JP2000258353A - Defect inspection method and device - Google Patents

Defect inspection method and device

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JP2000258353A
JP2000258353A JP6529799A JP6529799A JP2000258353A JP 2000258353 A JP2000258353 A JP 2000258353A JP 6529799 A JP6529799 A JP 6529799A JP 6529799 A JP6529799 A JP 6529799A JP 2000258353 A JP2000258353 A JP 2000258353A
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JP
Japan
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density
determination
defect
pixel
inspection
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JP6529799A
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Japanese (ja)
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Mitsuhiro Kitagawa
光博 北側
Shiro Koike
史朗 小池
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably detect a defect by obtaining the average concentration of concentration data for each small region, judges a pixel to be a defective pixel when the concentration data for each pixel does not exist in a set concentration region, and finally judges the defect according to the judgment result. SOLUTION: An inspection target O is placed on a traveling stage 1 and is illuminated by lighting 2 for picking up an image with a CCD camera 3, and an image detection processing part 4 generates concentration data for each pixel from the pickup image. Before starting, a reference concentration data is generated by the image detection processing part 4 from a conforming image and is stored in an image memory 5. A CPU 8 controls an entire device. An inspection arithmetic processing part 6 divides an inspection region into, for example, a local region with 10×10 pixels, and calculates the average value of the concentration data for each local region. When the average value is not located between upper and lower thresholds being set from the reference concentration data, all pixels in the local region are judged to be defective and binarization processing is made. In this manner, when the image concentration is far away from the reference concentration, the part is judged to be defective.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,例えばプリント基
板の配線パターンやボンディングパッド等の欠陥を検査
する欠陥検査方法及びその装置に係り,詳しくは,上記
プリント基板等の検査対象物の撮像画像から得られる濃
度データに基づいて,上記検査対象物の欠陥を検査する
欠陥検査方法及びその装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection method and apparatus for inspecting, for example, defects such as wiring patterns and bonding pads on a printed circuit board. The present invention relates to a defect inspection method and an apparatus for inspecting a defect of the inspection object based on obtained density data.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板等の表面にできた傷,異
物,打痕,汚れ等の欠陥を検出する方法としては,従来
より,検査対象物の撮像画像と,良品より得られた基準
画像との差分処理を行って画像全体にわたる両者の濃度
差(絶対濃度の差)を求め,該濃度差が所定の閾値を超
える部分を欠陥であると判定する方法が広く用いられて
いる。
2. Description of the Related Art As a method for detecting defects such as scratches, foreign matter, dents, and dirt on the surface of a printed circuit board or the like, conventionally, a captured image of an inspection object and a reference image obtained from a non-defective product have been used. Is widely used to determine the density difference (absolute density difference) between the two over the entire image and determine that a portion where the density difference exceeds a predetermined threshold value is a defect.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで,検査対象物
は,例えば生産ロットが変わると,濃度変化状態(相対
濃度)は同じでも平均濃度(絶対濃度)が微妙に変化す
る場合がある。このような場合に上記従来の欠陥検査方
法を用いると,対象画像と基準画像との絶対濃度の差に
基づいて欠陥判定がなされるため,上記閾値の設定によ
っては良品を欠陥品であると誤認してしまう可能性があ
った。また,このような誤認を防止するために上記閾値
を広く設定すると,欠陥判定の精度が低下し,今度は逆
に欠陥品を良品であると誤認する可能性が高くなってし
まう。尚,同じ生産ロットでも,撮像画像の場所によっ
て絶対濃度の値にバラツキが生じる場合もあり,この場
合も上記と全く同様のことが言える。本発明は上記事情
に鑑みてなされたものであり,その目的とするところ
は,検査対象物に,場所による濃度のバラツキや,生産
ロット毎の濃度のバラツキ等がある場合でも,安定して
欠陥検出を行うことが可能な欠陥検査方法及びその装置
を提供することである。
By the way, as for the inspection object, for example, when the production lot changes, the average density (absolute density) may slightly change even if the density change state (relative density) is the same. In such a case, if the above-described conventional defect inspection method is used, a defect is determined based on the absolute density difference between the target image and the reference image. There was a possibility of doing it. Further, if the threshold is set wide to prevent such erroneous recognition, the accuracy of defect determination is reduced, and conversely, the possibility of erroneously recognizing a defective product as a good product is increased. Note that even in the same production lot, the absolute density value may vary depending on the location of the captured image, and in this case, the same can be said. The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to stably detect defects even when the inspection object has a concentration variation depending on a location or a concentration variation between production lots. An object of the present invention is to provide a defect inspection method and device capable of performing detection.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に,本発明は,検査対象物の撮像画像から得られる各画
素毎の濃度データに基づいて上記検査対象物の欠陥を検
査する欠陥検査方法において,上記検査対象物の撮像範
囲を所定の小領域に分割する領域分割工程と,上記領域
分割工程で得られた上記小領域毎に,上記検査対象物の
濃度データの平均濃度を算出する平均濃度算出工程と,
上記検査対象物の各画素毎の濃度データが,上記平均濃
度算出工程で得られた各小領域での平均濃度を基準とし
て予め設定された第1の濃度範囲内に含まれるか否かを
判断し,上記範囲内に含まれない場合にその画素を欠陥
画素であると判定する第1の判定工程と,上記第1の判
定工程で得られた各画素毎の判定結果に基づいて,上記
検査対象物の最終的な欠陥判定を行う最終判定工程とを
具備してなることを特徴とする欠陥検査方法として構成
されている。上記第1の濃度範囲は,例えば生産ロット
毎に適切な値に変更することが検査精度を高く維持する
上で望ましい。更に,上記平均濃度算出工程で算出され
た上記小領域毎の平均濃度が,所定の基準濃度データに
基づいて上記小領域毎に予め設定された第2の濃度範囲
内に含まれるか否かを判断し,上記平均濃度が上記範囲
内に含まれない場合にその小領域内の全画素を欠陥画素
であると判定する第2の判定工程を具備し,上記最終判
定工程において,上記第1の判定工程,及び上記第2の
判定工程で得られた判定結果に基づいて上記検査対象物
の最終的な欠陥判定を行うようにすれば,撮像画像の濃
度が少なくとも部分的に,極端に基準濃度データからか
け離れてしまった場合には,その部分を欠陥であると判
断できる。尚,上記第2の濃度範囲を多少広めに設定し
たとしても,欠陥は上記第1の判定工程における相対的
な判定で確実に認識されるため,欠陥判定の精度を低下
させる心配はない。尚,上記第2の濃度範囲について
も,例えば生産ロット毎に適切な値に変更することが検
査精度を高く維持する上で望ましい。また,上記第1の
判定工程と第2の判定工程の判定順序については,第2
の判定工程を先に行い,ここで欠陥と判定されなかった
小領域内の画素についてのみ上記第1の判定工程による
処理を行うようにすれば,欠陥検出処理全体の計算時間
を短縮することが可能である。更に,上記最終判定工程
において,上記欠陥画素をラベリングし,そのラベリン
グ結果に基づいて最終的な欠陥判定を行うようにすれ
ば,欠陥画素をまとまりとして捉えることができるた
め,通常ある程度のまとまりで現れることの多い欠陥の
判定を容易且つ精度良く行うことができる。この最終判
定においては,例えば上記ラベリングによって得られた
同一ラベルの欠陥画素数が所定の閾値を超えている場合
にのみ,そのラベルに係る欠陥画素を欠陥と判断するよ
うにすることが考えられる。更に,上記検査対象物の濃
度データに例えばマスキング処理を行い,所定の検査対
象領域内の濃度データのみに基づいて上記欠陥判定を行
うようにすれば,無駄のない高速な処理が可能である。
In order to achieve the above object, the present invention provides a defect inspection for inspecting a defect of the inspection object based on density data for each pixel obtained from a picked-up image of the inspection object. In the method, an area dividing step of dividing the imaging range of the inspection object into predetermined small areas, and an average density of density data of the inspection object is calculated for each of the small areas obtained in the area dividing step. Average concentration calculation process,
It is determined whether or not the density data of each pixel of the inspection object is included in a first density range set in advance based on the average density in each small area obtained in the average density calculation step. Then, based on the first determination step of determining that the pixel is a defective pixel when the pixel is not included in the range, and the determination result for each pixel obtained in the first determination step, the inspection is performed. And a final determination step of performing a final defect determination of the object. It is desirable to change the first concentration range to an appropriate value for each production lot, for example, in order to maintain high inspection accuracy. Further, it is determined whether or not the average density for each of the small areas calculated in the average density calculation step is included in a second density range preset for each of the small areas based on predetermined reference density data. A second determining step of determining that all the pixels in the small area are defective pixels when the average density is not included in the range, and in the final determining step, If the final defect judgment of the inspection object is performed based on the judgment results obtained in the judgment step and the second judgment step, the density of the picked-up image is at least partially and extremely reduced to the reference density. If the data is far from the data, it can be determined that the part is defective. Even if the second density range is set to be slightly wider, the defect is reliably recognized by the relative determination in the first determination step, and there is no fear that the accuracy of the defect determination is reduced. It is desirable to change the second concentration range to an appropriate value for each production lot, for example, in order to maintain high inspection accuracy. The order of the first and second determination steps is the same as that of the second determination step.
Is performed first, and the processing in the first determination step is performed only on the pixels in the small area that has not been determined to be defective. This can reduce the calculation time of the entire defect detection processing. It is possible. Furthermore, in the final determination step, if the defective pixels are labeled and a final defect determination is performed based on the labeling result, the defective pixels can be regarded as a unit, so that the defective pixels usually appear to some extent. It is possible to easily and accurately determine a defect that often occurs. In this final determination, for example, only when the number of defective pixels of the same label obtained by the above labeling exceeds a predetermined threshold, it is conceivable to determine a defective pixel relating to the label as defective. Furthermore, by performing, for example, a masking process on the density data of the inspection object and performing the defect determination based on only the density data in a predetermined inspection target area, high-speed processing without waste can be performed.

【0005】また,上記欠陥検査方法を実施可能な装置
は,検査対象物の撮像画像から得られる各画素毎の濃度
データに基づいて上記検査対象物の欠陥を検査する欠陥
検査装置において,上記検査対象物の撮像範囲を所定の
小領域に分割する領域分割手段と,上記領域分割手段で
得られた上記小領域毎に,上記検査対象物の濃度データ
の平均濃度を算出する平均濃度算出手段と,上記検査対
象物の各画素毎の濃度データが,上記平均濃度算出手段
で得られた各小領域での平均濃度を基準として予め設定
された第1の濃度範囲内に含まれるか否かを判断し,上
記範囲内に含まれない場合にその画素を欠陥画素である
と判定する第1の判定手段と,上記第1の判定手段で得
られた各画素毎の判定結果に基づいて,上記検査対象物
の最終的な欠陥判定を行う最終判定手段とを具備してな
ることを特徴とする欠陥検査装置として構成されてい
る。
An apparatus capable of implementing the defect inspection method is a defect inspection apparatus for inspecting a defect of the inspection object based on density data for each pixel obtained from a captured image of the inspection object. Area dividing means for dividing the imaging range of the object into predetermined small areas; average density calculating means for calculating an average density of the density data of the inspection object for each of the small areas obtained by the area dividing means; Whether the density data for each pixel of the inspection object is included in a first density range set in advance based on the average density of each small area obtained by the average density calculation means. A first determining unit that determines that the pixel is a defective pixel when the pixel is not included in the range, and a determination result for each pixel obtained by the first determining unit. Final defect judgment of inspection object It is configured as a defect inspection apparatus characterized by comprising; and a final determination means for performing.

【0006】[0006]

【作用】本発明によれば,第1の判定工程において,画
素単位の濃度データが小領域内の平均濃度から大きくか
け離れている場合にその画素を欠陥画素であると判断す
る,相対的な欠陥判定が行われるため,検査対象物の場
所による濃度のバラツキや,生産ロット毎の濃度のバラ
ツキ等がある場合でも,そのバラツキの影響を受けるこ
となく安定して欠陥検出を行うことが可能である。ま
た,第2の判定工程において,絶対濃度による第2の濃
度範囲を用いた濃度判定を小領域単位で行うことによ
り,撮像画像の濃度が少なくとも部分的に,極端に基準
濃度データからかけ離れてしまった場合には,その部分
を欠陥であると判断できる。尚,上記第2の濃度範囲を
多少広めに設定したとしても,欠陥は上記第1の判定工
程における相対的な判定で確実に認識されるため,欠陥
判定の精度を低下させる心配はない。また,この第2の
判定工程を第1の判定工程の前に行えば,欠陥検出処理
全体の計算時間を短縮することが可能である。更に,マ
スキング処理等によって検査領域以外の濃度データを排
除した後で欠陥判定を行えば,無駄のない高速な処理が
可能である。また,欠陥画素にラベリング処理を施せ
ば,欠陥画素をまとまりとして捉えることができるた
め,通常ある程度のまとまりで現れることの多い欠陥の
判定を容易且つ精度良く行うことができる。
According to the present invention, in the first determination step, when the density data of each pixel is far from the average density in the small area, the pixel is determined to be a defective pixel. Since the determination is performed, even if there is a variation in the density depending on the location of the inspection object or a variation in the density for each production lot, the defect can be stably detected without being affected by the variation. . Further, in the second determination step, the density of the captured image is at least partially and extremely separated from the reference density data by performing the density determination using the second density range based on the absolute density in small area units. If so, the part can be determined to be defective. Even if the second density range is set to be slightly wider, the defect is reliably recognized by the relative determination in the first determination step, and there is no fear that the accuracy of the defect determination is reduced. Further, if the second determination step is performed before the first determination step, it is possible to reduce the calculation time of the entire defect detection processing. Further, if the defect determination is performed after removing the density data other than the inspection area by the masking processing or the like, high-speed processing without waste can be performed. Further, if a labeling process is performed on the defective pixel, the defective pixel can be regarded as a unit. Therefore, it is possible to easily and accurately determine a defect that usually appears in a certain unit.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下,添付図面を参照して本発明
の実施の形態及び実施例につき説明し,本発明の理解に
供する。尚,以下の実施の形態及び実施例は,本発明を
具体化した一例であって,本発明の技術的範囲を限定す
る性格のものではない。ここに,図1は本発明の実施の
形態に係る欠陥検査方法の処理手順の一例を示すフロー
チャート,図2は本発明の実施の形態に係る欠陥検査装
置A1の概略構成を示すブロック図,図3は検査対象物
上での局所領域及び検査領域の設定の一例を示す説明
図,図4は平均濃度G(X,Y)と閾値g1 ,g2
a,bの関係の一例を示す濃度ヒストグラムである。本
実施の形態に係る欠陥検査装置A1は,図2に示すよう
に,移動ステージ1,照明2,CCDカメラ3,画像検
出処理部4,画像メモリ5,検査演算処理部6,マスタ
ーCPU8,及び駆動制御部7を具備して構成されてい
る。上記移動ステージ1上には,プリント基板等の検査
対象物0が載置される。上記CCDカメラ3では,上記
移動ステージ1上に載置されて照明2により照らされた
検査対象物0の濃淡画像が撮像される。尚,上記移動ス
テージ1は,上記駆動制御部7の駆動によりX,Y方向
に移動可能であり,これによって上記検査対象物0が上
記CCDカメラ3に対して相対的に位置決めされる。上
記画像検出処理部4では,上記CCDカメラ3で撮像さ
れた画像に基づいて画素毎の濃度データが生成される。
上記画像メモリ5には,欠陥検査の開始前に上記CCD
カメラ3で撮像された良品画像に基づいて上記画像検出
処理部4で生成された良品の濃度データ(以下,基準濃
度データという)が予め記憶される。上記検査演算処理
部6では,上記画像検出処理部4で生成された上記検査
対象物0の濃度データ(以下,検査対象濃度データとい
う)と,上記画像メモリ5に予め記憶されている上記基
準濃度データとに基づいて,後述する欠陥検査処理(図
1)が実行され,各検査対象物0の欠陥判定が行われ
る。この検査演算処理部6が,平均濃度算出手段,第1
の判定手段,第2の判定手段,及び最終判定手段の一例
である。上記マスターCPU8では,上記検査演算処理
部6や上記駆動制御部7を含む装置A1全般の制御が行
われる。
Embodiments and examples of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention. The following embodiments and examples are mere examples embodying the present invention, and do not limit the technical scope of the present invention. FIG. 1 is a flowchart showing an example of a processing procedure of a defect inspection method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a defect inspection apparatus A1 according to an embodiment of the present invention. 3 is an explanatory view showing an example of a set of local areas and test areas on the inspection object, Fig 4 is the average concentration G (X, Y) a threshold g 1, g 2,
5 is a density histogram showing an example of the relationship between a and b. As shown in FIG. 2, the defect inspection apparatus A1 according to the present embodiment includes a moving stage 1, illumination 2, a CCD camera 3, an image detection processing unit 4, an image memory 5, an inspection calculation processing unit 6, a master CPU 8, The drive control unit 7 is provided. An inspection object 0 such as a printed board is placed on the moving stage 1. The CCD camera 3 captures a grayscale image of the inspection object 0 laid on the moving stage 1 and illuminated by the illumination 2. The moving stage 1 can be moved in the X and Y directions by the drive of the drive control unit 7, whereby the inspection object 0 is positioned relative to the CCD camera 3. The image detection processing unit 4 generates density data for each pixel based on the image captured by the CCD camera 3.
Before starting the defect inspection, the image memory 5 stores the CCD.
Non-defective density data (hereinafter referred to as reference density data) generated by the image detection processing unit 4 based on the non-defective image captured by the camera 3 is stored in advance. In the inspection calculation processing unit 6, the density data of the inspection object 0 generated by the image detection processing unit 4 (hereinafter referred to as inspection object density data) and the reference density stored in the image memory 5 in advance. Based on the data, a defect inspection process (FIG. 1), which will be described later, is executed, and the defect determination of each inspection object 0 is performed. This inspection calculation processing section 6 is an average density calculating means,
Are examples of the determination means, the second determination means, and the final determination means. The master CPU 8 controls the entire device A1 including the inspection calculation processing unit 6 and the drive control unit 7.

【0008】続いて,図1に示すフローチャートに従っ
て,主に上記検査演算処理部6において処理される欠陥
検査処理の手順について説明する。ここで,簡単のた
め,検査対象物0の撮像画像は図3に示すように100
×100画素で取得され,各画素をp(x,y),各画
素の濃度データをg(x,y)で表すものとする。ま
た,上記撮像画像上には,10×10画素を単位とする
局所領域(所定の小領域に相当)が設定されており,各
局所領域をP(X,Y)で表すものとする。更に,上記
検査対象物0の撮像画像には,図3に示すような検査領
域(局所領域P(2,9)の拡大図に斜線で示す)が設
定されており,該検査領域以外の濃度データをマスキン
グするマスキングデータが予め用意されているものとす
る。
Next, the procedure of the defect inspection processing mainly performed by the inspection arithmetic processing unit 6 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Here, for simplicity, the picked-up image of the inspection object 0 is 100 as shown in FIG.
Each pixel is represented by p (x, y) and density data of each pixel is represented by g (x, y). Further, a local area (corresponding to a predetermined small area) in units of 10 × 10 pixels is set on the captured image, and each local area is represented by P (X, Y). Further, in the captured image of the inspection object 0, an inspection area (shown by oblique lines in an enlarged view of the local area P (2, 9)) is set as shown in FIG. It is assumed that masking data for masking data is prepared in advance.

【0009】欠陥検査処理が開始されると,まず,検査
対象物0の検査対象濃度データがCCDカメラ3及び画
像検出処理部4を介して検査演算処理部6に取り込まれ
る(ステップS1)。上記検査演算処理部6内に取り込
まれた検査対象濃度データは,上記マスキングデータを
用いてマスキングされ(具体的には,マスキングデータ
の一例である検査領域を示す位置データと各画素位置と
のAND処理などによる),上記検査領域外の濃度デー
タが排除された後(ステップS2),上記10×10画
素の局所領域P(X,Y)に分割される(ステップS
3:領域分割工程に相当)。尚,上記ステップS2とS
3の処理順は逆であっても全く差し支えない。続いて,
上記検査演算処理部6では,1つの局所領域P(X,
Y)が取り出され,その局所領域に属する全ての濃度デ
ータg(x,y)の平均値G(X,Y)が算出される
(ステップS4:平均濃度算出工程に相当)。そして,
上記平均値G(X,Y)が次式を満たすか否かが判定
される(ステップS5:第2の判定工程に相当)。 g1 (X,Y) ≦ G(X,Y) ≦ g2 (X,Y) … ここで,上記g1 (X,Y),g2 (X,Y)は,良品
の撮像画像より得られた基準濃度データに基づいて局所
領域毎に予め設定された閾値であり,共に絶対濃度値で
設定される。尚,上記g1 (X,Y),g2 (X,Y)
で規定される上記式の範囲が,第2の濃度範囲の一例
である。上記平均濃度G(X,Y)が上記式を満たし
ていなければ,当該局所領域内の画素は全て欠陥画素で
あると判断され,当該局所領域内の全画素を対象として
2値化処理が行われる(ステップS8)。ここでいう2
値化処理とは,例えば欠陥画素を1とし,その他の良品
画素を0とする処理である。このように,絶対濃度によ
る閾値を用いた濃度判定を局所領域単位で行うことによ
り,撮像画像の濃度が少なくとも部分的に,極端に基準
濃度データからかけ離れてしまった場合に,その部分を
欠陥であると判断できる。尚,この局所領域単位の判定
を後述の画素単位での判定(ステップS7)の前に行う
ことにより,欠陥検出処理全体の計算時間を短縮するこ
とが可能である。
When the defect inspection process is started, first, the inspection target density data of the inspection object 0 is taken into the inspection calculation processing unit 6 via the CCD camera 3 and the image detection processing unit 4 (step S1). The inspection target density data taken into the inspection calculation processing unit 6 is masked using the masking data (specifically, an AND operation between the position data indicating the inspection area, which is an example of the masking data, and each pixel position is performed. After the density data outside the inspection area is eliminated (step S2), it is divided into the local area P (X, Y) of 10 × 10 pixels (step S2).
3: Equivalent to the area dividing step). Note that steps S2 and S
The order of processing 3 may be reversed. continue,
In the inspection operation processing unit 6, one local region P (X,
Y) is taken out, and the average value G (X, Y) of all the density data g (x, y) belonging to the local area is calculated (step S4: corresponding to an average density calculation step). And
It is determined whether the average value G (X, Y) satisfies the following equation (step S5: corresponds to a second determination step). g 1 (X, Y) ≦ G (X, Y) ≦ g 2 (X, Y) Here, the above g 1 (X, Y) and g 2 (X, Y) are obtained from a good-quality captured image. The threshold is a preset threshold for each local area based on the obtained reference density data, and both are set as absolute density values. The above g 1 (X, Y) and g 2 (X, Y)
Is an example of the second density range. If the average density G (X, Y) does not satisfy the above expression, all the pixels in the local area are determined to be defective pixels, and the binarization processing is performed on all the pixels in the local area. (Step S8). 2 here
The binarization process is, for example, a process in which a defective pixel is set to 1 and other non-defective pixels are set to 0. As described above, by performing the density determination using the threshold based on the absolute density for each local area, when the density of the captured image is at least partially extremely different from the reference density data, the part is determined to be defective. It can be determined that there is. It should be noted that by performing the determination in units of local regions before the determination in units of pixels (step S7) described later, it is possible to reduce the calculation time of the entire defect detection process.

【0010】一方,上記平均濃度G(X,Y)が上記
式を満たしていれば,当該局所領域内の全画素につい
て,その濃度データg(x,y)が次式を満たすか否
かの判定が繰り返される(ステップS6→S7(第1の
判定工程に相当)→S9→S6…)。 (1-a/100) ×G(X,Y) ≦ g(x,y) ≦ (1-b/100) ×G(X,Y) … ここで,上記a,bは,図4に示すように,各局所領域
における平均濃度G(X,Y)を基準とする所定の濃度
幅の設定に用いられる値(%)であり,上記基準濃度デ
ータに基づいて予め設定される。尚,上記a,bの値に
ついては,必ずしも局所領域毎に設定する必要はなく,
通常は例えばロット毎に変更する程度でよい。ここで,
上記a,bで規定される上記式の範囲が,第1の濃度
範囲の一例である。上記ステップS7において,上記g
(x,y)が上記式を満たしていないと判定された画
素(例えば,図4に示すヒストグラムにおいて,G
(X,Y)を基準とする−a%,+b%の範囲から外れ
ている画素)は欠陥画素であると判断され,上記2値化
処理に供される(ステップS8)。このように,画素単
位の濃度データが局所領域内の平均濃度から大きくかけ
離れている場合にその画素を欠陥画素であると判断す
る,相対的な欠陥判定を行うことで,検査対象物の場所
による濃度のバラツキや,生産ロット毎の濃度のバラツ
キ等がある場合でも,そのバラツキの影響を受けること
なく安定して欠陥検出を行うことが可能である。
On the other hand, if the average density G (X, Y) satisfies the above equation, it is determined whether or not the density data g (x, y) of all pixels in the local area satisfies the following equation. The determination is repeated (step S6 → S7 (corresponding to the first determination step) → S9 → S6 ...). (1-a / 100) × G (X, Y) ≦ g (x, y) ≦ (1-b / 100) × G (X, Y) where a and b are shown in FIG. As described above, the value (%) is used to set a predetermined density width based on the average density G (X, Y) in each local region, and is set in advance based on the reference density data. The values of a and b need not necessarily be set for each local area.
Usually, for example, it may be changed for each lot. here,
The range of the above expression defined by the above a and b is an example of the first concentration range. In step S7, the g
Pixels determined that (x, y) do not satisfy the above expression (for example, in the histogram shown in FIG.
Pixels that are out of the range of -a% and + b% based on (X, Y)) are determined to be defective pixels, and are subjected to the above-described binarization processing (step S8). As described above, when the density data of each pixel is significantly different from the average density in the local area, the pixel is determined to be a defective pixel, and the relative defect determination is performed. Even when there is a variation in the density or a variation in the density for each production lot, it is possible to stably detect the defect without being affected by the variation.

【0011】1つの局所領域について以上の処理が終了
すれば,次の局所領域について上記ステップS4以降の
処理が繰り返される。全ての局所領域について上記処理
が終了すると(ステップS10),上記検査演算処理部
6では,欠陥であると判定され,2値化された画素に更
にラベリング処理を施し,そのラベリング結果に基づい
て,その検査対象物0の良品/不良品の最終判定がなさ
れる。通常,欠陥は数画素〜数百画素のまとまりで現れ
ることが多いが,その同一の欠陥画素のまとまりに同一
のラベルを付与し,上記欠陥画素のまとまり毎の判別が
できるようにする処理がここでのラベリング処理であ
る。このように,欠陥画素をラベリングしたことで,上
記欠陥画素をまとまり(欠陥領域)として捉えることが
できるため,欠陥判定を容易且つ精度良く行うことがで
きる。上記ラベリング処理によって抽出されたいくつか
の欠陥領域は,例えば重心等を算出することによりその
位置が特定でき,上記欠陥領域に属する画素数を算出す
ることによりその面積が得られる。上記良品/不良品の
最終判定は,例えば面積10以上の欠陥が存在する場合
には不良品とし,それ以外は良品と判定するなど,検査
対象品種の基準に応じた適切な判定方法を適用すること
が可能である。
When the above processing is completed for one local area, the processing from step S4 is repeated for the next local area. When the above processing is completed for all the local areas (step S10), the inspection calculation processing unit 6 determines that the defect is a defect, performs further labeling processing on the binarized pixels, and based on the labeling result, The final judgment of non-defective / defective of the inspection object 0 is made. Usually, a defect often appears in a group of several to several hundred pixels. However, a process of assigning the same label to the group of the same defective pixel and enabling the above-described group of the defective pixel to be determined is performed here. Is the labeling process. As described above, by labeling the defective pixels, the defective pixels can be regarded as a unit (defect area), so that the defect determination can be performed easily and accurately. The positions of some defective areas extracted by the labeling process can be specified by calculating, for example, the center of gravity or the like, and their areas can be obtained by calculating the number of pixels belonging to the defective areas. In the final judgment of non-defective / defective products, for example, if there is a defect having an area of 10 or more, it is judged to be defective, and other than that, it is judged to be non-defective, and an appropriate judgment method according to the standard of the inspection target product is applied. It is possible.

【0012】以上説明したように,本実施の形態に係る
欠陥検査方法では,ステップS7において,画素単位の
濃度データが局所領域内の平均濃度から大きくかけ離れ
ている場合にその画素を欠陥画素であると判断する,相
対的な欠陥判定を行っているため,検査対象物の場所に
よる濃度のバラツキや,生産ロット毎の濃度のバラツキ
等がある場合でも,そのバラツキの影響を受けることな
く安定して欠陥検出を行うことが可能である。また,ス
テップS5において,絶対濃度による閾値を用いた濃度
判定を局所領域単位で行うことにより,撮像画像の濃度
が少なくとも部分的に,極端に基準濃度データからかけ
離れてしまった場合には,その部分を欠陥であると判断
できる。尚,上記絶対濃度による閾値を多少広めに設定
したとしても,欠陥はステップS7における相対的な判
定で確実に認識されるため,欠陥判定の精度を低下させ
る心配はない。また,この局所領域単位の判定(ステッ
プS5)を画素単位での判定(ステップS7)の前に行
うことにより,欠陥検出処理全体の計算時間を短縮する
ことが可能である。更に,マスキング処理によって検査
領域以外の濃度データを排除した後で欠陥判定を行って
いるため,無駄のない高速な処理が可能である。また,
欠陥画素にラベリング処理を施すことにより,欠陥画素
をまとまりとして捉えることができるため,通常ある程
度のまとまりで現れることの多い欠陥の判定を容易且つ
精度良く行うことができる。
As described above, in the defect inspection method according to the present embodiment, in step S7, if the density data of each pixel is far from the average density in the local area, the pixel is determined as a defective pixel. In the case where there is a variation in the density depending on the location of the inspection object or a variation in the density for each production lot, etc., the relative defect judgment is performed stably without being affected by the variation. Defect detection can be performed. Further, in step S5, by performing the density determination using the threshold based on the absolute density for each local area, if the density of the captured image is at least partially extremely different from the reference density data, the partial Can be determined to be defective. Note that even if the threshold based on the absolute density is set to be slightly wider, the defect is surely recognized by the relative determination in step S7, and there is no fear that the accuracy of the defect determination is reduced. Further, by performing the determination in units of local areas (step S5) before the determination in units of pixels (step S7), it is possible to reduce the calculation time of the entire defect detection process. Further, since the defect determination is performed after removing the density data other than the inspection area by the masking processing, high-speed processing without waste can be performed. Also,
By performing the labeling process on the defective pixels, the defective pixels can be perceived as a unit. Therefore, it is possible to easily and accurately determine a defect which usually appears in a certain unit.

【0013】[0013]

【実施例】局所領域内に含まれる検査領域が狭く,局所
領域内の検査対象画素p(x,y)の数が少ない場合に
は,平均濃度演算自体がノイズによる影響を受けやす
く,これによって式の判定でNGとなる場合がある。
このような事態を防止するため,局所領域内の検査対象
画素数が一定値よりも小さい場合には上記ステップS4
〜S10の処理を行わず,その領域内の画素は良品とし
て処理することも可能である。また,上記式における
1 (X,Y),g2 (X,Y),及び上記式におけ
るa,bは,例えば生産ロット等が変わる毎にそれに合
わせて微調整することが,欠陥検出精度を高く維持する
上で望ましい。また,局所領域の設定についても,対象
とする検査対象物に応じて適当な広さに設定することが
望ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS When the inspection area included in the local area is small and the number of inspection target pixels p (x, y) in the local area is small, the average density calculation itself is easily affected by noise. In some cases, the result of the expression is NG.
In order to prevent such a situation, when the number of pixels to be inspected in the local area is smaller than a certain value, the above-described step S4 is performed.
Pixels in that area can be processed as non-defective products without performing the processing of S10. In addition, g 1 (X, Y) and g 2 (X, Y) in the above equation, and a and b in the above equation can be finely adjusted in accordance with, for example, each time a production lot or the like changes. Is desirable to maintain high. It is also desirable to set the local area to an appropriate size according to the inspection object to be inspected.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上説明したように,本発明は,検査対
象物の撮像画像から得られる各画素毎の濃度データに基
づいて上記検査対象物の欠陥を検査する欠陥検査方法に
おいて,上記検査対象物の撮像範囲を所定の小領域に分
割する領域分割工程と,上記領域分割工程で得られた上
記小領域毎に,上記検査対象物の濃度データの平均濃度
を算出する平均濃度算出工程と,上記検査対象物の各画
素毎の濃度データが,上記平均濃度算出工程で得られた
各小領域での平均濃度を基準として予め設定された第1
の濃度範囲内に含まれるか否かを判断し,上記範囲内に
含まれない場合にその画素を欠陥画素であると判定する
第1の判定工程と,上記第1の判定工程で得られた各画
素毎の判定結果に基づいて,上記検査対象物の最終的な
欠陥判定を行う最終判定工程とを具備してなることを特
徴とする欠陥検査方法として構成されているため,検査
対象物の場所による濃度のバラツキや,生産ロット毎の
濃度のバラツキ等がある場合でも,そのバラツキの影響
を受けることなく安定して欠陥検出を行うことが可能で
ある。上記第1の濃度範囲は,例えば生産ロット毎に適
切な値に変更することが検査精度を高く維持する上で望
ましい。更に,上記平均濃度算出工程で算出された上記
小領域毎の平均濃度が,所定の基準濃度データに基づい
て上記小領域毎に予め設定された第2の濃度範囲内に含
まれるか否かを判断し,上記平均濃度が上記範囲内に含
まれない場合にその小領域内の全画素を欠陥画素である
と判定する第2の判定工程を具備し,上記最終判定工程
において,上記第1の判定工程,及び上記第2の判定工
程で得られた判定結果に基づいて上記検査対象物の最終
的な欠陥判定を行うようにすれば,撮像画像の濃度が少
なくとも部分的に,極端に基準濃度データからかけ離れ
てしまった場合には,その部分を欠陥であると判断でき
る。尚,上記第2の濃度範囲を多少広めに設定したとし
ても,欠陥は上記第1の判定工程における相対的な判定
で確実に認識されるため,欠陥判定の精度を低下させる
心配はない。尚,上記第2の濃度範囲についても,例え
ば生産ロット毎に適切な値に変更することが検査精度を
高く維持する上で望ましい。また,上記第1の判定工程
と第2の判定工程の判定順序については,第2の判定工
程を先に行い,ここで欠陥と判定されなかった小領域内
の画素についてのみ上記第1の判定工程による処理を行
うようにすれば,欠陥検出処理全体の計算時間を短縮す
ることが可能である。更に,2値化された上記欠陥画素
を更にラベリングし,そのラベリング結果に基づいて最
終的な欠陥判定を行うようにすれば,欠陥画素をまとま
りとして捉えることができるため,通常ある程度のまと
まりで現れることの多い欠陥の判定を容易且つ精度良く
行うことができる。この最終判定においては,例えば上
記ラベリングによって得られた同一ラベルの欠陥画素数
が所定の閾値を超えている場合にのみ,そのラベルに係
る欠陥画素を欠陥と判断するようにすることが考えられ
る。更に,上記検査対象物の濃度データに例えばマスキ
ング処理を行い,所定の検査対象領域内の濃度データの
みに基づいて上記欠陥判定を行うようにすれば,無駄の
ない高速な処理が可能である。
As described above, the present invention relates to a defect inspection method for inspecting a defect of an inspection object based on density data for each pixel obtained from a captured image of the inspection object. An area dividing step of dividing an imaging range of an object into predetermined small areas; an average density calculating step of calculating an average density of density data of the inspection object for each of the small areas obtained in the area dividing step; The density data for each pixel of the inspection object is a first preset density based on the average density in each small area obtained in the average density calculation step.
The first determination step is to determine whether or not the pixel is within the density range, and if not, the pixel is determined to be a defective pixel. And a final determination step of performing a final defect determination of the inspection object based on the determination result for each pixel. Even when there is a variation in density depending on the location or a variation in density for each production lot, it is possible to detect defects stably without being affected by the variation. It is desirable to change the first concentration range to an appropriate value for each production lot, for example, in order to maintain high inspection accuracy. Further, it is determined whether or not the average density for each of the small areas calculated in the average density calculation step is included in a second density range preset for each of the small areas based on predetermined reference density data. A second determining step of determining that all the pixels in the small area are defective pixels when the average density is not included in the range, and in the final determining step, If the final defect judgment of the inspection object is performed based on the judgment results obtained in the judgment step and the second judgment step, the density of the picked-up image is at least partially and extremely reduced to the reference density. If the data is far from the data, it can be determined that the part is defective. Even if the second density range is set to be slightly wider, the defect is reliably recognized by the relative determination in the first determination step, and there is no fear that the accuracy of the defect determination is reduced. It is desirable to change the second concentration range to an appropriate value for each production lot, for example, in order to maintain high inspection accuracy. As for the order of the first and second determination steps, the second determination step is performed first, and the first determination step is performed only on pixels in a small area that are not determined to be defective. By performing the process by the process, it is possible to reduce the calculation time of the entire defect detection process. Furthermore, if the binarized defective pixels are further labeled, and a final defect determination is performed based on the labeling result, the defective pixels can be regarded as a unit, so that the defective pixels usually appear to some extent. It is possible to easily and accurately determine a defect that often occurs. In this final determination, for example, only when the number of defective pixels of the same label obtained by the above labeling exceeds a predetermined threshold, it is conceivable to determine a defective pixel relating to the label as defective. Furthermore, by performing, for example, a masking process on the density data of the inspection object and performing the defect determination based on only the density data in a predetermined inspection target area, high-speed processing without waste can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態に係る欠陥検査方法の処
理手順の一例を示すフローチャート。
FIG. 1 is a flowchart illustrating an example of a processing procedure of a defect inspection method according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態に係る欠陥検査装置A1
の概略構成を示すブロック図。
FIG. 2 shows a defect inspection apparatus A1 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of FIG.

【図3】 検査対象物上での局所領域及び検査領域の設
定の一例を示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of setting a local area and an inspection area on an inspection object.

【図4】 平均濃度G(X,Y)と閾値g1 ,g2
a,bの関係の一例を示す濃度ヒストグラム。
FIG. 4 shows an average density G (X, Y) and threshold values g 1 , g 2 ,
5 is a density histogram showing an example of the relationship between a and b.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…移動ステージ 2…照明 3…CCDカメラ 4…画像検出処理部 5…画像メモリ 6…検査演算処理部(平均濃度算出手段,第1の判定手
段,第2の判定手段,及び最終判定手段の一例) 7…駆動制御部 8…マスターCPU
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Moving stage 2 ... Lighting 3 ... CCD camera 4 ... Image detection processing part 5 ... Image memory 6 ... Inspection calculation processing part (Average density calculation means, 1st determination means, 2nd determination means, and final determination means Example) 7: Drive control unit 8: Master CPU

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象物の撮像画像から得られる各画
素毎の濃度データに基づいて上記検査対象物の欠陥を検
査する欠陥検査方法において,上記検査対象物の撮像範
囲を所定の小領域に分割する領域分割工程と,上記領域
分割工程で得られた上記小領域毎に,上記検査対象物の
濃度データの平均濃度を算出する平均濃度算出工程と,
上記検査対象物の各画素毎の濃度データが,上記平均濃
度算出工程で得られた各小領域での平均濃度を基準とし
て予め設定された第1の濃度範囲内に含まれるか否かを
判断し,上記範囲内に含まれない場合にその画素を欠陥
画素であると判定する第1の判定工程と,上記第1の判
定工程で得られた各画素毎の判定結果に基づいて,上記
検査対象物の最終的な欠陥判定を行う最終判定工程とを
具備してなることを特徴とする欠陥検査方法。
In a defect inspection method for inspecting a defect of an inspection object based on density data for each pixel obtained from a captured image of the inspection object, an imaging range of the inspection object is set to a predetermined small area. An area dividing step of dividing; an average density calculating step of calculating an average density of density data of the inspection object for each of the small areas obtained in the area dividing step;
It is determined whether or not the density data of each pixel of the inspection object is included in a first density range set in advance based on the average density in each small area obtained in the average density calculation step. Then, based on the first determination step of determining that the pixel is a defective pixel when the pixel is not included in the range, and the determination result for each pixel obtained in the first determination step, the inspection is performed. A final determination step of performing a final defect determination of the object.
【請求項2】 上記第1の濃度範囲が変更可能な請求項
1記載の欠陥検査方法。
2. The defect inspection method according to claim 1, wherein said first density range can be changed.
【請求項3】 上記平均濃度算出工程で算出された上記
小領域毎の平均濃度が,所定の基準濃度データに基づい
て上記小領域毎に予め設定された第2の濃度範囲内に含
まれるか否かを判断し,上記平均濃度が上記範囲内に含
まれない場合にその小領域内の全画素を欠陥画素である
と判定する第2の判定工程を具備し,上記最終判定工程
において,上記第1の判定工程,及び上記第2の判定工
程で得られた判定結果に基づいて上記検査対象物の最終
的な欠陥判定を行う請求項1又は2記載の欠陥検査方
法。
3. The method according to claim 1, wherein the average density for each of the small areas calculated in the average density calculating step is included in a second density range preset for each of the small areas based on predetermined reference density data. A second determination step of determining whether or not all the pixels in the small area are defective if the average density is not included in the range. 3. The defect inspection method according to claim 1, wherein a final defect determination of the inspection object is performed based on the determination results obtained in the first determination step and the second determination step.
【請求項4】 上記第2の濃度範囲が変更可能な請求項
3記載の欠陥検査方法。
4. The defect inspection method according to claim 3, wherein said second density range can be changed.
【請求項5】 上記第2の判定工程で欠陥と判定されな
かった小領域内の画素についてのみ,上記第1の判定工
程による処理を行う請求項3又は4記載の欠陥検査方
法。
5. The defect inspection method according to claim 3, wherein the processing in the first determination step is performed only for pixels in a small area that has not been determined to be defective in the second determination step.
【請求項6】 上記最終判定工程において,上記欠陥画
素をラベリングし,そのラベリング結果に基づいて最終
的な欠陥判定を行う請求項1〜5のいずれかに記載の欠
陥検査方法。
6. The defect inspection method according to claim 1, wherein, in the final determination step, the defective pixel is labeled, and a final defect determination is performed based on the labeling result.
【請求項7】 上記ラベリングによって得られた同一ラ
ベルの欠陥画素数が所定の閾値を超えている場合にの
み,最終的な欠陥判定においてそのラベルに係る欠陥画
素を欠陥と判断する請求項6記載の欠陥検査方法。
7. A defective pixel associated with a label in a final defect determination is determined only when the number of defective pixels of the same label obtained by the labeling exceeds a predetermined threshold. Defect inspection method.
【請求項8】 上記検査対象物の濃度データのうち,所
定の検査対象領域内の濃度データのみに基づいて上記欠
陥判定を行う請求項1〜7のいずれかに記載の欠陥検査
方法。
8. The defect inspection method according to claim 1, wherein the defect determination is performed based only on the density data in a predetermined inspection target area among the density data of the inspection target.
【請求項9】 検査対象物の撮像画像から得られる各画
素毎の濃度データに基づいて上記検査対象物の欠陥を検
査する欠陥検査装置において,上記検査対象物の撮像範
囲を所定の小領域に分割する領域分割手段と,上記領域
分割手段で得られた上記小領域毎に,上記検査対象物の
濃度データの平均濃度を算出する平均濃度算出手段と,
上記検査対象物の各画素毎の濃度データが,上記平均濃
度算出手段で得られた各小領域での平均濃度を基準とし
て予め設定された第1の濃度範囲内に含まれるか否かを
判断し,上記範囲内に含まれない場合にその画素を欠陥
画素であると判定する第1の判定手段と,上記第1の判
定手段で得られた各画素毎の判定結果に基づいて,上記
検査対象物の最終的な欠陥判定を行う最終判定手段とを
具備してなることを特徴とする欠陥検査装置。
9. A defect inspection apparatus for inspecting a defect of the inspection object based on density data for each pixel obtained from a captured image of the inspection object, wherein an imaging range of the inspection object is set to a predetermined small area. Area dividing means for dividing, average density calculating means for calculating an average density of density data of the inspection object for each of the small areas obtained by the area dividing means,
It is determined whether or not the density data of each pixel of the inspection object is included in a first density range set in advance based on the average density in each small area obtained by the average density calculation means. Then, based on the first determination means for determining that the pixel is a defective pixel when the pixel is not included in the range, and the determination result for each pixel obtained by the first determination means, A defect inspection apparatus comprising: final determination means for performing final defect determination of an object.
【請求項10】 上記平均濃度算出手段で算出された上
記小領域毎の平均濃度が,所定の基準濃度データに基づ
いて上記小領域毎に予め設定された第2の濃度範囲内に
含まれるか否かを判断し,上記平均濃度が上記範囲内に
含まれない場合にその小領域内の全画素を欠陥画素であ
ると判定する第2の判定手段を具備し,上記最終判定手
段において,上記第1の判定手段,及び上記第2の判定
手段で得られた判定結果に基づいて上記検査対象物の最
終的な欠陥判定を行う請求項9記載の欠陥検査装置。
10. A method according to claim 1, wherein the average density for each of the small areas calculated by the average density calculating means is included in a second density range preset for each of the small areas based on predetermined reference density data. A second determining means for determining whether or not the average density is not within the range, and determining that all pixels in the small area are defective pixels. 10. The defect inspection apparatus according to claim 9, wherein a final defect determination of the inspection object is performed based on the determination results obtained by the first determination unit and the second determination unit.
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