JP2001024209A - Radiation imaging device - Google Patents

Radiation imaging device

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JP2001024209A
JP2001024209A JP11193533A JP19353399A JP2001024209A JP 2001024209 A JP2001024209 A JP 2001024209A JP 11193533 A JP11193533 A JP 11193533A JP 19353399 A JP19353399 A JP 19353399A JP 2001024209 A JP2001024209 A JP 2001024209A
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JP
Japan
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imaging apparatus
radiation imaging
line
pixels
scanning line
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Application number
JP11193533A
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Japanese (ja)
Inventor
Manabu Tanaka
学 田中
Takayuki Tomizaki
隆之 富崎
Mitsushi Ikeda
光志 池田
Masaki Atsuta
昌己 熱田
Akira Konno
晃 金野
Kohei Suzuki
公平 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize high-speed reading-out by decreasing burden of resistor of a leading-out wire on a voltage loading means, and decreasing delay of signal voltage that controls a picture element, without leading to pulse delay in a large array. SOLUTION: A picture element is comprised of a reading-out TFT, a picture element electrode 3, a signal reading-out line (signal line) 5, a gate line (scanning line) 7, a ground line (auxiliary electrode) 9, an X-ray (light) charge conversion film 11, a common electrode 13 and a picture element capacity. A structure wherein a pair of driver ICs (voltage loading means) provided on left and right of a detecting array 17 drive the scanning line 7 is employed. Concretely, a contact pad 19 to an external driver IC is provided on left and right of the detecting array 17 to connect the scanning line 7 and the external driver IC provided outside of the detecting array 17 with the pad in between, thereby each scanning line 7 is driven.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、X線等の放射線を
利用した医用診断装置の放射線撮像装置及びその修理方
法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a radiation imaging apparatus for a medical diagnostic apparatus using radiation such as X-rays and a repair method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医療分野においては、治療を迅速
的確に行う目的で患者の医療データをデータベース化す
る要請がある。これは、患者は複数の医療機関を利用す
ることが一般的であり、この様な場合、他の医療機関で
の診療結果や投与された薬剤等、患者個々に関するデー
タを複数の医療機関間で共有する必要があるためであ
る。かかる医療データとしてX線撮影の画像データにつ
いてもデータベース化の要求があり、データの流通性や
汎用性を確保するため、X線撮影画像のディジタル化が
望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the medical field, there has been a demand for creating a database of medical data of patients for the purpose of performing treatment quickly and accurately. This is because patients generally use multiple medical institutions, and in such cases, data on individual patients, such as the results of treatment at other medical institutions and administered drugs, are exchanged between multiple medical institutions. This is because they need to be shared. As medical data, there is also a demand for a database of X-ray imaging image data, and digitization of X-ray imaging images is desired in order to secure data distribution and versatility.

【0003】従前において医用X線診断装置では、従来
銀塩フィルムを使用して撮影してきたことから、これを
ディジタル化するためには撮影したフィルムを現像した
後、再度スキャナ等で走査する必要があり、手間や時間
がかかっていた。最近は1インチ程度のCCDカメラを
使用し、直線画像をディジタル化する方式が実現されて
いる。
[0003] Conventionally, in a medical X-ray diagnostic apparatus, imaging has been conventionally performed using a silver halide film. To digitize the image, it is necessary to develop the captured film and scan it again with a scanner or the like. Yes, it was troublesome and time consuming. Recently, a method of digitizing a linear image using a CCD camera of about 1 inch has been realized.

【0004】しかし、例えば肺の撮影をする場合には、
40cm×40cm程度の領域を撮影することから、光
を集光するための光学装置が必要であり、装置の大型化
が問題になっている。
However, for example, when taking a picture of a lung,
Since an area of about 40 cm × 40 cm is photographed, an optical device for condensing light is required, and there is a problem in that the size of the device is increased.

【0005】これら2方式についての問題を解決する方
式として、a−Si−TFT(アモルファスシリコン薄
膜トランジスタ)を用いたX線撮像装置が提案されてい
る。このX線平面検出器の構成を図9に示し、以下に動
作の説明をする。
As a method for solving the problems of these two methods, an X-ray imaging device using an a-Si-TFT (amorphous silicon thin film transistor) has been proposed. The configuration of this X-ray flat panel detector is shown in FIG. 9, and the operation will be described below.

【0006】同図において画像e1,1〜e2000,
2000は、a−Si−TFT105と、光電変換膜1
01及び画素容量(以下Cstとする。)103とから
構成された画素であり、これらの画素eは、縦横の各辺
に数百個から数千個並んだアレイ状に配置され、TFT
アレイを構成している。
In FIG. 1, images e1, 1 to e2000,
2000 denotes an a-Si-TFT 105 and a photoelectric conversion film 1
01 and a pixel capacitor (hereinafter, referred to as Cst) 103. These pixels e are arranged in an array in which hundreds to thousands of pixels are arranged on each side in the vertical and horizontal directions.
Make up an array.

【0007】前記光電変換膜101には、電源109に
よってバイアス電圧が印加される。a−Si−TFT1
05は、信号線S1,S2,…S2000と走査線G
1,G2…G2000に接続されており、各画素のa−
Si−TFT105は、水平走査シフトレジスタ(走査
線駆動回路)113によってそのオン・オフが制御され
る。
[0007] A bias voltage is applied to the photoelectric conversion film 101 by a power supply 109. a-Si-TFT1
05 are signal lines S1, S2,... S2000 and scanning lines G
1, G2... G2000, and a-
ON / OFF of the Si-TFT 105 is controlled by a horizontal scanning shift register (scanning line driving circuit) 113.

【0008】信号線S1,S2,…S2000の終端
は、切り替えスイッチ107を介して信号検出用の増幅
器115に接続している。また、切り換えスイッチ10
7は、垂直走査シフトレジスタ(信号線駆動回路)11
1によって制御される。さらに、これらの信号線S1,
S2,…S2000には、画素から読み出された信号が
受け渡される積分アンプ114が設けられている。
The ends of the signal lines S1, S2,... S2000 are connected to a signal detection amplifier 115 via a changeover switch 107. Further, the changeover switch 10
7 is a vertical scanning shift register (signal line driving circuit) 11
1 is controlled. Further, these signal lines S1,
S2,..., S2000 are provided with an integrating amplifier 114 for receiving a signal read from a pixel.

【0009】そして、画素eに光が入射すると光電変換
膜101に電流が流れ、Cst103に電荷が蓄積され
る。走査線駆動回路113で走査線を駆動し1つの走査
線に接続している全てのTFTをオンにすると、蓄積さ
れた電荷は信号線S1を通って増幅器114側に転送さ
れる。そして、切り替えスイッチ107で、1画素ごと
に電荷を増幅器114に入力し、CRT等に表示できる
ような点順次信号に変換する。このとき画素に入射する
光の量によって電荷量が異なり、増幅器114の出力振
幅は変化する。
When light is incident on the pixel e, a current flows through the photoelectric conversion film 101, and charges are accumulated in the Cst 103. When the scanning line is driven by the scanning line driving circuit 113 to turn on all the TFTs connected to one scanning line, the accumulated charges are transferred to the amplifier 114 through the signal line S1. Then, the changeover switch 107 inputs the electric charge for each pixel to the amplifier 114 and converts the electric charge into a dot-sequential signal that can be displayed on a CRT or the like. At this time, the amount of charge varies depending on the amount of light incident on the pixel, and the output amplitude of the amplifier 114 changes.

【0010】このように図9に示す方式では、増幅器1
14の出力信号をA/D変換することで、直接ディジタ
ル画像にすることが出来る。更に、図中の画素領域は、
ノートパソコン等に使用されているTFT−LCD(薄
膜トランジスタ液晶ディスプレイ)と同様な構造であ
り、薄型、大画面のものが技術的には比較的容易に製作
が可能である。
As described above, in the system shown in FIG.
By performing A / D conversion on the 14 output signals, a digital image can be directly obtained. Further, the pixel area in the figure is
It has a structure similar to that of a TFT-LCD (thin film transistor liquid crystal display) used for a notebook personal computer or the like, and a thin, large-screen one can technically be manufactured relatively easily.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように検出器が大型化又は高精細化されると走査線G
1,G2,…G2000の抵抗、及び走査線G1,G
2,…G2000に寄生する容量が大きくなり、a−S
i−TFT105のGateをオン・オフするパルスに遅延
が生じるという問題があった。このGateパルスの遅延に
よって、図10(a)に示すように、その反対側(水平
走査シフトレジスタ113から遠い側)の画素(例えば
画素e,2000の付近)では、実際に設けられた読み
出し時間よりも短い時間になる可能性が生じる。
However, as described above, when the size of the detector is increased or the definition thereof is increased, the scanning line G is increased.
1, G2,..., G2000 resistance, and scanning lines G1, G
2,... The parasitic capacitance of G2000 increases, and a-S
There is a problem that a pulse is generated in turning on and off the gate of the i-TFT 105. Due to the delay of the Gate pulse, as shown in FIG. 10A, the readout time actually provided at the pixel on the opposite side (far from the horizontal scanning shift register 113) (for example, near the pixel e, 2000) There is a possibility that the time will be shorter.

【0012】詳述すると、前述した増幅器114のリセ
ットタイミングは、全信号線S1,S2,…S2000
について同時に行われるため、上記Gateパルスの遅延が
生じると、GateがOFFされる前に増幅器114がリセ
ットされる場合が生じる。この場合には、実際の読み出
し時間が短くなり、残像が増えたり、図10(b)に示
すように、水平走査シフトレジスタ113から遠い画素
(例えば画素e,2000付近の画素)の信号の一部が
消失する可能性がある。
More specifically, the reset timing of the above-described amplifier 114 is determined based on all signal lines S1, S2,.
Are performed at the same time, the delay of the Gate pulse may cause the amplifier 114 to be reset before the Gate is turned off. In this case, the actual read time is shortened, the afterimage increases, or as shown in FIG. 10B, one signal of a pixel far from the horizontal scanning shift register 113 (for example, a pixel e, a pixel near 2000) is output. Parts may be lost.

【0013】また、特に高速読み出し化が進むとGateO
N時間が短くなり、このパルス遅延の問題が顕著となる
ため、パルス遅延が解消されない場合には読み出し速度
を向上させることが困難となり、検出器として要求され
るスペックを確保することができない惧れが生じる。
[0013] In particular, when high-speed reading is advanced, GateO
Since the N time becomes short and the problem of the pulse delay becomes remarkable, if the pulse delay is not eliminated, it becomes difficult to improve the readout speed, and the specifications required for the detector may not be secured. Occurs.

【0014】そこで、本発明は、上述した問題を解決す
るためになされたものであり、読み出し線の抵抗による
ドライバーICの負担を低減し、前述したGateパルスの
遅延を低減させ、大型アレイにおいてもパルス遅延を招
来することなく、高速読み出しの実現を図ることができ
る放射線撮像装置を提供することを課題とする。
Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problem, and reduces the load on the driver IC due to the resistance of the readout line, reduces the delay of the gate pulse described above, and is applicable to a large array. It is an object of the present invention to provide a radiation imaging apparatus capable of realizing high-speed reading without causing a pulse delay.

【0015】また、他の発明は、上記放射線撮像装置を
製造する際の歩留まりの向上を図ることのできる製造方
法を提供することを課題とする。
Another object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of improving the yield when manufacturing the radiation imaging apparatus.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するためになされたものであり、本願に係る発明
は、入射した放射線を信号電荷として蓄積する画素を行
列2次元マトリクス状に配置し、各行の該画素に前記信
号電荷の読み出しを制御する走査線を接続してなる検出
アレイを備えた放射線撮像装置において、前記各行の走
査線の両端に、前記画素の読み出しを制御するための電
圧を負荷するゲートドライバーを接続したことを特徴と
するものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the invention according to the present application has a structure in which pixels that store incident radiation as signal charges are arranged in a matrix two-dimensional matrix. In a radiation imaging apparatus provided with a detection array in which a scanning line for controlling reading of the signal charge is connected to the pixels in each row, the reading of the pixels is controlled at both ends of the scanning lines in each row. And a gate driver for applying a voltage of the same.

【0017】このような本発明によれば、各行の走査線
の両端にゲートドライバーを設けることによって、両ド
ライバーが負担する抵抗と容量を減らし、Gateパルスの
遅延を半減させることができ、アレイが大型化されても
高速読み出しを行ってもパルス遅延による影響を受け難
くすることができる。
According to the present invention, by providing the gate drivers at both ends of the scanning line of each row, the resistance and capacitance borne by both drivers can be reduced, the delay of the gate pulse can be reduced by half, and the array can be reduced. Even when the size is increased, even if high-speed reading is performed, the influence of the pulse delay can be reduced.

【0018】また、他の発明は、入射した放射線を電荷
として蓄積する画素を行列2次元マトリクス状に配置し
てなる検出アレイを備えた放射線撮像装置において、前
記検出アレイ上に複数の階層にわたって層状に配置され
る配線同士が、異なる階層間において上下方向に接触し
た場合の前記放射線撮像装置の修理方法であって、前記
接触箇所の両側で、一方の層の配線を切断し、前記放射
線撮像装置を動作させる際には、切断した該一方の層の
配線の両端に必要な電圧を負荷する電圧負荷手段を接続
するものである。
According to another aspect of the present invention, there is provided a radiation imaging apparatus including a detection array in which pixels for accumulating incident radiation as electric charges are arranged in a two-dimensional matrix. Is a method for repairing the radiation imaging apparatus in the case where the wirings arranged in the vertical direction are in contact with each other between different layers, wherein the wiring of one layer is cut off on both sides of the contact point, Is operated, a voltage load means for applying a required voltage to both ends of the cut one layer wiring is connected.

【0019】このような他の発明によれば、上下の層に
配置された配線が接触した場合に、この接触箇所の両側
を切断することによって欠陥が生じた配線を修復するこ
とができ、さらに放射線撮像装置の駆動時においては、
切断した配線に必要な電圧を負荷することにより欠陥が
生じた配線の機能を維持することができる。これによっ
て、パネルサイズが大きくなった場合や、パターン密度
が高くなった場合等に発生しやすくなるパターン不良に
対して、レーザー等でリペアしても線欠陥になることな
く、良品として扱うことができ、高歩留まりでX線検出
器を生産することができる。
According to such another invention, when the wirings arranged in the upper and lower layers come into contact with each other, the wiring having the defect can be repaired by cutting both sides of the contact portion. When driving the radiation imaging apparatus,
By applying a necessary voltage to the disconnected wiring, the function of the defective wiring can be maintained. As a result, pattern defects that tend to occur when the panel size is increased or when the pattern density is increased can be handled as good products without line defects even if repaired by laser or the like. X-ray detectors can be produced with high yield.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】[第1の実施形態] (放射線撮像装置の全体構成)以下、本発明に係る放射
線診断装置の好ましい実施形態について図面を参照しな
がら詳細に説明する。図1は、本実施形態に係る放射線
撮像装置に備えられる画素eの概略構成を示すものであ
り、図2は、画素eをアレイ状に配置して構成される検
出アレイを備えた放射線撮像装置の全体構成を示す概略
構成図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment (Overall Configuration of Radiation Imaging Apparatus) Hereinafter, preferred embodiments of a radiation diagnostic apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of a pixel e provided in the radiation imaging apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 shows a radiation imaging apparatus provided with a detection array configured by arranging the pixels e in an array. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the entire configuration of the first embodiment.

【0021】図1及び図2に示すように、画素eは、読
み出し用TFT1と、画素電極3と、信号読み出し線
(信号線)5と、ゲート線(走査線)7と、グランド線
(補助電極)9と、X線(光)電荷変換膜11と、共通
電極13と、画素容量Cst15とから構成されてい
る。なお、図1では、X線(光)電荷変換膜11、共通
電極13(電圧が供給されている)は省略している。そ
して、この画素eは、図2に示すように、アレイ状に配
置されて検出アレイ17を構成する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the pixel e includes a readout TFT 1, a pixel electrode 3, a signal readout line (signal line) 5, a gate line (scanning line) 7, and a ground line (auxiliary line). (Electrode) 9, an X-ray (light) charge conversion film 11, a common electrode 13, and a pixel capacitor Cst15. In FIG. 1, the X-ray (light) charge conversion film 11 and the common electrode 13 (to which a voltage is supplied) are omitted. The pixels e are arranged in an array as shown in FIG.

【0022】なお、上記X線(光)電荷変換膜11とし
ては、a−Se,a−Siを使用することができる。ま
た、前記画素容量Cst15は、画素電極3と補助電極
9とから構成されるものであり、X線の入射によってX
線(光)電荷変換膜11で生成された電荷を蓄積するも
のである。
As the X-ray (light) charge conversion film 11, a-Se or a-Si can be used. Further, the pixel capacitance Cst15 is composed of the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 9, and the X-ray enters by X-ray incidence.
The charge generated by the line (light) charge conversion film 11 is accumulated.

【0023】そして、本実施形態に係る放射線撮像装置
では、検出アレイ17の左右に設けられた一対のドライ
バーIC(電圧負荷手段)によって走査線7を駆動でき
るような構造が採られている。具体的には、検出アレイ
17の左右に外部ドライバICとのコンタクトパッド1
9を設け、これを介して走査線7と検出アレイ17の外
部に設けられた外部ドライバーICとを接続し、これに
よって各走査線7を駆動する。なお、ドライバーIC
は、検出アレイ17上に実装するようにしてもよい。こ
の場合には、かかる一対のドライバーICは、撮像領域
形成時に同時に形成することができる。
The radiation imaging apparatus according to the present embodiment has a structure in which the scanning lines 7 can be driven by a pair of driver ICs (voltage load means) provided on the left and right sides of the detection array 17. Specifically, contact pads 1 with the external driver IC are provided on the left and right of the detection array 17.
The scanning line 7 is connected to an external driver IC provided outside the detection array 17 via the scanning line 9, thereby driving each scanning line 7. The driver IC
May be mounted on the detection array 17. In this case, such a pair of driver ICs can be formed at the same time when the imaging region is formed.

【0024】また、本実施形態の放射線撮像装置では、
補助電極線9への電圧も、検出アレイ17の左右に設け
られた電源側線23から供給している。具体的には、補
助電極線9の両端を一対の電源側線23に接続し、これ
ら一対の電源側線23の上下又は左右の両端にコンタク
トパッド21を設ける。この場合において、補助電極線
9は、接地電位とされるため、あらゆる回路系のグラン
ド強化を図ることができることから、あらゆる箇所から
電圧が供給できるようにすることが好ましい。
In the radiation imaging apparatus according to the present embodiment,
The voltage to the auxiliary electrode line 9 is also supplied from power supply side lines 23 provided on the left and right of the detection array 17. More specifically, both ends of the auxiliary electrode line 9 are connected to a pair of power supply side lines 23, and contact pads 21 are provided on both upper and lower or left and right ends of the pair of power supply side lines 23. In this case, since the auxiliary electrode line 9 is set to the ground potential, the ground of any circuit system can be strengthened. Therefore, it is preferable that the voltage can be supplied from any part.

【0025】(放射線撮像装置の動作)以上の構成を備
えた本実施形態の放射線撮像装置における画素eは以下
のように動作する。すなわち、X線の入射によってX線
(光)電荷変換膜11で生成された電荷は、画素容量C
st15に蓄積される。そして、一対のコンタクトパッ
ト19を介して走査線7の両側から信号電圧を負荷し
て、走査線7を制御することにより、その走査線7上の
画素eのそれぞれのTFT1をオンにして、画素eに蓄
積された電荷を信号線5を介してコンタクトパッド22
に流す。
(Operation of Radiation Imaging Apparatus) The pixel e in the radiation imaging apparatus of the present embodiment having the above configuration operates as follows. That is, the charge generated in the X-ray (light) charge conversion film 11 by the incidence of X-rays
It is stored in st15. Then, by applying a signal voltage from both sides of the scanning line 7 through the pair of contact pads 19 to control the scanning line 7, each TFT 1 of the pixel e on the scanning line 7 is turned on, e stored in the contact pad 22 via the signal line 5.
Pour into

【0026】流れ出た電荷は増幅器(図示せず)に転送
される。その後、増幅された信号は、A/D変換器等で
信号処理される。この走査を全走査線に対して順次行う
ことにより、X線像を得ることが出来る。
The charge that has flowed out is transferred to an amplifier (not shown). Thereafter, the amplified signal is subjected to signal processing by an A / D converter or the like. An X-ray image can be obtained by sequentially performing this scanning on all the scanning lines.

【0027】このような動作の本実施形態に係る放射線
撮像装置によれば、各行の走査線7の両端からドライバ
ーICからのを信号電圧を負荷することによって、ドラ
イバーICから各画素eまでの距離を短縮化することが
でき、両ドライバーが負担する抵抗と容量を減らし、Ga
teパルスの遅延を半減させることができ、検出アレイが
大型化され、或いは高速読み出しを行う場合であって
も、パルス遅延による影響を受け難くすることができ
る。
According to the radiation imaging apparatus of this embodiment having such an operation, by applying a signal voltage from both ends of the scanning line 7 of each row to the driver IC, the distance from the driver IC to each pixel e is increased. Can be shortened, and the resistance and capacity borne by both drivers can be reduced.
The delay of the te pulse can be halved, and even if the detection array is enlarged or high-speed reading is performed, the influence of the pulse delay can be reduced.

【0028】(修理方法)以上説明した本実施形態に係
る放射線撮像装置において、検出アレイ上に複数の階層
にわたって層状に配置される配線同士が、異なる階層間
において上下方向に接触してショートを生じた場合、以
下の方法でリペアすることができる。図3(a)は、か
かる接触箇所を示す拡大図であり、同図(b)は、
(a)におけるA−Aの断面図を示す拡大図である。
(Repair method) In the radiation imaging apparatus according to the present embodiment described above, the wirings arranged in layers over a plurality of layers on the detection array contact each other in different layers in the vertical direction to cause a short circuit. In this case, repair can be performed by the following method. FIG. 3A is an enlarged view showing such a contact portion, and FIG.
It is an enlarged view showing the sectional view of AA in (a).

【0029】例えば、図3に示すように、信号線5と走
査線7との間に形成された絶縁膜層にピンポールが生じ
る等して、信号線5と走査線7が接触し、ショートが生
じていることが発見された場合、走査線7を信号線5と
の接触箇所の両側C1,C2をレーザー等でカットす
る。
For example, as shown in FIG. 3, a pin pole is generated in an insulating film layer formed between the signal line 5 and the scanning line 7 so that the signal line 5 and the scanning line 7 come into contact with each other and a short circuit occurs. When it is found that the scanning line 7 is generated, the scanning line 7 is cut on both sides C1 and C2 of the contact portion with the signal line 5 by a laser or the like.

【0030】これにより、従来であれば走査線7は片側
電圧供給であったため、走査線7切断後は、ドライバー
側と反対側には駆動電圧が供給されなくなることから、
線欠陥となるが、本実施形態では、一対のコンタクトパ
ッド19を介して、走査線7の両側から電圧を供給して
いるため、接触箇所の両側C1,C2で走査線7が切断
されても線欠陥となることはない。
As a result, since the scanning line 7 is conventionally supplied with one-sided voltage in the related art, the driving voltage is not supplied to the side opposite to the driver after the scanning line 7 is cut off.
Although a line defect occurs, in this embodiment, since the voltage is supplied from both sides of the scanning line 7 via the pair of contact pads 19, even if the scanning line 7 is cut at both sides C1 and C2 of the contact location. There is no line defect.

【0031】なお、信号線5と補助電極線9とがショー
トした場合であっても同様の方法によってリペアするこ
とができる。また、この実施形態では、補助電極線9を
走査線7に対して平行に設けたが、補助電極線9を信号
線5に対して平行に設け、補助電極線9と走査線7とが
直行するように配置することができ、このような場合で
も、上記同様のリペア方法を用いることができる。
Incidentally, even when the signal line 5 and the auxiliary electrode line 9 are short-circuited, repair can be performed by the same method. Further, in this embodiment, the auxiliary electrode line 9 is provided in parallel with the scanning line 7, but the auxiliary electrode line 9 is provided in parallel with the signal line 5, and the auxiliary electrode line 9 and the scanning line 7 are orthogonal. In such a case, the same repair method as described above can be used.

【0032】このように、X線撮像装置において、走査
線7や補助電極線9を撮像領域の両側から電圧を供給す
ることによって、交差する配線同士がショートを起こし
た場合であっても、線欠陥を発生することなく実施でき
る。従って、検出アレイ17のサイズが大きくなった
り、パターン密度が高くなることによって生じる歩留ま
りの低下を防止することができ、効率よく放射線撮像装
置を製造することが可能となる。
As described above, in the X-ray imaging apparatus, by supplying a voltage to the scanning lines 7 and the auxiliary electrode lines 9 from both sides of the imaging region, even if the intersecting wirings are short-circuited, the X-ray imaging apparatus can be used. It can be performed without generating defects. Therefore, it is possible to prevent a decrease in yield caused by an increase in the size of the detection array 17 or an increase in the pattern density, and it is possible to efficiently manufacture a radiation imaging apparatus.

【0033】(変更例)なお、上述した放射線撮像装置
は、以下のような変更を加えることができる。すなわ
ち、上述した放射線撮像装置では、一本の連続した走査
線7等の両側に一対のコンタクトパッド19を設け、こ
れらの外部ドライバーICを接続するようにしたが、本
変更例では、一対のコンタクトパッド19間において、
走査線7等を分割する。
(Modification) The radiation imaging apparatus described above can be modified as follows. That is, in the above-described radiation imaging apparatus, a pair of contact pads 19 is provided on both sides of one continuous scanning line 7 and the like, and these external driver ICs are connected. Between the pads 19,
The scanning lines 7 and the like are divided.

【0034】このような本変更例によれば、走査線7を
中途で切断して分割することによって、各外部ドライバ
ーICに対する走査線7の長さを短縮することができる
ため、各外部ドライバーICの負担を軽減することがで
きる。また、上述した放射線撮像装置では、連続した走
査線7の両端に接続された一対の外部ドライバーICの
動作を完全に同調させる必要があるが、本変更例によれ
ば、一対の外部ドライバーIC動作に多少のズレが生じ
ても許容することができる。なお、このように走査線7
を分割した場合は、上述した修理方法を用いることはで
きない。
According to this modification, the length of the scanning line 7 with respect to each external driver IC can be reduced by cutting and dividing the scanning line 7 halfway, so that each external driver IC Burden can be reduced. In the above-described radiation imaging apparatus, it is necessary to completely synchronize the operation of the pair of external driver ICs connected to both ends of the continuous scanning line 7. According to this modification, the operation of the pair of external driver ICs is required. Can be tolerated even if some deviation occurs. The scanning line 7
Is divided, the above-described repair method cannot be used.

【0035】[第2の実施形態] (放射線撮像装置の全体構造)以下に、本発明に係る放
射線撮像装置の第2の実施形態について説明する。図4
は、本実施形態に係る放射線撮像装置に備えられる画素
eの概略構成を示すものであり、図5は、本実施形態に
係る放射線撮像装置の全体構成を示す概略構成図であ
る。
[Second Embodiment] (Overall Structure of Radiation Imaging Apparatus) Hereinafter, a second embodiment of the radiation imaging apparatus according to the present invention will be described. FIG.
Shows a schematic configuration of a pixel e provided in the radiation imaging apparatus according to the present embodiment, and FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing an overall configuration of the radiation imaging apparatus according to the present embodiment.

【0036】図4と図5に示すように、本実施形態に係
る放射線撮像装置は、上述した第1実施形態に係る検出
アレイ17の構成に加え、高電圧保護回路115を設け
たことを特徴とする。すなわち、画素eは、読み出し用
TFT1と、画素電極3と、信号読み出し線(信号線)
5と、ゲート線(走査線)7と、補助電極9と、X線
(光)電荷変換膜11と、共通電極13と、画素容量C
st15と、高電圧保護回路115とから構成されてい
る。なお、図4と図5においては、X線(光)電荷変換
器11、共通電極13は省略している。
As shown in FIGS. 4 and 5, the radiation imaging apparatus according to this embodiment is characterized in that a high voltage protection circuit 115 is provided in addition to the configuration of the detection array 17 according to the first embodiment. And That is, the pixel e includes the readout TFT 1, the pixel electrode 3, and the signal readout line (signal line).
5, a gate line (scanning line) 7, an auxiliary electrode 9, an X-ray (light) charge conversion film 11, a common electrode 13, and a pixel capacitor C
st15 and a high-voltage protection circuit 115. 4 and 5, the X-ray (light) charge converter 11 and the common electrode 13 are omitted.

【0037】前記高電圧保護回路115は、主として保
護ダイオード25と、保護ダイオード用電源線27とか
ら構成されるものである。図6(a)及び(b)は、か
かる高電圧保護回路115の概略構成及び動作を示す説
明図である。
The high voltage protection circuit 115 mainly comprises a protection diode 25 and a power supply line 27 for the protection diode. FIGS. 6A and 6B are explanatory diagrams showing a schematic configuration and operation of the high-voltage protection circuit 115. FIG.

【0038】同図(a)及び(b)に示すように、画素
11に過大にX線が入ってきた場合には、必要な分だけ
発生した電荷をCst15に蓄積され、残りの電荷(同
図(b)中に斜線で示す部分)は、各画素に設けた保護
ダイオード25から保護ダイオード用電源線27を通じ
て、画素外へ放出するようにしてCst15や、画素の
スイッチとして設けられているTFT1の絶縁破壊を防
いでいる。
As shown in FIGS. 7A and 7B, when X-rays enter the pixel 11 excessively, charges generated as much as necessary are accumulated in Cst15, and the remaining charges (FIG. The portion indicated by oblique lines in FIG. 2B is a Cst 15 or a TFT 1 provided as a pixel switch so as to emit from the protection diode 25 provided in each pixel to the outside of the pixel through the protection diode power supply line 27. Prevents dielectric breakdown.

【0039】また、本実施形態においても、前記走査線
7の両端には、一対の外部ドライバーが接続されてい
る。すなわち、検出アレイ17の外部にドライバーIC
を設け、検出アレイ17の左右又は上下に外部ICとの
コンタクトパッド19を設け、これらの外部ドライバー
ICとコンタクトパッド19とを接続することによって
走査線7の駆動制御をする。
Also in this embodiment, a pair of external drivers are connected to both ends of the scanning line 7. That is, a driver IC is provided outside the detection array 17.
Are provided, and contact pads 19 with external ICs are provided on the left and right or upper and lower sides of the detection array 17, and the driving of the scanning lines 7 is controlled by connecting these external driver ICs and the contact pads 19.

【0040】さらに、本実施形態における前記補助電極
線9への電圧供給も、検出アレイ17の左右又は上下に
各行に設けた補助電極線9を1本、または、数本にまと
めた電源側線23から、撮像領域の左右若しくは上下に
コンタクトパッド21を設ける。
Further, in the present embodiment, the voltage supply to the auxiliary electrode lines 9 is also performed by using one or several auxiliary electrode lines 9 provided in each row on the left and right or up and down of the detection array 17. Therefore, contact pads 21 are provided on the left and right or up and down of the imaging area.

【0041】また、保護ダイオード用電源線27への電
圧供給も、撮像領域17の左右又は上下に各行に設けた
保護ダイオード用電源線27を1本、または、数本にま
とめた保護ダイオード用電源線側29から、撮像領域の
左右若しくは上下にコンタクトパッド31を設けてい
る。
The power supply to the protection diode power supply line 27 is also performed by using one or several protection diode power supply lines 27 provided in each row on the left, right, upper and lower sides of the imaging region 17. From the line side 29, contact pads 31 are provided on the left and right or up and down of the imaging area.

【0042】(放射線撮像装置の動作)以上のような構
成の本実施形態に係る放射線撮像装置の動作について以
下に説明する。
(Operation of Radiation Imaging Apparatus) The operation of the radiation imaging apparatus according to this embodiment having the above configuration will be described below.

【0043】X線(光)電荷変換膜11でX線(光)の
入射によって生成されたCst15に電荷が蓄積され、
TFT1の絶縁破壊が起きない程度のある一定の電圧に
なると、保護ダイオード25から電荷が画素e外に流出
され、読み出し用TFT1とCst15に高電圧がかか
らないようにする。この時の電荷の流出経路がダイオー
ド用の電源線27で、この電源線27の電位の設定で保
護ダイオード25からの電荷流出開始の電圧が変えられ
る。
The X-ray (light) charge conversion film 11 accumulates electric charges in Cst 15 generated by the incidence of the X-ray (light),
When the voltage reaches a certain level that does not cause the dielectric breakdown of the TFT 1, the electric charge flows out of the pixel e from the protection diode 25, so that a high voltage is not applied to the reading TFT 1 and Cst 15. The charge outflow path at this time is the power supply line 27 for the diode, and the voltage at which the charge starts to flow out of the protection diode 25 can be changed by setting the potential of the power supply line 27.

【0044】そして、一対の外部ドライバーICによっ
て走査線7を制御することにより、その走査線7上の画
素のそれぞれのTFT1をオンにして、Cst15に蓄
積された電荷を信号線5に流す。流れ出た電荷は増幅器
(図示せず)に転送され、この増幅器で増幅された信号
は、A/D等で信号処理される。この走査を全走査線に
対して順次行うことにより、X線像を得ることができ
る。
By controlling the scanning line 7 by a pair of external driver ICs, each TFT 1 of the pixel on the scanning line 7 is turned on, and the electric charge accumulated in Cst 15 flows to the signal line 5. The discharged electric charges are transferred to an amplifier (not shown), and the signal amplified by the amplifier is subjected to signal processing by an A / D or the like. An X-ray image can be obtained by sequentially performing this scanning on all the scanning lines.

【0045】(修理方法)以上説明した本実施形態に係
る放射線撮像装置では、検出アレイ17上に複数の階層
にわたって層状に配置される配線同士が、異なる階層間
において上下方向に接触した場合には、接触箇所の両側
で一方の層の配線を切断することによってリペアするこ
とができる。
(Repair Method) In the radiation imaging apparatus according to the present embodiment described above, when the wirings arranged in layers over a plurality of layers on the detection array 17 are in vertical contact between different layers, The repair can be performed by cutting the wiring of one layer on both sides of the contact point.

【0046】例えば図3に示すように、異なる階層に配
線された信号線5と走査線7とがショートしていること
を発見した場合には、走査線7を、接触箇所の両側でレ
ーザー等によりカットする。本実施形態に係る放射線撮
像装置では両側から電圧を供給しているため、走査線7
が切断されても線欠陥となることはない。また、信号線
5と補助電極線9とのショート、及び信号線5と保護ダ
イオード用電源線27であっても同様である。
For example, as shown in FIG. 3, when it is found that the signal line 5 and the scanning line 7 arranged in different layers are short-circuited, the scanning line 7 is connected to a laser or the like on both sides of the contact point. Cut by In the radiation imaging apparatus according to the present embodiment, since the voltage is supplied from both sides, the scanning line 7
Is not a line defect even if it is cut. The same applies to the short circuit between the signal line 5 and the auxiliary electrode line 9 and the signal line 5 and the power line 27 for the protection diode.

【0047】なお、この実施形態では、補助電極線9と
保護ダイオード用電源線27を走査線7に対して平行に
設けたが、信号線5に対してそれぞれ、または、どちら
かを平行に設けた場合であっても、上記と同様の修理方
法を採用することができる。この場合は、走査線7と補
助電極線9とのショート、走査線7と保護ダイオード用
電源線27とのショート、補助電極線9と保護ダイオー
ド用電源線27とのショートが該当する。
In this embodiment, the auxiliary electrode line 9 and the power supply line 27 for the protection diode are provided in parallel with the scanning line 7, but each of the signal lines 5 or one of them is provided in parallel with the signal line 5. Even in this case, the same repair method as described above can be adopted. In this case, a short circuit between the scanning line 7 and the auxiliary electrode line 9, a short circuit between the scanning line 7 and the protection diode power line 27, and a short circuit between the auxiliary electrode line 9 and the protection diode power line 27 are applicable.

【0048】このように放射線撮像装置では、走査線7
や補助電極線9、保護ダイオード用電源線27に対し
て、両端から電圧を供給することにより、交差する配線
同士がショートを起こした場合であっても、線欠陥を発
生することなく修理することができるため、検出アレイ
のサイズが大きくなったり、パターン密度が高くなった
ときであっても、歩留まりを落とさずに検出アレイを効
率よく製造することが可能となる。
As described above, in the radiation imaging apparatus, the scanning lines 7
By applying a voltage from both ends to the power supply line 9 and the auxiliary electrode line 9 and the power supply line 27 for the protection diode, even if the intersecting wirings are short-circuited, repair without generating line defects. Therefore, even when the size of the detection array is increased or the pattern density is increased, it is possible to efficiently manufacture the detection array without lowering the yield.

【0049】(変更例)なお、上述した第2の実施形態
に係る放射線撮像装置は、以下のような変更を加えるこ
とができる。すなわち、上述した放射線撮像装置では、
一本の連続した走査線7等の両側に一対のコンタクトパ
ッド19を設け、これらの外部ドライバーICを接続す
るようにしたが、本変更例では、一対のコンタクトパッ
ド19間において、走査線7等を分割する。
(Modification) The radiation imaging apparatus according to the second embodiment can be modified as follows. That is, in the above-described radiation imaging apparatus,
A pair of contact pads 19 are provided on both sides of one continuous scanning line 7 and the like, and these external driver ICs are connected. In this modified example, the scanning lines 7 and the like are provided between the pair of contact pads 19. Split.

【0050】このような本変更例によれば、走査線7を
中途で切断して分割することによって、各外部ドライバ
ーICに対する走査線7の長さを短縮することができる
ため、各外部ドライバーICの負担を軽減することがで
きる。また、上述した放射線撮像装置では、連続した走
査線7の両端に接続された一対の外部ドライバーの動作
を完全に同調させる必要があるが、本変更例によれば、
一対の外部ドライバー動作に多少のズレが生じても許容
することができる。なお、このように走査線7を中途で
切断した場合には、上述した修理方法を行うことはでき
ない。
According to the present modification, the length of the scanning line 7 with respect to each external driver IC can be reduced by cutting and dividing the scanning line 7 halfway. Burden can be reduced. In the above-described radiation imaging apparatus, it is necessary to completely synchronize the operations of a pair of external drivers connected to both ends of the continuous scanning line 7. According to this modification,
A slight deviation between the pair of external driver operations can be tolerated. When the scanning line 7 is cut off halfway, the above-described repair method cannot be performed.

【0051】[第3の実施形態]以下に、本発明の第3
の実施形態の機能を説明する。なお、本実施形態は、上
述した第1及び第2の実施形態に係る放射線撮像装置の
修理方法の応用例である。
[Third Embodiment] The third embodiment of the present invention will be described below.
The function of the embodiment will be described. Note that this embodiment is an application example of the repair method of the radiation imaging apparatus according to the first and second embodiments described above.

【0052】(応用例1)上述した各実施形態に係る放
射線撮像装置において、下層の配線の上方で、上層の2
本の配線が接触した場合にレーザを用いたときには、上
下方向にリークパスが生じる。
(Application Example 1) In the radiation imaging apparatus according to each of the above-described embodiments, the upper layer 2
When a laser is used when the wires are in contact with each other, a leak path is generated in a vertical direction.

【0053】すなわち、前述したレーザーリペアでは上
層の配線を焼き切るものであるため、層構造の上下方向
に金属層が重なっている場合には、焼き切られた上層の
配線が切断箇所を通じて下層に押し込まれ、下層の配線
と接触することになる。よって、このような場合には、
上下方向にリークパスが発生し、完全にリペアしたこと
にはならない。図7は、かかるリークパスによる弊害が
生じやすい箇所の一例を示すものであり、図4中の点線
Bで示す部分の拡大図である。
In other words, since the above-described laser repair burns off the upper wiring, if the metal layers overlap in the vertical direction of the layer structure, the burned-up upper wiring is pushed into the lower layer through the cut portion. As a result, it comes into contact with the underlying wiring. Therefore, in such a case,
A leak path occurs in the vertical direction, and it does not mean complete repair. FIG. 7 is an enlarged view of a portion indicated by a dotted line B in FIG.

【0054】図7に示すように、下層の配線(例えば保
護ダイオード用電源線27)の上方で、上層の2本の配
線(信号線5及び保護ダイオード25用の配線125)
が接触した場合には、信号線5と配線125の接触点を
切断しても(図中)、下層に及んでリークパスが生じ
るため、信号線5と下層の保護ダイオード用電源線27
とが接触してショートを生じることとなる。
As shown in FIG. 7, two wirings in the upper layer (the signal line 5 and the wiring 125 for the protection diode 25) are provided above the lower wiring (for example, the power supply line 27 for the protection diode).
When the contact is made, even if the contact point between the signal line 5 and the wiring 125 is cut (in the figure), a leak path is formed in the lower layer, so that the signal line 5 and the lower protection diode power supply line 27 are formed.
Will come into contact with each other to cause a short circuit.

【0055】そのため、このような箇所においては、
の箇所をレーザリペアした後に、信号線5を挟んでの
箇所の反対側のの箇所で、下層の保護ダイオード用電
源線27も切断する。このとき、まだ、の部分と信号
線5とはショートしているが、保護ダイオード用電源線
27とはの部分で断線されているため、リペアが完了
したことになる。
Therefore, in such a place,
After the laser repair of the above-mentioned position, the lower-layer protection diode power supply line 27 is also cut at a position opposite to the position across the signal line 5. At this time, the portion and the signal line 5 are still short-circuited, but since the portion with the protection diode power supply line 27 is disconnected, the repair is completed.

【0056】このような応用例1によっても、保護ダイ
オード用電源線27に対しては、両端から電圧が供給さ
れているため、及びの箇所において断線していて
も、線欠陥を発生することなく、検出アレイの機能を回
復させることができ、放射線撮像装置を製造する際の歩
留まりの向上を図ることができる。
According to the first application example as well, since the voltage is supplied to the protection diode power supply line 27 from both ends, no line defect occurs even if the line is broken at the point. The function of the detection array can be restored, and the yield in manufacturing the radiation imaging apparatus can be improved.

【0057】(応用例2)また、応用例1で説明したレ
ーザーリペアの性質を応用することによって、以下の修
理方法を行うことができる。図8(a)は、図4中の点
線Cにより示した部分の拡大図であり、同図(b)及び
(c)は、かかる修理方法の説明図である。
(Application Example 2) The following repair method can be performed by applying the properties of the laser repair described in Application Example 1. FIG. 8A is an enlarged view of a portion indicated by a dotted line C in FIG. 4, and FIGS. 8B and 8C are explanatory diagrams of the repair method.

【0058】図8(a)及び(b)に示すように、例え
ば、コンタクトホール33aの形成が不完全であり、保
護ダイオード25のゲート電極33と画素電極3のソー
ス電極35とが導通していない場合等には、保護ダイオ
ード25のゲート電極33の電位がフローティング状態
になるため、保護ダイオード25が正常に動作しない惧
れが生じる。
As shown in FIGS. 8A and 8B, for example, the formation of the contact hole 33a is incomplete, and the gate electrode 33 of the protection diode 25 and the source electrode 35 of the pixel electrode 3 are electrically connected. Otherwise, the potential of the gate electrode 33 of the protection diode 25 is in a floating state, so that the protection diode 25 may not operate normally.

【0059】この場合には、画素が高電位になっても、
保護ダイオード25が動作しないため、読み出し用TF
T1等に高電圧がかかり、絶縁破壊を起こしてしまう惧
れがある。そのため、この検出アレイは不良品と判断さ
れ、その結果歩留まりが低下することとなる。
In this case, even if the pixel becomes high potential,
Since the protection diode 25 does not operate, the read TF
A high voltage is applied to T1 and the like, which may cause dielectric breakdown. Therefore, the detection array is determined to be defective, and as a result, the yield is reduced.

【0060】そこで、本応用例では、上層のソース電極
35及びドレイン電極37を、下層のゲート電極33と
ともに焼き切ることによって、ゲート電極33と、下層
のドレイン電極又はソース電極と接触させ、これらの間
に低抵抗成分を形成する。
Therefore, in this application example, the source electrode 35 and the drain electrode 37 in the upper layer are burned off together with the gate electrode 33 in the lower layer, thereby bringing the gate electrode 33 into contact with the lower drain electrode or the source electrode. To form a low resistance component.

【0061】具体的には、図8(a)に示すように、ゲ
ート電極33の上方において付き合わされて配置された
ソース電極35とドレイン電極37との間の部位35a
及び37aに、レーザ等で焼き切ることによって、切り
込みを入れる。
More specifically, as shown in FIG. 8A, a portion 35a between the source electrode 35 and the drain electrode 37 arranged above and in contact with each other above the gate electrode 33 is formed.
And 37a are cut by burning off with a laser or the like.

【0062】これらの部位35a及び37aに形成され
た切り込みは、下層のゲート電極33に及んで形成され
るため、上層のソース電極35とドレイン電極37とが
レーザによって切り込み内に押し込まれ、下層のゲート
電極33に接触することとなる。これらの接触箇所は、
低抵抗成分として作用することとなり、同図(b)に示
すように、ソース電極35とドレイン電極37とは、こ
れらの低抵抗成分(部位35a及び37a)を介して短
絡化されることとなる。
Since the cuts formed in these portions 35a and 37a are formed over the lower gate electrode 33, the upper source electrode 35 and the drain electrode 37 are pushed into the cuts by the laser, and the lower layer is formed. It comes into contact with the gate electrode 33. These contact points
As a result, the source electrode 35 and the drain electrode 37 are short-circuited via these low-resistance components (portions 35a and 37a), as shown in FIG. .

【0063】すなわち、保護ダイオード25のゲート電
極33を含むソース電極35及びドレイン電極37間が
それぞれレーザーによるリークパス(部位35a及び3
7a)を持つこととなり、ソース電極35とドレイン電
極37間は、それらのリークパスにより短絡されること
になる。これにより画素に蓄積された電荷は、ほぼ全て
短絡した保護ダイオード25を通じて保護ダイオード用
電源線27へと流出してしまうため、その画素は点欠陥
となるが、点欠陥が連続して発生していない場合は、当
該検出アレイは不良品として扱われないことから、歩留
まりが低下するのを防止することができる。
That is, a laser leak path (portions 35a and 35a) is formed between the source electrode 35 and the drain electrode 37 including the gate electrode 33 of the protection diode 25, respectively.
7a), and the source electrode 35 and the drain electrode 37 are short-circuited by their leak paths. As a result, almost all of the electric charge accumulated in the pixel flows out to the protection diode power supply line 27 through the short-circuited protection diode 25, so that the pixel becomes a point defect, but the point defect occurs continuously. If not, the detection array is not treated as a defective product, so that the yield can be prevented from lowering.

【0064】このように、放射線撮像装置において、レ
ーザーリペアにて発生する層間ショートを利用して、動
作しない保護ダイオード25等を低抵抗成分へと変更さ
せることで、歩留まりを落とさずにアレイを製造するこ
とができる。
As described above, in the radiation imaging apparatus, by using the interlayer short circuit generated by the laser repair to change the inactive protection diode 25 and the like to a low resistance component, the array can be manufactured without lowering the yield. can do.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の放射線撮
像装置によれば、読み出し線の抵抗による電圧負荷手段
の負担を低減し、画素を制御する信号電圧の遅延を低減
させ、大型アレイにおいてもパルス遅延を招来すること
なく、高速読み出しの実現を図ることができる。
As described above, according to the radiation imaging apparatus of the present invention, the load on the voltage load means due to the resistance of the readout line is reduced, the delay of the signal voltage for controlling the pixels is reduced, and the large-sized array can be used. Thus, high-speed reading can be realized without causing a pulse delay.

【0066】また、本発明の放射線撮像装置の修理方法
によれば、より大型、より高精細な放射線撮像装置を製
造した時に生じる歩留まりの低下を防止することがで
き、コストの面で効果がある。
Further, according to the method for repairing a radiation imaging apparatus of the present invention, it is possible to prevent a decrease in yield that occurs when a larger, higher-definition radiation imaging apparatus is manufactured, which is effective in terms of cost. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る放射線撮像装置
における画素の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a pixel in a radiation imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る放射線撮像装置
における検出アレイの概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a detection array in the radiation imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態に係る放射線撮像装置
における、信号線5と走査線7のショートの状態及びそ
のリペア方法を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a short-circuit state between a signal line 5 and a scanning line 7 and a repair method thereof in the radiation imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像装置
における画素の概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a pixel in a radiation imaging apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像装置
における検出アレイの概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a detection array in a radiation imaging apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像装置
における高電圧保護回路の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a high-voltage protection circuit in a radiation imaging apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の修理方法の第1の応用例である保護ダ
イオードのリペア方法を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a protection diode repair method as a first application example of the repair method of the present invention.

【図8】本発明の修理方法の第2の応用例である保護ダ
イオードのリペア方法を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing a protection diode repair method as a second applied example of the repair method of the present invention.

【図9】従来の放射線撮像装置における検出アレイの概
略構成図である。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a detection array in a conventional radiation imaging apparatus.

【図10】従来の放射線撮像装置における検出アレイに
おける信号電圧の遅延を示す説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a delay of a signal voltage in a detection array in a conventional radiation imaging apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…(読み出し用)TFT、3…画素電極、5…信号読
み出し線(信号線) 7…ゲート線(走査線)、9…補助電極線、11…X線
(光)電変換膜 13…共通電極、15…画素容量(Cst)、17…検
出アレイ 19…コンタクトパッド(走査線用)、21…コンパク
トパッド(補助電極線用) 21…コンパクトパッド(信号読み出し線用)、23…
電源側線 25…保護ダイオード、27…保護ダイオード用電源線 29…保護ダイオード用電源側線、31…コンタクトパ
ッド(電源線用)、33…保護ダイオード用ゲート、3
5…保護ダイオード用ソース、37…保護ダイオード用
ドレイン、101…光電変換膜、103…光電変換膜−
画素電極間容量、105…TFT、107…切り替えス
イッチ、109…電源、111…信号読み出し回路、1
13…走査線駆動回路、114…増幅器、115…高電
圧保護回路、e…画素
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... (readout) TFT, 3 ... pixel electrode, 5 ... signal readout line (signal line) 7 ... gate line (scanning line), 9 ... auxiliary electrode line, 11 ... X-ray (photo) electric conversion film 13 ... common Electrodes, 15: Pixel capacitance (Cst), 17: Detection array 19: Contact pad (for scanning line), 21: Compact pad (for auxiliary electrode line) 21: Compact pad (for signal readout line), 23 ...
Power supply side line 25: Protection diode, 27: Power supply line for protection diode 29: Power supply side line for protection diode, 31: Contact pad (for power supply line), 33: Gate for protection diode, 3
5 Source for protection diode, 37 Drain for protection diode, 101 Photoelectric conversion film, 103 Photoelectric conversion film
Capacitance between pixel electrodes, 105 TFT, 107 switch, 109 power supply, 111 signal readout circuit, 1
13: scanning line drive circuit, 114: amplifier, 115: high voltage protection circuit, e: pixel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 光志 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術センター内 (72)発明者 熱田 昌己 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術センター内 (72)発明者 金野 晃 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術センター内 (72)発明者 鈴木 公平 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術センター内 Fターム(参考) 4M118 AA08 AA10 AB01 BA05 BA14 CA02 CB05 CB06 FB09 FB13 FB16 FB30 GA10 HA22 HA30 5C024 AA11 CA25 CA31 GA04 HA14 HA20 5F088 AA09 BB03 BB07 LA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Mitsushi Ikeda 33 Shinisogocho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Toshiba Production Technology Center (72) Inventor Masami Atsuta 33 shares in Shinisogocho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Inside Toshiba Production Technology Center (72) Inventor Akira Kanno 33 Shin Isogocho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Toshiba Production Technology Center (72) Inventor Kohei Suzuki 33 shares, Shinisogo-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa F-term in Toshiba Production Technology Center (reference) 4M118 AA08 AA10 AB01 BA05 BA14 CA02 CB05 CB06 FB09 FB13 FB16 FB30 GA10 HA22 HA30 5C024 AA11 CA25 CA31 GA04 HA14 HA20 5F088 AA09 BB03 BB07 LA07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入射した放射線を信号電荷として蓄積す
る画素を行列2次元マトリクス状に配置し、各行の該画
素に前記信号電荷の読み出しを制御する走査線を接続し
てなる検出アレイを備えた放射線撮像装置において、 前記各行の走査線の両端に、前記画素の読み出しを制御
するための電圧を負荷する電圧負荷手段を接続したこと
を特徴とする放射線撮像装置。
1. A detection array comprising pixels that accumulate incident radiation as signal charges arranged in a matrix two-dimensional matrix, and a scanning line for controlling reading of the signal charges is connected to the pixels in each row. In the radiation imaging apparatus, a voltage load unit that loads a voltage for controlling reading of the pixels is connected to both ends of the scanning line in each row.
【請求項2】 入射した放射線を信号電荷として蓄積す
る画素を行列2次元マトリクス状に配置し、各行の該画
素に前記信号電荷の読み出しを制御する走査線を接続し
てなる検出アレイを備えた放射線撮像装置において、 前記各行の走査線の両端に、前記画素の読み出しを制御
するための電圧を負荷する一対の電圧負荷手段を接続
し、 前記走査線は、前記一対の電圧負荷手段間で分割されて
いることを特徴とする放射線撮像装置。
2. A detection array in which pixels for storing incident radiation as signal charges are arranged in a matrix two-dimensional matrix, and a scanning line for controlling reading of the signal charges is connected to the pixels in each row. In the radiation imaging apparatus, a pair of voltage load units that load a voltage for controlling the readout of the pixels are connected to both ends of the scan line of each row, and the scan line is divided between the pair of voltage load units. A radiation imaging apparatus, comprising:
【請求項3】 入射した放射線を電荷として蓄積する画
素を行列2次元マトリクス状に配置してなる検出アレイ
を備えた放射線撮像装置において、前記検出アレイ上に
複数の階層にわたって層状に配置される配線同士が、異
なる階層間において上下方向に接触した場合の前記放射
線撮像装置の修理方法であって、 前記接触箇所の両側で、一方の層の配線を切断し、 前記放射線撮像装置を動作させる際には、切断した該一
方の層の配線の両端に必要な電圧を負荷する電圧負荷手
段を接続することを特徴とする放射線撮像装置の修理方
法。
3. A radiation imaging apparatus having a detection array in which pixels that store incident radiation as electric charges are arranged in a two-dimensional matrix, a wiring arranged in layers over a plurality of layers on the detection array. A method of repairing the radiation imaging apparatus in a case where the radiation imaging apparatuses are vertically contacted between different layers, wherein the wiring of one layer is cut on both sides of the contact point, and when the radiation imaging apparatus is operated. Is a method for repairing a radiation imaging apparatus, comprising connecting voltage load means for applying a required voltage to both ends of the cut one layer wiring.
【請求項4】 入射した放射線を電荷として蓄積する画
素を行列2次元マトリクス状に配置してなる検出アレイ
を備えた放射線撮像装置において、下層の配線の上方
で、上層の2本の配線が接触した場合の前記放射線撮像
装置の修理方法であって、 前記接触箇所を、該接触箇所の下方にある下層とともに
焼き切り、前記上層の2本の配線と、下層において焼き
切られた配線とを各々上下方向に接触させ、 これら上下において接触された箇所を挟んで、前記切断
箇所の反対側において前記下方の配線を切断し、 前記放射線撮像装置を動作させる際には、切断した前記
下層の配線の両端に必要な電圧を負荷する電圧負荷手段
を接続することを特徴とする放射線撮像装置の修理方
法。
4. In a radiation imaging apparatus having a detection array in which pixels that store incident radiation as electric charges are arranged in a two-dimensional matrix, two upper wirings are in contact with each other above a lower wiring. The method for repairing the radiation imaging apparatus in the case where the contact point is burned off together with a lower layer below the contact point, and the two wires in the upper layer and the wires burned out in the lower layer are vertically Direction, and cut the lower wiring on the side opposite to the cut point, sandwiching the points contacted above and below, when operating the radiation imaging apparatus, the both ends of the cut lower layer wiring A method for repairing a radiation imaging apparatus, comprising connecting voltage load means for applying a required voltage to the radiation imaging apparatus.
【請求項5】 入射した放射線を電荷として蓄積する画
素を行列2次元マトリクス状に配置してなる検出アレイ
を備えた放射線撮像装置において、上層のソース電極又
はドレイン電極と、下層のゲート電極とが接続していな
い場合の前記放射線撮像装置の修理方法であって、 上層のソース電極及びドレイン電極を下層のゲート電極
とともに焼き切ることによって、下層のゲート電極と接
触させることを特徴とする放射線撮像装置の修理方法。
5. A radiation imaging apparatus having a detection array in which pixels that store incident radiation as electric charges are arranged in a two-dimensional matrix, wherein an upper source electrode or a drain electrode and a lower gate electrode are formed. A method for repairing the radiation imaging apparatus in the case where the radiation imaging apparatus is not connected, wherein the upper layer source electrode and the drain electrode are burned off together with the lower layer gate electrode to make contact with the lower layer gate electrode. Repair method.
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