JP2000133859A - Laser marking method and device using laser - Google Patents

Laser marking method and device using laser

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JP2000133859A
JP2000133859A JP10306013A JP30601398A JP2000133859A JP 2000133859 A JP2000133859 A JP 2000133859A JP 10306013 A JP10306013 A JP 10306013A JP 30601398 A JP30601398 A JP 30601398A JP 2000133859 A JP2000133859 A JP 2000133859A
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JP
Japan
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laser beam
workpiece
laser
marking
glass substrate
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JP10306013A
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Japanese (ja)
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Kenichi Hayashi
健一 林
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect the surface of a processed member against damages by a method, wherein a laser beam emitted from a laser light source is concentrated on a micro region located inside the processed member to make marking by modifying the micro region irradiated with a laser beam. SOLUTION: A laser beam 10 emitted from a laser source 1 is made to impinge on a beam-forming section 2, the laser beam 10 is shaped by the beam- forming section 2, and the shaped laser beam 11 is changed in the traveling direction by reflecting mirrors 3 and 4 to be caused to impinge on a light- condensing optical system 5. The condensing optical system 5 concentrates a condensed laser beam 12 on a micro region 8 inside a glass substrate 7, and the laser beam 12 is enhanced in energy density in the micro region 8, where it is concentrated to cause absorption due to optically nonlinear phenomenon. Absorption of laser energy cause optical damages to the micro region 8 inside the glass substrate 7 and to modify it, so that marking is made inside the glass substrate 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザを用いたマ
ーキング方法及びマーキング装置に関し、特に被加工部
材の内部にマーキングするマーキング方法及びマーキン
グ装置に関する。
The present invention relates to a marking method and a marking device using a laser, and more particularly to a marking method and a marking device for marking inside a workpiece.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザビームによるアブレーションを利
用して、例えば透明ガラス基板等の被加工部材の表面に
マーキングする方法が知られている。この方法による
と、被加工部材の表面に微細な割れが発生し、その破片
が製造ラインに混入する場合がある。また、マーキング
された位置の近傍に「デブリ」と称される付着物が堆積
するため、この付着物を除去するための洗浄を行う必要
がある。
2. Description of the Related Art There is known a method of marking a surface of a workpiece such as a transparent glass substrate using ablation by a laser beam. According to this method, fine cracks may occur on the surface of the workpiece, and the fragments may be mixed into the production line. Further, since deposits called "debris" are deposited near the marked position, it is necessary to perform cleaning to remove the deposits.

【0003】被加工部材の表面に損傷を与えることな
く、その内部にレーザビームを集光し、被加工部材の内
部にマーキングを行う方法が、特開平3−124486
号公報に開示されている。この方法によると、被加工部
材の表面が損傷を受けないため、微細な割れの発生、及
びデブリの付着を防止できる。
A method of focusing a laser beam inside a workpiece without damaging the surface of the workpiece and marking the interior of the workpiece is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-124486.
No. 6,086,045. According to this method, since the surface of the member to be processed is not damaged, it is possible to prevent generation of minute cracks and adhesion of debris.

【0004】上述の特開平3−124486号公報に開
示された方法によると、被加工部材の表面から0.5〜
2.5mm程度の深さの位置にマーキングを行うことが
できる。
According to the method disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-124486, 0.5-0.5
Marking can be performed at a position having a depth of about 2.5 mm.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本願発明者の実験によ
ると、レーザビームを基板内部に強く集光する場合に
も、内部だけでなく基板表面にダメージを生じる場合が
あった。
According to an experiment conducted by the inventor of the present invention, even when a laser beam is strongly focused on the inside of a substrate, damage may occur not only on the inside but also on the surface of the substrate.

【0006】本発明の目的は、被加工物の内部にマーキ
ングする際に、被加工部材の表面への損傷を防止するこ
とができるマーキング方法及びマーキング装置を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a marking method and a marking apparatus capable of preventing damage to the surface of a workpiece when marking inside a workpiece.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、被加工部材の表面のうちレーザビームが通過する領
域が他の物体と直接触れないように、該被加工部材を保
持する工程と、レーザ光源から出射した前記レーザビー
ムを被加工部材の内部のある微小領域に集光することに
より、前記被加工部材の集光部分を変質させてマーキン
グする工程とを有するマーキング方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, there is provided a step of holding a workpiece so that a region of the surface of the workpiece through which a laser beam passes does not directly touch another object. Converging the laser beam emitted from the laser light source onto a certain small area inside the workpiece to change the condensed portion of the workpiece to perform marking. .

【0008】本発明の他の観点によると、被加工部材の
表面のうちレーザビームが通過する領域が、気体層と触
れるように該被加工部材を保持する工程と、レーザ光源
から出射した前記レーザビームを被加工部材の内部のあ
る微小領域に集光することにより、前記被加工部材の集
光部分を変質させてマーキングする工程とを有するマー
キング方法が提供される。
According to another aspect of the present invention, the step of holding the workpiece so that a region of the surface of the workpiece through which the laser beam passes contacts the gas layer, and the step of emitting the laser emitted from the laser light source. Condensing the beam on a minute area inside the workpiece to change the condensed portion of the workpiece to perform marking.

【0009】本発明の他の観点によると、レーザ光源
と、前記レーザ光源からのレーザビームを、被加工部材
の内部のある微小領域に集光する集光光学系と、被加工
部材の表面のうちレーザビームが通過する領域が他の物
体と直接触れないように該加工部材を保持する保持部材
とを有するマーキング装置が提供される。
According to another aspect of the present invention, a laser light source, a condensing optical system for condensing a laser beam from the laser light source on a small area inside a workpiece, and There is provided a marking device having a holding member for holding the processing member so that a region through which the laser beam passes does not directly touch another object.

【0010】マーキングの際に被加工部材の表面のうち
レーザビームの通過する領域が直接保持部材と接触しな
いので、保持部材に付着している微粒子等が被加工部材
の表面に再付着することを防止できる。このため、微粒
子等とレーザビームとの相互作用による表面の損傷が防
止される。
Since the area of the surface of the workpiece through which the laser beam passes does not directly contact the holding member at the time of marking, it is necessary to prevent fine particles and the like adhering to the holding member from adhering to the surface of the workpiece. Can be prevented. Therefore, damage to the surface due to the interaction between the fine particles and the like and the laser beam is prevented.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本願発明の実施例を説明する前
に、本願発明者の行った予備実験について説明する。レ
ーザビームを基板の内部に集光し、表面に損傷を与える
ことなく内部にのみマーキングしようとしたところ、表
面にも損傷が生ずる場合があった。表面の損傷は、基板
表面に吸着あるいは付着している微粒子等による影響が
大きいと考えられる。この微粒子の影響で、レーザビー
ムが散乱され、基板表面でレーザエネルギ密度がマーキ
ングしきい値を超えると考えられる。このような微粒子
による影響を避けるために、マーキング処理の前に基板
を予め洗浄したとしても、マーキングの際に保持台等か
ら基板に微粒子が付着することが多い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Before describing the embodiments of the present invention, preliminary experiments performed by the present inventors will be described. When a laser beam is focused on the inside of the substrate and an attempt is made to mark only the inside without damaging the surface, the surface may sometimes be damaged. It is considered that the surface damage is greatly affected by fine particles adsorbed or attached to the substrate surface. It is considered that the laser beam is scattered by the influence of the fine particles, and the laser energy density exceeds the marking threshold on the substrate surface. In order to avoid the influence of such fine particles, even if the substrate is washed before the marking process, the fine particles often adhere to the substrate from a holding table or the like during the marking.

【0012】図1は、本発明の第1の実施例によるマー
キング装置の動作原理図を示す。レーザ光源1から、1
本のレーザビーム10が出射する。レーザビーム10
は、ビーム成形部2に入射する。ビーム成形部2は、レ
ーザビーム11のビーム形状やエネルギ分布などを所定
のサイズと形状に成形したり、あるいは複数の本数に分
割したりする光学装置である。ビーム成形部2から出た
レーザビーム11は、反射鏡3、4で方向を変えられ
て、集光光学系5に入射する。
FIG. 1 shows the principle of operation of a marking device according to a first embodiment of the present invention. From laser light source 1 to 1
The laser beam 10 is emitted. Laser beam 10
Enters the beam shaping unit 2. The beam shaping unit 2 is an optical device that shapes the beam shape and energy distribution of the laser beam 11 into a predetermined size and shape, or divides the beam into a plurality of beams. The direction of the laser beam 11 emitted from the beam shaping unit 2 is changed by the reflecting mirrors 3 and 4, and the laser beam 11 enters the focusing optical system 5.

【0013】集光光学系5に対向するように、例えば金
属製の保持台6が配置されている。保持台6の上に被加
工部材であるガラス基板7が載置される。集光光学系5
は、集光されたビーム12を、ガラス基板7の内部の微
小領域に集光する。
A holding table 6 made of, for example, metal is arranged so as to face the condensing optical system 5. A glass substrate 7 as a member to be processed is placed on the holding table 6. Condensing optical system 5
Focuses the focused beam 12 on a minute area inside the glass substrate 7.

【0014】図2(A)にガラス基板7と保持台6を含
む領域の断面図を示す。ガラス基板7の内部の微小領域
8及びその近傍においてレーザビームのエネルギ密度が
高くなる。このレーザビームのエネルギ密度がしきい値
を超えると、光学的非線型現象による吸収が起こると考
えられる。この吸収に基づき、光学的損傷(Optical Dam
age)あるいは光学的絶縁破壊(Optical Breakdown) が生
じ、ガラス基板7の微小領域8が変質し、外部から視認
し得るようなる。
FIG. 2A is a sectional view of a region including the glass substrate 7 and the holding table 6. The energy density of the laser beam is increased in the micro region 8 inside the glass substrate 7 and in the vicinity thereof. When the energy density of the laser beam exceeds the threshold value, it is considered that absorption due to an optical nonlinear phenomenon occurs. Based on this absorption, optical damage (Optical Damage)
age) or an optical breakdown (Optical Breakdown) occurs, and the minute region 8 of the glass substrate 7 is deteriorated and can be visually recognized from the outside.

【0015】このような構成において、反射鏡3及び4
を揺動させて集光点を移動させ、ガラス基板7の内部に
マーキングをすることができる。もちろん、レーザビー
ム12を固定して保持台6を移動させることによって
も、所望の形状のマーキングをすることができる。
In such a configuration, the reflecting mirrors 3 and 4
Can be moved to move the focal point, thereby marking the inside of the glass substrate 7. Of course, it is also possible to perform marking of a desired shape by moving the holding table 6 while fixing the laser beam 12.

【0016】図2(A)に示す第1の実施例では、保持
台6に貫通孔9が設けられている。ガラス基板7を透過
したレーザビームが保持台6の貫通孔9を通過するよう
な構成とされている。従って、ガラス基板7の表面のう
ちレーザビームが通過する領域は、他の物体と直接接触
しておらず、空気層または気体層と触れている。このた
め、保持台6に付着している微粒子がガラス基板7の表
面のうちレーザビームの透過する領域に再付着すること
を防止できる。
In the first embodiment shown in FIG. 2A, a through hole 9 is provided in the holding table 6. The laser beam transmitted through the glass substrate 7 is configured to pass through the through hole 9 of the holding table 6. Therefore, the region of the surface of the glass substrate 7 through which the laser beam passes is not in direct contact with another object, but is in contact with the air layer or the gas layer. For this reason, it is possible to prevent the fine particles adhering to the holding table 6 from re-adhering to the region of the surface of the glass substrate 7 where the laser beam is transmitted.

【0017】図2(B)に示す第2の実施例では、保持
台6とガラス基板7との間にスペーサ13が挟まれてい
る。スペーサ13は、ガラス基板7の表面のうちレーザ
ビームの通過する領域と直接接触しないように配置され
る。従って、ガラス基板7の表面のうちレーザビームの
通過する領域に、保持台6あるいはスペーサ13から微
粒子が付着することを防止できる。このスペーサ13の
材質はガラス基板7よりも柔らかいものが望ましく、例
えば0.2mm厚の高分子フィルムでよい。柔らかいス
ペーサ13を用いることにより、ガラス基板7の裏側に
キズがつきにくくなる。
In the second embodiment shown in FIG. 2B, a spacer 13 is interposed between the holding table 6 and the glass substrate 7. The spacer 13 is arranged so as not to directly contact a region of the surface of the glass substrate 7 through which the laser beam passes. Therefore, it is possible to prevent fine particles from adhering from the holding table 6 or the spacer 13 to a region of the surface of the glass substrate 7 through which the laser beam passes. The material of the spacer 13 is desirably softer than the glass substrate 7, and may be, for example, a polymer film having a thickness of 0.2 mm. The use of the soft spacer 13 makes it difficult for the back side of the glass substrate 7 to be scratched.

【0018】図2(C)に示す第3の実施例では、図2
(A)の構成にさらに、ビーム12を保持台6の下で吸
収してガラス基板7に戻らないようにするための光トラ
ップ15を設けている。
In the third embodiment shown in FIG.
(A) is further provided with an optical trap 15 for absorbing the beam 12 under the holding table 6 so as not to return to the glass substrate 7.

【0019】例えば、反射防止のための黒色塗料を塗布
した載置面上にガラス基板を接触させて載置し、マーキ
ングを行った場合には、ほぼすべての基板について、表
面にクラックが発生した。これに対し、第1〜第3の実
施例のように、ガラス基板の裏面を載置面に接触させな
い場合には、表面にクッラクが発生することはなかっ
た。
For example, when a glass substrate is placed in contact with a mounting surface coated with black paint for antireflection and marking is performed, cracks occur on the surface of almost all substrates. . On the other hand, when the back surface of the glass substrate was not brought into contact with the mounting surface as in the first to third embodiments, cracks did not occur on the front surface.

【0020】次に、本発明のさらに別の実施例を図3〜
図7を参照して説明する。これらの実施例においては、
上述の実施例と同様にガラス基板のような被加工部材の
表面への微粒子の付着を防止すると同時に、被加工部材
の表面におけるレーザビームのエネルギ密度を低くし、
表面損傷の発生を、より効果的に防止することができ
る。
Next, still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. In these examples,
At the same time as preventing the attachment of fine particles to the surface of the workpiece such as a glass substrate as in the above-described embodiment, the energy density of the laser beam on the surface of the workpiece is reduced,
The occurrence of surface damage can be more effectively prevented.

【0021】図3(A)は、本発明の第4の実施例によ
るマーキング装置の概略断面図を示す。図3(B)は第
4の実施例のビーム形状を示す。同図で図1あるいは図
2中の参照番号と同一の参照番号のものは同じ機能要素
を示すので、それらについては説明を省略する。また、
反射鏡3、4については図示を省略してある。
FIG. 3A is a schematic sectional view of a marking device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 3B shows the beam shape of the fourth embodiment. In the same figure, those having the same reference numbers as those in FIG. 1 or FIG. 2 indicate the same functional elements, and therefore the description thereof will be omitted. Also,
The illustration of the reflecting mirrors 3 and 4 is omitted.

【0022】図3(A)において、レーザ光源1から、
1本のレーザビーム10が出射する。レーザビーム10
は、ビーム成形部2に入射する。ビーム成形部2は、レ
ーザビーム10を2つの部分ビーム11Aと11Bとに
分割する。分割された部分ビーム11Aと11Bは、集
光光学系5に入射する。なお、部分ビーム11Aと11
Bとの総エネルギの和が、レーザビーム10のエネルギ
にほぼ等しくなり、エネルギロスの生じないように分割
することが好ましい。
In FIG. 3A, from the laser light source 1,
One laser beam 10 is emitted. Laser beam 10
Enters the beam shaping unit 2. The beam shaping unit 2 splits the laser beam 10 into two partial beams 11A and 11B. The split partial beams 11A and 11B are incident on the condensing optical system 5. Note that the partial beams 11A and 11A
It is preferable to divide the laser beam 10 so that the sum of the total energy and B becomes substantially equal to the energy of the laser beam 10 and no energy loss occurs.

【0023】集光光学系5は、部分ビーム11Aと11
Bとを、被加工部材であるガラス基板7の内部の微小領
域8に集光する。
The condensing optical system 5 includes partial beams 11A and 11A.
B is condensed on a minute region 8 inside a glass substrate 7 which is a member to be processed.

【0024】微小領域8から発生する光が、光検出器2
3により観測される。光検出器23の観測結果が位置調
節手段24に通知される。一般的に、被加工部材7の表
面でアブレーションが生ずると、その内部で光学的損傷
あるいは光学的絶縁破壊が起きている場合に比べて、発
光強度が大きくなるとともに、発光スペクトルも変化す
る。表面でアブレーションが生じている場合には、波長
600nm近傍にピ−クを有する発光スペクトルが得ら
れる。
The light generated from the minute area 8 is detected by the light detector 2
3 observed. The observation result of the photodetector 23 is notified to the position adjusting means 24. Generally, when ablation occurs on the surface of the workpiece 7, the emission intensity increases and the emission spectrum changes as compared with the case where optical damage or optical insulation breakdown occurs inside the workpiece. When ablation occurs on the surface, an emission spectrum having a peak near a wavelength of 600 nm is obtained.

【0025】位置調節手段24は、光検出器23から得
られた発光強度、及びスペクトル情報に基づいて、被加
工部材7の表面でアブレーションが生じないように、集
光光学系5と保持台6とのレーザビームの光軸方向に関
する相対位置を調節する。例えば、波長600nm近傍
の光の強度変化を観測することにより、表面でアブレー
ションが生じていることを検出することができる。この
ようにして、被加工部材(ガラス基板)7の表面に損傷
を与えることなく、その内部にマーキングすることが可
能になる。
The position adjusting means 24 is based on the luminous intensity obtained from the photodetector 23 and the spectrum information, so as to prevent ablation from occurring on the surface of the workpiece 7 so as to prevent the ablation from occurring. The relative position of the laser beam with respect to the optical axis direction is adjusted. For example, by observing a change in the intensity of light near a wavelength of 600 nm, it is possible to detect that ablation has occurred on the surface. In this manner, it is possible to mark the inside of the workpiece (glass substrate) 7 without damaging the surface thereof.

【0026】また、2本の部分ビーム11Aと11Bと
に分割して微小領域8に集光するため、1本のレーザビ
ーム10をそのまま集光する場合に比べて、被加工部材
7の深さ方向に関するレーザビームのエネルギ密度分布
を、より微小な領域に集中させることができる。このた
め、変質する領域の深さ方向の長さを短くすることがで
き、変質領域が被加工部材7の表面まで達することを抑
制することが可能になる。
Further, since the laser beam is divided into two partial beams 11A and 11B and focused on the minute area 8, the depth of the workpiece 7 is smaller than when one laser beam 10 is directly focused. The energy density distribution of the laser beam in the direction can be concentrated on a smaller area. For this reason, the length in the depth direction of the region to be altered can be shortened, and it is possible to prevent the altered region from reaching the surface of the workpiece 7.

【0027】被加工部材7の深さ方向に関して、より微
小な領域にレーザビームを集光させるためには、集光光
学系5の対物レンズとして、なるべく開口数の大きなレ
ンズを用いることが好ましい。
In order to focus the laser beam on a finer area in the depth direction of the workpiece 7, it is preferable to use a lens having a large numerical aperture as the objective lens of the focusing optical system 5.

【0028】なお、使用するレーザビームとしては、被
加工部材7との組み合わせにより適当なものを選択す
る。例えば、石英ガラスにマーキングする場合には、石
英ガラスに対して透明な波長領域、すなわち赤外線領
域、可視光線領域、もしくは紫外線領域の波長を有する
レーザビームを使用することができる。また、一般的な
板ガラスにマーキングする場合には、板ガラスに対して
透明な波長領域、すなわち赤外線領域もしくは可視光線
領域の波長を有するレーザビームを使用することができ
る。また、ガラス以外にも、例えばシリコン基板等にマ
ーキングしたい場合には、シリコン基板に対して透明な
波長領域のレーザビームを用いればよい。
As the laser beam to be used, an appropriate one is selected according to the combination with the workpiece 7. For example, when marking is performed on quartz glass, a laser beam having a wavelength in a wavelength region transparent to quartz glass, that is, an infrared region, a visible light region, or an ultraviolet region can be used. When marking is performed on a general plate glass, a laser beam having a wavelength in a wavelength region transparent to the plate glass, that is, an infrared region or a visible light region can be used. In addition, when marking is to be performed on a silicon substrate or the like other than glass, for example, a laser beam in a wavelength region transparent to the silicon substrate may be used.

【0029】レーザ光源1としては、例えばNd:YA
Gレーザ、Nd:YLFレーザ等の固体レーザ装置を用
いるのが便利であろう。例えば、赤外線領域の波長を有
するレーザビームを出力するNd:YAGレーザ装置を
用いた場合、波長変換器を用いて波長を2倍にすれば可
視光線領域の波長を有するレーザビームを得ることがで
きる。また、4倍波とすれば、紫外線領域の波長を有す
るレーザビームを得ることができる。使用するレーザビ
ームの波長が短くなるほど、マーキングすべき位置の空
間的解像度を高くすることができる。
As the laser light source 1, for example, Nd: YA
It may be convenient to use a solid-state laser device such as a G laser or Nd: YLF laser. For example, when using a Nd: YAG laser device that outputs a laser beam having a wavelength in the infrared region, a laser beam having a wavelength in the visible light region can be obtained by doubling the wavelength using a wavelength converter. . If the fourth harmonic is used, a laser beam having a wavelength in the ultraviolet region can be obtained. The shorter the wavelength of the laser beam used, the higher the spatial resolution of the position to be marked.

【0030】さらに、レーザ光源1として、パルスレー
ザ装置を用いることにより、被加工部材7のマーキング
部近傍の温度上昇を抑制することができる。このため、
温度上昇による悪影響を回避し、マーキングされる深さ
方向の位置を均一に揃えることが可能になる。なお、パ
ルス幅の短いものを使用することが好ましい。これは、
熱的効果の大きさがパルス幅の平方根に比例するためで
ある。具体的には、1ナノ秒以下のパルス幅で発振する
レーザ光源を用いることが好ましい。
Further, by using a pulse laser device as the laser light source 1, it is possible to suppress a temperature rise near the marking portion of the workpiece 7. For this reason,
It is possible to avoid the adverse effect of the temperature rise, and to make the positions in the depth direction to be marked uniform. Note that it is preferable to use one having a short pulse width. this is,
This is because the magnitude of the thermal effect is proportional to the square root of the pulse width. Specifically, it is preferable to use a laser light source that oscillates with a pulse width of 1 nanosecond or less.

【0031】図3(B)は、ビーム成形部2の一構成例
を示す。ビーム成形部2は、断面が2等辺三角形の第1
のプリズム2Aと第2のプリズム2Bを含んで構成され
る。第1及び第2のプリズム2A及び2Bは、相互に等
しい頂角、例えば120°を有し、各々の底面同士が相
互に平行になり、かつ頂点に相当する稜同士が相互に平
行に対向するように配置されている。
FIG. 3B shows an example of the configuration of the beam shaping unit 2. The beam shaping section 2 has a first isosceles triangular section.
And a second prism 2B. The first and second prisms 2A and 2B have an apex angle equal to each other, for example, 120 °, their bottom surfaces are parallel to each other, and ridges corresponding to vertexes are opposed to each other in parallel. Are arranged as follows.

【0032】レーザビーム10が第1のプリズム2Aの
底面に垂直入射する。レーザビーム10の光軸に垂直な
方向に関する光強度分布を曲線10aで示す。中心にお
いて光強度が最大となり、中心から離れるに従って徐々
に低下している。
The laser beam 10 is vertically incident on the bottom surface of the first prism 2A. A light intensity distribution in a direction perpendicular to the optical axis of the laser beam 10 is shown by a curve 10a. The light intensity becomes maximum at the center, and gradually decreases as the distance from the center increases.

【0033】プリズム2Aの1対の斜面から出射するレ
ーザビームは、2つの部分ビーム11Aと11Bとに分
割される。部分ビーム11Aと11Bは、それぞれプリ
ズム2Bの2つの斜面に入射する。プリズム2Bの底面
からは、2本の平行な部分ビーム11Aと11Bが出射
する。
The laser beam emitted from the pair of inclined surfaces of the prism 2A is split into two partial beams 11A and 11B. The partial beams 11A and 11B are respectively incident on two slopes of the prism 2B. From the bottom surface of the prism 2B, two parallel partial beams 11A and 11B are emitted.

【0034】このように、1対の2等辺三角形プリズム
を用いることにより、1本のレーザビーム10を2本の
部分ビーム11Aと11Bとに分割することができる。
なお、図3(B)の場合、レーザビーム10の中心部
が、各部分ビーム11A、11Bの外側に位置し、レー
ザビーム10の周辺部が、各部分ビーム11A、11B
の内側に位置する。このため、各部分ビーム11A、1
1Bの光強度分布は、曲線11Aa、11Baで示すよ
うに、2本の部分ビーム11Aと11Bとの中心から遠
ざかるに従って大きくなる。
As described above, by using a pair of isosceles triangular prisms, one laser beam 10 can be divided into two partial beams 11A and 11B.
In the case of FIG. 3B, the center of the laser beam 10 is located outside each of the partial beams 11A and 11B, and the peripheral portion of the laser beam 10 is located at each of the partial beams 11A and 11B.
Located inside. For this reason, each partial beam 11A, 1
As shown by curves 11Aa and 11Ba, the light intensity distribution of 1B increases as the distance from the center of the two partial beams 11A and 11B increases.

【0035】このように、2本の部分ビーム11Aと1
1Bの外側の光強度の方が、内側の光強度よりも強い。
このため、2本の部分ビームを微小領域に集光させる際
に、光強度がしきい値を超える領域をより小さな領域に
絞り込むことが可能になる。
Thus, the two partial beams 11A and 1A
The light intensity outside 1B is stronger than the light intensity inside.
For this reason, when the two partial beams are focused on the minute area, the area where the light intensity exceeds the threshold value can be narrowed to a smaller area.

【0036】なお、被加工部材7の表面への各部分ビー
ム11A、11Bの入射角がブリュスタ角と等しくなる
ように調節することが好ましい。ブリュスタ角とするこ
とにより、反射による損失を少なくすることができる。
Preferably, the angles of incidence of the partial beams 11A and 11B on the surface of the workpiece 7 are adjusted to be equal to the Brewster angle. By setting the Brewster angle, the loss due to reflection can be reduced.

【0037】次に、図4を参照して、第5の実施例につ
いて説明する。図4(A)に示すように、第5の実施例
においては、ビーム成形部2は1本のビームを出射する
が、その出射ビームの横断面のエネルギ分布を特別な形
状としている。その他の構成は図3(A)の場合と同様
である。
Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 4A, in the fifth embodiment, the beam shaping unit 2 emits one beam, but the energy distribution of the cross section of the emitted beam has a special shape. Other configurations are the same as those in FIG.

【0038】レーザ光源1から出射したレーザビーム1
0の光軸に垂直な方向に関する光強度分布は、曲線10
aで示すように、中心において強く、中心から離れるに
従って弱くなる。
Laser beam 1 emitted from laser light source 1
The light intensity distribution in the direction perpendicular to the optical axis of
As shown by a, it becomes strong at the center and becomes weaker away from the center.

【0039】ビーム成形部2は、レーザビーム10を整
形し、中心において弱く、中心から遠ざかるに従って強
くなるような光強度分布を有するレーザビーム11Cを
出力する。レーザビーム11Cの光強度分布を曲線11
aで示す。
The beam shaping unit 2 shapes the laser beam 10 and outputs a laser beam 11C having a light intensity distribution that is weak at the center and becomes stronger as the distance from the center increases. The light intensity distribution of the laser beam 11C is represented by a curve 11
Indicated by a.

【0040】レーザビーム10をそのまま集光すると、
光軸方向に関して比較的長い領域において、その光軸近
傍の光強度がしきい値を超える。一方、レーザビーム1
1Cのように、その光軸近傍において光強度の弱いビー
ムを集光する場合には、光軸方向に関してより短い領域
でのみしきい値を超えるように制御することが容易にな
る。
When the laser beam 10 is focused as it is,
In a region relatively long in the optical axis direction, the light intensity near the optical axis exceeds the threshold. On the other hand, laser beam 1
In the case where a beam with low light intensity is condensed in the vicinity of the optical axis as in 1C, it is easy to control the threshold value to be exceeded only in a shorter region in the optical axis direction.

【0041】このため、被加工部材( ガラス基板) 7の
厚さ方向に関して、より短い領域にのみマーキングする
ことができ、クラックの表面への到達を抑制することが
可能になる。
For this reason, it is possible to mark only a shorter area in the thickness direction of the workpiece (glass substrate) 7, and it is possible to suppress the crack from reaching the surface.

【0042】被加工部材7の深さ方向に関して、より微
小な領域にレーザビームを集光させるためには、集光光
学系5の対物レンズとして、なるべく開口数の大きなレ
ンズを用いることが好ましい。
In order to focus the laser beam on a finer area in the depth direction of the workpiece 7, it is preferable to use a lens having a large numerical aperture as an objective lens of the focusing optical system 5.

【0043】図4(B)は、第5の実施例で使用するビ
ーム成形部2の一構成例を示す。ビーム成形部2は、第
1の円錐プリズム20Aと第2の円錐プリズム20Bと
を含んで構成される。第1及び第2の円錐プリズム20
Aと20Bとは、相互にその中心軸を共通にし、かつ頂
点同士を対向させるように配置されている。
FIG. 4B shows an example of the configuration of the beam shaping unit 2 used in the fifth embodiment. The beam shaping unit 2 is configured to include a first conical prism 20A and a second conical prism 20B. First and second conical prism 20
A and 20B are arranged so that their central axes are common to each other and their vertices face each other.

【0044】レーザビーム10が、第1の円錐プリズム
20Aの底面に垂直入射する。レーザビーム10の外周
部の光束が第2の円錐プリズム20Bの頂点近傍に入射
するように、第1の円錐プリズム20Aと第2の円錐プ
リズム20Bとの間隔が調整されている。第2の円錐プ
リズム20Bの底面から出射するレーザビーム11Cの
光強度は、その中心近傍において強く、中心から遠ざか
るに従って弱くなる。
The laser beam 10 is perpendicularly incident on the bottom surface of the first conical prism 20A. The distance between the first conical prism 20A and the second conical prism 20B is adjusted so that the light beam at the outer peripheral portion of the laser beam 10 is incident on the vicinity of the vertex of the second conical prism 20B. The light intensity of the laser beam 11C emitted from the bottom surface of the second conical prism 20B is strong near its center and weakens as it goes away from the center.

【0045】このように、1対のプリズムを使用するこ
とにより、中心近傍において弱い光強度分布を有するレ
ーザビームを形成することができる。
As described above, by using a pair of prisms, a laser beam having a weak light intensity distribution near the center can be formed.

【0046】次に、図5を参照して、第6の実施例につ
いて説明する。図5(A)に示すように、第6の実施例
においては、ビーム成形部2は、図4の第5の実施例と
は異なるエネルギ分布特性を有するビームを生成する。
その他の構成は図4(A)の場合と同様である。
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5A, in the sixth embodiment, the beam shaping unit 2 generates a beam having an energy distribution characteristic different from that of the fifth embodiment in FIG.
Other configurations are the same as those in FIG.

【0047】レーザビーム10は、その光軸に垂直な仮
想平面においてほぼ円形となるような断面形状10bを
有する。ビーム成形部2は、レーザビーム10の断面形
状10bを整形し、光軸に垂直な仮想平面上の光照射領
域が円環状となるような断面形状11Dを有するレーザ
ビーム11を出射する。すなわち、レーザビーム11の
中心近傍における光強度がほぼ0になる。なお、レーザ
ビーム11の総エネルギが整形前のレーザビーム10の
総エネルギにほぼ等しくなり、エネルギロスが生じない
ようにすることが好ましい。
The laser beam 10 has a substantially circular cross section 10b on a virtual plane perpendicular to the optical axis. The beam shaping unit 2 shapes the cross-sectional shape 10b of the laser beam 10, and emits a laser beam 11 having a cross-sectional shape 11D such that a light irradiation area on a virtual plane perpendicular to the optical axis becomes annular. That is, the light intensity near the center of the laser beam 11 becomes almost zero. It is preferable that the total energy of the laser beam 11 be substantially equal to the total energy of the laser beam 10 before shaping so that no energy loss occurs.

【0048】このような円環状のビーム断面形状を有す
るレーザビーム11を、被加工部材7内の微小領域8に
集光する。レーザビーム11の中心軸近傍における光強
度の増大を抑制でき、光軸方向に関してより短い領域で
のみしきい値を超えるように制御することが容易にな
る。
The laser beam 11 having such an annular beam cross section is focused on the minute area 8 in the workpiece 7. An increase in light intensity in the vicinity of the center axis of the laser beam 11 can be suppressed, and control can be easily performed so as to exceed the threshold value only in a shorter region in the optical axis direction.

【0049】被加工部材7の深さ方向に関して、より微
小な領域にレーザビームを集光させるためには、集光光
学系5の対物レンズとして、なるべく開口数の大きなレ
ンズを用いることが好ましい。
In order to focus the laser beam on a finer area in the depth direction of the workpiece 7, it is preferable to use a lens having a large numerical aperture as an objective lens of the focusing optical system 5.

【0050】図5(B)は、第6の実施例で使用するビ
ーム成形部2の一構成例を示す。ビーム成形部2は、第
1の円錐プリズム30Aと第2の円錐プリズム30Bと
を含んで構成される。第1及び第2の円錐プリズム30
Aと30Bとは、相互にその中心軸を共通にし、かつ頂
点同士を対向させるように配置されている。
FIG. 5B shows an example of the configuration of the beam shaping unit 2 used in the sixth embodiment. The beam shaping unit 2 is configured to include a first conical prism 30A and a second conical prism 30B. First and second conical prism 30
A and 30B are arranged so that their central axes are common to each other and their vertices face each other.

【0051】図4(B)の場合には、レーザビーム10
の外周部の光束が第2の円錐プリズム20Bの頂点近傍
に入射するように、第1の円錐プリズム20Aと第2の
円錐プリズム20Bとの間隔が調整されていたが、図5
(B)では、第1と第2の円錐プリズムの間隔がより長
くされている。このため、第2の円錐プリズム30Bか
ら出射したレーザビーム11が、円環状の断面形状を有
することになる。このようにして、円形断面を有するレ
ーザビームから円環状断面を有するレーザビームを得る
ことができる。
In the case of FIG. 4B, the laser beam 10
The distance between the first conical prism 20A and the second conical prism 20B has been adjusted so that the light flux on the outer peripheral portion of the second conical prism 20B is incident on the vicinity of the vertex of the second conical prism 20B.
In (B), the interval between the first and second conical prisms is made longer. Therefore, the laser beam 11 emitted from the second conical prism 30B has an annular cross-sectional shape. In this manner, a laser beam having an annular cross section can be obtained from a laser beam having a circular cross section.

【0052】図5では、円形断面を有するレーザビーム
から円環状断面を有するレーザビームを得る場合につい
て説明したが、当初から円環状断面を有するレーザビー
ムを出力するレーザ光源を使用してもよい。
FIG. 5 shows a case where a laser beam having an annular cross section is obtained from a laser beam having a circular cross section. However, a laser light source which outputs a laser beam having an annular cross section from the beginning may be used.

【0053】図6(A)は、円環状断面を有するレーザ
ビームを出力するレーザ光源の一例の概略断面図を示
す。凹面鏡40と、それよりも小口径の凸面鏡41とに
より光共振器が構成されている。この光共振器は、その
内部を往復する光線束がある回数往復すると、凸面鏡4
1の縁から外れて外部に漏れるように構成された不安定
光共振器である。
FIG. 6A is a schematic sectional view showing an example of a laser light source for outputting a laser beam having an annular cross section. An optical resonator is constituted by the concave mirror 40 and the convex mirror 41 having a smaller diameter. When the light beam reciprocating inside the optical resonator reciprocates a certain number of times, the convex mirror 4
An unstable optical resonator that is configured to leak outside the edge of the first optical resonator.

【0054】この光共振器内に、レーザ媒質42が配置
されている。レーザ媒質42内で誘導放出が起こり、レ
ーザ発振が生ずる。光共振器内を所定回数往復して増幅
されたレーザビームが、凸面鏡41の縁から外れて外部
に放射される。放射されるレーザビームのその光軸に垂
直な断面形状は、円環状になる。
A laser medium 42 is disposed in the optical resonator. Stimulated emission occurs in the laser medium 42, and laser oscillation occurs. The laser beam amplified by reciprocating a predetermined number of times in the optical resonator is emitted outside from the edge of the convex mirror 41. The cross section of the emitted laser beam perpendicular to its optical axis is annular.

【0055】図5では、円環状のレーザビーム11に整
形するビーム成形部2と、レーザビーム11を集光する
集光光学系5とを異なる光学系で構成した場合を説明し
たが、これらを1つの光学系で構成することもできる。
FIG. 5 shows a case where the beam shaping unit 2 for shaping the laser beam 11 into an annular shape and the condensing optical system 5 for condensing the laser beam 11 are constituted by different optical systems. It can also be constituted by one optical system.

【0056】図6(B)は、ビーム成形部2の機能と集
光光学系5の機能の両者を併せ持つ光学系の一例を示
す。大口径の凹面鏡45と小口径の凸面鏡46が、その
中心軸を共有するように配置され、シュバルツシュルト
型反射光学系を構成している。凹面鏡45の中心部に貫
通孔45aが設けられ、レーザビーム11が貫通孔45
aを通って凸面鏡46に入射する。
FIG. 6B shows an example of an optical system having both the function of the beam shaping unit 2 and the function of the condensing optical system 5. A large-diameter concave mirror 45 and a small-diameter convex mirror 46 are arranged so as to share the central axis thereof, and constitute a Schwarzschild reflection optical system. A through hole 45a is provided at the center of the concave mirror 45, and the laser beam 11 is applied to the through hole 45a.
a and enters the convex mirror 46.

【0057】凸面鏡46に入射したレーザビーム11
は、凸面鏡46と凹面鏡45で反射し、収束光線束31
となって、被加工部材7内の微小領域8に集光する。収
束光線束31の光軸に垂直な仮想平面における断面形状
は、円環状となる。シュバルツシュルト型反射光学系を
用いることにより、レーザビームの断面形状を円環状と
するとともに、収束光線束を形成することができる。
Laser beam 11 incident on convex mirror 46
Is reflected by the convex mirror 46 and the concave mirror 45, and the convergent ray bundle 31
As a result, the light is condensed on the minute region 8 in the workpiece 7. The cross-sectional shape of the convergent light beam 31 in a virtual plane perpendicular to the optical axis is annular. By using a Schwarzschild reflection optical system, the cross section of the laser beam can be made annular and a convergent light beam can be formed.

【0058】次に、図7を参照して、第5の実施例の変
形例について説明する。なお、これらの変形例は、第4
及び第6の実施例にも適用することが可能である。
Next, a modification of the fifth embodiment will be described with reference to FIG. These modifications are described in the fourth section.
Also, the present invention can be applied to the sixth embodiment.

【0059】図7(A)に示すように、被加工部材7が
板状である場合、その表側から微小領域8に向けてレー
ザビーム11Cを集光すると同時に、裏側からもレーザ
ビーム11Eを集光する。このため、被加工部材7の表
側と裏側に、それぞれ集光光学系5Aと5Bが配置され
ている。
As shown in FIG. 7A, when the workpiece 7 is plate-shaped, the laser beam 11C is focused from the front side toward the minute region 8, and the laser beam 11E is also focused from the back side. Light. For this reason, condensing optical systems 5A and 5B are arranged on the front side and the back side of the workpiece 7, respectively.

【0060】なお、表側から入射するレーザビーム11
Cの光軸と裏側から入射するレーザビーム11Eの光軸
とを共通にする必要はない。一方のレーザビームを斜入
射してもよく、双方のレーザビームを斜入射してもよ
い。また、2本に限らず、3本以上のレーザビームを微
小領域8に集光させてもよい。
The laser beam 11 incident from the front side
It is not necessary to make the optical axis of C and the optical axis of the laser beam 11E incident from the back side common. One laser beam may be obliquely incident, or both laser beams may be obliquely incident. The number of laser beams is not limited to two, but may be three or more.

【0061】図7(B)に示すように、集光光学系5の
対物レンズ5aと被加工部材7の表面との間に、液体5
0を充満させてもよい。液体50として、用いるレーザ
ビームの波長域において透明な液体、例えば水を用いる
ことができる。通常の液体の屈折率は大気の屈折率より
も大きいため、被加工部材7の表面における屈折率差を
小さくすることができる。このため、液体50を充満さ
せない場合に比べて、被加工部材7内の集光角θを大き
くすることができる。集光角を大きくすることにより、
微小領域8近傍のしきい値を超えた領域を、より局在化
させることができる。
As shown in FIG. 7B, the liquid 5 is placed between the objective lens 5a of the condenser optical system 5 and the surface of the workpiece 7.
0 may be filled. As the liquid 50, a liquid that is transparent in the wavelength range of the laser beam to be used, for example, water can be used. Since the refractive index of the ordinary liquid is higher than the refractive index of the atmosphere, the difference in the refractive index on the surface of the workpiece 7 can be reduced. Therefore, the condensing angle θ in the workpiece 7 can be increased as compared with the case where the liquid 50 is not filled. By increasing the collection angle,
A region exceeding the threshold value near the minute region 8 can be more localized.

【0062】図7(C)に示すように、被加工部材7の
表面のうちレーザビーム11Cの入射する領域に、ガス
吹付手段55から清浄な空気等の気体を吹き付けながら
レーザ照射を行ってもよい。吹き付けられたガスによ
り、被加工部材7の表面へのゴミの付着を抑制すること
ができる。
As shown in FIG. 7 (C), laser irradiation may be performed while blowing a gas such as clean air from the gas blowing means 55 onto a region of the surface of the workpiece 7 where the laser beam 11C is incident. Good. Due to the blown gas, adhesion of dust to the surface of the workpiece 7 can be suppressed.

【0063】また、被加工部材7の裏面のうちレーザビ
ーム11Cが出射する領域及びその近傍に、水等の液体
を吹き付けながらレーザ照射を行ってもよい。水を吹き
付けることにより、裏面におけるレーザビームの反射を
抑制することができる。また、冷却効率を高めることが
できる。
Further, the laser irradiation may be performed while spraying a liquid such as water onto the area where the laser beam 11C is emitted and the vicinity thereof on the back surface of the workpiece 7. By spraying water, reflection of the laser beam on the back surface can be suppressed. Further, the cooling efficiency can be improved.

【0064】以上説明した実施例においては、被加工部
材はガラス基板であったが、ガラスに限らず、光源から
の照射光を通すような他の材料をマーキング加工する場
合にも適用できる。
In the above-described embodiment, the member to be processed is a glass substrate. However, the present invention is not limited to glass, and can be applied to a case of performing a marking process on another material that transmits light emitted from a light source.

【0065】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
The present invention has been described in connection with the preferred embodiments.
The present invention is not limited to these. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マーキングの際に被加工部材の表面のうちレーザビーム
の通過領域が直接保持部材と接触しない。このため、被
加工部材表面のレーザビームの通過領域への微粒子等の
付着が抑制され、表面の損傷が防止される。
As described above, according to the present invention,
At the time of marking, the laser beam passage area on the surface of the workpiece does not directly contact the holding member. For this reason, adhesion of particles or the like to the laser beam passage area on the surface of the workpiece is suppressed, and damage to the surface is prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例によるマーキング装置の
概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of a marking device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1、第2、及び第3の実施例による
マーキング装置の部分概略図である。
FIG. 2 is a partial schematic diagram of a marking device according to first, second, and third embodiments of the present invention.

【図3】本発明の第4の実施例によるマーキング装置の
概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a marking device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第5の実施例の構成例を示す概略図で
ある。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration example of a fifth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第6の実施例によるマーキング装置の
概略図である。
FIG. 5 is a schematic view of a marking device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第7の実施例の構成例を示す概略図で
ある。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a configuration example of a seventh embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第5の実施例の変形例によるマーキン
グ装置の概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram of a marking device according to a modification of the fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光源 2 ビーム成形部 3、4 反射鏡 5 集光光学系 6 保持台 7 被加工部材 8 微小領域 9 貫通孔 10、11、12 レーザビーム 11A、11B 部分ビーム 13 スペーサ 14 開口部 15 光トラップ 20A、20B 円錐プリズム 23 光検出器 24 位相調節手段 REFERENCE SIGNS LIST 1 laser light source 2 beam shaping unit 3, 4 reflecting mirror 5 focusing optical system 6 holding table 7 workpiece 8 small area 9 through hole 10, 11, 12 laser beam 11 A, 11 B partial beam 13 spacer 14 opening 15 optical trap 20A, 20B Conical prism 23 Photodetector 24 Phase adjusting means

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加工部材の表面のうちレーザビームが
通過する領域が他の物体と直接触れないように、該被加
工部材を保持する工程と、 レーザ光源から出射した前記レーザビームを被加工部材
の内部のある微小領域に集光することにより、前記被加
工部材の集光部分を変質させてマーキングする工程とを
有するマーキング方法。
1. A step of holding a workpiece so that an area of the surface of the workpiece through which the laser beam passes does not directly contact another object; and processing the laser beam emitted from a laser light source. Focusing the light on a minute area inside the member to change the light-collecting portion of the workpiece and perform marking.
【請求項2】 被加工部材の表面のうちレーザビームが
通過する領域が、気体層と触れるように該被加工部材を
保持する工程と、 レーザ光源から出射した前記レーザビームを被加工部材
の内部のある微小領域に集光することにより、前記被加
工部材の集光部分を変質させてマーキングする工程とを
有するマーキング方法。
2. A step of holding the workpiece so that a region of the surface of the workpiece through which the laser beam passes is in contact with the gas layer, and applying the laser beam emitted from a laser light source to the inside of the workpiece. Condensing light on a minute area having the property to change the condensed portion of the workpiece to perform marking.
【請求項3】 さらに、前記被加工部材を透過した前記
レーザビームを吸収する工程を含む請求項1または2に
記載のマーキング方法。
3. The marking method according to claim 1, further comprising a step of absorbing the laser beam transmitted through the workpiece.
【請求項4】 レーザ光源と、 前記レーザ光源からのレーザビームを、被加工部材の内
部のある微小領域に集光する集光光学系と、 被加工部材の表面のうちレーザビームが通過する領域が
他の物体と直接触れないように該加工部材を保持する保
持部材とを有するマーキング装置。
4. A laser light source; a condensing optical system for condensing a laser beam from the laser light source on a small area inside a workpiece; and an area on the surface of the workpiece through which the laser beam passes. And a holding member for holding the processing member so that the processing member does not directly touch another object.
【請求項5】 前記保持部材が、前記被加工部材を透過
したレーザビームが通過する領域に貫通孔を有する請求
項4に記載のマーキング装置。
5. The marking device according to claim 4, wherein the holding member has a through hole in a region through which the laser beam transmitted through the workpiece passes.
【請求項6】 前記保持部材が、 主表面を有するステージと、 該主表面上に載置される被加工部材と該主表面との間に
配置されるスペーサとを含む請求項4に記載のマーキン
グ装置。
6. The holding member according to claim 4, wherein the holding member includes a stage having a main surface, and a spacer disposed between the workpiece to be mounted on the main surface and the main surface. Marking device.
【請求項7】 さらに、前記被加工部材を透過したレー
ザビームを吸収する光トラップを有する請求項5に記載
のマーキング装置。
7. The marking device according to claim 5, further comprising an optical trap for absorbing a laser beam transmitted through the workpiece.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004031016A (en) * 2002-06-24 2004-01-29 Mitsubishi Materials Corp Surge absorber and its micro-gap forming method
RU2478588C2 (en) * 2006-10-18 2013-04-10 Тиама Method and unit for marking transparent or semitransparent articles at high temperature
JP2015213952A (en) * 2014-05-12 2015-12-03 株式会社ディスコ Laser processing device
US9543256B2 (en) 2002-03-12 2017-01-10 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
JP6083006B1 (en) * 2016-02-17 2017-02-22 株式会社シーティーアイ Container manufacturing method and laser processing system
US9837315B2 (en) 2000-09-13 2017-12-05 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and laser processing apparatus
CN110961780A (en) * 2018-10-01 2020-04-07 三星显示有限公司 Laser processing apparatus
US20210382210A1 (en) * 2020-06-09 2021-12-09 IonQ, Inc. Parabolic cassegrain-type reflector for ablation loading

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10796959B2 (en) 2000-09-13 2020-10-06 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and laser processing apparatus
US9837315B2 (en) 2000-09-13 2017-12-05 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and laser processing apparatus
US11424162B2 (en) 2002-03-12 2022-08-23 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US9711405B2 (en) 2002-03-12 2017-07-18 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US10068801B2 (en) 2002-03-12 2018-09-04 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US9543256B2 (en) 2002-03-12 2017-01-10 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US9553023B2 (en) 2002-03-12 2017-01-24 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US10622255B2 (en) 2002-03-12 2020-04-14 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US9548246B2 (en) 2002-03-12 2017-01-17 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
US9543207B2 (en) 2002-03-12 2017-01-10 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate dividing method
JP2004031016A (en) * 2002-06-24 2004-01-29 Mitsubishi Materials Corp Surge absorber and its micro-gap forming method
RU2478588C2 (en) * 2006-10-18 2013-04-10 Тиама Method and unit for marking transparent or semitransparent articles at high temperature
JP2015213952A (en) * 2014-05-12 2015-12-03 株式会社ディスコ Laser processing device
WO2017141883A1 (en) * 2016-02-17 2017-08-24 株式会社シーティーアイ Method for manufacturing container, method for manufacturing 3d object, and laser processing system
JP6083006B1 (en) * 2016-02-17 2017-02-22 株式会社シーティーアイ Container manufacturing method and laser processing system
KR20200037904A (en) * 2018-10-01 2020-04-10 삼성디스플레이 주식회사 Laser processing apparatus
CN110961780A (en) * 2018-10-01 2020-04-07 三星显示有限公司 Laser processing apparatus
KR102547657B1 (en) * 2018-10-01 2023-06-26 삼성디스플레이 주식회사 Laser processing apparatus
US11796721B2 (en) * 2020-06-09 2023-10-24 IonQ, Inc. Parabolic Cassegrain-type reflector for ablation loading
US20210382210A1 (en) * 2020-06-09 2021-12-09 IonQ, Inc. Parabolic cassegrain-type reflector for ablation loading

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