EP1173877B1 - Field emission device using a reducing gas and method for making same - Google Patents

Field emission device using a reducing gas and method for making same Download PDF

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EP1173877B1
EP1173877B1 EP00922750A EP00922750A EP1173877B1 EP 1173877 B1 EP1173877 B1 EP 1173877B1 EP 00922750 A EP00922750 A EP 00922750A EP 00922750 A EP00922750 A EP 00922750A EP 1173877 B1 EP1173877 B1 EP 1173877B1
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EP
European Patent Office
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vacuum
reducing gas
internal space
enclosure
interior
Prior art date
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Expired - Lifetime
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EP00922750A
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French (fr)
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EP1173877A1 (en
Inventor
Robert Meyer
Jean-François Boronat
Michel Levis
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Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/94Selection of substances for gas fillings; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube, e.g. by gettering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/38Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
    • H01J9/395Filling vessels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels

Definitions

  • a microtip screen 20, of the type shown in Figure 1, for example 6 inches (15.25 cm) diagonal is assembled under vacuum or under controlled atmosphere by heating at a temperature between 450 and 500 ° C for a period of approximately 1 hour. It is equipped with at least one pumping pipe 21 open.
  • the sealing wall 22 of the two blades of the device consists of a low-point glass fusion called "fried glass".
  • the screen 20 is then isolated from the vacuum pump 42 by closing the valve 44.
  • the valve 47 is then opened and the ammonia is introduced into the screen 20 at an equilibrium pressure which depends on the quantity introduced. in the reservoir 45 and which is preferably between 10 -8 and 10 -5 mbar.
  • the screen 20 can then be separated from the apparatus by closing the exhaust pipe 21.
  • a partial pressure of NH 3 is regulated by the valve 50, the valves 44 and 47 being open.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Description

Domaine TechniqueTechnical area

La présente invention concerne d'une manière générale un dispositif utilisant une source d'électrons à effet de champ (par exemple à micropointes) et plus particulièrement un dispositif à émission de champ par exemple un écran plat de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ, ou émission froide, à l'aide de micropointes. Elle concerne également la fabrication d'un tel dispositif.The present invention relates to a generally a device using a source field effect electrons (for example micropoints) and more particularly a device to field emission for example a flat screen of visualization by cathodoluminescence excited by field emission, or cold emission, using microdots. It also concerns the manufacture such a device.

D'une manière plus précise, l'invention se rapporte à la constitution d'une atmosphère réductrice à l'intérieur du dispositif afin de combattre l'oxydation des micropointes (ou autres éléments émetteurs d'électrons) au cours du fonctionnement de ce dispositif.More precisely, the invention is relates to the constitution of a reducing atmosphere inside the device in order to fight oxidation of microtips (or other elements electron emitters) during the operation of this device.

Etat de la technique antérieureState of the art

Les écrans à micropointes sont des tubes cathodiques plats qui fonctionnent sous vide. Ces écrans comportent une cathode (formée notamment de conducteurs cathodiques, de grilles et de micropointes) et une anode (formée de conducteurs et de luminophores). Pour maintenir le vide, on utilise un élément connu sous le nom de getter, comme cela se fait pour les tubes cathodiques classiques. Un getter est un élément qui, une fois activé sous vide par chauffage, est susceptible de fixer les gaz désorbés par le dispositif et de maintenir le niveau de vide nécessaire au bon fonctionnement de celui-ci.Microtip screens are tubes flat cathodes that operate under vacuum. These screens comprise a cathode (formed in particular of cathode conductors, grids and microtips) and an anode (formed of conductors and phosphors). To maintain the vacuum, we use a element known as getter, as is done for conventional cathode ray tubes. A getter is a element which, when activated under vacuum by heating, is likely to fix the gases desorbed by the device and maintain the necessary level of vacuum to the proper functioning of it.

La figure 1 est une vue partielle, en coupe transversale, d'un écran à micropointes 1 selon l'art antérieur. Il comprend deux lames de verre 2 et 3 placées en regard l'une de l'autre. Les lames 2 et 3 sont scellées sur leur pourtour au moyen d'une pâte de verre 4 à bas point de fusion. La lame 3 supporte, sur sa partie interne à l'écran, la cathode qui est constituée de micropointes 5 formées de préférence sur une couche résistive, telle qu'une couche de silicium 6 déposée sur des conducteurs cathodiques 14, et d'électrodes de grille 7 séparées de la couche résistive 6 par une couche 8 en matériau diélectrique. La lame 2 supporte, sur sa partie interne à l'écran, l'anode qui est constituée d'une ou de plusieurs couches conductrices 9 supportant un ou des luminophores 10. Entre les lames 2 et 3 est ainsi défini un espace 11 isolé de l'extérieur. Cet espace 11 est maintenu sous vide. Le vide a été obtenu au moyen d'un queusot 12 prévu dans la lame 3. Le queusot 12 est initialement ouvert et raccordé à une pompe à vide. Il permet aussi l'introduction d'un ou de plusieurs getters tels que le getter 13. Une fois que le vide est réalisé, le queusot 12 est fermé comme le montre la figure 1.FIG. 1 is a partial view, in section cross-section, a microtip screen 1 according to art prior. It includes two glass slides 2 and 3 placed next to each other. Blades 2 and 3 are sealed around their edges by means of a paste of 4 glass with low melting point. The blade 3 supports, on its internal part on the screen, the cathode which is consisting of microtips 5 formed preferably on a resistive layer, such as a silicon layer 6 deposited on cathode conductors 14, and of grid electrodes 7 separated from the layer resistive 6 by a layer 8 of dielectric material. The blade 2 supports, on its internal part on the screen, the anode which consists of one or more conductive layers 9 supporting one or more 10. Between the blades 2 and 3 is thus defined a space 11 isolated from the outside. This space 11 is kept under vacuum. The vacuum was obtained by means of a bumper 12 provided in the blade 3. The 12th is initially opened and connected to a vacuum pump. he also allows the introduction of one or more getters such as the getter 13. Once the emptiness is realized, the tube 12 is closed as shown in figure 1.

La durée de vie de ces dispositifs dépend, entre autres, de celle des cathodes qui est liée à la chute du courant d'électrons en fonction du temps. Cette durée de vie des cathodes dépend beaucoup de la quantité et de la nature des gaz résiduels présents dans la structure fermée constituant l'écran.The life of these devices depends, among others, that of the cathodes which is related to the electron current drop as a function of time. This life of the cathodes depends a lot on the quantity and the nature of the residual gases present in the closed structure constituting the screen.

Lors du fonctionnement d'un tel écran à micropointes, le bombardement électronique de l'anode produit des gaz par un effet de dégazage très dépendant de la nature des luminophores que comprend l'anode. Il est aujourd'hui bien démontré que la chute du courant d'électrons émis par la cathode est essentiellement provoquée par une oxydation du matériau émissif constituant les micropointes. Cette oxydation causée par les gaz désorbés est particulièrement évidente lorsque les micropointes sont en molybdène.When operating such a screen at micropoints, the electronic bombardment of the anode produces gases by a very dependent degassing effect of the nature of the phosphors that includes the anode. he is now well demonstrated that the fall of the current of electrons emitted by the cathode is essentially caused by oxidation of the emissive material constituting the microtips. This oxidation caused by the desorbed gases is particularly evident when the microtips are in molybdenum.

Selon la nature des luminophores utilisés, cette oxydation est plus ou moins intense. Dans le cas des écrans couleurs qui utilisent trois luminophores différents pour obtenir des émissions dans le rouge, le vert et le bleu, l'oxydation est généralement importante et conduit à des durées de vie courtes, de moins de 100 heures.Depending on the nature of the phosphors used, this oxidation is more or less intense. In the case color screens that use three phosphors different to obtain emissions in the red, the green and blue, oxidation is usually important and leads to short life spans, less than 100 hours.

On cherche donc à éviter l'oxydation du matériau émissif. Trois approches pour tenter de résoudre ce problème sont possibles.We therefore try to avoid the oxidation of emissive material. Three approaches to try to solve this problem are possible.

Selon une première approche, on peut penser à utiliser un matériau émissif insensible à l'oxydation. C'est une approche à long terme car aujourd'hui seul le molybdène permet la réalisation de cathodes fonctionnelles.According to a first approach, we can think to use an emissive material insensitive to oxidation. It's a long-term approach because today only molybdenum allows the realization of functional cathodes.

Selon une deuxième approche, on peut utiliser un matériau sensible à l'oxydation, comme le molybdène, en présence de luminophores non oxydants. C'est possible dans le cas des écrans monochromes en utilisant ZnO comme luminophore. Cependant, dans le cas des écrans en couleurs cela impose des contraintes très sévères sur le choix des luminophores et s'avère aujourd'hui très pénalisant.According to a second approach, one can use a material that is sensitive to oxidation, such as molybdenum in the presence of non-oxidizing phosphors. This is possible in the case of monochrome screens in using ZnO as the phosphor. However, in the case color screens this imposes very constraints severe on the choice of phosphors and proves today very penalizing.

Selon une troisième approche, on peut utiliser un matériau sensible à l'oxydation (tel que le molybdène) en présence de luminophores oxydants mais en créant dans le volume intérieur de l'écran une atmosphère réductrice susceptible de combattre cette oxydation et de maintenir le matériau émissif dans son état le plus favorable. Cette troisième approche est particulièrement intéressante car elle permet d'utiliser le molybdène comme matériau émissif tout en conservant de nombreuses possibilités de choix parmi les luminophores.According to a third approach, one can use a material that is sensitive to oxidation (such as molybdenum) in the presence of oxidizing phosphors but creating in the interior volume of the screen a reducing atmosphere likely to combat this oxidation and maintain the emissive material in its most favorable state. This third approach is particularly interesting because it allows to use molybdenum as an emissive material while retaining many possibilities of choice among phosphors.

Dans ses applications classiques, le rôle d'un getter est de maintenir le vide c'est-à-dire de remplacer une pompe à vide. Dans le cas d'un écran plat à émission de champ, il a été proposé d'utiliser un getter pour réaliser une double fonction : pomper les gaz oxydants (ce qui est son rôle habituel) et maintenir une pression partielle d'hydrogène.In its classic applications, the role of a getter is to maintain the vacuum that is to say of replace a vacuum pump. In the case of a flat screen field emission, it has been proposed to use a getter to perform a dual function: to pump the oxidizing gases (which is its usual role) and maintain a hydrogen partial pressure.

La Société SAES GETTERS S.P.A., qui est spécialisée dans la fabrication de getters, a développé et qualifié des matériaux capables de jouer ce double rôle. Ainsi, sa demande de brevet internationale WO-A-96/01492 divulgue un procédé de mise en oeuvre consistant :

  • à faire absorber à un getter une quantité suffisante et contrôlée d'hydrogène dans une enceinte spéciale,
  • à introduire le getter ainsi hydrogéné dans l'écran plat avant la phase d'assemblage de cet écran, et
  • à assembler l'écran en le chauffant pendant environ 20 minutes à environ 450°C pour relâcher l'hydrogène à l'intérieur de l'écran.
The company SAES GETTERS SPA, which specializes in the manufacture of getters, has developed and qualified materials capable of playing this dual role. Thus, its international patent application WO-A-96/01492 discloses a method of implementation consisting of:
  • to make a getter absorb a sufficient and controlled quantity of hydrogen in a special chamber,
  • introducing the thus hydrogenated getter into the flat screen before the assembly phase of this screen, and
  • to assemble the screen by heating it for about 20 minutes at about 450 ° C to release the hydrogen inside the screen.

Le document FR-A-2 755 295 décrit un perfectionnement à ce procédé pour remédier à la perte d'hydrogène pendant la phase d'assemblage de l'écran.Document FR-A-2 755 295 describes a refinement to this process to remedy the loss of hydrogen during the assembly phase of the screen.

Une atmosphère d'hydrogène permet effectivement de stabiliser le courant dans les écrans trichromes pendant quelques milliers d'heures. Ce procédé à base d'hydrogène présente cependant les inconvénients suivants.An atmosphere of hydrogen allows actually stabilize the current in the screens trichromes for a few thousand hours. This However, the hydrogen-based process has the following disadvantages.

Les getters susceptibles de maintenir une pression d'hydrogène suffisante sont spécifiques et présentent une capacité de pompage relativement faible vis-à-vis des autres gaz oxydants. La quantité de getter à introduire est importante (environ 0,5 g pour un écran de 5 pouces), ce qui peut poser des problèmes de coût et d'encombrement, surtout dans le domaine des grands écrans.Getters likely to maintain a sufficient hydrogen pressure are specific and have a relatively low pumping capacity vis-à-vis other oxidizing gases. The quantity of getter to introduce is important (about 0.5 g for a 5-inch screen), which can cause problems cost and congestion, especially in the area of big screens.

En outre, la quantité d'hydrogène que doit au préalable adsorber le getter est assez considérable (1333 cm3. Pa à 13330 cm3.Pa, soit 10 à 100 cm3.Torr par gramme de getter) ce qui, compte tenu du volume de l'écran, peut amener le fabricant à assembler l'écran sous une pression d'hydrogène voisine de l'atmosphère.In addition, the amount of hydrogen that the getter must first adsorb is quite considerable (1333 cm 3 Pa to 13330 cm 3 .Pa, ie 10 to 100 cm 3 .Torr per gram of getter) which, taking into account the volume of the screen, can cause the manufacturer to assemble the screen under a hydrogen pressure close to the atmosphere.

Ces conditions sont difficiles à mettre en oeuvre sur un plan industriel et posent en particulier des problèmes de sécurité difficiles et qui ne peuvent être maítrisés que par un surcoût important.These conditions are difficult to work on an industrial level and pose in particular difficult security issues that can not be controlled only by a significant extra cost.

Exposé de l'inventionPresentation of the invention

Il est proposé selon la présente invention de remédier aux inconvénients de l'art antérieur, par l'utilisation d'un gaz du type NxHy tel que revendiquée dans la revendication 1 de préférence l'ammoniac NH3, comme gaz réducteur au lieu de l'hydrogène. Une pression partielle de NH3 permet d'éviter l'oxydation des pointes et donc d'assurer une grande durée de vie aux cathodes.It is proposed according to the present invention to overcome the drawbacks of the prior art, by the use of a gas of the type N x H y as claimed in claim 1, preferably ammonia NH 3 , as reducing gas at instead of hydrogen. A partial pressure of NH 3 makes it possible to avoid the oxidation of the tips and thus to ensure a long life for the cathodes.

Ce gaz NxHy n'est pas pompé ou très peu pompé par les getters et est donc compatible avec les getters connus de l'homme de l'art qui présentent de très bonnes caractéristiques de pompage. Il présente en outre les avantages d'être très peu toxique, non explosif et de ne poser aucun problème de sécurité. Il peut donc être aisément utilisé industriellement.This gas N x H y is not pumped or very little pumped getters and is therefore compatible with getters known to the skilled artisan that have very good pumping characteristics. It also has the advantages of being very low in toxicity, non-explosive and not posing any safety problem. It can therefore be easily used industrially.

Un premier objet de l'invention consiste en un dispositif comportant au moins une source d'électrons à effet de champ dans une structure fermée délimitant un espace interne qui renferme un gaz réducteur destiné à combattre l'oxydation du matériau émissif de la source d'électrons, caractérisé en ce que le gaz réducteur comprend un gaz de formule NxHy ou un mélange gazeux à base de NxHy avec x = 1 et y = 3 ou x = 2 et y = 4. Avantageusement, le gaz réducteur est sous une pression comprise entre 10-8 mbar et 10-3 mbar et, de façon préférentielle, sous une pression comprise entre 10-8 mbar et 10-5 mbar.A first object of the invention consists of a device comprising at least one field-effect electron source in a closed structure delimiting an internal space which contains a reducing gas intended to combat the oxidation of the emissive material of the source of energy. electrons, characterized in that the reducing gas comprises a gas of formula N x H y or a gaseous mixture based on N x H y with x = 1 and y = 3 or x = 2 and y = 4. Advantageously, the gas The reducing agent is at a pressure of between 10 -8 mbar and 10 -3 mbar and, preferably, at a pressure of between 10 -8 mbar and 10 -5 mbar.

De préférence, le gaz de formule NxHy est NH3.Preferably, the gas of formula N x H y is NH 3 .

Le dispositif peut comprendre en outre un ou plusieurs getters en communication avec l'espace interne du dispositif.The device may further comprise a or several getters in communication with the space internal device.

La structure fermée peut être constituée d'une première lame supportant une cathode à micropointes sur sa face interne à la structure, d'une seconde lame placée en vis-à-vis de la première lame et supportant une anode sur sa face interne à la structure, et de moyens permettant de sceller la première lame à la seconde lame sur leur pourtour. Des luminophores peuvent être en outre répartis sur l'anode. Il s'agit par exemple d'un écran plat de visualisation.The closed structure can be constituted of a first blade supporting a cathode to microtips on its internal face to the structure, a second blade placed vis-à-vis the first blade and supporting an anode on its inner side to the structure, and means of sealing the first blade to the second blade on their periphery. of the phosphors can be further spread over the anode. This is for example a flat screen of viewing.

Un second objet de l'invention consiste en un procédé de fabrication d'un tel dispositif, comprenant les étapes suivantes :

  • assemblage des différents éléments constituant le dispositif pour obtenir ladite structure fermée, au moins un queusot de pompage communiquant avec ledit espace interne étant prévu ;
  • raccordement du queusot de pompage à un appareil comprenant des moyens pour faire le vide et des moyens pour injecter ledit gaz réducteur ;
  • mise sous vide dudit espace interne par les moyens pour faire le vide ;
  • étuvage du dispositif à une température et pour une durée permettant son dégazage, la mise sous vide dudit espace interne étant poursuivie ;
  • arrêt des moyens pour faire le vide ;
  • introduction dudit gaz réducteur dans ledit espace interne par les moyens pour injecter le gaz réducteur sous la pression désirée ;
  • fermeture du queusot.
A second object of the invention consists in a method of manufacturing such a device, comprising the following steps:
  • assembling the various elements constituting the device to obtain said closed structure, at least one pumping tube communicating with said internal space being provided;
  • connecting the pump tube to an apparatus comprising means for evacuating and means for injecting said reducing gas;
  • evacuating said internal space by the means for evacuating;
  • stoving the device at a temperature and for a duration allowing its degassing, the evacuation of said internal space being continued;
  • stopping the means to evacuate;
  • introducing said reducing gas into said internal space by the means for injecting the reducing gas under the desired pressure;
  • closing of the queusot.

Un troisième objet de l'invention consiste en un autre procédé de fabrication d'un tel dispositif, comprenant les étapes suivantes :

  • assemblage des différents éléments constituant le dispositif pour obtenir ladite structure fermée, au moins un queusot de pompage communiquant avec ledit espace interne étant prévu ;
  • raccordement du queusot de pompage à un appareil comprenant des moyens pour faire le vide et des moyens pour injecter ledit gaz réducteur ;
  • mise sous vide dudit espace interne par les moyens pour faire le vide ;
  • étuvage du dispositif à une température et pour une durée permettant son dégazage, la mise sous vide dudit espace interne étant poursuivie ;
  • introduction dudit gaz réducteur dans ledit espace interne sous la pression désirée par les moyens pour injecter le gaz réducteur, les moyens pour faire le vide fonctionnant toujours ;
  • fermeture du queusot.
A third object of the invention consists of another method of manufacturing such a device, comprising the following steps:
  • assembling the various elements constituting the device to obtain said closed structure, at least one pumping tube communicating with said internal space being provided;
  • connecting the pump tube to an apparatus comprising means for evacuating and means for injecting said reducing gas;
  • evacuating said internal space by the means for evacuating;
  • stoving the device at a temperature and for a duration allowing its degassing, the evacuation of said internal space being continued;
  • introducing said reducing gas into said internal space under the pressure desired by the means for injecting the reducing gas, the means for evacuating still operating;
  • closing of the queusot.

Pour ces deux procédés, si le dispositif comporte des moyens de scellement agissant à chaud, l'étape d'assemblage se déroule sous vide ou sous atmosphère contrôlée, par chauffage à la température d'action des moyens de scellement. Avantageusement, une fois l'étape d'étuvage terminée, le dispositif est ramené à température ambiante et est mis en fonctionnement pendant une durée déterminée avant la réalisation des autres étapes. Les procédés peuvent comprendre en outre les étapes suivantes :

  • introduction d'au moins un getter dans le queusot avant son raccordement sur ledit appareil,
  • activation du getter avant ou après l'introduction du gaz réducteur.
For these two processes, if the device comprises sealing means acting hot, the assembly step takes place under vacuum or controlled atmosphere, by heating to the action temperature of the sealing means. Advantageously, once the baking step is over, the device is brought back to ambient temperature and is put into operation for a predetermined period of time before the other steps are carried out. The methods may further include the steps of:
  • introducing at least one getter into the exhaust pipe before it is connected to said apparatus,
  • activation of the getter before or after the introduction of the reducing gas.

Le getter peut aussi être activé après la fermeture du queusot.The getter can also be activated after the closing of the queusot.

Un quatrième objet de l'invention consiste en un appareil pour la mise en oeuvre de ces deux procédés , comprenant :

  • une canalisation susceptible d'être raccordée audit queusot par l'une de ses extrémités,
  • des moyens pour faire le vide communiquant avec l'autre extrémité de la canalisation grâce à une première vanne,
  • une source de NxHy communiquant avec ladite canalisation grâce à des moyens intermédiaires,
  • des moyens de mesure de la pression régnant dans l'espace interne du dispositif.
A fourth object of the invention consists of an apparatus for implementing these two methods, comprising:
  • a pipe capable of being connected to said pipe by one of its ends,
  • means for evacuating communicating with the other end of the pipe through a first valve,
  • a source of N x H y communicating with said pipe through intermediate means,
  • means for measuring the pressure prevailing in the internal space of the device.

Pour la mise en oeuvre du premier procédé cité ci-dessus, les moyens intermédiaires peuvent comprendre un réservoir à gaz communiquant avec ladite canalisation grâce à une deuxième vanne et avec la source de NxHy grâce à une troisième vanne, des moyens de mesure étant prévus pour mesurer la pression régnant dans le réservoir. For the implementation of the first method mentioned above, the intermediate means may comprise a gas tank communicating with said pipe through a second valve and with the source of N x H y through a third valve, measuring means being provided for measuring the pressure in the tank.

Pour la mise en oeuvre du deuxième procédé cité ci-dessus, les moyens intermédiaires peuvent comprendre simplement une vanne.For the implementation of the second method cited above, intermediate means may just understand a valve.

Un cinquième objet de l'invention consiste en un autre procédé de fabrication d'un tel dispositif, comprenant les étapes suivantes :

  • positionnement relatif, dans une enceinte étanche, des différents éléments constituant le dispositif en vue d'obtenir ladite structure fermée, le dispositif comportant des moyens de scellement agissant à chaud ;
  • mise sous vide de l'intérieur de l'enceinte étanche par des moyens pour faire le vide ;
  • étuvage des différents éléments constituant le dispositif positionnés dans l'enceinte étanche, la mise sous vide de l'enceinte étanche étant poursuivie, l'étuvage étant mené à une température et pour une durée permettant le dégazage desdits différents éléments ;
  • éventuellement, arrêt des moyens pour faire le vide ;
  • introduction dudit gaz réducteur à l'intérieur de l'enceinte étanche sous la pression désirée pour l'espace interne du dispositif ;
  • assemblage du dispositif par scellement en élevant la température des moyens de scellement.
A fifth object of the invention consists of another method of manufacturing such a device, comprising the following steps:
  • relative positioning, in a sealed chamber, of the various elements constituting the device to obtain said closed structure, the device comprising sealing means acting hot;
  • evacuating the interior of the sealed enclosure by means for evacuating;
  • steaming of the various elements constituting the device positioned in the sealed enclosure, the evacuation of the sealed chamber being continued, the stoving being conducted at a temperature and for a duration permitting the degassing of said various elements;
  • possibly, stop means to evacuate;
  • introducing said reducing gas into the sealed enclosure at the desired pressure for the internal space of the device;
  • assembly of the device by sealing by raising the temperature of the sealing means.

Un sixième objet de l'invention consiste en encore un autre procédé de fabrication d'un tel dispositif, comprenant les étapes suivantes :

  • positionnement relatif, dans une enceinte étanche, des différents éléments constituant le dispositif en vue d'obtenir ladite structure fermée, le dispositif comportant des moyens de scellement agissant à chaud, un trou prévu dans le dispositif étant destiné à mettre en communication l'espace interne de la structure fermé et l'intérieur de l'enceinte étanche ;
  • mise sous vide ou sous atmosphère contrôlée de l'intérieur de l'enceinte étanche par des moyens appropriés ;
  • étuvage des différents éléments constituant le dispositif positionnés dans l'enceinte étanche, la mise sous vide ou sous atmosphère contrôlée de l'intérieur de l'enceinte étanche étant poursuivie, l'étuvage étant mené à une température et pour une durée permettant le dégazage desdits différents éléments ;
  • assemblage du dispositif par scellement en élevant la température des moyens de scellement, la mise sous vide ou sous atmosphère contrôlée de l'intérieur de l'enceinte étanche étant poursuivie ;
  • éventuellement, mise sous vide de l'intérieur de l'enceinte étanche si celle-ci n'était pas sous vide ;
  • introduction dudit gaz réducteur à l'intérieur de l'enceinte étanche pour obtenir la pression désirée dans l'espace interne du dispositif ;
  • bouchage dudit trou de communication. Dans ce cas, les étapes d'étuvage et d'assemblage peuvent être menées simultanément.
A sixth object of the invention consists of yet another method of manufacturing such a device, comprising the following steps:
  • relative positioning, in a sealed enclosure, of the various elements constituting the device to obtain said closed structure, the device comprising sealing means acting hot, a hole provided in the device being intended to put in communication the internal space the closed structure and the interior of the sealed enclosure;
  • evacuation or controlled atmosphere of the interior of the sealed enclosure by appropriate means;
  • baking the various elements constituting the device positioned in the sealed chamber, the vacuum or controlled atmosphere of the interior of the sealed chamber being continued, the baking being conducted at a temperature and for a period allowing degassing said different elements;
  • assembly of the device by sealing by raising the temperature of the sealing means, the evacuation or under controlled atmosphere of the interior of the sealed chamber being continued;
  • optionally, evacuation of the interior of the sealed enclosure if it was not under vacuum;
  • introducing said reducing gas into the sealed enclosure to obtain the desired pressure in the internal space of the device;
  • plugging said communication hole. In this case, the parboiling and assembly steps can be carried out simultaneously.

Un septième objet de l'invention consiste en un appareil pour la mise en oeuvre de ces deux derniers procédés, comprenant :

  • une enceinte étanche apte à recevoir ledit dispositif,
  • des moyens pour faire le vide communiquant avec l'intérieur de l'enceinte grâce à une première vanne,
  • une source de NxHy communiquant avec l'intérieur de l'enceinte grâce à une deuxième vanne,
  • des moyens de mesure de la pression régnant à l'intérieur de l'enceinte.
A seventh object of the invention consists of an apparatus for implementing the latter two methods, comprising:
  • a sealed enclosure adapted to receive said device,
  • means for evacuating communicating with the interior of the enclosure through a first valve,
  • a source of N x H y communicating with the interior of the enclosure through a second valve,
  • means for measuring the pressure prevailing inside the enclosure.

Le cas échéant, cet appareil peut comprendre en outre des moyens de production d'une atmosphère contrôlée communiquant avec l'intérieur de l'enceinte grâce à une troisième vanne reliée à des moyens de production de l'atmosphère contrôlée, par exemple une bouteille de gaz appropriée.If necessary, this device may also include means of producing a controlled atmosphere communicating with the interior of the enclosure thanks to a third valve connected to means of production of the controlled atmosphere, example an appropriate gas bottle.

Brève description des dessins.Brief description of the drawings.

L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaítront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels :

  • la figure 1, déjà décrite, est une vue partielle et en coupe transversale schématique d'un écran de visualisation à micropointes selon l'art antérieur,
  • la figure 2 est une vue schématique d'un premier appareil pour la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication d'un dispositif selon la présente invention,
  • la figure 3 est une vue schématique d'un deuxième appareil pour la mise en oeuvre d'un autre procédé de fabrication d'un dispositif selon la présente invention.
The invention will be better understood and other advantages and particularities will appear on reading the following description, given by way of non-limiting example, accompanied by the appended drawings among which:
  • FIG. 1, already described, is a partial schematic cross-sectional view of a microtip display screen according to the prior art,
  • FIG. 2 is a schematic view of a first apparatus for implementing a method of manufacturing a device according to the present invention,
  • Figure 3 is a schematic view of a second apparatus for carrying out another method of manufacturing a device according to the present invention.

Description détaillée de modes de réalisation de l'inventionDetailed description of embodiments of the invention

Selon l'invention, le choix particulier du gaz NxHy, ou d'un mélange gazeux à base de NxHy, permet à la fois de combattre l'oxydation du matériau émissif de la source émettrice d'électrons tout en évitant des dépôts sur le matériau émissif. En effet, la décomposition éventuelle de ce gaz se fait sous forme gazeuse contrairement à d'autres types de gaz réducteurs (CH4, H2S par exemple).According to the invention, the particular choice of gas N x H y , or of a gaseous mixture based on N x H y , makes it possible at the same time to combat the oxidation of the emissive material of the electron-emitting source while avoiding deposits on the emissive material. Indeed, the possible decomposition of this gas is in gaseous form unlike other types of reducing gases (CH 4 , H 2 S for example).

Plusieurs exemples de fabrication d'un dispositif selon l'invention vont maintenant être décrits.Several examples of manufacturing a device according to the invention will now be described.

Parmi les getters qui seront éventuellement utilisés, on peut citer ceux commercialisés par la société S.A.E.S. GETTERS S.p.A., par exemple :

  • le getter "flashable" au baryum référencé sous la marque déposée ST 14,
  • le getter au zirconium activable à haute température (environ 800°C), référencé sous la marque déposée ST 171,
  • le getter au zirconium-fer activable à basse température (environ 400°C), référencé sous la marque déposée ST 122.
Among the getters that will eventually be used, mention may be made of those marketed by SAES GETTERS SpA, for example:
  • the "flashable" barium-type getter referenced under the trademark ST 14,
  • the zirconium getter which can be activated at high temperature (approximately 800 ° C.), referenced under the trademark ST 171,
  • the zirconium-iron getter which can be activated at low temperature (approximately 400 ° C.), referenced under the trademark ST 122.

Exemple 1Example 1

Un écran à micropointes 20, du type représenté à la figure 1, par exemple de 6 pouces (15,25 cm) de diagonale est assemblé sous vide ou sous atmosphère contrôlée par chauffage à une température comprise entre 450 et 500°C pendant une durée d'environ 1 heure. Il est équipé d'au moins un queusot de pompage 21 ouvert. Le mur de scellement 22 des deux lames du dispositif est constitué d'un verre à bas point de fusion appelé "frit glass".A microtip screen 20, of the type shown in Figure 1, for example 6 inches (15.25 cm) diagonal is assembled under vacuum or under controlled atmosphere by heating at a temperature between 450 and 500 ° C for a period of approximately 1 hour. It is equipped with at least one pumping pipe 21 open. The sealing wall 22 of the two blades of the device consists of a low-point glass fusion called "fried glass".

Après scellement et retour à l'atmosphère, au moins un getter 23, par exemple de type ST 171, est introduit à l'intérieur du queusot 21.After sealing and return to the atmosphere, at least one getter 23, for example of type ST 171, is introduced inside the queuing 21.

Le dispositif 20 est ensuite placé dans une zone 30 de l'appareil représenté à la figure 2 permettant de l'étuver. Le queusot 21 est connecté à une canalisation 41 qui permet de le raccorder à une pompe à vide 42 de type turbomoléculaire via une canalisation 43 équipée d'une vanne 44 d'une part et à l'orifice de sortie d'un réservoir à gaz 45, de volume connu (par exemple 0,7 ℓ), via une canalisation 46 équipée d'une vanne 47 d'autre part.The device 20 is then placed in a zone 30 of the apparatus shown in FIG. allowing to steam it. The queusot 21 is connected to a pipe 41 which makes it possible to connect it to a vacuum pump 42 turbomolecular type via a pipe 43 equipped with a valve 44 on the one hand and the outlet of a gas tank 45, volume known (for example 0.7 ℓ), via a pipe 46 fitted with a valve 47 on the other hand.

Une bouteille de NH3 48 est connectée à l'orifice d'entrée du réservoir 45 via une canalisation 49 équipée d'une vanne 50. Cette vanne 50 est une vanne à aiguille qui permet de régler facilement le débit.A bottle of NH 3 48 is connected to the inlet port of the tank 45 via a pipe 49 equipped with a valve 50. This valve 50 is a needle valve which allows easy adjustment of the flow rate.

L'appareil ainsi constitué comprend encore une jauge 51, permettant de mesurer la pression du gaz contenu dans le réservoir 45, et une jauge 52 permettant de mesurer la pression à la sortie de l'écran 20.The apparatus thus constituted still comprises a gauge 51, for measuring the pressure of the gas contained in the tank 45, and a gauge 52 to measure the pressure at the exit of the screen 20.

On procède alors de la manière suivante.The procedure is as follows.

L'écran 20 et le réservoir 45 sont mis sous vide, les vannes 44 et 47 étant ouvertes et la vanne 50 étant fermée, grâce à la pompe à vide 42. L'écran 20 est alors étuvé à 360°C pendant 16 heures. Après refroidissement à la température ambiante, l'écran 20 est mis en fonctionnement pendant 20 heures. Après arrêt de cette phase de fonctionnement qui a permis le dégazage des luminophores, le getter 23 (ou les getters) est activé par chauffage radiofréquence à une température de 800°C pendant 4 minutes.The screen 20 and the tank 45 are put under empty, the valves 44 and 47 being open and the valve 50 being closed, thanks to the vacuum pump 42. The screen 20 is then parboiled at 360 ° C for 16 hours. After cooling to room temperature, the screen 20 is operated for 20 hours. After stopping this phase of operation which allowed the degassing of the phosphors, the getter 23 (or getters) is enabled by radiofrequency heating to a temperature of 800 ° C for 4 minutes.

Le réservoir 45 est ensuite isolé par fermeture de la vanne 47. De l'ammoniac est introduit dans le réservoir 45.The reservoir 45 is then isolated by closing the valve 47. Ammonia is introduced in the tank 45.

L'écran 20 est ensuite isolé de la pompe à vide 42 par fermeture de la vanne 44. La vanne 47 est alors ouverte et l'ammoniac s'introduit dans l'écran 20 à une pression d'équilibre qui dépend de la quantité introduite dans le réservoir 45 et qui est préférentiellement comprise entre 10-8 et 10-5 mbar. L'écran 20 peut alors être séparé de l'appareil par fermeture du queusot 21.The screen 20 is then isolated from the vacuum pump 42 by closing the valve 44. The valve 47 is then opened and the ammonia is introduced into the screen 20 at an equilibrium pressure which depends on the quantity introduced. in the reservoir 45 and which is preferably between 10 -8 and 10 -5 mbar. The screen 20 can then be separated from the apparatus by closing the exhaust pipe 21.

Exemple 2Example 2

Selon une variante de l'exemple 1, NH3 peut être introduit dans l'écran en régime dynamique.According to a variant of Example 1, NH 3 can be introduced into the screen in dynamic mode.

Pour cela, après la phase d'activation du getter, une pression partielle de NH3 est régulée par la vanne 50, les vannes 44 et 47 étant ouvertes.For this, after the activation phase of the getter, a partial pressure of NH 3 is regulated by the valve 50, the valves 44 and 47 being open.

La pression partielle de NH3 est préférentiellement comprise entre 10-8 et 10-5 mbar. Après une période de balayage dynamique de quelques minutes à quelques dizaines de minutes, l'écran est séparé de l'appareil par fermeture du queusot.The partial pressure of NH 3 is preferably between 10 -8 and 10 -5 mbar. After a period of dynamic scanning from a few minutes to a few tens of minutes, the screen is separated from the device by closing the exhaust.

Exemple 3Example 3

Selon une autre méthode de mise en oeuvre, l'assemblage de l'écran peut être de type intégral, ce qui veut dire que l'écran est dégazé puis scellé sous vide ou sous atmosphère contrôlée. Le procédé est tel qu'après scellement il reste sous vide, ou sous atmosphère contrôlée, par différence avec le cas précédent (exemples 1 et 2) pour lequel, après scellement, l'écran est remis à la pression atmosphérique puis repompé et étuvé.According to another method of implementation, the assembly of the screen can be of integral type, this which means that the screen is degassed then sealed under empty or controlled atmosphere. The process is such after sealing it remains under vacuum, or under Controlled atmosphere, by difference with the case (Examples 1 and 2) for which, after sealing, the screen is put back to the pressure atmospheric and then repumped and parboiled.

On peut alors procéder de la manière suivante.We can then proceed in the same way next.

Les différents éléments de l'écran (lame supportant la cathode, lame supportant l'anode, verre de scellement, getters, etc.) sont positionnés sous vide puis étuvés à une température de l'ordre de 300 à 450°C pendant une ou plusieurs heures. Les getters peuvent être positionnés soit à l'intérieur de l'écran, soit dans une excroissance du type queusot fermé ou boíte à getter. Pendant la phase d'étuvage, l'anode peut être plaquée contre la cathode ou maintenue à une certaine distance de la cathode. Dans ce dernier cas, le dégazage est plus efficace.The different elements of the screen (blade supporting the cathode, blade supporting the anode, glass sealing, getters, etc.) are positioned under empty then parboiled at a temperature of the order of 300 to 450 ° C for one or more hours. Getters can be positioned either inside the screen, either in an outgrowth of the type that is closed or box to getter. During the parboiling phase, the anode can be pressed against the cathode or maintained at a certain distance from the cathode. In this last case, degassing is more efficient.

Ces opérations se déroulent dans un appareil schématiquement représenté sur la figure 3 et qui comprend une enceinte étanche 60 permettant l'étuvage et l'assemblage du dispositif à émission de champ. Cette enceinte 60 est équipé de moyens électriques et mécaniques appropriés 61 permettant l'assemblage du dispositif et son étuvage.These operations take place in a apparatus diagrammatically shown in FIG. which includes a waterproof enclosure 60 allowing parboiling and assembly of the emission device field. This enclosure 60 is equipped with means appropriate electrical and mechanical the assembly of the device and its parboiling.

L'appareil de la figure 3 comprend aussi une pompe à vide turbomoléculaire 62 qui communique avec l'intérieur de l'enceinte 60 grâce à une canalisation 63 équipée d'une vanne 64. Une bouteille de NH3 65 communique avec l'intérieur de l'enceinte 60 grâce à une canalisation 66 équipée d'une vanne 67. Une jauge 68 permet de mesurer la pression régnant dans l'enceinte étanche 60. Une canalisation 71 équipée d'une vanne 72 permet aussi de faire communiquer l'intérieur de l'enceinte 60 avec une bouteille 73 dans le cas où l'on veut mettre l'intérieur de l'enceinte sous atmosphère contrôlée.The apparatus of FIG. 3 also comprises a turbomolecular vacuum pump 62 which communicates with the interior of the enclosure 60 by means of a pipe 63 equipped with a valve 64. A bottle of NH 3 65 communicates with the interior of the the enclosure 60 through a pipe 66 equipped with a valve 67. A gauge 68 makes it possible to measure the pressure prevailing in the sealed enclosure 60. A pipe 71 equipped with a valve 72 also makes it possible to communicate the interior of the the chamber 60 with a bottle 73 in the case where we want to put the interior of the chamber under controlled atmosphere.

Après la phase d'étuvage, une pression de NH3 comprise entre quelques 10-8 et 10-3 mbar est introduite dans l'enceinte 60 contenant l'écran.After the stoving phase, a pressure of NH 3 of between 10 -8 and 10 -3 mbar is introduced into the enclosure 60 containing the screen.

Les plaques d'anode et de cathode sont mises en contact par l'intermédiaire du verre de scellement, si elles ne l'étaient pas déjà, et l'écran est scellé sous la pression de NH3 préalablement établie à une température comprise entre 450°C et 500°C.The anode and cathode plates are brought into contact by means of the sealing glass, if they were not already in use, and the screen is sealed under the pressure of NH 3 previously established at a temperature of between 450.degree. ° C and 500 ° C.

Selon le type de getter utilisé, celui-ci doit être ou non "flashé" ou activé après fermeture et retour à la température ambiante. Il peut être avantageux d'utiliser un getter du type ST 122 qui peut s'activer pendant la phase d'assemblage.Depending on the type of getter used, this one must be "flashed" or activated after closing and return to room temperature. He can be advantageous to use a ST type 122 getter that can activate during the assembly phase.

Exemple 4Example 4

Selon une variante du mode de réalisation décrit à l'exemple 3, l'un des éléments de l'écran (lame de cathode, lame d'anode, boíte à getter) comporte un trou, d'un diamètre de l'ordre du millimètre ou de quelques millimètres, qui permet de mettre en communication l'intérieur de l'écran et l'intérieur de l'enceinte étanche 60.According to a variant of the embodiment described in example 3, one of the elements of the screen (cathode blade, anode blade, getter box) has a hole, of a diameter of the order of millimeter or a few millimeters, which allows porting the inside of the screen and the inside of the waterproof enclosure 60.

Comme pour l'exemple 3, les différents éléments de l'écran sont positionnés sous vide puis étuvés.As for example 3, the different screen elements are positioned under vacuum then steamed.

La phase de scellement peut être ici faite sous atmosphère contrôlée, ce qui est avantageux lorsque l'on utilise un verre du type borosilicate pour les lames de l'écran, l'enceinte étant repompée après l'assemblage de l'écran.The sealing phase can be done here under controlled atmosphere, which is advantageous when using a borosilicate glass for the blades of the screen, the speaker being repompered after the assembly of the screen.

Ce mode de réalisation peut être avantageux même quand le scellement est réalisé sous vide car tous les produits dégazés à l'intérieur de l'écran pendant le scellement sont évacués, ce qui permet d'avoir un vide meilleur à l'intérieur de l'écran.This embodiment can be advantageous even when the sealing is done under vacuum because all degassed products inside the screen during sealing are evacuated, which allows to have a empty better inside the screen.

Après la phase de scellement, de refroidissement et de repompage éventuel, une pression de NH3 de quelques 10-8 à 10-3 mbar est introduite dans l'enceinte et par conséquent dans l'écran. Le trou de communication entre l'écran et l'enceinte est alors rebouchée par tous moyens appropriés.After the sealing phase, cooling and eventual repumping, an NH 3 pressure of a few 10 -8 to 10 -3 mbar is introduced into the enclosure and therefore in the screen. The communication hole between the screen and the enclosure is then closed by any appropriate means.

Dans ce mode de réalisation, il peut être avantageux d'utiliser des getters du même type que ceux de l'exemple 3.In this embodiment, it can be advantageous to use getters of the same type as those of Example 3.

Claims (21)

  1. A device (1) comprising at least one field effect electron source (5) within a sealed structure, which encompasses an internal space (11) that contains a reducing gas whose purpose is to prevent oxidation of the emissive material of the electron source, characterized in that the reducing gas comprises a gas with the formula NxHy or a gaseous mixture based on NxHy with x = 1 and y = 3 or x = 2 and y = 4.
  2. A device according to claim 1, characterized in that the reducing gas is under a pressure of between 10-8 and 10-3 mbar.
  3. A device according to claim 2, characterized in that the reducing gas is under a pressure of between 10-8 and 10-5 mbar.
  4. A device according to any of claims 1 to 3, characterized in that the gas with formula NxHy is NH3.
  5. A device according to any of claims 1 to 4, characterized in that it comprises, in addition, one or several getters (13) that are connected to the internal space (11) of the device (1).
  6. A device according to any of claims 1 to 5, characterized in that the said sealed structure comprises a first strip (3) bearing a microdot cathode (5) on its internal structural face, a second strip (2) placed opposite the first strip (3) and bearing an anode (9) on its internal structural face, and the means (4) of sealing the first strip to the second strip around their edges.
  7. A device according to claim 6, characterized in that it comprises, in addition, luminophors (10) spread out over the anode (9).
  8. A manufacturing process for a device according to any of claims 1 to 7, comprising the following stages:
    the various parts that make up the device (20) are assembled in order to obtain the said sealed structure, it being provided with at least one evacuation exhaust tube (21) that is connected to the said internal space,
    the evacuation exhaust tube (21) is connected to an apparatus that is equipped with the means of providing a vacuum (42) and the means for injecting the said reducing gas (48),
    the said internal space is placed under vacuum by means of the vacuum apparatus (42),
    the device (20) is heated to a temperature and for sufficient time to allow it to be de-gassed, while the vacuum in the said internal device is maintained,
    the vacuum apparatus (42) is stopped,
    the said reducing gas is introduced to the desired pressure into the said internal space by the apparatus for injecting the reducing gas,
    the exhaust tube (21) is sealed off.
  9. A manufacturing process for a device according to any of claims 1 to 7, comprising the following stages:
    the various parts that make up the device (20) are assembled in order to obtain the said sealed structure, with at least one evacuation exhaust tube (21) connected to the said internal space being provided,
    the evacuation exhaust tube (21) is connected to an apparatus that is equipped with the means of providing a vacuum (42) and the means for injecting the said reducing gas (48),
    the said internal space is placed under vacuum by means of the vacuum apparatus (42),
    the device (20) is heated to a temperature and for sufficient time to allow it to be de-gassed, while the vacuum (42) in the said internal device is maintained,
    the said reducing gas is introduced to the desired pressure into the said internal space by means of the apparatus for injecting the reducing gas (48), with the vacuum apparatus (42) still operating,
    the exhaust tube (21) is sealed off.
  10. Process according to either of claims 8 or 9, characterized in that, with the device provided with the means for sealing at high temperature, the assembly stage takes place under vacuum or under a controlled atmosphere, through heating up to the temperature at which the means used for sealing is activated.
  11. Process according to any of claims 8 to 10, characterized in that, once the heating stage is finished, the device (20) is cooled down to ambient temperature and operated for a given period before carrying out the other stages.
  12. Process according to any of claims 8 to 11, characterized in that it comprises, in addition, the following stages:
    the introduction of at least one getter (23) into the exhaust tube (21) before it is connected up to the said apparatus,
    the activation of the getter (23) before or after the introduction of the reducing gas.
  13. Process according to claim 12, characterized in that the getter is activated after the exhaust tube has been sealed off.
  14. An apparatus for implementing the process according to any of claims 8 to 13, comprising:
    a pipe (41) that can be connected up to the said exhaust tube (21) by one of its ends,
    means for providing a vacuum (42), connected up to the other extremity of the pipe (41) by means of a first valve (44),
    a source of NxHy (48), connected to the said pipe (41) via intermediary devices,
    an apparatus (52) for measuring the pressure within the internal space of the device.
  15. An apparatus according to claim 14, characterized in that the intermediate devices comprise a gas reservoir (45) connected to the said pipe (41) via a second valve (47) and to the source of NxHy (48) by means of a third valve (50), with an apparatus (51) for measuring the pressure within the reservoir being provided.
  16. An apparatus according to claim 14, characterized in that the intermediate devices comprise a valve.
  17. A manufacturing process for a device according to any of claims 1 to 7, comprising the following stages:
    the various parts making up the device are put in position in relation to each other within an airtight enclosure (60), in order to obtain the said sealed structure, with the device provided with the means for sealing at high temperature,
    the interior of the airtight enclosure (60) is placed under vacuum using the vacuum apparatus (62),
    the various parts making up the device, placed in position within the airtight enclosure (60), are heated with the airtight enclosure being kept under vacuum, and the heating being up to a temperature and for sufficient time to allow the various parts to be de-gassed,
    if necessary, the vacuum apparatus (62) is stopped,
    the said reducing gas is introduced into the interior of the airtight enclosure (60) at the pressure desired for the internal space of the device,
    the device is assembled by sealing by heating up the means used for sealing.
  18. A manufacturing process for a device according to any of claims 1 to 7, comprising the following stages:
    the various parts making up the device are placed in position in relation to each other within an airtight enclosure (60), in order to obtain the said sealed structure, with the device provided with the means for sealing at high temperature, and a hole being provided in the device whose purpose is to connect the internal space of the sealed structure and the airtight enclosure (60),
    the interior of the airtight enclosure (60) is placed under vacuum or a controlled atmosphere using appropriate means,
    the various parts making up the device, placed in position within the airtight enclosure (60), are heated with the airtight enclosure being kept under vacuum or under a controlled atmosphere, and the heating being up to a temperature and for sufficient time to allow the various parts to be de-gassed,
    the device is assembled by sealing by heating up the means used for sealing, with the vacuum or controlled atmosphere within the interior of the airtight enclosure (60) being maintained,
    if necessary, the interior of the airtight enclosure (60) is placed under vacuum,
    the said reducing gas is introduced into the interior of the airtight enclosure (60) in order to obtain the desired pressure within the internal space of the device,
    the connecting hole is sealed off.
  19. Process according to claim 18, characterized in that the heating and assembly stages are carried out simultaneously.
  20. An apparatus for implementing the process according to claims 17 to 19, comprising:
    an airtight enclosure (60) capable of encompassing the said device,
    a vacuum apparatus (62) connected to the interior of the enclosure via a first valve (64),
    a source of NxHy (65) connected to the interior of the enclosure (60) via a second valve (67),
    an apparatus (68) for measuring the pressure within the interior of the enclosure (60).
  21. An apparatus according to claim 20, characterized in that it comprises, in addition, the means for producing a controlled atmosphere, which is connected to the interior of the enclosure (60) via a third valve.
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