JP2000304900A - Electron beam irradiation device and particle sterilizing method - Google Patents

Electron beam irradiation device and particle sterilizing method

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JP2000304900A
JP2000304900A JP11431299A JP11431299A JP2000304900A JP 2000304900 A JP2000304900 A JP 2000304900A JP 11431299 A JP11431299 A JP 11431299A JP 11431299 A JP11431299 A JP 11431299A JP 2000304900 A JP2000304900 A JP 2000304900A
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Japan
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electron beam
granular material
vibrating
vibration
particles
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Application number
JP11431299A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Hayashi
徹 林
Kenji Kato
健治 加藤
Toshiro Nishikimi
敏朗 錦見
Mutsumi Mizutani
睦 水谷
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Japan Science and Technology Agency
National Food Research Institute
Nissin High Voltage Co Ltd
Original Assignee
National Food Research Institute
Nissin High Voltage Co Ltd
Japan Science and Technology Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To turn particles more quickly for uniformly applying electron beams to them so as to increase an electron beam processing amount by conveying the particles on a vibrating conveyor while intensively turning and rotating them because of uneven ness and vibration. SOLUTION: In a vibrating conveyor 6 having an uneven vibrating board 7 surface and arranged horizontally/slantingly, an electron beam is irradiated to a part of the vibrating board 7 via an irradiation window. That is, the vibrating board 7 having projections and recesses is vibrated for conveying particles. As the vibrating conveyor 6 blows off the particles forward by vibration, the particles can be conveyed. A dimension and a shape of the particles are varied according to its sort, for example, a dimension and a shape of rice are different from those of wheat, so that the shape and arrangement of unevenness, and a vibration frequency, a vibrating direction and amplitude of the conveying face are properly regulated. For instance, particles are conveyed by the conveyor 6 having a rugged part, and low-energy electron beams are irradiated from the upper side. The particles are continuously fed by means of the vibrating conveyor 6 so as to be processed constantly, so that a processing amount can be greatly increased in comparison with that based on batch processing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、麦、米、豆、そ
ば、胡椒といった穀物や、香辛料などの粉粒体(粒状
体)を電子線によって殺菌する粒状体の殺菌方法とその
ための電子線照射装置に関する。電子線照射装置は、真
空中で電子線を発生させ照射窓から大気中に取り出し被
処理物に照射して所望の効果を生じさせるようにした装
置である。エネルギーや照射量によって効果も異なる。
電線高分子の被覆の架橋、樹脂の硬化、塗膜の硬化など
の高分子の硬化のために使われる。これは高分子の架橋
を促し硬化させるものである。さらに別異の作用として
殺菌作用がある。医療用器具の殺菌に用いられる。ピン
セット、鋏、チューブ、ガーゼなど医療用の器具、材
料、に電子線を照射することによって殺菌するという処
理は既に実績がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of disinfecting grains such as wheat, rice, beans, buckwheat, and pepper, and powders (granules) such as spices with an electron beam, and an electron beam therefor. The present invention relates to an irradiation device. The electron beam irradiation device is a device that generates an electron beam in a vacuum, takes out the electron beam from an irradiation window to the atmosphere, and irradiates an object to be processed with a desired effect. The effect differs depending on the energy and irradiation dose.
It is used for curing of polymers such as cross-linking of electric wire polymer coating, resin curing, and coating film curing. This promotes crosslinking of the polymer and cures it. Another effect is a bactericidal effect. Used for sterilization of medical instruments. There is already a proven track record of sterilizing medical instruments and materials such as tweezers, scissors, tubes, and gauze by irradiating them with electron beams.

【0002】被処理物はこのように固体のものが殆どで
ある。定型の固体が対象になるから、無端周回コンベヤ
によって電子線照射装置の筐体の内部を搬送され、電子
線照射窓の直下を通る時に電子線を受けるようになって
いる。有形物であるからコンベヤによって運ぶことがで
きる。これらの対象物は電子線照射によって品質が変わ
らないので電子線の侵入深さはかなり深くても良い。高
いエネルギーの電子線を照射すれば良いのである。小さ
い固体試料の場合はトレイなどにいれて無端コンベヤの
上に置かれ筐体の中を移動するというような工夫がなさ
れる。固体以外にも電子線処理は有効であるはずである
が、あまり実績がない。
Most of the objects to be treated are solid as described above. Since the target is a fixed solid, it is transported inside the housing of the electron beam irradiation device by an endless orbiting conveyor, and receives an electron beam when passing directly below the electron beam irradiation window. Since it is a tangible object, it can be carried by a conveyor. Since the quality of these objects is not changed by the irradiation of the electron beam, the penetration depth of the electron beam may be considerably large. What is necessary is just to irradiate a high energy electron beam. In the case of a small solid sample, it is placed in a tray or the like, placed on an endless conveyor, and moved in a housing. Electron beam treatment should be effective for other than solids, but there is not much experience.

【0003】ここでは穀物など粒状物を対象にする。穀
物類は電子線照射によって殺菌できるはずであるが未だ
実用化されていない。一つには内部まで電子線が浸透し
てはいけないからである。もう一つは表面の全体に電子
線を当てなければならないからである。穀物などの内部
まで電子線が届くと品質が劣化する。だから表面で減衰
するような弱い電子線でなければならない。ところが表
面に雑菌がついているのであるから殺菌を完全に行うた
めには表面の全体に電子線を当てる必要がある。つまり
表面だけに電子線を均等に当てるという難しいことが要
求される。
[0003] Here, granular materials such as grains are targeted. Grains should be sterilizable by electron beam irradiation, but have not yet been put to practical use. One is that the electron beam must not penetrate into the interior. Another reason is that an electron beam must be applied to the entire surface. When the electron beam reaches the inside of a grain or the like, the quality deteriorates. Therefore, it must be a weak electron beam that attenuates on the surface. However, since various bacteria are attached to the surface, it is necessary to apply an electron beam to the entire surface in order to completely sterilize the bacteria. That is, it is required that it is difficult to uniformly apply the electron beam only to the surface.

【0004】[0004]

【従来の技術】粒状物を電子線によって殺菌する場合、
電子線は表面で減衰するのでなければならない。もし電
子線が内部まで透過した場合には穀物などの品質劣化を
招く可能性がある。穀物の細菌は表面だけに存在するか
ら表面だけに電子線が当たれば良いのである。それで透
過力の低い低エネルギーの電子線を照射するということ
になる。透過力が小さいので表面の全体に電子線を当て
るようにしなければならない。これが難しい。電子線は
照射窓から一方向に出るだけである。粒状物の上面には
電子線が当たるが裏側は影になって当たらない。これで
はいけない。表面全体に透過力の弱い電子線を当てるよ
うにしなければならない。どうすれば良いのか?粒状物
を回転させればいいのである。振動によって転がせば良
い。穀物のような小さい粒状物は回転させれば照射窓の
側に全ての面を向けさせる事ができるはずである。転が
しながら電子線をあてれば全面に薄く電子線を照射させ
ることができる。
2. Description of the Related Art In the case of sterilizing a granular material by an electron beam,
The electron beam must decay at the surface. If the electron beam penetrates to the inside, there is a possibility that the quality of grains and the like will be degraded. Grain bacteria only exist on the surface, so it is only necessary to hit the surface with an electron beam. This means that a low-energy electron beam having low transmission power is irradiated. Due to the low penetrating power, the electron beam must be applied to the entire surface. This is difficult. The electron beam only exits the irradiation window in one direction. The electron beam hits the upper surface of the granular material, but the back side is not shadowed. This should not be. The entire surface must be exposed to an electron beam with low transmission power. What should I do? You just have to rotate the granules. Roll it by vibration. Small particles, such as grains, should be able to turn all sides toward the irradiation window if rotated. If the electron beam is applied while rolling, the entire surface can be irradiated with the electron beam thinly.

【0005】粒状物を回転させ低エネルギー電子線を照
射するという試みがなされているが未だ充分でない。ふ
たつの従来技術を紹介する。 特開平10−215765号「穀物の殺菌方法および
それに用いる穀物回動装置」発明者林徹、鈴木節子、大
坪研一、豊島英親、岡留博司は、振動器と振盪器の上に
トレー戴置台を置き、その上に電子線照射装置を設けた
穀物殺菌装置を提案している。玄米、小麦、小豆、大豆
などの殺菌のため、ソフトエレクトロンを照射する。振
動器は縦方向の振動をトレーに与える。振盪器は横方向
の振動を与える。トレーの中にある穀物は振盪と振動の
ために飛び上がり、跳ね上がり、躍り上がる。なんども
回転して様々の面が照射窓の方を向く。長い間照射処理
を続ける事によって穀物の全ての面に電子線が照射され
るから全面が殺菌されるのである。この発明は、振盪
(横方向)と振動(縦方向)とを組み合わせるところに
工夫の妙が存在する。もしも振動だけにすると全面に電
子線を照射できない。反対に振盪だけにするとやはり均
一に電子線を照射できない、と述懐している。左右の振
幅(振盪)は3cm、上下(振動)の振幅は0.2cm
が好適であると述べている。トレーはプラスチック製で
30cm×9cm×3.5cmである。トレーの上に上
下に重ならないように穀物を入れる。2段、3段に重な
ると電子線が当たらないものもあるようである。
Attempts have been made to rotate the granular material to irradiate it with a low energy electron beam, but this is not yet sufficient. Two conventional technologies are introduced. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-215765, "Method of sterilizing grain and grain rotating apparatus used for the same" Toru Hayashi, Setsuko Suzuki, Kenichi Otsubo, Hidechika Toshima, Hiroshi Okadome put tray trays on vibrators and shakers It proposes a grain sterilizer that has an electron beam irradiation device placed on top of it. Irradiate soft electrons to sterilize brown rice, wheat, red beans, soybeans, etc. The vibrator imparts longitudinal vibration to the tray. The shaker provides lateral vibration. The grain in the tray jumps, bouncing and jumping due to shaking and shaking. Various rotations turn various surfaces toward the irradiation window. By continuing the irradiation treatment for a long time, all surfaces of the grain are irradiated with the electron beam, so that the entire surface is sterilized. This invention is unique in that it combines shaking (horizontal direction) and vibration (vertical direction). If only vibration is applied, the entire surface cannot be irradiated with an electron beam. On the other hand, he recalls that shaking alone does not allow uniform irradiation of the electron beam. Left and right amplitude (shaking) is 3cm, vertical (vibration) amplitude is 0.2cm
Is preferred. The tray is made of plastic and measures 30 cm × 9 cm × 3.5 cm. Put the cereals on the tray so that they do not overlap one another. It seems that there is a case where the electron beam does not hit if it overlaps in two or three stages.

【0006】だから1層に並ぶようにしなければならな
いようである。例えば160〜230keVのソフトエ
レクトロンを4μAで照射すると照射時間は1時間程度
である。これによると初め10〜10個/gの生菌
があったものが、10個/g以下に減少するとある。米
の場合電子線によって脂質の過酸化が進行する。これは
望ましくない。精白米は電子線照射した後精米するの
で、表面の部分が除かれ、電子線照射によって劣化した
部分が丁度除去される。しかし玄米の場合は、表面の全
体を除かないので電子線照射の影響が残る。過酸化がお
こらないためには160keVより小さいエネルギーの
電子線としなければならない。処理量が問題である。バ
ッチ処理であって一回の処理に約1時間掛かる。穀物を
重ならないように収容する必要があるから処理量はトレ
イの底面積に依存する。玄米の場合は、10〜70gで
あり、好ましくは20〜40g程度である、と述べてい
る。トレイを大きくすれば一回の処理量は増えるがそれ
も限界がある。この装置の1時間当たりの処理能力は大
体50g程度である。もちろん粒径によってこれは異な
るわけで、大豆、小豆などの場合は米の場合と処理能力
が相違する。
Therefore, it seems that it is necessary to arrange them in one layer. For example, when soft electrons of 160 to 230 keV are irradiated at 4 μA, the irradiation time is about 1 hour. According to this, the number of viable bacteria of 10 6 to 10 7 cells / g was reduced to 10 cells / g or less at first. In the case of rice, the peroxidation of lipids proceeds by the electron beam. This is undesirable. Since the polished rice is polished after being irradiated with the electron beam, the surface portion is removed, and the portion deteriorated by the electron beam irradiation is removed. However, in the case of brown rice, the effect of electron beam irradiation remains because the entire surface is not removed. In order to prevent peroxidation, the electron beam must have an energy of less than 160 keV. The throughput is a problem. It is a batch process and one process takes about one hour. Since the grains need to be accommodated without overlapping, the throughput depends on the bottom area of the tray. In the case of brown rice, the weight is 10 to 70 g, preferably about 20 to 40 g. Increasing the size of the tray increases the amount of processing at one time, but it also has its limits. The throughput of this apparatus is about 50 g per hour. Of course, this depends on the particle size. Soybeans, red beans and the like have different processing capacities than rice.

【0007】特願平10−142873号「電子線照
射装置」発明者水谷睦、錦見敏朗、出願人日新ハイボル
テージ株式会社は、水冷された平坦振動コンベヤに粒状
物を乗せて搬送しながら電子線を照射する装置を提案し
ている。粉体であって不定形であるからビニール袋に積
めてコンベヤに乗せるということはできるが、袋詰め袋
出しの手間が掛かるから実行できない。また品質劣化を
招かないよう透過力の弱い電子線を使わなくてはいけな
いが、粉体の全体に電子線が当たるようにするのが難し
い。そういう訳で粉体や粒状物に電子線を照射する実用
的な装置はそれまで存在しなかった。これは粒状物を処
理する電子線照射装置を始めて提案するものである。こ
れは無端周回コンベヤでなく振動コンベヤを使ってい
る。粒状物をトレイに乗せて無端周回コンベヤで送って
電子線を照射しても、表面だけにしか電子線が当たらな
い。そこで平坦な振動コンベヤに乗せ振動によって粒状
物を突き上げ転がして、粒状物の全てが電子線処理を受
けるように工夫している。薄い粒状物を扱うからコンベ
ヤに直接に電子線が当たることも多くコンベヤが加熱さ
れる。それで直接に振動コンベヤを冷却する冷却機構が
設けられる。多くの層に重なってはいけないが、1層で
なければならないということもない。振動によって粒状
物が上下に動き回転するから、上下交代し全部の粒子が
電子線を浴びるようにできる。
Japanese Patent Application No. 10-142873 "Electron Beam Irradiation Apparatus" Inventors Mutsumi Mizutani, Toshiro Nishiki, and Applicant Nissin High Voltage Co., Ltd. have developed a method in which particles are conveyed on a water-cooled flat vibration conveyor while the particles are conveyed. A device for irradiating rays is proposed. Although it is powder and indefinite, it can be loaded in a plastic bag and put on a conveyor, but it cannot be performed because it takes time to take out a bag. Also, an electron beam having a low transmission power must be used so as not to cause quality deterioration, but it is difficult to make the electron beam impinge on the entire powder. For that reason, there has been no practical device for irradiating powder or granules with an electron beam. This is the first proposal of an electron beam irradiation apparatus for processing particulate matter. It uses a vibratory conveyor rather than an endless orbiting conveyor. Even when the granular material is placed on a tray and sent by an endless orbiting conveyor to irradiate the electron beam, the electron beam only hits the surface. Therefore, the granular material is pushed up and rolled by vibration placed on a flat vibrating conveyor so that all of the granular material is subjected to electron beam processing. Since a thin granular material is handled, an electron beam is often directly applied to the conveyor, and the conveyor is heated. Thus, a cooling mechanism for directly cooling the vibrating conveyor is provided. It should not overlap many layers, but it does not have to be one layer. Since the granular material moves up and down by the vibration and rotates, all the particles can be turned up and down so as to be exposed to the electron beam.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】無定型の対象物を電子
線処理しようとする提案は上に述べたものぐらいしかな
い。穀物を対象にする(特開平10−215765
号)の場合、バッチ処理なので、照射の度毎に、入れ替
えをしなければならない。手間が掛かり、非効率的であ
る。それになにより時間当たりの処理量が少ない。30
cm×9cmの底面積のトレイをつかっても1時間の処
理で50g程度しか殺菌処理できない。バッチ処理であ
ってトレイは動かないのであるから、電子線照射窓の面
積も30cm×9cm以上必要である。それだけの電子
線照射装置を使いながら、1時間50gの穀物しか処理
できなのでは高コストになる。例えば10kgの米を殺
菌するには200時間も掛かってしまう。とうてい実用
には耐えない。
There are only proposals for treating an amorphous object with an electron beam as described above. For cereals (Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-215765)
) Is a batch process, so it must be replaced every time irradiation is performed. It is laborious and inefficient. In addition, the processing amount per time is small. 30
Even if a tray with a bottom area of cm × 9 cm is used, only about 50 g can be sterilized in one hour. Since the process is a batch process and the tray does not move, the area of the electron beam irradiation window must be 30 cm × 9 cm or more. Since only 50 g of grain can be processed for 1 hour using such an electron beam irradiation apparatus, the cost is high. For example, it takes 200 hours to sterilize 10 kg of rice. It is not practical.

【0009】(特願平10−142873号)は平坦
面を振動させる振動コンベヤを使う。振動発生装置が与
える振動自体は微小な振動である。だから粒状物の回転
が不完全である。回転が不完全であるから、全ての面に
電子線が当たらない。つまり殺菌処理が不完全である。
全ての面に電子線を当てようとすると時間を長くすれば
いいのである。振動コンベヤは振動自体によって一方向
に被処理物を送るものであるが、振動の強さや方向を調
整して送り速度を遅くすればよい。しかし送り速度を遅
くすると処理量が減少する。
Japanese Patent Application No. 10-142873 uses a vibration conveyor for vibrating a flat surface. The vibration itself given by the vibration generator is minute vibration. So the rotation of the granules is incomplete. Since the rotation is incomplete, the electron beam does not hit all surfaces. That is, the sterilization process is incomplete.
If you want to irradiate all surfaces with electron beams, you have to increase the time. The vibrating conveyor feeds the object to be processed in one direction by the vibration itself, but the vibration speed and direction may be adjusted to reduce the feed speed. However, when the feed speed is reduced, the throughput decreases.

【0010】より迅速に粒状物を回転させ電子線を満遍
なく当て、電子線処理量をより高めることのできる電子
線照射装置を提案することが本発明の目的である。被処
理物は、では穀物、では粒状物と表現されている。
以後は粉粒体と表現する。いずれもほぼ同じものを表
す。本発明で対象にするのは、麦、米、豆、そば、胡椒
など穀物類である。しかし本発明は殺菌処理が必要な他
の被処理物にも使える。それで一般に粉粒体或いは粒状
物と呼ぶことにする。
[0010] It is an object of the present invention to propose an electron beam irradiation apparatus capable of rotating a granular material more quickly and uniformly applying an electron beam to further increase an electron beam throughput. The material to be treated is expressed as a grain in, and a granular material in.
Hereinafter, it is expressed as a powder. Both represent almost the same thing. The present invention covers cereals such as wheat, rice, beans, buckwheat, and pepper. However, the present invention can be used for other objects requiring sterilization. Therefore, it is generally referred to as a granular material or a granular material.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、表面に凹凸を
有する振動コンベヤを用いて粉粒体を搬送する。振動コ
ンベヤを用いるが平坦なものではなくて表面(搬送面)
に凹凸を付けている。振動と凹凸の相互作用によって粉
粒体の回転をより盛んにする。凹凸+振動によって粉粒
体を強く転動、回転させながら振動コンベヤ上を搬送す
る。電子線照射は一方向のみであるが、凹凸によって粉
粒体を回転させ表面全体に電子線を照射することができ
る。平坦面の振動コンベヤよりも凹凸ある振動コンベヤ
の方が粉粒体を旺盛に回転させることができる。より短
時間で粉粒体の全面に薄く均一に電子線を照射すること
ができる。処理能力が増進される。凹凸は、進行方向
(z方向)に垂直な多数の平行なV溝、丸溝、台形溝、
矩形溝などでもよい。或いは平行の斜めの溝でもよい。
平行斜め溝が2組交差するものでもよい。溝でなくて多
数の孤立点の穴或いは突起がxz方向に多数周期的に配
列されたものであっても良い。振動コンベヤであるから
水平でも良いし、傾斜していてもよい。進行速度を速め
るには前に傾いたコンベヤとしても良い。凹凸は、振動
コンベヤにおいて粉粒体と振動板の接触状態を多様化さ
せて転動回動を促進するという優れた作用がある。
According to the present invention, a granular material is transported by using a vibrating conveyor having an uneven surface. Use a vibrating conveyor, but it is not flat, but the surface (transport surface)
With irregularities. The interaction between the vibrations and the irregularities enhances the rotation of the granular material. The granules are conveyed on a vibrating conveyor while rolling and rotating the granules strongly by the unevenness and vibration. Although the electron beam irradiation is performed in only one direction, the whole surface can be irradiated with the electron beam by rotating the granular material by the unevenness. The vibrating conveyor having the unevenness can vigorously rotate the granular material more than the vibrating conveyor having the flat surface. The entire surface of the granular material can be irradiated with the electron beam thinly and uniformly in a shorter time. Processing capacity is increased. Asperities are formed by a large number of parallel V grooves, round grooves, trapezoidal grooves, perpendicular to the traveling direction (z direction),
A rectangular groove may be used. Alternatively, parallel oblique grooves may be used.
Two sets of parallel oblique grooves may intersect. Instead of grooves, holes or projections at a large number of isolated points may be periodically arranged in the xz direction. Since it is a vibrating conveyor, it may be horizontal or inclined. To increase the traveling speed, a conveyor inclined forward may be used. The unevenness has an excellent effect of diversifying the contact state between the granular material and the vibration plate in the vibration conveyor and promoting the rolling rotation.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1によって本発明の実施例に係
る電子線照射装置を説明する。これは非走査型(エリア
型)の電子線照射装置であるが、走査型の電子線照射装
置にも本発明を適用することができる。エリア型である
から、フィラメント1を有する円筒形の真空チャンバ2
が遮蔽された筐体3の上に設けてあり、フィラメント1
から電子線Eが下向きに引き出される。フィラメント1
には抵抗加熱電流が流れており、この電流によって加熱
される。高温になるからフィラメントから熱電子がで
る。フィラメントには負電圧がかかっており、チャンバ
2は接地電位である。チャンバ2の下方には矩形の開口
部がある。これが照射窓4である。照射窓4にはTi、
Alなどの窓箔5が張ってある。照射窓4、窓箔5もチ
ャンバと同じ電位であるから、電子線Eはフィラメント
と照射窓の間で加速される。照射窓より上は真空であ
り、下は大気圧であるから窓箔5によって仕切る必要が
ある。電子線Eは窓箔を透過することができる。窓箔を
透過することによってエネルギーを失う。それは窓箔に
おいて熱となる。窓箔が加熱されると溶けてしまうので
熱を奪う必要がある。冷却のため風をあてるか、または
窓箔を桟で押さえ桟を水冷する。
FIG. 1 shows an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention. Although this is a non-scanning (area-type) electron beam irradiation apparatus, the present invention can be applied to a scanning electron beam irradiation apparatus. Since it is an area type, a cylindrical vacuum chamber 2 having a filament 1
Is provided on the shielded housing 3, and the filament 1
, An electron beam E is extracted downward. Filament 1
Is supplied with a resistance heating current, and is heated by this current. Because of the high temperature, thermoelectrons are emitted from the filament. A negative voltage is applied to the filament, and the chamber 2 is at the ground potential. Below the chamber 2 is a rectangular opening. This is the irradiation window 4. The irradiation window 4 has Ti,
A window foil 5 of Al or the like is stretched. Since the irradiation window 4 and the window foil 5 have the same potential as the chamber, the electron beam E is accelerated between the filament and the irradiation window. Since there is a vacuum above the irradiation window and an atmospheric pressure below the irradiation window, it is necessary to partition by the window foil 5. The electron beam E can pass through the window foil. Loses energy by penetrating the window foil. It becomes heat in the window foil. When the window foil is heated, it melts, so it is necessary to remove heat. Air is blown for cooling, or the window foil is held down with a beam and the beam is water-cooled.

【0013】金属製の筐体3は横長の箱であって、その
中に振動コンベヤ6が設置される。振動コンベヤ6は、
振動板7、振動機8、支持台9、スプリング10などよ
りなる。振動機8は振動板7に斜め方向に振動を与える
ものである。図2は振動板のみの平面図である。振動板
は平行なV溝を持つ。両端には側板20、20が隆起し
ており、粒状物がこぼれないようになっている。図2で
は粒状物はまばらにしか書いていないが、これはV溝を
示すためである。実際には等価的に、1層〜3層程度上
下に重なっている。振動が激しい場合は、5層〜10層
程度粒状物が重なっていてもよい。図3は振動板の一部
の断面をしめす。振動板7の上には凹凸が付けてある。
この例では平行なV溝13が進行方向と直角の方向に多
数切ってある。振動板は斜め方向に振動させる。斜め前
後の振動によって被処理物を一方向に搬送することがで
きる。被処理物が粒状体であるから振動によって飛び上
がり転がり回転する。凹凸(V溝)が粒状物の飛び上が
り転がりをより盛んにする。凹凸は粒状物を斜めに支持
するという作用もある。これによって全ての面に電子線
が当たるようにする。
The metal housing 3 is a horizontally long box in which the vibration conveyor 6 is installed. The vibrating conveyor 6
It comprises a vibrating plate 7, a vibrator 8, a support 9 and a spring 10. The vibrator 8 applies vibration to the diaphragm 7 in an oblique direction. FIG. 2 is a plan view of only the diaphragm. The diaphragm has parallel V-grooves. Side plates 20, 20 are raised at both ends so that the granular material does not spill. In FIG. 2, the granular material is sparsely written, but this is to show the V-groove. Actually, about one to three layers are equivalently vertically stacked. When the vibration is severe, the granular materials may be overlapped by about 5 to 10 layers. FIG. 3 shows a partial cross section of the diaphragm. Irregularities are provided on the diaphragm 7.
In this example, a large number of parallel V grooves 13 are cut in a direction perpendicular to the traveling direction. The diaphragm vibrates in an oblique direction. The object to be processed can be transported in one direction by vibrating back and forth. Since the object to be processed is a granular material, the object jumps up and rolls due to vibration. The unevenness (V groove) makes the granular material jump up and roll more actively. The irregularities also have the effect of supporting the granular material obliquely. This allows the electron beam to strike all surfaces.

【0014】振動板の振動の振幅、方向は変化させるこ
とができる。水平の振動コンベヤにおいて被処理物を搬
送できるのは、振動に送り方向成分が含まれるからであ
る。上下動だけでは前方へ送ることはできない。筐体3
の一方には入り口ホッパ11が設けられる。ここから粉
粒体Sが振動コンベヤ6の振動板7の始端に導入され
る。筐体3の他方で振動板7の終端直下には出口ホッパ
12が設けられる。振動板7を始端から終端まで振動に
よって運ばれた粉粒体Sは出口ホッパ12から排出され
る。粉粒体は入り口ホッパ11から連続的に導入され振
動板7の上を舞い上がり突き上げられ転びながら前進す
る。照射窓4の直下を通るときに電子線Eの照射を受け
る。電子線エネルギーは低くて表面付近で吸収される。
穀物などを対象にするのでエネルギーが高すぎると内部
まで電子線が侵入し品質を劣化させる。表面の細菌だけ
に当たれば良いのだから電子線エネルギーは低い。電子
線エネルギーは500keV以下である。例えば、50
keV〜300keV程度である。電流は数mA〜50
0mA程度である。対象物の種類によって電圧、電流は
調整する。エネルギーは低いが振動板によって粉粒体が
飛び上がって回転するから、どの面にも等しく電子線が
当たる。表面から僅かな距離だけ侵入し、全ての面を殺
菌する。全面が電子線処理された粉粒体が照射窓直下を
通過する。照射窓直下を通過するとき粉粒体は連続的に
電子線処理される。さらに進んで、粉粒体Sは出口ホッ
パ12から排出される。バッチ処理でなく連続処理であ
るから処理効率が高くなる。
The amplitude and direction of vibration of the diaphragm can be changed. The object to be processed can be transported on the horizontal vibrating conveyor because the vibration includes a feed direction component. It is not possible to send forward only by vertical movement. Case 3
An entrance hopper 11 is provided on one side. From here, the granular material S is introduced to the start end of the vibration plate 7 of the vibration conveyor 6. An outlet hopper 12 is provided on the other side of the housing 3 immediately below the end of the diaphragm 7. The granular material S conveyed by vibration from the start end to the end of the vibration plate 7 is discharged from the outlet hopper 12. The granular material is continuously introduced from the entrance hopper 11, soars above the diaphragm 7, is thrust up, and moves forward while falling down. The electron beam E is irradiated when passing immediately below the irradiation window 4. The electron beam energy is low and is absorbed near the surface.
If the energy is too high, the electron beam penetrates into the interior and deteriorates the quality if the energy is too high. The electron beam energy is low because only the bacteria on the surface need be hit. The electron beam energy is less than 500 keV. For example, 50
It is about keV to 300 keV. Current is several mA to 50
It is about 0 mA. The voltage and current are adjusted depending on the type of the object. Although the energy is low, the granular material jumps up and rotates due to the diaphragm, so that the electron beam hits all surfaces equally. Penetrates only a short distance from the surface and sterilizes all surfaces. The powder particles whose entire surface has been subjected to electron beam treatment pass directly below the irradiation window. When passing through the area immediately below the irradiation window, the granular material is continuously subjected to electron beam treatment. Further, the granular material S is discharged from the outlet hopper 12. Since the processing is continuous processing instead of batch processing, processing efficiency is increased.

【0015】振動機8は例えば、重心が偏心した回転板
をモータで回転させることによって振動を発生すること
ができる。図11、図12に略図を示す。振動板7の直
下には縦板23、底板24、斜板25が固定してある。
モータ26は縦板23に固定してある。モータ26の回
転軸27の先端には偏心弾み車28がついている。偏心
弾み車28の重心は回転軸27の軸心と異なっている。
弾み車が回転すると、その重心の方へ引き寄せられる。
振動板7はスプリング10で弾性的に支持されている。
モータ回転によって振動板7は斜め左右に振動する。振
動の方向はFGによって表される。これは偏心モータに
よる振動機である。回転板を高速で回転させると、重心
のある方にモータ軸が引っ張られるから振動が発生する
のである。モータ回転を増やすと振動数を上げることが
できる。モータの取り付け傾斜角をかえると、振動方向
を変えることができる。
The vibrator 8 can generate vibration by, for example, rotating a rotating plate having a decentered center of gravity with a motor. Schematic diagrams are shown in FIGS. A vertical plate 23, a bottom plate 24, and a swash plate 25 are fixed directly below the diaphragm 7.
The motor 26 is fixed to the vertical plate 23. An eccentric flywheel 28 is provided at the tip of the rotating shaft 27 of the motor 26. The center of gravity of the eccentric flywheel 28 is different from the axis of the rotating shaft 27.
As the flywheel rotates, it is drawn toward its center of gravity.
The diaphragm 7 is elastically supported by a spring 10.
The diaphragm 7 vibrates obliquely right and left by the rotation of the motor. The direction of the vibration is represented by FG. This is a vibrator with an eccentric motor. When the rotating plate is rotated at a high speed, the motor shaft is pulled in a direction having a center of gravity, so that vibration occurs. The frequency can be increased by increasing the motor rotation. By changing the mounting inclination angle of the motor, the vibration direction can be changed.

【0016】振動機は偏心板を回転するモータ以外に、
電磁コイルによって板バネを吸引するものがある。図1
3に略図を示す。支持台30に斜めに強磁性体の板バネ
31、32の下端を取り付ける。板バネ31、32の上
端に振動板7を付ける。支持台30の上にブラケット3
3をもうける。板バネ31に対向する位置において、ブ
ラケットにコイル34を固定する。コイル34に交流電
流を流すと、周波数の2倍の繰り返しでコイル34が板
バネ31を引きつける。板バネは自らの弾性で復帰する
から、コイルによって振動板が斜め方向に振動すること
になる。振動の方向は板バネ31、32の傾斜方向によ
って決まる。振幅はコイル電流によって決まる。このよ
うに振動コンベヤの振動の様態はいくつもある。このよ
うに振動コンベヤ自体は公知である。本発明はどのよう
なものでも用いることができる。振動の振幅はF〜Gの
距離であり、0.1mm〜50mm程度である。振動数
は1〜500Hz程度である。
The vibrator is, besides the motor for rotating the eccentric plate,
There is a type in which a leaf spring is attracted by an electromagnetic coil. FIG.
3 shows a schematic diagram. The lower ends of the ferromagnetic leaf springs 31 and 32 are attached to the support 30 at an angle. The diaphragm 7 is attached to the upper ends of the leaf springs 31 and 32. Bracket 3 on support 30
Make three. At a position facing the leaf spring 31, the coil 34 is fixed to the bracket. When an alternating current is applied to the coil 34, the coil 34 attracts the leaf spring 31 at twice the frequency. Since the leaf spring returns by its own elasticity, the diaphragm vibrates in an oblique direction by the coil. The direction of the vibration is determined by the inclination direction of the leaf springs 31 and 32. The amplitude is determined by the coil current. Thus, there are several modes of vibration of the vibrating conveyor. Thus, the vibration conveyor itself is known. The present invention can be used in any manner. The amplitude of the vibration is a distance from F to G, and is about 0.1 mm to 50 mm. The frequency is about 1 to 500 Hz.

【0017】振動板に凹凸を設けて粒状物の転がり跳ね
上がり舞い上がりを激しくするという点に本発明の骨子
がある。凹凸のサイズや形状、繰り返し周期等は任意で
ある。突起のように突出しているものであってもよい。
あるいは溝や穴のように陥没している凹凸であっても差
し支えない。平坦面でなければ良いのである。
The gist of the present invention resides in that the vibrating plate is provided with irregularities so that the granular material rolls and jumps so strongly. The size and shape of the unevenness, the repetition period, and the like are arbitrary. The projection may be like a projection.
Alternatively, it may be a concave and convex as a groove or a hole. It is good if it is not a flat surface.

【0018】図4は振動板の別の例を示す一部表面断面
図である。台形溝14が振動板の表面に平行に設けられ
ている。台形であって上部が広く、底部が狭い逆台形の
溝である。斜辺が斜め上を向いている。振動によってこ
の面が粒状物を効果的に突き上げ強く転がすことができ
る。また斜辺に掛かると斜めに傾いて止まる。
FIG. 4 is a partial surface sectional view showing another example of the diaphragm. A trapezoidal groove 14 is provided parallel to the surface of the diaphragm. This is an inverted trapezoidal groove that is trapezoidal with a wide top and a narrow bottom. The hypotenuse faces diagonally upward. Due to the vibration, this surface can effectively push up the granular material and roll strongly. In addition, when it hangs on the hypotenuse, it stops at an angle.

【0019】図5は振動板の他の実施例を示す。これは
半円溝15を振動板の上に平行かつ周期的に設けたもの
である。
FIG. 5 shows another embodiment of the diaphragm. In this case, semicircular grooves 15 are provided on the diaphragm in parallel and periodically.

【0020】図6は振動板の表面に矩形断面の溝16を
平行にいくつも設けた例を示している。底面、縦面と上
面をふくむ表面構造になっている。
FIG. 6 shows an example in which a number of rectangular grooves 16 are provided in parallel on the surface of the diaphragm. It has a surface structure that includes the bottom, vertical and top surfaces.

【0021】以上の溝は断面形状が異なるものであっ
た。進行方向には垂直であった。しかし進行方向に必ず
垂直でなくても良い。図7はこのような溝17、18を
進行方向に対して斜めに2組設けた振動板を示してい
る。左傾溝17と右傾溝18の傾斜角は等しくなくても
よい。ここでは傾斜角不等の溝17、18を描いてい
る。このようにすると、粒状物は斜め方向にも飛ばされ
るのでより回転が激しくなる。
The above grooves have different cross-sectional shapes. It was perpendicular to the direction of travel. However, it is not always necessary to be perpendicular to the traveling direction. FIG. 7 shows a diaphragm in which two sets of such grooves 17 and 18 are provided obliquely to the traveling direction. The inclination angles of the left inclined groove 17 and the right inclined groove 18 may not be equal. Here, grooves 17 and 18 having unequal inclination angles are drawn. In this case, since the particulate matter is also blown obliquely, the rotation becomes more intense.

【0022】これまでは溝を持つ振動板を例示したが、
溝でなくて、凸状を平行に多数形成しておいても良い。
溝とは反対の断面になる。ここでは図示を略した。図2
で13を凸状と見れば良い。
So far, a diaphragm having a groove has been exemplified.
Instead of grooves, a number of convex shapes may be formed in parallel.
The cross section is opposite to the groove. Here, illustration is omitted. FIG.
It can be seen that 13 is convex.

【0023】また孤立した突起を多数設けても良い。さ
らに孤立した穴を多数設けても良いのである。図8は孤
立した突起19を多数表面に設けた振動板の例を示して
いる。図9は一部の断面図である。半球型の突起を周期
的に多数形成している。
Further, a large number of isolated projections may be provided. Further, a large number of isolated holes may be provided. FIG. 8 shows an example of a diaphragm having a large number of isolated projections 19 provided on the surface. FIG. 9 is a partial cross-sectional view. A large number of hemispherical projections are periodically formed.

【0024】図10は孤立した穴を多数設けた振動板の
一部断面図である。半球状の穴22が振動板表面に多数
設けてある。平面図は図8と同様になる。穴は三角錘、
四角錘、四角錘台など任意の形状であって良い。また突
起物、穴ともに大きさは0.1mm〜50mmである。
FIG. 10 is a partial sectional view of a diaphragm having a large number of isolated holes. A large number of hemispherical holes 22 are provided on the diaphragm surface. The plan view is the same as FIG. The hole is a triangular pyramid,
Any shape such as a square pyramid or a truncated pyramid may be used. The size of both the protrusion and the hole is 0.1 mm to 50 mm.

【0025】次に凹凸の効果を説明する。図14は平坦
面振動板のうえに粒状物Sが乗っていて電子線Eを受け
る場合を示す。粒状物は不定型であるが安定な着地面が
あり、着地面の点H、Iで振動板に接触する。電子線は
粒状物の上面だけにあたる。斜め振動によって粒状物を
横に向けたり裏返したりするのは難しい。平坦な振動板
のうえを空滑りするから安定面HIがつねに底面にな
る。
Next, the effect of the unevenness will be described. FIG. 14 shows a case where the granular material S is on the flat surface diaphragm and receives the electron beam E. The granules are irregular but have a stable landing and contact the diaphragm at points H and I on the landing. The electron beam hits only the upper surface of the granular material. It is difficult to turn or turn over a granular material by oblique vibration. Since the wheel slides on the flat diaphragm, the stable surface HI always becomes the bottom surface.

【0026】ところが本発明のように隆起部36がある
と、図15に示すように振動によって隆起部がG方向に
動くとき、粒状物Sを斜め右に強くたたき上げる。V方
向に粒状物が飛び上がる。形状によっては大きく回転す
る。このように衝撃によって粒状物を舞い上げ、たたき
上げるという動的な効果が大きい。粒状物を、裏返した
り、横向けにしたり姿勢の変化をもたらすことができ
る。回転の途中にも電子線を浴びる。着地した新しい姿
勢においても電子線を受ける。
However, when the raised portion 36 is present as in the present invention, when the raised portion moves in the G direction due to vibration as shown in FIG. 15, the granular material S is strongly knocked obliquely rightward. The particulate matter jumps up in the V direction. It rotates greatly depending on the shape. Thus, the dynamic effect of soaring and knocking up the granular material by the impact is large. The granules can be turned over, turned sideways, and effect a change in posture. Also exposed to electron beams during the rotation. It receives an electron beam even in a new position when it lands.

【0027】動的効果の他に静的効果もある。図16の
ように隆起37に細長い粒状体Sの一端Jが乗り上げて
他端Kはより低い面35で支持されるということがあ
る。傾いた姿勢で粒状体Sがとどまる。真上から電子線
が下降するが尾部の傾斜にも当たるようになる。図17
はよりずんぐりした粒状物Sが隆起38にL点で接触、
低面35にM点で接触するものを表す。平坦面ではこの
ような姿勢をとることはないが隆起38のためにこれが
可能である。頂部にも電子線が当たるようになる。
In addition to dynamic effects, there are also static effects. As shown in FIG. 16, there is a case where one end J of the elongated granular material S rides on the ridge 37 and the other end K is supported by the lower surface 35. The granular material S stays in the inclined posture. The electron beam descends from just above, but also hits the tail. FIG.
The more stubby granular material S contacts the ridge 38 at point L,
The one that contacts the low surface 35 at the point M is shown. A flat surface does not take such a position, but is possible because of the ridges 38. The electron beam also hits the top.

【0028】図18は傾斜面39によって細長い粒状物
Sが支えられている状態を示す。尖った面にも電子線が
あたる。平坦面であればこのような状態で立つようなこ
とはない。様々の隆起陥没があるからこのような多様な
安定状態が創造される。
FIG. 18 shows a state where the elongated granular material S is supported by the inclined surface 39. Electron beams hit even sharp surfaces. If it is a flat surface, it will not stand in such a state. Such various stable states are created because of various uplifts and depressions.

【0029】本発明はこのように隆起、陥没を有する振
動板を振動させて粒状物を搬送する。振動コンベヤは一
般に搬送面が水平であってもそれが振動することによっ
て、粉粒体を前方へと弾き飛ばすので搬送可能である。
凹凸をつけても同じように粒状体を搬送することができ
る。隆起は図15のように前方に粒状体を飛ばすことも
あるが、反対に後方へ弾き飛ばす事もある。実効的に粉
粒体と搬送面の摩擦が増加し、搬送速度が低下して、搬
送量が減少するという事も有り得る。搬送量が減少する
ようであればコンベヤを前に傾けて搬送速度を速くする
こともできる。反対に搬送量が多すぎるという場合は、
後方に傾けておいても良い。
The present invention vibrates the vibrating plate having the protrusions and depressions as described above to convey the granular material. In general, the vibrating conveyor vibrates, even if the conveying surface is horizontal, so that the granular material is flipped forward, so that it can be conveyed.
Even if the irregularities are provided, the granular material can be transported in the same manner. As shown in FIG. 15, the bump may fly the granular material forward, but may also fly backward. Effectively, the friction between the granular material and the transfer surface increases, the transfer speed decreases, and the transfer amount may decrease. If the transport amount decreases, the conveyor can be tilted forward to increase the transport speed. Conversely, if the transport amount is too large,
It may be tilted backward.

【0030】粉粒体の種類の違いによって(例えば米と
麦)、大きさ、形状などが異なるので、凹凸の形状、配
置や、搬送面の振動数、振動方向、振幅は適宜調節す
る。
Since the size, shape, and the like of the granular material differ depending on the type of the granular material (eg, rice and wheat), the shape and arrangement of the unevenness, the frequency, the vibration direction, and the amplitude of the transport surface are appropriately adjusted.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は凹凸を有する振動コンベヤによ
って粉粒体を搬送し、上方から低エネルギー電子線を照
射する。振動コンベヤによって粉粒体を連続的に送り、
連続的に処理できるからバッチ処理のに比較して処理
量が著しく増大する。平坦面でなく凹凸があるので粉粒
体の転がりや弾みが盛んになる。隆起陥没によって傾斜
した状態を保つこともできる。つまり凹凸に粉粒体が引
っかかりながら運ばれる。平坦面が振動してもさほど粉
粒体は回転しないが、面自体に傾斜があると粉粒体は転
がり易い。回転がより激しくなるから短い時間で全面に
電子線を当てることができる。より多くの処理に対応す
るにはコンベア面を傾斜させて増やすことができる。だ
からに比べて粒の回転が促進され粒全体の処理時間を
短縮でき、かつ処理量を多くすることができる。つまり
殺菌処理の効率が上がる。不定形の粉粒体の全ての面に
電子線が当たるから殺菌がより完全になされる。
According to the present invention, a granular material is conveyed by a vibrating conveyor having irregularities and irradiated with a low energy electron beam from above. The granules are continuously fed by the vibrating conveyor,
Since processing can be performed continuously, the processing amount is significantly increased as compared with batch processing. Since there are irregularities instead of flat surfaces, the rolling and momentum of the powder and granules become active. The inclined state can be maintained by the raised depression. In other words, the particles are carried while being caught on the irregularities. Even if the flat surface vibrates, the granular material does not rotate so much, but if the surface itself is inclined, the granular material is likely to roll. Since the rotation becomes more intense, the entire surface can be irradiated with the electron beam in a short time. To accommodate more processing, the conveyor surface can be tilted and increased. In comparison with this, the rotation of the grains is promoted, so that the processing time of the whole grains can be shortened and the throughput can be increased. That is, the efficiency of the sterilization treatment is increased. Sterilization is more complete because the electron beam is applied to all surfaces of the irregular shaped granules.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の電子線照射装置の概略断面図。FIG. 1 is a schematic sectional view of an electron beam irradiation apparatus according to the present invention.

【図2】図1の電子線照射装置の振動板の平面図。FIG. 2 is a plan view of a diaphragm of the electron beam irradiation apparatus of FIG.

【図3】V溝を持つ図2の振動板の表面の一部断面図。FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the surface of the diaphragm of FIG. 2 having a V-groove.

【図4】台形溝を有する振動板の一部断面図。FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a diaphragm having a trapezoidal groove.

【図5】半円溝を有する振動板の一部断面図。FIG. 5 is a partial cross-sectional view of a diaphragm having a semicircular groove.

【図6】矩形溝を有する振動板の一部断面図。FIG. 6 is a partial cross-sectional view of a diaphragm having a rectangular groove.

【図7】平行交差溝を有する振動板の平面図。FIG. 7 is a plan view of a diaphragm having parallel intersection grooves.

【図8】多数の孤立隆起を有する振動板の平面図。FIG. 8 is a plan view of a diaphragm having many isolated bumps.

【図9】図8の振動板の一部表面の断面図。FIG. 9 is a sectional view of a partial surface of the diaphragm shown in FIG. 8;

【図10】多数の孤立穴を有する振動板の一部断面図。FIG. 10 is a partial sectional view of a diaphragm having a large number of isolated holes.

【図11】振動モータをもつ振動機の概略側面図。FIG. 11 is a schematic side view of a vibrator having a vibration motor.

【図12】振動モータの部分の正面図。FIG. 12 is a front view of a portion of a vibration motor.

【図13】板バネとコイルによって振動を発生する振動
機の概略側面図。
FIG. 13 is a schematic side view of a vibrator that generates vibration by a leaf spring and a coil.

【図14】平坦面振動板の上の粒状体に電子線が照射さ
れる状態の断面図。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which the granular material on the flat surface diaphragm is irradiated with an electron beam.

【図15】隆起のある振動板によって、粒状体が弾き飛
ばされる状態を示す断面図。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state in which a granular body is flipped off by a raised diaphragm.

【図16】隆起によって細長い粒状体が斜めに支持され
る状態を示す断面図。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a state in which the elongated granular material is supported obliquely by the protrusion.

【図17】隆起によって丸い粒状体が縦向きに保持され
る状態を示す断面図。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a state in which a round granular material is held vertically by a protrusion.

【図18】隆起によって細長い粒状体が縦に支持される
状態を示す断面図。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a state in which the elongated granular material is vertically supported by the protrusion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フィラメント 2 真空チャンバ 3 筐体 4 照射窓 5 窓箔 6 振動コンベヤ 7 振動板 8 振動機 9 支持台 10 スプリング 11 入口ホッパ 12 出口ホッパ 13 V溝 14 台形溝 15 半円溝 16 矩形溝 17 交差溝 18 交差溝 19 孤立隆起 20 側板 22 半円穴 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Filament 2 Vacuum chamber 3 Case 4 Irradiation window 5 Window foil 6 Vibrating conveyor 7 Vibrating plate 8 Vibrator 9 Support base 10 Spring 11 Inlet hopper 12 Outlet hopper 13 V groove 14 Trapezoidal groove 15 Semicircular groove 16 Rectangular groove 17 Cross groove 18 Intersecting groove 19 Isolated ridge 20 Side plate 22 Semicircular hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G21K 5/04 G21K 5/04 E (72)発明者 林 徹 茨城県つくば市観音台2丁目1−2農林水 産省食品総合研究所内 (72)発明者 加藤 健治 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地日新 ハイボルテージ株式会社内 (72)発明者 錦見 敏朗 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地日新 ハイボルテージ株式会社内 (72)発明者 水谷 睦 京都府京都市右京区梅津高畝町47番地日新 ハイボルテージ株式会社内 Fターム(参考) 2B051 AB01 BA09 BB11 BB20 3F037 AA08 BA03 4B021 LA44 LP10 LT01 LT02 LW07 LW09 4B069 AA02 GA05 HA18 HA20 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G21K 5/04 G21K 5/04 E (72) Inventor Toru Hayashi 2-1-2 Kannondai, Tsukuba-shi, Ibaraki Pref. Inside the Ministry of Agriculture, Forestry and Fisheries Research Institute (72) Inventor Kenji Kato Inside Nisshin High Voltage Co., Ltd. 47, Umezu Takaune-cho, Ukyo-ku, Kyoto, Kyoto Prefecture New High Voltage Co., Ltd. (72) Inventor Mutsumi Mizutani F-term (reference) 2B051 AB01 BA09 BB11 BB20 3F037 AA08 BA03 4B021 LA44 LP10 LT01 LT02 LW09 4B069 AA02 GA05 HA18 HA20

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 振動板表面に凹凸を有し水平又は傾斜し
て設けられた振動コンベヤと、電子線を発生し照射窓を
介し振動コンベヤの振動板の一部に電子線を照射する電
子線発生装置と、電子線発生装置に連続して設けられ振
動コンベヤを包囲する筐体と、筐体の中の振動コンベヤ
に粒状体を供給する入口ホッパと、振動コンベヤから落
下する粒状体を外部に取り出す出口ホッパとを有する事
を特徴とする電子線照射装置。
1. A vibrating conveyor having unevenness on the surface of a vibrating plate and provided horizontally or inclined, and an electron beam for generating an electron beam and irradiating a part of the vibrating plate of the vibrating conveyor with an electron beam through an irradiation window. A generator, a housing provided continuously with the electron beam generator and surrounding the vibrating conveyor, an inlet hopper for supplying the granular material to the vibrating conveyor in the housing, and a granular material falling from the vibrating conveyor to the outside. An electron beam irradiation device having an outlet hopper for taking out.
【請求項2】 振動板表面に凹凸を有し水平又は傾斜し
て設けられた振動コンベヤに粒状体を連続的に供給し、
振動によって粒状体を転がしながら搬送し、搬送途中に
おいて、低エネルギーの電子線を粒状体に照射し、電子
線照射され振動コンベヤから落下する粒状体を回収する
ことを特徴とする粒状体殺菌方法。
2. The method according to claim 1, wherein the granular material is continuously supplied to a vibrating conveyor having unevenness on the surface of the vibration plate and provided horizontally or inclined.
A method for sterilizing a granular material, comprising transporting the granular material while rolling by vibration, irradiating the granular material with a low-energy electron beam during the transportation, and collecting the granular material irradiated with the electron beam and falling from the vibrating conveyor.
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