JP2000053889A - Photo-curable coating composition capable of embossed design finishing, embossed design finished base material, and application of embossed design finishing on surface of base material - Google Patents

Photo-curable coating composition capable of embossed design finishing, embossed design finished base material, and application of embossed design finishing on surface of base material

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JP2000053889A
JP2000053889A JP10227821A JP22782198A JP2000053889A JP 2000053889 A JP2000053889 A JP 2000053889A JP 10227821 A JP10227821 A JP 10227821A JP 22782198 A JP22782198 A JP 22782198A JP 2000053889 A JP2000053889 A JP 2000053889A
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本 耕 二 森
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川 健 二 宮
Akira Masuda
田 章 増
Shinji Yasugi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compn. easily capable of forming a complex uneven embossed pattern on the surface of a flat board, a coated board having an upscale uneven embossed pattern, and an application capable of producing a coated base material as above-mentioned. SOLUTION: This photo-curable coating compsn. capable of embossed design finishing comprises a photo-curable (meth)acrylate compd. and/or a photopolymerizable unsatd. polyester (a), a photopolymerization initiator (b), and a silicone polymer (c) incompatible with the component (a). This embossed design finished base material is obtd. through a process of forming a coated uneven embossed pattern by applying the compsn. on the surface of the base material (A), and then a process of forming a cured film of the uneven embossed pattern by irradiating the coated surface (B) with an electron beam or a light. This application of an embossed design finishing on the surface of the base material includes the processes (A) and (B).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、エンボス調意匠仕上げ塗
装の可能な光硬化性塗料組成物、エンボス調意匠仕上げ
塗装された基材特に無機質フラット基板、および基材表
面にエンボス調意匠仕上げを施す塗装方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photocurable coating composition capable of embossed design finish coating, a substrate coated with an embossed design finish, particularly an inorganic flat substrate, and a substrate surface having an embossed design finish. Related to the painting method.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】無機質フラット基板たとえばケイ
酸カルシウム板、フレキシブルボード(石綿スレート)
等のフラット基材表面に、基材表面へのアルカリ滲出を
防止することを目的としてウレタンシーラーなどで下地
処理を施した後、通常の塗料を用いてそのまま中塗り塗
装、上塗り塗装を行なえば、通常フラットに塗装仕上げ
された基材(化粧板)が得られる。
BACKGROUND OF THE INVENTION Inorganic flat substrates such as calcium silicate plates and flexible boards (asbestos slate)
After performing a base treatment with a urethane sealer or the like for the purpose of preventing alkali bleeding to the base material surface, etc. on the flat base material surface, etc. Usually, a base material (decorative board) finished with a flat paint finish is obtained.

【0003】これに対し、エンボス(凹凸)仕上げされ
た無機質基材(化粧板)を得る場合には、無機質基材の
成型時にエンボス加工し、形成された無機質基材の凹凸
表面に、ウレタンシーラーなどで下地処理を施し、次い
で、着色下塗り塗料をそのままベタ塗りした後、また
は、そのベタ塗りした上にスクリーンもしくは転写等に
よる印刷を施した後、その塗布面または印刷面を上塗り
塗料として光硬化形クリヤー塗料で塗装する方法が一般
に採用されている。
On the other hand, when obtaining an inorganic substrate (decorative board) finished with embossment (irregularity), embossing is performed at the time of molding the inorganic substrate, and the uneven surface of the formed inorganic substrate is coated with a urethane sealer. After applying a base treatment, etc., and then applying a solid paint with a colored undercoat as it is, or applying a screen or transfer printing on the solid paint, the coated surface or the printed surface is photocured as a topcoat paint A method of applying a clear paint is generally employed.

【0004】しかしながら、この無機質基材の成型の際
にエンボス加工する方法では、複雑なエンボス模様を形
成することは困難である。そこで、本発明者らは、無機
質基材そのものにエンボス加工を施すことなく、無機質
フラット基板表面に、複雑なエンボス模様であっても塗
料で簡単にそのエンボス模様を形成することができる塗
料およびその塗装方法を鋭意研究し、光硬化性(メタ)
アクリレート化合物、光重合開始剤、および光硬化性
(メタ)アクリレート化合物に対して非相溶性のシリコ
ーン系重合体を含有させた光硬化性塗料組成物を、無機
質フラット基板表面に塗装したところ、この無機質フラ
ット基板表面に、シリコーン系重合体による光硬化性
(メタ)アクリレート化合物の分離はじき現象が生じて
凹凸エンボス模様塗布面が形成され、この凹凸エンボス
模様塗布面に電子線または光を照射することにより、立
体感のある凹凸エンボス模様を有する硬化塗膜が形成さ
れること、および上記光硬化性(メタ)アクリレート化
合物の代わりに光重合性不飽和ポリエステルを用いても
同様の結果が得られることを見出し、本発明を完成する
に至った。
[0004] However, it is difficult to form a complicated embossed pattern by the method of embossing at the time of molding the inorganic base material. Therefore, the present inventors have made it possible to easily form an embossed pattern even with a complicated embossed pattern on the surface of the inorganic flat substrate without embossing the inorganic base material itself, and a paint and the like. Intensive research on coating methods, photocurable (meta)
When a photocurable coating composition containing an acrylate compound, a photopolymerization initiator, and a silicone polymer incompatible with the photocurable (meth) acrylate compound was applied to the surface of the inorganic flat substrate, A photo-curable (meth) acrylate compound is separated and repelled by a silicone polymer on the surface of an inorganic flat substrate to form an uneven embossed pattern application surface, and irradiating the uneven embossed pattern application surface with an electron beam or light. As a result, a cured coating film having an uneven embossed pattern having a three-dimensional effect is formed, and similar results can be obtained even when a photopolymerizable unsaturated polyester is used in place of the photocurable (meth) acrylate compound. And completed the present invention.

【0005】なお、特公昭64−4832号公報には、
一分子中にエチレン性不飽和性結合を有する電子線硬化
性化合物(たとえばウレタンアクリレートオリゴマー)
と、一分子中に二個以上の官能基を有する有機ケイ素化
合物(たとえばビニルトリエトキシシラン)を主成分と
する電子線硬化性凹凸表面形成塗料を被塗装材に塗装
し、その後、その塗布面に電子線を照射して該塗料を硬
化せしめると同時に表面に凹凸を形成させることを特徴
とする、凹凸表面を形成する塗装方法が開示されてい
る。この塗装方法では、電子線照射前の塗膜は平滑であ
り、電子線を照射することによって凹凸表面が形成され
る。一方、本発明の塗装方法では、電子線または光の照
射前に未硬化の凹凸塗膜が形成され、この凹凸塗膜は、
電子線または光を照射することにより硬化する。
Japanese Patent Publication No. 64-4832 discloses that
Electron beam curable compound having an ethylenically unsaturated bond in one molecule (eg, urethane acrylate oligomer)
And an electron beam-curable uneven surface forming coating mainly composed of an organosilicon compound having two or more functional groups in one molecule (for example, vinyltriethoxysilane) is applied to the material to be coated. A coating method for forming an uneven surface, characterized by irradiating an electron beam to the coating to cure the coating and at the same time to form unevenness on the surface. In this coating method, the coating film before the electron beam irradiation is smooth, and an uneven surface is formed by irradiation with the electron beam. On the other hand, in the coating method of the present invention, an uncured uneven coating film is formed before irradiation with an electron beam or light, and the uneven coating film is
It is cured by irradiation with an electron beam or light.

【0006】[0006]

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に伴う
問題を解決しようとするものであって、フラット基材特
に無機質フラット基板の表面に、複雑なエンボス模様で
あってもそのエンボス模様を容易に形成することができ
る、エンボス調意匠仕上げ塗装が可能な塗料組成物、お
よびその塗料組成物を用いてエンボス調意匠仕上げ塗装
された基材、ならびにその基材表面にエンボス調意匠仕
上げを施す塗装方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems associated with the prior art as described above. The present invention is directed to a flat substrate, particularly an inorganic flat substrate, which has a complicated embossed pattern even on a surface thereof. Can be easily formed, a paint composition capable of embossed design finish coating, and a base material that has been embossed design finished using the coating composition, and an embossed design finish on the base material surface The purpose is to provide a coating method to be applied.

【0007】[0007]

【発明の概要】本発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗装
の可能な光硬化性塗料組成物は、(a)光硬化性(メ
タ)アクリレート化合物(a1)および/または光重合
性不飽和ポリエステル(a2)、(b)光重合開始剤、
および(c)該(a)成分に対して非相溶性のシリコー
ン系重合体を含有してなることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The photocurable coating composition according to the present invention, which is capable of embossed finish coating, comprises (a) a photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2). ), (B) a photopolymerization initiator,
And (c) a silicone polymer incompatible with the component (a).

【0008】また、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ
塗装された基材は、(A)フラット基材表面に、(a)
光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)および/
または光重合性不飽和ポリエステル(a2)、(b)光
重合開始剤、および(c)該(a)成分に対して非相溶
性のシリコーン系重合体を含有してなるエンボス調意匠
仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物を塗装して、シ
リコーン系重合体(c)による(a)成分の分離はじき
現象により凹凸エンボス模様塗布面を形成する工程、お
よび(B)次いで、該凹凸エンボス模様塗布面に、電子
線または光を照射して凹凸エンボス模様の硬化塗膜を形
成する工程を経て得られたことを特徴としている。
[0008] Further, the substrate coated with the embossed design according to the present invention comprises:
Photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or
Alternatively, an embossed finish paint containing a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), (b) a photopolymerization initiator, and (c) a silicone polymer incompatible with the component (a). A step of applying a possible photocurable coating composition to form an embossed pattern application surface by separating and repelling the component (a) by the silicone polymer (c); and (B) then forming the embossed pattern It is characterized by being obtained through a step of irradiating an electron beam or light to the coated surface to form a cured coating film having an embossed pattern.

【0009】さらに、本発明に係る基材表面にエンボス
調意匠仕上げを施す塗装方法は、(A)フラット基材表
面に、(a)光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a
1)および/または光重合性不飽和ポリエステル(a
2)、(b)光重合開始剤、および(c)該(a)成分
に対して非相溶性のシリコーン系重合体を含有してなる
エンボス調意匠仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物
を塗装して、シリコーン系重合体(c)による(a)成
分の分離はじき現象により凹凸エンボス模様塗布面を形
成する工程、および(B)次いで、該凹凸エンボス模様
塗布面に、電子線または光を照射して凹凸エンボス模様
の硬化塗膜を形成する工程を経ることを特徴としてい
る。
Further, according to the coating method for embossing a base material surface according to the present invention, (A) a photocurable (meth) acrylate compound (a)
1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a
2), (b) a photopolymerization initiator, and (c) a photocurable coating composition capable of embossed finish finish coating, comprising a silicone polymer incompatible with the component (a). And (B) forming an uneven embossed pattern application surface by a repelling phenomenon of the component (a) by the silicone polymer (c), and (B) applying an electron beam or light to the uneven embossed pattern applied surface. To form a cured coating film having a concavo-convex embossed pattern.

【0010】これらの発明において、前記シリコーン系
重合体(c)としては、通常次の式で表わされるシリコ
ーン系液状重合体が用いられる。このシリコーン系重合
体(c)は、通常、上記塗料組成物全体100重量部中
に、0.01〜5.0重量部の量で配合されている。
In these inventions, a silicone liquid polymer represented by the following formula is usually used as the silicone polymer (c). The silicone polymer (c) is usually blended in an amount of 0.01 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition.

【0011】(R1−)3Si−(−OSi(−R2
2−)n−OSi(−R33 [式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基または水素原子であり、nは、0または1〜1
000の整数である。] 前記光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)とし
ては、通常エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレートまたはポリエステル(メタ)アク
リレートが用いられる。
(R 1- ) 3 Si-(-OSi (-R 2 )
2- ) n -OSi (-R 3 ) 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or a hydrogen atom, and n is 0 or 1 to 1
000 is an integer. As the photocurable (meth) acrylate compound (a1), epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate or polyester (meth) acrylate is usually used.

【0012】また、前記(A)工程で用いられるフラッ
ト基材表面は、予め着色下塗り塗膜または目止め塗膜で
被覆されていることが好ましい。前記(A)工程で用い
られるフラット基材として、無機質フラット基板を用い
ることができる。
Further, it is preferable that the surface of the flat base material used in the step (A) is previously coated with a colored undercoating film or a sealing film. As the flat substrate used in the step (A), an inorganic flat substrate can be used.

【0013】[0013]

【発明の具体的説明】以下、本発明に係るエンボス調意
匠仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物、エンボス調
意匠仕上げ塗装された基材、および基材表面にエンボス
調意匠仕上げを施す塗装方法について具体的に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, a photocurable coating composition according to the present invention capable of embossed design finish coating, a substrate coated with an embossed design finish, and a coating applied with an embossed design finish on the substrate surface The method will be specifically described.

【0014】まず、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ
塗装の可能な光硬化性塗料組成物について説明する。本
発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗装の可能な光硬化性
塗料組成物は、(a)光硬化性(メタ)アクリレート化
合物(a1)および/または光重合性不飽和ポリエステ
ル(a2)、(b)光重合開始剤、および(c)該
(a)成分に対して非相溶性のシリコーン系重合体を含
有している。
First, the photo-curable coating composition according to the present invention, which is capable of embossed finish coating, will be described. The photocurable coating composition capable of embossed finish finishing according to the present invention comprises (a) a photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), (b) It contains a photopolymerization initiator and (c) a silicone polymer incompatible with the component (a).

【0015】光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a
1) 本発明で用いられる光硬化性(メタ)アクリレート化合
物(a1)は、1分子中に2個以上のアクリロイル基
(CH2 =CH−CO−)またはメタクリロイル基(C
2 =C(CH3 )−CO−)を有する。具体的には、
エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アク
リレート、ポリエステル(メタ)アクリレートが挙げら
れる。
Photocurable (meth) acrylate compound (a
1) The photocurable (meth) acrylate compound (a1) used in the present invention has two or more acryloyl groups (CH 2 CHCH—CO—) or methacryloyl groups (C
Having H 2 = C (CH 3) -CO-). In particular,
Epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate.

【0016】エポキシ(メタ)アクリレートは、エピク
ロルヒドリン等のエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸
との反応により合成される。エポキシ(メタ)アクリレ
ートとしては、具体的には、ビスフェノールAとエピク
ロルヒドリンと(メタ)アクリル酸との反応により合成
されるビスフェノールA型エポキシアクリレート、ビス
フェノールSとエピクロルヒドリンと(メタ)アクリル
酸との反応により合成されるビスフェノールS型エポキ
シアクリレート、ビスフェノールFとエピクロルヒドリ
ンと(メタ)アクリル酸との反応により合成されるビス
フェノールF型エポキシアクリレート、フェノールノボ
ラックとエピクロルヒドリンと(メタ)アクリル酸との
反応により合成されるフェノールノボラック型エポキシ
アクリレートなどが挙げられる。
Epoxy (meth) acrylate is synthesized by reacting an epoxy compound such as epichlorohydrin with (meth) acrylic acid. As the epoxy (meth) acrylate, specifically, bisphenol A type epoxy acrylate synthesized by the reaction of bisphenol A with epichlorohydrin and (meth) acrylic acid, and the reaction of bisphenol S with epichlorohydrin and (meth) acrylic acid Bisphenol S type epoxy acrylate synthesized, bisphenol F type epoxy acrylate synthesized by reaction of bisphenol F with epichlorohydrin and (meth) acrylic acid, phenol synthesized by reaction of phenol novolak, epichlorohydrin and (meth) acrylic acid Novolak type epoxy acrylate and the like can be mentioned.

【0017】ウレタン(メタ)アクリレートは、たとえ
ばジイソシアネート類とポリオール類とヒドロキシアク
リレート類とを反応させることによって得られ、分子中
に官能基としてアクリロイル基(CH2 =CHCO−)
またはメタクリロイル基(CH2 =C(CH3 )−CO
−)と、ウレタン結合(−NH・COO−)とを有す
る。
Urethane (meth) acrylate is obtained, for example, by reacting a diisocyanate, a polyol and a hydroxyacrylate, and has an acryloyl group (CH 2 CHCHCO-) as a functional group in the molecule.
Or a methacryloyl group (CH 2 CC (CH 3 ) —CO
-) And a urethane bond (-NH.COO-).

【0018】ジイソシアネート類としては、具体的には
ヘキサメチレンジイソシアネート[HDI]、イソホロ
ンジイソシアネート[IPDI]、メチレンビス(4-シ
クロヘキシルイソシアネート)[HMDI]、トリメチ
ルヘキサメチレンジイソシアネート[TMHMDI]、
トリレンジイソシアネート[TDI]、4,4-ジフェニル
メタンジイソシアネート[MDI]、キシリレンジイソ
シアネート[XDI]などが挙げられる。
Examples of the diisocyanates include hexamethylene diisocyanate [HDI], isophorone diisocyanate [IPDI], methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate) [HMDI], trimethylhexamethylene diisocyanate [TMHMDI],
Examples include tolylene diisocyanate [TDI], 4,4-diphenylmethane diisocyanate [MDI], and xylylene diisocyanate [XDI].

【0019】ポリオール類としては、具体的にはポリ
(プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(プロピレン
オキサイド)トリオール、ポリ(テトラメチレンオキサ
イド)ジオール、エトキシ化ビスフェノールAなどが挙
げられる。
Specific examples of polyols include poly (propylene oxide) diol, poly (propylene oxide) triol, poly (tetramethylene oxide) diol, and ethoxylated bisphenol A.

【0020】ヒドロキシアクリレート類としては、具体
的には2-ヒドロキシエチルアクリレート[HEA]、2-
ヒドロキシエチルメタクリレート[HEMA]、2-ヒド
ロキシプロピルアクリレート[HPA]、グリシドール
ジメタクリレート[GDMA]、ペンタエリスリトール
トリアクリレート[PETA]などが挙げられる。
Specific examples of hydroxy acrylates include 2-hydroxyethyl acrylate [HEA] and 2-hydroxyethyl acrylate.
Examples include hydroxyethyl methacrylate [HEMA], 2-hydroxypropyl acrylate [HPA], glycidol dimethacrylate [GDMA], and pentaerythritol triacrylate [PETA].

【0021】ポリエステル(メタ)アクリレートは、具
体的には、無水フタル酸とプロピレンオキサイドと(メ
タ)アクリル酸とからなるポリエステル(メタ)アクリ
レート、アジピン酸と1,6-ヘキサンジオールと(メタ)
アクリル酸とからなるポリエステル(メタ)アクリレー
ト、トリメリット酸とジエチレングリコールと(メタ)
アクリル酸とからなるポリエステル(メタ)アクリレー
トなどが挙げられる。
The polyester (meth) acrylate is specifically a polyester (meth) acrylate comprising phthalic anhydride, propylene oxide and (meth) acrylic acid, adipic acid, 1,6-hexanediol and (meth) acrylate.
Polyester (meth) acrylate composed of acrylic acid, trimellitic acid, diethylene glycol and (meth)
Polyester (meth) acrylate composed of acrylic acid and the like are included.

【0022】本発明においては、光硬化性(メタ)アク
リレート化合物(a1)は、光硬化性塗料組成物全体1
00重量部に対して、20〜90重量部、好ましくは3
0〜60重量部、さらに好ましくは40〜50重量部の
割合で用いられる。
In the present invention, the photocurable (meth) acrylate compound (a1) is used in the entire photocurable coating composition 1
20 to 90 parts by weight, preferably 3 parts by weight, per 100 parts by weight
0 to 60 parts by weight, more preferably 40 to 50 parts by weight.

【0023】光重合性不飽和ポリエステル(a2) 本発明で用いられる光重合性不飽和ポリエステル(a
2)として、従来公知の不飽和ポリエステルを光重合性
不飽和ポリエステルとして用いることができる。
Photopolymerizable unsaturated polyester (a2) The photopolymerizable unsaturated polyester (a ) used in the present invention
As 2), a conventionally known unsaturated polyester can be used as the photopolymerizable unsaturated polyester.

【0024】具体的には、1,2-プロピレングリコールと
無水フタール酸と無水マレイン酸とからなる不飽和ポリ
エステル;トリメチロールプロパンジアリルエーテル
(TMPDA)、トリメチロールプロパントリアリルエ
ーテル(TMPTAE)、トリアリルイソシアネート、
ジアリルフタレートなどのアリル基含有化合物とスチレ
ンとが配合された不飽和ポリエステルなどが挙げられ
る。また、光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a
1)として挙げたポリエステル(メタ)アクリレート
は、光重合性不飽和ポリエステル(a2)でもある。
Specifically, unsaturated polyesters composed of 1,2-propylene glycol, phthalic anhydride and maleic anhydride; trimethylolpropane diallyl ether (TMPDA), trimethylolpropane triallyl ether (TMPTAE), triallyl Isocyanate,
An unsaturated polyester in which an allyl group-containing compound such as diallyl phthalate and styrene are blended is exemplified. Further, a photocurable (meth) acrylate compound (a
The polyester (meth) acrylate mentioned as 1) is also a photopolymerizable unsaturated polyester (a2).

【0025】光重合性不飽和ポリエステル(a2)は、
光硬化性塗料組成物全体100重量部に対して、20〜
90重量部、好ましくは30〜60重量部、さらに好ま
しくは40〜50重量部の割合で用いられる。
The photopolymerizable unsaturated polyester (a2) is
20 to 100 parts by weight of the entire photocurable coating composition
90 parts by weight, preferably 30 to 60 parts by weight, more preferably 40 to 50 parts by weight.

【0026】光重合開始剤(b) 本発明で用いられる光重合開始剤(b)としては、具体
的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系光
重合開始剤;ベンジルジメチルケタール(別名、2,2-ジ
メトキシ-2- フェニルアセトフェノン)、ジエトキシア
セトフェノン、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、
4-t-ブチル- ジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル- ト
リクロロアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2- メチル-1-
フェニルプロパン-1- オン、1-(4-イソプロピルフェニ
ル)-2- ヒドロキシ-2- メチルプロパン-1- オン、1-
(4-ドデシルフェニル)-2- ヒドロキシ-2- メチルプロ
パン-1- オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ)- フェニル
(2-ヒドロキシ-2- プロピル)ケトン、1-ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4- (メチ
ルチオ)フェニル]-2- モルホリノプロパン-1等のアセ
トフェノン系光重合開始剤;ベンゾフェノン、ベンゾイ
ル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベ
ンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化
ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4'-メチルジフェニルサ
ルファイド、3,3'- ジメチル-4- メトキシベンゾフェノ
ン等のベンゾフェノン系光重合開始剤;チオキサンソ
ン、2-クロルチオキサンソン、2-メチルチオキサンソ
ン、2,4-ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキ
サンソン、2,4-ジクロロチオキサンソン、2,4-ジエチル
チオキサンソン、2,4-ジイソプロピルチオキサンソン等
のチオキサントン系光重合開始剤などが挙げられる。中
でも、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトンが好ましく用いられる。
Photopolymerization initiator (b) Examples of the photopolymerization initiator (b) used in the present invention include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether. Benzyl dimethyl ketal (also known as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone), diethoxyacetophenone, 4-phenoxydichloroacetophenone,
4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-
Phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-
(4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2- Acetophenone-based photopolymerization initiators such as methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1; benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone Benzophenone-based photopolymerization initiators such as 1,4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4 -Dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-die And thioxanthone-based photopolymerization initiators such as tylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone. Among them, benzyl dimethyl ketal and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone are preferably used.

【0027】上記のような光重合開始剤(b)は、光硬
化性塗料組成物全体100重量部に対して、1〜10重
量部、好ましくは2〜6重量部、さらに好ましくは3〜
4重量部の割合で用いられる。
The photopolymerization initiator (b) as described above is used in an amount of 1 to 10 parts by weight, preferably 2 to 6 parts by weight, more preferably 3 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the entire photocurable coating composition.
Used in a ratio of 4 parts by weight.

【0028】シリコーン系重合体(c) 本発明で用いられるシリコーン系重合体(c)は、上述
した光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)およ
び光重合性不飽和ポリエステル(a2)に対して非相溶
性である。
Silicone Polymer (c) The silicone polymer (c) used in the present invention is based on the photocurable (meth) acrylate compound (a1) and the photopolymerizable unsaturated polyester (a2). Incompatible.

【0029】このようなシリコーン系重合体(c)とし
ては、通常、次の式で表わされるシリコーン系液状重合
体が用いられる。 (R1−)3Si−(−OSi(−R22−)n−OSi
(−R33 式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、アル
キル基または水素原子であり、nは、0または1〜10
00の整数である。
As such a silicone polymer (c), a silicone liquid polymer represented by the following formula is usually used. (R 1- ) 3 Si-(-OSi (-R 2 ) 2- ) n -OSi
(—R 3 ) 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or a hydrogen atom, and n is 0 or 1 to 10
It is an integer of 00.

【0030】上記アルキル基としては、具体的には、メ
チル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-
ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、ペ
ンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシ
ル基、2,3-ジメチルブチル基、イソヘキシル基、n-ヘプ
チル基、イソヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキ
シル基、イソオクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、
n-デシル基、イソデシル基、n-ウンデシル基、イソウン
デシル基、n-ドデシル基、イソドデシル基、n-トリデシ
ル基、イソトリデシル基、n-テトラデシル基、イソテト
ラデシル基、n-ペンタデシル基、イソペンタデシル基、
n-ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、n-ヘプタデシ
ル基、イソヘプタデシル基、n-オクタデシル基、イソオ
クタデシル基、n-ノニルデシル基、イソノニルデシル
基、n-アイコサニル基、イソアイコサニル基、2-エチル
ヘキシル基、2-(4-メチルペンチル)基などが挙げられ
る。
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-
Butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, n-hexyl, 2,3-dimethylbutyl, isohexyl, n-heptyl, isoheptyl, n -Octyl group, 2-ethylhexyl group, isooctyl group, n-nonyl group, isononyl group,
n-decyl group, isodecyl group, n-undecyl group, isoundecyl group, n-dodecyl group, isododecyl group, n-tridecyl group, isotridecyl group, n-tetradecyl group, isotetradecyl group, n-pentadecyl group, isopentadecyl Group,
n-hexadecyl group, isohexadecyl group, n-heptadecyl group, isoheptadecyl group, n-octadecyl group, isooctadecyl group, n-nonyldecyl group, isononyldecyl group, n-eicosanyl group, isoicosanyl group, 2-ethylhexyl group, 2- And a (4-methylpentyl) group.

【0031】上記のようなポリアルキル水素シロキサン
としては、たとえば共栄社化学(株)より「フローレン
AC901」という商品名で市販されている、アルキ
ルビニルエーテルとアクリル酸アルキルエステルとメタ
クリル酸アルキルエステルとの共重合物にポリアルキル
水素シロキサンを配合した混合物(22重量%)のミネ
ラルスプリット(78重量%)溶液などが挙げられる。
The polyalkyl hydrogen siloxane as described above is, for example, a copolymer of alkyl vinyl ether, alkyl acrylate and alkyl methacrylate commercially available from Kyoeisha Chemical Co., Ltd. under the trade name "Floren AC901". And a mineral split (78% by weight) solution of a mixture (22% by weight) obtained by mixing a polyalkyl hydrogen siloxane with the product.

【0032】シリコーン系液状重合体としては、ウレタ
ン変性シリコーン系液状重合体、たとえばシリコーン系
液状重合体の一方または両方の分子末端に、ジイソシア
ネートまたはトリイソシアヌレート等を縮合させたウレ
タン結合含有シリコーン系液状重合体も好適に使用され
る。
The silicone-based liquid polymer includes a urethane-modified silicone-based liquid polymer, for example, a urethane-bonded silicone-based liquid polymer in which diisocyanate or triisocyanurate is condensed at one or both molecular terminals of a silicone-based liquid polymer. Polymers are also preferably used.

【0033】シリコーン系重合体(c)は、塗料組成物
全体100重量部中に、0.01〜5.0重量部、好ま
しくは0.05〜1.0重量部、さらに好ましくは0.
1〜0.3重量部の量で配合される。
The silicone polymer (c) is used in an amount of 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 1.0 part by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the whole coating composition.
It is blended in an amount of 1 to 0.3 parts by weight.

【0034】その他の成分 上述したように、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗
装の可能な光硬化性塗料組成物中には、光硬化性(メ
タ)アクリレート(a1)および/または光重合性不飽
和ポリエステル(a2)、光重合開始剤(b)およびシ
リコーン系重合体(c)のほかに、必要に応じて、反応
性希釈剤、重合禁止剤、非反応性希釈剤、艶消し剤、消
泡剤、沈降防止剤、レベリング剤などを、本発明の目的
を損なわない範囲で配合することができる。
Other Components As described above, the photocurable coating composition capable of embossed finish finish coating according to the present invention contains a photocurable (meth) acrylate (a1) and / or a photopolymerizable non-photopolymerizable composition. In addition to the saturated polyester (a2), the photopolymerization initiator (b), and the silicone polymer (c), a reactive diluent, a polymerization inhibitor, a non-reactive diluent, a matting agent, A foaming agent, an antisettling agent, a leveling agent, and the like can be blended within a range that does not impair the purpose of the present invention.

【0035】反応性希釈剤としては、通常のアクリルモ
ノマーが一般に用いられる。具体的には、1,4-ブタンジ
オールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、2(2
- エトキシエトキシ)エチルアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート、2-フェノキシエチルアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブチレングリ
コールジアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
などが挙げられる。中でも、1,6-ヘキサンジオールジア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2-
フェノキシエチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールジアクリレートが好ましい。
As the reactive diluent, ordinary acrylic monomers are generally used. Specifically, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 2 (2
-Ethoxyethoxy) ethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, diethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, penta Erythritol tetraacrylate, neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate, and the like. Among them, 1,6-hexanediol diacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-
Phenoxyethyl acrylate and neopentyl glycol dihydroxypivalate diacrylate are preferred.

【0036】上記のような反応希釈剤は、単独で、また
は2種以上組合わせて用いることができる。本発明にお
いては、反応性希釈剤は、光硬化性塗料組成物全体10
0重量部に対して、通常20〜80重量部、好ましくは
30〜70重量部、さらに好ましくは40〜60重量部
の割合で用いられる。
The above-mentioned reaction diluents can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the reactive diluent is used in the entire photocurable coating composition.
It is used in an amount of usually 20 to 80 parts by weight, preferably 30 to 70 parts by weight, more preferably 40 to 60 parts by weight with respect to 0 parts by weight.

【0037】また、本発明に係る光硬化性塗料組成物
に、従来公知の着色顔料、着色珪砂、着色マイカ、着色
ビーズ、またはパール顔料を配合すると、高級感、肉持
ち感のあるエンボス調意匠の仕上がりが得られる。
When a conventionally known coloring pigment, colored silica sand, colored mica, colored beads, or pearl pigment is blended with the photocurable coating composition according to the present invention, an embossed design having a luxurious and solid feeling is obtained. Is obtained.

【0038】本発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗装可
能な光硬化性塗料組成物は、上述した光硬化性(メタ)
アクリレート化合物(a1)および/または光重合性不
飽和ポリエステル(a2)と、光重合開始剤(b)と、
シリコーン系重合体(c)とを混合して得ることができ
る。
The photocurable coating composition according to the present invention, which is capable of embossed finish coating, has the above-mentioned photocurable (meth)
An acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), a photopolymerization initiator (b),
It can be obtained by mixing with the silicone polymer (c).

【0039】次に、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ
塗装された基材、および基材表面にエンボス調意匠仕上
げを施す塗装方法について説明する。本発明に係る基材
表面にエンボス調意匠仕上げを施す塗装方法は、(A)
フラット基材表面に、上述した本発明に係る光硬化性塗
料組成物を塗装して、シリコーン系重合体(c)による
(a)成分の分離はじき現象により凹凸エンボス模様塗
布面を形成する工程、および(B)次いで、該凹凸エン
ボス模様塗布面に、電子線または光を照射して凹凸エン
ボス模様の硬化塗膜を形成する工程を経ることを特徴と
している。
Next, the substrate according to the present invention, which has been subjected to the embossed design finish coating, and the coating method for applying the embossed design finish to the substrate surface will be described. The coating method for applying an embossed design finish to the substrate surface according to the present invention comprises the steps of (A)
A step of applying the above-mentioned photocurable coating composition according to the present invention on the surface of the flat base material to form an uneven embossed pattern application surface by separating and repelling the component (a) by the silicone polymer (c); And (B) a step of irradiating an electron beam or light to the uneven embossed pattern coated surface to form a cured coating film having the uneven embossed pattern.

【0040】上述した、本発明に係る光硬化性塗料組成
物を、フラット基材表面に塗装すると、この塗料組成物
中の(c)シリコーン系重合体が光硬化性(メタ)アク
リレート化合物(a1)および/または光重合性不飽和
ポリエステル(a2)に対して非相溶性であるため、光
硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)および/ま
たは光重合性不飽和ポリエステル(a2)は、(c)シ
リコーン系重合体により分離はじき現象が生じてエンボ
ス模様塗布面が形成される。
When the above-described photocurable coating composition according to the present invention is applied to the surface of a flat substrate, the silicone polymer (c) in the coating composition is converted to a photocurable (meth) acrylate compound (a1). ) And / or the photopolymerizable unsaturated polyester (a2) is incompatible with the photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or the photopolymerizable unsaturated polyester (a2). ) Separation and repelling phenomena occur due to the silicone polymer to form an embossed pattern coated surface.

【0041】本発明で用いられるフラット基材として
は、具体的には、フレキシブルボード、ケイ酸カルシウ
ム板、石膏ボード、石綿スレート板等の無機多孔質基
板、合板、ハードボード、パーティクルボード等の木質
系基板、鉄板、アルミ板等の金属板、塩化ビニル板、A
BS板、PET板、アクリル板等のプラスチック板など
が挙げられる。
As the flat base material used in the present invention, specifically, an inorganic porous substrate such as a flexible board, a calcium silicate board, a gypsum board, an asbestos slate board, and a wood board such as a plywood, a hard board, a particle board, etc. System board, iron plate, metal plate such as aluminum plate, vinyl chloride plate, A
Examples include a plastic plate such as a BS plate, a PET plate, and an acrylic plate.

【0042】本発明に係る光硬化性塗料組成物の塗装に
用いられるフラット基材は、予め目止め処理および/ま
たは下塗り塗装により目止め塗膜および/または着色下
塗り塗膜を形成しておくことが望ましく、特にアルカリ
性の無機多孔質基板の場合には、フラット基材表面への
アルカリ滲出防止を目的としたシーラー処理を予め施す
ことが望ましい。また、光硬化性塗料組成物の塗装前
に、たとえば着色下塗り塗膜の上に、柄付けのために印
刷を行なってもよい。
The flat base material used for coating the photocurable coating composition according to the present invention should have a sealing film and / or a colored undercoat film previously formed by a sealing treatment and / or an undercoating. In particular, in the case of an alkaline inorganic porous substrate, it is desirable to apply a sealer treatment in advance to prevent the alkaline ooze on the surface of the flat base material. In addition, before the application of the photocurable coating composition, printing may be performed for patterning, for example, on a colored undercoat film.

【0043】光硬化性塗料組成物の塗装は、ゴムないし
スポンジロールコーター、スプレー、バキュームコータ
ーなどの塗装機を用いて行なわれる。これらの塗装機
は、一種または二種以上組み合わせて用いることができ
る。
The coating of the photocurable coating composition is carried out using a coating machine such as a rubber or sponge roll coater, a spray or a vacuum coater. These coating machines can be used alone or in combination of two or more.

【0044】光硬化性塗料組成物の塗布量は、使用する
フラット基材の種類により異なるが、無機質多孔質基板
の場合、ウェット状態で通常20〜100g/m2 、好
ましくは40〜50g/m2 であることが望ましい。
The coating amount of the photocurable coating composition varies depending on the type of the flat base material used. In the case of an inorganic porous substrate, it is usually 20 to 100 g / m 2 , preferably 40 to 50 g / m 2 in a wet state. Desirably 2 .

【0045】この光硬化性塗料組成物の塗装回数は、特
に制限はなく、一回または二回以上でもよい。上記
(A)工程で得られた凹凸エンボス模様塗布面に、電子
線または光、好ましくは光を照射することにより、立体
感のあるエンボス模様を有する硬化塗膜が得られる。
The number of coatings of the photocurable coating composition is not particularly limited, and may be one or more. A cured coating film having a three-dimensional embossed pattern can be obtained by irradiating the surface of the concavo-convex embossed pattern obtained in the above step (A) with an electron beam or light, preferably light.

【0046】この電子線照射は、従来公知の照射方法に
より行なうことができる。たとえば200kV、3〜1
0Mradの条件で電子線照射して凹凸エンボス模様塗
膜を硬化させる。
The electron beam irradiation can be performed by a conventionally known irradiation method. For example, 200 kV, 3 to 1
The uneven embossed coating film is cured by irradiating an electron beam under the condition of 0 Mrad.

【0047】また、光照射の光は、紫外線または可視光
線であり、光照射は、従来公知の照射方法により行なう
ことができる。たとえば高圧水銀ランプは、80〜12
0W/cm1灯で、ベルトスピードは5〜20m/分で
あり、灯数を増すことにより、ベルトスピードを早くす
ることができる。また、W/cmの能力を増すことによ
り、ベルトスピードを早くすることができる。
The light for light irradiation is ultraviolet light or visible light, and the light irradiation can be performed by a conventionally known irradiation method. For example, high pressure mercury lamps
At 0 W / cm1 light, the belt speed is 5 to 20 m / min, and the belt speed can be increased by increasing the number of lights. The belt speed can be increased by increasing the capacity of W / cm.

【0048】上記(B)工程で得られた凹凸エンボス模
様の硬化塗膜の上に、さらにクリヤー塗料ないしカラー
クリヤー塗料による上塗り塗装してもしなくてもよい
が、本発明においては、上塗り塗装することが望まし
い。したがって、本発明に係るエンボス意匠仕上げ塗装
された基材は、上塗り塗装されている場合と上塗り塗装
されていない場合とがある。
On the cured coating film having the embossed pattern obtained in the above step (B), it may or may not be overcoated with a clear paint or a color clear paint, but in the present invention, the overcoat is applied. It is desirable. Therefore, the substrate having the embossed design finish coated according to the present invention may be overcoated or uncoated.

【0049】上塗り塗料としては、光硬化性(メタ)ア
クリレート系塗料が好ましく用いられる。
As the top coating, a photocurable (meth) acrylate-based coating is preferably used.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗装
の可能な光硬化性塗料組成物は、エンボス加工装置を使
用せずに、フラット基材特に無機質フラット基板の表面
に、複雑なエンボス模様であっても、そのエンボス模様
を容易に形成することができる。
According to the present invention, the photocurable coating composition capable of embossed decorative finish coating according to the present invention has a complicated embossed pattern on the surface of a flat base material, particularly an inorganic flat substrate, without using an embossing device. Even so, the embossed pattern can be easily formed.

【0051】また、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ
塗装された基材は、高級感のある簡単な凹凸模様または
複雑な凹凸模様を有する。特に着色顔料またはパール顔
料等を配合した、本発明に係る光硬化性塗料組成物を用
いて得られた本発明に係る基材は、立体感のある凹凸エ
ンボス模様が得られる。また、光硬化性塗料組成物の凹
凸エンボス模様の硬化塗膜の上に、光硬化性(メタ)ア
クリレート系塗料で上塗り塗装して得られた、本発明に
係る基材は、肉持ち感のある凹凸エンボス模様を有す
る。さらに、フラット基材表面に前もって印刷模様(プ
リント印刷)を施せば、意匠性を向上させることができ
る。
Further, the base material of the present invention, which has been subjected to the embossed design finish coating, has a simple high or low level uneven pattern or a complicated uneven pattern. In particular, the substrate according to the present invention obtained by using the photocurable coating composition according to the present invention in which a coloring pigment, a pearl pigment, or the like is blended has a three-dimensional uneven embossed pattern. Further, the base material according to the present invention, which is obtained by overcoating with a photocurable (meth) acrylate-based paint over a cured coating film having a concavo-convex embossed pattern of the photocurable coating composition, has a solid feeling. It has a certain embossed pattern. Further, if a print pattern (print printing) is given to the flat base material surface in advance, the design property can be improved.

【0052】本発明に係る塗装方法によれば、上記のよ
うな、本発明に係るエンボス調意匠仕上げ塗装された基
材を効率よく生産することができる。
According to the coating method of the present invention, it is possible to efficiently produce the substrate having the embossed decorative finish of the present invention as described above.

【0053】[0053]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明は、これら実施例により何ら限定されるものではな
い。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0054】[0054]

【実施例1】厚み5mm、幅300mm、長さ600m
mのフラットなフレキシブルボード(密度2.0g/c
3 )の表面に、下記のシーラー塗装工程(1)、下塗
り塗装工程(2)、第一次上塗り塗装工程(3)および
第二次上塗り塗装工程の各塗装を順次行ない、肉持ち感
のある凹凸エンボス模様を有する基材(エンボス化粧
板)を得た。
Example 1 thickness 5 mm, width 300 mm, length 600 m
m flat flexible board (density 2.0g / c
m 3 ), the following sealer coating step (1), undercoating step (2), first topcoating step (3) and second topcoating step are sequentially performed on the surface to obtain a feeling of durability. A substrate (embossed decorative board) having a certain embossed pattern was obtained.

【0055】シーラー塗装工程(1);フラットなフレ
キシブルボードの表面に、1液型ウレタン塗料[製品名
アルカリシーラー NY−2、中国塗料(株)製]と
シンナーとを1:1の重量比で混合したシーラーを、ス
ポンジロールコーターを用い、30〜40g/m2 の塗
布量(ウェット状態)にして塗装した後、80℃の熱風
で10分間乾燥させた。
Sealer coating process (1): A one-component urethane paint [product name: Alkali Sealer NY-2, manufactured by Chugoku Paint Co., Ltd.] and a thinner in a 1: 1 weight ratio on the surface of a flat flexible board. The mixed sealer was applied using a sponge roll coater at an application amount of 30 to 40 g / m 2 (wet state), and then dried with hot air at 80 ° C for 10 minutes.

【0056】下塗り塗装工程(2);上記工程(1)で
得られた乾燥シーラー塗膜の上に、2液型ウレタン塗料
[製品名 EPコート 100K−2、中国塗料(株)
製]と硬化剤とシンナーとを16:1:8の重量比で混
合した下塗り塗料を、ロールコーターとフローコーター
の順で併用して150g/m2 (ウェット状態)の塗布
量にして塗装した後、80℃の熱風で30分間乾燥させ
た。
Undercoating step (2): A two-pack urethane coating [product name: EP Coat 100K-2, Chugoku Paint Co., Ltd.] on the dried sealer coating film obtained in the above step (1).
, A curing agent and a thinner in a weight ratio of 16: 1: 8, and a roll coater and a flow coater were used in this order to apply 150 g / m 2 (wet state). Then, it was dried with hot air of 80 ° C. for 30 minutes.

【0057】中塗り塗装工程(3);上記工程(2)で
得られた下塗り塗膜の上に、光硬化型アクリレート重合
体塗料組成物[製品名 オーレックス No.230−
4、中国塗料(株)製]100重量部中に、特殊シリコ
ーン系添加剤[製品名 フローレン AC−901、共
栄社化学(株)製;アルキルビニルエーテル、アクリル
酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステ
ルの共重合物とポリアルキル水素シロキサンとの混合物
が22%溶解しているミネラルスピリット(78%)溶
液]1重量部を混合し、得られた光硬化性塗料組成物
を、スポンジロールコーターを用い、40〜50g/m
2 の塗布量(ウェット状態)にして塗装し、得られた凹
凸エンボス模様塗布面に、能力80W/cmの高圧水銀
ランプ1灯で紫外線を照射させて凹凸エンボス模様の硬
化塗膜を得た。この紫外線照射の際における凹凸エンボ
ス模様塗布面の移動速度は10m/分であった。
Intermediate coating step (3): A photocurable acrylate polymer coating composition [product name Aurex No. 1] was applied on the undercoating film obtained in the above step (2). 230-
4, China Paint Co., Ltd.] 100 parts by weight of a special silicone-based additive [Product name Floren AC-901, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; Copolymerization of alkyl vinyl ether, alkyl acrylate and alkyl methacrylate] 1% by weight of a mineral spirit (78%) solution in which a mixture of the mixture and the polyalkylhydrogensiloxane is dissolved by 22% is mixed with a sponge roll coater. 50g / m
The coating was performed with the coating amount of 2 (wet state), and the obtained embossed pattern application surface was irradiated with ultraviolet light from one high-pressure mercury lamp having a capacity of 80 W / cm to obtain a cured coating film having the embossed pattern. The moving speed of the embossed pattern application surface during the irradiation with ultraviolet light was 10 m / min.

【0058】上塗り塗装工程(4);上記工程(3)で
得られた凹凸エンボス模様の硬化塗膜の上に、光硬化型
アクリレート重合体塗料組成物[製品名 オーレックス
No.230−4、中国塗料(株)製]をフローコー
ターを用い、70〜80g/m2 の塗布量(ウェット状
態)にして塗装し、そのウェット状態の塗膜に、能力8
0W/cmの高圧水銀ランプ2灯で紫外線を照射させて
その塗膜を硬化させた。この紫外線照射の際におけるウ
ェット状態の塗膜の移動速度は、5m/分であった。
Topcoat coating step (4): A photocurable acrylate polymer coating composition [product name Aurex No. 1] was applied onto the cured embossed coating film obtained in the above step (3). 230-4, manufactured by China Paint Co., Ltd.] using a flow coater at an application amount (wet state) of 70 to 80 g / m 2 , and the wet state coating film has a capacity of 8
The coating film was cured by irradiating ultraviolet rays with two 0 W / cm high-pressure mercury lamps. The moving speed of the coating film in the wet state during this ultraviolet irradiation was 5 m / min.

【0059】上記のようにして得られた化粧板のエンボ
ス(凹凸)感の評価を第1表に示す。このエンボス感の
評価基準は次の通りである。
Table 1 shows the evaluation of the embossed (irregular) feeling of the decorative plate obtained as described above. The evaluation criteria of this emboss feeling are as follows.

【0060】<エンボス感の評価基準> 1:塗膜表面に全く凹凸なし(完全にフラット)。 2:塗膜表面に部分的に凹部がある。 3:塗膜表面に0.5〜1.0cm間隔で均一に小さな
凹部がある。 4:塗膜の全面に0.5cm間隔で凹凸がある。 5:塗膜の全面に1cm間隔で大きな凹凸がある。
<Evaluation Criteria for Embossing Feeling> 1: No unevenness on the coating film surface (completely flat). 2: There is a concave portion partially on the coating film surface. 3: There are uniformly small concave portions at 0.5 to 1.0 cm intervals on the coating film surface. 4: The entire surface of the coating film has irregularities at intervals of 0.5 cm. 5: There are large irregularities at 1 cm intervals on the entire surface of the coating film.

【0061】[0061]

【実施例2、3】実施例1における中塗り塗装工程
(3)において、特殊シリコーン系添加剤[製品名 フ
ローレン AC−901、共栄社化学(株)製]の添加
量を、0.5重量部、0.1重量部に変更した以外は、
実施例1と同様にしてエンボス化粧板を作製した。得ら
れた化粧板のエンボス(凹凸)感の評価を第1表に示
す。
Examples 2 and 3 In the intermediate coating step (3) in Example 1, the amount of the special silicone-based additive (product name Floren AC-901, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was changed to 0.5 part by weight. , Except that it was changed to 0.1 parts by weight,
An embossed decorative board was produced in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the obtained decorative plate.

【0062】[0062]

【実施例4】実施例1で用いたフレキシブルボードと同
じフレキシブルボードの表面に、下記のシーラー塗装工
程(1)、下塗り塗装工程(2)および上塗り塗装工程
(3)の各塗装を順次行ない、立体感のある凹凸エンボ
ス模様を有する基材(エンボス化粧板)を得た。
Example 4 On the surface of the same flexible board as the flexible board used in Example 1, each of the following sealer coating step (1), undercoating step (2), and topcoating step (3) is sequentially applied. A substrate (embossed decorative board) having a three-dimensionally uneven embossed pattern was obtained.

【0063】シーラー塗装工程(1);実施例1のシー
ラー工程(1)と同様にして、フラットなフレキシブル
ボード表面に、シーラー処理を行なった。
Sealer coating step (1): In the same manner as in the sealer step (1) in Example 1, a flat flexible board surface was subjected to a sealer treatment.

【0064】下塗り塗装工程(2);上記工程(1)で
得られた乾燥シーラー塗膜の上に、実施例1の下塗り工
程(2)と同様にして、下塗り塗膜を形成した。
Undercoating step (2): An undercoating film was formed on the dried sealer coating film obtained in the above step (1) in the same manner as in the undercoating step (2) in Example 1.

【0065】上塗り塗装工程(3);上記下塗り塗装工
程(2)で得られた下塗り塗膜の上に、実施例1の第一
次上塗り塗装工程(3)で用いた光硬化性塗料組成物と
同じ光硬化性塗料組成物100重量%に、さらにパール
顔料[製品名 パールグレイズ ME−100R、日本
光研工業(株)製]を2重量%配合した塗料組成物を用
いた以外は、実施例1の第一次上塗り工程(3)と同様
にして、凹凸エンボス模様の硬化塗膜を得た。上記のよ
うにして得られた化粧板のエンボス(凹凸)感の評価を
第1表に示す。
Overcoating step (3): The photocurable coating composition used in the first overcoating step (3) of Example 1 on the undercoating film obtained in the undercoating step (2). 100% by weight of the same photocurable coating composition as in Example 1 except that a pearl pigment (product name: Pearl Glaze ME-100R, manufactured by Nippon Koken Kogyo Co., Ltd.) was further added at 2% by weight. In the same manner as in the first overcoating step (3) of Example 1, a cured coating film having a concavo-convex embossed pattern was obtained. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the decorative plate obtained as described above.

【0066】[0066]

【実施例5、6】実施例1における中塗り塗装工程
(3)において、特殊シリコーン系添加剤[製品名 フ
ローレン AC−901、共栄社化学(株)製]1重量
部の代わりに、ダウコーニング社製のジメチルポリシロ
キサン[製品名 DC−200、粘度12500cP
s]を0.5重量部、0.1重量部用いた以外は、実施
例1と同様にしてエンボス化粧板を作製した。得られた
化粧板のエンボス(凹凸)感の評価を第1表に示す。
Examples 5 and 6 In the intermediate coating step (3) in Example 1, instead of 1 part by weight of a special silicone-based additive (product name Floren AC-901, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Dow Corning was used. Dimethylpolysiloxane [product name DC-200, viscosity 12,500 cP
s] was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 parts by weight and 0.1 part by weight were used. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the obtained decorative plate.

【0067】[0067]

【実施例7〜9】実施例1における中塗り塗装工程
(3)において、特殊シリコーン系添加剤[製品名 フ
ローレン AC−901、共栄社化学(株)製]1重量
部の代わりに、ポリジメチルシロキサン系ウレタンアク
リレート樹脂[不揮発分80.4%、粘度13930c
Ps(25℃)、GPCによる数平均分子量(Mn)2
210、重量平均分子量(Mw)11740]を1重量
部、0.5重量部、0.1重量部用いた以外は、実施例
1と同様にしてエンボス化粧板を作製した。得られた化
粧板のエンボス(凹凸)感の評価を第1表に示す。
Examples 7 to 9 In the intermediate coating step (3) in Example 1, polydimethylsiloxane was used instead of 1 part by weight of a special silicone-based additive (product name Floren AC-901, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). Urethane acrylate resin [80.4% non-volatile content, viscosity 13930c
Ps (25 ° C.), number average molecular weight (Mn) 2 by GPC
210, weight average molecular weight (Mw) 11740] was used in the same manner as in Example 1, except that 1 part by weight, 0.5 part by weight, and 0.1 part by weight were used. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the obtained decorative plate.

【0068】[0068]

【参考例1】実施例1における中塗り塗装工程(3)に
おいて、特殊シリコーン系添加剤を用いなかった以外
は、実施例1と同様にして化粧板を作製した。得られた
化粧板のエンボス(凹凸)感の評価を第1表に示す。
REFERENCE EXAMPLE 1 A decorative board was prepared in the same manner as in Example 1, except that the special silicone-based additive was not used in the intermediate coating step (3) in Example 1. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the obtained decorative plate.

【0069】[0069]

【参考例2】実施例1において、フラットなフレキシブ
ルボードの代わりに全面に1cm間隔で大きな凹凸(エ
ンボス)が形成されているフレキシブルボードを用い、
実施例1における中塗り塗装工程(3)において、特殊
シリコーン系添加剤を用いなかった以外は、実施例1と
同様にしてエンボス化粧板を作製した。得られた化粧板
のエンボス(凹凸)感の評価を第1表に示す。
Reference Example 2 In Example 1, instead of a flat flexible board, a flexible board having large unevenness (emboss) formed at intervals of 1 cm on the entire surface was used.
An embossed decorative board was produced in the same manner as in Example 1 except that in the intermediate coating step (3) in Example 1, no special silicone-based additive was used. Table 1 shows the evaluation of the embossed (unevenness) feeling of the obtained decorative plate.

【0070】[0070]

【表1】 [Table 1]

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 163/00 C09D 163/00 167/06 167/06 175/16 175/16 // C08F 290/06 C08F 290/06 (72)発明者 増 田 章 滋賀県野洲郡野洲町字三上2306番地の7 中国塗料株式会社内 (72)発明者 八 杉 伸 二 滋賀県野洲郡野洲町字三上2306番地の7 中国塗料株式会社内 Fターム(参考) 4D075 AC30 BB42Z CB21 DA07 DB24 DB25 DC03 EA05 EA21 EA27 EA39 EB22 EB38 EB43 EC11 EC30 EC37 4J027 AB06 AB10 AB16 AB17 AB19 AB23 AB28 AC03 AC04 AC06 AE02 AE03 AE05 AG04 AG12 AG14 AG23 AG24 AG27 AG32 AG34 AJ08 BA02 BA05 BA07 BA17 BA19 BA22 BA23 BA26 BA27 BA29 CA10 CB10 CC04 CC05 CD08 4J038 DG182 DL032 FA111 FA251 FA261 FA281 KA04 PA07 PA17 PC01 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) C09D 163/00 C09D 163/00 167/06 167/06 175/16 175/16 // C08F 290/06 C08F 290/06 (72) Inventor Akira Masuda 7306 Mikami, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga Prefecture Inside China Paint Co., Ltd. (72) Inventor Shinji Yasugi 2306, 2306 Mikami, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga Prefecture, China In-house F term (reference) 4D075 AC30 BB42Z CB21 DA07 DB24 DB25 DC03 EA05 EA21 EA27 EA39 EB22 EB38 EB43 EC11 EC30 EC37 4J027 AB06 AB10 AB16 AB17 AB19 AB23 AB28 AC03 AC04 AC06 AE02 AE03 AE05 AG04 AG24 AG08 BA05 BA07 BA17 BA19 BA22 BA23 BA26 BA27 BA29 CA10 CB10 CC04 CC05 CD08 4J038 DG182 DL032 FA111 FA251 FA261 FA281 KA04 PA07 PA17 PC01

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)光硬化性(メタ)アクリレート化合
物(a1)および/または光重合性不飽和ポリエステル
(a2)、(b)光重合開始剤、および(c)該(a)
成分に対して非相溶性のシリコーン系重合体を含有して
なることを特徴とする、エンボス調意匠仕上げ塗装の可
能な光硬化性塗料組成物。
1. A photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), (b) a photopolymerization initiator, and (c) the (a)
A photocurable coating composition capable of embossed finish finishing, comprising a silicone polymer incompatible with the components.
【請求項2】前記シリコーン系重合体(c)が、シリコ
ーン系液状重合体であることを特徴とする請求項1に記
載の光硬化性塗料組成物。
2. The photocurable coating composition according to claim 1, wherein the silicone polymer (c) is a silicone liquid polymer.
【請求項3】前記シリコーン系液状重合体が、一般式 (R1−)3Si−(−OSi(−R22−)n−OSi
(−R33 [式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基または水素原子であり、nは、0または1〜1
000の整数である。]で表わされるシリコーン系液状
重合体であることを特徴とする請求項2に記載の光硬化
性塗料組成物。
3. The silicone-based liquid polymer of the general formula (R 1 −) 3 Si — (— OSi (—R 2 ) 2 —) n —OSi
(—R 3 ) 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or a hydrogen atom, and n is 0 or 1-1.
000 is an integer. The photocurable coating composition according to claim 2, wherein the composition is a silicone-based liquid polymer represented by the following formula:
【請求項4】前記シリコーン系液状重合体がウレタン変
性シリコーン系液状重合体であることを特徴とする請求
項2に記載の光硬化性塗料組成物。
4. The photocurable coating composition according to claim 2, wherein the silicone liquid polymer is a urethane-modified silicone liquid polymer.
【請求項5】前記シリコーン系重合体(c)が、塗料組
成物全体100重量部中に、0.01〜5.0重量部の
量で配合されていることを特徴とする請求項1〜4のい
ずれかに記載の光硬化性塗料組成物。
5. The coating composition according to claim 1, wherein said silicone polymer (c) is incorporated in an amount of 0.01 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the whole coating composition. 5. The photocurable coating composition according to any one of 4.
【請求項6】前記光硬化性(メタ)アクリレート化合物
(a1)が、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレートまたはポリエステル(メタ)アク
リレートであることを特徴とする請求項1〜5のいずれ
かに記載の光硬化性塗料組成物。
6. The photo-curable (meth) acrylate compound (a1) is an epoxy (meth) acrylate, a urethane (meth) acrylate or a polyester (meth) acrylate. A photocurable coating composition according to any one of the above.
【請求項7】(A)フラット基材表面に、 (a)光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)お
よび/または光重合性不飽和ポリエステル(a2)、 (b)光重合開始剤、および (c)該(a)成分に対して非相溶性のシリコーン系重
合体を含有してなるエンボス調意匠仕上げ塗装の可能な
光硬化性塗料組成物を塗装して、シリコーン系重合体
(c)による(a)成分の分離はじき現象により凹凸エ
ンボス模様塗布面を形成する工程、および(B)次い
で、該凹凸エンボス模様塗布面に、電子線または光を照
射して凹凸エンボス模様の硬化塗膜を形成する工程を経
て得られたことを特徴とする、エンボス調意匠仕上げ塗
装された基材。
(A) a photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), (b) a photopolymerization initiator, (C) A silicone-based polymer (c) obtained by applying a photocurable coating composition containing a silicone-based polymer that is incompatible with the component (a) and capable of embossed finish finishing. (A) a step of forming an uneven embossed pattern application surface by a repelling phenomenon of component (a), and (B) then, irradiating the uneven embossed pattern applied surface with an electron beam or light to form a cured embossed pattern coated film. A substrate coated with an embossed design finish, characterized by being obtained through a forming step.
【請求項8】前記(A)工程で用いられるフラット基材
表面が、予め着色下塗り塗膜または目止め塗膜で被覆さ
れていることを特徴とする請求項7に記載のエンボス調
意匠仕上げ塗装された基材。
8. The embossed design finish coating according to claim 7, wherein the surface of the flat base material used in the step (A) is previously coated with a colored undercoating film or a sealing coating film. Substrate.
【請求項9】前記(A)工程で用いられるフラット基材
が無機質フラット基板であることを特徴とする請求項7
または8に記載のエンボス調意匠仕上げ塗装された基
材。
9. The flat substrate used in the step (A) is an inorganic flat substrate.
Or a substrate coated with an embossed design finish as described in 8 above.
【請求項10】前記シリコーン系重合体(c)が、シリ
コーン系液状重合体であることを特徴とする請求項7〜
9のいずれかに記載のエンボス調意匠仕上げ塗装された
基材。
10. The silicone-based polymer (c) is a silicone-based liquid polymer.
9. The base material according to any one of 9 above, which has been subjected to an embossed design finish coating.
【請求項11】前記シリコーン系液状重合体が、一般式 (R1−)3Si−(−OSi(−R22−)n−OSi
(−R33 [式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基または水素原子であり、nは、0または1〜1
000の整数である。]で表わされるシリコーン系液状
重合体であることを特徴とする請求項10に記載のエン
ボス調意匠仕上げ塗装された基材。
11. The silicone liquid polymer according to the general formula (R 1 −) 3 Si — (— OSi (—R 2 ) 2 —) n —OSi
(—R 3 ) 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or a hydrogen atom, and n is 0 or 1-1.
000 is an integer. The substrate according to claim 10, wherein the substrate is a silicone liquid polymer represented by the following formula:
【請求項12】前記シリコーン系液状重合体がウレタン
変性シリコーン系液状重合体であることを特徴とする請
求項10に記載のエンボス調意匠仕上げ塗装された基
材。
12. The embossed decorative finish-coated substrate according to claim 10, wherein said silicone-based liquid polymer is a urethane-modified silicone-based liquid polymer.
【請求項13】前記シリコーン系重合体(c)が、塗料
組成物全体100重量部中に、0.01〜5.0重量部
の量で配合されていることを特徴とする請求項7〜12
のいずれかに記載のエンボス調意匠仕上げ塗装された基
材。
13. The coating composition according to claim 7, wherein said silicone polymer (c) is compounded in an amount of 0.01 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the whole coating composition. 12
A substrate coated with an embossed design finish according to any one of the above.
【請求項14】前記光硬化性(メタ)アクリレート化合
物(a1)が、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレートまたはポリエステル(メタ)ア
クリレートであることを特徴とする請求項7〜13のい
ずれかに記載のエンボス調意匠仕上げ塗装された基材。
14. The photocurable (meth) acrylate compound (a1) is epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate or polyester (meth) acrylate. A substrate coated with the embossed design finish described in Crab.
【請求項15】(A)フラット基材表面に、 (a)光硬化性(メタ)アクリレート化合物(a1)お
よび/または光重合性不飽和ポリエステル(a2)、 (b)光重合開始剤、および (c)該(a)成分に対して非相溶性のシリコーン系重
合体を含有してなるエンボス調意匠仕上げ塗装の可能な
光硬化性塗料組成物を塗装して、シリコーン系重合体
(c)による(a)成分の分離はじき現象により凹凸エ
ンボス模様塗布面を形成する工程、および(B)次い
で、該凹凸エンボス模様塗布面に、電子線または光を照
射して凹凸エンボス模様の硬化塗膜を形成する工程を経
ることを特徴とする、基材表面にエンボス調意匠仕上げ
を施す塗装方法。
(A) a photocurable (meth) acrylate compound (a1) and / or a photopolymerizable unsaturated polyester (a2), (b) a photopolymerization initiator, (C) A silicone-based polymer (c) obtained by applying a photocurable coating composition containing a silicone-based polymer that is incompatible with the component (a) and capable of embossed finish finishing. (A) a step of forming an uneven embossed pattern application surface by a repelling phenomenon of component (a), and (B) then, irradiating the uneven embossed pattern applied surface with an electron beam or light to form a cured embossed pattern coated film. A coating method for applying an embossed design finish to the surface of a substrate, characterized by passing through a forming step.
【請求項16】前記(A)工程で用いられるフラット基
材表面が、予め着色下塗り塗膜または目止め塗膜で被覆
されていることを特徴とする請求項15に記載の塗装方
法。
16. The coating method according to claim 15, wherein the surface of the flat substrate used in the step (A) is previously coated with a colored undercoat film or a sealing film.
【請求項17】前記(A)工程で用いられるフラット基
材が無機質フラット基板であることを特徴とする請求項
15または16に記載の塗装方法。
17. The coating method according to claim 15, wherein the flat base material used in the step (A) is an inorganic flat substrate.
【請求項18】前記シリコーン系重合体(c)が、シリ
コーン系液状重合体であることを特徴とする請求項15
〜17のいずれかに記載の塗装方法。
18. The method according to claim 15, wherein said silicone polymer (c) is a silicone liquid polymer.
18. The coating method according to any one of items 17 to 17.
【請求項19】前記シリコーン系液状重合体が、一般式 (R1−)3Si−(−OSi(−R22−)n−OSi
(−R33 [式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立に、ア
ルキル基または水素原子であり、nは、0または1〜1
000の整数である。]で表わされるシリコーン系液状
重合体であることを特徴とする請求項18に記載の塗装
方法。
19. The silicone-based liquid polymer according to the general formula (R 1- ) 3 Si-(-OSi (-R 2 ) 2- ) n -OSi
(—R 3 ) 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkyl group or a hydrogen atom, and n is 0 or 1-1.
000 is an integer. 20. The coating method according to claim 18, wherein the silicone liquid polymer is represented by the following formula:
【請求項20】前記シリコーン系液状重合体がウレタン
変性シリコーン系液状重合体であることを特徴とする請
求項18に記載の塗装方法。
20. The coating method according to claim 18, wherein said silicone-based liquid polymer is a urethane-modified silicone-based liquid polymer.
【請求項21】前記シリコーン系重合体(c)が、塗料
組成物全体100重量部中に、0.01〜5.0重量部
の量で配合されていることを特徴とする請求項15〜2
0のいずれかに記載の塗装方法。
21. The composition according to claim 15, wherein said silicone polymer (c) is blended in an amount of 0.01 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the whole coating composition. 2
0. The coating method according to any one of the above.
【請求項22】前記光硬化性(メタ)アクリレート化合
物(a1)が、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレートまたはポリエステル(メタ)ア
クリレートである請求項15〜21のいずれかに記載の
塗装方法。
22. The coating according to claim 15, wherein the photocurable (meth) acrylate compound (a1) is an epoxy (meth) acrylate, a urethane (meth) acrylate or a polyester (meth) acrylate. Method.
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