JP2000088519A - 光式センサ - Google Patents

光式センサ

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JP2000088519A
JP2000088519A JP10263354A JP26335498A JP2000088519A JP 2000088519 A JP2000088519 A JP 2000088519A JP 10263354 A JP10263354 A JP 10263354A JP 26335498 A JP26335498 A JP 26335498A JP 2000088519 A JP2000088519 A JP 2000088519A
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道俊 岡田
Yuichi Inoue
祐一 井上
Koichi Egawa
弘一 江川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 投光部より光を投光し、検出物体からの反射
によって距離関連情報を得る光式センサにおいて、受光
レベルがピークとなる受光素子上の位置を正確に検出す
ること。 【解決手段】 投光手段より投光ビームを物体検知領域
に投光し、その反射光を集光して受光素子で受光する。
そして受光レベルが閾値THを越える画素について受光
レベルがピークとなるピーク位置を算出する。こうして
得られたピーク位置に基づいて正確な距離関連情報を得
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は検知領域に存在する
物体に向けて光を出射し、その反射光を受光することに
よって物体までの距離や物体の段差や厚さ等を測定する
ようにした光式センサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来物体までの距離を検出する光式変位
センサにおいては受光素子にPSDやCCDが用いられ
ている。CCDを用いた光式センサは投光ビームを物体
検知領域に向けて照射し、その反射光を1次元又は2次
元のCCD等の受光素子で受光する。そうすれば図19
(a)に示すように受光位置に応じて受光レベルが変化
するため、受光レベルがピークとなる受光位置(以下、
ピーク位置という)に基づいて物体までの距離を算出し
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このようなCCDを受
光素子として用いた光式センサにおいて、図19(b)
に示すように受光レベルに外乱等が生じて電気的又は光
学的にノイズが発生した場合に、異なった位置を誤って
ピーク位置と判断してしまう可能性があった。そこで幅
の狭いノイズを除くためにピーク検出前に信号を平滑化
することも考えられる。しかしながら平滑処理を行え
ば、ピーク位置を正確に判別することができなくなった
り、平滑化により回路規模が大きくなったり、又はソフ
トウェアで実現する場合に信号処理に時間がかかるとい
う欠点があった。
【0004】本発明はこのような従来の光式センサの問
題点に着目してなされたものであって、ノイズによる影
響をなくし、ピーク位置を正確に検出できるようにする
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本願の請求項1の発明
は、投光手段と受光手段及び信号処理手段を備え、検出
物体からの距離関連情報を得る光式センサであって、前
記投光手段は、投光ビームを検出域に出射するものであ
り、前記受光手段は、画素の集合で構成された受光素子
と、前記検出域からの反射光を前記受光素子に集光する
集光手段と、を有するものであり、前記信号処理手段
は、受光レベルが所定の閾値を越える前記各画素の受光
レベルを対象に、これらの受光レベルの分布のピーク位
置を算出するピーク位置算出手段と、前記ピーク位置算
出手段によって得られる前記受光素子上のピーク位置に
基づいて検出物体までの距離関連情報を得る距離情報検
出部と、を有することを特徴とするものである。
【0006】ここでピーク位置算出手段は受光素子上の
受光レベルに所定の閾値を設定し、これを越えるレベル
が得られる画素群から受光レベルがピークとなる画素の
位置を算出するものである。
【0007】本願の請求項2の発明は、投光手段と受光
手段及び信号処理手段を備え、検出物体からの距離関連
情報を得る光式センサであって、前記投光手段は、投光
ビームを検出域に出射するものであり、前記受光手段
は、画素の集合で構成された受光素子と、前記検出域か
らの反射光を前記受光素子に集光する集光手段と、を有
するものであり、前記信号処理手段は、前記受光素子上
の受光スポットが所定の大きさを越える場合にその受光
スポットの受光レベルがピークとなる受光素子上のピー
ク位置を算出するピーク位置算出手段と、前記ピーク位
置算出手段によって得られる前記受光素子上のピーク位
置に基づいて検出物体までの距離関連情報を得る距離情
報検出部と、を有することを特徴とするものである。
【0008】ここで受光スポットとは受光量のピーク周
辺の領域であり、受光スポットの大きさは、その受光ス
ポットの面積や幅として表される。面積や幅は受光素子
上の隣接する画素の数として示すことができる。ピーク
位置算出手段には、受光素子の各画素の受光レベルを所
定の閾値で二値化する二値化部と、二値化部で設定され
た閾値レベルを越える受光量の隣接する画素数を計数す
る明部カウンタを設け、明部カウンタの計数値が所定値
を越える場合にピーク位置の算出処理を開始するように
してもよい。
【0009】本願の請求項3の発明は、投光手段と受光
手段及び信号処理手段を備え、検出物体からの距離関連
情報を得る光式センサであって、前記投光手段は、投光
ビームを検出域に出射するものであり、前記受光手段
は、画素の集合で構成された受光素子と、前記検出域か
らの反射光を前記受光素子に集光する集光手段と、を有
するものであり、前記信号処理手段は、前記受光素子の
受光量分布の各位置の受光量レベルとその幅との積の加
算値に基づく値が所定値を越える受光スポットについ
て、その受光スポットの受光レベルがピークとなる受光
素子上のピーク位置を算出するピーク位置算出手段と、
前記ピーク位置算出手段によって得られる前記受光素子
上のピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報
を得る距離情報検出部と、を有することを特徴とするも
のである。
【0010】ここで受光量分布の各位置の受光量レベル
とその幅との積の加算値に基づく値とは、各位置の受光
レベルとその幅の積を加算して得られるグラフ上の面積
だけでなく、このグラフ上の面積をピークの高さで除算
した値も含まれる。ピーク位置算出手段はそのいずれか
の値が所定の閾値を越える受光スポットについて、ピー
ク位置を算出するものとする。
【0011】本願の請求項4の発明は、投光手段と受光
手段及び信号処理手段を備え、検出物体からの距離関連
情報を得る光式センサであって、前記投光手段は、投光
ビームを検出域に出射するものであり、前記受光手段
は、画素の集合で構成された受光素子と、前記検出域か
らの反射光を前記受光素子に集光する集光手段と、を有
するものであり、前記信号処理手段は、前記受光素子の
各画素の受光レベルを所定方向に順次走査し、受光レベ
ルが所定の閾値を越える受光スポットの画素から受光レ
ベルのピーク位置を算出するピーク位置算出手段と、前
記受光素子の各画素の受光レベルを順次走査し、受光レ
ベルが所定の閾値以下となったときにその受光スポット
が所定以上の大きさかどうかを判別し、所定以上の大き
さであるときに前記ピーク位置算出手段によって得られ
るピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報を
得る距離情報検出部と、を有することを特徴とするもの
である。
【0012】ここでピーク位置算出手段は閾値より低い
レベルから閾値を越えて変化する受光素子上の位置と閾
値より高い状態から低い状態に変化する受光素子上の位
置を保持しておき、その差が所定値を越える場合に既に
算出したピーク位置を有効と判別するようにしてもよ
く、その場合にピーク位置の検出を開始してもよい。又
閾値を越えた場合に計数を開始し、受光素子の画素を順
次走査する毎に計数を行い、受光レベルが閾値より低下
したときその計数値が所定の値を越えている場合に、既
に算出したピーク位置を有効とするようにしてもよく、
その場合にピーク位置の検出を開始してもよい。
【0013】更に請求項1〜4において、距離関連情報
を得る測定距離範囲が所定範囲に定められている場合に
は、投光手段より出射する投光ビームを測定距離範囲の
最も近い位置と光式センサとの間の位置に集束するよう
にしておいてもよい。この場合には検出物体までの距離
にかかわらず受光素子の受光面上で得られる受光レベル
のピーク値や幅がそれほど変化しない。そのため請求項
1,3で設定する閾値を高くしてノイズの影響を少なく
して正確なピーク位置及び距離関連情報を得ることがで
きる。又投光ビームは断面が円形等のビームであっても
よく、一定方向に偏平なスリット状のビームであっても
よい。スリットビームの場合はスリットビームの光軸に
垂直な投光ビームの断面における短手方向を集束し、そ
の最小幅の位置を集束位置とする。
【0014】受光素子としてはPSDでなく多数の画素
から成るCCD等の受光素子を用いる。受光素子は1次
元であってもよく、2次元であってもよいが、スリット
光を用いる場合は2次元の受光素子を用いる。受光素子
は、受光面上の座標で表される各位置における受光量を
電気信号に変換して位置毎の受光量がわかるように出力
するイメージセンサである。1次元イメージセンサの場
合には投光軸と受光軸で定まる面内に1次元イメージセ
ンサを配置しておくものとする。又2次元のイメージセ
ンサの場合にはスリットビームを用いる。スリットビー
ムの光軸に垂直なビーム断面における長手方向は投受光
手段の並び方向に垂直とする。この場合には投受光手段
の並び方向に受光素子の画素を走査するものとする。投
受光手段の並び方向に垂直な方向の各画素の受光レベル
を一旦加算処理し、加算した受光レベル分布からピーク
位置を求めてもよい。
【0015】又信号処理手段によって検出される距離関
連情報とは、検出物体までの距離だけでなく、段差があ
る検出物体については段差の上下から得られる距離情報
やその差から求まる段差の高さの情報も含まれる。又検
出物体が透明な板状であり、その表面と裏面で反射する
場合には夫々の反射面までの距離を求めることができ、
更にその距離の差から厚さを求めることができるため、
厚さの情報も含まれる。又検出物体が透明でその背景物
体から反射する場合に、背景物体に対する検出物体の高
さを検出することができ、これらを含めて距離関連情報
とする。信号処理手段は、投光手段と受光手段との間の
距離を基線長とし、受光素子上の受光量分布のピーク位
置から三角測量の原理によって検出物体までの距離関連
情報を求める。
【0016】又距離測定範囲内で投光軸上の夫々の点か
ら受光レンズによって反射光を夫々集束する点の軌跡を
求め、受光素子の面をこの軌跡と一致するように受光素
子を配置することが好ましい。このような関係を共役の
関係という。このように配置すれば距離によらずビーム
照射位置と受光面とが結像関係になるので、受光面上の
像が不必要に広がらず、正反射面が傾いても誤差が生じ
ない。従って検出物体が正反射物体及び拡散反射物体の
いずれの場合にも、物体までの距離関連情報を得ること
ができる。
【0017】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)図1は本発
明の第1の実施の形態による光式センサ10の全体構成
を示すブロック図、図2はその内部の構造を示す図であ
る。図1において投光手段11は、駆動回路12によっ
て駆動される発光ダイオードやレーザダイオード等の投
光素子13と、投光素子13の光を平行光とするコリメ
ートレンズ14、スリット板15及びシリンドリカルレ
ンズ16を有している。スリット板15には図示のよう
に細長いスリット15aが形成されており、このスリッ
ト15aは投光手段11と受光手段17の並び方向(X
軸方向)に対して垂直な方向(Y軸方向)に形成されて
いる。シリンドリカルレンズ16はスリット板15のス
リット15aを通過した狭いスリット状の光を更にX軸
方向に集束する。そして図示のようにY軸方向に一定の
幅を持ち、X軸方向に狭くしたスリット状の光ビーム
(以下、スリットビームという)を検出物体18に向け
て照射するためのものである。ここでシリンドリカルレ
ンズ16は、この実施の形態による光式センサの測定距
離範囲より光式センサ10に近い点を集束点として、ス
リットビームをX軸方向に集束させるものとする。又ス
リットビームのY軸方向の幅は投光軸方向に沿って一定
である必要はなく、例えばZ軸の座標値が大となるに従
ってスリットビームのY軸方向の幅が大きくなるように
してもよい。
【0018】図1,図2に示すように投光手段11に対
してX軸方向に受光手段17が設けられる。受光手段1
7は反射光を集光する集光手段である受光レンズ19
と、受光素子、例えば2次元CCD20を含んで構成さ
れている。受光素子は多数の画素から成り、受光面上の
2次元座標に表される各位置における受光量を電気信号
に変換して、位置毎の受光量がわかるように出力する2
次元のイメージセンサである。2次元受光素子として
は、この実施の形態で用いたCCDに限らず、例えばB
BD,CPD等の他の固体撮像ディバイスや、ビジコン
撮像管等を使用することもできる。ここでは例えば25
6画素×256画素のCCD20を用いるものとする。
【0019】CCD20には図示のようにCCDドライ
バ21が接続され、各画素信号はCCDドライバ21に
よって読出される。読出された信号はA/D変換器22
によってディジタル値に変換され、画像メモリ23に転
送される。画像メモリ23は例えば転送された一画面分
の画素信号を記憶するものである。又画像メモリ23に
は演算処理部24Aが接続されている。演算処理部24
Aは後述するようにピーク位置算出のためのレジスタや
マイクロコンピュータを有し、画像メモリ23のデータ
に基づいて物体までの距離や検出物体の厚み等を検出す
るものである。CCDドライバ21,A/D変換器2
2,画像メモリ23及び演算処理部24Aは、受光素子
に得られる受光量分布に基づいて物体までの距離を算出
する信号処理手段25を構成している。
【0020】次にこの実施の形態による投受光手段の配
置について、図2を用いて更に詳細に説明する。この実
施の形態による光式センサは正反射物体と拡散反射物体
との双方について距離が測定できるように、投光手段1
1はZ軸から所定角度θだけ傾けて配置する。受光手段
17も受光軸をZ軸から角度θだけ傾けて、投光手段1
1より照射され検出物体18の表面で反射した正反射光
を受光できる位置に配置する。ここで投光軸上の夫々の
点からの反射光を受光レンズ19によって集束する位置
の軌跡を求め、2次元受光手段であるCCD20の面を
この軌跡と一致するように配置しておく。このような投
光軸に対する受光レンズ19とCCD20の配置の関係
を共役な関係という。
【0021】次に演算処理部24Aの構成について図3
を用いて説明する。演算処理部24Aは前述したように
画像メモリ23からのデータを読出す読出回路31を有
しており、その読出出力をバス32上に出力する。バス
32上には閾値を保持する二値化レベルレジスタ33、
二値化レベルレジスタ33に保持されている閾値によっ
て二値化した結果を保持する二値化部34、受光した各
画素のうちの最大値(MAX)を保持する最大値保持レ
ジスタ35、ピーク位置(P)を保持するピーク位置レ
ジスタ36、及び読出した画素の番号iを保持する画素
カウンタ37が接続され、最大値を得るピーク位置を検
出するピーク位置検出部38が接続される。二値化レベ
ルレジスタ33,二値化部34は受光レベルを二値化す
る二値化手段を構成している。更にこのバス32上に
は、CPUによって構成される距離情報検出部39が接
続される。距離情報検出部39は受光素子上のピーク位
置と投受光部間の距離に基づいて物体までの距離に関連
した情報を検出するものであり、その出力は出力部40
より出力される。
【0022】図4(a),(b)はこの場合の反射光の
軌跡を示しており、図4(a)は検出物体18の表面が
Z軸に垂直、即ちXY平面に平行で光式センサ10から
の距離が変化する場合、図4(b)は更に検出物体18
の表面がY方向を軸として傾く場合の反射光の軌跡を示
している。投光軸に対する受光レンズ19とCCD20
を共役な関係に配置しておけば、検出物体18が拡散反
射物体とすると、図4(a),(b)に検出物体の表面
からの反射光の軌跡を示すように、いずれの距離にあっ
ても、又傾いていても、スリットビームで照射されてい
る部分はCCD20の受光面上に正しく結像される。又
図4(a)に示すように検出物体18が正反射物体の場
合も、正反射光が受光レンズ19を通過してCCD20
の受光面上に結像される。検出物体18が図4(b)に
示すようにY軸に沿って傾いても、正反射光が受光レン
ズ19に入射している限り、CCD20上の面に結像す
る。更に検出物体がX方向を軸としてわずかに傾いた場
合も同様である。そしてこれらのいずれの場合にも、結
像する位置は検出物体までの距離によって異なってい
る。このため検出物体18の表面が拡散反射面か正反射
面かを問わず、CCD20上の結像の位置から正確な距
離関連情報を得ることができる。
【0023】次に測定距離範囲と集束距離Lf、及びC
CD20上の受光分布の関係について説明する。まず図
5(a)に示すように、集束距離Lfが測定距離範囲の
中心Ldに等しい場合(Lf=Ld)について説明す
る。この場合には、図6(a)に示すように正反射物体
では距離に対するピーク高さの比率は実線Aに示すもの
となる。本図より検出物体までの距離が測定距離範囲の
中心Ldと一致するときに比率が最高となり、これを1
とすると、Ld−ΔL,Ld+ΔLにかけていずれも大
幅に比率が低下する。図6(b)は拡散反射物体の場合
であり、この場合実線Aに示すように距離Ldのときを
1とすると、距離がLd−ΔLのときにピークレベルが
低くなる。
【0024】次に図5(b)に示す本実施の形態のよう
に、集束距離Lfが測定距離範囲より内側にある場合
(Lf<Ld−ΔL)について説明する。この場合に
は、正反射物体の距離に対するピーク高さ比率は図6
(a)に破線Bで示すように、測定距離範囲内でほぼ一
定となる。又拡散反射物体の場合にも図6(b)の破線
Bで示すように、ピーク高さの比率は測定距離範囲でほ
ぼ一定となる。又図5(b)に示すように、測定距離範
囲で距離が遠くなるにつれて投光スポット径が大きくな
っている。一方投光スポットの径が一定とすると、その
反射光がCCDの面上に受光される面積(以下、倍率と
いう)は距離が近くなれば受光面積が大きく、遠くなれ
ば受光面積が小さくなる。従って図5(b)の場合には
投光スポットの径と倍率とが相殺することとなって、C
CD20の面上ではピークの幅がほぼ一定となる。
【0025】次に図5(c)に示すように、一方集束距
離Lfが測定距離範囲の外側にある場合(Lf>Ld+
ΔL)について説明する。この場合距離に対するピーク
高さ比率は図6(b)に一点鎖線Cで示すように、拡散
反射物体ではあまり比率は変わらないが、図6(a)に
一点鎖線Cで示すように、正反射物体では測定範囲で距
離が遠ざかるにつれてピーク高さの比率が順次大きくな
っている。又測定距離範囲では距離が遠くなるにつれて
スポット径が徐々に小さくなり、倍率も同様にして小さ
くなるため、遠距離では受光面積が狭く、近距離では受
光面積が広くなる。
【0026】図7はこれらのことから集束距離Lfを変
えたときにCCD20の面上で得られる1本の水平ライ
ンでの受光レベルの分布を示している。尚図7では検出
物体が異なった位置にある場合の受光分布を同時に示し
ているが、実際には検出物体が不透明であれば、その表
面までの距離によっていずれか1つのピークを持つ受光
分布となる。集束距離Lfが測定距離範囲内にある場
合、典型的にはLf=Ldの場合には、図7(a)に示
すようにピーク値の変化が大きくなる。又集束距離Lf
を測定距離範囲の外側とした場合には、図7(c)に示
すようにピーク値の変動は図7(a)よりも小さくなる
が、受光分布のピークの幅の変化が距離によって異なる
こととなる。図7(b)は集束距離Lfが測定距離範囲
よりも近い本実施の形態の距離に対するピークの分布の
変化を示している。このように集束距離Lfが測定距離
範囲よりも近い位置にある場合には、ピークの分布の幅
がほぼ一定でピーク値もほぼ一定となるため、最も好ま
しい受光量の分布が得られる。ピーク値を一定とすれ
ば、ノイズと区別するための閾値を高くすることができ
る。
【0027】さて図8(a)は本実施の形態のCCD2
0を受光レンズ19とは逆の面から見たもの、即ちモニ
タ画像として示している。CCD20の水平方向は投光
手段11と受光手段17との並び方向、即ちX軸方向で
あり、検出物体18が変位すると反射光の像がこれに伴
って移動する方向でもある。又垂直方向はこれに垂直な
Y軸方向である。又図8(b)は図8(a)に破線で示
すCCD20の水平方向の画素信号のピーク部分周辺の
分布を示している。図8(b)の両側の小さな山は電気
的なノイズによって生じたものである。なお迷光がノイ
ズとなる場合もある。この場合検出物体までの距離にか
かわらず2つのピークのレベルや幅はほとんど一定であ
るため、誤検知の恐れがなくなり、検出物体の表面まで
の距離を算出することができる。
【0028】次に演算処理部24Aでのピーク値算出処
理について図8(b)の受光分布及び図9のフローチャ
ートを用いて説明する。図9は演算処理部24での1ラ
インにおけるピーク値の算出処理を示すフローチャート
である。1ラインのピーク値算出処理を開始すると、ま
ずステップ51において画素カウンタiを1とし、最大
値MAX及びピーク位置Pをリセットする。そしてステ
ップ52に進んで読出回路31より得られる所定のライ
ン中のi番目の画素の受光レベルを取込む。そしてステ
ップ53に進んでXi が閾値THを越えているかどうか
を判別する。この閾値THはあらかじめ二値化レベルレ
ジスタ33に保持されている値である。閾値レベルを越
えていなければステップ54,55に進んで画素カウン
タiをインクリメントし、iの値が1ラインの画素数L
に達したかどうかを判別する。1ラインの画素数Lに達
していなければ、ステップ52に戻って同様の処理を繰
り返す。ステップ53において閾値THを越えている場
合には、ステップ56に進んでXi とMAX値とを比較
する。Xi がMAX値を越えている場合にはステップ5
7に進んでこのときの受光レベルXi を最大値MAX値
に保持すると共に、ピーク位置Pに画素カウンタiの値
を保持する。こうすれば順次iをインクリメントするこ
とにより図8(b)に示すように閾値を越える受光レベ
ルのうちのピーク位置を算出することができる。ステッ
プ55において画素カウンタiの値が1ラインの画素数
Lに達すると、このとき最大値レジスタ35に保持され
ているMAX値が最大値、Pをピーク位置と判断して処
理を終える。
【0029】2次元のCCDを用いる場合には、このよ
うな処理を各ライン毎に行い、距離情報検出部39では
ピーク位置Pを集計し、その頻度の高い位置を最大レベ
ルを与える位置とすることができる。この値に基づいて
距離関連情報が出力できる。こうすれば閾値TH以下の
ノイズ成分であれば判別処理を行わないため、誤動作が
少なくなり、高速での処理が可能となる。
【0030】さて本実施の形態による光式センサでは物
体までの距離をそのまま測定するようにしているが、図
10に示すように、ベルトコンベア上を搬送する比較的
小さい検出物体までの距離を検出する場合等には、スリ
ットビームを用いることによってベルトコンベア41上
の表面の大部分に光を入射させることができる。そして
ベルトコンベア41上で検出物体42の通過位置がずれ
ても支障なく距離が測定できる。又ベルトコンベア41
と検出物体までの距離が相違するため、異なった距離に
ピークが得られる。従って複数のピーク位置を検出し、
夫々の距離を求めてその差分値から背景物体であるベル
トコンベア41の面と対象となる検出物体42との段差
を検出したり、検出物体自体の高さを求める用途に光式
センサを用いることができる。即ちCCD20上の近側
の第1のピーク位置に基づく距離Laと、遠側の第2の
ピーク位置に基づく距離Lbとを求め、その差によって
段差や検出物体自体の高さを算出することができる。
【0031】又検出すべき物体が透明物体であれば、物
体の表面と裏面で一部の光が反射して反射光が得られ
る。これらの反射光のレベルが十分大きければ透明物体
までの距離やピークの差から厚さを検出することができ
る。更に検出物体に段差がある場合には段差を検出する
ことも可能となる。
【0032】(第2の実施の形態)次に本発明の第2の
実施の形態について説明する。この実施の形態において
投受光部の構成については前述した第1の実施の形態と
同一であり、これらについての説明は省略する。本実施
の形態では演算処理部24Bの構成及びピーク位置を算
出する処理のみが異なっている。演算処理部24Bは図
11に示すように、第1の実施の形態による演算処理部
24Aの構成に加えて、閾値THを越える明部の画素数
jを計数する明部カウンタ43を有している。その他の
構成は前述した第1の実施の形態と同一である。
【0033】次にこの第2の実施の形態によるピーク位
置算出処理について図12のフローチャート及び図13
(a)の受光分布を用いて説明する。動作を開始すると
まずステップ61において初期化処理を行う。初期化処
理は画素カウンタiを1とし、明部カウンタj及び最大
値MAX,ピーク位置Pをリセットする。次いでステッ
プ62に進んでi番の画素のA/D変換値をXi とす
る。次いでステップ63においてXi が閾値THを越え
ているかどうかを判別する。閾値THを越えていなけれ
ばステップ64に進んで明部カウンタjを0とし、ステ
ップ65に進んで画素カウンタiをインクリメントす
る。そしてステップ66に進んで画素カウンタiが1ラ
インの画素数Lを越えているかどうかを判別する。1ラ
インの画素数Lを越えていなければステップ62に戻っ
て同様の処理を繰り返す。一方ステップ63においてX
i が閾値THを越えている場合には、ステップ67に進
んで明部カウンタjをインクリメントし、このカウンタ
jの計数値が有効な明部の幅Wを越えているかどうかを
判別する。明部幅W以下であればステップ65に進み、
同様の処理を繰り返す。明部幅Wを越えている場合には
最大値及びピーク位置の探索を開始し、ステップ69に
進んでこのとき得られた受光レベルXi が最大値MAX
を越えているかどうかを判別する。MAX以下であれば
ステップ65に戻ってiをインクリメントし、1ライン
の終了かどうかを判別して同様の処理を繰り返す。ステ
ップ69において受光レベルXi がMAXを越えている
場合には、ステップ70に進んでそのとき得られる受光
レベルXi をMAX値に保持する。更にそのときの画素
カンウタiの値をピーク位置Pに保持する。そしてステ
ップ65に進んでiをインクリメントして同様の処理を
繰り返す。
【0034】こうすれば図13(a)に示すようにiを
順次インクリメントしてピーク位置判別処理を行うと、
ピークが閾値TH以下の場合や閾値を越えていても所定
幅Wの以下の場合にはノイズであると判別できる。そし
て閾値を越え、且つ所定幅W以上の受光レベルが得られ
た場合のみピーク位置の探索を開始することにより、ノ
イズの影響を除いて正確にピーク位置を判別することが
できる。距離情報検出部39では判別したピーク位置に
基づいて物体までの距離関連情報を出力することは前述
した第1の実施の形態と同様である。
【0035】(第3の実施の形態)次に本発明の第3の
実施の形態について説明する。本実施の形態において、
光学系及び投受光部の構成については前述した第1の実
施の形態と同様であり、演算処理部の構成及びピーク位
置の算出処理のみが異なっている。演算処理部24Cは
図14に示すように第1の実施の形態による演算処理部
24Aの構成に加えて、暗状態から明状態へのエッジ位
置(EDL)を検出するエッジ位置レジスタ44と、明状
態から暗状態へのエッジ位置(ELD)を検出するエッジ
位置レジスタ45とを設けている。その他の構成は前述
した第1又は第2の実施の形態と同様である。
【0036】次にこの実施の形態の動作について図1
5,図16のフローチャート及び図13(b)の受光分
布を用いて説明する。動作を開始するとまずステップ7
1において初期化処理を行う。初期化処理は画素カウン
タiを1とし、最大値MAX,ピーク位置Pをリセット
し、更にエッジ位置レジスタ44,45のEDL,ELD
リセットする。次いでステップ72に進んでi番目の画
素データのA/D変換値をXi とする。そしてステップ
73においてXi が閾値THを越えているかどうか、及
びステップ74において前回の画素データのA/D変換
値Xi-1 がTHを越えているかどうかを判別する。これ
らの値以下であればステップ75に進んでiをインクリ
メントする。そして画素カウンタiの値が1ラインの画
素数Lを越えているかどうかを判別し、この値以下であ
ればステップ72に戻って同様の処理を繰り返す(ステ
ップ76)。さてステップ73において閾値THを越え
た場合にはステップ73からステップ77に進んで前回
の画素データXi-1 が閾値TH以下かどうかを判別す
る。TH以下であればステップ78においてエッジ位置
レジスタEDLに画素カウンタiの値をセットし、暗から
明へのエッジ位置として保持する。そしてステップ79
に進んで最大値MAXと受光レベルXi とを比較する。
受光レベルが最大値MAX以下であればステップ75に
進んで同様の処理を繰り返す。Xi がMAX値を越えて
いる場合には、ステップ80に進んでピーク位置Pを更
新する。即ち受光レベルXi の値を最大値MAXとして
保持し、画素カウンタiの値をピーク位置Pとして保持
する。そしてステップ75に戻ってiをインクリメント
し、同様の処理を繰り返す。
【0037】一方ステップ74においてXi-1 が閾値T
Hを越えている場合には、ステップ81において画素カ
ウンタiの値をエッジ位置レジスタELDに保持し、明か
ら暗へのエッジ位置とする。そしてステップ82に進ん
でピーク位置Pが既にセットされているかどうかを判別
する。セットされていなければステップ75に戻って同
様の処理を繰り返し、セットされている場合にはステッ
プ83に進んで、エッジ位置レジスタEDLとELDとの差
が有効明暗幅Wを越えているかどうかを判別する。この
幅以下であればステップ75に戻って同様の処理を繰り
返す。この差がWを越えている場合には、ステップ84
に進んでピーク位置の確定処理を行う。こうすれば閾値
TH以上で一定幅を越える受光レベルからピーク位置を
求めることができ、ノイズの影響を除いて正確にピーク
位置を判別することができる。距離情報検出部39では
判別したピーク位置に基づいて物体までの距離関連情報
を出力することは前述した第1の実施の形態と同様であ
る。
【0038】この実施の形態においては、ステップ84
のピーク位置確定後に最大値MAXをリセットするよう
にすれば、透明物体等で複数のピーク位置が存在する場
合にも夫々のピーク位置を判別することができ、これに
よって透明物体の表面までの距離及び裏面までの距離を
独立して検出することができる。又これらの差に基づい
て透明物体の厚さを検出することができる。
【0039】(第4の実施の形態)次に本発明の第4の
実施の形態について説明する。この実施の形態において
はピーク位置算出処理以外の点については第2の実施の
形態と同様であり、第1の実施の形態の構成に加えて、
バスライン32に明部の画素数を計数する明部カウンタ
43が接続されている。
【0040】さてこの実施の形態によるピーク位置算出
処理について図17,図18のフローチャート及び図1
3(c)の受光分布を参照しつつ説明する。動作を開始
するとまずステップ81において初期化処理を行う。初
期化処理では画素カウンタiを1とし、明部カウンタ
j,ピーク位置P及び最大値MAXの値をリセットす
る。そしてステップ82に進んでi番目の画素の受光レ
ベルをXi とする。そしてステップ83,84において
i が閾値THを越えているかどうか、及びXi-1が閾
値THを越えているかどうかを判別する。いずれもTH
以下であればステップ84からステップ85に進んで画
素カウンタiをインクリメントし、iが1ラインの画素
数Lを越えているかどうかを判別する。画素カウンタi
が1ラインの画素数Lに達していなければステップ82
に戻って同様の処理を繰り返す。さてステップ83にお
いてXi が閾値THを越えている場合には、図18のス
テップ87に進んでXi-1 が閾値TH以下かどうかを判
別する。TH以下でなければステップ88において明部
カウンタjをインクリメントし、TH以下であればステ
ップ89において明部カウンタjをリセットする。そし
てステップ90においてXi が最大値MAXを越えてい
るかどうかを判別する。このレベルを越えていなければ
ステップ85に戻って同様の処理を繰り返し、MAXを
越えている場合にはステップ91においてそのときのX
i をMAXとして仮決定し、画素カウンタiの値をピー
ク位置Pにセットする。
【0041】さてステップ84においてXi-1 が閾値T
Hを越えている場合には、ステップ92においてピーク
位置が既にセットされているかどうかを判別する。ピー
ク位置がセットされていなければステップ85に戻って
同様の処理を繰り返し、セットされている場合にはステ
ップ93に進んで明部カウンタの計数値jが所定値Wを
越えているかどうかを判別する。Wを越えていなければ
ステップ85に戻って同様の処理を繰り返し、Wを越え
ている場合にはステップ94に進んでピーク位置を確定
する。こうして画素カウンタiが1ラインの画素数Lに
達するまで同様の処理を繰り返すことによってピーク位
置を確定することができる。この場合も閾値を越えてい
るノイズの影響を除いて正確にピーク位置を判別するこ
とができる。距離情報検出部39では判別したピーク位
置に基づいて物体までの距離関連情報を出力することは
前述した第1の実施の形態と同様である。
【0042】この実施の形態においては、ステップ94
のピーク位置確定後に最大値MAXをリセットするよう
にすれば、透明物体等で複数のピーク位置が存在する場
合にも夫々ピーク位置を判別することができ、これによ
って透明物体の表面までの距離及び裏面までの距離を独
立して検出することができる。又これらの差に基づいて
透明物体の厚さを検出することができる。
【0043】尚前述した各実施の形態では光式センサの
投受光手段と信号処理手段とを1つの筐体に収納してい
るため、種々の検出物体の検出用途に適用することがで
き、使い易さを向上させることができる。
【0044】又前述した各実施の形態では、スリット光
を用い2次元のCCDによって物体までの距離を検出す
るようにした光式センサについて説明しているが、本発
明はスリット光にすることなく断面が略円形の光式セン
サに適用することができる。この場合には受光素子とし
て1次元の画素による受光素子を用いることができ、こ
の場合も前述した各実施の形態によるピーク検出処理を
適用することができる。
【0045】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項
1〜4の発明によれば、受光素子の受光面上で得られる
ピーク位置を検出する場合に、ノイズ等の影響をなくし
てピーク位置を算出することができる。又請求項2〜4
の発明では、受光スポットが一定の大きさを持つ場合に
その受光レベルのピーク位置を算出することができる。
従って閾値を越えた高いレベルのノイズがあっても、ノ
イズと信号とを識別してピーク位置を検出することがで
き、物体までの距離や段差,透明物体の厚さ等をより正
確に検出することができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による光式センサの
構成を示すブロック図である。
【図2】第1の実施の形態による光式センサの光学系の
内部構成を示す図である。
【図3】第1の実施の形態による信号処理部の構成を示
すブロック図である。
【図4】第1の実施の形態による光式センサにおいて、
レンズ19とCCD20を共益な位置に配置した場合の
受光位置の構成を示す図である。
【図5】シリンドリカルレンズの集束位置Ldと測定距
離範囲の関係を示す図である。
【図6】(a)は正反射物体の測定距離範囲と集束距離
に対する受光ピーク値の変化を示す図であり、(b)は
拡散反射物体における距離に対する受光比率の関係を示
すグラフである。
【図7】CCD上の任意の水平ラインにおける位置に対
する受光レベルの変化を示すグラフである。
【図8】第1の実施の形態による光式センサのCCD2
0上の受光量分布及びある水平ラインの受光量分布を示
すグラフである。
【図9】第1の実施の形態による信号処理部のピーク位
置算出処理を示すフローチャートである。
【図10】第1の実施の形態による光式センサの使用例
を示す斜視図である。
【図11】本発明の第2の実施の形態による演算処理部
の構成を示すブロック図である。
【図12】第2の実施の形態による信号処理部のピーク
位置算出処理を示すフローチャートである。
【図13】第2〜第4の実施の形態による受光素子の特
定のライン上の受光量分布を示すグラフである。
【図14】本発明の第3の実施の形態による演算処理部
の構成を示すブロック図である。
【図15】本実施の形態による信号処理部のピーク位置
算出処理を示すフローチャート(その1)である。
【図16】本実施の形態による信号処理部のピーク位置
算出処理を示すフローチャート(その2)である。
【図17】本発明の第4の実施の形態による信号処理部
のピーク位置算出処理を示すフローチャート(その1)
である。
【図18】本発明の第4の実施の形態による信号処理部
のピーク位置算出処理を示すフローチャート(その2)
である。
【図19】従来のCCDを用いた光式変位センサにおい
て、検出物体までの距離と受光レベルの関係を示すグラ
フである。
【符号の説明】
10 光式センサ 11 投光手段 12 駆動回路 13 投光素子 14 コリメートレンズ 15 スリット板 15a スリット 16 シリンドリカルレンズ 17 受光手段 18 検出物体 19 受光レンズ 20 CCD 21 CCDドライバ 22 A/D変換器 23 画像メモリ 24A,24B,24C 演算処理部 25 信号処理手段 31 読出回路 32 バスライン 33 二値化レベルレジスタ 34 二値化部 35 最大値保持レジスタ 36 ピーク位置レジスタ 37 画素カウンタ 38 ピーク位置検出部 39 距離情報検出部 40 出力部 43 明部カウンタ 44,45 ピーク位置レジスタ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 投光手段と受光手段及び信号処理手段を
    備え、検出物体からの距離関連情報を得る光式センサで
    あって、 前記投光手段は、投光ビームを検出域に出射するもので
    あり、 前記受光手段は、画素の集合で構成された受光素子と、
    前記検出域からの反射光を前記受光素子に集光する集光
    手段と、を有するものであり、 前記信号処理手段は、 受光レベルが所定の閾値を越える前記各画素の受光レベ
    ルを対象に、これらの受光レベルの分布のピーク位置を
    算出するピーク位置算出手段と、 前記ピーク位置算出手段によって得られる前記受光素子
    上のピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報
    を得る距離情報検出部と、を有するものであることを特
    徴とする光式センサ。
  2. 【請求項2】 投光手段と受光手段及び信号処理手段を
    備え、検出物体からの距離関連情報を得る光式センサで
    あって、 前記投光手段は、投光ビームを検出域に出射するもので
    あり、 前記受光手段は、画素の集合で構成された受光素子と、
    前記検出域からの反射光を前記受光素子に集光する集光
    手段と、を有するものであり、 前記信号処理手段は、 前記受光素子上の受光スポットが所定の大きさを越える
    場合にその受光スポットの受光レベルがピークとなる受
    光素子上のピーク位置を算出するピーク位置算出手段
    と、 前記ピーク位置算出手段によって得られる前記受光素子
    上のピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報
    を得る距離情報検出部と、を有するものであることを特
    徴とする光式センサ。
  3. 【請求項3】 投光手段と受光手段及び信号処理手段を
    備え、検出物体からの距離関連情報を得る光式センサで
    あって、 前記投光手段は、投光ビームを検出域に出射するもので
    あり、 前記受光手段は、画素の集合で構成された受光素子と、
    前記検出域からの反射光を前記受光素子に集光する集光
    手段と、を有するものであり、 前記信号処理手段は、 前記受光素子の受光量分布の各位置の受光量レベルとそ
    の幅との積の加算値に基づく値が所定値を越える受光ス
    ポットについて、その受光スポットの受光レベルがピー
    クとなる受光素子上のピーク位置を算出するピーク位置
    算出手段と、 前記ピーク位置算出手段によって得られる前記受光素子
    上のピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報
    を得る距離情報検出部と、を有するものであることを特
    徴とする光式センサ。
  4. 【請求項4】 投光手段と受光手段及び信号処理手段を
    備え、検出物体からの距離関連情報を得る光式センサで
    あって、 前記投光手段は、投光ビームを検出域に出射するもので
    あり、 前記受光手段は、画素の集合で構成された受光素子と、
    前記検出域からの反射光を前記受光素子に集光する集光
    手段と、を有するものであり、 前記信号処理手段は、 前記受光素子の各画素の受光レベルを所定方向に順次走
    査し、受光レベルが所定の閾値を越える受光スポットの
    画素から受光レベルのピーク位置を算出するピーク位置
    算出手段と、 前記受光素子の各画素の受光レベルを順次走査し、受光
    レベルが所定の閾値以下となったときにその受光スポッ
    トが所定以上の大きさかどうかを判別し、所定以上の大
    きさであるときに前記ピーク位置算出手段によって得ら
    れるピーク位置に基づいて検出物体までの距離関連情報
    を得る距離情報検出部と、を有するものであることを特
    徴とする光式センサ。
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