JP2000169764A - Glass paste composition, transfer film, and manufacture of plasma display panel using the composition - Google Patents

Glass paste composition, transfer film, and manufacture of plasma display panel using the composition

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JP2000169764A
JP2000169764A JP34544898A JP34544898A JP2000169764A JP 2000169764 A JP2000169764 A JP 2000169764A JP 34544898 A JP34544898 A JP 34544898A JP 34544898 A JP34544898 A JP 34544898A JP 2000169764 A JP2000169764 A JP 2000169764A
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JP
Japan
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film
forming material
material layer
composition
meth
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JP34544898A
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Japanese (ja)
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Takanori Yamashita
隆徳 山下
Hideaki Masuko
英明 増子
Shiro Takahashi
至郎 高橋
Kenji Okamoto
健司 岡本
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JSR Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass paste composition suitably employed for obtaining a film-forming material layer, which does not undergo any yellowing when formed as a dielectric layer by firing, a transfer film provided with a film- forming material layer, which does not undergo any yellowing when formed as a dielectric layer by firing, and a method for efficiently manufacturing PDP by use of the above-mentioned composition. SOLUTION: The glass paste composition comprises a glass powder and a binder resin, wherein a metal element and/or compound having a standard single electrode potential exceeding 0.8 V is contained. The transfer film includes a film-forming material layer formed by coating the glass paste composition on a support film. The manufacturing method comprises the step of forming a dielectric layer on a substrate by firing a film-forming material layer obtained from the glass paste composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスペースト組
成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネル
の製造方法に関する。
The present invention relates to a glass paste composition, a transfer film, and a method for manufacturing a plasma display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、平板状の蛍光表示体としてプラズ
マディスプレイが注目されている。図1は交流型のプラ
ズマディスプレイパネル(以下、「PDP」ともいう)
の断面形状を示す模式図である。同図において、1およ
び2は対向配置されたガラス基板、3は隔壁であり、ガ
ラス基板1、ガラス基板2および隔壁3によりセルが区
画形成されている。4はガラス基板1に固定された透明
電極、5は透明電極4の抵抗を下げる目的で、当該透明
電極4上に形成されたバス電極、6はガラス基板2に固
定されたアドレス電極、7はセル内に保持された蛍光物
質、8は透明電極4およびバス電極5を被覆するようガ
ラス基板1の表面に形成された誘電体層、9はアドレス
電極6は被覆するようガラス基板2の表面に形成された
誘電体層、Pは例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜
である。
2. Description of the Related Art In recent years, a plasma display has attracted attention as a flat fluorescent display. FIG. 1 shows an AC type plasma display panel (hereinafter also referred to as “PDP”).
It is a schematic diagram which shows the cross-sectional shape of. In FIG. 1, reference numerals 1 and 2 denote glass substrates arranged opposite to each other, and reference numeral 3 denotes a partition. A cell is formed by the glass substrate 1, the glass substrate 2, and the partition 3. 4 is a transparent electrode fixed to the glass substrate 1, 5 is a bus electrode formed on the transparent electrode 4 for the purpose of lowering the resistance of the transparent electrode 4, 6 is an address electrode fixed to the glass substrate 2, 7 is The fluorescent substance held in the cell, 8 is a dielectric layer formed on the surface of the glass substrate 1 so as to cover the transparent electrode 4 and the bus electrode 5, and 9 is the surface of the glass substrate 2 so as to cover the address electrode 6. The formed dielectric layer, P, is a protective film made of, for example, magnesium oxide.

【0003】PDPの断面形状を示す図1において、バ
ス電極5の構成材料には、通常銀が用いられる。銀は、
電気抵抗が低く、電極材料として好適なものである。銀
を構成材料とするバス電極5の形成方法としては、
銀を含有するペースト組成物をスクリーン印刷により透
明電極4上に塗布する工程を含むスクリーン印刷法、
銀を含有する感光性のペースト組成物を透明電極4上
に塗布し、形成された塗膜に対し、フォトマスクを介し
て紫外線を選択的に照射する露光工程と、形成されたパ
ターン潜像を現像する現像工程を含むフォトリソグラフ
ィー法などが知られている。
In FIG. 1 showing a cross-sectional shape of a PDP, silver is usually used as a constituent material of a bus electrode 5. Silver is
It has a low electric resistance and is suitable as an electrode material. As a method of forming the bus electrode 5 using silver as a constituent material,
A screen printing method including a step of applying a paste composition containing silver on the transparent electrode 4 by screen printing;
An exposure step of applying a photosensitive paste composition containing silver on the transparent electrode 4 and selectively irradiating the formed coating film with ultraviolet rays through a photomask, and forming the formed pattern latent image A photolithography method including a developing step for developing is known.

【0004】誘電体層8の形成方法としては、ガラス粉
末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状のガラス
粉末含有組成物(ガラスペースト組成物)を調製し、こ
のガラスペースト組成物をスクリーン印刷法によってガ
ラス基板1の表面に塗布して乾燥することにより膜形成
材料層を形成し、次いでこの膜形成材料層を焼成するこ
とにより有機物質を除去してガラス粉末を焼結させる方
法が知られている。
As a method for forming the dielectric layer 8, a paste-like glass powder-containing composition (glass paste composition) containing glass powder, a binder resin and a solvent is prepared, and this glass paste composition is screen-printed. A method is known in which a film-forming material layer is formed by applying the film-forming material to the surface of a glass substrate 1 by drying, and then the film-forming material layer is baked to remove organic substances and sinter the glass powder. ing.

【0005】ここに、誘電体層8に良好な透明性(高い
光透過率)を発現させるためには、焼成工程において膜
形成材料層を十分に脱泡する必要がある。そして、焼成
工程における膜形成材料層を十分に脱泡するためには、
軟化点の低いガラス粉末を含有するガラスペースト組成
物により膜形成材料層を形成するとともに、高い温度で
長時間にわたる焼成条件を設定することにより、焼成工
程における膜形成材料層の流動性を高めることが好まし
い。
Here, in order to make the dielectric layer 8 exhibit good transparency (high light transmittance), it is necessary to sufficiently defoam the film forming material layer in the firing step. Then, in order to sufficiently defoam the film forming material layer in the firing step,
Forming a film-forming material layer from a glass paste composition containing a glass powder having a low softening point, and increasing the fluidity of the film-forming material layer in the firing step by setting firing conditions at a high temperature for a long time. Is preferred.

【0006】しかして、ガラス基板1上に形成する膜形
成材料層の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に
伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき誘電体層8の
膜厚の1.3〜2.0倍程度とすることが必要であり、
例えば、誘電体層8の膜厚を20〜50μmとするため
には、30〜100μm程度の厚さの膜形成材料層を形
成する必要がある。一方、前記ガラスペースト組成物を
スクリーン印刷法により塗布する場合に、1回の塗布処
理によって形成される塗膜の厚さは15〜25μm程度
である。このため、膜形成材料層を所定の厚さとするた
めには、ガラス基板の表面に対して、当該ガラスペース
ト組成物を複数回(例えば2〜7回)にわたり繰り返し
て塗布(多重印刷)する必要がある。
[0006] The thickness of the film forming material layer formed on the glass substrate 1 is determined by taking into account the reduction in film thickness accompanying the removal of the organic substance in the firing step. It is necessary to be about 1.3 to 2.0 times the thickness,
For example, in order to make the thickness of the dielectric layer 8 20 to 50 μm, it is necessary to form a film forming material layer having a thickness of about 30 to 100 μm. On the other hand, when the glass paste composition is applied by a screen printing method, the thickness of a coating film formed by one application treatment is about 15 to 25 μm. Therefore, in order to make the film-forming material layer have a predetermined thickness, the glass paste composition needs to be repeatedly applied (multiple printing) a plurality of times (for example, 2 to 7 times) to the surface of the glass substrate. There is.

【0007】しかしながら、スクリーン印刷法を利用す
る多重印刷によって膜形成材料層を形成する場合には、
当該膜形成材料層を焼成して形成される誘電体層が均一
な膜厚(例えば公差が±5%以内)を有するものとなら
ない。これは、スクリーン印刷法による多重印刷では、
ガラス基板の表面に対してガラスペースト組成物を均一
に塗布することが困難だからであり、塗布面積(パネル
サイズ)が大きいほど、また、塗布回数が多いほど誘電
体層における膜厚のバラツキの程度は大きいものとな
る。そして、多重印刷による塗布工程を経て得られるパ
ネル材料(当該誘電体層を有するガラス基板)には、そ
の面内において、膜厚のバラツキに起因して誘電特性に
バラツキが生じ、誘電特性のバラツキは、PDPにおけ
る表示欠陥(輝度ムラ)の原因となる。さらに、スクリ
ーン印刷法では、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成
材料層の表面に転写されることがあり、このような膜形
成材料層を焼成して形成される誘電体層は、表面の平滑
性に劣るものとなる。
However, when the film forming material layer is formed by multiple printing using a screen printing method,
The dielectric layer formed by firing the film forming material layer does not have a uniform thickness (for example, the tolerance is within ± 5%). This is due to the multiple printing by the screen printing method,
This is because it is difficult to uniformly apply the glass paste composition to the surface of the glass substrate, and the larger the application area (panel size) and the greater the number of applications, the greater the degree of variation in the thickness of the dielectric layer. Will be large. Then, in the panel material (glass substrate having the dielectric layer) obtained through the coating process by the multiple printing, the dielectric characteristics vary in the plane due to the variation in the film thickness, and the dielectric characteristics vary. Causes display defects (luminance unevenness) in the PDP. Further, in the screen printing method, the mesh shape of the screen plate may be transferred to the surface of the film forming material layer, and the dielectric layer formed by firing such a film forming material layer has a smooth surface. Inferior to

【0008】スクリーン印刷法によって膜形成材料層を
形成する場合における上記のような問題を解決する手段
として、本発明者らは、ガラスペースト組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成
し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極
が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜
形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表
面に誘電体層を形成する工程(以下、「ドライフィルム
法」ともいう。)を含むPDPの製造方法を提案してい
る(特開平9−102273号公報参照)。このような
製造方法によれば、膜厚の均一性および表面の均一性に
優れた誘電体層を形成することができる。
As a means for solving the above-mentioned problems in the case where the film-forming material layer is formed by the screen printing method, the present inventors apply a glass paste composition on a supporting film, and dry the coating film. Forming a film forming material layer on the support film, transferring the film forming material layer formed on the support film to the surface of the glass substrate to which the electrodes are fixed, and baking the transferred film forming material layer to form the glass forming material layer. A method of manufacturing a PDP including a step of forming a dielectric layer on a surface of a substrate (hereinafter, also referred to as a “dry film method”) has been proposed (see JP-A-9-102273). According to such a manufacturing method, it is possible to form a dielectric layer having excellent film thickness uniformity and surface uniformity.

【0009】また、本発明者らは、PDPの誘電体層を
形成するために好適に用いることができる転写フィルム
として、支持フィルムと、ガラスペースト組成物から得
られる膜形成材料層と、この膜形成材料層の表面に剥離
容易に設けられたカバーフィルムとを積層してなる複合
フィルムについても提案している(特願平9−1016
53号明細書参照)。このような構成の複合フィルム
(転写フィルム)は、これをロール状に巻き取って保存
することができる点でも有利である。
Further, the present inventors have proposed a support film, a film-forming material layer obtained from a glass paste composition, and a film-forming material layer, which can be suitably used for forming a dielectric layer of PDP. A composite film formed by laminating a cover film easily provided on the surface of a forming material layer has also been proposed (Japanese Patent Application No. 9-1016).
No. 53). The composite film (transfer film) having such a configuration is also advantageous in that it can be wound into a roll and stored.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】バス電極の構成材料と
して銀を用いる場合、当該バス電極を被覆する誘電体層
の形成工程において、ガラス基板上に形成した膜形成材
料層を焼成する際に、バス電極の構成材料である銀(A
g)が酸化されて銀イオン(Ag+ )になる。この銀イ
オンは拡散性(イオンマイグレーション)が高く、誘電
体層の膜形成材料層内を拡散する。膜形成材料層内に拡
散された銀イオン(Ag+ )は、燃焼樹脂(除去される
過程の結着樹脂)、基板の表面に微量に存在する錫によ
って還元されて銀(Ag)となり、膜形成材料層の内部
またはガラス基板表面(ガラス基板と膜形成材料層との
境界面)において析出し、析出した銀(Ag)は凝集し
てコロイド状となる。そして、この凝集コロイドは黄色
の発色ポイントとなり、結果として、パネル材料(誘電
体層を有するガラス基板)が黄色味を帯びるという現象
(以下、「黄変」という)が発生する。ここに、パネル
材料における黄変現象の程度、すなわち、誘電体層内に
おける銀の凝集コロイドの発生量は、焼成工程における
膜形成材料層の流動性(脱泡性)が高い程大きくなる。
In the case where silver is used as a constituent material of a bus electrode, in the step of forming a dielectric layer covering the bus electrode, when a film forming material layer formed on a glass substrate is fired, Silver (A) which is a constituent material of the bus electrode
g) is oxidized to silver ions (Ag + ). The silver ions have high diffusivity (ion migration) and diffuse in the film forming material layer of the dielectric layer. The silver ions (Ag + ) diffused into the film-forming material layer are reduced by a combustion resin (a binder resin in a process of being removed) and a small amount of tin existing on the surface of the substrate to become silver (Ag), thereby forming a film. The silver (Ag) precipitates in the inside of the forming material layer or on the surface of the glass substrate (the boundary surface between the glass substrate and the film forming material layer), and the precipitated silver (Ag) aggregates and becomes colloidal. Then, the aggregated colloid becomes a yellow coloring point, and as a result, a phenomenon (hereinafter, referred to as “yellowing”) that the panel material (glass substrate having a dielectric layer) becomes yellowish occurs. Here, the degree of the yellowing phenomenon in the panel material, that is, the generation amount of the aggregated silver colloid in the dielectric layer increases as the fluidity (defoaming property) of the film forming material layer in the firing step increases.

【0011】本発明は以上のような事情に基いてなされ
たものである。本発明の第1の目的は、ガラス粉末およ
び結着樹脂を含有してなるガラスペースト組成物であっ
て、PDPを構成する誘電体層の形成に供されたとき
に、前記ガラスペースト組成物から得られる膜形成材料
層内に銀イオン(Ag+ )が拡散されていても、これを
焼成して形成される誘電体層内において銀(Ag)の凝
集コロイドを発生させないガラスペースト組成物を提供
することにある。本発明の第2の目的は、PDPを構成
する誘電体層の形成に供されたときに、銀よりなるバス
電極を被覆する誘電体層として、黄変がなく、かつ、光
透過率の高いガラス焼結体を形成することができるガラ
スペースト組成物を提供することにある。
The present invention has been made based on the above circumstances. A first object of the present invention is a glass paste composition containing a glass powder and a binder resin, and when used for forming a dielectric layer constituting a PDP, the glass paste composition comprises Provided is a glass paste composition that does not generate aggregated colloid of silver (Ag) in a dielectric layer formed by baking silver ions (Ag + ) even if silver ions (Ag + ) are diffused in the obtained film forming material layer. Is to do. A second object of the present invention is to provide a dielectric layer which covers a bus electrode made of silver when used for forming a dielectric layer constituting a PDP without yellowing and having a high light transmittance. An object of the present invention is to provide a glass paste composition capable of forming a glass sintered body.

【0012】本発明の第3の目的は、PDPを構成する
誘電体層の形成に供されたときに、銀よりなるバス電極
を被覆する誘電体層として、無色透明性に優れたガラス
焼結体を効率的に形成することができる転写フィルムを
提供することにある。
A third object of the present invention is to provide a glass layer having excellent colorless and transparent properties as a dielectric layer covering a bus electrode made of silver when used for forming a dielectric layer constituting a PDP. An object of the present invention is to provide a transfer film capable of efficiently forming a body.

【0013】本発明の第4の目的は、銀よりなるバス電
極を被覆する誘電体層として、無色透明性に優れたガラ
ス焼結体を効率的に形成することができるPDPの製造
方法を提供することにある。
A fourth object of the present invention is to provide a method of manufacturing a PDP capable of efficiently forming a colorless and transparent glass sintered body as a dielectric layer for covering a bus electrode made of silver. Is to do.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明のガラスペースト
組成物は、ガラス粉末、結着樹脂並びに標準単極電位が
0.8Vを超える金属の単体および/または化合物を含
有することを特徴とする。
The glass paste composition of the present invention is characterized by containing a glass powder, a binder resin and a simple substance and / or a compound of a metal having a standard unipolar potential exceeding 0.8 V. .

【0015】本発明の転写フィルムは、前記ガラスペー
スト組成物から得られる膜形成材料層が支持フィルム上
に形成されていことを特徴とする。
[0015] The transfer film of the present invention is characterized in that a film-forming material layer obtained from the glass paste composition is formed on a support film.

【0016】本発明のPDPの製造方法は、前記ガラス
ペースト組成物から得られる膜形成材料層を焼成するこ
とにより、基板上に誘電体層を形成する工程を含むこと
を特徴とする。
The method of manufacturing a PDP according to the present invention is characterized by including a step of forming a dielectric layer on a substrate by firing a film-forming material layer obtained from the glass paste composition.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明のガラスペースト組
成物について詳細に説明する。本発明の組成物は、ガラ
ス粉末、結着樹脂、および標準単極電位が0.8Vを超
える金属の単体および当該金属を含む化合物の少なくと
も1種を必須成分として含有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the glass paste composition of the present invention will be described in detail. The composition of the present invention contains, as essential components, at least one of a glass powder, a binder resin, a simple substance of a metal having a standard unipolar potential of more than 0.8 V, and a compound containing the metal.

【0018】<ガラス粉末>本発明の組成物を構成する
ガラス粉末としては、特に限定されるものではないが、
その軟化点が400〜600℃の範囲内にあるものが好
ましい。ガラス粉末の軟化点が400℃未満である場合
には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程におい
て、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない
段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘
電体層内に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体
層が着色されて、その透明性(高い透過率)が低下する
傾向がある。一方、ガラス粉末の軟化点が600℃を超
える場合には、600℃より高温で焼成する必要がある
ために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。好適な
ガラス粉末の具体例としては、 酸化鉛、酸化ホウ
素、酸化ケイ素(PbO−B2 3 −SiO2 系)の混
合物、 酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素(ZnO
−B2 3 −SiO2 系)の混合物、 酸化鉛、酸化
ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム(PbO−B2
3 −SiO2 −Al2 3 系)の混合物、 酸化
鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素(PbO−Zn
O−B 2 3 −SiO2 系)の混合物などを例示するこ
とができる。
<Glass powder> Constituting the composition of the present invention
The glass powder is not particularly limited,
Those having a softening point in the range of 400 to 600 ° C are preferred.
Good. When the softening point of the glass powder is less than 400 ° C
In the firing step of the film forming material layer by the composition,
And organic substances such as binder resin are not completely decomposed and removed
Since the glass powder melts at the stage,
Some of the organic material remains in the dielectric layer,
The layer is colored and its transparency (high transmittance) decreases
Tend. On the other hand, the softening point of the glass powder exceeds 600 ° C.
If necessary, it is necessary to bake at a temperature higher than 600 ° C
Therefore, distortion or the like is likely to occur in the glass substrate. Suitable
Specific examples of the glass powder include lead oxide and borate oxide.
Element, silicon oxide (PbO-BTwoOThree-SiOTwoSystem)
Compound, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (ZnO
-BTwoOThree-SiOTwoMixture), lead oxide, oxidation
Boron, silicon oxide, aluminum oxide (PbO-BTwo
OThree-SiOTwo-AlTwoOThreeMixture), oxidation
Lead, zinc oxide, boron oxide, silicon oxide (PbO-Zn
OB TwoOThree-SiOTwoSystem).
Can be.

【0019】<結着樹脂>本発明の組成物を構成する結
着樹脂はアクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂
としてアクリル樹脂が含有されていることにより、形成
される膜形成材料層には、基板に対する優れた(加熱)
接着性が発揮される。従って、本発明の組成物を支持フ
ィルム上に塗布して転写フィルムを製造する場合におい
て、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性
(基板への加熱接着性)に優れたものとなる。本発明の
組成物を構成するアクリル樹脂としては、適度な粘着性
を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成材
料の焼成処理(400℃〜600℃)によって完全に酸
化除去される(共)重合体の中から選択される。かかる
アクリル樹脂には、下記一般式(i)で表される(メ
タ)アクリレート化合物の単独重合体、下記一般式
(i)で表される(メタ)アクリレート化合物の2種以
上の共重合体、および下記一般式(i)で表される(メ
タ)アクリレート化合物と共重合性単量体との共重合体
が含まれる。
<Binder Resin> The binder resin constituting the composition of the present invention is preferably an acrylic resin. Since the acrylic resin is contained as the binder resin, the formed film forming material layer has an excellent (heating) property with respect to the substrate.
Adhesiveness is exhibited. Therefore, when a transfer film is produced by applying the composition of the present invention onto a support film, the resulting transfer film has excellent transferability (heat adhesion to a substrate) of the film-forming material layer. . As the acrylic resin constituting the composition of the present invention, glass powder having an appropriate tackiness can be bound, and is completely oxidized and removed by the baking treatment (400 ° C. to 600 ° C.) of the film forming material. (Co) polymers. Such acrylic resin includes a homopolymer of a (meth) acrylate compound represented by the following general formula (i), a copolymer of two or more (meth) acrylate compounds represented by the following general formula (i), And a copolymer of a (meth) acrylate compound represented by the following general formula (i) and a copolymerizable monomer.

【0020】[0020]

【化1】 Embedded image

【0021】〔式中、R1 は水素原子またはメチル基を
示し、R2 は1価の有機基を示す。〕
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a monovalent organic group. ]

【0022】上記一般式(i)で表される(メタ)アク
リレート化合物の具体例としては、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)
アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペン
チル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレー
ト、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メ
タ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オ
クチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)ア
クリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノ
ニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレー
ト、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メ
タ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラ
ウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アク
リレート、イソステアリル(メタ)アクリレートなどの
アルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート;フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メ
タ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2
−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシブチル
(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メ
タ)アクリレート;ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポ
リプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニル
フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレ
ートなどのポリアルキレングリコール(メタ)アクリレ
ート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチ
ルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
タニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)ア
クリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メ
タ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリ
レート;ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレートなどを挙げることがで
きる。これらのうち、上記一般式(i)中、R1 で示さ
れる基が、アルキル基またはオキシアルキレン基を含有
する基であることが好ましく、特に好ましい(メタ)ア
クリレート化合物として、ブチル(メタ)アクリレー
ト、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル
(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレー
トおよび2−エトキシエチル(メタ)アクリレートを挙
げることができる。他の共重合性単量体としては、上記
(メタ)アクリレート化合物と共重合可能な化合物なら
ば特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリル酸、ビ
ニル安息香酸、マイレン酸、ビニルフタル酸などの不飽
和カルボン酸類;ビニルベンジルメチルエーテル、ビニ
ルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有ラジカ
ル重合性化合物が挙げられる。本発明の組成物を構成す
るアクリル樹脂における、上記一般式(i)で表される
(メタ)アクリレート化合物由来の共重合成分は、通常
70重量%以上、好ましくは90重量%以上、さらに好
ましくは100重量%である。ここに、好ましいアクリ
ル樹脂の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、
ポリブチルメタクリレート、メチルメタクリレート−ブ
チルメタクリレート共重合体などを例示することができ
る。本発明の組成物を構成するアクリル樹脂の分子量と
しては、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子
量(以下、単に「重量平均分子量」ともいう)として
4,000〜300,000であることが好ましく、さ
らに好ましくは10,000〜200,000とされ
る。本発明の組成物における結着樹脂の含有割合として
は、ガラス粉末100重量部に対して、5〜40重量部
であることが好ましく、さらに好ましくは10〜30重
量部とされる。結着樹脂の割合が過小である場合には、
ガラス粉末を確実に結着保持することができず、一方、
この割合が過大である場合には、焼成工程に長い時間を
要したり、形成されるガラス焼結体(誘電体層)が十分
な強度や膜厚を有するものとならなかったりする。
Specific examples of the (meth) acrylate compound represented by the general formula (i) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl ( (Meth) acrylate, isobutyl (meth)
Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) Acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, Alkyl (meth) acrylates such as isostearyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, Rokishipuropiru (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3
Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as -hydroxybutyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth)
Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2
-Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as propoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate and 2-methoxybutyl (meth) acrylate; polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxy Polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy Polyalkylenes such as polypropylene glycol (meth) acrylate Recol (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, bornyl ( Examples thereof include cycloalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tricyclodecanyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate. Among them, in the above general formula (i), the group represented by R 1 is preferably an alkyl group or an oxyalkylene group-containing group, and as a particularly preferred (meth) acrylate compound, butyl (meth) acrylate , Ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate. The other copolymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a compound copolymerizable with the above (meth) acrylate compound. For example, (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, vinyl phthalic acid, etc. Unsaturated carboxylic acids; and vinyl group-containing radically polymerizable compounds such as vinylbenzyl methyl ether, vinyl glycidyl ether, styrene, α-methylstyrene, butadiene, and isoprene. In the acrylic resin constituting the composition of the present invention, the copolymer component derived from the (meth) acrylate compound represented by the general formula (i) is usually 70% by weight or more, preferably 90% by weight or more, more preferably 100% by weight. Here, specific examples of preferred acrylic resins include polymethyl methacrylate,
Examples thereof include polybutyl methacrylate and methyl methacrylate-butyl methacrylate copolymer. The molecular weight of the acrylic resin constituting the composition of the present invention is preferably from 4,000 to 300,000 as a weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC (hereinafter, also simply referred to as “weight average molecular weight”). Preferably it is set to 10,000 to 200,000. The content of the binder resin in the composition of the present invention is preferably 5 to 40 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the glass powder. If the ratio of the binder resin is too small,
Glass powder cannot be bound and held reliably, while
If this ratio is excessively large, a long time is required for the firing step, and the formed glass sintered body (dielectric layer) may not have sufficient strength and film thickness.

【0023】<特定無機酸化剤>本発明の組成物は、標
準単極電位が0.8Vを超える金属の単体および/また
は化合物(以下、「特定無機酸化剤」という)が含有さ
れている点に特徴を有している。なお、この明細書にお
いて、『標準単極電位』とは、水素を基準とする標準単
極電位、すなわち、標準水素電極を標準電極に用いたと
きの金属電極の標準起電力を水素電極尺度によって示し
たものをいう。ここに、銀の標準単極電位(Ag+ +e
- =Ag)は0.8Vであり、標準単極電位が0.8V
を超える金属は、銀よりもイオン化傾向が低く、銀イオ
ン(Ag+ )に対して酸化剤として作用する。従って、
そのような金属を含む特定無機酸化剤を含有してなる本
発明の組成物によれば、これにより形成される膜形成材
料層の焼成工程において、当該膜形成材料層内における
銀イオンの還元反応(Ag+ +e- →Ag)を抑制する
ことができ、最終的に得られる誘電体層において、銀の
凝集コロイドに起因する黄変を発生させることはない。
しかも、特定無機酸化剤による機能(銀イオンの還元反
応の抑制機能)は、後述する好適な焼成温度条件におい
ても十分に発現させることができる。
<Specific Inorganic Oxidant> The composition of the present invention contains a simple substance and / or compound of a metal having a standard unipolar potential exceeding 0.8 V (hereinafter, referred to as “specific inorganic oxidant”). It has features. In this specification, the "standard monopolar potential" is a standard monopolar potential based on hydrogen, that is, the standard electromotive force of a metal electrode when a standard hydrogen electrode is used as a standard electrode is represented by a hydrogen electrode scale. Refers to what is shown. Here, the silver of the standard single electrode potential (Ag + + e
- = Ag) is 0.8 V, the standard unipolar potential is 0.8 V
Metals have a lower ionization tendency than silver and act as oxidizing agents for silver ions (Ag + ). Therefore,
According to the composition of the present invention containing the specific inorganic oxidizing agent containing such a metal, a reduction reaction of silver ions in the film forming material layer in the firing step of the film forming material layer formed thereby. (Ag + + e → Ag) can be suppressed, and in the finally obtained dielectric layer, yellowing due to the aggregated colloid of silver does not occur.
Moreover, the function of the specific inorganic oxidizing agent (the function of suppressing the reduction reaction of silver ions) can be sufficiently exerted even under suitable firing temperature conditions described later.

【0024】本発明の組成物を構成する特定無機酸化剤
としては、セリウム、マンガン、金、プラチナなどの単
体、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物などを挙げること
ができる。これらのうち、酸化セリウム(IV)、フッ化
セリウム(IV)に代表されるセリウムの酸化物、水酸化
物、ハロゲン化物、酸化マンガン(IV)に代表されるマ
ンガンの酸化物、水酸化物、ハロゲン化物が好ましく、
特に好ましくは、酸化セリウム(IV)などに代表される
セリウムの酸化物、水酸化物、ハロゲン化物である。
Specific inorganic oxidizing agents constituting the composition of the present invention include simple substances such as cerium, manganese, gold and platinum, oxides, hydroxides and halides. Among these, cerium oxides, hydroxides, halides represented by cerium (IV) oxide and cerium (IV) fluoride, manganese oxides represented by manganese oxide (IV), hydroxides, Halides are preferred,
Particularly preferred are cerium oxides, hydroxides and halides represented by cerium (IV) oxide and the like.

【0025】本発明の組成物における特定無機酸化剤の
含有割合としては、ガラス粉末100重量部に対して
0.1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ま
しくは0.5〜3重量部とされる。特定無機酸化剤の含
有割合が過小である場合には、バス電極を被覆する誘電
体層(パネル材料)の黄変を十分に防止することができ
ない。一方、この含有割合が過大である場合には、特定
無機酸化剤そのものの色によりパネル材料が着色される
ことがある。
The content ratio of the specific inorganic oxidizing agent in the composition of the present invention is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the glass powder. It is said. If the content ratio of the specific inorganic oxidizing agent is too small, yellowing of the dielectric layer (panel material) covering the bus electrode cannot be sufficiently prevented. On the other hand, when this content ratio is excessive, the panel material may be colored by the color of the specific inorganic oxidizing agent itself.

【0026】特定無機酸化剤を含有させてガラスペース
ト組成物を調製する方法としては、 ガラス粉末と結着樹脂と特定無機酸化剤と溶剤とを
混練してペースト化する方法、 ガラス粉末の構成成
分中に特定無機酸化剤を導入し、得られるガラス原料を
常法によりガラス化した後、これを粉砕することによ
り、特定無機酸化剤を含有するガラス粉体を得、当該ガ
ラス粉体と結着樹脂と溶剤とを混練してペースト化する
方法を挙げることができる。
As a method of preparing a glass paste composition by containing a specific inorganic oxidizing agent, a method of kneading a glass powder, a binder resin, a specific inorganic oxidizing agent, and a solvent to form a paste, a component of the glass powder A specific inorganic oxidizing agent is introduced therein, and the obtained glass raw material is vitrified by an ordinary method, and then crushed to obtain a glass powder containing the specific inorganic oxidizing agent, and bound to the glass powder. A method of kneading a resin and a solvent to form a paste can be used.

【0027】<溶剤>本発明の組成物には、通常、溶剤
が含有される。上記溶剤としては、ガラス粉末との親和
性、結着樹脂の溶解性が良好で、得られる組成物に適度
な粘性を付与することができ、乾燥されることによって
容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。かか
る溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチ
ルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどの
ケトン類;n−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタ
ノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールな
どのアルコール類;エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテルなどのエーテル系アルコール類;酢酸−n−
ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸ア
ルキルエステル類;乳酸エチル、乳酸−n−ブチルなど
の乳酸エステル類;メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピ
オネートなどのエーテル系エステル類などを例示するこ
とができ、これらは、単独でまたは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。本発明の組成物における溶
剤の含有割合としては、組成物の粘度を好適な範囲に維
持する観点から、ガラス粉末100重量部に対して、4
0重量部以下であることが好ましく、さらに好ましくは
5〜30重量部とされる。
<Solvent> The composition of the present invention usually contains a solvent. As the above-mentioned solvent, an affinity with glass powder, good solubility of a binder resin, can impart a suitable viscosity to the obtained composition, and can be easily evaporated and removed by drying. Is preferred. Specific examples of such a solvent include ketones such as diethyl ketone, methyl butyl ketone, dipropyl ketone and cyclohexanone; alcohols such as n-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, cyclohexanol and diacetone alcohol; Ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; acetic acid-n-
Alkyl esters of saturated aliphatic monocarboxylic acids such as butyl and amyl acetate; lactates such as ethyl lactate and n-butyl lactate; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and ethyl-3-ethoxypro Examples include ether-based esters such as pionate, and these can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of maintaining the viscosity of the composition in a suitable range, the content of the solvent in the composition of the present invention is preferably 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the glass powder.
It is preferably 0 parts by weight or less, more preferably 5 to 30 parts by weight.

【0028】本発明の組成物には、上記の必須成分のほ
かに、分散剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤、安定
剤、消泡剤などの各種添加剤が任意成分として含有され
ていてもよい。ガラスペースト組成物の一例として、好
ましい誘電体層形成用の組成物の例を示せば、ガラス粉
末として、酸化鉛50〜80重量%、酸化ホウ素5〜2
0重量%、酸化ケイ素10〜30重量%からなる混合物
100重量部と、ポリブチルメタクリレート(アクリル
樹脂)10〜30重量部と、特定無機酸化剤0.5〜3
重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル
(溶剤)10〜50重量部とを必須成分として含有する
組成物を挙げることができる。
In the composition of the present invention, in addition to the above essential components, various additives such as a dispersant, a tackifier, a surface tension regulator, a stabilizer and an antifoaming agent are contained as optional components. You may. As an example of a glass paste composition, a preferred example of a composition for forming a dielectric layer is as follows. As a glass powder, 50 to 80% by weight of lead oxide and 5 to 2% of boron oxide
100 parts by weight of a mixture of 0% by weight and 10 to 30% by weight of silicon oxide, 10 to 30 parts by weight of polybutyl methacrylate (acrylic resin), and 0.5 to 3 of a specific inorganic oxidizing agent
A composition containing, as essential components, 10 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (solvent) and 10 to 50 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (solvent) can be given.

【0029】本発明の組成物は、上記ガラス粉末、結着
樹脂、特定無機酸化剤および溶剤並びに任意成分を、ロ
ール混練機、ミキサー、ホモミキサーなどの混練機を用
いて混練することにより調製することができる。上記の
ようにして調製される本発明の組成物は、塗布に適した
流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度
は、通常1,000〜30,000cpとされ、好まし
くは3,000〜10,000cpとされる。
The composition of the present invention is prepared by kneading the above-mentioned glass powder, binder resin, specific inorganic oxidizing agent, solvent and optional components using a kneader such as a roll kneader, a mixer or a homomixer. be able to. The composition of the present invention prepared as described above is a paste-like composition having fluidity suitable for application, and has a viscosity of usually 1,000 to 30,000 cp, preferably 3,0 cp. 000 to 10,000 cp.

【0030】本発明の組成物は、以下に詳述する転写フ
ィルム(本発明の転写フィルム)を製造するために特に
好適に使用することができる。また、本発明の組成物
は、従来において公知の膜形成材料層の形成方法、すな
わち、スクリーン印刷法などによって当該組成物を基板
の表面に直接塗布し、塗膜を乾燥することにより膜形成
材料層を形成する方法にも好適に使用することができ
る。
The composition of the present invention can be particularly preferably used for producing a transfer film (transfer film of the present invention) described in detail below. Further, the composition of the present invention is obtained by directly applying the composition to the surface of a substrate by a conventionally known method for forming a film-forming material layer, that is, a screen printing method, and drying the coating film. It can also be suitably used for a method of forming a layer.

【0031】<転写フィルム>本発明の転写フィルム
は、PDPを構成する誘電体層の形成工程に好適に使用
される複合フィルムであって、本発明の組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、塗膜を乾燥することにより形成され
る膜形成材料層を備えてなる。すなわち、本発明の転写
フィルムは、ガラス粉末、結着樹脂および特定無機酸化
剤を含有する膜形成材料層が支持フィルム上に形成され
て構成されている。
<Transfer Film> The transfer film of the present invention is a composite film suitably used in the step of forming a dielectric layer constituting a PDP, and the composition of the present invention is applied on a support film, It is provided with a film forming material layer formed by drying the film. That is, the transfer film of the present invention is formed by forming a film-forming material layer containing glass powder, a binder resin and a specific inorganic oxidizing agent on a support film.

【0032】(1)転写フィルムの構成:図2(イ)
は、ロール状に巻回された本発明の転写フィルムを示す
概略断面図であり、同図(ロ)は、当該転写フィルムの
層構成を示す断面図〔(X)の部分詳細図〕である。図
2に示す転写フィルムは、本発明の転写フィルムの一例
として、PDPを構成する誘電体層を形成するために使
用される複合フィルムであって、通常、支持フィルムF
1と、この支持フィルムF1の表面に剥離可能に形成さ
れた膜形成材料層F2と、この膜形成材料層F2の表面
に剥離容易に設けられたカバーフィルムF3とにより構
成されている。カバーフィルムF3は、膜形成材料層F
2の性質によってや、転写フィルムを巻回したロールの
重量を削減させる目的から使用されない場合もある。
(1) Structure of transfer film: FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer film of the present invention wound in a roll shape, and FIG. 1 (b) is a cross-sectional view (partial detailed view of (X)) showing a layer configuration of the transfer film. . The transfer film shown in FIG. 2 is a composite film used for forming a dielectric layer constituting a PDP as an example of the transfer film of the present invention.
1, a film-forming material layer F2 formed releasably on the surface of the support film F1, and a cover film F3 easily provided on the surface of the film-forming material layer F2. The cover film F3 is formed of the film forming material layer F
Depending on the nature of 2, the transfer film may not be used for the purpose of reducing the weight of the wound roll.

【0033】転写フィルムを構成する支持フィルムF1
は、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有
する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルム
F1が可撓性を有することにより、ロールコーター、ブ
レードコーターなどを用いてペースト状の組成物(本発
明の組成物)を塗布することができ、これにより、膜厚
の均一な膜形成材料層を形成することができるととも
に、形成された膜形成材料層をロール状に巻回した状態
で保存し、供給することができる。支持フィルムF1を
形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポ
リ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹
脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
支持フィルムF1の厚さとしては、例えば20〜100
μmとされる。
Support film F1 constituting transfer film
Is preferably a resin film having heat resistance and solvent resistance and having flexibility. Since the support film F1 has flexibility, a paste-like composition (the composition of the present invention) can be applied using a roll coater, a blade coater, or the like, and thereby, a film having a uniform thickness can be formed. The material layer can be formed, and the formed film-forming material layer can be stored and supplied in a state wound in a roll. Examples of the resin forming the support film F1 include polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene,
Examples thereof include fluorine-containing resins such as polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, and polyfluoroethylene, nylon, and cellulose.
The thickness of the support film F1 is, for example, 20 to 100.
μm.

【0034】転写フィルムを構成する膜形成材料層F2
は、焼成されることによってガラス焼結体(誘電体層)
となる層であり、ガラス粉末、結着樹脂および特定無機
酸化剤が必須成分として含有されている。膜形成材料層
F2の厚さとしては、ガラス粉末の含有率、パネルの種
類やサイズなどによっても異なるが、例えば5〜200
μmとされ、好ましくは10〜100μmとされる。こ
の厚さが5μm未満である場合には、最終的に形成され
る誘電体層の膜厚が過小なものとなり、所期の誘電特性
を確保することができないことがある。通常、この厚さ
が10〜100μmであれば、大型のパネルに要求され
る誘電体層の膜厚を十分に確保することもができる。
Film forming material layer F2 constituting transfer film
Is a glass sintered body (dielectric layer)
And contains glass powder, a binder resin and a specific inorganic oxidizing agent as essential components. The thickness of the film forming material layer F2 varies depending on the content ratio of the glass powder, the type and size of the panel, and is, for example, 5 to 200.
μm, and preferably 10 to 100 μm. If the thickness is less than 5 μm, the thickness of the finally formed dielectric layer becomes too small, and the desired dielectric characteristics may not be secured. Usually, if the thickness is 10 to 100 μm, the thickness of the dielectric layer required for a large panel can be sufficiently ensured.

【0035】転写フィルムを構成するカバーフィルムF
3は、膜形成材料層F2の表面(ガラス基板との接触
面)を保護するためのフィルムである。このカバーフィ
ルムF3も可撓性を有する樹脂フィルムであることが好
ましい。カバーフィルムF3を形成する樹脂としては、
支持フィルムF1を形成するものとして例示した樹脂を
挙げることができる。カバーフィルムF3の厚さとして
は、例えば20〜100μmとされる。
Cover film F constituting transfer film
Reference numeral 3 denotes a film for protecting the surface of the film forming material layer F2 (the contact surface with the glass substrate). This cover film F3 is also preferably a resin film having flexibility. As the resin forming the cover film F3,
The resins exemplified as those forming the support film F1 can be mentioned. The thickness of the cover film F3 is, for example, 20 to 100 μm.

【0036】(2)転写フィルムの製造方法:本発明の
転写フィルムは、支持フィルム(F1)上に膜形成材料
層(F2)を形成し、当該膜形成材料層(F2)上にカ
バーフィルム(F3)を設ける(圧着する)ことにより
製造することができる。
(2) Production method of transfer film: The transfer film of the present invention comprises a film-forming material layer (F2) formed on a support film (F1), and a cover film (F2) formed on the film-forming material layer (F2). It can be manufactured by providing (press bonding) F3).

【0037】膜形成材料層の形成方法としては、ガラス
粉末、結着樹脂、特定無機酸化剤および溶剤を含有する
本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥
して前記溶剤の一部または全部を除去する方法を挙げる
ことができる。
As a method for forming the film-forming material layer, a composition of the present invention containing a glass powder, a binder resin, a specific inorganic oxidizing agent and a solvent is applied on a support film, and the coated film is dried to obtain the solvent. And a method for removing a part or all of the above.

【0038】本発明の組成物を支持フィルム上に塗布す
る方法としては、膜厚が大きく(例えば20μm以
上)、膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成するこ
とができる観点から、ロールコーターによる塗布方法、
ドクターブレードなどのブレードコーターによる塗布方
法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコータ
ーによる塗布方法、ファウンテンコーターによる塗布方
法などを好ましいものとして挙げることができる。特
に、ファウンテンコーターによる塗布方法では、所定量
の塗布液を再循環することなく支持フィルム上に直接コ
ーティングするため、表面平滑性および膜厚均一性に優
れた塗膜が得られる。なお、本発明の組成物が塗布され
る支持フィルムの表面には離型処理が施されていること
が好ましい。これにより、膜形成材料層を転写した後に
おいて、当該膜形成材料層から支持フィルムを容易に剥
離することができる。支持フィルム上に形成された本発
明の組成物による塗膜は、乾燥されることによって溶剤
の一部または全部が除去され、転写フィルムを構成する
膜形成材料層となる。本発明の組成物による塗膜の乾燥
条件としては、例えば40〜150℃で0.1〜30分
間程度とされる。乾燥後における溶剤の残存割合(膜形
成材料層中の溶剤の含有割合)は、通常10重量%以下
とされ、基板に対する粘着性および適度な形状保持性を
膜形成材料層に発揮させる観点から1〜5重量%である
ことが好ましい。
As a method of applying the composition of the present invention on a support film, from the viewpoint of efficiently forming a coating film having a large film thickness (for example, 20 μm or more) and excellent film thickness uniformity, Coating method using a roll coater,
Preferred examples include a coating method using a blade coater such as a doctor blade, a coating method using a curtain coater, a coating method using a wire coater, and a coating method using a fountain coater. In particular, in a coating method using a fountain coater, since a predetermined amount of a coating solution is directly coated on a supporting film without recirculation, a coating film having excellent surface smoothness and uniform film thickness can be obtained. The surface of the support film to which the composition of the present invention is applied is preferably subjected to a release treatment. Thereby, after transferring the film-forming material layer, the support film can be easily peeled from the film-forming material layer. The coating film of the composition of the present invention formed on the supporting film is dried to remove a part or all of the solvent, and becomes a film forming material layer constituting the transfer film. The drying condition of the coating film of the composition of the present invention is, for example, about 40 to 150 ° C. for about 0.1 to 30 minutes. The residual ratio of the solvent after drying (the content ratio of the solvent in the film-forming material layer) is usually 10% by weight or less, and from the viewpoint of exhibiting the adhesion to the substrate and the appropriate shape-retaining property to the film-forming material layer, 1%. It is preferably about 5% by weight.

【0039】上記のようにして形成された膜形成材料層
の上に設けられる(通常、熱圧着される)カバーフィル
ムの表面にも離型処理が施されていることが好ましい。
これにより、膜形成材料層を転写する前に、当該膜形成
材料層からカバーフィルムを容易に剥離することができ
る。
It is preferable that the surface of the cover film (usually thermocompression-bonded) provided on the film-forming material layer formed as described above is also subjected to a release treatment.
Thus, the cover film can be easily peeled from the film forming material layer before transferring the film forming material layer.

【0040】(3)膜形成材料層の転写(転写フィルム
の使用方法):支持フィルム上の膜形成材料層は、基板
の表面に一括転写される。本発明の転写フィルムによれ
ば、このような簡単な操作によって膜形成材料層をガラ
ス基板上に確実に形成することができるので、誘電体層
などのPDPを構成する誘電体層の形成工程における工
程改善(高効率化)を図ることができるとともに、誘電
体層における安定した誘電特性の発現を図ることができ
る。
(3) Transfer of the film-forming material layer (method of using the transfer film): The film-forming material layer on the support film is collectively transferred to the surface of the substrate. According to the transfer film of the present invention, the film-forming material layer can be reliably formed on the glass substrate by such a simple operation, and therefore, in the process of forming the dielectric layer such as the dielectric layer constituting the PDP. The process can be improved (higher efficiency) and stable dielectric characteristics can be exhibited in the dielectric layer.

【0041】<PDPの製造方法(誘電体層の形成)>
本発明の製造方法は、本発明の転写フィルムを構成する
膜形成材料層を基板の表面に転写し、転写された膜形成
材料層を焼成することにより、前記基板の表面に誘電体
層を形成する工程を含む。
<Method of Manufacturing PDP (Formation of Dielectric Layer)>
In the production method of the present invention, a dielectric layer is formed on the surface of the substrate by transferring the film forming material layer constituting the transfer film of the present invention to the surface of the substrate, and firing the transferred film forming material layer. The step of performing

【0042】図2に示したような構成の転写フィルムに
よる膜形成材料層の転写工程の一例を示せば以下のとお
りである。 ロール状に巻回された状態の転写フィルムを基板の
面積に応じた大きさに裁断する。 裁断した転写フィルムにおける膜形成材料層(F
2)の表面からカバーフィルム(F3)を剥離した後、
基板の表面に、膜形成材料層(F2)の表面が当接する
ように転写フィルムを重ね合わせる。 基板に重ね合わされた転写フィルム上に加熱ローラ
を移動させて熱圧着させる。 熱圧着により基板に固定された膜形成材料層(F
2)から支持フィルム(F1)を剥離除去する。 上記のような操作により、支持フィルム(F1)上の膜
形成材料層(F2)が基板上に転写される。ここで、転
写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が60
〜120℃、加熱ローラによるロール圧が1〜5kg/
cm2 、加熱ローラの移動速度が0.2〜10.0m/
分とされる。このような操作(転写工程)は、ラミネー
タ装置により行うことができる。なお、基板は予熱され
ていてもよく、予熱温度としては例えば40〜100℃
とすることができる。
An example of the step of transferring the film forming material layer using the transfer film having the structure shown in FIG. 2 is as follows. The transfer film wound in a roll is cut into a size corresponding to the area of the substrate. The film-forming material layer (F) in the cut transfer film
After peeling the cover film (F3) from the surface of 2),
The transfer film is overlaid so that the surface of the film-forming material layer (F2) is in contact with the surface of the substrate. A heating roller is moved on the transfer film superimposed on the substrate to perform thermocompression bonding. The film-forming material layer (F) fixed to the substrate by thermocompression bonding
The support film (F1) is peeled off from 2). By the operation as described above, the film forming material layer (F2) on the support film (F1) is transferred onto the substrate. Here, as the transfer condition, for example, the surface temperature of the heating roller is 60
~ 120 ° C, roll pressure by heating roller is 1 ~ 5kg /
cm 2 , the moving speed of the heating roller is 0.2 to 10.0 m /
Minutes. Such an operation (transfer step) can be performed by a laminator device. The substrate may be preheated, and the preheating temperature is, for example, 40 to 100 ° C.
It can be.

【0043】基板の表面に転写形成された膜形成材料層
(F2)は焼成されて無機焼結体(誘電体層)となる。
ここに、焼成方法としては、膜形成材料層(F2)が転
写形成された基板を高温雰囲気下に配置する方法を挙げ
ることができる。これにより、膜形成材料層(F2)に
含有されている有機物質(例えば結着樹脂、残留溶剤、
各種の添加剤)が分解されて除去され、ガラス粉末が溶
融して焼結する。ここに、焼成温度としては、基板の溶
融温度、膜形成材料層中の構成物質などによっても異な
るが、例えば300〜800℃とされ、さらに好ましく
は400〜600℃とされる。
The film forming material layer (F2) transferred and formed on the surface of the substrate is baked to become an inorganic sintered body (dielectric layer).
Here, as a firing method, a method in which the substrate on which the film-forming material layer (F2) is transferred and formed is placed in a high-temperature atmosphere can be mentioned. Thereby, the organic substance (for example, binder resin, residual solvent,
Various additives) are decomposed and removed, and the glass powder is melted and sintered. Here, the firing temperature varies depending on the melting temperature of the substrate, the constituents in the film-forming material layer, and the like, but is, for example, 300 to 800 ° C, and more preferably 400 to 600 ° C.

【0044】[0044]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。 <実施例1> (1)ガラスペースト組成物の調製:ガラス粉末とし
て、酸化鉛70重量%、酸化ホウ素10重量%、酸化ケ
イ素20重量%の組成を有するPbO−B2 3 −Si
2 系の混合物(軟化点500℃)100部、結着樹脂
としてポリブチルメタクリレート(重量平均分子量:5
0,000)20部、特定無機酸化剤として酸化セリウ
ム(IV)1部、溶剤としてプロピレングリコールモノメ
チルエーテル20部を分散機を用いて混練することによ
り、粘度が4,000cpである本発明の組成物を調製
した。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The present invention is not limited by these. In the following, “parts” indicates “parts by weight”. Preparation of <Example 1> (1) Glass paste composition: as glass powder, lead oxide 70 wt%, boron oxide 10 wt%, PbO-B 2 O 3 -Si having a composition of silicon oxide 20 wt%
100 parts of an O 2 -based mixture (softening point 500 ° C.), polybutyl methacrylate (weight average molecular weight: 5) as a binder resin
000), 20 parts of cerium (IV) oxide as a specific inorganic oxidizing agent, and 20 parts of propylene glycol monomethyl ether as a solvent by kneading using a dispersing machine to obtain a composition of the present invention having a viscosity of 4,000 cp. Was prepared.

【0045】(2)転写フィルムの製造:上記(1)で
調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチ
レンテレフタレート(PET)よりなる支持フィルム
(幅400mm,長さ30m,厚さ38μm)上にブレ
ードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を100
℃で5分間乾燥することにより溶剤を除去し、これによ
り、厚さ50μmの膜形成材料層を支持フィルム上に形
成した。次いで、当該膜形成材料層上に、予め離型処理
したPETよりなるカバーフィルム(幅400mm,長
さ30m,厚さ25μm)を貼り付けることにより、図
2に示したような構成を有する本発明の転写フィルムを
製造した。
(2) Production of transfer film: A support film (400 mm wide, 30 m long, 38 μm thick) made of polyethylene terephthalate (PET) which has been subjected to a release treatment from the composition of the present invention prepared in the above (1). ) Was applied using a blade coater.
The solvent was removed by drying at 5 ° C. for 5 minutes, whereby a 50 μm thick film forming material layer was formed on the support film. Next, a cover film (width 400 mm, length 30 m, thickness 25 μm) made of PET, which has been subjected to a release treatment in advance, is adhered on the film forming material layer to thereby form the present invention having the configuration shown in FIG. Was manufactured.

【0046】(3)膜形成材料層の転写:上記(2)に
より得られた転写フィルムからカバーフィルムを剥離し
た後、20インチパネル用のガラス基板の表面(銀を構
成材料とするバス電極がパターニングされている基板表
面)に、膜形成材料層の表面が当接されるように、当該
転写フィルム(支持フィルムと膜形成材料層との積層
体)を重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ロールによ
り熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ロール
の表面温度を110℃、ロール圧を3kg/cm、加熱
ロールの移動速度を1m/分とした。熱圧着処理の終了
後、ガラス基板の表面に固定(加熱接着)された膜形成
材料層から支持フィルムを剥離除去し、当該膜形成材料
層の転写を完了した。
(3) Transfer of the film-forming material layer: After the cover film was peeled off from the transfer film obtained in the above (2), the surface of the glass substrate for a 20-inch panel (the bus electrode using silver as a constituent material was The transfer film (laminated body of the support film and the film-forming material layer) is overlapped so that the surface of the film-forming material layer abuts on the patterned substrate surface), and the transfer film is heated by a heating roll. Thermocompression bonded. Here, as the pressure bonding conditions, the surface temperature of the heating roll was 110 ° C., the roll pressure was 3 kg / cm, and the moving speed of the heating roll was 1 m / min. After the completion of the thermocompression bonding, the support film was peeled off from the film forming material layer fixed (heat-bonded) to the surface of the glass substrate, and the transfer of the film forming material layer was completed.

【0047】(4)膜形成材料層の焼成(誘電体層の形
成):上記(3)により膜形成材料層を転写形成したガ
ラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から
10℃/分の昇温速度で590℃まで昇温し、590℃
の温度雰囲気下30分間にわたって焼成処理することに
より、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる誘電
体層を形成した。このようにして得られたパネル材料
(誘電体層を有するガラス基板)には、銀の凝集コロイ
ドに起因する黄変は認められなかった。また、形成され
た誘電体層の光透過率(測定波長550nm)を測定し
たところ85%であり、このパネル材料は、無色透明性
に優れているものであった。
(4) Firing the film-forming material layer (forming a dielectric layer): The glass substrate on which the film-forming material layer was transferred and formed by the above (3) was placed in a firing furnace, and the temperature in the furnace was set to room temperature. To 590 ° C at a rate of 10 ° C / min.
By baking for 30 minutes in the temperature atmosphere, a dielectric layer made of a glass sintered body was formed on the surface of the glass substrate. In the panel material thus obtained (glass substrate having a dielectric layer), yellowing due to the aggregated colloid of silver was not observed. The light transmittance (measurement wavelength: 550 nm) of the formed dielectric layer was measured to be 85%, and this panel material was excellent in colorless transparency.

【0048】<実施例2>酸化鉛70重量%、酸化ホウ
素10重量%、酸化ケイ素20重量%の組成を有する混
合物100部に対して、特定無機酸化剤として酸化セリ
ウム(IV)1部を添加してガラス原料を得た。得られた
ガラス原料を常法によりガラス化した後、これを粉砕す
ることにより、特定無機酸化剤を含有するガラス粉体を
得た。このようにして得られた特定無機酸化剤を含有す
るガラス粉体100部、結着樹脂としてポリブチルメタ
クリレート(重量平均分子量:50,000)20部、
溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル2
0部を分散機を用いて混練することにより、粘度が4,
000cpである本発明の組成物を調製した。次いで、
当該組成物を使用したこと以外は実施例1(2)と同様
にして、本発明の転写フィルムを製造した。このように
して得られた転写フィルムを用いたこと以外は実施例1
(3)と同様にして、20インチパネル用のガラス基板
の表面(銀を構成材料とするバス電極がパターニングさ
れている基板表面)に膜形成材料層を転写し、さらに、
このようにして膜形成材料層を転写形成したガラス基板
を用いたこと以外は実施例1(4)と同様にして焼成処
理することにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体
よりなる誘電体層を形成した。このようにして得られた
パネル材料(誘電体層を有するガラス基板)には、銀の
凝集コロイドに起因する黄変は認められなかった。ま
た、形成された誘電体層の光透過率(測定波長550n
m)を測定したところ85%であり、このパネル材料
は、無色透明性に優れているものであった。
Example 2 One part of cerium (IV) oxide was added as a specific inorganic oxidizing agent to 100 parts of a mixture having a composition of 70% by weight of lead oxide, 10% by weight of boron oxide and 20% by weight of silicon oxide. Thus, a glass raw material was obtained. The obtained glass raw material was vitrified by a conventional method, and then pulverized to obtain a glass powder containing a specific inorganic oxidizing agent. 100 parts of the glass powder containing the specific inorganic oxidizing agent thus obtained, 20 parts of polybutyl methacrylate (weight average molecular weight: 50,000) as a binder resin,
Propylene glycol monomethyl ether 2 as solvent
By kneading 0 parts using a disperser, the viscosity is 4,
A composition of the invention was prepared at 000 cp. Then
A transfer film of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 (2) except that the composition was used. Example 1 except that the transfer film thus obtained was used.
In the same manner as in (3), the film-forming material layer is transferred to the surface of the glass substrate for a 20-inch panel (the surface of the substrate on which the bus electrode made of silver is patterned).
By sintering in the same manner as in Example 1 (4) except that the glass substrate on which the film-forming material layer was transferred and formed in this manner, a dielectric made of a glass sintered body was formed on the surface of the glass substrate. A layer was formed. In the panel material thus obtained (glass substrate having a dielectric layer), yellowing due to the aggregated colloid of silver was not observed. Further, the light transmittance of the formed dielectric layer (measurement wavelength 550n)
m) was 85%, and the panel material was excellent in colorless transparency.

【0049】<比較例1>特定無機酸化剤を使用しなか
ったこと以外は実施例1(1)と同様にして、粘度が
4,000cpである比較用の組成物を調製し、当該組
成物を使用したこと以外は実施例1(2)と同様にして
比較用の転写フィルムを製造した。その後、得られた比
較用の転写フィルムを用いたこと以外は実施例1(3)
と同様にして、20インチパネル用のガラス基板の表面
(銀を構成材料とするバス電極がパターニングされてい
る基板表面)に膜形成材料層を転写し、さらに、このよ
うにして膜形成材料層を転写形成したガラス基板を用い
たこと以外は実施例1(4)と同様にして焼成処理する
ことにより、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりな
る誘電体層を形成した。このようにして得られたパネル
材料(誘電体層を有するガラス基板)は、銀の凝集コロ
イドに起因する黄変が認められ、パネル材料としての品
質が損なわれるものであった。
Comparative Example 1 A comparative composition having a viscosity of 4,000 cp was prepared in the same manner as in Example 1 (1) except that no specific inorganic oxidizing agent was used. A transfer film for comparison was produced in the same manner as in Example 1 (2) except that was used. Thereafter, Example 1 (3) was used except that the obtained transfer film for comparison was used.
In the same manner as described above, the film-forming material layer is transferred to the surface of the glass substrate for a 20-inch panel (the surface of the substrate on which the bus electrode made of silver is patterned). A dielectric layer made of a glass sintered body was formed on the surface of the glass substrate by performing a sintering treatment in the same manner as in Example 1 (4) except that a glass substrate onto which was formed by transfer was used. The panel material thus obtained (glass substrate having a dielectric layer) was found to have yellowing due to the aggregated colloid of silver, impairing the quality of the panel material.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明の組成物をPDPを構成する誘電
体層の形成に供することにより、当該組成物により形成
される膜形成材料層内に銀イオン(Ag+ )が拡散され
ていても、これを焼成してなる誘電体層内において銀
(Ag)の凝集コロイドを発生させることはない。従っ
て、本発明の組成物によれば、銀よりなるバス電極を被
覆する誘電体層として、黄変がなく、かつ、光透過率の
高いガラス焼結体を形成することができる。
By applying the composition of the present invention to the formation of the dielectric layer constituting the PDP, even if silver ions (Ag + ) are diffused in the film forming material layer formed by the composition. No aggregated silver (Ag) colloid is generated in the dielectric layer formed by firing this. Therefore, according to the composition of the present invention, a glass sintered body having no yellowing and high light transmittance can be formed as a dielectric layer covering a bus electrode made of silver.

【0051】本発明の転写フィルムによれば、PDPを
構成する誘電体層の形成に供されたときに、銀よりなる
バス電極を被覆する誘電体層として、無色透明性に優れ
たガラス焼結体を効率的に形成することができる。
According to the transfer film of the present invention, when used for the formation of the dielectric layer constituting the PDP, the dielectric layer for covering the bus electrode made of silver has excellent colorless and transparent glass sintering properties. The body can be formed efficiently.

【0052】本発明の製造方法によれば、銀よりなるバ
ス電極を被覆する誘電体層として、無色透明性に優れた
ガラス焼結体を効率的に形成することができる。
According to the production method of the present invention, a colorless and transparent glass sintered body can be efficiently formed as a dielectric layer for covering a bus electrode made of silver.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形
状を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC type plasma display panel.

【図2】(イ)は、本発明の転写フィルムを示す概略断
面図であり、(ロ)は、当該転写フィルムの層構成を示
す断面図である。
FIG. 2A is a schematic cross-sectional view illustrating a transfer film of the present invention, and FIG. 2B is a cross-sectional view illustrating a layer configuration of the transfer film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 ガラス基板 3 隔壁 4 透明電極 5 バス電極 6 アドレス電極 7 蛍光物質 8 誘電体層 9 誘電体層 P 保護層 F1 支持フィルム F2 膜形成材料層 F3 カバーフィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Glass substrate 3 Partition 4 Transparent electrode 5 Bus electrode 6 Address electrode 7 Fluorescent substance 8 Dielectric layer 9 Dielectric layer P Protective layer F1 Support film F2 Film forming material layer F3 Cover film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 11/02 H01J 11/02 B (72)発明者 高橋 至郎 東京都中央区築地2丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 岡本 健司 東京都中央区築地2丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB11 AB17 4J038 AA011 EA011 HA062 HA066 HA122 HA126 HA212 HA216 HA481 HA486 KA20 PC08 5C027 AA05 5C040 FA01 GD07 GD09 GF18 GF19 JA19 KA03 KA09 KA14 KB03 KB04 KB29 MA10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) H01J 11/02 H01J 11/02 B (72) Inventor Shiro Takahashi 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Within JSR Co., Ltd. (72) Kenji Okamoto 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo F-term within JSR Co., Ltd. (reference) 2H025 AA00 AB11 AB17 4J038 AA011 EA011 HA062 HA066 HA122 HA126 HA212 HA216 HA481 HA486 KA20 PC08 5C027 AA05 5C040 FA01 GD07 GD09 GF18 GF19 JA19 KA03 KA09 KA14 KB03 KB04 KB29 MA10

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス粉末、結着樹脂並びに標準単極電
位が0.8Vを超える金属の単体および/または化合物
が含有されていることを特徴とするガラスペースト組成
物。
1. A glass paste composition comprising a glass powder, a binder resin, and a simple substance and / or compound of a metal having a standard unipolar potential exceeding 0.8 V.
【請求項2】 請求項1記載のガラスペースト組成物か
ら得られる膜形成材料層が支持フィルム上に形成されて
いることを特徴とする転写フィルム。
2. A transfer film, wherein a film-forming material layer obtained from the glass paste composition according to claim 1 is formed on a support film.
【請求項3】 請求項1記載のガラスペースト組成物か
ら得られる膜形成材料層を焼成することにより、基板上
に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
3. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising a step of forming a dielectric layer on a substrate by firing a film forming material layer obtained from the glass paste composition according to claim 1. .
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