JP2000066021A - Optical filter and its production as well as image pickup device - Google Patents
Optical filter and its production as well as image pickup deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学フィルターお
よびその製造方法並びに撮像装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical filter, a method of manufacturing the same, and an image pickup apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えばカラー画像の固体撮像素子である
ＣＣＤやＣ−ＭＯＳよりなるイメージセンサは、通常、
近赤外線の波長域に感度のピークを有するシリコンフォ
トダイオードにより構成されているが、このフォトダイ
オードは可視光だけでなく近赤外光にも感応するため、
そのままでは赤色成分の再現に問題がある。そのため、
視感度補正フィルターを用いて、シリコンフォトダイオ
ードの感応波長領域を可視光線の波長域に制限する視感
度補正が行われる。2. Description of the Related Art For example, an image sensor composed of a CCD or C-MOS which is a solid-state image pickup device for a color image is usually used.
It is composed of a silicon photodiode having a sensitivity peak in the near-infrared wavelength region, but since this photodiode is sensitive not only to visible light but also to near-infrared light,
There is a problem in reproducing the red component as it is. for that reason,
Visibility correction for limiting the sensitive wavelength region of the silicon photodiode to the wavelength region of visible light is performed using the visibility correction filter.
【０００３】このような視感度補正フィルターとして
は、フィルター基材中に近赤外光を吸収する銅イオン等
が含有されているフィルターや、フィルター基材の表面
に近赤外光を反射させる蒸着膜が形成されているフィル
ターが知られている。視感度補正フィルターは、一般に
その外周部分が、撮像装置の入射レンズの鏡筒の段部に
接着されて装着されるが、フィルター基材の表面の全面
に蒸着膜が形成されている場合には、必然的に蒸着膜の
一部が被接着領域と接着されることとなる。[0003] As such a visibility correction filter, a filter in which copper ions or the like which absorb near-infrared light is contained in a filter substrate, or a vapor-deposited filter which reflects near-infrared light on the surface of the filter substrate is used. Filters in which a film is formed are known. The visibility correction filter is generally attached with its outer peripheral portion adhered to the step of the lens barrel of the incident lens of the imaging device, but when a vapor-deposited film is formed on the entire surface of the filter substrate, Inevitably, a part of the deposited film is bonded to the region to be bonded.
【０００４】一方、視感度補正フィルターを形成するフ
ィルター基材としては、リン酸系ガラスなどの無機材料
が使用されていたが、例えば軽量であること、および加
工が容易であるなどの理由から、近年では樹脂製のフィ
ルターが多く使用されるようになってきた。然るに、フ
ィルター基材が樹脂により形成されている場合には、フ
ィルター基材が有機物であるのに対して蒸着膜が無機物
であるため、蒸着膜のフィルター基材に対する付着力が
小さく、特に熱耐久性に欠けたものとなる。例えばフィ
ルター基材が樹脂製である視感度補正フィルターが入射
レンズの鏡筒の段部に接着されて装着された撮像装置に
おいては、レンズ鏡筒部分あるいはフィルター基材に大
きな熱応力や熱ひずみが生ずる場合があり、そのような
場合にはフィルター基材と蒸着膜との間に剥離が生じ、
フィルターが脱落するおそれがあるという問題があっ
た。On the other hand, an inorganic material such as a phosphate glass has been used as a filter base material for forming a visibility correction filter. However, for example, it is light in weight and easy to process. In recent years, resin filters have been increasingly used. However, when the filter substrate is formed of a resin, the adhesion of the deposited film to the filter substrate is small because the vapor-deposited film is inorganic while the filter substrate is organic. It becomes lacking in sex. For example, in an imaging device in which a visibility correction filter whose filter base is made of resin is attached and mounted on the step of the lens barrel of the incident lens, large thermal stress or thermal strain is applied to the lens barrel or the filter base. May occur, in such a case peeling occurs between the filter substrate and the deposited film,
There was a problem that the filter might fall off.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な問題を解決するためになされたものであって、その目
的は、被接着領域に大きな耐久性で接着することができ
る光学フィルターおよびその製造方法を提供することに
ある。更に、本発明の目的は、この光学フィルターが装
着された撮像装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an optical filter and an optical filter which can adhere to a region to be adhered with great durability. It is to provide a manufacturing method thereof. It is a further object of the present invention to provide an imaging device equipped with this optical filter.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の光学フィルター
は、フィルター基材の表面に光学特性改善用のコート層
が形成されてなり、コート層が形成された光透過領域の
周囲にフィルター基材の表面が露出した接着用領域が形
成されていることを特徴とする。上記の光学フィルター
において、フィルター基材が樹脂からなることを特徴と
する。また、上記の光学フィルターにおいて、コート層
が蒸着膜からなることを特徴とする。更に、上記の光学
フィルターにおいて、コート層が反射防止膜であること
を特徴とする。また、上記の光学フィルターにおいて、
フィルター基材が近赤外線吸収作用を有することを特徴
とする。An optical filter according to the present invention comprises a filter base material having a coating layer for improving optical characteristics formed on a surface of the filter base material, and a filter base material formed around a light transmitting region on which the coating layer is formed. Is characterized in that a bonding area where the surface is exposed is formed. In the above optical filter, the filter base is made of a resin. Further, in the above optical filter, the coating layer is formed of a vapor-deposited film. Further, in the above optical filter, the coating layer is an antireflection film. Further, in the above optical filter,
The filter substrate has a near-infrared absorbing effect.
【０００７】本発明の光学フィルターの製造方法は、貫
通孔が形成されたマスクをフィルタ基材材料の表面に密
着させた状態で蒸着を行うことにより、マスクの貫通孔
に対応する蒸着膜形成領域に光学特性改善用のコート層
が形成されると共に、その周囲にフィルター基材材料の
表面が露出した表面露出領域が形成された光学フィルタ
ー材料を得ることを特徴とする。また、本発明の光学フ
ィルターの製造方法は、複数の貫通孔が形成されている
マスクを用い、得られる光学フィルター材料について、
マスクの貫通孔の間の被覆部分によって覆われることに
よって形成されたフィルター基材材料の表面が露出した
表面露出領域における切断線に沿って当該光学フィルタ
ー材料を切断する工程を有することを特徴とする。In the method of manufacturing an optical filter according to the present invention, the vapor deposition is performed in a state where the mask having the through-hole formed thereon is in close contact with the surface of the filter base material, thereby forming a vapor-deposited film forming area corresponding to the through-hole of the mask. And an optical filter material having a surface exposed region in which a surface of the filter substrate material is formed around the coating layer for improving the optical characteristics. Further, the method for manufacturing an optical filter of the present invention uses a mask in which a plurality of through holes are formed, and obtains an optical filter material,
A step of cutting the optical filter material along a cutting line in a surface exposed region where a surface of the filter base material formed by being covered by the covering portion between the through holes of the mask is exposed. .
【０００８】また、本発明の撮像装置は、接着用領域の
全面が接着剤を介して枠状の被接着部分に被着された上
記の光学フィルターを有することを特徴とする。[0008] An image pickup apparatus according to the present invention is characterized in that the image pickup device has the above-mentioned optical filter which is attached to a frame-shaped portion to be adhered with an adhesive over the entire surface.
【０００９】[0009]
【作用】本発明の光学フィルターによれば、光学特性改
善用のコート層の周囲に、フィルター基材の表面が露出
した接着用領域が形成されているため、この接着用領域
を利用することにより、当該光学フィルターを大きな接
着力で接着させることができる。また、本発明の光学フ
ィルターの製造方法によれば、マスクを用いることによ
り、所要のコート層と、その周囲にフィルター基材材料
の表面が露出した表面露出領域とが形成された光学フィ
ルター材料を一工程で得ることができるので、目的とす
る光学フィルターを有利に製造することができる。更
に、本発明の光学フィルターの製造方法によれば、複数
の貫通孔が形成されたマスクを用いることにより、表面
露出領域に区画された多数の蒸着膜形成領域が形成され
た光学フィルター材料を１回の蒸着工程で作製すること
ができ、この光学フィルター材料を切断することによ
り、多数の光学フィルターを同時に製造することができ
る。本発明の撮像装置によれば、光学フィルターの接着
が十分であって大きな耐久性が得られる。According to the optical filter of the present invention, since the bonding area where the surface of the filter substrate is exposed is formed around the coating layer for improving the optical characteristics, the bonding area is utilized. The optical filter can be adhered with a large adhesive force. Further, according to the method for producing an optical filter of the present invention, by using a mask, an optical filter material having a required coat layer and a surface exposed region around which the surface of the filter base material is exposed is formed. Since it can be obtained in one step, the desired optical filter can be advantageously produced. Further, according to the optical filter manufacturing method of the present invention, by using a mask in which a plurality of through holes are formed, an optical filter material in which a large number of deposition film forming regions partitioned into surface exposed regions are formed is used. A plurality of optical filters can be manufactured at the same time by cutting the optical filter material by multiple vapor deposition steps. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the imaging device of this invention, adhesion of an optical filter is sufficient and large durability is obtained.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。図１（イ）および（ロ）は、本発明の光学フィル
ターの一例を示す平面図および正面図である。この図に
おいて、光学フィルター１０は、方形板状のフィルター
基材１１とその表面に形成された方形の蒸着膜１４とか
らなり、蒸着膜１４が形成された光透過領域１３の周囲
には、フィルター基材１１の表面が露出した枠状の接着
用領域１２が形成されている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. FIGS. 1A and 1B are a plan view and a front view showing an example of the optical filter of the present invention. In this figure, an optical filter 10 includes a filter substrate 11 having a rectangular plate shape and a rectangular vapor deposition film 14 formed on the surface thereof. A frame-shaped bonding region 12 in which the surface of the base material 11 is exposed is formed.
【００１１】フィルター基材１１は、例えば後述するフ
ィルター基材材料が切断されたものである。フィルター
基材１１を構成する材料としては各種の透明性の高い樹
脂が用いられ、その具体例としては、例えばアクリル系
樹脂、カーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、その他を挙げることができる。フィルター基
材１１の形状および大きさは、特に制限されるものでは
なく、光学フィルター１０が接着される撮像装置の被接
着部の形状および大きさによって選ばれる。また、フィ
ルター基材１１は、それ自体が適当な成分を含有するこ
とによって視感度補正機能を有することが好ましい。The filter substrate 11 is, for example, a material obtained by cutting a filter substrate material described later. Various materials having high transparency are used as a material constituting the filter substrate 11, and specific examples thereof include an acrylic resin, a carbonate resin, a urethane resin, an olefin resin, and the like. . The shape and size of the filter substrate 11 are not particularly limited, and are selected according to the shape and size of a portion to be bonded of the imaging device to which the optical filter 10 is bonded. Further, it is preferable that the filter substrate 11 itself has a visibility correction function by containing an appropriate component.
【００１２】接着用領域１２は、フィルター基材の表面
が露出していることが必要である。この接着用領域１２
の幅は、例えば一辺が１０．５ｍｍの正方形であるフィ
ルター基材１１の場合には、０．３〜２ｍｍとなるよう
設けられることが好ましく、このような値にすることに
より、接着用領域１２の面積が十分に確保され、被接着
領域に大きな接着力で接着することができる。The bonding area 12 needs to have the surface of the filter substrate exposed. This bonding area 12
For example, in the case of the filter base material 11 having a square shape of 10.5 mm on a side, it is preferable that the width is set to 0.3 to 2 mm. Is sufficiently secured, and it is possible to adhere to the region to be adhered with a large adhesive force.
【００１３】フィルター基材１１の表面に形成される蒸
着膜１４は、光学特性改善用のコート層を形成するもの
であればその特性が特に限定されるものではなく、例え
ば、シリカ（ＳｉＯ2 ）層とチタニア（ＴｉＯ2 ）層が
交互に積層されてなる赤外線反射膜、フッ化マグネシウ
ム（ＭｇＯ2 ）層よりなる反射防止膜、またはフィルタ
ー機能を有する膜として形成することができる。また、
蒸着膜１４の厚さは、各層の厚み、積層数などを適宜選
択することにより変えられるが、実際には全体の厚さ
は、例えば０．０７〜２．２μｍとされる。The properties of the deposited film 14 formed on the surface of the filter substrate 11 are not particularly limited as long as they form a coating layer for improving optical characteristics. For example, silica (SiO 2 ) It can be formed as an infrared reflection film in which layers and titania (TiO 2 ) layers are alternately laminated, an antireflection film made of a magnesium fluoride (MgO 2 ) layer, or a film having a filter function. Also,
The thickness of the vapor-deposited film 14 can be changed by appropriately selecting the thickness of each layer, the number of layers, and the like. In practice, the entire thickness is, for example, 0.07 to 2.2 μm.
【００１４】光透過領域１３の大きさは、例えば図２に
示すように、当該光学フィルター１０の接着用領域１２
の全面が撮像装置のレンズ鏡筒２０の段部に形成された
被接着領域２４に接着され、光透過領域１３がレンズ鏡
筒２０の小径筒状部２１による光路の全体と一致する大
きさであることが好ましい。The size of the light transmitting area 13 is, for example, as shown in FIG.
Is adhered to an adhered area 24 formed at the step portion of the lens barrel 20 of the imaging device, and the light transmission area 13 has a size that matches the entire optical path of the small-diameter cylindrical portion 21 of the lens barrel 20. Preferably, there is.
【００１５】図３（イ）および（ロ）は、本発明の光学
フィルターを製造する工程におけるマスクの配置の方法
の一例を示す平面図および中央断面図である。３１はデ
ィスク状のフィルター基材材料であって、その表面に
は、板状のマスク３０が蒸着源（図示せず）に対して前
面側に位置するよう、密着させて配置される。このマス
ク３０は、各々が蒸着膜形成領域３５に対応する四角形
の貫通孔３２の多数と、各貫通孔３２の周囲に接着用領
域１２となる部分を覆う被覆部分３３とからなり、貫通
孔３２は、縦方向と横方向に等間隔に配列された状態と
されている。マスク３０をフィルター基材材料３１の表
面に密着させて配置した状態で蒸着を行い、蒸着後にマ
スク３０を除去すると、図４に示すようにマスク３０の
各貫通孔３２に対応する四角形の蒸着膜形成領域３５
と、その周囲にフィルター基材材料３１の表面が露出し
た表面露出領域３６とが形成された光学フィルター材料
３４が得られる。そして、表面露出領域３６において、
蒸着膜形成領域３５の周縁に沿って、すなわち表面露出
領域３６の幅方向の中央位置に沿って光学フィルター材
料３４を切断することにより、接着用領域１２を有する
光学フィルター１０を得ることができる。なお、図３中
の破線Ｃは、切断線を示す。FIGS. 3A and 3B are a plan view and a center sectional view showing an example of a method of arranging a mask in a process of manufacturing the optical filter of the present invention. Reference numeral 31 denotes a disk-shaped filter base material, on which a plate-shaped mask 30 is disposed in close contact with a deposition source (not shown) so as to be located on the front side. The mask 30 includes a large number of rectangular through holes 32 each corresponding to the deposition film formation region 35, and a covering portion 33 surrounding each through hole 32 and covering the portion to be the bonding region 12. Are arranged at equal intervals in the vertical and horizontal directions. Vapor deposition is performed in a state where the mask 30 is placed in close contact with the surface of the filter base material 31, and after the mask 30 is removed after the vapor deposition, a rectangular vapor deposition film corresponding to each through-hole 32 of the mask 30 as shown in FIG. Forming area 35
Then, an optical filter material 34 having a surface exposed region 36 around which the surface of the filter base material 31 is exposed is obtained. Then, in the surface exposed region 36,
The optical filter 10 having the bonding area 12 can be obtained by cutting the optical filter material 34 along the peripheral edge of the deposition film forming area 35, that is, along the center in the width direction of the surface exposed area 36. Note that a broken line C in FIG. 3 indicates a cutting line.
【００１６】フィルター基材材料３１は、例えば特開平
６−１１８２２８号公報に記載の方法によって得られた
ものであることが好ましい。この方法は、特定のリン酸
基含有単量体と、共重合性単量体よりなる単量体と、銅
イオンを主成分とするイオン性金属成分とを含有する単
量体混合物を調製し、この単量体混合物をラジカル重合
させることにより、銅塩を主成分とする金属塩が含有さ
れた共重合体を得るものである。The filter base material 31 is preferably one obtained by the method described in, for example, JP-A-6-118228. This method prepares a monomer mixture containing a specific phosphate group-containing monomer, a monomer composed of a copolymerizable monomer, and an ionic metal component containing copper ions as a main component. By subjecting this monomer mixture to radical polymerization, a copolymer containing a metal salt containing a copper salt as a main component is obtained.
【００１７】このような製造方法によって得られる共重
合体は、リン酸基と、銅塩を主成分とする金属塩とを含
有しているので、近赤外領域の波長の光を高い効率でカ
ットすることができ、カメラの測光用フィルターや視感
度補正用フィルターの材料として好適に用いることがで
きる。The copolymer obtained by such a production method contains a phosphoric acid group and a metal salt mainly composed of a copper salt, so that it can efficiently emit light having a wavelength in the near infrared region. It can be cut and can be suitably used as a material of a photometric filter or a visibility correction filter of a camera.
【００１８】マスク３０の材質としては、貫通孔３２を
容易に加工することができるようなものが選ばれ、例え
ばステンレス鋼などを用いることができる。マスク３０
に形成される貫通孔３２の配列は自由である。また、貫
通孔３２の各々の形状は、撮像装置の被接着領域の形状
に適した蒸着膜形成領域に対応する形状とされる。ま
た、マスク３０に形成された貫通孔３２の周囲の被覆部
分３３の大きさは、所要の接着用領域１２の幅の２倍ま
たはそれ以上とされる。この被覆部分３３が十分な大き
さでない場合には、結果として、接着用領域１２を十分
に確保することができない。更に、上記のように複数の
貫通孔３２が形成されたマスクを用いることにより、１
回の蒸着工程で、表面露出領域３６に区画された複数の
蒸着膜形成領域３５を形成することができるので、好ま
しい。The material of the mask 30 is selected so that the through hole 32 can be easily processed. For example, stainless steel can be used. Mask 30
The arrangement of the through-holes 32 formed in the holes is arbitrary. The shape of each of the through holes 32 is a shape corresponding to the deposition film formation region suitable for the shape of the region to be bonded of the imaging device. The size of the covering portion 33 around the through hole 32 formed in the mask 30 is twice or more the required width of the bonding region 12. If the covering portion 33 is not large enough, as a result, the bonding area 12 cannot be sufficiently secured. Further, by using a mask in which a plurality of through holes 32 are formed as described above,
This is preferable because a plurality of deposition film formation regions 35 partitioned into the surface exposed regions 36 can be formed in one evaporation step.
【００１９】フィルター基材材料３１の表面に蒸着膜を
形成させる方法としては、蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタ法、気層反応法などが挙げられるが、中
でも装置が簡便で、マスキングが容易であるなどの理由
から、蒸着法により蒸着膜を形成することが好ましい。
そのときの蒸着条件は、通常の条件に従って行うことが
できる。As a method of forming a vapor deposition film on the surface of the filter substrate material 31, a vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a gas phase reaction method and the like can be mentioned. For this reason, it is preferable to form an evaporation film by an evaporation method.
The deposition conditions at that time can be performed according to ordinary conditions.
【００２０】光学フィルター材料３４は、マスク３０を
除去した後、蒸着膜形成領域３５の間のフィルター基材
材料２１の表面が露出した表面露出領域３６において蒸
着膜形成領域３５の周縁に沿って、切断される。特に、
隣接する蒸着膜形成領域３５の間に設けられたフィルタ
ー基材材料３１の表面が露出した表面露出領域３６の中
心に沿って切断されることが好ましい。光学フィルター
材料３４には、各蒸着膜形成領域３５の周囲に表面露出
領域３６を適当な大きさの幅で設けておくことにより、
光学フィルター材料３４を無駄なく利用することができ
る。After the mask 30 is removed, the optical filter material 34 is formed along the periphery of the deposited film forming area 35 in a surface exposed area 36 where the surface of the filter base material 21 is exposed between the deposited film forming areas 35. Be cut off. In particular,
It is preferable that the surface of the filter base material 31 provided between the adjacent deposited film forming regions 35 is cut along the center of the exposed surface region 36 where the surface is exposed. In the optical filter material 34, by providing a surface exposure region 36 with a width of an appropriate size around each deposition film formation region 35,
The optical filter material 34 can be used without waste.
【００２１】また、本発明の撮像装置は、フィルター基
材の表面が露出した接着用領域を有する本発明の光学フ
ィルターが装着されたものであり、その装着部分は、光
学フィルターの接着用領域の全面が接着剤を介して、レ
ンズ鏡筒の段部の被接着領域と接着されている。この接
着部においては、フィルター基材とレンズ鏡筒の被接着
領域との間に介在物が存在しないことにより、フィルタ
ー基材とレンズ鏡筒との間に大きな耐久性が得られる。Further, the image pickup apparatus of the present invention is provided with the optical filter of the present invention having a bonding area in which the surface of the filter substrate is exposed, and the mounting portion is provided in the bonding area of the optical filter. The entire surface is adhered to the adhered area of the step portion of the lens barrel via an adhesive. In this bonding portion, since there is no inclusion between the filter base material and the region to be bonded of the lens barrel, great durability is obtained between the filter base material and the lens barrel.
【００２２】[0022]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこの実施例に限定されるものではない。 ＜実施例＞厚さ１ｍｍ、直径８０ｍｍのディスク状の近
赤外光吸収機能を有する樹脂板の表面に、その全面を覆
うよう、縦９ｍｍ、横９ｍｍの正方形の貫通孔が格子状
に形成され、隣接する２つの貫通孔の間の被覆部分の幅
が１．５ｍｍである厚さ０．４ｍｍのステンレス鋼板よ
りなるマスクを、蒸着源に対して樹脂板の前面に密着さ
せて配置する。そして、フッ化マグネシウムを蒸着する
ことにより、厚さが９０ｎｍの反射防止膜を形成した。
蒸着終了後、前記マスクを除去し、蒸着膜形成領域の間
の樹脂板の表面が露出した部分の中心を蒸着膜形成領域
の周縁に沿って、ダイサーを用いて切断することによ
り、各々縦１０．５ｍｍ、横１０．５ｍｍの光学フィル
ターを製造した。この光学フィルターの１つを用い、そ
の接着用領域の全面に瞬間接着剤４０３（日本ロックタ
イト社製）を塗布し、蒸着膜がレンズ鏡筒の光路の全面
を覆うよう、かつレンズ鏡筒の被接着領域と光学フィル
ターの接着領域との間に介在しない状態で、ポリカーボ
ネート製のレンズ鏡筒の段部に接着した。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The present invention is not limited to this embodiment. <Example> On a surface of a disk-shaped resin plate having a near-infrared light absorption function having a thickness of 1 mm and a diameter of 80 mm, square through holes having a length of 9 mm and a width of 9 mm are formed in a lattice shape so as to cover the entire surface. A mask made of a stainless steel plate having a thickness of 0.4 mm and a width of a covering portion between two adjacent through holes is 1.5 mm is disposed in close contact with the evaporation source on the front surface of the resin plate. Then, an antireflection film having a thickness of 90 nm was formed by depositing magnesium fluoride.
After the deposition is completed, the mask is removed, and the center of the portion where the surface of the resin plate is exposed between the deposition film formation regions is cut along the periphery of the deposition film formation region by using a dicer to obtain 10 vertical portions each. An optical filter having a size of 0.5 mm and a width of 10.5 mm was manufactured. Using one of the optical filters, an instant adhesive 403 (manufactured by Loctite Japan Co., Ltd.) is applied to the entire surface of the bonding area, and the deposited film covers the entire optical path of the lens barrel and covers the lens barrel. It was bonded to the step of the polycarbonate lens barrel without being interposed between the bonding area and the bonding area of the optical filter.
【００２３】このようにして得られたレンズについて、
冷熱衝撃試験器（ロバート社製）を用いて、熱耐久試験
を行った。試験条件は、低温の温度を−３０℃、高温の
温度を７０℃とし、低温の温度を３０分間保持した後、
３０分をかけて高温の温度まで加熱し、この高温の温度
で３０分間保持した後、再び３０分をかけて低温の温度
まで冷却する温度サイクルを、合計１００サイクル繰り
返して行った。この熱耐久試験後においても、光学フィ
ルターとレンズ鏡筒との接着部には全く剥離が認められ
なかった。With respect to the lens thus obtained,
A thermal endurance test was performed using a thermal shock tester (Robert). The test conditions were as follows: the low temperature was -30 ° C, the high temperature was 70 ° C, and the low temperature was maintained for 30 minutes.
A temperature cycle of heating to a high temperature over 30 minutes, holding at the high temperature for 30 minutes, and cooling to a low temperature again for 30 minutes was repeated 100 times in total. Even after the heat endurance test, no peeling was observed at the bonding portion between the optical filter and the lens barrel.
【００２４】＜比較例＞厚さ１ｍｍ、直径８０ｍｍのデ
ィスク状の近赤外光吸収機能を有するフィルター基材材
料の表面にマスクをせずに上記の実施例と同様の条件で
蒸着を行い、シリカ（ＳｉＯ2 ）層とチタニア（ＴｉＯ
2 ）層が交互に積層された蒸着膜を樹脂板の表面の全面
に形成した。蒸着膜は、各層の厚さ、積層数、全体の厚
さ共に実施例のものと同様である。そして、得られた光
学フィルター材料をダイサーを用いて１０．５ｍｍ×１
０．５ｍｍの大きさに切断し、実施例と同じ大きさの光
学フィルターを得た。このフィルターにおいて、蒸着膜
の周縁部の一部分に瞬間接着剤４０３（日本ロックタイ
ト社製）を塗布し、ポリカーボネート製のレンズ鏡筒に
接着した。このようにして得られた部品を実施例と同様
の条件で熱耐久試験を行ったところ、温度サイクルが２
０サイクルに達した時点で既に光学フィルターとレンズ
鏡筒との接着部に剥離が生じていることが認められた。<Comparative Example> A disk having a thickness of 1 mm and a diameter of 80 mm and having a near-infrared light absorbing function having a function of absorbing near-infrared light was vapor-deposited under the same conditions as in the above example without using a mask. Silica (SiO 2 ) layer and titania (TiO 2 )
2 ) A deposited film in which layers were alternately laminated was formed on the entire surface of the resin plate. The thickness of the deposited film, the number of layers, and the overall thickness are the same as those of the embodiment. Then, the obtained optical filter material was 10.5 mm × 1 using a dicer.
It was cut into a size of 0.5 mm to obtain an optical filter having the same size as that of the example. In this filter, an instant adhesive 403 (manufactured by Nippon Loctite) was applied to a part of the peripheral portion of the vapor-deposited film, and adhered to a polycarbonate lens barrel. A heat endurance test was performed on the component thus obtained under the same conditions as in the example.
When the cycle reached 0, it was recognized that peeling had already occurred at the bonded portion between the optical filter and the lens barrel.
【００２５】以上のことから、樹脂製の光学フィルター
において、蒸着膜により視感度補正機能を発現させる場
合には、光学フィルターの周縁部に接着用領域を形成す
ることによって良好な熱耐久性を有する接着状態が得ら
れることが理解される。From the above, when the visibility correction function is realized by a vapor-deposited film in a resin optical filter, good thermal durability can be obtained by forming an adhesive region on the periphery of the optical filter. It is understood that an adhered state is obtained.
【００２６】以上、本発明を具体的に説明したが、本発
明においては種々の変更を加えることが可能である。例
えば、コート層は近赤外線反射用に限らず、他の光学特
性を有するものであってもよい。Although the present invention has been described in detail, various changes can be made in the present invention. For example, the coat layer is not limited to the one for near-infrared reflection, and may have other optical characteristics.
【００２７】[0027]
【発明の効果】本発明の光学フィルターによれば、光学
特性改善用のコート層の周囲に、フィルター基材の表面
が露出した接着用領域が形成されているため、この接着
用領域を利用することにより、当該光学フィルターを大
きな接着力で接着させることができる。また、本発明の
光学フィルターの製造方法によれば、マスクを用いるこ
とにより、所要のコート層と、その周囲にフィルター基
材材料の表面が露出した表面露出領域とが形成された光
学フィルター材料を一工程で得ることができるので、目
的とする光学フィルターを有利に製造することができ
る。更に、本発明の光学フィルターの製造方法によれ
ば、複数の貫通孔が形成されたマスクを用いることによ
り、表面露出領域に区画された多数の蒸着膜形成領域が
形成された光学フィルター材料を１回の蒸着工程で作製
することができ、この光学フィルター材料を切断するこ
とにより、多数の光学フィルターを同時に製造すること
ができる。本発明の撮像装置によれば、光学フィルター
の接着が十分であって大きな耐久性が得られる。According to the optical filter of the present invention, since the bonding area where the surface of the filter substrate is exposed is formed around the coating layer for improving the optical characteristics, this bonding area is used. Thereby, the optical filter can be adhered with a large adhesive force. Further, according to the method for producing an optical filter of the present invention, by using a mask, an optical filter material having a required coat layer and a surface exposed region around which the surface of the filter base material is exposed is formed. Since it can be obtained in one step, the desired optical filter can be advantageously produced. Further, according to the optical filter manufacturing method of the present invention, by using a mask in which a plurality of through holes are formed, an optical filter material in which a large number of deposition film forming regions partitioned into surface exposed regions are formed is used. A plurality of optical filters can be manufactured at the same time by cutting the optical filter material by multiple vapor deposition steps. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the imaging device of this invention, adhesion of an optical filter is sufficient and large durability is obtained.
【図１】（イ）は本発明の光学フィルターの一例を示す
平面図、（ロ）はその断面図である。FIG. 1A is a plan view showing an example of the optical filter of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view thereof.
【図２】光学フィルターとレンズ鏡筒との接着状態を示
す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an adhesion state between an optical filter and a lens barrel.
【図３】（イ）は本発明の光学フィルターを製造する工
程におけるマスクの配置の方法の一例を示す平面図、
（ロ）は中央断面図である。FIG. 3A is a plan view illustrating an example of a method of disposing a mask in a process of manufacturing an optical filter of the present invention;
(B) is a central sectional view.
【図４】（イ）は本発明の光学フィルターを製造する工
程において、蒸着膜を形成させた後に得られた光学フィ
ルター材料の一例を示す平面図、（ロ）はその中央断面
図である。FIG. 4A is a plan view showing an example of an optical filter material obtained after forming a vapor-deposited film in a step of manufacturing the optical filter of the present invention, and FIG. 4B is a central cross-sectional view thereof.
１０ 光学フィルター １１ フィルター基材 １２ 接着用領域 １３ 光透過領域 １４ 蒸着膜 ２０ レンズ鏡筒部 ２１ 小径筒状部 ２２ 段部 ２３ レンズ ２４ 被接着領域 ３０ マスク ３１ フィルター基材材料 ３２ 貫通孔 ３３ 被覆部分 ３４ 光学フィルター材料 ３５ 蒸着膜形成領域 ３６ 表面露出領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical filter 11 Filter base material 12 Adhesive area 13 Light transmission area 14 Evaporated film 20 Lens barrel 21 Small diameter cylindrical part 22 Step part 23 Lens 24 Adhered area 30 Mask 31 Filter base material 32 Through hole 33 Covered part 34 Optical Filter Material 35 Deposition Film Forming Area 36 Surface Exposed Area
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 CA09 CA11 CA19 CA25 2K009 AA04 CC03 CC06 DD03 EE04 FF01 4M118 AA08 AA10 AB01 BA10 BA14 GC11 GC20 GD02 HA23 HA24 5C024 CA31 EA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 CA09 CA11 CA19 CA25 2K009 AA04 CC03 CC06 DD03 EE04 FF01 4M118 AA08 AA10 AB01 BA10 BA14 GC11 GC20 GD02 HA23 HA24 5C024 CA31 EA08
Claims (8)
のコート層が形成されてなり、コート層が形成された光
透過領域の周囲にフィルター基材の表面が露出した接着
用領域が形成されていることを特徴とする光学フィルタ
ー。A coating layer for improving optical characteristics is formed on the surface of a filter substrate, and an adhesion region where the surface of the filter substrate is exposed is formed around a light transmitting region on which the coating layer is formed. An optical filter, comprising:
徴とする請求項１に記載の光学フィルター。2. The optical filter according to claim 1, wherein the filter substrate is made of a resin.
する請求項１または請求項２に記載の光学フィルター。3. The optical filter according to claim 1, wherein the coat layer comprises a vapor-deposited film.
とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の光学フィ
ルター。4. The optical filter according to claim 1, wherein the coat layer is an anti-reflection film.
することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
光学フィルター。5. The optical filter according to claim 1, wherein the filter substrate has a near-infrared absorbing effect.
材材料の表面に密着させた状態で蒸着を行うことによ
り、マスクの貫通孔に対応する蒸着膜形成領域に光学特
性改善用のコート層が形成されると共に、その周囲にフ
ィルター基材材料の表面が露出した表面露出領域が形成
された光学フィルター材料を得ることを特徴とする光学
フィルターの製造方法。6. A coating layer for improving optical characteristics in a deposition film formation region corresponding to a through hole of a mask by performing vapor deposition in a state in which a mask having a through hole formed thereon is in close contact with a surface of a filter base material. And an optical filter material having a surface exposed region around which the surface of the filter base material is exposed is obtained.
用い、得られる光学フィルター材料について、マスクの
貫通孔の間の被覆部分によって覆われることによって形
成されたフィルター基材材料の表面が露出した表面露出
領域における切断線に沿って当該光学フィルター材料を
切断する工程を有することを特徴とする請求項６に記載
の光学フィルターの製造方法。7. Using a mask in which a plurality of through holes are formed, the surface of a filter base material formed by covering an obtained optical filter material with a covering portion between the mask through holes is exposed. The method for manufacturing an optical filter according to claim 6, further comprising a step of cutting the optical filter material along a cutting line in the exposed surface exposed region.
の被接着部分に被着された請求項１〜請求項５のいずれ
かに記載の光学フィルターを有することを特徴とする撮
像装置。8. An imaging device comprising the optical filter according to claim 1, wherein the entire surface of the bonding area is adhered to a frame-shaped adhered portion via an adhesive. apparatus.
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|---|---|---|---|
| JP10234520A JP2000066021A (en) | 1998-08-20 | 1998-08-20 | Optical filter and its production as well as image pickup device |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP10234520A JP2000066021A (en) | 1998-08-20 | 1998-08-20 | Optical filter and its production as well as image pickup device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000066021A true JP2000066021A (en) | 2000-03-03 |
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ID=16972321
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| JP10234520A Withdrawn JP2000066021A (en) | 1998-08-20 | 1998-08-20 | Optical filter and its production as well as image pickup device |
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| Country | Link |
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1998
- 1998-08-20 JP JP10234520A patent/JP2000066021A/en not_active Withdrawn
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