JP2000269597A - Manufacture method of fiber grating optical module - Google Patents

Manufacture method of fiber grating optical module

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JP2000269597A
JP2000269597A JP2000003755A JP2000003755A JP2000269597A JP 2000269597 A JP2000269597 A JP 2000269597A JP 2000003755 A JP2000003755 A JP 2000003755A JP 2000003755 A JP2000003755 A JP 2000003755A JP 2000269597 A JP2000269597 A JP 2000269597A
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JP
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light
optical
fiber
optical amplifier
optical fiber
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JP2000003755A
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Japanese (ja)
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Takashi Kato
隆志 加藤
Toshio Takagi
敏男 高木
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form an optical resonator by optically coupling an optical fiber which has a fiber grating FG with an optical amplifier. SOLUTION: An optical fiber 14 with a fiber grating 14a at the core is aligned relatively with a semiconductor optical amplifier 16 and a light transmitting plane 16a of the optical amplifier 16 with one end of the optical fiber 14, thus constituting a fiber grating optical module. For manufacturing this module, the optical amplifier 16 and the optical fiber 14 are disposed so that one end of the optical fiber 14 faces the transmitting plane 16a. A light of a prescribed wavelength is applied to the light transmitting plane 16a through one end 14b of the optical fiber 14, and a light at a prescribed wavelength reflected on a light reflection plane 16b of the amplifier 16 is extracted from the other end 14c of the fiber 14 to adjust the relative position of the fiber 14 to the amplifier 16, based on the intensity of this light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ファイバグレーテ
ィング光モジュールの製造方法に関する。
[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a fiber grating optical module.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術としては、米国特許第486541
0号公報に記載された発光モジュールがある。この公報
は、発光素子と、ファイバグレーティングが形成された
光ファイバとからなる光共振器を備える光モジュールに
関する。
2. Description of the Related Art The prior art is disclosed in US Pat.
There is a light-emitting module described in Japanese Patent Application Publication No. 0-203. This publication relates to an optical module including an optical resonator including a light emitting element and an optical fiber on which a fiber grating is formed.

【0003】この発光モジュールは、電流が加えられる
と光を発生する半導体光増幅器と、ファイバグレーティ
ングを有する光ファイバとからなる光共振器を備えてい
る。この光共振器を形成するために、半導体光増幅器を
ハウジング内に設けられた台座上に固定した後に、光フ
ァイバの先端部分に設けられたフェルールをワッシャに
挿入して固定し、次いで、このワッシャをハウジングに
固定することによって、半導体光増幅器に対して光ファ
イバの位置を決めている。この位置決めは、半導体光増
幅器と光ファイバの先端部との光学的な結合を確実に行
うために、上記の光共振器においてレーザ発振させるた
めに電流を半導体光増幅器に流した状態の下で行われて
いる。
This light emitting module includes an optical resonator comprising a semiconductor optical amplifier that generates light when a current is applied, and an optical fiber having a fiber grating. To form the optical resonator, a semiconductor optical amplifier is fixed on a pedestal provided in a housing, and then a ferrule provided at a tip portion of an optical fiber is inserted into a washer and fixed, and then the washer is fixed. Is fixed to the housing to determine the position of the optical fiber with respect to the semiconductor optical amplifier. This positioning is performed under the condition that a current is applied to the semiconductor optical amplifier to cause laser oscillation in the above-described optical resonator in order to reliably perform optical coupling between the semiconductor optical amplifier and the tip of the optical fiber. Have been done.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような方法を適用
してファイバグレーティング光モジュールを作製するに
当たり、発明者は、次のような事実に気づいた。半導体
光増幅器とファイバグレーティングとから構成される光
共振器においてレーザ発振を引き起こすためには、ファ
イバグレーティングの反射帯域内に少なくとも1つの縦
モードが存在することが必要である。
In producing a fiber grating optical module by applying such a method, the inventor has noticed the following facts. In order to cause laser oscillation in an optical resonator composed of a semiconductor optical amplifier and a fiber grating, it is necessary that at least one longitudinal mode exists in the reflection band of the fiber grating.

【0005】しかしながら、ファイバグレーティング半
導体レーザ(以下、FGLという)モジュールでは、半
導体光増幅器と光ファイバとの整列の際に外部共振鏡
(FG)を動かして最適位置を見つけている。縦モード
波長は共振器長によって変化するので、FLGのような
外部共振器レーザでは、外部共振器の光軸方向の位置に
よって縦モード波長が変化する。つまり、整列時に縦モ
ード波長が変化してしまう。
However, in a fiber grating semiconductor laser (hereinafter, referred to as FGL) module, an external resonance mirror (FG) is moved to find an optimum position when aligning a semiconductor optical amplifier with an optical fiber. Since the longitudinal mode wavelength changes according to the cavity length, in an external cavity laser such as FLG, the longitudinal mode wavelength changes depending on the position of the external cavity in the optical axis direction. That is, the longitudinal mode wavelength changes during alignment.

【0006】一方、FGの反射波長は変化しないので、
この整列によるFGの光軸方向の移動により縦モードが
FGの反射帯域内で移動したり、反射帯域から外れるこ
とがある。このため、ファイバグレーティング半導体レ
ーザの縦モード間隔が、ファイバグレーティングの反射
帯域幅と同程度の大きさになると、FGLの発振状態が
不安定になる。
On the other hand, since the reflection wavelength of the FG does not change,
Due to the movement of the FG in the optical axis direction due to this alignment, the longitudinal mode may move within the reflection band of the FG or may deviate from the reflection band. For this reason, when the longitudinal mode interval of the fiber grating semiconductor laser is substantially equal to the reflection bandwidth of the fiber grating, the oscillation state of the FGL becomes unstable.

【0007】故に、ファイバグレーティングを有する光
ファイバを半導体光増幅器に対して整列する際に、レー
ザ発振を安定させるために十分な調整が行われていた。
例えば、この調整のために、半導体光増幅器の温度を変
化させたり、加える電流値を変更したり、といった項目
に関する調整を行いながら整列を行う必要があった。こ
のために、組立のための温度調整装置が必要であった
り、また半導体光増幅器の温度を安定させるための時間
が必要であった。
Therefore, when aligning an optical fiber having a fiber grating with respect to a semiconductor optical amplifier, a sufficient adjustment has been made to stabilize laser oscillation.
For example, for this adjustment, it is necessary to perform alignment while performing adjustments on items such as changing the temperature of the semiconductor optical amplifier and changing the value of the applied current. For this reason, a temperature adjusting device for assembly is required, and a time for stabilizing the temperature of the semiconductor optical amplifier is required.

【0008】本発明の目的は、ファイバグレーティング
を有する光ファイバを半導体光増幅器に光学的に結合さ
せ、ファイバグレーティング光モジュールにおいて光共
振器を形成する製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a manufacturing method for optically coupling an optical fiber having a fiber grating to a semiconductor optical amplifier to form an optical resonator in a fiber grating optical module.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、光透過面およ
び光反射面を有する半導体光増幅器と、一端部およびこ
の一端部から所定の距離に設けられたファイバグレーテ
ィングを有する光ファイバとが相対的に位置合わせされ
たファイバグレーティング光モジュールを製造する方法
に係わる。この位置合わせは、半導体光増幅器の光透過
面と光ファイバの一端部とを光学的に結合可能にする。
この方法は、(a)半導体光増幅器の光透過面に光ファイ
バの一端部が対面するように、半導体光増幅器および光
ファイバを配置する配置ステップと、(b)所定波長の光
を半導体光増幅器の光透過面に光ファイバの一端部を介
して加える入射ステップと、(c)半導体光増幅器の光反
射面において反射され光ファイバを介して取り出された
所定波長の光の強度に基づいて半導体光増幅器と光ファ
イバとの相対的な位置を合わせる整列ステップと、を備
える。
According to the present invention, there is provided a semiconductor optical amplifier having a light transmitting surface and a light reflecting surface, and an optical fiber having one end and a fiber grating provided at a predetermined distance from the one end. The invention relates to a method of manufacturing a fiber grating optical module which is aligned in a specific manner. This alignment makes it possible to optically couple the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier and one end of the optical fiber.
This method comprises the steps of: (a) arranging a semiconductor optical amplifier and an optical fiber such that one end of the optical fiber faces a light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier; and (b) transmitting light of a predetermined wavelength to the semiconductor optical amplifier. (C) entering an optical fiber through one end of the optical fiber to the light transmitting surface of the optical fiber, and (c) detecting the semiconductor light based on the intensity of light of a predetermined wavelength reflected by the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and extracted through the optical fiber. Aligning the amplifier and the optical fiber relative to each other.

【0010】このように、半導体光増幅器の光透過面に
光ファイバの一端部を対面させるように半導体光増幅器
および光ファイバを配置した後に、光ファイバのこの一
端面から半導体光増幅器に光透過面を介して所定波長の
光を導入するようにした。導入された光は、半導体光増
幅器の光反射面で反射されて、半導体光増幅器の光透過
面から出射される。この出射光を光ファイバの一端部を
介して光ファイバから取り出すようにすれば、半導体光
増幅器と光ファイバとの相対的な位置に応じて、光ファ
イバを介して取り出される光の強度が変化する。
As described above, after the semiconductor optical amplifier and the optical fiber are arranged such that one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier, the light transmitting surface is transmitted from the one end surface of the optical fiber to the semiconductor optical amplifier. The light of a predetermined wavelength is introduced through the. The introduced light is reflected by the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and is emitted from the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. If this emitted light is extracted from the optical fiber through one end of the optical fiber, the intensity of the light extracted through the optical fiber changes according to the relative position between the semiconductor optical amplifier and the optical fiber. .

【0011】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップは、(c1)光フ
ァイバの位置と半導体光増幅器の位置とを相対的に移動
させる移動ステップと、(c2)光ファイバを介して取り出
される光の強度を測定する測定ステップと、を有するこ
とができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step includes: (c1) a moving step of relatively moving the position of the optical fiber and the position of the semiconductor optical amplifier; and (c2) moving the optical fiber. Measuring the intensity of the light extracted therethrough.

【0012】このように、光ファイバと半導体光増幅器
とを相対的に移動させ、また、光ファイバを介して取り
出される光強度を測定するようにしたので、光ファイバ
と半導体光増幅器とを段階的に整列させることが可能に
なる。
As described above, since the optical fiber and the semiconductor optical amplifier are relatively moved and the light intensity extracted through the optical fiber is measured, the optical fiber and the semiconductor optical amplifier are connected stepwise. Can be aligned.

【0013】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップは、(c3)光フ
ァイバと半導体光増幅器とを相対的に移動させながら、
光ファイバを介して取り出される光強度を測定するステ
ップを有することができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step comprises: (c3) moving the optical fiber and the semiconductor optical amplifier relative to each other;
Measuring the light intensity extracted through the optical fiber can be included.

【0014】このように、光ファイバと半導体光増幅器
との相対的な位置を移動させながら光強度を測定する
と、相対位置と光学的な結合状態を連続的に監視しなが
ら、光ファイバと半導体光増幅器とを整列させることが
可能となる。
As described above, when the light intensity is measured while moving the relative position between the optical fiber and the semiconductor optical amplifier, the relative position and the optical coupling state are continuously monitored, and the optical fiber and the semiconductor optical amplifier are continuously monitored. It becomes possible to align the amplifier.

【0015】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、入射ステップは、(b1)半導
体光増幅器の光透過面に加えられる記所定波長の光に変
調を加える変調ステップを有することができる。また、
整列ステップでは、(c4)光ファイバを介して取り出され
る所定波長の光の変調成分に基づいて半導体光増幅器と
光ファイバとの相対的な位置を合わせすることができ
る。変調成分は、変調ステップにおいて行われた変調に
関連していることができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the incident step may include (b1) a modulation step of modulating light of a predetermined wavelength applied to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. Also,
In the alignment step, (c4) the relative positions of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber can be adjusted based on the modulation component of the light of a predetermined wavelength extracted through the optical fiber. The modulation component can be related to the modulation performed in the modulation step.

【0016】このように、光透過面に加えられる所定波
長の光信号を変調すれば、半導体光増幅器の光反射面に
おいて反射され光ファイバの一端部を介して光ファイバ
から取り出された所定波長の光も変調されている。この
変調成分に基づいて、半導体光増幅器と光ファイバとの
相対的な位置を合わせるようにすれば、測定値のSN比
が向上されるので、位置合わせの精度が向上される。
As described above, by modulating an optical signal of a predetermined wavelength applied to the light transmitting surface, the light of a predetermined wavelength reflected from the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and extracted from the optical fiber through one end of the optical fiber is modulated. Light is also modulated. If the relative position between the semiconductor optical amplifier and the optical fiber is adjusted based on this modulation component, the SN ratio of the measured value is improved, and the accuracy of the alignment is improved.

【0017】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップに先だって、
(d)半導体光増幅器を発光させる発光ステップを更に備
えることができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, prior to the alignment step,
(d) The method may further include a light emitting step of causing the semiconductor optical amplifier to emit light.

【0018】このように、整列ステップに先だって半導
体光増幅器に電流を加えれば、半導体光増幅器が発光し
ている状態で整列ステップが実行される。このため、光
透過面からの放出光の近視野像および遠視野像が実際の
動作状態に近くなる。故に、実動作時に近い状態に置か
れた半導体光増幅器と光ファイバとが整列される。
As described above, if a current is applied to the semiconductor optical amplifier before the alignment step, the alignment step is performed while the semiconductor optical amplifier is emitting light. Therefore, the near-field image and the far-field image of the light emitted from the light transmitting surface are close to the actual operation state. Therefore, the semiconductor optical amplifier and the optical fiber which are placed in a state close to the actual operation are aligned.

【0019】本発明は、光透過面および光反射面を有す
る半導体光増幅器と、一端部およびこの一端部から所定
の距離に設けられたファイバグレーティングを有する光
ファイバとを相対的に位置合わせするファイバグレーテ
ィング光モジュールの製造方法に係わる。この製造方法
は、(e)半導体光増幅器の光透過面に光ファイバの一端
部が対面するように、半導体光増幅器および光ファイバ
を配置する配置ステップと、(f)光ファイバに導入され
た所定波長の光を光ファイバの一端部を介して半導体光
増幅器の光透過面に加える入射ステップと、(g)半導体
光増幅器において所定波長の光によって発生された光誘
起電流の値に基づいて半導体光増幅器と光ファイバとの
相対的な位置を合わせる整列ステップと、を備える。
According to the present invention, there is provided a fiber for relatively positioning a semiconductor optical amplifier having a light transmitting surface and a light reflecting surface, and an optical fiber having one end and a fiber grating provided at a predetermined distance from the one end. The present invention relates to a method for manufacturing a grating optical module. This manufacturing method includes: (e) arranging the semiconductor optical amplifier and the optical fiber such that one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier; and (f) a predetermined step introduced into the optical fiber. (G) an incident step of applying light of a wavelength to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier through one end of the optical fiber; and (g) a semiconductor optical amplifier based on a value of a photoinduced current generated by the light of a predetermined wavelength in the semiconductor optical amplifier. Aligning the amplifier and the optical fiber relative to each other.

【0020】このように、半導体光増幅器の光透過面に
光ファイバの一端部を対面させるように半導体光増幅器
および光ファイバを配置した後に、所定波長の光を光フ
ァイバの一端部から半導体光増幅器に光透過面を介して
導入するようにした。導入された光は、半導体光増幅器
において光誘起電流を発生する。この光誘起電流の値
は、半導体光増幅器と光ファイバとの相対的な位置に応
じて変化する。
After arranging the semiconductor optical amplifier and the optical fiber such that one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier, light of a predetermined wavelength is applied from one end of the optical fiber to the semiconductor optical amplifier. Through the light transmitting surface. The introduced light generates a photo-induced current in the semiconductor optical amplifier. The value of the photo-induced current changes according to the relative position between the semiconductor optical amplifier and the optical fiber.

【0021】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップは、(g1)光フ
ァイバの位置と半導体光増幅器の位置とを相対的に移動
させる移動ステップと、(g2)光誘起電流の強度を測定す
る測定ステップと、を有することができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step includes: (g1) a moving step of relatively moving the position of the optical fiber and the position of the semiconductor optical amplifier; and (g2) a photoinduced current. And a measuring step of measuring the intensity of

【0022】このように、光ファイバと半導体光増幅器
とを相対的に移動し、そして光ファイバを介して取り出
される光誘起電流の強度を測定するようにしたので、光
ファイバと半導体光増幅器とを段階的に整列させること
が可能になる。
As described above, since the optical fiber and the semiconductor optical amplifier are relatively moved and the intensity of the photo-induced current extracted through the optical fiber is measured, the optical fiber and the semiconductor optical amplifier are connected to each other. It becomes possible to align them step by step.

【0023】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップは、(g3)光フ
ァイバと、半導体光増幅器とを相対的に移動させなが
ら、光誘起電流の値を測定するステップを有することが
できる。
In the method of manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step includes the step of (g3) measuring a value of a photo-induced current while relatively moving the optical fiber and the semiconductor optical amplifier. be able to.

【0024】このように、光ファイバと半導体光増幅器
との相対的な位置を移動させると同時に光誘起電流の強
度を測定すると、相対位置と光学的な結合状態とを連続
的に監視しながら、光ファイバと半導体光増幅器とを整
列させることが可能となる。
As described above, when the relative position of the optical fiber and the semiconductor optical amplifier is moved and the intensity of the photo-induced current is measured at the same time, the relative position and the optically coupled state are continuously monitored. The optical fiber and the semiconductor optical amplifier can be aligned.

【0025】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、入射ステップは、(f1)半導
体光増幅器の光透過面に加えられる所定波長の光に変調
を加える変調ステップを有することができる。また、整
列ステップでは、光誘起電流の変調成分に基づいて半導
体光増幅器の位置に対する光ファイバの相対的な位置を
合わせることができる。変調成分は、変調ステップにお
ける変調に関連しているようにできる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the incident step may include (f1) a modulation step of modulating light of a predetermined wavelength applied to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. In the aligning step, the relative position of the optical fiber with respect to the position of the semiconductor optical amplifier can be adjusted based on the modulation component of the photo-induced current. The modulation component can be related to the modulation in the modulation step.

【0026】このように、変調された所定波長の光信号
を光透過面に加えると、この光信号は半導体光増幅器に
おいて光誘起電流を発生する。この光誘起電流の値の変
調成分に基づいて半導体光増幅器に対する光ファイバの
相対的な位置を合わせるようにすれば、測定値のSN比
が向上されるので、位置合わせの精度が向上される。
As described above, when a modulated optical signal of a predetermined wavelength is applied to the light transmitting surface, the optical signal generates a photo-induced current in the semiconductor optical amplifier. If the relative position of the optical fiber with respect to the semiconductor optical amplifier is adjusted based on the modulated component of the value of the photo-induced current, the SN ratio of the measured value is improved, and the accuracy of the alignment is improved.

【0027】以上説明した本発明に係わるファイバグレ
ーティング光モジュールの製造方法によれば、入射ステ
ップにおいて、第1の偏光および第2の偏光を含む一連
の光を半導体光増幅器の光透過面に加えることができ
る。少なくとも2つの偏光を含む光を用いれば、測定値
に生じ得る光の偏光に対する依存性が低減される。ま
た、本発明に係わるファイバグレーティング光モジュー
ルの製造方法によれば、入射ステップにおいて、偏光面
がスクランブルされた一連の光を半導体光増幅器の光透
過面に加えることができる。このスクランブルによっ
て、測定値に生じ得る光の偏光に対する依存性が低減さ
れる。
According to the above-described method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, in the incident step, a series of light including the first polarized light and the second polarized light is added to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. Can be. The use of light containing at least two polarizations reduces the possible dependence of the measured values on the polarization of the light. Further, according to the method of manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, in the incident step, a series of lights whose polarization planes are scrambled can be added to the light transmission plane of the semiconductor optical amplifier. This scrambling reduces the possible dependence of the measurement on the polarization of the light.

【0028】本発明に係わるファイバグレーティング光
モジュールの製造方法では、整列ステップは、(c5)光フ
ァイバの位置と、半導体光増幅器の位置とを相対的に移
動させる移動ステップと、(c6)光ファイバを介して取り
出される光の強度を、一連の光が導入される期間にわた
って測定する測定ステップと、を有することができる。
少なくとも2つの偏光を含む光を用いれば、測定値に生
じ得る光の偏光に対する依存性を低減できる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step includes: (c5) a moving step of relatively moving a position of the optical fiber and a position of the semiconductor optical amplifier; and (c6) an optical fiber. Measuring the intensity of the light extracted via the time period over which the sequence of light is introduced.
The use of light containing at least two polarizations can reduce the dependence of the measured values on the polarization of light that can occur.

【0029】また、本発明に係わるファイバグレーティ
ング光モジュールの製造方法では、整列ステップは、(g
4)光ファイバの位置と、半導体光増幅器の位置とを相対
的に移動させる移動ステップと、(g5)一連の光が導入さ
れる期間にわたって光誘起電流を測定する測定ステップ
と、を有することができる。
In the method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, the aligning step may be performed by (g
4) the position of the optical fiber, the movement step of relatively moving the position of the semiconductor optical amplifier, and (g5) a measurement step of measuring the photoinduced current over a period during which a series of light is introduced, it can.

【0030】少なくとも2つの偏光を含む一連の光およ
び偏光面がスクランブルされた一連の光の少なくともい
ずれかを用いて光強度の測定をすれば、測定に際して生
じ得る光の偏光に対する依存性が低減される。
If the light intensity is measured using at least one of a series of lights including at least two polarizations and a series of lights whose polarization planes are scrambled, the dependence of the light on the polarization which may occur during the measurement is reduced. You.

【0031】以上説明した本発明に係わるファイバグレ
ーティング光モジュールの製造方法では、(h)半導体光
増幅器の光反射面とファイバグレーティングとから形成
される光共振器の縦モードをファイバグレーティングが
反射可能な光の波長帯域内に合わせ込むステップを更に
備えることができる。
In the method for manufacturing the fiber grating optical module according to the present invention described above, (h) the fiber grating can reflect the longitudinal mode of the optical resonator formed by the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and the fiber grating. The method may further comprise the step of tuning the light within the wavelength band of light.

【0032】このような光学的な位置合わせを行うこと
によって、光ファイバのファイバグレーティングと、半
導体光増幅器の光反射面とから光共振器が構成された後
にレーザを発振させるので、安定した状態において縦モ
ードを合わせ込みが可能となる。
By performing such an optical alignment, the laser is oscillated after the optical resonator is constituted by the fiber grating of the optical fiber and the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier. The vertical mode can be adjusted.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】図面を参照しながら本発明の実施
の形態を説明する。可能な場合には、同一の部分には同
一の符号を付して、その説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. When possible, the same parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0034】図1及び図2を参照しながら、本発明が適
用可能なファイバグレーティング光モジュールの構成に
ついて説明する。図1は、ファイバグレーティング光モ
ジュールの斜視図であり、その内部の様子が明らかにな
るように一部破断図になっている。図2は、ファイバグ
レーティングレーザの主要部10を表し図1のI−I断
面における断面図である。
The configuration of a fiber grating optical module to which the present invention can be applied will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view of a fiber grating optical module, which is partially cut away so as to clarify the inside thereof. FIG. 2 is a sectional view showing a main part 10 of the fiber grating laser, taken along a line II in FIG.

【0035】ファイバグレーティング光モジュール1
は、ハウジング12と、ファイバグレーティング光モジ
ュールの主要部10とを備える。
Fiber grating optical module 1
Comprises a housing 12 and a main part 10 of the fiber grating optical module.

【0036】ハウジング12は、図1に示された実施例
では、バタフライ型パッケージである。パッケージ12
内の底面上にファイバグレーティング光モジュールの主
要部10が配置されている。バタフライ型パッケージ
は、ファイバグレーティングレーザモジュールの主要部
10を収納している本体部12a、光ファイバ14を主
要部10に導く筒状部12b、および主要部10の電極
をパッケージ12外に電気的に取り出すことを可能にす
る複数のリードピン12cを備える。筒状部12bの先
端からは光ファイバ14が導入され、光ファイバ14は
筒状部12bの内部を通過してファイバグレーティング
レーザモジュールの主要部10に至る。複数のリードピ
ン12cは、パッケージ12の両側面に設けられてい
て、導電ワイヤ(図示せず)を用いてボンディングされ
ることによって半導体光増幅器16等に電気的に接続さ
れている。各リードピン12cは、半導体光増幅器16
への駆動電流を供給し、また受光素子18(例えば、フ
ォトダイオード)からの電流を取り出したり、電子冷却
素子28へ電流を供給したりするために利用される。
The housing 12 is a butterfly-type package in the embodiment shown in FIG. Package 12
The main part 10 of the fiber grating optical module is arranged on the bottom surface inside. The butterfly type package electrically connects a main body part 12a accommodating the main part 10 of the fiber grating laser module, a cylindrical part 12b for guiding the optical fiber 14 to the main part 10, and electrodes of the main part 10 outside the package 12. It is provided with a plurality of lead pins 12c that enable it to be taken out. An optical fiber 14 is introduced from the tip of the cylindrical portion 12b, and the optical fiber 14 passes through the inside of the cylindrical portion 12b and reaches the main portion 10 of the fiber grating laser module. The plurality of lead pins 12c are provided on both side surfaces of the package 12, and are electrically connected to the semiconductor optical amplifier 16 and the like by bonding using a conductive wire (not shown). Each lead pin 12c is connected to the semiconductor optical amplifier 16
It is used to supply a drive current to the light-receiving element 18, take out a current from the light receiving element 18 (for example, a photodiode), and supply a current to the thermoelectric cooler 28.

【0037】ファイバグレーティング光モジュールの主
要部10は、半導体光学素子16、18を搭載する搭載
部材22、24、26と、光ファイバ14を半導体光増
幅器16に光学的に結合させるために位置合わせ機構部
30とを備える。位置合わせ機構部30は、フェルール
32、第1の支持部材34、第2の支持部材36、およ
び第3の支持部材38を備える。
The main part 10 of the fiber grating optical module includes mounting members 22, 24, 26 for mounting the semiconductor optical elements 16, 18, and a positioning mechanism for optically coupling the optical fiber 14 to the semiconductor optical amplifier 16. And a unit 30. The positioning mechanism 30 includes a ferrule 32, a first support member 34, a second support member 36, and a third support member 38.

【0038】搭載部材24は、基体部24aおよび壁部
24bを有するL字形状の部材であって、壁部24bが
基体部24aの搭載面24c上に設けられている。チッ
プキャリア22、26は、基体部24bの搭載面24c
上に搭載されている。搭載部材24は、設置面24dを
ペルチェ素子28に対面させた状態で、ペルチェ素子2
8上に設置されている。壁部24bは、光ファイバ受入
面24eと、受入面24eに対向する対向面24fと、
受入面24eから対向面24fに貫通する貫通孔24g
とを有する。貫通孔24gには、光ファイバ14のレン
ズ化端部14bが挿入されている。また、貫通孔24g
は、端部14bが半導体光増幅器16の第1の端面16
aと光学的に結合するための空間を提供する。搭載部材
24において、搭載面24c、設置面24d、受入面2
4e、および対向面24fは平面である。搭載面24c
および設置面24dは略平行であり、また受入面24e
および対向面24fは略平行であり、更に搭載面24c
は対向面24fと略直交している。
The mounting member 24 is an L-shaped member having a base portion 24a and a wall portion 24b. The wall portion 24b is provided on a mounting surface 24c of the base portion 24a. The chip carriers 22 and 26 are mounted on the mounting surface 24c of the base portion 24b.
Mounted on top. The mounting member 24 holds the Peltier device 2 with the installation surface 24d facing the Peltier device 28.
8 is installed. The wall portion 24b includes an optical fiber receiving surface 24e, an opposing surface 24f facing the receiving surface 24e,
24g of through holes penetrating from the receiving surface 24e to the facing surface 24f
And The lensed end 14b of the optical fiber 14 is inserted into the through hole 24g. In addition, 24g of through holes
Is that the end 14 b is the first end face 16 of the semiconductor optical amplifier 16.
Provide space for optically coupling with a. In the mounting member 24, the mounting surface 24c, the installation surface 24d, the receiving surface 2
4e and the opposing surface 24f are flat surfaces. Mounting surface 24c
And the installation surface 24d are substantially parallel, and the receiving surface 24e
And the opposing surface 24f are substantially parallel to each other.
Is substantially perpendicular to the facing surface 24f.

【0039】第1の支持部材34は、搭載部材24の受
入面24eに接触する接触平面34aと、この平面34
aに対向する対向面34bを有するワッシャである。第
1の支持部材34は、接触平面34aから対向面34b
に向けて貫通する孔34cを有する。本実施の形態で使
用された第1の支持部材34は、より大きな直径の円盤
状の平板と、より小さな直径の円盤状の平板とを同軸に
重ねた形状を有する。第1の支持部材34は、中央部に
設けられた孔34cに挿入されるフェルール32を支持
する。第1の支持部材34は、対向面34bにある孔3
4cの開口部においてフェルール32と固定され、ま
た、第1の支持部材34の外周において搭載部材24に
固定されている。
The first support member 34 includes a contact plane 34a that contacts the receiving surface 24e of the mounting member 24,
This is a washer having an opposing surface 34b opposing a. The first support member 34 moves from the contact plane 34a to the facing surface 34b.
Has a hole 34c penetrating toward. The first support member 34 used in the present embodiment has a shape in which a disk-shaped flat plate having a larger diameter and a disk-shaped flat plate having a smaller diameter are coaxially stacked. The first support member 34 supports the ferrule 32 inserted into the hole 34c provided at the center. The first support member 34 is provided with a hole 3 in the facing surface 34b.
The opening 4c is fixed to the ferrule 32, and the outer periphery of the first support member 34 is fixed to the mounting member 24.

【0040】第2の支持部材36は、第1の支持部材3
4から所定の長さ離れた位置においてフェルール32と
固定されている。所定の長さを確保するために、第3の
支持部材38が、第1の支持部材34と第2の支持部材
36との間に挟まれている。第2の支持部材36は、第
3の支持部材38に接する接触面36aと、これに対向
する対向面36bとを有するワッシャである。第2の支
持部材36は、接触平面36aから対向面36bに向け
て貫通する孔36cを有し、この孔36cには、フェル
ール32が通過する。本実施の形態において使用される
第2の支持部材34は平板であり、円盤状の形状を成
す。
The second support member 36 is a first support member 3
4 and is fixed to the ferrule 32 at a position separated by a predetermined length. To ensure a predetermined length, a third support member 38 is sandwiched between the first support member 34 and the second support member 36. The second support member 36 is a washer having a contact surface 36a that contacts the third support member 38 and an opposing surface 36b that opposes the contact surface 36a. The second support member 36 has a hole 36c penetrating from the contact plane 36a toward the facing surface 36b, and the ferrule 32 passes through the hole 36c. The second support member 34 used in the present embodiment is a flat plate and has a disk shape.

【0041】第3の支持部材38は、フェルール32が
向いている方向に所定の長さ延びる管状部38aを有
し、管状部38aの一端部は第1の支持部材34の対向
面34b上に接触している。管状部38aの他端は、フ
ェルール32が通過する孔38cを有する平板部38b
によって塞がれている。平板部38bは、その外面に、
第2の支持部材36が接触する接触面38dを有する。
本実施の形態で使用された第3の支持部材は、底面38
bの中央部に貫通孔38cを有する円筒部38aを有す
るカップ形状である。
The third support member 38 has a tubular portion 38 a extending a predetermined length in the direction in which the ferrule 32 faces, and one end of the tubular portion 38 a is placed on the facing surface 34 b of the first support member 34. In contact. The other end of the tubular portion 38a has a flat plate portion 38b having a hole 38c through which the ferrule 32 passes.
Is closed by. The flat plate portion 38b has an outer surface,
It has a contact surface 38d with which the second support member 36 contacts.
The third support member used in the present embodiment has a bottom surface 38.
b has a cup shape having a cylindrical portion 38a having a through hole 38c at the center.

【0042】第2の支持部材36は、第3の支持部材3
8の接触平面38dに平面36aを接触させ、第2の支
持部材36の外周において第3の支持部材38に固定さ
れている。また、第2の支持部材36は、対向面36b
における貫通孔36cの開口部の外周においてフェルー
ル32と固定されている。
The second support member 36 is a third support member 3
The contact surface 38d of No. 8 is brought into contact with the plane 36a, and is fixed to the third support member 38 on the outer periphery of the second support member 36. Further, the second support member 36 is provided with a facing surface 36b.
Is fixed to the ferrule 32 at the outer periphery of the opening of the through hole 36c.

【0043】フェルール32、第1〜第3の支持部材3
4、36、38は、例えばステンレススチールで形成さ
れることができる。また、フェルール32、第1〜第3
の支持部材34、36、38の固定は、例えばスポット
溶接を用いて、複数の位置において行うことが好まし
い。
Ferrule 32, first to third support members 3
4, 36, 38 can be formed, for example, of stainless steel. Also, ferrule 32, first to third
The fixing of the supporting members 34, 36, 38 is preferably performed at a plurality of positions using, for example, spot welding.

【0044】第1の指示部材34および第2の指示部材
36の形状は、リング形状であることが好ましい。この
ように、外形を円形状にすると、円の中心軸方向から見
た平面形状において対称性が高くなる。このため、対称
性を有する複数の位置、例えば対称軸と円形の外周が交
差する対向する2点、においてスポット溶接で固定を行
うと、固定することによって発生する歪みが低減され
る。また、スポット溶接による固定は、上記の対向位置
に関しては同時に行うことが好ましい。このようにする
と、固定の際に発生する歪みを小さくできる。
The first pointing member 34 and the second pointing member 36 preferably have a ring shape. As described above, when the outer shape is circular, symmetry is increased in a planar shape viewed from the center axis direction of the circle. For this reason, when fixing is performed by spot welding at a plurality of symmetrical positions, for example, at two opposing points where the axis of symmetry and the outer periphery of the circle intersect, distortion caused by fixing is reduced. In addition, it is preferable that the fixing by spot welding be performed simultaneously with respect to the above-described facing position. By doing so, distortion generated at the time of fixing can be reduced.

【0045】半導体光増幅器16は、チップキャリア2
2上に搭載されている。チップキャリア16は、例えば
窒化アルミニウム(AlN)、アルミナ(Al23)と
いった材料を用いて形成されている。このため、半導体
光増幅器22の動作中に発生した熱は、チップキャリア
22を伝導してペルチェ素子28に到達する。ペルチェ
素子28は、電流が流れると電子冷却素子として作動す
る。半導体光増幅器16は、その第1の端面16aをパ
ッケージ12の光ファイバ挿入面に向けて配置されてい
る。図面には、特に示されていないけれども、半導体光
増幅器16上に形成された電極はチップキャリア22上
の配線層と導電ワイヤに介して接続されている。この配
線層は、導電ワイヤによってパッケージ12の内部リー
ドに接続されている。
The semiconductor optical amplifier 16 includes the chip carrier 2
2 mounted. The chip carrier 16 is formed using a material such as aluminum nitride (AlN) and alumina (Al 2 O 3 ). Therefore, heat generated during operation of the semiconductor optical amplifier 22 reaches the Peltier element 28 through the chip carrier 22. The Peltier element 28 operates as an electronic cooling element when a current flows. The semiconductor optical amplifier 16 is arranged with its first end face 16a facing the optical fiber insertion surface of the package 12. Although not particularly shown in the drawings, the electrodes formed on the semiconductor optical amplifier 16 are connected to the wiring layer on the chip carrier 22 via conductive wires. This wiring layer is connected to the internal lead of the package 12 by a conductive wire.

【0046】半導体光増幅器16は、例えば、InGa
AsPからなる活性層と、この活性層をその対向する2
面において挟み込むInPからなるクラッド層とを半導
体基板上に備え、両側のクラッド層から活性層にキャリ
アを注入し反転分布を形成することによって誘導放出光
を発生し増幅する発光素子である。クラッド層の一方は
P型半導体から形成され、クラッド層の他方はN型半導
体から形成されている。このため、これらのクラッド層
は、活性層を両側から挟んだ状態で、PNダイオードを
構成する。活性層の伝導帯と価電子帯とのエネルギ差は
Eg(バンドギャップ)であり、キャリアが注入される
と電子と正孔が再結合してEgに関連した波長の光が発
生される。
The semiconductor optical amplifier 16 is, for example, InGa
An active layer composed of AsP and this active layer
This is a light emitting element that has a cladding layer made of InP sandwiched on its surface on a semiconductor substrate, and injects carriers into the active layer from the cladding layers on both sides to form population inversion, thereby generating and amplifying stimulated emission light. One of the cladding layers is formed of a P-type semiconductor, and the other of the cladding layers is formed of an N-type semiconductor. Therefore, these cladding layers constitute a PN diode with the active layer sandwiched from both sides. The energy difference between the conduction band and the valence band of the active layer is Eg (band gap). When a carrier is injected, electrons and holes recombine to generate light having a wavelength related to Eg.

【0047】活性層は、第1の端面16aと、第2の端
面16bとを備える。当該ファイバグレーティング光モ
ジュールの光の発振波長において、第1の端面16aの
光反射率は第2の端面の光反射率に比べて小さい。これ
を実現するために、第1の端面16aには低反射膜を形
成し、1〜0.1%程度の反射率を達成している。一
方、第2の端面16bには高反射膜が形成を形成し、8
5%以上の反射率を達成している。このため、第1の端
面16aは光透過面となり、第2の端面16bは光反射
面となる。
The active layer has a first end face 16a and a second end face 16b. At the oscillation wavelength of the light of the fiber grating optical module, the light reflectance of the first end face 16a is smaller than the light reflectance of the second end face. In order to realize this, a low reflection film is formed on the first end face 16a to achieve a reflectance of about 1 to 0.1%. On the other hand, a highly reflective film is formed on the second end face 16b,
A reflectance of 5% or more is achieved. Therefore, the first end surface 16a becomes a light transmitting surface, and the second end surface 16b becomes a light reflecting surface.

【0048】活性層は第1の端面16aおよび第2の端
面16bを両端に有する光導波路であり、この光導波路
は、第1の端面16aおよび第2の端面16bの各々と
所定の角度にて交差する導波路軸に沿って延びる。
The active layer is an optical waveguide having a first end face 16a and a second end face 16b at both ends, and this optical waveguide is formed at a predetermined angle with each of the first end face 16a and the second end face 16b. It extends along intersecting waveguide axes.

【0049】図面には、特に示されていないけれど、半
導体光増幅器16上に設けられた電極は、チップキャリ
ア22上の配線層と導電ワイヤで接続されている。この
配線層は、パッケージ12の内部リードと接続されてい
る。
Although not shown in the drawings, the electrodes provided on the semiconductor optical amplifier 16 are connected to the wiring layer on the chip carrier 22 by conductive wires. This wiring layer is connected to the internal lead of the package 12.

【0050】光ファイバ14は、ファイバグレーティン
グ14a、および2個の端部14b、14cを有する。
これらの端部の一方は、半導体光増幅器16の第1の端
面16aと対面していて、この端部14bと第1の端面
16aが光学的に結合可能な位置に光ファイバ14が配
置されている。第1の端面16aと光学的に結合してい
る端部14bは、半導体光増幅器16の第1の端面16
aから出射された光を集光可能なように先球加工された
レンズ形状を有している。このため、半導体光増幅器1
6と光ファイバ14との間に別個のレンズを設ける必要
がないので、光学的な結合を直接行うことが可能にな
る。これによって、共振器長が短縮可能であるので、フ
ァイバグレーティングレーザの高周波特性が向上され
る。
The optical fiber 14 has a fiber grating 14a and two ends 14b and 14c.
One of these ends faces the first end face 16a of the semiconductor optical amplifier 16, and the optical fiber 14 is disposed at a position where the end 14b and the first end face 16a can be optically coupled. I have. The end 14 b optically coupled to the first end face 16 a is connected to the first end face 16 of the semiconductor optical amplifier 16.
It has a lens shape that is processed to be spherical so that light emitted from a can be collected. Therefore, the semiconductor optical amplifier 1
Since there is no need to provide a separate lens between the optical fiber 6 and the optical fiber 14, the optical coupling can be performed directly. As a result, the resonator length can be shortened, so that the high-frequency characteristics of the fiber grating laser are improved.

【0051】光ファイバ14には、レンズ形状を有する
一端部14bから所定の距離だけ離れたコア部内の位置
に回折格子(ファイバグレーティング)14aが設けら
れている。このような回折格子14aを形成するために
好適な光ファイバは、酸化ゲルマニウムを含むと共に所
定の屈折率を有するコア部と、このコア部の周囲に設け
られコア部よりも小さい屈折率を有するクラッド部とを
備える。そして、この光ファイバに紫外線を照射するこ
とによって、屈折率の異なる領域がコア部の複数の箇所
に形成されている。このような領域は、周期的に設けら
れることが好ましい。このような回折格子14aは、反
射率、周期、回折格子長、等の特性値によって特徴付け
られる。回折格子14aは、これらの特性値を組み合わ
せて、本願の整列に使用する波長領域と異なる波長領域
において反射スペクトルを有するように設計されること
ができる。回折格子14aの反射スペクトルは、波長λ
gを中心に所定の半値幅に及ぶ。
The optical fiber 14 is provided with a diffraction grating (fiber grating) 14a at a position within a core portion separated from the one end portion 14b having a lens shape by a predetermined distance. An optical fiber suitable for forming such a diffraction grating 14a includes a core portion containing germanium oxide and having a predetermined refractive index, and a cladding provided around the core portion and having a smaller refractive index than the core portion. Unit. By irradiating the optical fiber with ultraviolet rays, regions having different refractive indexes are formed at a plurality of portions of the core portion. Such regions are preferably provided periodically. Such a diffraction grating 14a is characterized by characteristic values such as reflectance, period, diffraction grating length, and the like. The diffraction grating 14a can be designed to combine these characteristic values to have a reflection spectrum in a wavelength region different from the wavelength region used for alignment in the present application. The reflection spectrum of the diffraction grating 14a has a wavelength λ
A predetermined half value width is centered on g.

【0052】光ファイバ14は、フェルール32の一端
部から他端部に延びる貫通孔に、一端から挿入されて、
光ファイバの先端部14bはフェルール32の他端部か
ら所定の長さだけ突出している。フェルール32は、光
ファイバの先端部14bが突出する端部から所定の距離
だけ離れた位置にて第1の支持部材34に固定されてい
る。フェルール32は、また、光ファイバ14が挿入さ
れた一端部から所定の距離だけ離れた位置にて第2の支
持部材36に固定されている。第1の支持部材34およ
び第2の支持部材36は、第3の支持部材38よってに
空間的に離れた位置に配置される。第3の支持部材38
は、第1の支持部材34から離間された位置に第2の支
持部材36が配置されることを可能にする部材である。
The optical fiber 14 is inserted from one end into a through hole extending from one end of the ferrule 32 to the other end thereof.
The tip 14b of the optical fiber projects from the other end of the ferrule 32 by a predetermined length. The ferrule 32 is fixed to the first support member 34 at a position separated by a predetermined distance from the end from which the tip end 14b of the optical fiber projects. The ferrule 32 is fixed to the second support member 36 at a position separated by a predetermined distance from one end into which the optical fiber 14 is inserted. The first support member 34 and the second support member 36 are arranged at positions spatially separated by the third support member 38. Third support member 38
Is a member that enables the second support member 36 to be arranged at a position separated from the first support member 34.

【0053】図3を参照しながら、光ファイバ14を半
導体光増幅器16に光学的に結合させるための位置合わ
せ機構部30について説明する。図3は、位置合わせ機
構部30を位置合わせしながら組み立てていく際に使用
する治具40に搭載部材24が固定された状態を示した
模式図である。
With reference to FIG. 3, the positioning mechanism 30 for optically coupling the optical fiber 14 to the semiconductor optical amplifier 16 will be described. FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the mounting member 24 is fixed to a jig 40 used when assembling while aligning the alignment mechanism unit 30.

【0054】搭載部材24が、組立治具40に固定され
ている。搭載部材24は、半導体光増幅器12を搭載し
たチップキャリア22を搭載面上に備え、電気的な接続
を完了した状態まで既に組み立てられている。なお、受
光素子28およびチップキャリア26は図面を見やすく
するために、以下、特に断らない限り省略する。組立治
具40は、3次元空間において、位置合わせ機構部30
を搭載部材24に相対的に位置合わせするために必要な
移動機構42を備える。移動機構42は、図3に示され
た座標軸のX軸方向への並進移動機構42a、紙面の向
かう方向のY方向への並進移動機構42b、Z軸方向へ
の並進移動機構42c、およびZ軸の周りのφ回転を行
う回転機構42dを備える。特に、図示していないが、
フェルール32、第1〜第3の指示部材34、36,3
8、および搭載部材24をそれぞれ固定するために固定
手段として溶接装置も設けられている。この溶接装置
は、例えば、YAGレーザを用いたレーザ溶接装置であ
ることが好ましい。
The mounting member 24 is fixed to an assembly jig 40. The mounting member 24 has a chip carrier 22 on which the semiconductor optical amplifier 12 is mounted on a mounting surface, and is already assembled up to a state where electrical connection is completed. In addition, the light receiving element 28 and the chip carrier 26 are omitted below, unless otherwise specified, in order to make the drawing easy to see. The assembling jig 40 is positioned in the three-dimensional space by the positioning mechanism 30.
Is provided with a moving mechanism 42 required to relatively position the mounting member 24 with respect to the mounting member 24. The translation mechanism 42 includes a translation mechanism 42a in the X-axis direction of the coordinate axes shown in FIG. 3, a translation mechanism 42b in the Y-direction toward the paper surface, a translation mechanism 42c in the Z-axis direction, and a Z-axis. And a rotation mechanism 42d for performing φ rotation around. In particular, although not shown,
Ferrule 32, first to third indicating members 34, 36, 3
A welding device is also provided as fixing means for fixing the mounting member 24 and the mounting member 24, respectively. This welding device is preferably, for example, a laser welding device using a YAG laser.

【0055】位置合わせ機構部30は、治具40に固定
された搭載部材24の受入面24e上に、半導体光増幅
器12の光軸44に概略的に位置合わせされた状態で、
フェルール32、第1の支持部材34、第3の支持部材
38、第2の支持部材36が、下側からこの順序で配置
されている。第1の支持部材34、第2の支持部材3
6、および第3の支持部材38では、光ファイバ14付
きフェルール32が、それらの中央部に設けられている
孔を通過した状態で配置されている。
The positioning mechanism 30 is positioned on the receiving surface 24 e of the mounting member 24 fixed to the jig 40 while being roughly aligned with the optical axis 44 of the semiconductor optical amplifier 12.
The ferrule 32, the first support member 34, the third support member 38, and the second support member 36 are arranged in this order from below. First support member 34, second support member 3
In the sixth and third support members 38, the ferrules 32 with the optical fibers 14 are arranged so as to pass through holes provided in the central portions thereof.

【0056】次いで、図3を参照しながら、半導体光増
幅器16に対して光ファイバの相対的な位置を合わせる
整列のために使用される光学的な結合関係について説明
する。図3は、搭載部材が組み立て治具に固定された状
態を示した模式図である。光ファイバ14の第1の端部
14bは、半導体光増幅器16の光透過面16aに対面
するように配置されている。光ファイバ14の第2の端
部14cは、光発生装置(光源)46に光学的に結合さ
れている。光発生装置46は、第2の端部14cから所
定波長の光をモニタ光として光ファイバ14に与える。
この所定波長の光は、ファイバグレーティング14aを
透過可能であり、半導体光増幅器16の光透過面16a
を透過可能であり、光透過面16aから光反射面16b
に到達し光反射面16bにおいて反射可能である。所定
波長の光は、活性層では実質的に吸収されない。このよ
うな所定波長の光は、活性層の光学的な遷移エネルギ、
つまりバンドギャップエネルギに相当する光の波長より
も波長の長い光である。
Next, an optical coupling relationship used for alignment for aligning the optical fiber with respect to the semiconductor optical amplifier 16 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic view showing a state where the mounting member is fixed to an assembly jig. The first end 14 b of the optical fiber 14 is arranged so as to face the light transmitting surface 16 a of the semiconductor optical amplifier 16. The second end 14c of the optical fiber 14 is optically coupled to a light generator (light source) 46. The light generator 46 supplies light of a predetermined wavelength from the second end 14c to the optical fiber 14 as monitor light.
The light having the predetermined wavelength can pass through the fiber grating 14a, and the light transmission surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16
From the light transmitting surface 16a to the light reflecting surface 16b.
And can be reflected on the light reflecting surface 16b. Light of a predetermined wavelength is not substantially absorbed by the active layer. The light of such a predetermined wavelength is the optical transition energy of the active layer,
That is, the light has a wavelength longer than the wavelength of the light corresponding to the band gap energy.

【0057】光ファイバ14は、ファイバグレーティン
グ14aと第2の端部14cとの間に光結合手段52、
例えば光カプラ(溶融石英カプラ、方向性結合器)を有
する。光結合手段52は、光ファイバ14と光学的な結
合、好ましくは比較的緩い結合を達成することによっ
て、光ファイバ分路52aと光ファイバ主路(第1の端
部14bから第2の端部14cへの経路)との間で伝搬
光の分岐および合流を可能にする。分路52aの第3の
端部52bには、光強度(光パワー)が計測可能な測定
装置54、例えばパワーメータ、が光学的に結合されて
いる。この測定装置54を用いると、光ファイバ14を
伝わり端部52bに達した光の強度を計測できる。パワ
ーメータ54は、所定波長の光の強度を検出可能であ
る。
The optical fiber 14 comprises an optical coupling means 52 between the fiber grating 14a and the second end 14c.
For example, it has an optical coupler (fused silica coupler, directional coupler). The optical coupling means 52 achieves an optical coupling with the optical fiber 14, preferably a relatively loose coupling, so that the optical fiber shunt 52a and the optical fiber main path (from the first end 14b to the second end 14b). 14c). A measuring device 54 capable of measuring light intensity (light power), for example, a power meter, is optically coupled to the third end 52b of the shunt 52a. Using this measuring device 54, the intensity of light that has traveled along the optical fiber 14 and has reached the end 52b can be measured. The power meter 54 can detect the intensity of light having a predetermined wavelength.

【0058】光発生装置46は、光の強度を変調するこ
とができ、測定装置54は、光発生装置46において変
調された光信号の変調成分を検出することができる。こ
のような変調は、光強度が所定の周波数で変更されるよ
うに行われることができ、また光強度が所定の二値符号
になるように行われることができる。このように、変調
された光信号を入射し、この変調に関連付けられた変調
信号を検出するようにすれば、本方法における光信号の
測定において、SN比を向上させることができる。この
ため、光発生装置46において発生させるべき光信号の
平均パワーを低減することができる。平均パワーが低減
されると、測定中において、半導体光増幅器16の光反
射面での発熱を小さくすることができる。また、平均パ
ワーを低減しつつ、発光時の光パワーを増強することが
可能になるので、SN比の向上に寄与する。
The light generator 46 can modulate the intensity of light, and the measuring device 54 can detect the modulated component of the optical signal modulated by the light generator 46. Such modulation may be performed such that the light intensity is changed at a predetermined frequency, and may be performed such that the light intensity is a predetermined binary code. As described above, if a modulated optical signal is input and a modulated signal associated with the modulation is detected, the SN ratio can be improved in the measurement of the optical signal in the present method. Therefore, the average power of the optical signal to be generated in the light generator 46 can be reduced. When the average power is reduced, heat generation on the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier 16 during measurement can be reduced. Further, it is possible to increase the light power at the time of light emission while reducing the average power, which contributes to the improvement of the SN ratio.

【0059】なお、光ファイバ14の第2の端部14c
にパワーメータ54が光学的に結合され、光ファイバ分
路52aの第3の端部52bに光発生装置46が光学的
に結合されるようにしても、本発明は同様に適用され
る。第1の端部14bと第2の端部14cとの間、及
び、第1の端部14bと第3の端部52bとの間の少な
くともいずれかに、光コネクタを用いた光学的な接続、
融着による光学的な結合、光カプラによる光学的な合流
及び分岐などを含むことができる。
The second end 14c of the optical fiber 14
The present invention is similarly applicable if the power meter 54 is optically coupled to the optical fiber shunt 52a and the light generator 46 is optically coupled to the third end 52b of the optical fiber shunt 52a. Optical connection using an optical connector between at least one of the first end 14b and the second end 14c and at least one of the first end 14b and the third end 52b. ,
Optical coupling by fusion, optical merging and branching by an optical coupler, and the like can be included.

【0060】このような光学的な結合を組み立てた後に
は、光発生装置46において発生された所定波長の光
は、ファイバグレーティング14aを透過可能なので、
光ファイバ14を伝搬し第1の端部14bから光透過面
を介して半導体光増幅器16の活性層に入射される。こ
の入射光は、活性層を伝搬し光反射面において反射され
て、光透過面から出射される。この出射光は、第1の端
部14bから光ファイバ14に導入され光ファイバ14
を伝搬していく。この光が光結合手段52に到達する
と、一部は光ファイバ分路52aに分岐する。パワーメ
ータ54は、この分岐光の強度を検出する。分岐光の強
度は、光ファイバ14の第1の端部14bと半導体光増
幅器16との光学的な結合の強さを反映している。つま
り、このような光学的な接続形態においては、半導体光
増幅器16と光ファイバ14との間の光学的な結合が密
接になるにつれて、光ファイバの他端52bでは、徐々
に大きな光強度が観測されるようになる。したがって、
この観測値に基づいて、光ファイバ14と半導体光増幅
器16との整列の達成の程度を判断できる。
After assembling such an optical coupling, light of a predetermined wavelength generated in the light generator 46 can pass through the fiber grating 14a.
The light propagates through the optical fiber 14 and enters the active layer of the semiconductor optical amplifier 16 from the first end 14b via the light transmitting surface. This incident light propagates through the active layer, is reflected on the light reflecting surface, and is emitted from the light transmitting surface. The emitted light is introduced into the optical fiber 14 from the first end 14b and
Is propagated. When this light reaches the optical coupling means 52, a part thereof is branched to the optical fiber shunt 52a. The power meter 54 detects the intensity of the split light. The intensity of the split light reflects the strength of the optical coupling between the first end 14 b of the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16. In other words, in such an optical connection mode, as the optical coupling between the semiconductor optical amplifier 16 and the optical fiber 14 becomes closer, a larger light intensity is gradually observed at the other end 52b of the optical fiber. Will be done. Therefore,
Based on the observed value, the degree of achievement of alignment between the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 can be determined.

【0061】光発生装置46から導入される光の強度
は、半導体光増幅器16の光反射面および光透過面が破
壊されない程度であって、パワーメータ54において、
ノイズ光と信号光とが判別される程度の強さである。光
発生装置46は、出射光を変調することができるので、
パワーメータ54を用いて変調光を測定するようにすれ
ば、直流光を用いる測定に比べて小さい光パワーを用い
て測定できる。
The intensity of the light introduced from the light generator 46 is such that the light reflecting surface and the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier 16 are not destroyed.
The intensity is such that noise light and signal light are distinguished. Since the light generator 46 can modulate the emitted light,
If the modulated light is measured using the power meter 54, the measurement can be performed using a smaller optical power than the measurement using the DC light.

【0062】光発生装置46において発生される光の波
長は、以下に2点に関して考慮される必要がある。
The wavelength of the light generated by the light generator 46 needs to be considered in the following two respects.

【0063】まず、位置合わせに使用される光は、半導
体光増幅器16の光透過面16aにおける反射が十分に
小さいことが必要である。つまり、光透過面16aで反
射されパワーメータ54において検出される光の強度
は、光反射面16bで反射されパワーメータ54におい
て検出される光の強度に比べて十分に小さいことが必要
である。このため、光透過面16aにおいて反射される
光の強度が透過する光の強度に比べて無視できなくなる
ような波長の光は本実施の形態に方法に対しては適当で
ない。
First, the light used for alignment needs to have a sufficiently small reflection on the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16. That is, the intensity of light reflected by the light transmitting surface 16a and detected by the power meter 54 needs to be sufficiently smaller than the intensity of light reflected by the light reflecting surface 16b and detected by the power meter 54. Therefore, light having a wavelength such that the intensity of light reflected on the light transmitting surface 16a cannot be ignored compared with the intensity of transmitted light is not suitable for the method in the present embodiment.

【0064】次いで、光発生装置46において発生され
る光の波長は、ファイバグレーティング光モジュールに
おける発振光の波長よりも長波長である。発振光の波長
1.55μm帯の光モジュールに対して、実用上、特に
関心があり、このとき、光発生装置(光源)46が発生
すべき光の波長は、1.55μmより長波長である。こ
のような波長領域の半導体レーザは、いくつか既に実用
化されている。光発生装置46から供給される光は、光
パワーが強い光源として、レーザ光であることが好まし
い。
Next, the wavelength of the light generated in the light generator 46 is longer than the wavelength of the oscillating light in the fiber grating optical module. There is a particular interest in practical use for an optical module having a wavelength band of 1.55 μm of oscillation light. At this time, the wavelength of light to be generated by the light generation device (light source) 46 is longer than 1.55 μm. . Some semiconductor lasers in such a wavelength range have already been put to practical use. The light supplied from the light generator 46 is preferably a laser light as a light source having a high optical power.

【0065】なお、半導体光増幅器16の活性層が延び
る軸(導波路軸)方向は、光透過面16aおよび光反射
面16bと略垂直に交差することを必ずしも必要としな
い。光反射面16bにて反射された光が、第1の端部1
4bから光ファイバ14に導入され、パワーメータ54
にて観測されることが重要である。このためには、光発
生装置46が発生し光ファイバ14に加えた光強度の数
パーセント程度が観測されるようにすれば、本方法が適
用可能である。
The axis (waveguide axis) direction in which the active layer of the semiconductor optical amplifier 16 extends does not necessarily need to intersect the light transmission surface 16a and the light reflection surface 16b substantially perpendicularly. The light reflected by the light reflecting surface 16b is applied to the first end 1
4b is introduced into the optical fiber 14, and the power meter 54
It is important to be observed at To this end, the present method can be applied if it is observed that about several percent of the light intensity generated by the light generating device 46 and applied to the optical fiber 14 is observed.

【0066】図3を参照しながら説明した方法は、図7
に示された構成のように一部変更することによって、更
に好適な整列方法が提供される。図7は、搭載部材が組
み立て治具に固定された状態を示した模式図である。図
7を参照すると、図3に示された構成に加えて、光アイ
ソレータ58、光バンドパスフィルタ56、電源60が
追加されている。光アイソレータ58は、光源46と光
カプラ52との間に配置され、光源46から光カプラ5
2へ向いた光のみを通過させる。光バンドパスフィルタ
56は、パワーメータ54と光カプラ52との間に配置
され、光源46が発生した光の波長を透過するような透
過スペクトルを有する。このため、パワーメータ54で
は、光源46から放出され半導体光増幅器16の光反射
面16bにおいて反射され、更に光バンドパスフィルタ
56によって波長選択された光が、選択的に検出され
る。電源60は、半導体光増幅器16に配線62を介し
て接続されている。
The method described with reference to FIG.
A further preferable alignment method is provided by partially modifying the configuration shown in FIG. FIG. 7 is a schematic view showing a state in which the mounting member is fixed to an assembly jig. Referring to FIG. 7, an optical isolator 58, an optical bandpass filter 56, and a power supply 60 are added to the configuration shown in FIG. The optical isolator 58 is disposed between the light source 46 and the optical coupler 52, and
Only the light directed to 2 is passed. The optical bandpass filter 56 is disposed between the power meter 54 and the optical coupler 52, and has a transmission spectrum that transmits the wavelength of light generated by the light source 46. Therefore, in the power meter 54, light emitted from the light source 46, reflected on the light reflection surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16, and further wavelength-selected by the optical bandpass filter 56 is selectively detected. The power supply 60 is connected to the semiconductor optical amplifier 16 via a wiring 62.

【0067】整列に先立って、電源60から半導体光増
幅器16に電流を加える。この電流値は、光モジュール
がレーザ発振可能な予測しきい値電流、例えば15mA
〜20mA程度の電流であることが好ましい。このよう
な電流値が加えられた活性層には、光モジュールとして
実際に使用されるときに近いキャリア密度が達成されて
いるので、このキャリアによって活性層の屈折率も影響
を受け、実際の使用状態に近くなっていると考えられ
る。このため、光透過面16a近傍の光出射パターン
(いわゆる、近視野像)、さらに光透過面16aから離
れた位置、例えば光ファイバ14の先端部14bの位置
での光出射パターン(いわゆる、遠視野像)が、無電流
時に比べて実動作状態に近くなっている。故に、光ファ
イバ14と半導体光増幅器16とが、より実動作状態に
近い状態の下において整列される。
Prior to the alignment, a current is applied from the power supply 60 to the semiconductor optical amplifier 16. This current value is a predicted threshold current at which the optical module can perform laser oscillation, for example, 15 mA.
Preferably, the current is about 20 mA. Since the active layer to which such a current value is applied achieves a carrier density close to that actually used as an optical module, the refractive index of the active layer is also affected by the carriers, and the actual use is It is considered to be close to the state. For this reason, a light emission pattern (a so-called near-field image) near the light transmission surface 16a and a light emission pattern (a so-called far-field image) at a position further away from the light transmission surface 16a, for example, at a position of the distal end portion 14b of the optical fiber 14. Image) is closer to the actual operating state than when there is no current. Therefore, the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 are aligned under a state closer to the actual operation state.

【0068】半導体光増幅器16に電流を加えると、半
導体光増幅器16からは自然放出光またはファイバグレ
ーティングレーザ発振光が放出される。これらの光と、
整列に必要なモニタ光とを区別するために、モニタ光を
検出するパワーメータ54と光カプラとの間に、モニタ
光を透過するが自然放出光の大部分およびファイバグレ
ーティングレーザ発振光を除去する光バンドパスフィル
タが必要とされる。
When a current is applied to the semiconductor optical amplifier 16, the semiconductor optical amplifier 16 emits spontaneous emission light or fiber grating laser oscillation light. With these lights,
In order to distinguish the monitor light necessary for alignment, between the power meter 54 for detecting the monitor light and the optical coupler, the monitor light is transmitted but most of the spontaneous emission light and the fiber grating laser oscillation light are removed. An optical bandpass filter is required.

【0069】引き続いて、図4(a)、図4(b)、図
5(a)、および図5(b)を参照しながら、位置合わ
せ機構部30を搭載部材24上に形成していく手順を説
明する。図4(a)〜図5(b)は、それぞれ、図1の
I−I断面において示された組立断面図である。
Subsequently, referring to FIGS. 4A, 4B, 5A and 5B, the positioning mechanism 30 is formed on the mounting member 24. The procedure will be described. FIGS. 4A to 5B are assembly cross-sectional views each taken along a line II in FIG. 1.

【0070】なお、図4(a)〜図5(b)において
も、図3と同様に受光素子18およびチップキャリア2
6は省略されている。図4(a)〜図5(b)におい
て、組立治具40および移動機構42は表されていない
けれども、搭載部材24は3次元空間において位置合わ
せ機構部30に相対的に位置合わせするために必要に応
じて使用される。また、図4(a)〜図5(b)におい
て、半導体光増幅器16は、搭載部材24上の所定の電
極に電圧を加えると動作し得る状態にまで組み立てられ
ている。
In FIGS. 4A to 5B, similarly to FIG. 3, the light receiving element 18 and the chip carrier 2 are provided.
6 is omitted. Although the assembly jig 40 and the moving mechanism 42 are not shown in FIGS. 4A to 5B, the mounting member 24 is required to be relatively positioned with the positioning mechanism 30 in the three-dimensional space. Used as needed. 4A to 5B, the semiconductor optical amplifier 16 is assembled to a state where it can operate when a voltage is applied to a predetermined electrode on the mounting member 24.

【0071】図4(a)は、光ファイバ14が挿入され
且つ固定されたフェルール32を第1の支持部材34に
固定する工程を表している。第1の支持部材34の接触
面34aは、フェルール32が孔34cに挿入された状
態で、搭載部材24の受入面24eに接触されている。
光ファイバの先端14bは、半導体光増幅器16の第1
の端面16aから所定に位置に来るように搭載部材24
の貫通孔24gに挿入され、半導体光増幅器16の光透
過面16aに対して光ファイバ14のZ軸方向の位置合
わせ、つまりZ方向の整列が行われる。Z方向の整列
は、例えば、従来と同様に半導体光増幅器16を発光さ
せた状態に置いて、半導体光増幅器1の光透過面16a
からの放出光に基づいて光ファイバ14をZ方向に移動
させて光ファイバ14の一端部14bと半導体光増幅器
16とを概略的に位置合わせする。この後に、実施の形
態において説明している方法を用いて、つまり光発生装
置46を発光させて、より精密に整列を行うことができ
る。Z位置合わせが終了した後に、YAGレーザを用い
てスポット溶接することによって、孔34cの外周部の
複数の箇所S1においてフェルール32を第1の支持部
材34に固定する。
FIG. 4A shows a step of fixing the ferrule 32 into which the optical fiber 14 has been inserted and fixed to the first support member 34. The contact surface 34a of the first support member 34 is in contact with the receiving surface 24e of the mounting member 24 with the ferrule 32 inserted in the hole 34c.
The tip 14b of the optical fiber is connected to the first
Of the mounting member 24 so as to come to a predetermined position from the end surface 16a of the mounting member.
The optical fiber 14 is aligned with the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16 in the Z-axis direction, that is, aligned in the Z direction. The alignment in the Z direction can be performed, for example, by setting the semiconductor optical amplifier 16 in a state where the semiconductor optical amplifier 16 emits light as in the conventional case,
The optical fiber 14 is moved in the Z direction based on the light emitted from the optical fiber 14, and the one end 14b of the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 are roughly aligned. Thereafter, the alignment can be performed more precisely by using the method described in the embodiment, that is, by causing the light generator 46 to emit light. After the Z alignment is completed, the ferrule 32 is fixed to the first support member 34 at a plurality of locations S1 on the outer peripheral portion of the hole 34c by spot welding using a YAG laser.

【0072】図4(b)は、光ファイバ14を半導体光
増幅器16に対して整列する整列工程を表している。整
列とは、半導体光増幅器16の光透過面16aから放出
される光が、光ファイバ14の先球加工された端部14
bからコア部へ十分に導かれるように、光透過面16a
と端部14bとが光学的に結合された整列状態を達成す
ることをいう。この状態は、例えば、半導体光増幅器1
6の光透過面16aから放出される光の主要な進行方向
上に光ファイバ14の先端部14bを配置して、光学的
に所定の誤差範囲内で合わせるすることによって実現さ
れる。
FIG. 4B shows an alignment step of aligning the optical fiber 14 with the semiconductor optical amplifier 16. The alignment means that the light emitted from the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16 is converted into the spherically shaped end portion 14 of the optical fiber 14.
b so that the light transmission surface 16a is sufficiently guided to the core portion.
And the end 14b achieve an optically coupled alignment. This state corresponds to, for example, the semiconductor optical amplifier 1
6 is realized by arranging the distal end portion 14b of the optical fiber 14 in the main traveling direction of the light emitted from the light transmitting surface 16a and optically adjusting it within a predetermined error range.

【0073】具体的には、フェルール32が固定された
第1の支持部材34の搭載部材24の受入面24eに対
する接触を維持しつつ第1の支持部材34を移動させ
て、光ファイバ14の他端52bから得られる光強度を
測定する。光強度の測定値が予め決められた値以上にな
るまで、移動と測定とを繰り返すことができる。このよ
うに、光ファイバ14を半導体光増幅器16に対して相
対的に移動させ、また、光ファイバ14から取り出され
る光強度を測定するようにしたので、光ファイバ14を
半導体光増幅器16に対して整列することが可能になる
と共に、光強度が所定の値、好ましくは最大値、になる
まで移動と測定とを繰り返すと、所望の結合状態が達成
される。また、第1の支持部材34を移動しながら光強
度の測定を行うこともできる。このように光ファイバと
半導体光増幅器16との相対的な位置を移動させながら
光強度を測定すると、相対位置と光学的な結合状態を連
続的に監視しながら整列が可能となる。このようにして
所望の光強度が得られた位置は、第1の支持部材34が
搭載部材24に固定されるべき位置となる。位置合わせ
が終了した後に、YAGレーザを用いたスポット溶接に
よって、第1の支持部材34の外周部上の複数の箇所S
2において第1の支持部材34を搭載部材24に固定す
る。この工程を終了すると、光ファイバ14の先端部1
4bは、半導体光増幅器16の光透過面16aに対して
位置合わせされた。
Specifically, the first support member 34 to which the ferrule 32 is fixed is moved while maintaining the contact of the mounting member 24 with the receiving surface 24 e of the mounting member 24, and the other end of the optical fiber 14 is moved. The light intensity obtained from the end 52b is measured. The movement and the measurement can be repeated until the measured value of the light intensity becomes equal to or more than a predetermined value. As described above, since the optical fiber 14 is relatively moved with respect to the semiconductor optical amplifier 16 and the light intensity extracted from the optical fiber 14 is measured, the optical fiber 14 is moved relative to the semiconductor optical amplifier 16. When the alignment and the movement and measurement are repeated until the light intensity reaches a predetermined value, preferably a maximum value, a desired coupling state is achieved. The light intensity can be measured while moving the first support member 34. When the light intensity is measured while moving the relative position between the optical fiber and the semiconductor optical amplifier 16 in this manner, the alignment can be performed while continuously monitoring the relative position and the optical coupling state. The position where the desired light intensity is obtained in this manner is the position where the first support member 34 should be fixed to the mounting member 24. After the alignment is completed, a plurality of spots S on the outer peripheral portion of the first support member 34 are formed by spot welding using a YAG laser.
In 2, the first support member 34 is fixed to the mounting member 24. When this step is completed, the tip 1 of the optical fiber 14 is
4b was aligned with the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16.

【0074】図5(a)を参照すると、フェルール32
が第2の支持部材36に固定される工程を表している。
第1の支持部材34は、既に、搭載部材24の受入面2
4e上に固定されている。続けて、第3の支持部材38
が第1の支持部材34の対向面34b上に配置される。
第3の支持部材38の貫通孔38cには、光ファイバ1
4が固定されたフェルール32が通されている。また、
第3の支持部材38の接触面38d上には、第2の搭載
部材36が平面36aを接触させた状態で配置されてい
る。更に、第2に搭載部材36の貫通孔36cには、フ
ェルール32が挿入されている。配置が終了した後に、
YAGレーザを用いたスポット溶接によって、フェルー
ル32は、対向面36bにおける貫通孔36cの開口部
の外周部の複数の箇所S3において第2の支持部材36
に固定される。
Referring to FIG. 5A, the ferrule 32
Represents a step of being fixed to the second support member 36.
The first support member 34 already has the receiving surface 2 of the mounting member 24.
4e. Subsequently, the third support member 38
Are disposed on the facing surface 34b of the first support member 34.
The optical fiber 1 is inserted into the through hole 38 c of the third support member 38.
The ferrule 32 to which 4 is fixed is passed. Also,
On the contact surface 38d of the third support member 38, the second mounting member 36 is disposed in a state where the second mounting member 36 contacts the flat surface 36a. Second, the ferrule 32 is inserted into the through hole 36c of the mounting member 36. After the placement is complete,
By spot welding using a YAG laser, the ferrule 32 moves the second support member 36 at a plurality of locations S3 on the outer peripheral portion of the opening of the through hole 36c on the facing surface 36b.
Fixed to

【0075】図5(b)を参照すると、第2の支持部材
36が第3の支持部材38に固定されて、この結果、光
ファイバ14の先端14bの半導体光増幅器16に対す
る位置合わせが終了した状態を示している。
Referring to FIG. 5B, the second support member 36 is fixed to the third support member 38. As a result, the positioning of the tip 14b of the optical fiber 14 with respect to the semiconductor optical amplifier 16 is completed. The state is shown.

【0076】図5(a)に示された組み立て工程の後で
は、フェルール32は、スポット溶接部S1およびS2
によって搭載部材24に固定され、且つスポット溶接部
S3によって第2の支持部材36に固定されている。し
かしながら、貫通孔38cがフェルール32の外形より
大きいので、第2の支持部材36は、第3の支持部材3
8の接触面38d上に接触しながら制限された範囲で移
動可能な状態となっている。このため、第2の支持部材
36を接触面38d上において移動させると、スポット
溶接部S1が支点となって、光ファイバ14の先端部1
4bが第2の支持部材36の移動に応じて移動する。先
端部14bの移動する距離は、てこの原理によって、ス
ポット溶接部S3とスポット溶接部S1との距離と、ス
ポット溶接部S1と先端部14bとの距離の比率によっ
て決定される縮小された距離しか移動されない。故に、
先端部14bの微調整しながら整列を再び行うことが可
能となる。この調整によって、スポット溶接S2におけ
る固定の後に生じた整列位置のずれを再調整する機会が
与えられる。てこの原理を利用することによって、どの
程度の微調整または再調整が可能になるかは、第3の支
持部材38の管状部38aの長さに依存する。
After the assembling step shown in FIG. 5A, the ferrule 32 is connected to the spot welds S1 and S2.
, And is fixed to the second support member 36 by a spot welded portion S3. However, since the through hole 38c is larger than the outer shape of the ferrule 32, the second support member 36
8 while being in contact with the contact surface 38d. Therefore, when the second support member 36 is moved on the contact surface 38d, the spot welded portion S1 becomes a fulcrum, and the distal end 1 of the optical fiber 14 is moved.
4b moves according to the movement of the second support member 36. According to the principle of leverage, the distance traveled by the tip 14b is limited to the reduced distance determined by the ratio of the distance between the spot weld S3 and the spot weld S1 and the distance between the spot weld S1 and the tip 14b. Not moved. Therefore,
The alignment can be performed again while finely adjusting the tip portion 14b. This adjustment gives the opportunity to readjust the misalignment resulting from the fixation in spot welding S2. The extent to which fine adjustment or readjustment is possible by utilizing the leverage principle depends on the length of the tubular portion 38a of the third support member 38.

【0077】このように、光ファイバ14の第1の端部
14aと半導体光増幅器16の光出斜面16aとの相対
的な位置を固定した後に、光ファイバ14と半導体光増
幅器16との光学的な結合状態を調整するようにしたの
で、最終的な位置を光学的に微調整することが可能にな
る。このような調整においても、上記のように、移動と
測定とを繰り返して、または、移動しながら測定するこ
とによって、所望の光学的な結合が達成される。
After fixing the relative position between the first end 14a of the optical fiber 14 and the light emitting slope 16a of the semiconductor optical amplifier 16, the optical connection between the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 is made. Since the proper coupling state is adjusted, the final position can be optically finely adjusted. Even in such an adjustment, as described above, the desired optical coupling is achieved by repeating the movement and the measurement, or by performing the measurement while moving.

【0078】位置合わせが終了した後に、YAGレーザ
を用いたスポット溶接によって、第2の支持部材36の
外周部上の複数の箇所S4において第3の支持部材38
に固定する。この工程を終了すると、光ファイバ14の
先端部14bは、半導体光増幅器16の光透過面16a
に対して位置合わせされ光学的な結合が達成された状態
で最終的に固定された。
After the positioning is completed, the third support member 38 is formed at a plurality of locations S4 on the outer peripheral portion of the second support member 36 by spot welding using a YAG laser.
Fixed to. When this step is completed, the tip portion 14b of the optical fiber 14 is connected to the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16.
And finally fixed with optical coupling achieved.

【0079】次いで、図6を参照しながら、半導体光増
幅器16に対して光ファイバの相対的な位置を合わせる
ために使用される光学的な結合関係について説明する。
光ファイバ14の第1の端部14bは、半導体光増幅器
16の光透過面16aに対面するように配置されてい
る。光ファイバ14の第2の端面14cには、光発生装
置47が光学的に結合されている。
Next, referring to FIG. 6, an optical coupling relationship used for adjusting the relative position of the optical fiber with respect to the semiconductor optical amplifier 16 will be described.
The first end 14 b of the optical fiber 14 is arranged so as to face the light transmitting surface 16 a of the semiconductor optical amplifier 16. A light generating device 47 is optically coupled to the second end face 14c of the optical fiber 14.

【0080】半導体光増幅器16には、半導体光増幅器
16において光を発生させるために電圧を加える端子間
に、測定装置48が一対の導電線50を介して接続され
ている。測定装置48は、この端子間に流れる電流を測
定するための電流計を含むことができる。この場合、半
導体光増幅器16の活性層にこのバンドギャップに相当
するエネルギ以上の波長の光が入射すると、光伝導(ph
oto conductive)モードのデバイスとして動作するの
で、光強度の応じた光誘起電流が生じる。また、測定装
置48は、半導体光増幅器16の端子間に上記とは逆方
向の極性に電圧を加えるための電源と、この電源に流れ
る電流を測定可能な電流計とを備えることができる。こ
の場合、半導体増幅装置16の活性層には逆バイアスが
印加されている。このため、フォトダイオードモードの
デバイスとして動作するので、光強度の応じた光誘起電
流が生じる。フォトダイオードモードでは、光伝導モー
ドと異なり、光励起されたキャリアを濃度拡散だけでな
く電界によるドリフトによっても集める。
A measuring device 48 is connected to the semiconductor optical amplifier 16 via a pair of conductive wires 50 between terminals for applying a voltage for generating light in the semiconductor optical amplifier 16. The measuring device 48 can include an ammeter for measuring the current flowing between the terminals. In this case, when light having a wavelength equal to or more than the energy corresponding to the band gap is incident on the active layer of the semiconductor optical amplifier 16, photoconduction (ph
Since the device operates as an oto conductive) mode device, a photo-induced current corresponding to the light intensity is generated. Further, the measuring device 48 can include a power supply for applying a voltage in the opposite direction to the polarity between the terminals of the semiconductor optical amplifier 16 and an ammeter capable of measuring a current flowing through the power supply. In this case, a reverse bias is applied to the active layer of the semiconductor amplifying device 16. For this reason, since the device operates as a photodiode mode device, a photo-induced current corresponding to the light intensity is generated. In the photodiode mode, unlike the photoconductive mode, carriers excited by light are collected not only by concentration diffusion but also by drift due to an electric field.

【0081】光発生装置47から光ファイバ14に加え
られる光パワーは、図3を参照しながら説明した方法と
同様に、0.1mWから数mW程度あれば十分である。
本方法の場合も、半導体光増幅器16の光反射面16b
および光透過面16aを光破壊しない程度の強度あるこ
とが必要である。このような光パワーによって誘起され
る光電流は、詳細には半導体光増幅器並びに印加電圧の
有無および大きさに依存するけれども、数十μAから数
mA程度の値となる。
The optical power applied from the light generator 47 to the optical fiber 14 is sufficient if it is about 0.1 mW to several mW, as in the method described with reference to FIG.
In the case of this method as well, the light reflecting surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16 is used.
Further, it is necessary that the light transmitting surface 16a has such a strength that the light transmitting surface 16a is not destroyed by light. Although the photocurrent induced by such optical power depends on the semiconductor optical amplifier and the presence / absence and magnitude of the applied voltage, the photocurrent has a value of several tens μA to several mA.

【0082】光発生装置47が変調光を出力することが
できれば、変調された入力光を整列に使用することがで
きる。測定装置48は、光発生装置(光源)47におい
て変調された変調成分を検出することができる。誘起さ
れる光電流の変調信号成分を検出するようにすれば、検
出感度が高められる。このため、上記の光入力よりも小
さい値であっても本方法を適用することができる。これ
ら点に関しては、先に説明した反射光の強度に基づいて
位置合わせする方法と同様である。
If the light generator 47 can output modulated light, the modulated input light can be used for alignment. The measuring device 48 can detect the modulated component modulated by the light generating device (light source) 47. If the modulation signal component of the induced photocurrent is detected, the detection sensitivity can be increased. Therefore, the present method can be applied even if the value is smaller than the above-mentioned light input. Regarding these points, it is the same as the above-described method of performing positioning based on the intensity of reflected light.

【0083】このような光学的な結合を組み立てた後
に、光発生装置47からの光を光ファイバ14に供給す
ると、半導体光増幅器16の活性層において電流が発生
される。発生された光誘起電流の値は、半導体光増幅器
に対する光ファイバの相対的な位置に応じて変化する。
After assembling such an optical coupling, when the light from the light generator 47 is supplied to the optical fiber 14, a current is generated in the active layer of the semiconductor optical amplifier 16. The value of the generated photo-induced current changes according to the relative position of the optical fiber with respect to the semiconductor optical amplifier.

【0084】本方法にあっても、半導体光増幅器16の
活性層に十分な強度の光を導入することは重要なことで
ある。つまり、半導体光増幅器16の光透過面16aに
おける反射率が十分に小さい光の波長が採用されるべき
である。光透過面16aの光学的な特性は、上記におい
て説明された光モジュールの発振波長に基づいて決定さ
れているので、この光モジュールが本来発生する光の波
長を中心として約±200nmの範囲では、十分な実用
性をもって適用される。このような特性を有する光透過
面16aは、誘電体多層膜(例えば、SiN膜)という
反射防止膜を備えている。供給すべき光パワー等に関し
ては、図3を参照しながら説明した方法と同様に適用さ
れる。
Even in the present method, it is important to introduce light of sufficient intensity into the active layer of the semiconductor optical amplifier 16. That is, a wavelength of light whose reflectance at the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16 is sufficiently small should be adopted. Since the optical characteristics of the light transmitting surface 16a are determined based on the oscillation wavelength of the optical module described above, within a range of about ± 200 nm around the wavelength of light originally generated by the optical module, Applied with sufficient practicality. The light transmitting surface 16a having such characteristics is provided with an antireflection film called a dielectric multilayer film (for example, a SiN film). The optical power to be supplied and the like are applied in the same manner as the method described with reference to FIG.

【0085】また、本方法においては、活性層において
光誘起電流を発生させるために、活性層のバンドギャッ
プに相当する波長よりも短波長の光を使用する必要があ
る。実用上、特に関心のある1.5μm帯光モジュール
に対しては、1.3μm帯の半導体レーザを光源として
利用できる。また、実用上、0.94μm帯の半導体レ
ーザも使用することができる。本方法の場合には、光透
過面16aでの反射が顕著になると活性層において光誘
起電流を発生させるために有効に使用される光の割合が
低下するけれども、入射光を変調する等の方法によって
検出感度を向上させることができる。したがって、活性
層において光誘起電流を発生可能な光の波長を選択する
ことが重要である。
In this method, in order to generate a photo-induced current in the active layer, it is necessary to use light having a wavelength shorter than the wavelength corresponding to the band gap of the active layer. For a 1.5 μm band optical module of particular interest in practical use, a 1.3 μm band semiconductor laser can be used as a light source. In practice, a semiconductor laser in the 0.94 μm band can also be used. In the case of this method, when the reflection at the light transmitting surface 16a becomes remarkable, the ratio of light effectively used to generate a photo-induced current in the active layer decreases, but a method such as modulating incident light is used. Thereby, the detection sensitivity can be improved. Therefore, it is important to select a wavelength of light that can generate a photo-induced current in the active layer.

【0086】このような光学的な接続形態においては、
半導体光増幅器16と光ファイバ14との間の光学的な
結合が密接になるにつれて、測定装置48では、徐々に
大きな電流値が観測されるようになる。したがって、こ
の観測値に基づいて、光ファイバ14と半導体光増幅器
16との整列の達成度を判断できる。
In such an optical connection form,
As the optical coupling between the semiconductor optical amplifier 16 and the optical fiber 14 becomes closer, a larger current value is gradually observed in the measuring device 48. Therefore, the degree of achievement of the alignment between the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 can be determined based on this observation value.

【0087】なお、半導体光増幅器16の活性層が延び
る軸方向は、光透過面16aおよび光反射面16bと略
垂直に交差することを必ずしも必要としない。光発生装
置47からの光によって発生された光誘起電流が観測さ
れることが、本方法を適用するために必要とされること
である。
Note that the axial direction in which the active layer of the semiconductor optical amplifier 16 extends does not necessarily need to intersect the light transmitting surface 16a and the light reflecting surface 16b substantially perpendicularly. Observing the photo-induced current generated by the light from the light generating device 47 is what is required to apply the method.

【0088】以上説明したような2通りの方法は、光フ
ァイバ14内に形成されたグレーティングの半値幅を
0.1nm以下にしても適用可能であるので、WDM
(波長分割多重システム)に好適なファイバグレーティ
ング光モジュールを製造するためにも使用できる。詳述
すれば、WDMシステムでは、隣接波長間隔の規格値と
して0.6nmが決定されている。この規格を満足する
光源の光スペクトルの半値幅としては0.1nm以下の
値をもつ必要があり、つまりこの半値幅のグレーティン
グが必要となる。このような狭い反射スペクトル特性の
ファイバグレーティングであっても、本願の方法では、
光ファイバ14と半導体光増幅器16との整列に使用さ
れる光の波長は、グレーティングの反射スペクトル帯域
と異なる波長領域にあり、このような波長の光が光発生
装置46,47から供給される。したがって、光ファイ
バ14と半導体光増幅器16との整列に際してレーザ発
振した縦モードの調整をすることがないので、かかる整
列を迅速に行なうことが可能となる。
The two methods described above are applicable even if the half-width of the grating formed in the optical fiber 14 is 0.1 nm or less.
It can also be used to manufacture a fiber grating optical module suitable for (wavelength division multiplexing system). More specifically, in the WDM system, 0.6 nm is determined as a standard value of the adjacent wavelength interval. The half-width of the light spectrum of the light source that satisfies this standard must have a value of 0.1 nm or less, that is, a grating having this half-width is required. Even with a fiber grating having such a narrow reflection spectrum characteristic, in the method of the present application,
The wavelength of light used for aligning the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 is in a wavelength region different from the reflection spectrum band of the grating, and light having such a wavelength is supplied from the light generators 46 and 47. Therefore, when the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 are aligned, there is no need to adjust the longitudinal mode in which laser oscillation has occurred, so that such alignment can be performed quickly.

【0089】上記の工程群を経た結果、位置合わせ機構
部30が完成されて、半導体光増幅器16の光反射面1
6bと光ファイバ14に形成されたファイバグレーティ
ング14aとから形成される光共振器が組み立てられ
た。これによって、光ファイバ14の第1の端部14b
が半導体光増幅器16の第1の端面16aに光結合可能
なように好適な配置が実現された。しかしながら、以上
の説明から明らかなように、この光共振器に基づくレー
ザ発振は、まだ行われていない。したがって、半導体光
増幅器16とファイバグレーティングとからなる光共振
器の縦モードが、ファイバグレーティングの反射帯域内
に少なくとも1つ含まれるようには調整されていない。
このため、上記の光共振器の縦モードがファイバグレー
ティング14aの最大反射波長とほぼ一致し、また半導
体光増幅器16の利得最大波長にほぼ一致しているとは
限らない。そこで、この一致状態を実用的な範囲で達成
するための工程が必要となる。
As a result of the above steps, the alignment mechanism 30 is completed, and the light reflecting surface 1 of the semiconductor optical amplifier 16 is
An optical resonator formed from the optical fiber 6b and the fiber grating 14a formed on the optical fiber 14 was assembled. Thereby, the first end 14b of the optical fiber 14 is
A suitable arrangement was realized so that the optical fiber could be optically coupled to the first end face 16a of the semiconductor optical amplifier 16. However, as is clear from the above description, laser oscillation based on this optical resonator has not been performed yet. Therefore, it is not adjusted so that at least one longitudinal mode of the optical resonator including the semiconductor optical amplifier 16 and the fiber grating is included in the reflection band of the fiber grating.
Therefore, the longitudinal mode of the above-mentioned optical resonator substantially coincides with the maximum reflection wavelength of the fiber grating 14a, and does not always coincide substantially with the maximum gain wavelength of the semiconductor optical amplifier 16. Therefore, a process for achieving this coincidence state within a practical range is required.

【0090】上記のファイバグレーティング光モジュー
ルの製造方法では、引き続いて、縦モードの合わせ込み
を行う。この縦モードの合わせ込みとは、半導体光増幅
器16の光反射面16bとファイバグレーティング14
aとから形成される光共振器の縦モードをファイバグレ
ーティングが反射可能な光の波長帯域内に移動させるこ
とをいう。
In the above-described method for manufacturing the fiber grating optical module, the longitudinal mode is subsequently adjusted. The matching of the longitudinal mode is defined as the light reflection surface 16 b of the semiconductor optical amplifier 16 and the fiber grating 14.
This refers to moving the longitudinal mode of the optical resonator formed from the wavelength a to the wavelength band of light that can be reflected by the fiber grating.

【0091】このように、図4(a)〜図5(b)を参
照しながら説明した工程を経て、光学的な結合を達成し
た後に、光ファイバ14と半導体光増幅器16とから構
成される光共振器に基づくレーザ発振させるので、安定
した状態において縦モードを合わせ込みが可能となる。
これは以下の手順にて行う。
As described above, after the optical coupling is achieved through the steps described with reference to FIGS. 4A to 5B, the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 are formed. Since the laser oscillation based on the optical resonator is performed, the longitudinal mode can be adjusted in a stable state.
This is performed according to the following procedure.

【0092】光ファイバ14と半導体光増幅器16との
整列が終了しているので、光ファイバ14のファイバグ
レーティング14aと半導体光増幅器16の光反射面1
6bとからなる光共振器を有するレーザが発振可能であ
る。このレーザが発振するために十分な電流を半導体光
増幅器16に加える。縦モードの合わせ込みは、半導体
光増幅器16が搭載されている熱電気冷却器(サーモエ
レクトリッククーラ)28、例えばペルチェ素子に電流
を流して半導体光増幅器16の温度を変化させることに
よって行う。
Since the alignment of the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 has been completed, the fiber grating 14a of the optical fiber 14 and the light reflecting surface 1 of the semiconductor optical amplifier 16 have been completed.
6b can be oscillated. A current sufficient for the laser to oscillate is applied to the semiconductor optical amplifier 16. The adjustment of the longitudinal mode is performed by changing the temperature of the semiconductor optical amplifier 16 by applying a current to a thermoelectric cooler (thermoelectric cooler) 28 on which the semiconductor optical amplifier 16 is mounted, for example, a Peltier element.

【0093】このように温度を変化させることによっ
て、縦モードの合わせ込みが可能な理由を以下に説明す
る。半導体光増幅器16の活性層およびクラッド層は、
半導体材料を用いて形成されている。このような半導体
材料の温度を変化させると、屈折率が変化する。温度を
上昇させると自由キャリアが増加するので、屈折率は小
さくなる。屈折率が小さくなるとこの媒質中を伝搬する
光の速度が速くなるので、実効的な光共振長が短くな
る。このため、縦モードは短波長側へ移動する。例え
ば、発振波長をλ0、実効的な光共振長L×nが10m
mとすると、縦モードの間隔(△λ)は△λ=λ0 2/2
/n/Lという関係なので、△λは大きくても数十nm
となる。この程度の間隔であれば温度を変化させること
によって縦モードの合わせ込みが可能になる。
The reason why the vertical mode can be adjusted by changing the temperature in this manner will be described below. The active layer and the cladding layer of the semiconductor optical amplifier 16
It is formed using a semiconductor material. When the temperature of such a semiconductor material is changed, the refractive index changes. Increasing the temperature increases the free carriers, so that the refractive index decreases. As the refractive index decreases, the speed of light propagating in the medium increases, so that the effective optical resonance length decreases. For this reason, the longitudinal mode moves to the shorter wavelength side. For example, the oscillation wavelength is λ0, and the effective optical resonance length L × n is 10 m.
When m, the longitudinal mode interval (△ lambda) is △ λ = λ 0 2/2
/ N / L, Δλ is several tens of nm at most.
Becomes With such an interval, the vertical mode can be adjusted by changing the temperature.

【0094】本願に記載されたファイバグレーティング
光モジュールは半導体光増幅器16の光反射面16bと
ファイバグレーティング14aとからなる光共振器を備
え、そのレーザ発振波長は、ファイバグレーティング1
4aの反射特性、共振器の縦モード、半導体光増幅器の
利得特性の積が最大となる波長においてレーザ発振す
る。
The fiber grating optical module described in the present application has an optical resonator composed of the light reflecting surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16 and the fiber grating 14a.
The laser oscillates at a wavelength at which the product of the reflection characteristic 4a, the longitudinal mode of the resonator, and the gain characteristic of the semiconductor optical amplifier is maximized.

【0095】従来のように、半導体光増幅器に電流を加
えて活性層内にキャリアの反転分布を形成することによ
って発生された縦モードを利用して整列を行う場合に
は、この縦モードがファイバグレーティングの光反射帯
域内に高々1本程度しかないので、この縦モードの波長
がファイバグレーティングの最大反射波長にほぼ一致し
ていないとき、整列されたか否かの判定を安定して行う
ことができない場合があった。一般には、多くの場合
に、この一致は達成されることはない。特に、ファイバ
グレーティングの反射特性の波長依存性が大きいとき、
つまり反射スペクトルの傾きが大きい波長領域のとき、
光出力の変化を監視していても、所望の整列が達成され
た結果として光ファイバと半導体光増幅器の結合効率が
改善されたのか、縦モードが移動、例えば温度変化等に
よって移動した結果として光出力が変化したのか、区別
ができない場合があった。
In the case where alignment is performed using a longitudinal mode generated by applying a current to a semiconductor optical amplifier to form a population inversion distribution in the active layer as in the prior art, the longitudinal mode is a fiber mode. Since there is at most about one line in the light reflection band of the grating, when the wavelength of the longitudinal mode does not substantially coincide with the maximum reflection wavelength of the fiber grating, it cannot be stably determined whether or not the fibers are aligned. There was a case. In general, in many cases, this agreement will not be achieved. In particular, when the wavelength dependence of the reflection characteristics of the fiber grating is large,
In other words, in the wavelength region where the slope of the reflection spectrum is large,
Even if the change in the optical output is monitored, whether the coupling efficiency between the optical fiber and the semiconductor optical amplifier is improved as a result of achieving the desired alignment, or as a result of the shift of the longitudinal mode, for example, due to a temperature change, etc. In some cases, it was not possible to distinguish whether the output changed.

【0096】しかしながら、すでに詳細に説明したよう
に、発明の実施の形態に係わるファイバグレーティング
半導体レーザの製造方法では、半導体光増幅器16の光
透過面16aに光ファイバ14の端部14bを対面させ
るように、半導体光増幅器16および光ファイバ14を
配置した後に、光ファイバ14の第1の端面14aから
半導体光増幅器16の光透過面16aに所定波長の光を
加えるようにした。半導体光増幅器16の活性層内に導
入された光は、半導体光増幅器16の光反射面16bに
おいて反射されて、半導体光増幅器16の光透過面16
aから出射される。この出射光は、光ファイバ14のレ
ンズ化された第1の端部14bから光ファイバ14のコ
ア部を入射する。回折格子14aで反射されることなく
光ファイバ14を伝搬して、光ファイバ14の他端に到
達する。この到達光を取り出して測定装置54によって
検出すれば、半導体光増幅器16に対する光ファイバ1
4の相対的な位置に応じて、光ファイバ14の第2の端
部から取り出される光の強度が変化する。測定装置54
において検出された光強度に基づいて、半導体光増幅器
16に対して光ファイバ14を相対的な位置を合わせる
ことができる。
However, as already described in detail, in the method of manufacturing the fiber grating semiconductor laser according to the embodiment of the present invention, the end portion 14b of the optical fiber 14 faces the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16. After the semiconductor optical amplifier 16 and the optical fiber 14 are arranged, light of a predetermined wavelength is applied from the first end face 14a of the optical fiber 14 to the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16. The light introduced into the active layer of the semiconductor optical amplifier 16 is reflected by the light reflecting surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16, and is reflected by the light transmitting surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16.
It is emitted from a. The emitted light enters the core of the optical fiber 14 from the lensed first end 14 b of the optical fiber 14. The light propagates through the optical fiber 14 without being reflected by the diffraction grating 14 a and reaches the other end of the optical fiber 14. If this reaching light is taken out and detected by the measuring device 54, the optical fiber 1
The intensity of the light extracted from the second end of the optical fiber 14 changes according to the relative position of the optical fiber 4. Measuring device 54
The relative position of the optical fiber 14 with respect to the semiconductor optical amplifier 16 can be adjusted based on the light intensity detected in.

【0097】また、別の発明の実施の形態に係わるファ
イバグレーティング光モジュールの製造方法によれば、
半導体光増幅器16の光透過面16aに光ファイバ14
の第1の端部14bを対面させるように、半導体光増幅
器16および光ファイバ14を配置した後に、光ファイ
バ14の第1の端面14bから半導体光増幅器16の光
透過面16bに所定波長の光を加えるようにした。半導
体光増幅器の活性層に導入され光は、活性層において吸
収されると光誘起電流を発生する。発生された光誘起電
流の値は、半導体光増幅器16に対する光ファイバ14
の光学的な結合状態、つまり両者の相対的な位置に応じ
て変化する。故に、測定装置48によって検出された電
流値に基づいて、半導体光増幅器16に対して光ファイ
バ14の相対的な位置を合わせることができる。
Further, according to a method of manufacturing a fiber grating optical module according to another embodiment of the present invention,
The optical fiber 14 is provided on the light transmitting surface 16a of the semiconductor optical amplifier 16.
After arranging the semiconductor optical amplifier 16 and the optical fiber 14 so that the first end 14b faces the first end 14b, light of a predetermined wavelength is transmitted from the first end 14b of the optical fiber 14 to the light transmitting surface 16b of the semiconductor optical amplifier 16. Was added. Light introduced into the active layer of the semiconductor optical amplifier generates a photo-induced current when absorbed in the active layer. The value of the generated photo-induced current depends on the optical fiber 14 with respect to the semiconductor optical amplifier 16.
Changes according to the optical coupling state of the two, that is, the relative positions of the two. Therefore, the relative position of the optical fiber 14 with respect to the semiconductor optical amplifier 16 can be adjusted based on the current value detected by the measuring device 48.

【0098】本発明に係わる製造方法によれば、整列中
にモニタ光としてレーザ発振を利用しないので、光ファ
イバの移動、温度変化等を原因とする光共振器の変動に
整列が影響されない。したがって、整列に際して、不安
定な測定値に惑わされることなく、半導体光増幅器16
に対してファイバグレーティング14aを有する光ファ
イバ14を位置合わせすることが可能になる。
According to the manufacturing method of the present invention, since laser oscillation is not used as monitor light during alignment, the alignment is not affected by fluctuations in the optical resonator due to movement of the optical fiber, temperature changes, and the like. Therefore, during alignment, the semiconductor optical amplifier 16 is not disturbed by unstable measurement values.
, The optical fiber 14 having the fiber grating 14a can be positioned.

【0099】このような方法を適用してファイバグレー
ティング光モジュールを作製するに際して、発明者は、
整列に際して注意すべき事項にさらに気づいた。
When manufacturing a fiber grating optical module by applying such a method, the inventor
I noticed more things to note when aligning.

【0100】光発生装置46、47は、一般に、特定の
偏光を有する光が発生される。この光が半導体光増幅器
16まで伝搬する際に、その偏光状態が変わってしまう
ことがある。偏光の状態は、光ファイバの振動または温
度の変化によって影響を受けることがある。
The light generators 46 and 47 generally generate light having a specific polarization. When this light propagates to the semiconductor optical amplifier 16, its polarization state may change. The state of polarization may be affected by vibrations of the optical fiber or changes in temperature.

【0101】半導体光増幅器に入射する測定光は、いず
れも、光透過面からの入射、活性層での伝搬、光反射面
での反射、活性層での伝搬、および光透過面からの出射
という経路を辿る。半導体光増幅器16における光の伝
搬は、一般に、偏波依存性を有する。図8(a)および
(b)によれば、異なる直線偏光の光が半導体光増幅器1
6に入射されると、出射光は、特定の偏光面を有し、ま
た入射した光の偏光に応じて異なる光強度を有する。図
8(a)によれば、半導体光増幅器16への入射光64a
が一の偏光を有する場合には、半導体光増幅器16から
の出射光64bもこの偏光を有する。図8(b)によれ
ば、半導体光増幅器16への入射光66aの上記一の偏
光と直交する別の偏光を有する場合には、半導体光増幅
器16からの出射光66bは上記一の偏光を有する。前
者は、後者に比べて光強度が大きい。
The measurement light incident on the semiconductor optical amplifier is called incident light from the light transmitting surface, propagation on the active layer, reflection on the light reflecting surface, propagation on the active layer, and emission from the light transmitting surface. Follow the route. The propagation of light in the semiconductor optical amplifier 16 generally has polarization dependence. FIG. 8 (a) and
According to (b), the light of different linearly polarized light is
When incident on 6, the outgoing light has a specific plane of polarization and has a different light intensity depending on the polarization of the incident light. According to FIG. 8A, the incident light 64a to the semiconductor optical amplifier 16 is
Has one polarization, the outgoing light 64b from the semiconductor optical amplifier 16 also has this polarization. According to FIG. 8B, when the incident light 66a to the semiconductor optical amplifier 16 has another polarized light orthogonal to the one polarized light, the emitted light 66b from the semiconductor optical amplifier 16 changes the one polarized light. Have. The former has a higher light intensity than the latter.

【0102】このため、パワーメータ54によって光強
度の変化を監視していても、光ファイバ14と半導体光
増幅器16との整列を確実に行うことができない。なぜ
なら、この光強度の変化が、光ファイバ14と半導体光
増幅器16との光学的結合の変化を示している場合もあ
り、また異なる偏光の入射光に基づく変化を示している
場合もあるからである。
Therefore, even if the change in the light intensity is monitored by the power meter 54, the alignment between the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 cannot be reliably performed. This is because the change in the light intensity may indicate a change in the optical coupling between the optical fiber 14 and the semiconductor optical amplifier 16 or may indicate a change based on incident light having a different polarization. is there.

【0103】外乱による偏光の変化の有無に係わること
なく整列を行うために、この偏光の変化による影響を低
減する手法が必要とされている。発明者は、この要求に
応じるためには、整列に使用する光の偏光を変化させる
ことが有効であることに気づいた。
In order to perform alignment regardless of the presence or absence of a change in polarization due to disturbance, there is a need for a method of reducing the influence of the change in polarization. The inventor has found that it is effective to change the polarization of the light used for alignment to meet this requirement.

【0104】図9および図11は、これを実現するため
に好適な実施の形態を示している。これらの実施の形態
では、光カプラといった光結合手段52と、光発生装置
46との間に、光スクランブル装置といった偏光変更手
段62が配置されている。また、図10は、好適な別の
実施の形態を示している。この実施の形態ではファイバ
グレーティング14aと光発生装置46との間に、これ
に限定されるものではないが、光スクランブル装置とい
った偏光変更手段62が配置されている。
FIGS. 9 and 11 show a preferred embodiment for realizing this. In these embodiments, a polarization changing unit 62 such as an optical scrambler is disposed between an optical coupling unit 52 such as an optical coupler and the light generator 46. FIG. 10 shows another preferred embodiment. In this embodiment, a polarization changing means 62 such as, but not limited to, an optical scrambler is disposed between the fiber grating 14a and the light generator 46.

【0105】偏光変更手段62は、光ファイバといった
光導波路を介して光発生装置46、47から光を受け
て、この光から、異なる偏光面を有する一連の光を生成
することができる。光スクランブル装置を例示すれば、
Fiber Pro社製のPS-155 偏波スクランブラがある。この
ような偏光変更手段62によって、損失1dB程度で、
数十kHz、例えば10kHz、から数MHz、例えば
1MHzの範囲で偏光面をスクランブルすることができ
る。
The polarization changing means 62 receives light from the light generators 46 and 47 via an optical waveguide such as an optical fiber, and can generate a series of lights having different polarization planes from the light. As an example of an optical scrambler,
There is a PS-155 polarization scrambler manufactured by Fiber Pro. By such a polarization changing means 62, the loss is about 1 dB,
The polarization plane can be scrambled in a range from several tens of kHz, for example, 10 kHz to several MHz, for example, 1 MHz.

【0106】図9および図11の実施の形態では、偏光
変更手段62によれば、一の偏光面の光と、これと別の
偏光の光とを含む一連の光を用いて、ある配置に対する
光強度を評価するので、光ファイバ伝搬中に起こり得る
偏光面の変化による影響を平均化することができる。例
えば、光発生装置46、47から受けた直線偏光の光か
ら偏光変更手段62は、いくつかの偏光面の光を有する
一連の光を生成する。この光に対して、測定装置54を
用いて光強度が測定される。このような測定は、スクラ
ンブル周波数と関連づけられた所定の時間、例えば、1
μs〜1ms程度の時間で行われることができる。
In the embodiment shown in FIGS. 9 and 11, the polarization changing means 62 uses a series of light including light of one polarization plane and light of another polarization to adjust a certain arrangement. Since the light intensity is evaluated, the influence of a change in the polarization plane that can occur during the propagation of the optical fiber can be averaged. For example, from the linearly polarized light received from the light generators 46 and 47, the polarization changing means 62 generates a series of light having light of several polarization planes. The light intensity of the light is measured using the measuring device 54. Such a measurement may take a predetermined time period associated with the scrambling frequency, for example, 1
This can be performed in a time of about μs to 1 ms.

【0107】図10の実施の形態では、偏光変更手段6
2によれば、一の偏光面を有する光と、これと別の偏光
面を有する光とを含む一連の光を用いて、ある配置に対
する光誘起電流の評価する。このため、図9および図1
1の実施の形態と同様に、光ファイバ伝搬中に起こり得
る偏光面の変化による影響が平均化される。故に、光誘
起電流の変化は、光ファイバと半導体光増幅器との相対
的な位置を反映するようになる。
In the embodiment shown in FIG. 10, the polarization changing means 6
According to No. 2, a series of light including light having one polarization plane and light having another polarization plane is used to evaluate the photo-induced current for a certain arrangement. For this reason, FIG. 9 and FIG.
As in the first embodiment, the effects of changes in the plane of polarization that can occur during optical fiber propagation are averaged. Therefore, the change in the photo-induced current reflects the relative position between the optical fiber and the semiconductor optical amplifier.

【0108】図9〜図11の実施の形態において、ラン
ダムな偏光を有する一連の光、または疑似ランダムな偏
光を有する一連の光を偏光変更手段62によって生成す
ることが好適である。このような一連の光が光ファイバ
内において外乱を受けて偏光面が変わっても、整列のた
めの測定値に現れる影響も小さい。
In the embodiments shown in FIGS. 9 to 11, it is preferable that a series of lights having random polarization or a series of lights having pseudo-random polarization is generated by the polarization changing means 62. Even if such a series of light is disturbed in the optical fiber to change the polarization plane, the influence on the measured value for alignment is small.

【0109】様々な例示を示しながら、本発明の実施の
形態を説明した。記載された特徴は、それぞれ、他の特
徴と組み合わせることができる。
The embodiments of the present invention have been described with reference to various examples. Each of the features described can be combined with other features.

【0110】[0110]

【発明の効果】本発明に係わるファイバグレーティング
半導体レーザの製造方法では、半導体光増幅器の光透過
面に光ファイバの端部が対面するように半導体光増幅器
および光ファイバを配置した後に、光ファイバの一端部
から半導体光増幅器の光透過面を通して所定波長の光を
活性層に加えている。導入される光量は、半導体光増幅
器と光ファイバとの相対的な位置に応じて変化する。活
性層内の光は、半導体光増幅器の光反射面において反射
されて、半導体光増幅器の光透過面から出射される。こ
の出射光は、光ファイバの一端部を介して光ファイバに
導入される。その光量は、半導体光増幅器と光ファイバ
との相対的な位置に応じて変化する。このため、光ファ
イバを介して導入された光を取り出しその強度を測定す
れば、光ファイバを介して取り出される光の強度は半導
体光増幅器と光ファイバとの光学的な結合状態に応じて
変化する。
According to the method for manufacturing a fiber grating semiconductor laser according to the present invention, after the semiconductor optical amplifier and the optical fiber are arranged so that the end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier, the optical fiber is removed. Light of a predetermined wavelength is applied to the active layer from one end through the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. The amount of light introduced changes according to the relative position of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber. Light in the active layer is reflected on the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and is emitted from the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. This emitted light is introduced into the optical fiber via one end of the optical fiber. The amount of light changes according to the relative position between the semiconductor optical amplifier and the optical fiber. For this reason, if the light introduced through the optical fiber is extracted and its intensity is measured, the intensity of the light extracted through the optical fiber changes according to the optical coupling state between the semiconductor optical amplifier and the optical fiber. .

【0111】また、本発明に係わる別のファイバグレー
ティング光モジュールの製造方法によれば、半導体光増
幅器の光透過面に光ファイバの一端部を対面させるよう
に半導体光増幅器および光ファイバを配置した後に、光
ファイバの一端部から半導体光増幅器の光透過面を通し
て所定波長の光を活性層に加えるようにした。導入され
た光は、活性層において吸収されると光誘起電流を発生
する。半導体光増幅器と光ファイバとの相対的な位置に
対応して活性層に導入される光量が変化するので、両者
の相対的な位置に応じて、この光によって発生される光
誘起電流の値も変化する。
According to another method for manufacturing a fiber grating optical module according to the present invention, after arranging the semiconductor optical amplifier and the optical fiber such that one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. Light of a predetermined wavelength is applied to the active layer from one end of the optical fiber through the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier. The introduced light generates a photo-induced current when absorbed in the active layer. Since the amount of light introduced into the active layer changes according to the relative position of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber, the value of the photo-induced current generated by this light also changes according to the relative position of the two. Change.

【0112】故に、取り出された光の強度または電流値
に基づいて、半導体光増幅器と光ファイバとの位置を合
わせることができる。
Therefore, the positions of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber can be adjusted based on the intensity or current value of the extracted light.

【0113】したがって、ファイバグレーティングを含
む光ファイバを半導体光増幅器に光学的に結合させ光共
振器を形成するためのファイバグレーティング光モジュ
ールの製造方法が提供された。
Accordingly, there has been provided a method of manufacturing a fiber grating optical module for forming an optical resonator by optically coupling an optical fiber including a fiber grating to a semiconductor optical amplifier.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、ファイバグレーティングレーザモジュ
ールの斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a fiber grating laser module.

【図2】図2は、ファイバグレーティングレーザの主要
部を表し図1にI−I断面における断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line II in FIG. 1 showing a main part of the fiber grating laser.

【図3】図3は、搭載部材が組み立て治具に固定された
状態を示した模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which a mounting member is fixed to an assembling jig.

【図4】図4(a)および図4(b)は、それぞれ、図
1のI−I断面において示された組立断面図である。
FIGS. 4 (a) and 4 (b) are each an assembled cross-sectional view taken along the line II of FIG. 1;

【図5】図5(a)および図5(b)は、それぞれ、図
1のI−I断面において示された組立断面図である。
5 (a) and 5 (b) are each an assembled cross-sectional view shown in the II section of FIG. 1. FIG.

【図6】図6は、搭載部材が組み立て治具に固定された
状態を示した模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a state in which a mounting member is fixed to an assembling jig.

【図7】図7は、搭載部材が組み立て治具に固定された
状態を示した模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a state in which the mounting member is fixed to an assembly jig.

【図8】図8(a)および図8(b)は、入射光の偏光と、
出射光の強度および偏光との関連を示す図面である。
8 (a) and 8 (b) show polarization of incident light,
5 is a drawing showing the relationship between the intensity of emitted light and polarization.

【図9】図9は、搭載部材が組み立て治具に固定された
状態を示した模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram showing a state in which the mounting member is fixed to an assembly jig.

【図10】図10は、搭載部材が組み立て治具に固定さ
れた状態を示した模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram showing a state in which a mounting member is fixed to an assembly jig.

【図11】図11は、搭載部材が組み立て治具に固定さ
れた状態を示した模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram showing a state in which a mounting member is fixed to an assembly jig.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ファイバグレーティング光モジュール、10…ファ
イバグレーティングレーザモジュールの主要部、12…
ハウジング、12a…本体部、12b…筒状部、12c
…リードピン、16…半導体光増幅器、18…受光素
子、22、24、26…搭載部材、28…冷却素子、3
0…位置合わせ機構部、32…フェルール、34…第1
の支持部材、36…第2の支持部材、38…第3の支持
部材、42…移動機構、42a…X軸方向への並進移動
機構、42b…Y方向への並進移動機構、42c…Z軸
方向への並進移動機構、42d…Z軸の周りのφ回転を
行う回転機構、46、47…光発生装置、48…測定装
置、50…導電線、52…光結合手段、54…パワーメ
ータ 56…バンドパス光フィルタ、58…光アイソレータ、
60…電源、62…偏光変更手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Fiber grating optical module, 10 ... Main part of fiber grating laser module, 12 ...
Housing, 12a: body part, 12b: tubular part, 12c
... Lead pins, 16 ... Semiconductor optical amplifiers, 18 ... Light receiving elements, 22, 24, 26 ... Mounting members, 28 ... Cooling elements, 3
0: Positioning mechanism, 32: Ferrule, 34: First
, A second support member, 38 a third support member, 42 a moving mechanism, 42a a translation mechanism in the X-axis direction, 42b a translation mechanism in the Y direction, 42c a Z-axis Translational movement mechanism in the direction, 42d rotation mechanism for rotating φ around the Z axis, 46, 47 light generation device, 48 measurement device, 50 conductive wire, 52 optical coupling means, 54 power meter 56 ... bandpass optical filter, 58 ... optical isolator,
60 power supply 62 polarization changing means

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光透過面および光反射面を有する半導体
光増幅器と、一端部およびこの一端部から所定の距離に
設けられたファイバグレーティングを有する光ファイバ
とが相対的に位置合わせされたファイバグレーティング
光モジュールの製造方法であって、 前記半導体光増幅器の前記光透過面に前記光ファイバの
前記一端部が対面するように、前記半導体光増幅器およ
び前記光ファイバを配置する配置ステップと、 所定波長の光を前記半導体光増幅器の前記光透過面に前
記光ファイバの前記一端部を介して加える入射ステップ
と、 前記半導体光増幅器の前記光反射面において反射され前
記光ファイバを介して取り出された前記所定波長の光の
強度に基づいて前記半導体光増幅器と前記光ファイバと
の相対的な位置を合わせる整列ステップと、を備えるフ
ァイバグレーティング光モジュールの製造方法。
1. A fiber grating in which a semiconductor optical amplifier having a light transmitting surface and a light reflecting surface and an optical fiber having one end and a fiber grating provided at a predetermined distance from the one end are relatively aligned. An optical module manufacturing method, comprising: arranging the semiconductor optical amplifier and the optical fiber such that the one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier; An incident step of applying light to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier through the one end of the optical fiber; and the predetermined light reflected by the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and extracted through the optical fiber. An alignment step of adjusting the relative positions of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber based on the intensity of light having a wavelength; A method for manufacturing a fiber grating optical module comprising:
【請求項2】 前記整列ステップは、 前記光ファイバの位置と、前記半導体光増幅器の位置と
を相対的に移動させる移動ステップと、 前記光ファイバを介して取り出される光の強度を測定す
る測定ステップと、を有する、ことを特徴とする請求項
1に記載のファイバグレーティング光モジュールの製造
方法。
2. The aligning step includes: a moving step of relatively moving a position of the optical fiber and a position of the semiconductor optical amplifier; and a measuring step of measuring intensity of light extracted through the optical fiber. The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 1, comprising:
【請求項3】 前記整列ステップは、前記光ファイバと
前記半導体光増幅器とを相対的に移動させながら、前記
光ファイバを介して取り出される光強度を測定するステ
ップを有する、ことを特徴とする請求項1に記載のファ
イバグレーティング光モジュールの製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the aligning step includes a step of measuring an intensity of light extracted through the optical fiber while relatively moving the optical fiber and the semiconductor optical amplifier. Item 2. A method for manufacturing a fiber grating optical module according to Item 1.
【請求項4】 前記入射ステップは、前記半導体光増幅
器の前記光透過面に加えられる前記所定波長の光に変調
を加える変調ステップを有し、 前記整列ステップは、前記光ファイバを介して取り出さ
れる前記所定波長の光の変調成分に基づいて前記半導体
光増幅器と前記光ファイバとの相対的な位置を合わせ、
前記変調成分は前記変調ステップにおいて行われた変調
に関連している、ことを特徴とする請求項1〜請求項3
のいずれかに記載のファイバグレーティング光モジュー
ルの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the incident step includes a modulating step of modulating the light of the predetermined wavelength applied to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier, and the aligning step is performed through the optical fiber. Adjusting the relative position of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber based on the modulation component of the light of the predetermined wavelength,
4. The modulation component according to claim 1, wherein the modulation component is related to a modulation performed in the modulation step.
The method for manufacturing a fiber grating optical module according to any one of the above.
【請求項5】 前記整列ステップに先だって、前記半導
体光増幅器を発光させる発光ステップを更に備える、こ
とを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の
ファイバグレーティング光モジュールの製造方法。
5. The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 1, further comprising a light emitting step of causing said semiconductor optical amplifier to emit light prior to said aligning step.
【請求項6】 前記入射ステップでは、第1の偏光およ
び第2の偏光を含む一連の光を前記光透過面に加える、
請求項1に記載のファイバグレーティング光モジュール
の製造方法。
6. The incident step, wherein a series of light including a first polarized light and a second polarized light is added to the light transmitting surface.
A method for manufacturing the fiber grating optical module according to claim 1.
【請求項7】 前記入射ステップでは、偏光面がスクラ
ンブルされた一連の光を前記光透過面に加える、請求項
1に記載のファイバグレーティング光モジュールの製造
方法。
7. The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 1, wherein in the incident step, a series of light having a polarization plane scrambled is added to the light transmission plane.
【請求項8】 前記整列ステップは、 前記光ファイバの位置と、前記半導体光増幅器の位置と
を相対的に移動させる移動ステップと、 前記光ファイバを介して取り出される光の強度を、前記
一連の光が導入される期間にわたって測定する測定ステ
ップと、を有する、ことを特徴とする請求項6または請
求項7に記載のファイバグレーティング光モジュールの
製造方法。
8. The aligning step includes: a moving step of relatively moving a position of the optical fiber and a position of the semiconductor optical amplifier; and The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 6, further comprising: a measuring step of measuring over a period during which light is introduced.
【請求項9】 光透過面および光反射面を有する半導体
光増幅器と、一端部およびこの一端部から所定の距離に
設けられたファイバグレーティングを有する光ファイバ
とが相対的に位置合わせされたファイバグレーティング
光モジュールの製造方法であって、 前記半導体光増幅器の前記光透過面に前記光ファイバの
前記一端部が対面するように、前記半導体光増幅器およ
び前記光ファイバを配置する配置ステップと、 所定波長の光を前記光ファイバの前記一端部を介して前
記半導体光増幅器の前記光透過面に加える入射ステップ
と、 前記半導体光増幅器において前記所定波長の光によって
発生された光誘起電流の値に基づいて前記半導体光増幅
器と前記光ファイバとの相対的な位置を合わせる整列ス
テップと、を備えるファイバグレーティング光モジュー
ルの製造方法。
9. A fiber grating in which a semiconductor optical amplifier having a light transmitting surface and a light reflecting surface and an optical fiber having one end and a fiber grating provided at a predetermined distance from the one end are relatively aligned. An optical module manufacturing method, comprising: arranging the semiconductor optical amplifier and the optical fiber such that the one end of the optical fiber faces the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier; An incident step of applying light to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier through the one end of the optical fiber; andthe light-induced current generated by the light of the predetermined wavelength in the semiconductor optical amplifier. Aligning the semiconductor optical amplifier and the optical fiber relative to each other. Manufacturing method of optical module.
【請求項10】 前記整列ステップは、 前記光ファイバの位置と、前記半導体光増幅器の位置と
を相対的に移動させる移動ステップと、 前記光誘起電流の強度を測定する測定ステップと、を有
する、ことを特徴とする請求項9に記載のファイバグレ
ーティング光モジュールの製造方法。
10. The aligning step includes: a moving step of relatively moving a position of the optical fiber and a position of the semiconductor optical amplifier; and a measuring step of measuring the intensity of the photo-induced current. The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 9, wherein:
【請求項11】 前記整列ステップは、前記光ファイバ
と、前記半導体光増幅器とを相対的に移動させながら、
前記光誘起電流の値を測定するステップを有する、こと
を特徴とする請求項9に記載のファイバグレーティング
光モジュールの製造方法。
11. The step of aligning, while relatively moving the optical fiber and the semiconductor optical amplifier,
The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 9, further comprising a step of measuring a value of the photoinduced current.
【請求項12】 前記入射ステップは、前記半導体光増
幅器の前記光透過面に加えられる前記所定波長の光に変
調を加える変調ステップを有し、 前記整列ステップは、前記光誘起電流の変調成分に基づ
いて前記半導体光増幅器と前記光ファイバとの相対的な
位置を合わせ、前記変調成分は前記変調ステップにおけ
る変調に関連している、を特徴とする請求項9〜請求項
11のいずれかに記載のファイバグレーティング光モジ
ュールの製造方法。
12. The incident step includes a modulation step of modulating light of the predetermined wavelength applied to the light transmitting surface of the semiconductor optical amplifier, and the aligning step includes a step of applying a modulation component of the photoinduced current to the light component. 12. The relative position of the semiconductor optical amplifier and the optical fiber is adjusted based on the above, and the modulation component is related to the modulation in the modulation step. Of manufacturing a fiber grating optical module.
【請求項13】 前記入射ステップでは、第1の偏光お
よび第2の偏光を含む一連の光を前記光透過面に加える
請求項9に記載のファイバグレーティング光モジュール
の製造方法。
13. The method of manufacturing a fiber grating optical module according to claim 9, wherein in the incident step, a series of light including a first polarized light and a second polarized light is added to the light transmitting surface.
【請求項14】 前記入射ステップでは、偏光面がスク
ランブルされた一連の光を前記光透過面に加える請求項
9に記載のファイバグレーティング光モジュールの製造
方法。
14. The method according to claim 9, wherein in the inputting step, a series of light having a polarization plane scrambled is added to the light transmission plane.
【請求項15】 前記整列ステップは、 前記光ファイバの位置と、前記半導体光増幅器の位置と
を相対的に移動させる移動ステップと、 前記一連の光が導入される期間にわたって前記光誘起電
流を測定する測定ステップと、を有する、ことを特徴と
する請求項13または請求項14に記載のファイバグレ
ーティング光モジュールの製造方法。
15. The aligning step includes: a moving step of relatively moving a position of the optical fiber and a position of the semiconductor optical amplifier; and measuring the photo-induced current over a period during which the series of light is introduced. The method for producing a fiber grating optical module according to claim 13, further comprising:
【請求項16】 前記半導体光増幅器の前記光反射面と
前記ファイバグレーティングとから形成される光共振器
の縦モードを前記ファイバグレーティングが反射可能な
光の波長帯域内に合わせ込むステップを更に備える、こ
とを特徴とする請求項1〜請求項15のいずれかに記載
のファイバグレーティング光モジュールの製造方法。
16. The semiconductor optical amplifier further comprises a step of adjusting a longitudinal mode of an optical resonator formed by the light reflecting surface of the semiconductor optical amplifier and the fiber grating to fall within a wavelength band of light that can be reflected by the fiber grating. The method for manufacturing a fiber grating optical module according to claim 1, wherein:
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