terminal is connected to the corresponding power supply terminal, and the electrical connection for power supply to the armature coil is completed. It is not necessary to connect the power receiving terminal and the end of the armature coil by using such a method, and the assembling work (wiring work) is facilitated.

【0017】この場合において、請求項6に記載の発明
の如く、前記複数の電機子コイル(44)を支持する支
持部材(12)を更に備え、該支持部材には、前記各電
機子コイルの前記一対の受電用端子(65a、65b)
のそれぞれに対応する給電用端子(24)を有し、前記
受電用端子が着脱自在に接続されるソケット(22)が
複数所定間隔で設けられることが望ましい。かかる場合
には、支持部材に設けられたソケットに電機子コイルに
設けられた受電用端子を嵌合するだけで、ワンタッチ
で、支持部材への電機子コイルの固定と、電流供給のた
めの配線とが完了するので、電機子コイルの組み付け作
業、ひいては装置の組み立て作業を容易にすることがで
きる。
In this case, the invention further comprises a support member (12) for supporting the plurality of armature coils (44), wherein the support member includes a support member for each of the armature coils. The pair of power receiving terminals (65a, 65b)
It is preferable that a plurality of sockets (22) having power supply terminals (24) corresponding to the respective power supply terminals and to which the power reception terminals are detachably connected be provided at predetermined intervals. In such a case, by simply fitting the power receiving terminal provided on the armature coil to the socket provided on the support member, the one-touch operation of fixing the armature coil to the support member and wiring for supplying current are performed. Are completed, the work of assembling the armature coil and the work of assembling the device can be facilitated.

【0018】さらに、この場合において、請求項7に記
載の発明の如く、前記支持部材は、前記各電機子コイル
への給電パターンが形成されたプリント基板(66)を
有し、前記ソケットは、前記各給電パターン毎に設けら
れていることが望ましい。かかる場合には、各電機子コ
イルへの給電配線時に、各電機子コイルの端部と電流供
給装置の端子とを導線によって接続する作業と比較する
と、非常に効率的な作業を行うことが可能となる。
Further, in this case, as in the invention according to claim 7, the support member has a printed board (66) on which a power supply pattern to each of the armature coils is formed, and the socket is It is desirable that the power supply pattern be provided for each of the power supply patterns. In such a case, it is possible to perform a very efficient operation when supplying power to each armature coil, as compared with the operation of connecting the end of each armature coil and the terminal of the current supply device by a conductive wire. Becomes

【0019】上記請求項1〜7に記載の各発明に係るモ
ータ装置において、請求項8に記載の発明の如く、前記
複数の電機子コイルは、所定の一軸方向に沿って所定間
隔で配置されていても良く、あるいは請求項9に記載の
発明の如く、前記複数の電機子コイルは、マトリクス状
に配置されていても良い。前者の場合には、電機子ユニ
ットと磁極ユニットとをローレンツ電磁力により、前記
所定の一軸方向に相対駆動する電磁力駆動方式のリニア
モータを構成することができ、後者の場合には、電機子
ユニットと磁極ユニットとをローレンツ電磁力により、
2次元平面内で相対駆動する電磁力駆動方式の平面モー
タを構成することができる。
In the motor device according to each of the first to seventh aspects of the present invention, as in the eighth aspect of the invention, the plurality of armature coils are arranged at predetermined intervals along a predetermined uniaxial direction. Alternatively, as in the ninth aspect, the plurality of armature coils may be arranged in a matrix. In the former case, an armature unit and a magnetic pole unit can be constituted by an electromagnetic force drive type linear motor that relatively drives the armature unit and the magnetic pole unit in the predetermined uniaxial direction by the Lorentz electromagnetic force. Unit and magnetic pole unit by Lorentz electromagnetic force
It is possible to configure a planar motor of an electromagnetic force drive system that performs relative drive in a two-dimensional plane.

【0020】請求項10に記載の発明に係るステージ装
置は、請求項8又は9に記載のモータ装置と;前記モー
タ装置によって駆動されるステージとを備えることを特
徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a stage device including the motor device according to the eighth or ninth aspect; and a stage driven by the motor device.

【0021】これによれば、ステージが、組み立て作業
の容易化によるコストの低減が可能で、制御性に優れた
電磁力駆動方式のモータ装置によって駆動されるので、
組み立て作業の容易化及びコストの低減を図ることがで
きるとともに、ステージの位置制御性の向上が可能であ
る。
According to this, the stage is driven by the electromagnetic drive type motor device which can reduce the cost by facilitating the assembling work and is excellent in controllability.
In addition to facilitating the assembling work and reducing the cost, the position controllability of the stage can be improved.

【0022】請求項11に記載の発明は、マスク(R)
に形成されたパターンを基板(W)上に転写する露光装
置であって、前記マスク及び基板の少なくとも一方の駆
動装置として、請求項10に記載のステージ装置を具備
することを特徴とする。
According to the eleventh aspect of the present invention, the mask (R)
An exposure apparatus for transferring a pattern formed on a substrate (W) onto a substrate (W), wherein the stage device according to claim 10 is provided as a driving device for at least one of the mask and the substrate.

【0023】これによれば、請求項10に記載のステー
ジ装置を、マスク及び基板の少なくとも一方の駆動装置
として備えているので、該ステージ装置の作用により、
組み立て作業の容易化によるコストの低減、マスク及び
基板の少なくとも一方の位置制御性の向上が可能にな
る。例えば、マスクの位置制御性の向上により、走査型
露光装置の場合のマスクと基板の同期精度の向上が可能
となり、これにより露光精度(重ね合せ精度)の向上
と、同期整定時間の短縮によるスループットの向上とが
可能になる。また、例えば、基板の位置制御性の向上に
より、基板の位置決め精度の向上による露光精度(重ね
合せ精度)の向上と、位置決め時間の短縮によるスルー
プットの向上が可能になる。
According to this, the stage device according to claim 10 is provided as a driving device for at least one of the mask and the substrate.
The cost can be reduced by facilitating the assembling work, and the position controllability of at least one of the mask and the substrate can be improved. For example, by improving the position controllability of the mask, it is possible to improve the synchronization accuracy between the mask and the substrate in the case of a scanning type exposure apparatus, thereby improving the exposure accuracy (overlay accuracy) and reducing the synchronization settling time to improve the throughput. Can be improved. Further, for example, by improving the position controllability of the substrate, it becomes possible to improve the exposure accuracy (overlay accuracy) by improving the positioning accuracy of the substrate, and to improve the throughput by shortening the positioning time.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】《第1の実施形態》以下、本発明
の第1の実施形態を図1〜図6に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0025】図1には、第1の実施形態の露光装置10
0の全体的な構成が概略的に示されている。この露光装
置100は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型
露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパで
ある。後述するように、本実施形態では、投影光学系P
Lが設けられているので、以下においては、投影光学系
PLの光軸AX方向をZ軸方向、これに直交する面内で
マスクとしてのレチクルRと基板としてのウエハWとが
相対走査される方向をY軸方向、これらZ軸及びY軸に
直交する方向をX軸方向として説明を行う。
FIG. 1 shows an exposure apparatus 10 according to the first embodiment.
0 is shown schematically. The exposure apparatus 100 is a step-and-scan type scanning exposure apparatus, that is, a so-called scanning stepper. As described later, in the present embodiment, the projection optical system P
Since L is provided, the reticle R as a mask and the wafer W as a substrate are scanned relative to each other in a plane orthogonal to the optical axis AX of the projection optical system PL in the Z-axis direction. The direction will be described as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to these Z-axis and Y-axis as an X-axis direction.

【0026】この露光装置100は、照明系10、レチ
クルRを保持するマスクステージとしてのレチクルステ
ージRST、投影光学系PL、ウエハWをXY平面内で
XY2次元方向に駆動するステージ装置としての基板ス
テージ装置30、及びこれらの制御系等を備えている。
The exposure apparatus 100 includes an illumination system 10, a reticle stage RST as a mask stage for holding the reticle R, a projection optical system PL, and a substrate stage as a stage device for driving the wafer W in XY two-dimensional directions within an XY plane. The device 30 includes a control system and the like.

【0027】前記照明系10は、例えば、特開平9−3
20956号公報に開示されるように、光源ユニット、
シャッタ、2次光源形成光学系、ビームスプリッタ、集
光レンズ系、レチクルブラインド、及び結像レンズ系等
(いずれも不図示)から構成され、図1のミラーMへ向
けて照度分布のほぼ均一な露光用照明光を射出する。そ
して、この照明光がミラーMによってその光路が鉛直下
方に折り曲げられ、レチクルR上の矩形(あるいは円弧
状)の照明領域IARを均一な照度で照明する。
The illumination system 10 is disclosed in, for example, JP-A-9-3
As disclosed in JP-A-20956, a light source unit,
It comprises a shutter, a secondary light source forming optical system, a beam splitter, a condenser lens system, a reticle blind, an image forming lens system and the like (all not shown), and has a substantially uniform illuminance distribution toward the mirror M in FIG. Emit illumination light for exposure. The light path of the illumination light is bent vertically downward by the mirror M, and illuminates the rectangular (or arc-shaped) illumination area IAR on the reticle R with uniform illuminance.

【0028】前記レチクルステージRST上にはレチク
ルRが、例えば真空吸着により固定されている。また、
このレチクルステージRSTは、不図示のレチクルべー
ス上をリニアモータ等で構成されたレチクル駆動部(図
示省略)により、走査方向であるY軸方に指定された走
査速度で駆動可能となっている。
A reticle R is fixed on the reticle stage RST by, for example, vacuum suction. Also,
The reticle stage RST can be driven on a reticle base (not shown) by a reticle driving unit (not shown) composed of a linear motor or the like at a scanning speed designated in the Y-axis direction, which is the scanning direction. I have.

【0029】レチクルステージRST上にはレチクルレ
ーザ干渉計(以下、「レチクル干渉計」という)16か
らのレーザビームを反射する移動鏡15が固定されてお
り、レチクルステージRSTのステージ移動面内の位置
はレチクル干渉計16によって、例えば0.5〜1nm
程度の分解能で常時検出される。
A movable mirror 15 for reflecting a laser beam from a reticle laser interferometer (hereinafter, referred to as a "reticle interferometer") 16 is fixed on the reticle stage RST. Is, for example, 0.5 to 1 nm by the reticle interferometer 16.
It is always detected with a resolution of the order.

【0030】レチクル干渉計16からのレチクルステー
ジRSTの位置情報はステージ制御系19及びこれを介
して主制御装置20に送られ、ステージ制御系19では
主制御装置20からの指示に応じてレチクルステージR
STの位置情報に基づいてレチクル駆動部(図示省略)
を介してレチクルステージRSTを駆動する。
The position information of the reticle stage RST from the reticle interferometer 16 is sent to the stage control system 19 and the main controller 20 via the stage control system 19, and the stage control system 19 sends the reticle stage RST in response to an instruction from the main controller 20. R
Reticle drive unit (not shown) based on ST position information
Drives the reticle stage RST via the.

【0031】前記投影光学系PLは、レチクルステージ
RSTの図1における下方に配置され、ここでは両側テ
レセントリックな縮小系であり、光軸AX方向(Z軸方
向)に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズエレ
メントから成る屈折光学系が使用されている。この投影
光学系PLの投影倍率は、例えば1/4、1/5あるい
は1/6である。このため、照明系10からの照明光に
よってレチクルRの照明領域IARが照明されると、こ
のレチクルRを通過した照明光により、投影光学系PL
を介してレチクルRの照明領域IAR内の回路パターン
の縮小像(部分倒立像)が表面にフォトレジストが塗布
されたウエハW上の照明領域IARに共役な露光領域I
Aに形成される。
The projection optical system PL is arranged below the reticle stage RST in FIG. 1 and is a reduction system that is telecentric on both sides here, and is arranged at predetermined intervals along the optical axis AX direction (Z-axis direction). A refractive optical system including a plurality of lens elements is used. The projection magnification of the projection optical system PL is, for example, 1/4, 1/5 or 1/6. Therefore, when the illumination area IAR of the reticle R is illuminated by the illumination light from the illumination system 10, the illumination light passing through the reticle R causes the projection optical system PL to emit light.
A reduced image (partially inverted image) of the circuit pattern in the illumination area IAR of the reticle R via the exposure area I conjugate to the illumination area IAR on the wafer W coated with the photoresist on the surface
A is formed.

【0032】前記基板ステージ装置30は、べース21
と、このべース21の上面の上方に数μm程度のクリア
ランスを介して不図示のエアスライダにより浮上支持さ
れたステージとしての基板テーブル18と、この基板テ
ーブル18をXY面内で2次元方向に駆動する駆動装置
50とを備えている。駆動装置50としては、ここで
は、べース21の上部に設けられた(埋め込まれた)固
定子60と、基板テーブル18の底部(べース対向面
側)に固定された可動子51とから成る平面モータが使
用されている。また、可動子51とべース21(固定子
60を含む)によってモータ装置としての平面モータ装
置が構成されている。以下の説明においては、上記の駆
動装置50を、便宜上、平面モータ50と呼ぶものとす
る。
The substrate stage device 30 includes a base 21
And a substrate table 18 as a stage which is levitated and supported by an air slider (not shown) via a clearance of about several μm above the upper surface of the base 21, and the substrate table 18 is moved in a two-dimensional direction in the XY plane. And a driving device 50 for driving the motor. Here, the driving device 50 includes a stator 60 provided (embedded) on the base 21 and a mover 51 fixed on the bottom (base facing surface side) of the substrate table 18. Are used. The mover 51 and the base 21 (including the stator 60) constitute a planar motor device as a motor device. In the following description, the driving device 50 is referred to as a planar motor 50 for convenience.

【0033】前記基板テーブル18上に、ウエハWが例
えば真空吸着によって固定されている。また、この基板
テーブル18上にはウエハレーザ干渉計(以下「ウエハ
干渉計」という)31からのレーザビームを反射する移
動鏡27が固定され、外部に配置された前記ウエハ干渉
計31により、基板テーブル18のXY面内での位置が
例えば0.5〜1nm程度の分解能で常時検出されてい
る。
A wafer W is fixed on the substrate table 18 by, for example, vacuum suction. A movable mirror 27 for reflecting a laser beam from a wafer laser interferometer (hereinafter, referred to as “wafer interferometer”) 31 is fixed on the substrate table 18. The position of the X.18 in the XY plane is always detected with a resolution of, for example, about 0.5 to 1 nm.

【0034】ここで、実際には、図2に示されるよう
に、基板テーブル18上には走査方向であるY軸方向に
直交する反射面を有する移動鏡27Yと非走査方向であ
るX軸方向に直交する反射面を有する移動鏡27Xとが
設けられ、ウエハ干渉計31は走査方向に1軸、非走査
方向には2軸設けられているが、図1ではこれらが代表
的に移動鏡27、ウエハ干渉計31として示されてい
る。基板テーブル18の位置情報(又は速度情報)はス
テージ制御系19及びこれを介して主制御装置20に送
られ、ステージ制御系19では主制御装置20からの指
示に応じて前記位置情報(又は速度情報)に基づいて平
面モータ50を介して基板テーブル18のXY面内の移
動(Z軸回りの回転、すなわちθz回転を含む)を制御
する。
Here, in practice, as shown in FIG. 2, a movable mirror 27Y having a reflecting surface orthogonal to the Y-axis direction, which is the scanning direction, and the X-axis direction, which is the non-scanning direction, are provided on the substrate table 18. Is provided, and the wafer interferometer 31 is provided with one axis in the scanning direction and two axes in the non-scanning direction. In FIG. , Wafer interferometer 31. The position information (or speed information) of the substrate table 18 is sent to the stage control system 19 and the main controller 20 via the stage control system 19, and the stage control system 19 sends the position information (or speed information) in response to an instruction from the main controller 20. Based on the information, the movement of the substrate table 18 in the XY plane (including rotation about the Z axis, that is, θz rotation) is controlled via the plane motor 50.

【0035】前記基板テーブル18は、図2に示される
ように、前記平面モータ50を構成する可動子51の上
面(ベース21対向面と反対側の面)にボイスコイルモ
ータ等を含む支持機構32a、32b、32cによって
異なる3点で支持されている。これらの支持機構32a
〜32cは、図1では図示が省略されているが、実際に
は不図示の駆動機構を介して図1のステージ制御系19
によって独立して駆動制御されるようになっており、こ
れにより、基板テーブル18が、Z軸方向及びXY面に
対する傾斜方向(θx方向、θy方向)に微少駆動され
るようになっている。すなわち、本実施形態では、基板
テーブル18は、6自由度方向(X、Y、Z、θx、θ
y、θz方向)の位置、姿勢が制御可能な構成となって
いる。
As shown in FIG. 2, the substrate table 18 has a support mechanism 32a including a voice coil motor and the like on the upper surface (the surface opposite to the surface facing the base 21) of the mover 51 constituting the planar motor 50. , 32b, 32c at three different points. These support mechanisms 32a
1 to 32c are not shown in FIG. 1, but are actually connected to a stage control system 19 in FIG.
, The substrate table 18 is minutely driven in the Z-axis direction and the tilt direction (θx direction, θy direction) with respect to the XY plane. That is, in the present embodiment, the substrate table 18 has six degrees of freedom (X, Y, Z, θx, θ
(y, θz directions).

【0036】本実施形態の露光装置では、図示は省略さ
れているが、実際には、ウエハW表面の前記露光領域I
A内部分及びその近傍の領域のZ方向(光軸AX方向)
の位置を検出するための斜入射光式のフォーカス検出系
(焦点検出系)の一つである多点フォーカス位置検出系
が投影光学系PLを保持する不図示の保持部材に設けら
れている。この多点フォーカス位置検出系は、照射光学
系と受光光学系とを有し、例えば特開平6−28340
3号公報に開示されるものと同様の構成のものが用いら
れる。、
In the exposure apparatus of the present embodiment, although not shown, the exposure area I on the surface of the wafer W is actually
The Z direction (the optical axis AX direction) of the portion inside A and the area in the vicinity thereof
A multipoint focus position detection system, which is one of oblique incident light type focus detection systems (focus detection systems) for detecting the position of the projection optical system PL, is provided on a holding member (not shown) that holds the projection optical system PL. This multipoint focus position detection system has an irradiation optical system and a light receiving optical system.
The same configuration as that disclosed in Japanese Patent Publication No. 3 is used. ,

【0037】ステージ制御系19では、後述する走査露
光時等に、多点フォーカス位置検出系の出力に基づい
て、支持機構32a〜32cを制御して基板テーブル1
8をZ・チルト駆動することにより、ウエハW表面を投
影光学系PLの焦点深度の範囲内に合致させる。すなわ
ち、ステージ制御系19により、このようにしてオート
フォーカス・オートレベリングが行われるようになって
いる。
The stage control system 19 controls the support mechanisms 32a to 32c based on the output of the multi-point focus position detection system at the time of scanning exposure, which will be described later, or the like.
8 is driven in a Z-tilt manner so that the surface of the wafer W matches the range of the depth of focus of the projection optical system PL. That is, the stage control system 19 performs the auto focus / auto leveling in this manner.

【0038】前記可動子51は、前述の如く、その上面
に図2に示される支持機構32a、32b、32cを介
して基板テーブル18が設けられているが、この可動子
51は、平板状の磁性体部材59(図3参照)と、該磁
性体部材59の固定子60との対向面(可動子51にお
ける底面)にマトリクス状に配列された多数の磁石とか
ら成る磁極ユニットによって構成されている。以下の説
明においては、この可動子51を、適宜、「磁極ユニッ
ト51」とも呼ぶものとする。この磁極ユニット51に
は、不図示のエアスライダが一体的に設けられており、
該エアスライダに設けられた多数の気体静圧軸受けから
加圧空気がべース21の上面に向かって吹き出され、べ
ース21の上面と磁極ユニット51との間の加圧気体、
例えば加圧空気の静圧(いわゆる隙間内圧力)により磁
極ユニット51を含んで基板テーブル18が非接触で浮
上支持されている。
As described above, the movable table 51 is provided on its upper surface with the substrate table 18 via the support mechanisms 32a, 32b, and 32c shown in FIG. A magnetic pole unit composed of a magnetic member 59 (see FIG. 3) and a large number of magnets arranged in a matrix on the surface of the magnetic member 59 facing the stator 60 (the bottom surface of the mover 51). I have. In the following description, this mover 51 will also be appropriately referred to as “magnetic pole unit 51”. The magnetic pole unit 51 is integrally provided with an air slider (not shown).
Pressurized air is blown toward the upper surface of the base 21 from a large number of gas static pressure bearings provided on the air slider, and pressurized gas between the upper surface of the base 21 and the magnetic pole unit 51,
For example, the substrate table 18 including the magnetic pole unit 51 is levitated and supported in a non-contact manner by the static pressure of pressurized air (so-called gap pressure).

【0039】ここで、磁極ユニット51、すなわち可動
子51の一例について更に詳述する。図3(A)には可
動子51の底面図(−Z方向から見た平面図)が、図3
(B)には可動子51の+Y方向から見た側面図が、ま
た、図3(C)には可動子51の図3(A)におけるB
−B線断面図が示されている。この可動子51は、平板
状の磁性体部材59と、該磁性体部材59の固定子60
との対向面(図3(B)における上面、すなわち可動子
51における底面)上に、図3(A)に示されるよう
に、マトリクス状に配列された永久磁石52N、52
S、53N、54N、及び54Sとを有する。ここで、
永久磁石52N、53N、54Nは、固定子60との対
向面がN極面となる磁石であり、また、永久磁石52
S、54Sは、固定子60との対向面がS極面となる磁
石である。各永久磁石の寸法は、後述する電機子コイル
の一辺の長さをP(図2参照)として、図3(A)に示
される通りである。また、隣接する永久磁石相互間の間
隔は、P/3となっている。
Here, an example of the magnetic pole unit 51, that is, an example of the mover 51 will be described in more detail. FIG. 3A is a bottom view of the mover 51 (a plan view as viewed from the −Z direction).
3B is a side view of the mover 51 as viewed from the + Y direction, and FIG. 3C is a view of the mover 51 shown in FIG.
A sectional view taken along line -B is shown. The mover 51 includes a flat magnetic member 59 and a stator 60 of the magnetic member 59.
3A, the permanent magnets 52N, 52 arranged in a matrix on the surface (the upper surface in FIG.
S, 53N, 54N, and 54S. here,
The permanent magnets 52N, 53N, and 54N are magnets whose N-pole surface is opposed to the stator 60.
S and 54S are magnets whose surfaces facing the stator 60 are S-pole surfaces. The dimensions of each permanent magnet are as shown in FIG. 3A, where P (see FIG. 2) is the length of one side of an armature coil described later. The interval between adjacent permanent magnets is P / 3.

【0040】前記固定子60を含む前記べース21は、
その概略縦断面図である図4に示されるように、上面が
開口した2段の段付凹部が形成された平面視で矩形状の
容器69と、この容器69の高さ方向中央やや下側の下
段部に上方から係合され底面にほぼ平行に架設された平
板状の支持部材としてのコイル支持部材12と、該コイ
ル支持部材12の上面に、図2に示されるようにマトリ
クス状に配列された複数(ここでは、8×8=64個)
の電機子コイル44と、上部開口を閉塞する状態で一体
的に取り付けられたセラミック等の非磁性非導電体材料
から成り、その上面に前述した気体静圧軸受けからの加
圧空気が吹き付けられるガイド面が形成された平板状部
材68とを備えている。
The base 21 including the stator 60 is
As shown in FIG. 4 which is a schematic vertical cross-sectional view thereof, a rectangular container 69 in a plan view having two stepped concave portions having an open upper surface is formed, and the center of the container 69 in the height direction is slightly lower. A coil support member 12 as a flat plate-like support member, which is engaged from above with the lower step portion and extends substantially parallel to the bottom surface, and is arranged on the upper surface of the coil support member 12 in a matrix as shown in FIG. Multiple (here 8 × 8 = 64)
And a guide made of a non-magnetic non-conductive material such as ceramic integrally attached to the armature coil 44 so as to close the upper opening, and pressurized air from the gas static pressure bearing is blown on the upper surface thereof. And a flat member 68 having a surface formed.

【0041】本実形態では、図4に示されるように、複
数の電機子コイル44によって電機子ユニットとしての
平板状コイル群61が構成され、この平板状コイル群6
1と前記コイル支持部材12とによって、前述した平面
モータ50の固定子60が構成されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 4, a plurality of armature coils 44 constitute a flat coil group 61 as an armature unit.
1 and the coil support member 12 constitute the stator 60 of the flat motor 50 described above.

【0042】コイル支持部材12は、その上面に複数の
電機子コイル44が接触状態で固定された磁性体材料か
ら成る平板状磁性体部材62と、該平板状磁性体部材6
2の電機子コイル44反対側の面に貼り付けられたプリ
ント基板66とを有している。
The coil supporting member 12 includes a plate-shaped magnetic member 62 made of a magnetic material having a plurality of armature coils 44 fixed on the upper surface thereof in contact therewith, and the plate-shaped magnetic member 6.
And a printed circuit board 66 attached to a surface of the second armature coil 44 opposite to the armature coil 44.

【0043】次に、本実施形態の特徴点である電機子コ
イル44及びそのコイル支持部材12に対する取付け構
造等について詳細に説明する。
Next, the armature coil 44 and its mounting structure to the coil support member 12 and the like, which are features of the present embodiment, will be described in detail.

【0044】電機子コイル44としては、平面視略正方
形のコイルが用いられている(図2参照)。この電機子
コイル44は、図6(C)に示されるように、2層巻き
線から成るセグメント42を、2段重ねた4層の巻き線
から成る。この電機子コイル44の両端(受電端)64
a、64bは、ともに当該電機子コイル44の外側に存
在する。
As the armature coil 44, a coil having a substantially square shape in a plan view is used (see FIG. 2). As shown in FIG. 6 (C), the armature coil 44 is composed of a four-layer winding in which two segments of a two-layer winding are stacked in two stages. Both ends (power receiving end) 64 of the armature coil 44
Both a and 64b exist outside the armature coil 44.

【0045】ここで、図6(A)〜(C)を参照して、
この電機子コイル44の製造方法を簡単に説明する。
Here, referring to FIGS. 6A to 6C,
A method of manufacturing the armature coil 44 will be briefly described.

【0046】まず、第1の工程として、図6(A)に示
されるように、断面略正方形で、該正方形の一辺の長さ
が最終的に製造される電機子コイル44の一辺の長さの
1/3である直方体状の軸部材40を軸として、断面長
方形の偏平平角電線から成るコイル巻き線64を、その
長手方向中央部41から上下両側で互いに逆向きになる
ように軸部材40の周囲にそれぞれ所定の巻き数だけ巻
回する。これにより、図6(B)に示される2層巻き線
から成るセグメント42が1つ形成される。このセグメ
ント42では、そのコイル巻き線の両端部がともに外側
に存在するように巻回されているが、本実施形態では、
電機子コイル44の設置スペースとの関係から、2段重
ねのセグメントから成る4層巻きの電機子コイル44が
用いられるので、第2の工程として、図6(B)に示さ
れるように、2つのセグメント42を、正方形の四隅を
揃えた状態で上下に重ね、セグメント間を接着剤等で接
着するとともに、各セグメント42を形成するコイル巻
き線64の端部同士を図6(C)に示されるように半田
等43により結線する。これにより、図6(C)に示さ
れるコイル巻き線64の両端部64a、64bがともに
外側に存在する4層のコイル巻き線から成る電機子コイ
ル44が完成する。
First, as a first step, as shown in FIG. 6A, the cross section is substantially square, and the length of one side of the square is the length of one side of the armature coil 44 to be finally manufactured. With the rectangular parallelepiped shaft member 40 as an axis, the coil winding 64 made of a flat rectangular wire with a rectangular cross section is turned from the longitudinal center portion 41 so as to be opposite to each other on both upper and lower sides. Are wound by a predetermined number of turns. As a result, one segment 42 composed of the two-layer winding shown in FIG. 6B is formed. In this segment 42, the coil is wound so that both ends of the coil winding are present on the outside, but in this embodiment,
Since the armature coil 44 having a four-layer winding composed of two-stage segments is used in consideration of the installation space of the armature coil 44, as shown in FIG. The two segments 42 are vertically stacked with the four corners of the square aligned, and the segments are bonded with an adhesive or the like, and the ends of the coil windings 64 forming each segment 42 are shown in FIG. Are connected by solder 43 or the like so as to be connected. This completes the armature coil 44 shown in FIG. 6C, which is composed of four layers of coil windings in which both ends 64a and 64b of the coil windings 64 are present on the outside.

【0047】この場合、図6(C)からも明らかなよう
に、半田等43による結線作業は、電機子コイル44の
外側で行われるため、非常に簡単にセグメント42同士
の結線を行なうことができる。また、この場合の結線位
置は、任意の位置に設定できるので、例えば、4隅の内
のいずれかに設定することにより、コイル支持部材12
上に4つの電機子コイル44をマトリクス状に配置する
場合に、それぞれのコイルの結線位置を図2中に符号6
5あるいは65‘で示される4つの電機子コイル44相
互間の本来無駄となる空間(デッドスペース)に集中し
て位置させることができる。通常結線位置は、盛り上が
る(外側に向かって膨らむ)ため、このようにすること
により、隣接する電機子コイル44相互を密着させるこ
とができ、スペース効率を向上させることができる。
In this case, as is apparent from FIG. 6C, since the connection work using the solder 43 is performed outside the armature coil 44, the connection between the segments 42 can be performed very easily. it can. Further, since the connection position in this case can be set to an arbitrary position, for example, by setting it to any one of the four corners, the coil supporting member 12 can be set.
When the four armature coils 44 are arranged in a matrix on the upper side, the connection positions of the respective coils are designated by reference numerals 6 in FIG.
The four armature coils 44, denoted by 5 or 65 ', can be concentrated in the originally wasted space (dead space) between them. Normally, the connection position rises (swells outward), so that the adjacent armature coils 44 can be in close contact with each other, and the space efficiency can be improved.

【0048】上述のようにして製造された各電機子コイ
ル44は、図5に示されるように、正方形状の底面(X
Y平面と平行な面)を有し、Z軸と平行な中心軸CX付
近でZ方向に貫通する中空部47を有する角柱状に成形
されている。この中空部47の断面形状は、電機子コイ
ル44の一辺の長さPの1/3(P/3)をその一辺の
長さとする正方形状となっている。この電機子コイル4
4には、コイル支持部材12に実装されるのに先立っ
て、図5に示されるような一部に開口部49aが形成さ
れた樹脂等の電気的絶縁体から成るモールド部材49
が、その1つのコーナー部分に一体的に取り付けられ、
両者が一体化される。このモールド部材49には、予め
一方の面(図5における下面)に一対の受電用端子とし
ての端子ピン65a、65bが一体的に設けられてい
る。従って、モールド部材49を電機子コイル44に取
付けた後、開口部49aを介して端部(受電端)64a
と端子ピン65a、端部(受電端)64bと端子ピン6
5bとをそれぞれ半田付けすることにより、電機子コイ
ル44に対する電流の供給を端子ピン65a、65bを
介して行うことが可能になる。
As shown in FIG. 5, each armature coil 44 manufactured as described above has a square bottom surface (X
(A plane parallel to the Y plane), and is formed in a prismatic shape having a hollow portion 47 penetrating in the Z direction near a central axis CX parallel to the Z axis. The cross-sectional shape of the hollow portion 47 is a square shape whose length is one-third (P / 3) of the length P of one side of the armature coil 44. This armature coil 4
Prior to mounting on the coil support member 12, a mold member 49 made of an electrical insulator such as a resin having an opening 49a formed in a part as shown in FIG.
Is attached integrally to one of the corners,
Both are integrated. The mold member 49 is integrally provided with a pair of terminal pins 65a and 65b as a pair of power receiving terminals on one surface (a lower surface in FIG. 5) in advance. Therefore, after attaching the mold member 49 to the armature coil 44, the end (power receiving end) 64a is formed through the opening 49a.
And terminal pin 65a, end (power receiving end) 64b and terminal pin 6
By soldering each of the armature coils 5b to the armature coil 44, current can be supplied to the armature coil 44 via the terminal pins 65a and 65b.

【0049】更に、本実施形態では、コイル支持部材1
2には、図5に示されるように、前記端子ピン65a、
65bに対応して、当該端子ピン65a、65bのそれ
ぞれを着脱自在に接続可能なソケット22が設けられて
いる。
Further, in this embodiment, the coil supporting member 1
2, the terminal pins 65a, as shown in FIG.
A socket 22 is provided corresponding to the terminal pin 65b so that each of the terminal pins 65a and 65b can be detachably connected.

【0050】これを更に詳述すると、ソケット22は、
図4に示されるように、コイル支持部材12を構成する
磁性体部材62に端子ピン65a(又は65b)に対向
して形成された円形開口内に埋め込まれ、その内部に端
子ピン65a(又は65b)を着脱自在に接続可能なレ
セプタクルを有する樹脂製の円筒部材から成り、このソ
ケット22の底面には、プリント基板66に形成された
スルーホール内に挿入され該プリント基板66に形成さ
れた給電パターンに接続された給電用端子24が設けら
れている。
This will be described in more detail.
As shown in FIG. 4, the magnetic member 62 constituting the coil supporting member 12 is embedded in a circular opening formed facing the terminal pin 65a (or 65b), and the terminal pin 65a (or 65b) is embedded therein. ) Is formed of a resin-made cylindrical member having a receptacle which can be detachably connected to the socket 22. A power supply pattern formed in the through hole formed in the printed board 66 is formed on the bottom surface of the socket 22. Is provided with a power supply terminal 24 connected to the power supply terminal.

【0051】本実施形態では、ソケット22は、図5に
示されるように、隣接する2行2列で配置される4個の
電機子コイル44のコーナーR部が集中する部分に、各
電機子コイル44のコーナー部にモールド部材49を介
して一体的に設けられた端子ピン65a、65bにそれ
ぞれ対応して、各2つづつ合計8個が集中して設けられ
ている。また、これに対応してプリント基板66の底面
には、図7に示されるように、各ソケット22に給電用
端子24を介して個別に接続された給電パターン26が
形成されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 5, each of the armatures is placed at a portion where corners R of four armature coils 44 arranged in two rows and two columns are concentrated. A total of eight pins are provided in a concentrated manner corresponding to the terminal pins 65a and 65b integrally provided at the corners of the coil 44 via the molding member 49, respectively. Correspondingly, on the bottom surface of the printed board 66, as shown in FIG. 7, a power supply pattern 26 which is individually connected to each socket 22 via a power supply terminal 24 is formed.

【0052】従って、それぞれの電機子コイル44をコ
イル支持部材12上に実装するに際しては、各電機子コ
イル44にモールド部材49を介して一体化され、電気
的な接続が完了した端子ピン65a、65bを対応する
ソケット22にそれぞれ接続(嵌合)するだけで、ワン
タッチにて、各電機子コイル44のコイル支持部材12
上への物理的な固定と、給電用パターン26を介して不
図示の電流供給装置に接続された給電用端子24に対す
る電気的な接続とを完了することができる。従って、接
着剤による電機子コイル44のコイル支持部材12(磁
性体部材62)への固定作業が不要となり、また各電機
子コイル44を電流供給装置に電気的に接続するため
の、導線(リード線)を用いた面倒な配線作業が不要と
なる。
Accordingly, when mounting each armature coil 44 on the coil supporting member 12, the terminal pins 65a, which are integrated with the armature coil 44 via the molding member 49 and are electrically connected, are provided. 65b is simply connected (fitted) to the corresponding socket 22, and the coil support member 12 of each armature coil 44 can be connected with one touch.
The physical fixing on the upper side and the electrical connection to the power supply terminal 24 connected to the current supply device (not shown) via the power supply pattern 26 can be completed. Therefore, it is not necessary to fix the armature coil 44 to the coil support member 12 (magnetic member 62) with an adhesive, and a lead wire (lead) for electrically connecting each armature coil 44 to the current supply device. Wiring) using a wire is not required.

【0053】上述の如くして、各電機子コイル44がコ
イル支持部材12上に実装され、その後、平板状部材6
8が容器19に載置される等の手順を経て、ベース21
の組み立てが完了し、その後更に可動子51上への基板
テーブル18の搭載作業など所定の手順を経て、基板ス
テージ装置30の組み立てが完了する。
As described above, each armature coil 44 is mounted on the coil support member 12 and then the flat member 6
8 is placed on the container 19, etc.
After that, the assembly of the substrate stage device 30 is completed through a predetermined procedure such as a work of mounting the substrate table 18 on the mover 51.

【0054】上記ベース21の組み立て完了後あるいは
基板ステージ装置30の組み立て完了後に、不図示の電
流供給装置から、プリント基板66上の給電パターン2
6、給電用端子24、及び端子ピン65a、65bを介
して、電流が供給されると、供給された電流は、図5に
示される中心軸CXの周りをほぼ一様な電流密度(体積
密度)で流れる。本実施形態の露光装置100では、ス
テージ制御系19によって不図示の電流供給装置から電
機子コイル44に流れる電流の電流値及び電流方向の少
なくとも一方が制御されることにより、基板テーブル1
8のXY面内での移動が制御される。
After the assembly of the base 21 or the assembly of the substrate stage device 30 is completed, the power supply pattern 2 on the printed board 66 is supplied from a current supply device (not shown).
6, when a current is supplied via the power supply terminal 24 and the terminal pins 65a and 65b, the supplied current is substantially uniform around the central axis CX shown in FIG. ). In the exposure apparatus 100 of the present embodiment, the stage control system 19 controls at least one of the current value and the current direction of the current flowing from the current supply device (not shown) to the armature coil 44, and thereby the substrate table 1
8 in the XY plane is controlled.

【0055】ここで、ステージ制御系19による、基板
テーブル18の駆動制御方法について、その駆動原理も
含めて簡単に説明する。
Here, a method of controlling the driving of the substrate table 18 by the stage control system 19 will be briefly described, including the driving principle.

【0056】磁極ユニット51に対向する電機子コイル
44は、図3に示される永久磁石52N,52S等の中
心点に応じた位置で絶対値が最大となり、X方向及びY
方向に正弦関数によって近似できる形状をした磁束密度
分布が存在している状況下に配置されている。そのよう
な電機子コイル44に電流が供給されると、電機子コイ
ル44にローレンツ電磁力が発生する。このローレンツ
電磁力の反力が磁極ユニット51に作用し、基板テーブ
ル18(ウエハW)が駆動される。
The armature coil 44 facing the magnetic pole unit 51 has the maximum absolute value at a position corresponding to the center point of the permanent magnets 52N and 52S shown in FIG.
It is arranged in a situation where there is a magnetic flux density distribution shaped in a direction that can be approximated by a sine function. When a current is supplied to such an armature coil 44, a Lorentz electromagnetic force is generated in the armature coil 44. The reaction force of the Lorentz electromagnetic force acts on the magnetic pole unit 51, and the substrate table 18 (wafer W) is driven.

【0057】ところで、電機子コイル44に発生するロ
ーレンツ電磁力の大きさ及び方向は、電機子コイル44
に供給される電流の大きさ及び方向、並びに磁極ユニッ
ト51と平板状コイル群61との位置関係によって異な
るが、ステージ制御系19では、X方向に基板テーブル
18を駆動する場合には、磁極ユニット51のX位置に
応じてX方向で隣り合う2つの電機子コイル44の対を
選択し、各対の電機子コイル44について、磁極ユニッ
ト51と平板状コイル群61との位置関係に応じ、互い
に位相が90°だけ異なる同一振幅の正弦波電流を供給
することにより、ローレンツ電磁力の合力のX成分を磁
極ユニット51のX位置によらず一定に制御する。この
場合において、ステージ制御系19では、磁極ユニット
51をX方向へ駆動する力及び回転力が全体として0と
なるように、各電機子コイル44に流す電流を調整す
る。また、ステージ制御系19では、各電機子コイル4
4に供給される正弦波電流の振幅及び方向を制御するこ
とによって、磁極ユニット51を駆動する力の大きさ及
び方向を制御する。
The magnitude and direction of the Lorentz electromagnetic force generated in the armature coil 44 depend on the armature coil 44
Depends on the magnitude and direction of the current supplied to the magnetic pole unit 51 and the positional relationship between the magnetic pole unit 51 and the plate-shaped coil group 61. However, when driving the substrate table 18 in the X direction, the stage control system 19 A pair of two armature coils 44 adjacent to each other in the X direction is selected according to the X position of 51, and each pair of armature coils 44 is mutually connected according to the positional relationship between the magnetic pole unit 51 and the plate-shaped coil group 61. By supplying sinusoidal currents having the same amplitude and different phases by 90 °, the X component of the resultant force of the Lorentz electromagnetic force is controlled to be constant regardless of the X position of the magnetic pole unit 51. In this case, the stage control system 19 adjusts the current flowing through each armature coil 44 so that the force for driving the magnetic pole unit 51 in the X direction and the rotational force become zero as a whole. In the stage control system 19, each armature coil 4
By controlling the amplitude and the direction of the sinusoidal current supplied to 4, the magnitude and direction of the force driving the magnetic pole unit 51 are controlled.

【0058】ステージ制御系19では、磁極ユニット5
1をY方向に駆動する場合にもX方向の場合と同様にし
て、磁極ユニット51のY位置によらず一定の駆動力に
よる駆動を行うようになっている。
In the stage control system 19, the magnetic pole unit 5
In the same manner as in the case of driving in the X direction, the magnetic pole unit 51 is driven by a constant driving force regardless of the Y position.

【0059】また、ステージ制御系19では、上記の磁
極ユニット51をX方向に駆動する場合の電流パターン
とY方向に駆動する場合の電流パターンとが適当な比率
で重ね合わされたパターンの電流を各電機子コイル44
に供給することにより、XY平面に沿った任意の方向に
任意の駆動力で磁極ユニット51を駆動することができ
る。
In the stage control system 19, a current of a pattern in which the current pattern for driving the magnetic pole unit 51 in the X direction and a current pattern for driving the magnetic pole unit 51 in the Y direction are superposed at an appropriate ratio is applied to each stage. Armature coil 44
, The magnetic pole unit 51 can be driven with an arbitrary driving force in an arbitrary direction along the XY plane.

【0060】更に、ステージ制御系19では、回転力の
相殺を行わず、磁極ユニット51を駆動することによ
り、所望の回転方向及び所望の回転力で磁極ユニット5
1の回転駆動を行うことができるようになっている。
Further, in the stage control system 19, the magnetic pole unit 51 is driven without canceling the rotational force, so that the magnetic pole unit 5 is driven in a desired rotational direction and a desired rotational force.
1 can be performed.

【0061】以上のように、本実施形態の露光装置10
0では、ステージ制御系19により、基板テーブル18
のXY位置及びθz回転(ヨーイング量)に応じて電機
子コイル44に供給する電流が制御され、基板テーブル
18ひいてはウエハWの位置制御が行われるようになっ
ている。
As described above, the exposure apparatus 10 of the present embodiment
0, the stage control system 19 causes the substrate table 18
The current supplied to the armature coil 44 is controlled in accordance with the XY position and the θz rotation (the amount of yawing), and the position of the substrate table 18 and thus the wafer W is controlled.

【0062】上記の電機子コイル44への電流の供給に
より電機子コイル44が発熱し、この熱が平板状部材6
8を介して基板テーブル18側に伝達されると、基板テ
ーブル18に保持されたウエハWに熱変形を生じさせた
り、基板テーブル18周囲の雰囲気に揺らぎ(温度揺ら
ぎ)を発生させ、基板テーブル18の位置を検出するウ
エハ干渉計31の検出誤差を招くおそれがある。このた
め、図示は省略されているが、本実施形態の露光装置1
00では、ベース21内部の空間(平板状部材68と容
器69とコイル支持部材12とで囲まれる閉空間、及び
容器69とコイル支持部材12とで囲まれる閉空間内
に、水あるいはフッ素系不活性液体等の冷却液(冷媒)
を流通させて、電機子コイル44の上面側及び下面側か
ら同時に冷却が行われるようになっている。
The supply of the current to the armature coil 44 causes the armature coil 44 to generate heat.
When the wafer W is transmitted to the substrate table 18 via the substrate table 8, the wafer W held on the substrate table 18 is thermally deformed, and the atmosphere around the substrate table 18 fluctuates (temperature fluctuation). May cause a detection error of the wafer interferometer 31 which detects the position of the wafer interferometer. For this reason, although not shown, the exposure apparatus 1 of the present embodiment is not shown.
00, water or fluorine-based space is not contained in the space inside the base 21 (the closed space surrounded by the flat plate member 68, the container 69, and the coil support member 12, and the closed space surrounded by the container 69 and the coil support member 12). Cooling liquid (refrigerant) such as active liquid
And cooling is performed simultaneously from the upper surface side and the lower surface side of the armature coil 44.

【0063】次に、前述したステージ装置30を含む露
光装置100における露光動作の流れについて図1に基
づいて簡単に説明する。
Next, the flow of the exposure operation in the exposure apparatus 100 including the stage device 30 will be briefly described with reference to FIG.

【0064】まず、主制御装置20の管理の下、不図示
のレチクルローダ、ウエハローダによって、レチクルロ
ード、ウエハロードが行われ、また、レチクル顕微鏡、
基板テーブル18上の基準マーク板、オフアクシス・ア
ライメント検出系(いずれも図示省略)等を用いて、レ
チクルアライメント、ベースライン計測(アライメント
検出系の検出中心から投影光学系PLの光軸までの距離
の計測)等の準備作業が所定の手順で行われる。
First, a reticle loader and a wafer loader (not shown) load a reticle and a wafer under the control of the main controller 20.
Reticle alignment, baseline measurement (distance from the detection center of the alignment detection system to the optical axis of the projection optical system PL) using a fiducial mark plate on the substrate table 18 and an off-axis alignment detection system (both not shown) Preparatory work such as measurement) is performed according to a predetermined procedure.

【0065】その後、主制御装置20により、不図示の
アライメント検出系を用いてEGA(エンハンスト・グ
ローバル・アライメント)等のウエハアライメント計測
が実行される。このような動作において、ウエハWの移
動が必要な場合には、ステージ制御系19が主制御装置
20からの指示に応じて、電機子コイル44に供給する
電流値、及び電流方向の少なくとも一方を制御すること
により、可動子51と一体的にウエハWを保持する基板
テーブル18を所定の方向に移動させる。上記のアライ
メント計測の終了後、以下のようにしてステップ・アン
ド・スキャン方式の露光動作が行われる。
Thereafter, main controller 20 executes wafer alignment measurement such as EGA (enhanced global alignment) using an alignment detection system (not shown). In such an operation, when the movement of the wafer W is necessary, the stage control system 19 changes at least one of the current value supplied to the armature coil 44 and the current direction in accordance with an instruction from the main controller 20. By controlling, the substrate table 18 holding the wafer W integrally with the mover 51 is moved in a predetermined direction. After the completion of the alignment measurement, the exposure operation of the step-and-scan method is performed as follows.

【0066】この露光動作にあたって、まず、ウエハW
のXY位置が、ウエハW上の最初のショット領域(ファ
ースト・ショット)の露光のための走査開始位置となる
ように、基板テーブル18が移動される。同時に、レチ
クルRのXY位置が、走査開始位置となるように、レチ
クルステージRSTが移動される。そして、主制御装置
20からの指示に基づき、ステージ制御系19がレチク
ル干渉計16によって検出されたレチクルRのXY位置
情報、ウエハ干渉計31によって検出されたウエハWの
XY位置情報に基づき、不図示のレチクル駆動部及び平
面モータ50を介してレチクルRとウエハWとを同期移
動させることにより、走査露光が行われる。このウエハ
Wの移動は、主制御装置20からの指示に応じ、ステー
ジ制御系19が、電機子コイル44に供給する電流値、
及び電流方向の少なくとも一方を制御することにより行
われる。
In this exposure operation, first, the wafer W
The substrate table 18 is moved such that the XY position of the substrate table becomes the scanning start position for exposing the first shot area (first shot) on the wafer W. At the same time, reticle stage RST is moved such that the XY position of reticle R becomes the scanning start position. Then, based on an instruction from main controller 20, stage control system 19 determines whether or not XY position information of reticle R detected by reticle interferometer 16 and XY position information of wafer W detected by wafer interferometer 31. Scanning exposure is performed by synchronously moving the reticle R and the wafer W via the illustrated reticle driving unit and the plane motor 50. The movement of the wafer W is performed by the stage control system 19 in response to an instruction from the main controller 20, the current value supplied to the armature coil 44,
And controlling at least one of the current directions.

【0067】このようにして、1つのショット領域に対
するレチクルパターンの転写が終了すると、基板テーブ
ル18が1ショット領域分だけステッピングされて、シ
ョット領域に対する走査露光が行われる。このようにし
て、ステッピングと走査露光とが順次繰り返され、ウエ
ハW上に必要なショット数のパターンが転写される。
When the transfer of the reticle pattern to one shot area is completed in this way, the substrate table 18 is stepped by one shot area, and scanning exposure is performed on the shot area. In this way, the stepping and the scanning exposure are sequentially repeated, and the required number of shot patterns are transferred onto the wafer W.

【0068】以上説明したように、本実施形態の露光装
置100によると、磁気回路設計が容易で推力リプルが
小さく、高帯域まで電流と推力との線形性が良く、この
ため高分解能な位置制御が可能なローレンツ電磁力駆動
方式の平面モータ50により、ステージとしての基板テ
ーブル18の駆動装置が構成されていることから、基板
テーブル18の駆動装置を回転モータと送りねじとの組
み合わせにより構成する場合は勿論、基板テーブル18
の駆動装置として可変磁気抵抗駆動方式の平面モータ等
を用いる場合に比べて、基板テーブル18の位置制御性
が向上し、レチクルステージRSTと基板テーブル18
との同期精度の向上、ショット間ステッピング時の位置
決め精度の向上等により、露光精度(重ね合せ精度)の
向上が可能であるとともに、同期整定時間及び位置決め
整定時間の短縮によりスループットの向上が可能にな
る。
As described above, according to the exposure apparatus 100 of the present embodiment, the magnetic circuit is easy to design, the thrust ripple is small, and the linearity of the current and the thrust is good up to a high band. When the driving device of the substrate table 18 as a stage is configured by the Lorentz electromagnetic force driving type planar motor 50 that can perform the driving, the driving device of the substrate table 18 is configured by a combination of a rotary motor and a feed screw. Of course, the substrate table 18
The position controllability of the substrate table 18 is improved as compared with the case where a variable motor driving type flat motor or the like is used as a driving device for the reticle stage RST and the substrate table 18.
Exposure accuracy (overlay accuracy) can be improved by improving the synchronization accuracy with the camera and the positioning accuracy at the time of stepping between shots, and the throughput can be improved by shortening the synchronization settling time and positioning settling time. Become.

【0069】また、固定子60を構成する各電機子コイ
ル44のコイル巻き線64として平角偏平電線が用いら
れていることから、隣り合うコイル巻き線64同士が面
接触をし、隣り合うコイル巻き線同士が線接触をする断
面丸型の電線を使用した場合と比べ、電機子コイル44
における電線の占積率が向上する。従って、電機子コイ
ル44の小型化による平面モータ装置の小型化が可能で
あるとともに、占積率の向上により電流密度を向上させ
ることができ、結果的に発生推力(発生するローレンツ
電磁力)の向上が可能になる。かかる発生推力の向上に
より、基板テーブル18のより高加速な駆動が可能とな
り、この点においてもスループットの向上が可能とな
る。
Further, since a flat rectangular flat wire is used as the coil winding 64 of each armature coil 44 constituting the stator 60, the adjacent coil windings 64 make surface contact with each other, and As compared with the case where a wire having a round cross section in which wires make line contact with each other is used, the armature coil 44
The space factor of the electric wire in is improved. Accordingly, the size of the planar motor device can be reduced by reducing the size of the armature coil 44, and the current density can be improved by improving the space factor. As a result, the generated thrust (generated Lorentz electromagnetic force) can be reduced. Can be improved. The improvement in the generated thrust allows the substrate table 18 to be driven with higher acceleration, and in this respect, the throughput can be improved.

【0070】また、本実施形態では、各電機子コイル4
4はコイル巻き線64の両端部(受電端)64a、64
bがともに当該電機子コイル44の外側に存在するよう
に巻かれているので、何らの困難を伴うことなく、コイ
ルの外側に受電端の双方を配置することができるので、
配線作業を効率化することができる。この場合、前述し
たコイルの上側の配線スペースの確保や、コイル下側の
凹溝の形成等が不要となる。
In this embodiment, each armature coil 4
4 are both ends (power receiving ends) 64a, 64 of the coil winding 64
b is wound so as to be present outside the armature coil 44, so that both the power receiving ends can be arranged outside the coil without any difficulty.
Wiring work can be made more efficient. In this case, it is not necessary to secure the wiring space above the coil and to form the concave groove below the coil.

【0071】また、各電機子コイル44は、当該電機子
コイル44の容器69内配設スペースの高さ寸法に合わ
せて、2つのセグメント42を積層し、かつセグメント
42同士を接着するとともに、各セグメント42を形成
するコイル巻き線64の端部同士を結線して形成された
4層巻き線が用いられている。この場合、各セグメント
42を形成するコイル巻き線64の端部同士をそれぞれ
のセグメントの外側の位置で結線しているので、半田付
け等の結線作業を容易に行なうことができる。。
In addition, each armature coil 44 has two segments 42 laminated in accordance with the height of the space provided in the container 69 for the armature coil 44, and the segments 42 are adhered to each other. A four-layer winding formed by connecting the ends of the coil windings 64 forming the segments 42 is used. In this case, since the ends of the coil windings 64 forming the segments 42 are connected at positions outside the respective segments, connection work such as soldering can be easily performed. .

【0072】さらに、本実施形態では、各電機子コイル
44のコイル支持部材12への実装に先立って、その底
面に一対の端子ピン65a、65bが一体的に設けられ
たモールド部材49が取り付けられ、コイル巻き線64
の両端部64a、64bが一対の端子ピン65a、65
bにそれぞれ接続される。また、コイル支持部材12
は、各電機子コイル44への給電パターン26が形成さ
れたプリント基板66を含んで構成されるとともに、そ
のコイル支持部材12には、各給電パターン26のそれ
ぞれに対応する給電用端子24を有し、各電機子コイル
44の端子ピン65a又は65bが着脱自在に接続され
るソケット22が所定間隔で設けられている。このた
め、コイル支持部材12に設けられたソケット22に各
電機子コイル44に設けられた端子ピン65a、65b
を嵌合するだけで、ワンタッチで、コイル支持部材12
への電機子コイル44の固定と、電流供給のための配線
が完了する。これにより、接着剤による電機子コイル4
4のコイル支持部材12(磁性体部材)への固定作業、
及び各電機子コイル44を電流供給装置に電気的に接続
するための、導線(リード線)を用いた面倒な配線作業
が不要となる。従って、各電機子コイル44の組み付け
作業、配線作業の効率化が可能であり、ベース21の組
立作業が容易となり、ひいては基板ステージ装置30、
更には露光装置100の組立作業の容易化が可能とな
り、これによるコストの低減が可能である。特に、本実
施形態のように、電機子ユニットを固定子側として多数
の電機子コイルが必要となる、平面モータをステージの
駆動源とする場合には、上記の各電機子コイルの組み付
け作業、配線作業の効率化が、装置組み立て時間の短
縮、コスト低減に大きな効果を発揮する。
Further, in this embodiment, prior to mounting each armature coil 44 on the coil support member 12, a mold member 49 having a pair of terminal pins 65a, 65b integrally provided on its bottom surface is attached. , Coil winding 64
Of the pair of terminal pins 65a, 65b.
b. Also, the coil support member 12
Is configured to include a printed board 66 on which a power supply pattern 26 to each armature coil 44 is formed, and the coil support member 12 has a power supply terminal 24 corresponding to each power supply pattern 26. The sockets 22 to which the terminal pins 65a or 65b of each armature coil 44 are detachably connected are provided at predetermined intervals. For this reason, terminal pins 65a, 65b provided on each armature coil 44 are mounted on the socket 22 provided on the coil support member 12.
The coil support member 12
The fixing of the armature coil 44 to the armature and the wiring for current supply are completed. Thereby, the armature coil 4 made of adhesive is
4, fixing work to the coil support member 12 (magnetic member)
In addition, a troublesome wiring operation using a conductive wire (lead wire) for electrically connecting each armature coil 44 to the current supply device becomes unnecessary. Therefore, the work of assembling and wiring the armature coils 44 can be made more efficient, and the work of assembling the base 21 becomes easier.
Furthermore, the assembling work of the exposure apparatus 100 can be facilitated, and thus the cost can be reduced. In particular, as in the present embodiment, a large number of armature coils are required with the armature unit as the stator side. Efficient wiring work has a significant effect on shortening equipment assembly time and cost.

【0073】なお、上記第1の実施形態で説明した端子
ピン65a、65bの配置は一例であり、例えば、電機
子コイル44の別々のコーナー部にモールド部材をそれ
ぞれ取付け、それぞれに端子ピン65a、65bを設け
ることにより、端子ピン65a、65bを電機子コイル
44の別々のコーナー部に配置しても良い。かかる場合
には、電機子コイル44のコイル支持部材12への固定
がより安定する。勿論、この場合には、給電パターンの
配置、ソケットの配置等を上記の端子ピンに合わせる必
要がある。
The arrangement of the terminal pins 65a and 65b described in the first embodiment is merely an example. For example, mold members are attached to separate corners of the armature coil 44, and the terminal pins 65a and With the provision of the terminal pins 65b, the terminal pins 65a and 65b may be arranged at different corners of the armature coil 44. In such a case, the fixing of the armature coil 44 to the coil support member 12 becomes more stable. Of course, in this case, it is necessary to match the arrangement of the power supply pattern, the arrangement of the socket, and the like with the terminal pins.

【0074】《第2の実施形態》次に、本発明の第2の
実施形態を図8及び図9に基づいて説明する。ここで、
前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の構成部分
については、同一の符号を用いるとともに、その説明を
簡略化し若しくは省略するもとする。この第2の実施形
態の露光装置は、基板ステージ装置30を構成する平面
モータ50の固定子60の構成が一部異なるのみで、そ
の他の部分の構成等は前述した第1の実施形態と同一で
あることから、以下では上記の異なる点を中心として説
明する。
<< Second Embodiment >> Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. here,
The same reference numerals are used for the same or equivalent components as those in the first embodiment, and the description thereof will be simplified or omitted. The exposure apparatus according to the second embodiment differs from the exposure apparatus according to the first embodiment only in the configuration of the stator 60 of the planar motor 50 constituting the substrate stage device 30. Therefore, the following description focuses on the different points.

【0075】図8には、この第2の実施形態に係る電機
子コイル44’が一部を切断された状態で示されてい
る。この電機子コイル44’では、平角偏平電線から成
るコイル巻き線を巻回し、該コイル巻き線の両端部(受
電端)64a、64bそれぞれを受電用端子としての端
子ピン65a、65bに半田付け等により接続している
点は、前述した電機子コイル44と同様であるが、コイ
ル巻き線の両端部64a、64bがともに電機子コイル
44’の内側、すなわち中央部の中空部47内に存在す
るようにコイル巻き線が巻回されている点、及びこれに
対応して端子ピン65a、65bが一体的に設けられた
樹脂等の電気的な絶縁体から成るモールド部材49’
が、中空部47内に一体的に取り付けられる点が異な
る。
FIG. 8 shows the armature coil 44 'according to the second embodiment in a state where a part thereof is cut off. In the armature coil 44 ', a coil winding composed of a flat rectangular flat wire is wound, and both ends (power receiving ends) 64a, 64b of the coil winding are soldered to terminal pins 65a, 65b as power receiving terminals. Is similar to the above-described armature coil 44, but both ends 64a and 64b of the coil winding are present inside the armature coil 44 ', that is, in the central hollow portion 47. Member 49 'made of an electrically insulating material such as a resin in which the coil winding is wound and the terminal pins 65a and 65b are integrally provided corresponding to the wound coil winding.
However, they differ in that they are integrally mounted in the hollow portion 47.

【0076】ここで、本第2の実施形態に係る電機子コ
イル44’の製造方法について図9に基づいて説明す
る。
Here, a method of manufacturing the armature coil 44 'according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

【0077】まず、第1の工程として、平角偏平電線か
ら成るコイル巻き線64を従来と同様の手法により、内
側から外側に順次一定方向に巻回した平面視正方形状の
コイル巻き線から成るセグメントを4つ用意する。
First, as a first step, a segment consisting of a coil winding having a square shape in a plan view, in which a coil winding 64 made of a flat rectangular flat wire is sequentially wound in a predetermined direction from the inside to the outside in the same manner as in the prior art. Are prepared.

【0078】次に、図9に示されるように、上記4つの
セグメントを、見かけ上内側から外側にかけて計回りに
巻回されたコイル巻き線64から成る時計回りのセグメ
ント48A1、内側から外側にかけて反時計回りに巻回
されたコイル巻き線64から成る反時計回りのセグメン
ト48B1、時計回りのセグメント48A2、反時計回り
のセグメント48B2の順に積み重ねる。この積み重ね
の際に、1層目のセグメント48A1と2層目のセグメ
ント48B1とは、コイル巻き線64の外側の端部同士
を半田等で結線し、2層目のセグメント48B1と3層
目のセグメント48A2とはコイル巻き線64の内側の
端部同士を結線し、3層目のセグメント48A2と4層
目のセグメント48B2とはコイル巻き線64の外側の
端部同士を結線し、隣接するセグメント間を接着剤によ
り接着することで、両端部(受電端)64a、64bが
ともに内側の中空部に存在する所望の内入れ内出しの4
層のコイル巻き線から成る電機子コイル44’が完成す
る。
Next, as shown in FIG. 9, a clockwise segment 48A 1 composed of a coil winding 64 wound clockwise from an apparently inner side to an outer side, and from the inner side to the outer side. counterclockwise segment 48B 1 including a coil winding 64 wound counter-clockwise, clockwise segment 48A 2, stacked in this order counterclockwise segment 48B 2. During this stacking, the first layer of segments 48A 1 and segment 48B 1 of the second layer, and connecting the ends of the outer coil winding 64 with solder or the like, of the second layer segments 48B 1 and 3 the segment 48A 2 layers th and connect the ends of the inner coil winding 64, the outer ends of the coil winding 64 is 3-layer segments 48A 2 and the fourth layer of the segment 48B 2 By connecting and adhering the adjacent segments with an adhesive, both ends (power receiving ends) 64a and 64b of the desired inner and inner 4 are present in the inner hollow portion.
An armature coil 44 'consisting of layers of coil windings is completed.

【0079】但し、実際には、コイルの内側において半
田付け等の結線作業を行うのは技術的に熟練度を要する
ので、上記第2の工程おいては、セグメントの積層完了
後に半田付けをするのではなく、2層目のセグメント4
8B1と3層目のセグメント48A2との間を予め結線し
ておき、その後に1層目のセグメント48A1と2層目
のセグメント48B1との結線および3層目のセグメン
ト48A2と4層目のセグメント48B2の結線をする
か、あるいは1層目〜4層目の順番に上方へセグメント
を積み重ねながら随時結線をしていくことが望ましい。
However, in practice, it is technically necessary to perform a wiring work such as soldering inside the coil, so that technical skill is required. Therefore, in the second step, the soldering is performed after the lamination of the segments is completed. Instead of segment 4 of the second layer
8B 1 and advance connection between the third layer segments 48A 2, then the first layer of segments 48A 1 and second layer segment 48B 1 segment 48A 2 of connection and the third layer 4 or the connection segments 48B 2 layers th or it is desirable to continue to at any time connected with stacking the segments upward in the order of the first layer to fourth layer.

【0080】なお、2層目、3層目のセグメント間の内
側における半田等による結線を省略するため、セグメン
ト48A2、48B1の代わりに第1の実施形態における
セグメント42を使用しても良い。かかる場合には、1
層目と4層目にはセグメント48A1、48B2をそのま
ま用いることで、半田等による結線作業をすべて外側で
行うことが可能となる。
[0080] Incidentally, the second layer, in order to omit the connection by soldering or the like on the inside between the third layer segments may be used a segment 42 of the first embodiment, instead of the segment 48A 2, 48B 1 . In such a case, 1
By using the segments 48A 1 and 48B 2 as they are for the fourth layer and the fourth layer, it is possible to perform all the connection work using solder or the like outside.

【0081】そして、上述の如くして製造された、各電
機子コイル44’に、モールド部材49’を取付け、コ
イル巻き線の両端部64a、64bと端子ピン65a、
65bとの接続を行うことにより、図8に示される端子
ピン一体型の電機子コイル44’が完成する。
Then, a mold member 49 'is attached to each armature coil 44' manufactured as described above, and both ends 64a, 64b of the coil winding and terminal pins 65a,
By making the connection with the terminal pin 65b, the armature coil 44 'integrated with the terminal pins shown in FIG. 8 is completed.

【0082】また、図示は省略したが、本第2の実施形
態で用いられるコイル支持部材12は、基本的には前述
した第1の実施形態と同様に構成されるが、前記端子ピ
ン65a、65bの位置に対応する位置にソケット22
がそれぞれ設けられ、プリント基板66には該ソケット
22に接続された受電用端子24にそれぞれ対応して給
電パターン26が形成されている。
Although not shown, the coil supporting member 12 used in the second embodiment is basically configured in the same manner as in the first embodiment, except that the terminal pins 65a, The socket 22 is located at a position corresponding to the position 65b.
And a power supply pattern 26 is formed on the printed board 66 so as to correspond to each of the power receiving terminals 24 connected to the socket 22.

【0083】従って、それぞれの電機子コイル44’を
コイル支持部材12上に実装するに際しては、各電機子
コイル44’にモールド部材49’を介して一体化さ
れ、電気的な接続が完了した端子ピン65a、65bを
対応するソケット22にそれぞれ接続(嵌合)するだけ
で、ワンタッチにて、各電機子コイル44’のコイル支
持部材12への物理的な固定と、給電用パターン26を
介して不図示の電流供給装置に接続された給電用端子2
4に対する電気的な接続とを完了することができる。
Therefore, when mounting each armature coil 44 ′ on the coil support member 12, the terminal which has been integrated with each armature coil 44 ′ via the molding member 49 ′ and has been electrically connected is completed. By simply connecting (fitting) the pins 65a and 65b to the corresponding sockets 22, respectively, the armature coils 44 'are physically fixed to the coil support member 12 via the power supply pattern 26 with one touch. Power supply terminal 2 connected to a current supply device (not shown)
4 can be completed.

【0084】その他の部分の構成、作用等は、前述した
第1の実施形態と同様になっている。
The configuration, operation, and the like of the other parts are the same as those of the first embodiment.

【0085】このようにして構成された本第2の実施形
態の露光装置によると、前述した第1の実施形態と同等
の効果を得られる他、電機子コイル44’の中空部(内
側)に両端部64a、64b及び2つの端子ピン65
a、65bが存在するので、隣接する電機子コイル4
4’同士を一層近接させた状態でコイル支持部材12上
に配置することができるとともに、各電機子コイル4
4’が中空部47部分においてコイル支持部材12に固
定されるので、振動などで各電機子コイル44,44’
がコイル支持部材12から外れ難いという効果がある。
According to the exposure apparatus of the second embodiment configured as described above, the same effects as those of the above-described first embodiment can be obtained. Both ends 64a, 64b and two terminal pins 65
a, 65b are present, so that the adjacent armature coils 4
4 ′ can be arranged on the coil supporting member 12 in a state of being brought closer to each other, and each armature coil 4 ′
4 'is fixed to the coil supporting member 12 at the hollow portion 47, so that the armature coils 44, 44'
Has an effect that it is difficult to separate from the coil support member 12.

【0086】なお、上記第1、第2の実施形態では、コ
イル支持部材12が、給電パターン26が形成されたプ
リント基板66を含み、各給電パターン26毎にソケッ
ト22が設けられた場合について説明したが、本発明が
これに限定されることはなく、プリント基板を設けるこ
となく、各ソケット22に接続された給電用端子24と
電流供給装置とをリード線等によって電気的に接続して
も良い。かかる場合であっても、複数の電機子コイル4
4を支持する支持部材に、各電機子コイルの一対の端子
ピンにそれぞれ対応する給電用端子を有し、前記端子ピ
ンが着脱自在に接続されるソケット22を複数所定間隔
で設けることにより、支持部材に設けられたソケット2
2に電機子コイル44に設けられた端子ピン65a、6
5bを嵌合するだけで、ワンタッチで、支持部材への電
機子コイルの固定と、電流供給のための配線が完了する
ので、電機子コイルの組み付け作業、ひいては装置の組
み立て作業を容易にすることができる。
In the first and second embodiments, the case where the coil supporting member 12 includes the printed board 66 on which the power supply pattern 26 is formed, and the socket 22 is provided for each power supply pattern 26 will be described. However, the present invention is not limited to this, and the power supply terminal 24 connected to each socket 22 and the current supply device may be electrically connected by a lead wire or the like without providing a printed circuit board. good. Even in such a case, the plurality of armature coils 4
4 is provided on a supporting member for supporting the power supply terminals 4 corresponding to a pair of terminal pins of each armature coil, and a plurality of sockets 22 to which the terminal pins are detachably connected are provided at predetermined intervals. Socket 2 provided on member
2. Terminal pins 65a, 6 provided on the armature coil 44
Just by fitting 5b, one-touch fixation of the armature coil to the support member and wiring for current supply are completed. Can be.

【0087】また、上記実施形態で説明したソケット2
2も必ずしも設ける必要はない。すなわち、各電機子コ
イルに、電気的絶縁体から成り所定の一方の面に一対の
受電用端子(上記実施形態では端子ピン65a、65
b)が一体的に設けられたモールド部材が取り付けら
れ、コイル巻き線64の両端部が一対の受電用端子にそ
れぞれ接続されていれば、各電機子コイルを組み付ける
際に、受電用端子をこれに対応する給電用端子に接続す
るのみで、電機子コイルに対する給電のための電気的な
接続が完了し、組み付け時に半田等を用いて受電用端子
と電機子コイルの端部とを結線する等の作業が不要とな
り、組み付け作業(配線作業)が容易となるからであ
る。
The socket 2 described in the above embodiment
2 need not necessarily be provided. That is, each armature coil is made of an electrical insulator and a pair of power receiving terminals (terminal pins 65a, 65
b) is attached, and if both ends of the coil winding 64 are respectively connected to a pair of power receiving terminals, the power receiving terminals are connected to each other when assembling each armature coil. By simply connecting to the power supply terminal corresponding to the above, the electrical connection for power supply to the armature coil is completed, and the power receiving terminal and the end of the armature coil are connected using solder or the like at the time of assembly. This is because the work of (1) becomes unnecessary, and the assembling work (wiring work) becomes easy.

【0088】さらに、上記各実施形態で説明したモール
ド部材も必ずしも設ける必要はない。すなわち、例えば
上記第1の実施形態に係る電機子コイル44を構成する
隣接層のセグメント42を形成するコイル巻き線64の
端部同士を外側の所望の位置、例えばそれぞれのセグメ
ントの外側の4隅の位置で結線すると、上記実施形態と
同様に、平面視角型の電機子コイルを複数隣接してマト
リクス状に配列させる場合に、隣接コイルとの間に生じ
るデッドスペース(4つの電機子コイルの角の部分が集
中するスペース)にその結線部の半田のはみ出しを位置
させることができるので、電機子コイルの配置の密集度
を向上させることができ、結果的にスペース効率の向上
が可能だからである。
Further, it is not always necessary to provide the mold member described in each of the above embodiments. That is, for example, the ends of the coil windings 64 that form the segments 42 of the adjacent layers constituting the armature coil 44 according to the first embodiment are placed at desired outside positions, for example, at the four outside corners of each segment. When the plurality of armature coils are arranged adjacent to each other in the form of a matrix in the same manner as in the above embodiment, the dead space (the corners of the four armature coils) This is because the protrusion of the solder of the connection portion can be located in the space where the portion is concentrated), so that the density of the arrangement of the armature coils can be improved, and as a result, the space efficiency can be improved. .

【0089】また、上記第1、第2の実施形態では、共
に4層巻きの電機子コイルを用いる場合について説明し
たが、本発明がこれに限定されるものではなく、要は、
電機子コイル1個当たりの配設スペースとして予定され
た空間に合わせて、セグメントの数(層数)を決定すれ
ば良い。このようにすると、その空間の形状に合わせた
コイルを作成することができる。また、任意の厚みのセ
グメントを従来の手法により大量生産し、例えば各セグ
メントを交互に裏表にして偶数層積層し、かつセグメン
ト間を接着し、隣接層のセグメントを形成するコイル巻
き線の端部同士を結線することにより内入れ内出しのコ
イルや外入れ外出しのコイルを簡単に製造することがで
きる。
In the first and second embodiments, the case where a four-layer armature coil is used has been described. However, the present invention is not limited to this.
The number of segments (the number of layers) may be determined in accordance with the space that is to be arranged as the arrangement space per armature coil. By doing so, it is possible to create a coil that matches the shape of the space. In addition, segments having an arbitrary thickness are mass-produced by a conventional method. For example, each segment is alternately turned upside down, an even number of layers are stacked, and the segments are bonded to form an end portion of a coil winding that forms a segment of an adjacent layer. By connecting them together, it is possible to easily manufacture a coil that is put in and put out and a coil that is put in and out.

【0090】なお、上記第1、第2の実施形態では、電
機子コイルのコイル巻き線に偏平平角電線を使用した
が、例えば、スペース的に余裕がある場合には、コイル
巻き線として安価な断面が丸型の電線を使用しても良
い。
In the first and second embodiments, the flat rectangular electric wire is used for the coil winding of the armature coil. However, for example, if there is room in space, the coil winding is inexpensive. An electric wire having a round cross section may be used.

【0091】また、上記各実施形態では、可動子51を
浮上支持するエアスライダを構成する気体静圧軸受けか
ら加圧気体として加圧空気がガイド面に対して噴出され
る場合について説明したが、これに限らず、例えばAr
FエキシマレーザやF2レーザを露光光源とし、露光装
置のチャンバ内に窒素、あるいはヘリウムを充填させる
ような環境下では、加圧気体としてのそれらのガスを用
いれば良い。
In each of the above embodiments, a case has been described in which pressurized air is blown out to the guide surface as pressurized gas from a gas static pressure bearing constituting an air slider that levitates and supports the mover 51. Not limited to this, for example, Ar
In an environment in which an F excimer laser or an F 2 laser is used as an exposure light source and nitrogen or helium is filled in a chamber of the exposure apparatus, these gases may be used as a pressurized gas.

【0092】なお、上記各実施形態では、本発明が電磁
力駆動方式の平面モータに適用され、電機子コイルがマ
トリクス状に配置された場合について説明したが、これ
に限らず、複数の電機子コイルを、所定の一軸方向に沿
って所定間隔で配置するリニアモータにも本発明は適用
可能である。
In each of the above embodiments, the case where the present invention is applied to an electromagnetic force driving type flat motor and armature coils are arranged in a matrix has been described. However, the present invention is not limited to this. The present invention is also applicable to a linear motor in which coils are arranged at predetermined intervals along a predetermined uniaxial direction.

【0093】図10には、本発明に係るモータ装置の他
の実施形態として、円筒型リニアモータ(シャフトモー
タ)73が示されている。このシャフトモータ73は、
多数の円柱型永久磁石から成る磁極ユニット72と、こ
の周囲に装着され、磁極ユニット72との間に生じるロ
ーレンツ電磁力により磁極ユニット72に沿って駆動さ
れる電機子ユニット71とを備えている。電機子ユニッ
ト71を構成する電機子コイル44としてコイル巻き線
の両端部がともにコイルの外側に存在する電機子コイル
が用いられている。
FIG. 10 shows a cylindrical linear motor (shaft motor) 73 as another embodiment of the motor device according to the present invention. This shaft motor 73 is
The magnetic pole unit 72 includes a plurality of cylindrical permanent magnets, and an armature unit 71 mounted around the magnetic pole unit 72 and driven along the magnetic pole unit 72 by Lorentz electromagnetic force generated between the magnetic pole unit 72 and the magnetic pole unit 72. As the armature coil 44 constituting the armature unit 71, an armature coil having both ends of the coil winding outside the coil is used.

【0094】この図10のシャフトモータ73では、従
来のリニアモータで使用されていた電機子コイルのよう
に片方の端部を内側から外側へ引き出して配線をすると
いうことが無くなるので、隣り合う電機子コイルの間隔
を狭くすることができ、シャフトモータ73の発生推力
の向上を図ることができる。従って、このシャフトモー
タ73をXY2次元方向に配置し、これによってステー
ジを駆動する駆動装置を構成すれば、高加速駆動が可能
で、ステージの位置制御性に優れたステージ装置が実現
される。そして、このステージ装置を、例えば、上記実
施形態と同様の走査型露光装置のマスク又は基板の駆動
装置として用いることにより、上述した実施形態と同様
に、露光精度の向上とスループットの向上とを実現する
ことができる。
In the shaft motor 73 shown in FIG. 10, unlike the armature coil used in the conventional linear motor, one end is not drawn out from the inside to the outside, and wiring is not performed. The distance between the child coils can be reduced, and the thrust generated by the shaft motor 73 can be improved. Therefore, if the shaft motor 73 is arranged in the XY two-dimensional directions to form a driving device for driving the stage, a stage device that can perform high acceleration driving and has excellent stage position controllability is realized. And, by using this stage device, for example, as a drive device of a mask or a substrate of a scanning type exposure apparatus similar to the above-described embodiment, an improvement in exposure accuracy and an improvement in throughput are realized as in the above-described embodiment. can do.

【0095】なお、コイル巻き線の両方の端部が電機子
コイルの内側に存在する電機子コイルをシャフトモータ
に用いても上述の2つの端部が外側に存在する電機子コ
イルを使用したシャフトモータ73と同等の効果を得る
ことができる。
Note that even if an armature coil in which both ends of the coil winding exist inside the armature coil is used for the shaft motor, the shaft using the armature coil in which the above two ends exist outside the armature coil. An effect equivalent to that of the motor 73 can be obtained.

【0096】また、上記第1、第2の実施形態では、本
発明に係るモータ装置及びステージ装置がスキャニング
・ステッパの基板の駆動装置に適用された場合について
説明したが、これに限らず、例えばレチクルの駆動装置
に本発明に係るモータ装置及びステージ装置を適用する
ことも可能である。また、本発明に係るモータ装置及び
ステージ装置は、スキャニング・ステッパ等の走査型露
光装置に限らず、ステップ・アンド・リピート方式のス
テッパ等の静止露光型の露光装置における基板の駆動装
置にも適用できる。かかる場合、組み立て作業の容易化
によるコストの低減、基板の位置決め精度の向上による
露光精度(重ね合せ精度)の向上と、位置決め時間の短
縮によるスループットの向上が可能になる。
Further, in the first and second embodiments, the case where the motor device and the stage device according to the present invention are applied to the driving device of the substrate of the scanning stepper has been described. The motor device and the stage device according to the present invention can be applied to a reticle driving device. In addition, the motor device and the stage device according to the present invention are not limited to a scanning exposure device such as a scanning stepper, but are also applicable to a substrate driving device in a static exposure type exposure device such as a step-and-repeat type stepper. it can. In such a case, the cost can be reduced by facilitating the assembly work, the exposure accuracy (overlay accuracy) can be improved by improving the positioning accuracy of the substrate, and the throughput can be improved by shortening the positioning time.

【0097】なお、本発明は、投影光学系を用いること
なくマスクと基板とを密接させてマスクのパターンを基
板に転写するプロキシミティ露光装置にも適用すること
ができる。
The present invention can be applied to a proximity exposure apparatus for transferring a mask pattern onto a substrate by bringing the mask and the substrate into close contact without using a projection optical system.

【0098】また、本発明は、露光用照明光としてDU
V光を用いる露光装置に限らず、ArFエキシマレーザ
光やFレーザ光(波長157nm)等の真空紫外(V
UV)光を用いる露光装置は勿論、波長5〜30nm程
度の軟X線領域の光(いわゆるEUV光)を用いる露光
装置、更には、電子線露光装置等の荷電粒子線露光装置
などの露光装置にも好適に適用できる。
The present invention also relates to a DU as exposure illumination light.
Not only to an exposure apparatus using V light, ArF excimer laser light or F 2 laser beam (wavelength: 157 nm) or the like of the vacuum ultraviolet (V
Not only an exposure apparatus using UV light, but also an exposure apparatus using light in the soft X-ray region (so-called EUV light) having a wavelength of about 5 to 30 nm, and an exposure apparatus such as a charged particle beam exposure apparatus such as an electron beam exposure apparatus It can also be applied suitably.

【0099】投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍
および拡大系のいずれでも良い。投影光学系としては、
エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材とし
て石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F
2レーザやX線を用いる場合は反射屈折系または反射系
の光学系(レチクルも反射型タイプのものを用いる)に
し、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レ
ンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いれば良い。
なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはい
うまでもない。
The magnification of the projection optical system may be not only a reduction system but also any of an equal magnification and an enlargement system. As the projection optical system,
When far ultraviolet rays such as an excimer laser are used, a material that transmits far ultraviolet rays such as quartz or fluorite is used as the glass material.
2 When using a laser or X-ray, use a catadioptric or reflective optical system (use a reticle of a reflective type). When using an electron beam, use an electron lens and deflector as the optical system. An electron optical system may be used.
It goes without saying that the optical path through which the electron beam passes is in a vacuum state.

【0100】露光装置の用途としては半導体製造用の露
光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスブ
レートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光
装置や、薄膜磁気へッドを製造するための露光装置にも
広く適用できる。
The application of the exposure apparatus is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor. For example, an exposure apparatus for a liquid crystal for exposing a liquid crystal display element pattern to a square glass plate or a thin film magnetic head may be used. It can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing.

【0101】更に、本発明に係るモータ装置及びステー
ジ装置は、露光装置以外の装置、例えば検査装置や基板
搬送装置等のステージを備えた装置にも好適に適用でき
る。
Further, the motor device and the stage device according to the present invention can be suitably applied to devices other than the exposure device, for example, devices having a stage such as an inspection device and a substrate transfer device.

【0102】なお、複数のレンズから構成される照明光
学系及び投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整
するとともに、レチクルステージRST及び電機子コイ
ル44又は44’が組み込まれたステージ装置30を露
光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合
調整(電機調整、動作確認等)をすることにより上記各
実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露
光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリ
ーンルームで行うことが望ましい。
The illumination optical system and the projection optical system composed of a plurality of lenses are incorporated in the main body of the exposure apparatus for optical adjustment, and the stage apparatus 30 incorporating the reticle stage RST and the armature coil 44 or 44 ′ is exposed. The exposure apparatus according to each of the above-described embodiments can be manufactured by attaching the apparatus to the apparatus main body, connecting wirings and pipes, and further performing comprehensive adjustments (electric machine adjustment, operation confirmation, and the like). It is desirable that the manufacture of the exposure apparatus be performed in a clean room in which the temperature, cleanliness, and the like are controlled.

【0103】また、半導体デバイスは、デバイスの機能
・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づい
たレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエ
ハを製作するステップ、前述した各実施形態の露光装置
により所定のパターンをウエハに転写するステップ、デ
バイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディン
グ工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経
て製造される。
The semiconductor device has a step of designing the function and performance of the device, a step of manufacturing a reticle based on the design step, a step of manufacturing a wafer from a silicon material, and a predetermined step by the exposure apparatus of each of the above-described embodiments. Is manufactured through a step of transferring the pattern to a wafer, a step of assembling a device (including a dicing step, a bonding step, and a package step), an inspection step, and the like.

【0104】[0104]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜9に記
載の各発明によれば、小型化及び組み立て作業の効率化
によるコストの低減を可能とし、かつ制御性に優れたモ
ータ装置を提供するができる。
As described above, according to the first to ninth aspects of the present invention, it is possible to reduce the cost by reducing the size and increasing the efficiency of the assembling work, and to provide a motor device excellent in controllability. Can be provided.

【0105】また、請求項10に記載の発明によれば、
組み立て作業の容易化及びコストの低減を図ることがで
きるとともに、ステージの位置制御性の向上が可能なス
テージ装置を提供することができる。
According to the tenth aspect of the present invention,
It is possible to provide a stage device capable of facilitating the assembling work and reducing the cost and improving the controllability of the position of the stage.

【0106】更に、請求項11に記載の発明によれば、
露光精度及びスループットをともに向上させることがで
き、かつコストの低減が可能な露光装置を提供すること
ができる。
Further, according to the eleventh aspect of the present invention,
An exposure apparatus capable of improving both the exposure accuracy and the throughput and reducing the cost can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態の露光装置の概略構成を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an exposure apparatus according to a first embodiment.

【図2】図1のステージ装置を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the stage device of FIG.

【図3】図3(A)は磁極ユニットを示す底面図、図3
(B)は図3(A)を−Y方向から見た側面図、図3
(C)は図3(A)のB−B線断面図である。
FIG. 3A is a bottom view showing a magnetic pole unit, and FIG.
3B is a side view of FIG. 3A viewed from the −Y direction, and FIG.
FIG. 3C is a sectional view taken along line BB of FIG.

【図4】図1のベースの内部構成を示す縦断面図であ
る。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an internal configuration of the base of FIG. 1;

【図5】電機子コイルの支持部材への実装方法を説明す
るための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of mounting an armature coil on a support member.

【図6】図6(A)〜(C)は、第1の実施形態に係る
電機子コイルの製造方法を説明するための図である。
FIGS. 6A to 6C are diagrams for explaining a method of manufacturing the armature coil according to the first embodiment.

【図7】プリント基板に形成された給電パターンの一例
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a power supply pattern formed on a printed circuit board.

【図8】第2の実施形態に係る電機子コイルを示す一部
切断した斜視図である。
FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing an armature coil according to a second embodiment.

【図9】第2の実施形態に係る電機子コイルの製造方法
を説明するための図である。
FIG. 9 is a view for explaining a method for manufacturing an armature coil according to the second embodiment.

【図10】本発明に係るモータ装置の他の実施形態を示
す図である。
FIG. 10 is a view showing another embodiment of the motor device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…コイル支持部材(支持部材)、18…基板テーブ
ル(ステージ)、21…ベース(モータ装置の一部)、
22…ソケット、24…給電用端子、26…給電パター
ン、30…基板ステージ装置(ステージ装置)、42…
セグメント、44…電機子コイル、49…モールド部
材、51…可動子(磁極ユニット、モータ装置の一
部)、61…平板状コイル群(電機子ユニット)、64
…コイル巻き線、65a、65b…端子ピン(受電用端
子)、66…プリント基板、100…露光装置、R…レ
チクル(マスク)、W…ウエハ(基板)。
12: coil support member (support member), 18: substrate table (stage), 21: base (part of motor device),
Reference numeral 22: socket, 24: power supply terminal, 26: power supply pattern, 30: substrate stage device (stage device), 42 ...
Segment, 44: Armature coil, 49: Mold member, 51: Mover (magnetic pole unit, part of motor device), 61: Flat coil group (armature unit), 64
... Coil winding, 65a, 65b ... Terminal pins (power receiving terminals), 66 ... Printed circuit board, 100 ... Exposure device, R ... Reticle (mask), W ... Wafer (substrate).

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Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電機子コイルを複数含む電機子ユニット
と、前記電機子コイルとの間に生じる電磁相互作用によ
って所定方向の駆動力を発生する磁石を有する磁極ユニ
ットとを備えたモータ装置において、 前記各電機子コイルは、そのコイル巻き線の両端部がと
もに当該コイルの外側又は内側に存在するように巻かれ
ていることを特徴とするモータ装置。
1. A motor device comprising: an armature unit including a plurality of armature coils; and a magnetic pole unit having a magnet that generates a driving force in a predetermined direction by an electromagnetic interaction generated between the armature coils. The motor device, wherein each of the armature coils is wound such that both ends of the coil winding are present outside or inside the coil.
【請求項2】 前記各電機子コイルは、積層された複数
のセグメントを有し、各セグメント間が接着され、隣接
層のセグメントを形成するコイル巻き線の端部同士を結
線して形成されていることを特徴とする請求項1に記載
のモータ装置。
2. Each of the armature coils includes a plurality of stacked segments, the segments are bonded to each other, and formed by connecting ends of coil windings forming segments of adjacent layers. The motor device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記隣接層のセグメントを形成するコイ
ル巻き線の端部同士が所望の位置で結線されていること
を特徴とする請求項2に記載のモータ装置。
3. The motor device according to claim 2, wherein the ends of the coil windings forming the segments of the adjacent layers are connected at desired positions.
【請求項4】 前記各電機子コイルのコイル巻き線は、
平角偏平電線であることを特徴とする請求項1〜3のい
ずれか一項に記載のモータ装置。
4. A coil winding of each armature coil,
The motor device according to any one of claims 1 to 3, wherein the motor device is a flat rectangular electric wire.
【請求項5】 前記各電機子コイルには、電気的絶縁体
から成り所定の一方の面に一対の受電用端子が一体的に
設けられたモールド部材が取り付けられ、前記コイル巻
き線の両端部が前記一対の受電用端子にそれぞれ接続さ
れていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項
に記載のモータ装置。
5. Each of the armature coils is provided with a mold member made of an electrical insulator and integrally provided with a pair of power receiving terminals on one predetermined surface, and both end portions of the coil winding. 5. The motor device according to claim 1, wherein the motor device is connected to the pair of power receiving terminals. 6.
【請求項6】 前記複数の電機子コイルを支持する支持
部材を更に備え、該支持部材には、前記各電機子コイル
の前記一対の受電用端子のそれぞれに対応する給電用端
子を有し、前記受電用端子が着脱自在に接続されるソケ
ットが複数所定間隔で設けられていることを特徴とする
請求項5に記載のモータ装置。
6. A power supply terminal corresponding to each of the pair of power receiving terminals of each of the armature coils, further comprising a support member for supporting the plurality of armature coils, The motor device according to claim 5, wherein a plurality of sockets to which the power receiving terminal is detachably connected are provided at predetermined intervals.
【請求項7】 前記支持部材は、前記各電機子コイルへ
の給電パターンが形成されたプリント基板を有し、前記
ソケットは、前記各給電パターン毎に設けられているこ
とを特徴とする請求項6に記載のモータ装置。
7. The power supply device according to claim 1, wherein the support member has a printed circuit board on which a power supply pattern to each of the armature coils is formed, and the socket is provided for each of the power supply patterns. 7. The motor device according to 6.
【請求項8】 前記複数の電機子コイルは、所定の一軸
方向に沿って所定間隔で配置されていることを特徴とす
る請求項1〜7のいずれか一項に記載のモータ装置。
8. The motor device according to claim 1, wherein the plurality of armature coils are arranged at predetermined intervals along a predetermined uniaxial direction.
【請求項9】 前記複数の電機子コイルは、マトリクス
状に配置されていることを特徴とする請求項1〜7のい
ずれか一項に記載のモータ装置。
9. The motor device according to claim 1, wherein the plurality of armature coils are arranged in a matrix.
【請求項10】 請求項8又は請求項9に記載のモータ
装置と;前記モータ装置によって駆動されるステージと
を備えることを特徴とするステージ装置。
10. A stage device comprising: the motor device according to claim 8; and a stage driven by the motor device.
【請求項11】 マスクに形成されたパターンを基板上
に転写する露光装置であって、 前記マスク及び基板の少なくとも一方の駆動装置とし
て、請求項10に記載のステージ装置を具備することを
特徴とする露光装置。
11. An exposure apparatus for transferring a pattern formed on a mask onto a substrate, comprising: the stage device according to claim 10 as a driving device for at least one of the mask and the substrate. Exposure equipment.
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