JP2000351917A - Coating liquid for forming oxide membrane, formation of oxide membrane and substrate with oxide membrane - Google Patents

Coating liquid for forming oxide membrane, formation of oxide membrane and substrate with oxide membrane

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JP2000351917A
JP2000351917A JP11162912A JP16291299A JP2000351917A JP 2000351917 A JP2000351917 A JP 2000351917A JP 11162912 A JP11162912 A JP 11162912A JP 16291299 A JP16291299 A JP 16291299A JP 2000351917 A JP2000351917 A JP 2000351917A
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forming
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject coating liquid capable of forming a transition metal oxide membrane excellent in abrasion resistance, etc., by incorporating a specific metal salt, an alkoxide of Si, etc., and a resin and making an atomic ratio of Si to the total amount of the total metal of the metallic salt and Si as a specific value. SOLUTION: This coating liquid is obtained by incorporating (A) at least 1 kind of a metal salt selected from Co, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn and a lanthanoid (La to Lu), (B) an alkoxide of Si (a partially hydrogenated material), (C) a resin and (D) an ethylene glycol oligomer of the formula: HO(CH2CH2O)nH [(n) is 2-8] and making >=0.28 atomic ratio of Si to the total amount of the total metal of the metallic salt and Si. As the component A, a nitric salt is preferable. Also, in the case of forming a black color-based colored membrane, as the component A, it is preferable to use a Cu salt with Mn salt simultaneously.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は酸化物膜形成用塗布
液、酸化物膜形成方法および酸化物膜付き基体に関す
る。
The present invention relates to a coating solution for forming an oxide film, a method for forming an oxide film, and a substrate having an oxide film.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまで、基体上に、さまざまな機能を
付与するために酸化物膜を形成する手法が数多く提案さ
れている。現在、多用されている酸化物膜形成方法とし
ては、真空蒸着、スパッタリング、CVD等の乾式法
や、ゾルゲル法、スプレー熱分解等の湿式法などがあ
る。湿式法による成膜は、安価に成膜できる点で工業生
産上有利である。
2. Description of the Related Art Heretofore, many techniques have been proposed for forming an oxide film on a substrate to impart various functions. At present, as a method of forming an oxide film which is frequently used, there are a dry method such as vacuum deposition, sputtering, and CVD, and a wet method such as a sol-gel method and spray pyrolysis. Film formation by the wet method is advantageous in industrial production in that it can be formed at low cost.

【0003】湿式法による成膜の代表例にゾルゲル法が
ある。これは、金属のアルコキシドを加水分解させ、溶
液中でメタロキサン結合(M−O−M)を形成させてゾ
ル化し、塗布、加熱を行うことにより成膜する方法で、
低反射干渉膜や絶縁膜などの成膜に実績がある。ゾルゲ
ル法は、加水分解条件等を適切に制御することにより均
質な膜を形成できるので、最もよく用いられる方法であ
る。
The sol-gel method is a typical example of film formation by a wet method. This is a method in which a metal alkoxide is hydrolyzed, a metalloxane bond (M-O-M) is formed in a solution to form a sol, and a film is formed by coating and heating.
Proven in forming low reflection interference films and insulating films. The sol-gel method is the most frequently used method because a uniform film can be formed by appropriately controlling hydrolysis conditions and the like.

【0004】遷移金属酸化物からなる緻密な薄膜をガラ
ス表面にコーティングすると、イオン吸収により様々に
着色し、透過率が大きく低下した低透過性着色ガラスと
なる。また緻密で均質な薄膜を形成すれば、光吸収性酸
化物の特性として反射率が高まりハーフミラー状となる
ことがある。このような低透過性着色ガラスは、日射を
効果的に遮断できるために内部環境の保護につながり、
また室内、車内のプライバシー保護にも役立つ。
When a dense thin film made of a transition metal oxide is coated on a glass surface, the glass is colored variously by ion absorption and becomes a low-permeability colored glass whose transmittance is greatly reduced. In addition, when a dense and uniform thin film is formed, the reflectance of the light-absorbing oxide is increased as a characteristic, and the light-absorbing oxide may have a half mirror shape. Such low-permeability colored glass can protect the internal environment because it can effectively block sunlight,
It also helps protect privacy inside and inside the car.

【0005】前述のゾルゲル法によって遷移金属酸化物
膜を形成すると、遷移金属アルコキシドがあまり一般的
でなく、またきわめて高価な材料であるために、安価な
成膜には不向きであった。一方、硝酸塩、塩化物、硫酸
塩などの金属塩は、入手もしやすいが、これらの金属塩
のみではゾルゲル法のような均質で緻密な薄膜が得られ
ないので、耐摩耗性や耐薬品性が乏しく、高耐久性の薄
膜が得難かった。
[0005] When a transition metal oxide film is formed by the sol-gel method described above, transition metal alkoxides are not very common and are extremely expensive materials, so they are not suitable for inexpensive film formation. On the other hand, metal salts such as nitrates, chlorides, and sulfates are readily available, but these metal salts alone cannot provide a uniform and dense thin film unlike the sol-gel method, and therefore have poor wear and chemical resistance. It was difficult to obtain a thin and highly durable thin film.

【0006】特開平9−30836号公報にはエチレン
グリコールオリゴマーを含む酸化物被膜形成用塗布液が
提案されている。該酸化物被膜形成用塗布液を基体上に
塗布して得られた膜は、比較的に均質かつ緻密な膜であ
るが、膜と基体との密着性は乏しい。したがって、より
高い摩耗強度が要求される用途(たとえば自動車用のド
アガラスなどの昇降が繰り返される部位などの用途)に
は不向きであった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-30836 proposes a coating solution for forming an oxide film containing an ethylene glycol oligomer. The film obtained by applying the coating solution for forming an oxide film on a substrate is a relatively homogeneous and dense film, but the adhesion between the film and the substrate is poor. Therefore, it is unsuitable for applications requiring higher wear strength (for example, applications such as a portion of a door glass for an automobile that is repeatedly moved up and down).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
に鑑み、高い耐摩耗性を有し、外観欠点の少ない遷移金
属酸化物膜を簡便に形成できる塗布液、該塗布液を使用
した酸化物膜の形成方法、および酸化物膜付き基体の提
供を目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides a coating solution capable of easily forming a transition metal oxide film having high abrasion resistance and having few appearance defects, and using the coating solution. An object of the present invention is to provide a method for forming an oxide film and a substrate with an oxide film.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、Co、Cr、
Mn、Fe、Ni、Cu、Znおよびランタノイド(L
a〜Lu)からなる群から選ばれる1種以上の金属の塩
と、Siのアルコキシドまたはその部分加水分解物と、
樹脂とを含む塗布液であって、塗布液中の前記金属の塩
の全金属とSiとの総量に対するSiの原子比が0.2
8以上である酸化物膜形成用塗布液(以下、本塗布液と
いう)を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides Co, Cr,
Mn, Fe, Ni, Cu, Zn and lanthanoids (L
a to Lu) a salt of at least one metal selected from the group consisting of: an alkoxide of Si or a partial hydrolyzate thereof;
A coating liquid containing a resin, wherein the atomic ratio of Si to the total amount of all metals and Si in the metal salt in the coating liquid is 0.2.
A coating liquid for forming an oxide film, which is 8 or more (hereinafter referred to as the present coating liquid) is provided.

【0009】本塗布液によれば、均質で緻密な酸化ケイ
素を含有する遷移金属酸化物膜を形成でき、その緻密さ
と酸化ケイ素特有の性質により、高い耐摩耗性とガラス
と同等の低い反射率を有する着色膜が得られ、また外観
も充分に良好で実用上問題ない。
According to the present coating solution, a uniform and dense transition metal oxide film containing silicon oxide can be formed. Due to its denseness and the properties unique to silicon oxide, high abrasion resistance and low reflectance equivalent to glass are obtained. Is obtained, and the appearance is sufficiently good and there is no practical problem.

【0010】Co、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Z
nおよびランタノイド(La〜Lu)からなる群から選
ばれる1種以上の金属の塩(以下、単に金属塩という)
としては、塗布液を形成する溶媒に可溶であれば特に限
定されないが、溶解性が高く溶媒選択の自由度がある、
キレート錯体を形成した場合に安定性に優れる、熱分解
時に発生するガスの有害度が比較的小さい等の理由から
硝酸塩であることが好ましい。金属塩は1種類で、また
は数種類を混合して用いられる。また意匠性の向上を目
的として黒色系の着色膜を形成する場合、金属塩として
Cuの塩とMnの塩とを併用することが好ましい。Cu
とMnは黒色のスピネル酸化物を形成する。黒色系着色
膜は、X線回折分析においてスピネル酸化物のピークを
有する。
Co, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Z
n and salts of one or more metals selected from the group consisting of lanthanoids (La to Lu) (hereinafter simply referred to as metal salts)
As is not particularly limited as long as it is soluble in the solvent forming the coating solution, there is a high degree of freedom of solvent selection high solubility,
Nitrate is preferred because it has excellent stability when a chelate complex is formed, and the harmfulness of gas generated during thermal decomposition is relatively small. The metal salt is used singly or as a mixture of several types. When a black colored film is formed for the purpose of improving design, it is preferable to use a Cu salt and a Mn salt in combination as metal salts. Cu
And Mn form a black spinel oxide. The black colored film has a spinel oxide peak in X-ray diffraction analysis.

【0011】一般に知られているCoやFeを含むスピ
ネル酸化物は、高温(たとえば800℃)で長時間(た
とえば1時間以上)焼成されることで生成するが、Cu
やMnのスピネル酸化物は比較的低温で生成しやすく、
加熱条件の上限が限られている場合にはきわめて有効で
ある。
A generally known spinel oxide containing Co or Fe is formed by firing at a high temperature (for example, 800 ° C.) for a long time (for example, one hour or more).
And Mn spinel oxides are easy to form at relatively low temperatures,
This is extremely effective when the upper limit of the heating conditions is limited.

【0012】本塗布液中のCu、Mnの組成と、成膜後
の酸化物膜中の組成とは必ずしも一致しない。膜組成と
同等の比率の液組成では、充分な吸光度を有するスピネ
ル酸化物膜を得られないことがある。これは、原料の金
属源を、エチレングリコールオリゴマー、Siのアルコ
キシド等で本塗布液中で安定化しても、焼成過程で一部
昇華して減少したり、または、高温焼成の場合には金属
がイオン化してガラス中にマイグレーションして、結果
的に膜中のCuやMn含有割合が減少する、などが原因
と考えられる。
The composition of Cu and Mn in the present coating solution does not always match the composition in the oxide film after film formation. If the liquid composition has the same ratio as the film composition, a spinel oxide film having a sufficient absorbance may not be obtained. This is because even if the metal source of the raw material is stabilized in the present coating solution with ethylene glycol oligomer, alkoxide of Si, etc., it partially sublimates and decreases during the firing process, or in the case of high-temperature firing, the metal becomes It is considered that the ionization and migration into the glass result in a decrease in the content of Cu or Mn in the film.

【0013】また、CuやMnに添加する他の金属成分
の金属種と量によって、スピネル結晶化する温度や、膜
の耐久性、透過色調などを調整できる。たとえば、Cr
を添加するとより低い焼成条件で結晶化し、黒っぽいグ
レーとなる。Cr添加系では低温結晶化しやすいCr酸
化物が核となって、CuやMnのスピネル結晶化が促進
され、CuやMnの一部がCrに置換されたスピネル結
晶複合酸化物が形成されると考えられる。Cr添加量は
多いほど、結晶化が促進され低温で結晶化しやすくな
り、透過色調は青っぽいグレーとなるが、多すぎると、
膜の緻密性が低下して膜の硬度が低下する。
The temperature at which spinel crystallization is performed, the durability of the film, the transmission color tone, and the like can be adjusted by the type and amount of other metal components added to Cu and Mn. For example, Cr
Is added, the crystals are crystallized under lower firing conditions, giving a dark gray color. In a Cr-added system, a Cr oxide that easily crystallizes at a low temperature becomes a nucleus to promote spinel crystallization of Cu or Mn, thereby forming a spinel crystal composite oxide in which part of Cu or Mn is substituted by Cr. Conceivable. As the amount of Cr added is larger, crystallization is promoted and crystallization is easy at low temperature, and the transmission color tone becomes bluish gray.
The denseness of the film decreases, and the hardness of the film decreases.

【0014】本塗布液中の金属塩の全金属とSiとの総
量に対するCrのモル比は0.01〜0.3であること
が好ましく、特に0.01〜0.1であることが好まし
い。一方、Fe、Coなどを添加することによって、膜
の耐久性を高めたり透過色調を褐色に近づけうる。スピ
ネル結晶化温度はCr添加の場合と逆に上昇し、より多
くの加熱が必要となることもある。
The molar ratio of Cr to the total amount of all metals and Si in the metal salt in the coating solution is preferably from 0.01 to 0.3, and particularly preferably from 0.01 to 0.1. . On the other hand, by adding Fe, Co, or the like, the durability of the film can be increased or the transmission color tone can be made closer to brown. The spinel crystallization temperature rises contrary to the case of adding Cr and may require more heating.

【0015】また、酸化物膜の吸光度を増すために、塩
化ルテニウム、塩化金酸、塩化白金酸などの貴金属化合
物を添加できる。また、酸化物膜の耐薬品性をさらに向
上させたり、屈折率を調整したりできることから、A
l、TiおよびZrからなる群から選ばれる1種以上の
金属のアルコキシドまたはキレートを添加できる。
Further, in order to increase the absorbance of the oxide film, a noble metal compound such as ruthenium chloride, chloroauric acid, or chloroplatinic acid can be added. Further, since the chemical resistance of the oxide film can be further improved and the refractive index can be adjusted,
An alkoxide or chelate of one or more metals selected from the group consisting of l, Ti and Zr can be added.

【0016】本塗布液は、化学式HO(CH2CH2O)
nH(ただしnは2〜8の整数)で表されるエチレング
リコールオリゴマー(以下、単にオリゴマーという)の
1種以上を含むことが好ましい。本発明におけるオリゴ
マーは、分子内にエーテル性酸素、末端には水酸基を有
するために、それらの酸素を介して金属イオンに配位し
ていると考えられ、金属塩の熱分解挙動を変化させるも
のと考えられる。
This coating solution has a chemical formula of HO (CH 2 CH 2 O)
n H (where n is an integer of 2-8) ethylene glycol oligomer (hereinafter, simply referred to as oligomers) represented by preferably contains one or more. The oligomer in the present invention has etheric oxygen in the molecule and a hydroxyl group at the terminal, and is considered to be coordinated to a metal ion via those oxygens, thereby changing the thermal decomposition behavior of the metal salt. it is conceivable that.

【0017】本発明におけるオリゴマーは、2量体(上
述の化学式におけるn=2)〜8量体(n=8)となっ
ている。単量体(n=1)、すなわちエチレングリコー
ルでは均質で緻密な酸化物膜を形成しにくく、添加の効
果が小さい。9量体以上の高分子では、金属イオンへ配
位しにくいためか、良好な結果が得られにくい。
The oligomer in the present invention is a dimer (n = 2 in the above chemical formula) to an octamer (n = 8). With a monomer (n = 1), that is, ethylene glycol, it is difficult to form a homogeneous and dense oxide film, and the effect of addition is small. In the case of a polymer having 9 or more mers, it is difficult to obtain good results, probably because it is difficult to coordinate with metal ions.

【0018】オリゴマーは、単独または2種以上の混合
物で用いられる。プロピレングリコールの重合体では添
加の効果が小さい(緻密な膜が得られず、剥離が起きた
り、吸光度が上がりにくい)。これは立体的な構造の違
いにより金属イオンへの配位状態の違いが原因と考えら
れる。
The oligomer is used alone or in a mixture of two or more. The effect of addition is small with a propylene glycol polymer (a dense film cannot be obtained, peeling occurs, and the absorbance does not easily increase). This is probably due to the difference in the coordination state to the metal ion due to the difference in the three-dimensional structure.

【0019】オリゴマーの具体例としては、ジエチレン
グリコール(n=2)、トリエチレングリコール(n=
3)、テトラエチレングリコール(n=4)、ペンタエ
チレングリコール(n=5)、ヘキサエチレングリコー
ル(n=6)、ヘプタエチレングリコール(n=7)、
オクタエチレングリコール(n=8)が挙げられる。ま
た、前記したオリゴマーを主成分として含み、2種以上
のオリゴマーの混合物として市販されているポリエチレ
ングリコール#200(重合体の混合物であり、平均分
子量は200)、ポリエチレングリコール#300(重
合体の混合物であり、平均分子量は300)なども用い
うる。
Specific examples of the oligomer include diethylene glycol (n = 2) and triethylene glycol (n = 2).
3), tetraethylene glycol (n = 4), pentaethylene glycol (n = 5), hexaethylene glycol (n = 6), heptaethylene glycol (n = 7),
Octaethylene glycol (n = 8) is exemplified. In addition, polyethylene glycol # 200 (a mixture of polymers, having an average molecular weight of 200), which contains the aforementioned oligomer as a main component and is commercially available as a mixture of two or more oligomers, and polyethylene glycol # 300 (a mixture of polymers) And an average molecular weight of 300).

【0020】オリゴマーとしては、得られる酸化物膜の
緻密さおよび均質性の観点、または入手のしやすさの観
点から、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびテトラエチレングリコールからなる群から選ば
れる1種以上が好ましい。また、ポリエチレングリコー
ル#200も好ましく用いられる。オリゴマーは、ごく
微量の添加で効果があるが、逆に添加量が多すぎると、
金属イオンとの配位に関与しないオリゴマーが増えるた
めか、焼成後の酸化物膜の均質性を阻害し膜の硬度が低
下したり、外観を損ねる傾向にある。本発明において
は、塗布液中の金属塩の全金属とSiとの総量に対する
オリゴマーのモル比が0.3以下であることが好まし
い。オリゴマーの添加量は必要最小限にすることが好ま
しい。
As the oligomer, at least one selected from the group consisting of diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol is preferred from the viewpoints of the density and homogeneity of the obtained oxide film or the availability. preferable. Further, polyethylene glycol # 200 is also preferably used. Oligomer is effective with a very small amount of addition, conversely, if the addition amount is too large,
Perhaps because the number of oligomers that do not participate in coordination with metal ions increases, the homogeneity of the baked oxide film is hindered, and the hardness of the film tends to decrease or the appearance tends to be impaired. In the present invention, the molar ratio of the oligomer to the total amount of all metals and Si in the metal salt in the coating liquid is preferably 0.3 or less. It is preferable that the addition amount of the oligomer be minimized.

【0021】本塗布液におけるSi酸化物前駆体(Si
のアルコキシドまたはその部分加水分解物をいう、以下
同じ。)は、金属塩の全金属とSiとの総量に対するS
iのモル比が0.28以上となるように含有される。
0.28以上とすることで酸化物膜の耐久性(特に実用
上重視されることが多い耐摩耗性)が飛躍的に向上す
る。得られる酸化物膜は、高い耐摩耗性を要求される用
途、たとえば自動車用のドアガラスなどに充分使用可能
な耐久性を有する。
[0021] The Si oxide precursor (Si
And the same applies hereinafter. ) Is S with respect to the total amount of all metals and Si of the metal salt.
It is contained so that the molar ratio of i becomes 0.28 or more.
When the ratio is 0.28 or more, the durability of the oxide film (particularly, abrasion resistance, which is often emphasized in practical use) is remarkably improved. The resulting oxide film has durability enough to be used for applications requiring high wear resistance, for example, door glass for automobiles.

【0022】Siの含有量が増えるにしたがって耐摩耗
性は向上するが、CuやMnのスピネル結晶化が起こり
にくくなる。結晶化を促進するためには、Cr添加量を
増したり、より多くの加熱を行うとよい。充分な耐久性
を発現し、かつ結晶化を阻害しないSiの含有量として
は、金属塩の全金属とSiとの総量に対するSiのモル
比が0.30〜0.60であること好ましい。
Although the wear resistance is improved as the Si content is increased, spinel crystallization of Cu or Mn is less likely to occur. In order to promote crystallization, it is advisable to increase the amount of added Cr or perform more heating. As the content of Si which exhibits sufficient durability and does not inhibit crystallization, the molar ratio of Si to the total amount of all metals and Si in the metal salt is preferably 0.30 to 0.60.

【0023】Si酸化物前駆体としては、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシ
ラン、テトラブトキシシランなどの単量体や、前記アル
コキシドの縮合体であるヘキサエトキシジシロキサン、
オクタエトキシトリシロキサン、デカエトキシテトラシ
ロキサン、エトキシポリシロキサンや、単量体と縮合体
の混合物であるエチルシリケート40などが挙げられ
る。
Examples of the Si oxide precursor include monomers such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane; hexaethoxydisiloxane which is a condensate of the alkoxide;
Examples include octaethoxytrisiloxane, decaethoxytetrasiloxane, ethoxypolysiloxane, and ethyl silicate 40 which is a mixture of a monomer and a condensate.

【0024】さらに、アルコキシ基の一部がアルキル基
に置換された、すなわちアルコキシ基とアルキル基とを
有するアルキルアルコキシシランも用いられる。アルキ
ル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、 2
−エチルブチル、オクチルなどの直鎖状または分岐状の
アルキル基や、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの
シクロアルキル基などが挙げられる。Siのアルコキシ
ドの加水分解生成物の合成方法としては、公知の方法が
用いられる。生成物を制御するうえでは、アルコキシド
の種類や量、加水分解触媒の種類や量、水の量、反応方
法、反応時間、反応温度、撹拌条件等が重要なファクタ
である。
Further, an alkylalkoxysilane in which an alkoxy group is partially substituted with an alkyl group, that is, an alkylalkoxysilane having an alkoxy group and an alkyl group is also used. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl,
Linear or branched alkyl groups such as -ethylbutyl and octyl, and cycloalkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl. As a method for synthesizing the hydrolysis product of the alkoxide of Si, a known method is used. In controlling the product, the type and amount of the alkoxide, the type and amount of the hydrolysis catalyst, the amount of water, the reaction method, the reaction time, the reaction temperature, the stirring conditions, and the like are important factors.

【0025】Siのアルコキシドに水や触媒を添加する
にあたっては、1)Siのアルコキシドと水とを混合す
る方法、2)Siのアルコキシドと水とを酸の存在下で
混合する方法、3)Siのアルコキシドと水とをアルカ
リの存在下で混合する方法、などの方法が好ましい。前
記2)の方法における酸としては、硫酸、塩酸、硝酸、
リン酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸などが好まし
い。なお、Siのアルコキシドと水との混合物に硝酸銅
を添加し、酸性溶液とすることなども一態様である。ま
た3)の方法におけるアルカリとしてはアンモニアなど
を用いる。
When adding water or a catalyst to the Si alkoxide, 1) a method of mixing the Si alkoxide and water, 2) a method of mixing the Si alkoxide and water in the presence of an acid, 3) Si And a method of mixing the alkoxide with water in the presence of an alkali. As the acid in the method 2), sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid,
Phosphoric acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and the like are preferred. In one embodiment, copper nitrate is added to a mixture of an alkoxide of Si and water to form an acidic solution. Ammonia or the like is used as the alkali in the method 3).

【0026】本発明の塗布液に用いる溶媒としては、金
属塩とオリゴマーとを同時に溶解させ、かつ金属塩とオ
リゴマーとの反応生成物(錯体)を溶解させうる溶媒が
用いられる。塗膜のレベリング性(均一性)や乾燥時に
発生する色ムラ抑制の観点から、2種類以上の混合溶媒
とすることも有効である。2種類以上の混合溶媒を用い
る場合、その内の1種以上の溶媒が前記錯体を溶解する
溶媒であり、他の溶媒が前記錯体を溶解しない溶媒であ
ってもよい。
As the solvent used in the coating solution of the present invention, a solvent capable of simultaneously dissolving the metal salt and the oligomer and dissolving the reaction product (complex) of the metal salt and the oligomer is used. It is also effective to use a mixed solvent of two or more types from the viewpoint of leveling property (uniformity) of the coating film and suppression of color unevenness generated during drying. When two or more mixed solvents are used, one or more of them may be a solvent that dissolves the complex, and the other solvent may be a solvent that does not dissolve the complex.

【0027】溶媒としては、水、低級1価アルコール
(メタノール、エタノール、プロパノール等)、水溶性
ジオール(エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、へキシレングリコール等)、エーテルアルコール
(セロソルブ類、カルビトール類等)、ケトン(メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エステ
ル、エーテル、アセタールなどが挙げられる。また、単
に溶媒としてだけではなく、塗布液中で金属に配位して
キレートを形成し金属源の安定化に寄与するものもあ
る。たとえば、エーテルアルコール、水溶性ジオール
(特にヘキシレングリコール)の溶媒などが挙げられ
る。
Examples of the solvent include water, lower monohydric alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol), water-soluble diols (eg, ethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol), ether alcohols (eg, cellosolves, carbitols), and the like. Ketones (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), esters, ethers, acetals, and the like. In addition, some of them not only serve as a solvent but also coordinate with a metal in a coating solution to form a chelate and contribute to stabilization of a metal source. For example, solvents of ether alcohol and water-soluble diol (particularly hexylene glycol) are exemplified.

【0028】塗膜乾燥過程においては、溶剤蒸発、高分
子量化にともなう粘性の変化、表面張力の変化などに起
因して、また外来異物などにより、塗膜外観に膜厚ムラ
やピンホール、クレータ状欠点などが発生しやすい。ま
た、焼成時にも膜の収縮が大きいために、特に厚膜にな
ると、微小な亀裂やクラックが入りやすくなる。このよ
うな塗膜乾燥、焼成時の外観欠点の抑制には、塗布液中
に樹脂を添加することが重要である。
In the coating film drying process, due to solvent evaporation, a change in viscosity due to the increase in molecular weight, a change in surface tension, and the like, and foreign matter and the like, unevenness in film thickness, pinholes, craters, etc. Defects are likely to occur. In addition, since the film shrinks greatly even during firing, minute cracks and cracks are likely to be formed particularly when the film is thick. It is important to add a resin to the coating solution for suppressing such appearance defects during drying and baking of the coating film.

【0029】本塗布液に用いる樹脂としては、金属塩と
溶媒からなる溶液に可溶なものであれば特に限定されな
い。金属塩に硝酸塩を使用した場合には塗布液が水溶性
となることが多いため、水系塗料用添加剤(レベリング
剤、表面調整剤、粘弾性調整剤)にも用いられることの
多い水溶性樹脂を用いると溶解性も高く効果的である。
The resin used in the present coating solution is not particularly limited as long as it is soluble in a solution comprising a metal salt and a solvent. When a nitrate is used as a metal salt, the coating solution often becomes water-soluble, and thus a water-soluble resin often used as an additive for water-based paints (leveling agent, surface conditioner, viscoelasticity adjuster). The use of is effective in increasing the solubility.

【0030】さらに、溶解性以外に考慮すべき樹脂の特
性として、塗布液の粘性への影響、および熱分解温度が
挙げられる。粘性は塗膜のレベリング性、膜外観と密接
に関連するため、塗布液の性質や所望の膜厚に合わせる
必要がある。また、塗膜を乾燥、焼成する段階で樹脂を
膜中に残留させたくない場合には、比較的低温で分解
し、最終焼成後にはほとんど膜中に残留しない樹脂を用
いることが好ましい。取り扱い上は、毒性が少なく安全
な樹脂(たとえば多糖類など)が好ましい。
Further, other characteristics of the resin to be considered besides the solubility include the effect on the viscosity of the coating solution and the thermal decomposition temperature. Since the viscosity is closely related to the leveling property of the coating film and the appearance of the coating, it is necessary to adjust the viscosity to the properties of the coating liquid and the desired film thickness. When it is not desired to leave the resin in the film at the stage of drying and baking the coating film, it is preferable to use a resin that decomposes at a relatively low temperature and hardly remains in the film after the final baking. In terms of handling, a resin having low toxicity and safe (for example, polysaccharide) is preferable.

【0031】水溶性樹脂の例としては、セルロース誘導
体系(メチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロースなど)、タンパク質系(カゼイン、カゼイン
酸ナトリウム、カゼイン酸アンモニウムなど)、アルギ
ン酸系(アルギン酸ナトリウムなど)、ポリビニル系
(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンな
ど)、ポリアクリル酸系(ポリアクリル酸、ポリアクリ
ル酸ナトリウムなど)、ポリエーテル系(ポリエーテル
ジアルキルエステル、ポリエーテルジアルキルエーテ
ル、ポリエーテルウレタン変性物、ポリエーテルエポキ
シ変性物など)、無水マレイン酸共重合体系(ビニルメ
チルエーテル−無水マレイン酸共重合物の部分エステル
など)などが挙げられる。
Examples of the water-soluble resin include cellulose derivatives (eg, methylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose), protein (eg, casein, sodium caseinate, ammonium caseinate), and alginic acid (eg, sodium alginate). ), Polyvinyl (polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, etc.), polyacrylic acid (polyacrylic acid, sodium polyacrylate, etc.), polyether (polyether dialkyl ester, polyether dialkyl ether, modified polyether urethane, polyether) Ether-epoxy modified products), and maleic anhydride copolymers (such as partial esters of vinyl methyl ether-maleic anhydride copolymers).

【0032】また、非水系塗布液にも使用しうる樹脂の
例としては、エチルセルロース、ポリアクリル酸アルキ
ル、ポリアルキルビニルエーテル、ジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン、有機変性ポリシ
ロキサン(たとえば変性シリコーンオイル)などが挙げ
られる。特にセルロース誘導体系は、水溶性、非水溶性
とも各種あるため選択の幅が広く、400℃以下の焼成
で熱分解しやすく、さらに毒性がなく安全であるため好
ましく用いられる。
Examples of resins that can be used in the non-aqueous coating liquid include ethyl cellulose, polyalkyl acrylate, polyalkyl vinyl ether, dimethyl polysiloxane, methyl phenyl polysiloxane, and organic modified polysiloxane (for example, modified silicone oil). And the like. Particularly, the cellulose derivative is widely used because it has various water-soluble and water-insoluble properties, and it is preferably used because it is easily decomposed by firing at 400 ° C. or lower, and is safe without toxicity.

【0033】樹脂の添加量は、コート工法、塗膜の乾
燥、焼成工程、および最終的に得られる膜物性に合わせ
て適宜選択すればよく、特に限定されない。樹脂は焼成
後に膜に残存する場合は膜形成成分となる一方、膜中の
樹脂の残存量が過剰であると膜の物性が劣化する傾向に
あり、このような観点から、樹脂の添加量は、金属塩の
全金属とSiとの総量に対する重量比で0.001〜
8.00であることが好ましく、特に0.01〜3.0
0であることが好ましい。
The amount of the resin to be added may be appropriately selected according to the coating method, the drying and baking steps of the coating film, and the physical properties of the finally obtained film, and is not particularly limited. When the resin remains in the film after baking, it becomes a film-forming component.On the other hand, when the amount of the resin remaining in the film is excessive, the physical properties of the film tend to deteriorate. , The weight ratio of the metal salt to the total amount of all metals and Si is 0.001 to 0.001.
8.00, preferably 0.01 to 3.0.
It is preferably 0.

【0034】塗膜外観欠点抑制の観点から、塗料添加剤
として用いられる各種界面活性剤を添加できる。特に、
シリコーン系、フッ素系などの界面活性剤には膜厚ムラ
抑制に効果的なものがある。本塗布液においては、ケイ
酸塩、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナなどの無
機系添加剤も添加できる。
From the viewpoint of suppressing the appearance defects of the coating film, various surfactants used as paint additives can be added. In particular,
Some surfactants such as silicone-based and fluorine-based surfactants are effective in suppressing film thickness unevenness. In the present coating liquid, inorganic additives such as silicate, colloidal silica, and colloidal alumina can also be added.

【0035】本発明は、本塗布液を基体上に塗布し、3
00℃以上の温度で焼成する酸化物膜形成方法を提供す
る。300℃未満の温度では分解が進みにくい。温度の
上限は特になく、基体の耐熱温度まで、たとえば通常の
ソーダライムガラスであれば650〜700℃程度まで
加熱ができ、温度が高くなるほど酸化物膜は緻密化す
る。
In the present invention, the present coating solution is applied onto a substrate,
Provided is a method for forming an oxide film, which is fired at a temperature of 00 ° C. or more. At a temperature lower than 300 ° C., decomposition does not easily proceed. There is no particular upper limit on the temperature, and heating can be performed up to the heat-resistant temperature of the substrate, for example, about 650 to 700 ° C. in the case of ordinary soda lime glass. The higher the temperature, the more dense the oxide film.

【0036】本発明における酸化物膜の膜厚(幾何学的
膜厚)は、特に限定されないが、意匠性や実用上の耐久
性の観点から、20〜500nmであることが好まし
く、特に50〜400nmが好ましい。膜厚を調整する
ことにより、所望の可視光透過率となしうる。
The thickness (geometric thickness) of the oxide film in the present invention is not particularly limited, but is preferably from 20 to 500 nm, particularly preferably from 50 to 500 nm, from the viewpoint of design and practical durability. 400 nm is preferred. The desired visible light transmittance can be achieved by adjusting the film thickness.

【0037】Si酸化物を含む膜をガラス基体に形成す
る場合、高温で加熱すると膜の収縮に伴ってガラス基体
が反りやすいが、本発明においては、このような問題は
生じにくい。これは、本塗布液が金属塩を含む結果、得
られる膜の熱膨張率がガラスと同等かむしろ大きくな
り、厚膜を形成しても高温焼成時のガラス基体の反りが
生じ難くなるためと考えられる。
When a film containing a Si oxide is formed on a glass substrate, the glass substrate is likely to be warped due to shrinkage of the film when heated at a high temperature. However, in the present invention, such a problem hardly occurs. This is because the present coating solution contains a metal salt, and as a result, the coefficient of thermal expansion of the resulting film becomes equal to or rather large than that of glass, and even when a thick film is formed, the glass substrate is less likely to warp during high-temperature firing. Conceivable.

【0038】また、基体上に、本塗布液を塗布、加熱し
て形成した酸化物膜(下層膜)上に、さらに本塗布液を
塗布することにより、下層膜の細孔中に塗布液が浸透す
る。塗布後、300℃以上の温度に加熱することによ
り、さらに緻密で高耐久性の多層の酸化物膜が得られ
る。多層の酸化物膜は同じ組成の塗布液を用いて多層膜
としてもよく、異なる組成の塗布液を用いて多層膜とし
てもよい。
Further, the present coating solution is further applied on an oxide film (lower film) formed by applying and heating the present coating solution on a substrate, so that the coating solution is contained in the pores of the lower film. Penetrate. By heating to a temperature of 300 ° C. or higher after the application, a denser and more durable multilayer oxide film can be obtained. The multi-layer oxide film may be formed into a multi-layer film by using a coating solution having the same composition, or may be formed into a multi-layer film using a coating solution having a different composition.

【0039】透明基体(たとえばガラス基体)の遮光性
付与を目的とする場合、1層で目標の値まで透過率を下
げるのに比べ、2層に分けた方がより薄い膜厚で加熱、
熱分解できるため、より緻密な膜が得られる。しかも、
1層目の熱分解で生じた多孔質膜の細孔中に塗布液が浸
透し、さらに緻密で高耐久性の膜が得られる。
For the purpose of imparting a light-shielding property to a transparent substrate (for example, a glass substrate), it is possible to reduce the transmittance to a target value in one layer and to heat the thinner film in a thinner layer than in one layer.
Since it can be thermally decomposed, a denser film can be obtained. Moreover,
The coating solution penetrates into the pores of the porous film generated by the first layer thermal decomposition, and a denser and more durable film is obtained.

【0040】多層とした場合、酸化物膜の合計膜厚は、
特に限定されないが、実用上の耐久性の観点から、20
〜600nmであることが好ましく、特に50〜500
nmが好ましい。多層膜の場合、それぞれの層の膜厚は
特に限定されず、所望の膜厚で形成できる。2層目を薄
く(たとえば100nm以下程度)形成すると、膜の表
面の緻密性が増し、摩耗などに対する耐久性が向上す
る。また、逆に1層目を薄く形成して、基体と2層目の
密着性を増すといった膜構成も有効である。
In the case of a multilayer, the total thickness of the oxide film is
Although not particularly limited, from the viewpoint of practical durability, 20
600600 nm, particularly preferably 50-500 nm.
nm is preferred. In the case of a multilayer film, the thickness of each layer is not particularly limited, and can be formed to a desired thickness. When the second layer is formed thin (for example, about 100 nm or less), the denseness of the surface of the film is increased, and the durability against abrasion and the like is improved. Conversely, a film configuration in which the first layer is formed thin to increase the adhesion between the base and the second layer is also effective.

【0041】塗布液の基体への塗布方法は特に限定され
ず、スピンコート、ディップコート、スプレーコート、
メニスカスコート、フローコート、転写印刷、スクリー
ン印刷等などが挙げられる。
The method of applying the coating solution to the substrate is not particularly limited, and may be spin coating, dip coating, spray coating,
Meniscus coat, flow coat, transfer printing, screen printing and the like can be mentioned.

【0042】本発明は、また、基体上に前記の酸化物膜
形成方法により酸化物膜が形成されてなる酸化物膜付き
基体を提供する。基体としては300℃以上の耐熱性が
あることが好ましく、たとえばガラス基体、セラミック
ス基体等が挙げられる。
The present invention also provides a substrate with an oxide film formed by forming an oxide film on the substrate by the above-described method for forming an oxide film. The substrate preferably has heat resistance of 300 ° C. or higher, and examples thereof include a glass substrate and a ceramic substrate.

【0043】本発明は、自動車用窓ガラス(特に昇降す
る自動車用窓ガラス)に前記の酸化物膜形成方法により
酸化物膜を形成し酸化物膜付き自動車用窓ガラスを得る
うえで好適である。
The present invention is suitable for forming an oxide film on an automobile window glass (especially, an ascending and descending automobile window glass) by the above-described oxide film forming method to obtain an automobile window glass with an oxide film. .

【0044】[0044]

【実施例】以下に本発明の詳細を実施例(例1〜9、1
2〜15)および比較例(例10、11、16)を挙げ
て示すが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The details of the present invention will be described below with reference to Examples (Examples 1 to 9 and 1).
2 to 15) and Comparative Examples (Examples 10, 11, and 16), but the present invention is not limited thereto.

【0045】例1〜11に用いた基体は、フロート法に
より製造された4mm厚のグリーン色熱線吸収ガラス基
板(100mm×100mmの大きさ、可視光透過率7
9%、可視光反射率8%)である。
The substrate used in Examples 1 to 11 was a 4 mm-thick green heat ray absorbing glass substrate (100 mm × 100 mm in size, visible light transmittance of 7 mm) manufactured by a float method.
9% and a visible light reflectance of 8%).

【0046】表1(金属源の種類と量(単位:g)、オ
リゴマーの種類と量(単位:g)および溶媒)に示す割
合で原料を混合し、50℃で2時間撹拌したものを塗布
液とした。なお、表1で用いた略称は表3に示す。Si
OR以外の金属源は硝酸塩である。塗布液中の金属塩の
全金属とSiとの総量に対するCrのモル比(C/
M)、塗布液中の金属塩の全金属とSiとの総量に対す
るSiのモル比(S/M)、塗布液中の金属塩の全金属
とSiとの総量に対するオリゴマーのモル比(EG/
M)、樹脂の種類、塗布液中の金属塩の全金属とSiと
の総量に対する樹脂の重量比(P/W)も表1に示す。
The raw materials were mixed at the ratios shown in Table 1 (type and amount of metal source (unit: g), type and amount of oligomer (unit: g) and solvent), and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours and coated. Liquid. The abbreviations used in Table 1 are shown in Table 3. Si
Metal sources other than OR are nitrates. The molar ratio of Cr to the total amount of all metal and Si in the metal salt in the coating solution (C /
M), the molar ratio of Si to the total amount of metal and Si in the coating solution (S / M), the molar ratio of oligomer to the total amount of metal and Si in the coating solution (EG /
Table 1 also shows M), the type of resin, and the weight ratio (P / W) of the resin to the total amount of all metals and Si in the metal salt in the coating solution.

【0047】例1〜7、10、11においては、基板に
スピンコータを用いて塗布後、焼成して、反射率10%
以下の試料を得た。例8、9においては、例1同様に、
上記基板にスピンコータを用いて下層液を塗布し、50
0℃で2分間焼成して下層を形成した後、スピンコータ
を用いて上層液を塗布、焼成して上層を形成し、反射率
10%以下の試料を得た。
In Examples 1 to 7, 10 and 11, the substrate was coated with a spin coater and then baked to obtain a reflectance of 10%.
The following samples were obtained. In Examples 8 and 9, as in Example 1,
The lower layer liquid is applied to the substrate using a spin coater,
After baking at 0 ° C. for 2 minutes to form a lower layer, an upper layer liquid was applied using a spin coater and fired to form an upper layer, thereby obtaining a sample having a reflectance of 10% or less.

【0048】例12においては、基体としてフロート法
により製造された4mm厚のグリーン色熱線吸収ガラス
(1m×2mの大きさ、可視光透過率79%、可視光反
射率8%)で形成された自動車のサイドドアに用いる窓
ガラスを用い、表1に示す塗布液をフレキソ印刷法によ
り塗布後、表2に示す条件で焼成して膜を形成した。
In Example 12, the substrate was formed of a 4 mm-thick green heat ray absorbing glass (1 m × 2 m, visible light transmittance 79%, visible light reflectance 8%) manufactured by a float method. Using a window glass used for a side door of an automobile, a coating solution shown in Table 1 was applied by flexographic printing, and then fired under the conditions shown in Table 2 to form a film.

【0049】また、例13においては、例12における
フレキソ印刷法のかわりにディップコート法を用いて表
1に示す塗布液を塗布し、表2に示す条件で焼成した以
外は例12と同様に行った。
In Example 13, the coating liquid shown in Table 1 was applied by using a dip coating method instead of the flexographic printing method in Example 12, and baked under the conditions shown in Table 2, in the same manner as in Example 12. went.

【0050】また、例14、15、16においては、例
12におけるフレキソ印刷法のかわりにダイコート法を
用いて表1に示す塗布液を塗布し、表2に示す条件で焼
成した以外は例12と同様に行った。なお、外観向上を
目的として、溶媒は混合溶媒を用い、その重量比率は、
例14、16については、HG/PGM/MIBK/M
EK=12/53/14/21、例15については、H
G/IPA/PGMAC=25/55/20とした。
In Examples 14, 15, and 16, the coating liquids shown in Table 1 were applied by using a die coating method instead of the flexographic printing method in Example 12, and baked under the conditions shown in Table 2. The same was done. In addition, for the purpose of improving the appearance, a mixed solvent is used as the solvent, and the weight ratio is
For Examples 14 and 16, HG / PGM / MIBK / M
EK = 12/53/14/21; for Example 15, H
G / IPA / PGMAC = 25/55/20.

【0051】最外層の酸化物膜の焼成条件、膜厚(多層
の場合は合計膜厚)、得られた試料の可視光透過率Tv
(JIS−R3106)、透過色、耐摩耗性を表2に示
す。耐摩耗性は、荷重500gf、1000回転のテー
バー摩耗試験(JIS−R3212)後のヘイズ値変化
ΔH(%)の結果を示した。なお、実用上必要とされる
ΔHは5.0%以下である。
The firing conditions and film thickness (total film thickness in the case of multilayer) of the outermost oxide film, and the visible light transmittance T v of the obtained sample
(JIS-R3106), transmission color and abrasion resistance are shown in Table 2. The abrasion resistance was the result of a change in haze value ΔH (%) after a Taber abrasion test (JIS-R3212) with a load of 500 gf and 1000 rotations. Note that ΔH required for practical use is 5.0% or less.

【0052】例12〜16で得られた酸化物膜付き自動
車用サイドドアガラスは、実用上充分な耐摩耗性を有し
ていることが確認され、例12〜15においてはピンホ
ールや膜厚ムラのほとんどない良好な外観の酸化物膜が
得られた。しかし例16においては、ピンホールが多数
あり、実用上充分な外観であるとは言い難かった。
It was confirmed that the automotive side door glass with an oxide film obtained in Examples 12 to 16 had sufficient abrasion resistance for practical use. An oxide film having good appearance and almost no unevenness was obtained. However, in Example 16, there were many pinholes, and it was hard to say that the appearance was practically sufficient.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【表3】 [Table 3]

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の酸化物膜形成用塗布液によれ
ば、きわめて耐摩耗性が高く外観欠点の少ない遷移金属
酸化物膜を容易に形成できる。また、高い耐摩耗性を要
求される自動車用ドアガラスなどに使用しうる高意匠性
のガラスを、生産性良く、低コストで生産できる。
According to the coating liquid for forming an oxide film of the present invention, it is possible to easily form a transition metal oxide film having extremely high abrasion resistance and little appearance defects. In addition, high-design glass that can be used for automobile door glass or the like that requires high wear resistance can be produced with good productivity and at low cost.

フロントページの続き Fターム(参考) 4G059 AA01 AC08 EA01 EA05 EB07 FA05 FA28 FA29 FB05 4J038 AA011 AA012 DL021 DL051 EA011 HA331 HA332 HA441 HA442 JA27 JC32 NA01 NA11 PA19 Continued on the front page F term (reference) 4G059 AA01 AC08 EA01 EA05 EB07 FA05 FA28 FA29 FB05 4J038 AA011 AA012 DL021 DL051 EA011 HA331 HA332 HA441 HA442 JA27 JC32 NA01 NA11 PA19

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Co、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Z
nおよびランタノイド(La〜Lu)からなる群から選
ばれる1種以上の金属の塩と、Siのアルコキシドまた
はその部分加水分解物と、樹脂とを含む塗布液であっ
て、塗布液中の前記金属の塩の全金属とSiとの総量に
対するSiの原子比が0.28以上である酸化物膜形成
用塗布液。
1. Co, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Z
a coating solution containing at least one metal salt selected from the group consisting of n and lanthanoids (La to Lu), an alkoxide of Si or a partial hydrolyzate thereof, and a resin, wherein the metal in the coating solution is The coating liquid for forming an oxide film, wherein the atomic ratio of Si to the total amount of all metals and Si of the salt is 0.28 or more.
【請求項2】金属の塩がCuの塩とMnの塩とからなる
請求項1に記載の酸化物膜形成用塗布液。
2. The coating solution for forming an oxide film according to claim 1, wherein the metal salt comprises a Cu salt and a Mn salt.
【請求項3】金属の塩が硝酸塩である請求項1または2
に記載の酸化物膜形成用塗布液。
3. The method according to claim 1, wherein the metal salt is a nitrate.
3. The coating solution for forming an oxide film according to item 1.
【請求項4】化学式HO(CH2CH2O)nH(ただし
nは2〜8の整数)で表されるエチレングリコールオリ
ゴマーの1種以上を含む請求項1、2または3に記載の
酸化物膜形成用塗布液。
4. The oxidation according to claim 1, comprising at least one ethylene glycol oligomer represented by the chemical formula HO (CH 2 CH 2 O) n H (where n is an integer of 2 to 8). Coating solution for material film formation.
【請求項5】エチレングリコールオリゴマーが、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコールおよびテトラ
エチレングリコールからなる群から選ばれる1種以上で
ある請求項4に記載の酸化物膜形成用塗布液。
5. The coating liquid for forming an oxide film according to claim 4, wherein the ethylene glycol oligomer is at least one selected from the group consisting of diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol.
【請求項6】塗布液中の前記金属の塩の全金属に対する
エチレングリコールオリゴマーのモル比が0.3以下で
ある請求項4または5に記載の酸化物膜形成用塗布液。
6. The coating solution for forming an oxide film according to claim 4, wherein the molar ratio of the ethylene glycol oligomer to all metals of the metal salt in the coating solution is 0.3 or less.
【請求項7】樹脂が水溶性樹脂である請求項1〜6のい
ずれかに記載の酸化物膜形成用塗布液。
7. The coating liquid for forming an oxide film according to claim 1, wherein the resin is a water-soluble resin.
【請求項8】請求項1〜7のいずれかに記載の酸化物膜
形成用塗布液を基体上に塗布し、300℃以上の温度で
焼成する酸化物膜形成方法。
8. A method for forming an oxide film, comprising applying the coating solution for forming an oxide film according to claim 1 on a substrate and firing at a temperature of 300 ° C. or higher.
【請求項9】基体上に請求項8に記載の酸化物膜形成方
法により酸化物膜が形成されてなる酸化物膜付き基体。
9. A substrate with an oxide film, wherein an oxide film is formed on the substrate by the method for forming an oxide film according to claim 8.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005036208A (en) * 2003-06-30 2005-02-10 Ube Ind Ltd Coating liquid for forming metal oxide thin film and method of forming the same film
JP2013533909A (en) * 2010-06-18 2013-08-29 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Inorganic oxide coating

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07330379A (en) * 1994-05-31 1995-12-19 Asahi Glass Co Ltd Colored transparent material
JPH08283040A (en) * 1995-04-06 1996-10-29 Mitsuboshi Belting Ltd Glass colorant composition excellent in screen printability
JPH0930836A (en) * 1995-02-27 1997-02-04 Central Glass Co Ltd Glass with light screening film and its production
JPH09156962A (en) * 1995-12-11 1997-06-17 Nippon Sheet Glass Co Ltd Composition for optical coating and production of coated article
JPH09169546A (en) * 1995-06-21 1997-06-30 Asahi Glass Co Ltd Coating solution for forming oxide coating film, formation of oxide coating film and multilayered film
JPH10231145A (en) * 1996-11-21 1998-09-02 Mitsuboshi Belting Ltd Production of colored and baked film
JPH11152425A (en) * 1997-11-20 1999-06-08 Central Glass Co Ltd Coating solution for forming gray colored film and method for forming coating film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07330379A (en) * 1994-05-31 1995-12-19 Asahi Glass Co Ltd Colored transparent material
JPH0930836A (en) * 1995-02-27 1997-02-04 Central Glass Co Ltd Glass with light screening film and its production
JPH08283040A (en) * 1995-04-06 1996-10-29 Mitsuboshi Belting Ltd Glass colorant composition excellent in screen printability
JPH09169546A (en) * 1995-06-21 1997-06-30 Asahi Glass Co Ltd Coating solution for forming oxide coating film, formation of oxide coating film and multilayered film
JPH09156962A (en) * 1995-12-11 1997-06-17 Nippon Sheet Glass Co Ltd Composition for optical coating and production of coated article
JPH10231145A (en) * 1996-11-21 1998-09-02 Mitsuboshi Belting Ltd Production of colored and baked film
JPH11152425A (en) * 1997-11-20 1999-06-08 Central Glass Co Ltd Coating solution for forming gray colored film and method for forming coating film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005036208A (en) * 2003-06-30 2005-02-10 Ube Ind Ltd Coating liquid for forming metal oxide thin film and method of forming the same film
JP4622338B2 (en) * 2003-06-30 2011-02-02 宇部興産株式会社 Method for forming magnesium oxide thin film
JP2013533909A (en) * 2010-06-18 2013-08-29 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Inorganic oxide coating
JP2018087346A (en) * 2010-06-18 2018-06-07 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Inorganic oxide coating

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