DE4225961C2 - Device for electroplating, in particular copper plating, flat plate-like or arc-shaped objects - Google Patents

Device for electroplating, in particular copper plating, flat plate-like or arc-shaped objects

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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Galvanisierung, insbesondere Verkupferung, flacher, platten- oder bogenför­ miger Gegenstände, insbesondere von gedruckten Leiterplat­ ten, mit
The invention relates to a device for electroplating, in particular copper plating, flat, plate or bogenför shaped objects, especially th printed circuit boards with

  • a) einem Maschinengehäuse, welches einen mit einem flüssi­ gen Elektrolyten anfüllbaren Raum aufweist;a) a machine housing which one with a liquid has space that can be filled with electrolytes;
  • b) einer Fördereinrichtung, welche die Gegenstände im we­ sentlichen horizontal, parallel zu ihrer Haupterstrec­ kungsrichtung, kontinuierlich von einem Eingang zu ei­ nem Ausgang durch das Maschinengehäuse befördert;b) a conveyor, which the objects in we considerably horizontal, parallel to their main extent direction, continuously from one entrance to egg transported through the machine housing at the outlet;
  • c) mindestens einer Anode, welche sich parallel zum Bewe­ gungsweg der Gegenstände erstreckt und mit einem ersten Pol einer Spannungsquelle verbunden ist;c) at least one anode, which is parallel to the movement path of the objects extends and with a first Pole of a voltage source is connected;
  • d) einer Kontaktiereinrichtung, welche einen elektrischen Kontakt zu den Gegenständen herstellt und mit einem zwei­ ten Pol der Spannungsquelle verbunden ist.d) a contacting device, which an electrical Makes contact with the objects and with a two ten pole of the voltage source is connected.

Derartige Vorrichtungen mit unterschiedlichen Förderein­ richtungen sind in der DE-OS 36 24 481 bzw. der DE-OS 32 36 545 beschrieben. Sie arbeiten durchweg mit einer kon­ stanten Gleichspannung, so daß sich die zu galvanisieren­ den Gegenstände auf dem Wege durch das Maschinengehäuse der Vorrichtung hindurch im wesentlichen stets in demselben elektrischen Feld befinden. Die Plattiergeschwindig­ keit, also die Geschwindigkeit, mit der sich die galvani­ sierte Metallschicht auf den Gegenständen aufbaut, ist da­ bei verhältnismäßig gering; dies bedeutet, daß bei einer vorgegebenen Bewegungsgeschwindigkeit der Gegenstände die Länge der Vorrichtungen sehr groß sein muß. Hierdurch wer­ den die bekannten Vorrichtungen außerordentlich teuer.Such devices with different funding directions are in DE-OS 36 24 481 and DE-OS 32 36 545 described. You work consistently with a con constant DC voltage, so that the galvanize the objects on the way through the machine housing through the device essentially always in the same  electrical field. The plating speed speed, i.e. the speed with which the galvanic based metal layer on the objects is there at relatively low; this means that with a predetermined movement speed of the objects The length of the devices must be very large. Hereby who the known devices extremely expensive.

In dem Zeitschriftenartikel "Pulse Plating of Copper for Printed Board Technology", Metal Finishing, April 1991, Seiten 21 bis 27 wird von wissenschaftlichen Unter­ suchungen über die galvanische Abscheidung von Kupfer mit pulsierendem Strom bei der Leiterplattenanfertigung berichtet, wobei auch rechteckige Pulsformen berücksichtigt wurden.In the magazine article "Pulse Plating of Copper for Printed Board Technology ", Metal Finishing, April 1991, pages 21 to 27 is from scientific sub Searches for the galvanic deposition of copper with pulsating current when manufacturing printed circuit boards reports, taking into account rectangular pulse shapes were.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrich­ tung der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß hö­ here Plattiergeschwindigkeiten erzielbar sind und diesel­ ben Schichtdicken mit kürzeren Vorrichtungen erreicht wer­ den können.The object of the present invention is a Vorrich tion of the type mentioned so that height Here plating speeds are achievable and diesel ben layer thicknesses can be achieved with shorter devices that can.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Spannungsquelle mindestens einen einstellbaren Impulsgene­ rator umfaßt, dessen Ausgangssignale an die Anode und die Kontaktiereinrichtung gelegt und Rechteckimpulse mit wähl­ barer Wiederholfrequenz, Taktverhältnis, Amplitude und Po­ larität sind, wobei im zeitlichen Mittelwert die Anode ge­ genüber der Kontaktiereinrichtung positiv ist.This object is achieved in that the Voltage source at least one adjustable pulse genes rator includes, the output signals to the anode and the Contacting device placed and rectangular pulses with dial bar repetition frequency, clock ratio, amplitude and Po are larity, with the anode being averaged over time is positive with respect to the contacting device.

Überraschenderweise hat sich herausgestellt, daß die Plat­ tiergeschwindigkeit um ein Vielfaches dann erhöht werden kann, wenn statt einer konstanten Gleichspannung an den Elektroden der Elektrolyse, d. h., an der Anode einerseits und den zu galvanisierenden Gegenständen andererseits, eine pulsierende Gleichspannung anliegt. Die stromlosen Zeiten, die zwischen den einzelnen Impulsen liegen, werden dadurch kompensiert, daß die Amplitude der Impulse entsprechend erhöht wird. Mit gleichem Stromverbrauch ist die Abschei­ dungsrate bei einer erfindungsgemäßen Vorrichtung und damit die Stromausbeute erheblich höher als beim Stande der Technik. Die physikalischen Vorgänge, auf denen dies beruht, sind im einzelnen noch nicht erforscht. Es scheint jedoch festzustehen, daß hierbei Konzentrations- und Polarisationsef­ fekte im Bereich der Anoden und der zu plattierenden Gegen­ stände eine Rolle spielen, welche bei gepulstem Betrieb günstig beeinflußt werden. Insbesondere dürfte durch die höheren Spannungen, die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzt werden können, das Durchdringen der Metallionen durch die Ladungs-Doppelschicht im Bereich der zu plattie­ renden Gegenstände begünstigt zu werden, so daß die Abschei­ dung von Metall erleichtert wird. Die genauen Parameter der von dem Impulsgenerator erzeugten Ausgangssignale, insbeson­ dere also die Wiederholfrequenz, das Taktverhältnis und die Amplitude, können durch Versuche optimiert und so den gege­ benen geometrischen Verhältnissen ebenso wie dem jeweils vorhandenen Elektrolyten angepaßt werden. Unterschiedliche Elektrolyte, also insbesondere unterschiedliche Arten von Metallionen und unterschiedliche Additive, können anders aussehende Impulse erforderlich machen.Surprisingly, it has been found that the plat animal speed can then be increased many times over can, if instead of a constant DC voltage to the Electrolysis electrodes, d. that is, at the anode on the one hand and the objects to be electroplated, on the other hand pulsating DC voltage is present. The currentless times that lie between the individual impulses compensates for the amplitude of the pulses accordingly is increased. The Abschei is with the same power consumption application rate in a device according to the invention and thus the current yield is considerably higher than in the state of the technique. The physical processes on which this is have not yet been researched in detail. It seems however, to be certain  that here concentration and polarization ef effects in the area of the anodes and the counter to be plated would play a role, which in pulsed operation be influenced favorably. In particular, the higher voltages in the inventive method can be used to penetrate the metal ions through the charge double layer in the area of the plattie objects to be favored, so that the Abschei metal is facilitated. The exact parameters of the output signals generated by the pulse generator, in particular So the repetition frequency, the clock ratio and the Amplitude, can be optimized through trials and thus the opposite geometrical relationships as well as each existing electrolytes can be adjusted. Different Electrolytes, in particular different types of Metal ions and different additives can be different make looking impulses necessary.

Bei einem besonders bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung umfaßt die Spannungsquelle mindestens zwei unab­ hängig voneinander betriebene Impulsgeneratoren, deren addierte Ausgangssignale an die Anode bzw. die Kontaktier­ einrichtung gelegt sind und deren relative Phasenlage einstellbar ist. Durch die Überlagerung der mehreren, insbesondere zwei, von den unabhängigen Impulsgeneratoren erzeugten Rechteckimpulse, deren charakteristische Parameter unabhängig voneinander wählbar sind, lassen sich sehr differenzierte Gesamtimpulse zusammensetzen, die zu günstigen Resultaten führen.In a particularly preferred embodiment of the Invention comprises the voltage source at least two independent dependently operated pulse generators, their added output signals to the anode or the contact device and their relative phase position is adjustable. By overlaying the multiple, in particular two, from the independent pulse generators generated rectangular pulses, their characteristic parameters can be selected independently of each other, can be very Put together differentiated total impulses that are favorable Lead results.

Besonders schnelle Galvanisierungsgeschwindigkeiten werden mit einer Ausführungsform der Erfindung erzielt, bei wel­ cher der oder die Impulsgeneratoren solche Ausgangssignale erzeugen, daß die effektiv an der Anode bzw. der Kontak­ tiereinrichtung liegende Spannung während eines Teiles der Zeit die umgekehrte Polarität aufweist, bei welcher die Anode gegenüber der Kontaktiereinrichtung negativ ist. Die­ se zeitweilige Umkehrung der Polarität der Betriebsspannung scheint insbesondere nachteilige Konzentrationseffekte aus­ zuschließen. Möglicherweise geht dabei auch jeweils wieder ein kleiner Teil der zuvor bereits aufplattierten Schicht wieder in Lösung, was die Oberfläche von anhaftenden Ver­ unreinigungen befreit.Particularly fast electroplating speeds will be achieved with an embodiment of the invention, at wel cher the or the pulse generators such output signals generate that effectively at the anode or the contact voltage during part of the  Time has the reverse polarity at which the Anode is negative with respect to the contacting device. The temporary reversal of the polarity of the operating voltage appears in particular disadvantageous concentration effects close. It may also work again a small part of the layer previously plated back in solution what the surface of adhering ver cleansing free.

Die Wiederholfrequenz der Ausgangssignale des Impulsge­ nerators kann zwischen 10 und 10.000 Hz liegen.The repetition frequency of the output signals of the Impulsge nerators can be between 10 and 10,000 Hz.

Die zu galvanisierenden platten- bzw. bogenförmigen Gegen­ stände, insbesondere die Leiterplatten, weisen häufig Durchgangsbohrungen auf, deren Mantelflächen ebenfalls zu galvanisieren sind. In vielen Fällen ist gerade die bevor­ zugte oder ausschließliche Galvanisierung der Mantelflächen dieser Durchgangsbohrungen erwünscht. Überraschenderweise hat sich bei erfindungsgemäßen Vorrichtungen herausgestellt, daß eine bevorzugte Abscheidung von Metall an den Mantel­ flächen der Durchgangsbohrungen erfolgt, wenn der Elektro­ lyt gekühlt wird. Besonders brauchbar ist ein Temperaturbe­ reich zwischen 10 und 30°C, vorzugsweise zwischen 18 und 24°C. Deshalb ist bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung eine Einrichtung vorgesehen, mit welcher der Elektrolyt kühlbar ist.The plate or arch-shaped counter to be galvanized stands, especially the circuit boards, often show Through holes, the lateral surfaces of which are also closed are galvanized. In many cases this is just ahead drawn or exclusive galvanization of the lateral surfaces of these through holes desired. Surprisingly has been found in devices according to the invention, that a preferred deposition of metal on the jacket through holes is done when the electrical lyt is cooled. A temperature sensor is particularly useful range between 10 and 30 ° C, preferably between 18 and 24 ° C. Therefore, in a preferred embodiment the invention provided a device with which the Electrolyte is coolable.

Eine günstige Ausgestaltung sieht so aus, daß ein Sumpf für den Elektrolyten vorgesehen ist, aus welchem der Elek­ trolyt kontinuierlich in den mit Elektrolyt befüllbaren Raum des Maschinengehäuses gebracht und in welchen der Elek­ trolyt von dort wieder zurückgebracht wird, und daß die Kühleinrichtung umfaßt:
A favorable embodiment looks such that a sump is provided for the electrolyte, from which the electrolyte is continuously brought into the space of the machine housing that can be filled with electrolyte, and into which the electrolyte is returned from there, and that the cooling device comprises:

  • a) einen Hauptkühler, mit welchem der in dem Sumpf befindliche Elektrolyt unterhalb einer ersten vorwählbaren Temperatur gehalten wird;a) a main cooler with which the one located in the sump  Electrolyte below a first preselectable Temperature is maintained;
  • b) mindestens einen Hilfskühler, mit welchem der dem Sumpf entnommene Elektrolyt auf dem Wege zu dem mit Elektrolyt befüllbaren Raum des Maschinengehäuses kühlbar ist und der diesen Elektrolyten auf einer zweiten vorwählbaren Temperatur hält, die niedriger als die erste ist.b) at least one auxiliary cooler with which the sump removed electrolyte on the way to that with electrolyte fillable space of the machine housing is coolable and of this electrolyte on a second preselectable Temperature that is lower than the first.

Durch die Aufteilung der gesamten Kühlwirkung auf einen Haupt- und einen Hilfskühler läßt sich eine besonders prä­ zise und rasche Regelung der Elektrolyttemperatur "vor Ort", d. h. in der Nähe der zu plattierenden Gegenstände, bewerk­ stelligen. Die "Hauptkühlung" auf die erste vorwählbare Temperatur erfolgt durch ein verhältnismäßig großes Aggregat bereits im Sumpf. Diese erste vorwählbare Temperatur liegt nur wenig über derjenigen Temperatur, die der Elektrolyt "vor Ort" erreichen soll. Die endgültige, zweite Temperatur, die unter dem ersten Temperaturwert liegt, wird dann von dem schnell arbeitenden Hilfskühler geringerer Leistung be­ wirkt, welcher auf den Elektrolyten erst auf dessen Weg zu der Anode Einfluß nimmt.By dividing the total cooling effect into one Main and an auxiliary cooler can be a particularly pre rapid and rapid regulation of the electrolyte temperature "on site", d. H. near the objects to be plated, bewerk digits. The "main cooling" on the first preselectable Temperature takes place through a relatively large aggregate already in the swamp. This first preselectable temperature lies just a little above the temperature that the electrolyte should reach "on site". The final second temperature which is below the first temperature value is then changed from the fast working auxiliary cooler with lower power which acts on the electrolyte only on its way to the anode.

In den meisten Vorrichtungen der eingangs genannten Art werden die Gegenstände auf beiden Seiten plattiert. Daher erstreckt sich beidseits zum Bewegungsweg der Gegenstände jeweils eine Elektrode. Bei derartigen Vorrichtungen ist nach einem weiteren Merkmal der Erfindung zweckmäßigerwei­ sen vorgesehen, daß zwei unabhängig voneinander betreib­ bare Hilfskühler vorgesehen sind, wobei der den ersten Hilfskühler durchströmende Elektrolyt den Gegenständen auf der der einen Anode zugewandten Seite und der den anderen Hilfskühler durchströmende Elektrolyt den Gegen­ ständen auf der der anderen Anode zugewandten Seite zu­ geführt wird. In most devices of the type mentioned the objects are plated on both sides. Therefore extends on both sides to the path of movement of the objects one electrode each. In such devices expediently according to a further feature of the invention sen provided that two operate independently Bare auxiliary coolers are provided, the first Auxiliary cooler electrolyte flowing through the objects on the side facing the anode and the other auxiliary cooler flowing electrolyte the counter would be on the side facing the other anode to be led.  

Bei einer Ausgestaltung dieser Art der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist jedem Hilfskühler ein in der Nähe Gegenstände auf der der entsprechenden Anode zugewandten Seite angeord­ neter Temperatursensor zugeordnet, welcher die dortige lokale Temperatur des Elektrolyten überwacht und danach den zugeordneten Hilfskühler steuert. Sind mehrere Anoden vorhanden, so kann es durchaus zweckmäßig sein, zur Vergleich­ mäßigung des Auftrages auf den gegenüberliegenden Seiten der zu galvanisierenden Gegenständen die lokale Temperatur des Elektrolyten unterschiedlich zu wählen, um so unterschied­ lichen geometrischen Verhältnissen, auch in der Strömungs­ bewegung des Elektrolyten, Rechnung tragen zu können.In an embodiment of this type of the invention The device is a nearby object to each auxiliary cooler arranged on the side facing the corresponding anode Neter temperature sensor assigned, which the local monitors the local temperature of the electrolyte and then the controls associated auxiliary cooler. Are multiple anodes available, it may well be useful for comparison reduction of the order on the opposite sides the local temperature of the objects to be electroplated to choose the electrolyte differently, so different geometrical conditions, also in the flow movement of the electrolyte to be able to take into account.

Zweckmäßigerweise ist die Anode eine inerte dimensionssta­ bile Elektrode; dann ist eine gesonderte Einrichtung vor­ gesehen, mit welcher dem Elektrolyten die bei der Galvani­ sierung entzogenen Metallionen wieder zuführbar sind. Die bekannten, eingangs erwähnten Vorrichtungen verwenden sich verbrauchende Anoden, d. h. Anodenkörbe, die mit dem Metall angefüllt sind, welches aufgalvanisiert werden soll. Dieses Metall geht dann während der Elektrolyse in den Elektro­ lyten über und ersetzt so diejenigen Metallionen, die dem Elektrolyten durch die Abscheidung an den zu galvanisie­ renden Gegenständen verloren gehen. Inerte Elektroden, wie sie erfindungsgemäß vorgeschlagen werden, führen jedoch zu besser reproduzierbaren Bedingungen und ermöglichen so günstigere Resultate bei der Aufplattierung. Außerdem las­ sen sich derartige inerte Elektroden leichter an unter­ schiedliche Arbeitsbreiten der Maschinen anpassen als die mit Metall gefüllten bekannten Anodenkörbe.The anode is expediently an inert dimension bile electrode; then there is a separate facility seen with which the electrolyte used in electroplating removed metal ions can be fed again. The Known devices mentioned at the outset use consuming anodes, d. H. Anode baskets made with the metal are filled, which is to be electroplated. This Metal then goes into the electrical system during electrolysis lyte over and thus replaces those metal ions that the Electrolytes through the deposition on the to galvanize objects are lost. Inert electrodes like they are proposed according to the invention, however, lead at more reproducible conditions and thus enable more favorable results when plating. Also read such inert electrodes are easier on under adapt different working widths of the machines than that known anode baskets filled with metal.

Die inerten Anoden können beispielsweise aus platiniertem Streckmetall oder mit leitfähigem Oxid überzogenem Material oder Kohlenstoff bestehen. The inert anodes can, for example, be made of platinized Expanded metal or material coated with conductive oxide or carbon.  

Wird die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Kupfergalvanisie­ rung eingesetzt, kann die Einrichtung, mit welcher dem Elek­ trolyten die bei der Galvanisierung entzogenen Kupferionen wieder zuführbar sind, umfassen:
If the device according to the invention is used for copper electroplating, the device with which the copper ions removed during the electroplating can be fed back to the electrolyte can comprise:

  • a) einen Vorrat an metallischem Kupfer;a) a supply of metallic copper;
  • b) eine Einrichtung, mit welcher ein Teil des Elektrolyten mit Sauerstoff anreicherbar und dem metallischen Kupfer zuführbar ist.b) a device with which part of the electrolyte enrichable with oxygen and the metallic copper is feedable.

Metallisches Kupfer ist in den üblicherweise verwendeten, schwefelsauren Kupfersulfatlösungen nicht lösbar. Dies än­ dert sich, wenn der Elektrolyt zusätzlich mit Sauerstoff angereichert wird. Die dosierte Sauerstoffanreicherung kann also dazu eingesetzt werden, eine ganz bestimmte Menge metallischen Kupfers chemisch aufzulösen, die so gewählt wird, daß die Konzentration der Kupferionen im Elektrolyten im wesentlichen konstant bleibt.Metallic copper is commonly used in sulfuric acid copper sulfate solutions not soluble. This än changes when the electrolyte is additionally oxygenated is enriched. The dosed oxygenation can so be used to a very specific amount to chemically dissolve metallic copper, so chosen is that the concentration of copper ions in the electrolyte remains essentially constant.

Insbesondere kann in diesem Zusammenhang eine Pumpe vorge­ sehen sein, welche dem Sumpf Elektrolyt entnimmt und über einen oder mehrere Luftinjektoren dem Vorrat an metalli­ schem Kupfer zuführt. In diesem Falle wird der Sauerstoff, der zum Lösen des metallischen Kupfers erforderlich ist, der Umgebungsluft entnommen und bei der Passage der Luft­ injektoren dem Elektrolyten beigemischt.In particular, a pump can be featured in this context be seen which takes electrolyte from the swamp and over one or more air injectors from the supply of metalli chemical copper. In this case the oxygen which is required to loosen the metallic copper, taken from the ambient air and at the passage of the air injectors added to the electrolyte.

Zur Erzielung guter Galvanisierungsresultate sind günstige Strömungsverhältnisse des Elektrolyten innerhalb des Maschi­ nengehäuses von Bedeutung. Diesbezüglich erweist sich eine Ausgestaltung der Erfindung als vorteilhaft, bei welcher in dem Maschinengehäuse mehrere senkrecht zur Bewegungsrich­ tung der Gegenstände verlaufende Wände vorgesehen sind, welche bis nahe an die Gegenstände heranreichen und eine Mehrzahl von Bohrungen umfassen, über welche Elektrolyt den Gegenständen zuführbar bzw. von den Gegenständen abführbar ist. Bei dieser Ausgestaltung der Erfindung wird also der Elektrolyt an einer Vielzahl von Stellen innerhalb des Maschinengehäuses zugeführt und in gleicher Weise an einer Vielzahl von Stellen wieder entnommen. Die Einmündungsstellen und die Entnahmestellen liegen verhältnismäßig nahe an den Gegenständen, so daß sich in ihrem Bereich wohldefinierte Strömungswege bilden.To get good electroplating results are cheap ones Flow conditions of the electrolyte within the machine of importance. In this regard, one proves Embodiment of the invention as advantageous, in which in the machine housing several perpendicular to the direction of motion walls of the objects are provided,  which reach close to the objects and one Include a plurality of holes through which the electrolyte Objects can be fed or removed from the objects is. In this embodiment of the invention, the Electrolyte in a variety of locations within the Machine housing fed and in the same way on one Many places removed. The confluence points and the tapping points are relatively close to the Objects, so that they are well defined in their area Form flow paths.

Wenn die Strömungsrichtung des Elektrolyten sich bei in Bewegungsrichtung der Gegenstände aufeinanderfolgenden Wän­ den abwechselt, werden Einflüsse der Strömungsrichtung auf das Galvanisierungsergebnis beim Durchgang durch die ge­ samte Vorrichtung gegenseitig kompensiert.If the direction of flow of the electrolyte changes in Direction of movement of the objects successive walls the alternates, influences of the flow direction on the galvanization result when passing through the ge Entire device mutually compensated.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgen an­ hand der Zeichnung näher erläutert; Es zeigenAn embodiment of the invention will follow hand of the drawing explained in more detail; Show it

Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch eine Vorrichtung zur Galvanisierung von gedruckten Leiterplatten; Figure 1 is a vertical section through an apparatus for electroplating printed circuit boards.

Fig. 2 schematisch die Einrichtung zur Aufbereitung des Elektrolyten, der in der Vorrichtung von Fig. 1 verwendet wird; FIG. 2 schematically shows the device for treating the electrolyte used in the device of FIG. 1;

Fig. 3 ein Blockschaltbild der Schaltungsanordnung, mit welcher die Betriebsspannung für die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung erzeugt wird. Fig. 3 is a block diagram of the circuit arrangement with which the operating voltage for the device shown in Fig. 1 is generated.

Die Fig. 1 zeigt einen vertikalen Schnitt durch eine Vor­ richtung zum Galvanisieren von gedruckten Leiterplatten, wobei die Schnittebene in der linken Hälfte der Figur ge­ genüber der Schnittebene in der rechten Hälfte der Figur versetzt ist. Dies wird weiter unten noch näher erläutert. Fig. 1 shows a vertical section through an on device for electroplating printed circuit boards, the section plane in the left half of the figure is offset compared to the section plane in the right half of the figure. This is explained in more detail below.

Die zu galvanisierenden Leiterplatten werden von einer För­ dereinrichtung, die eine Vielzahl angetriebener Rollen 2 umfaßt, im Sinne des Pfeiles 3 durch das Maschinengehäuse 1 der Vorrichtung hindurchbefördert. Unmittelbar oberhalb und unterhalb des Bewegungsweges der Leiterplatten er­ streckt sich parallel zu diesem jeweils eine Anode 4 bzw. 5 aus inertem Material, beispielsweise aus platiniertem Streckmetall. Die Anoden 4, 5 sind über eine Leitung 6 mit einer Stromversorgungseinrichtung verbunden, die in Fig. 3 dargestellt ist und weiter unten näher beschrieben wird. Die randseitigen Rollen des Fördersystemes sind als Kontakt­ rollen 7 ausgebildet, die über eine an und für sich bekannte Bürsteneinrichtung mit einer Leitung 8 verbunden ist. Die Leitung 8 führt ebenfalls zu der oben bereits erwähnten Stromversorgungseinrichtung.The circuit boards to be electroplated are conveyed by a conveyor device, which comprises a plurality of driven rollers 2 , in the direction of arrow 3 through the machine housing 1 of the device. Immediately above and below the path of movement of the printed circuit boards, an anode 4 or 5 made of inert material, for example made of platinized expanded metal, extends parallel to this. The anodes 4 , 5 are connected via a line 6 to a power supply device, which is shown in FIG. 3 and is described in more detail below. The edge rollers of the conveyor system are designed as contact rollers 7 which are connected to a line 8 via a brush device known per se. Line 8 also leads to the power supply device already mentioned above.

Die Anoden 4, 5 sind außer an ihren Enden über Distanz­ halter 9 am Maschinengehäuse 1 befestigt. Die Befestigung erfolgt beim dargestellten Ausführungsbeispiel mittelbar über Bleche 10, die ihrerseits abgedichtet am Maschinenge­ häuse 1 angeschraubt sind. Zwischen den Blechen 10 und wei­ teren Blechen 11, die sich oben und unten über die gesamte Maschinenbreite und -länge erstrecken, wird eine Vielzahl von Verteilerräumen 12, 13 gebildet. Die Verteilerräume 12 dienen der Zufuhr von Elektrolyt, die Verteilerräume 13 der Entnahme von Elektrolyt aus dem Innenraum des Ma­ schinengehäuses 1. Die Verteilerräume 12, 13 wechseln sich in Bewegungsrichtung (Pfeil 3) ab; senkrecht hierzu stehen sich jeweils ein Verteilerraum 12 einem Verteilerraum 13 gegenüber.The anodes 4 , 5 are except at their ends over distance holder 9 attached to the machine housing 1 . The attachment takes place indirectly in the illustrated embodiment via sheets 10 , which in turn are screwed sealed to the machine housing 1 . A plurality of distribution spaces 12 , 13 is formed between the sheets 10 and white sheets 11 , which extend above and below over the entire machine width and length. The distribution spaces 12 are used for the supply of electrolyte, the distribution spaces 13 for the removal of electrolyte from the interior of the machine housing 1 . The distribution spaces 12 , 13 alternate in the direction of movement (arrow 3 ); perpendicular to this there is a distribution space 12 opposite a distribution space 13 .

Das Maschinengehäuse 1 umfaßt im Inneren eine Vielzahl von Verteilerwänden 14, die senkrecht zur Bewegungsrichtung stehen. Durch jede dieser Verteilerwände 14 sind mehrere abgewinkelte Bohrungen 15, senkrecht zur Zeichenebene gegen­ einander versetzt, geführt, welche den zwischen den Anoden 4, 5 liegenden Raum mit jeweils einem Verteilerraum 12, 13 verbinden.The inside of the machine housing 1 comprises a plurality of distributor walls 14 which are perpendicular to the direction of movement. A plurality of angled bores 15 , perpendicular to the plane of the drawing, are guided through each of these distributor walls 14 and connect the space between the anodes 4 , 5 to a respective distributor space 12 , 13 .

An der Ober- und Unterseite des Maschinengehäuses 1 er­ strecken sich, senkrecht zur Zeichenebene von Fig. 1 ge­ geneinander versetzt, jeweils ein Elektrolyt-Zufuhrkanal 16 (rechte Hälfte von Fig. 1) bzw. Elektrolyt-Abfuhrkanal 17 (linke Hälfte von Fig. 1). Damit wird deutlich, in wel­ cher Weise die Schnittebenen in den beiden Hälften von Fig. 1 gegeneinander verschoben sind. Die Verteilerräume 12 sind über Öffnungen 60 mit den Elektrolyt-Zufuhrkanälen 16, die Verteilerräume 13 über Öffnungen 61 mit den Elektro­ lyt-Abfuhrkanälen 17 verbunden.On the top and bottom of the machine housing 1 he stretch, perpendicular to the plane of Fig. 1 offset against each other, each an electrolyte feed channel 16 (right half of Fig. 1) or electrolyte discharge channel 17 (left half of Fig. 1). This makes it clear in what manner the cutting planes in the two halves of FIG. 1 are shifted from each other. The distribution spaces 12 are connected via openings 60 to the electrolyte supply channels 16 , the distribution spaces 13 via openings 61 to the electrolyte discharge channels 17 .

Der obere Elektrolyt-Zufuhrkanal 16 weist einen Anschluß­ stutzen 18 auf, der mit der Leitung 19 der in Fig. 2 ge­ zeigten Einrichtung zur Aufarbeitung des Elektrolyten ver­ bunden ist. In entsprechender Weise ist der untere Elek­ trolyt-Zufuhrkanal 16 mit einem Anschlußstutzen 20 ver­ sehen, der mit der Leitung 21 der Einrichtung zur Aufar­ beitung des Elektrolyten von Fig. 2 in Verbindung steht.The upper electrolyte supply channel 16 has a connecting piece 18 which is connected to the line 19 of the device shown in FIG. 2 for processing the electrolyte. In a corresponding manner, the lower electrolyte feed channel 16 is seen with a connecting piece 20 which is connected to the line 21 of the device for processing the electrolyte of FIG. 2.

Auch die beiden Elektrolyt-Abfuhrkanäle 17 weisen jeweils einen Anschlußstutzen 22 und 23 auf; beide stehen gemeinsam mit der Leitung 24 in Fig. 2 in Verbindung.The two electrolyte discharge channels 17 each have a connecting piece 22 and 23 ; both are connected to line 24 in FIG. 2.

In die in Fig. 1 linke Seitenwand 25 des Maschinengehäuses 1 sind ein zusätzlicher Verteilerraum 12a sowie ein abge­ winkelter Kanal 14a eingearbeitet; in entsprechender Weise findet sich in der in Fig. 1 rechten Seitenwand 26 des Maschinengehäuses 1 ein zusätzlicher Verteilerraum 12a, der über Bohrungen 14a, 14b mit dem benachbarten Verteilerraum 12 bzw. dem Raum zwischen den Anoden 4, 5 verbunden ist. Über die Verteilerräume 12a und 12b sowie die zugehö­ rigen Bohrungen 14a, 14b, 14c wird frischer Elektrolyt in den unmittelbaren Anfangs- bzw. Endbereich des Raumes zwi­ schen den Anoden 4, 5 eingebracht.In the left side wall 25 in FIG. 1 of the machine housing 1 , an additional distribution space 12 a and an angled channel 14 a are incorporated; in a corresponding manner, 26 of the machine housing 1 is found in the right in Fig. 1 side wall, an additional distribution space 12 a, the through holes 14 a, 14 b with the adjacent manifold space 12 or the space between the anodes 4, 5 is connected. Fresh electrolyte is introduced into the immediate beginning or end region of the space between the anodes 4 , 5 via the distribution spaces 12 a and 12 b and the associated holes 14 a, 14 b, 14 c.

Unmittelbar benachbart dem Eintrittsschlitz 27 für die Lei­ terplatten in der linken Stirnwand 25 des Maschinengehäuses sind Quetschwalzenpaare 28 vorgesehen. In entsprechender Weise befinden sich in der Nähe des Austrittsschlitzes 29 in der rechten Stirnwand 26 des Maschinengehäuses 1 Quetsch­ walzenpaare 30. Die Quetschwalzenpaare 28 bzw. 30 vermin­ dern das Einschleppen bzw. Ausschleppen von Behandlungs­ flüssigkeit in das Maschinengehäuse 1 bzw. aus dem Maschi­ nengehäuse 1 heraus und stellen zudem eine Art dynamischer Dichtung dar, welche das Ausströmen von Elektrolyt aus dem Maschinengehäuse 1 durch die Spalte 27 bzw. 29 begrenzt. Die Menge von Elektrolyt, die über diese zwangsläufig vor­ handenen Undichtigkeiten in der Zeiteinheit entweicht, ist verglichen mit derjenigen Elektrolytmenge, die über die Anschlußstutzen 22 bzw. 23 abgezogen wird, klein und kann durch die über die Anschlußstutzen 18 bzw. 20 in der Zeit­ einheit zugeführte Elektrolytmenge leicht ersetzt werden.Immediately adjacent to the inlet slot 27 for the Lei terplatten in the left end wall 25 of the machine housing, nip roller pairs 28 are provided. Correspondingly, 1 pinch roller pairs 30 are located in the vicinity of the outlet slot 29 in the right end wall 26 of the machine housing 1 . The nip roller pairs 28 and 30 reduce the introduction or removal of treatment liquid into the machine housing 1 or from the machine housing 1 and also represent a type of dynamic seal which prevents electrolyte from flowing out of the machine housing 1 through the column 27 or 29 limited. The amount of electrolyte, which inevitably escapes through these leaks in the time unit, is small compared to the amount of electrolyte that is drawn off via the connecting pieces 22 and 23 , and can be made in time by means of the connecting pieces 18 and 20 supplied amount of electrolyte can be easily replaced.

In Fig. 2 ist diejenige Einrichtung dargestellt, welche der Aufbereitung des Elektrolyten dient, der über die An­ schlußstutzen 18, 20 in die in Fig. 1 dargestellte Vor­ richtung eingebracht und über die Anschlußstutzen 22, 23 dieser Vorrichtung wieder entnommen wird. Da die Vorrich­ tung mit inerten Anoden 4, 5 arbeitet, muß das Kupfer, welches auf die Leiterplatten aufgalvanisiert wird, über den Elektrolyten zugeführt werden. Der Elektrolyt bedarf zudem, wie später noch deutlich werden wird, einer bestimm­ ten Temperierung. Beide Arten der "Aufbereitung" erfolgen in der in Fig. 2 gezeigten Einrichtung. In Fig. 2 that device is shown, which is used for the treatment of the electrolyte, which is introduced via the connection spigot 18 , 20 in the direction shown in Fig. 1 Before and is removed again via the connection piece 22 , 23 of this device. Since the Vorrich device works with inert anodes 4 , 5 , the copper, which is galvanized onto the circuit boards, must be supplied via the electrolyte. As will become clear later, the electrolyte also requires a certain temperature control. Both types of "preparation" take place in the device shown in FIG. 2.

Diese Einrichtung umfaßt einen als Sumpf für den Elektro­ lyten dienenden Behälter 31, der bis zu einem bestimmten Niveau mit Elektrolyt angefüllt ist. In diesen ist ein durchlässiger Korb 32 eingetaucht, in dem sich Kupferschrott 33 befindet. Durch den Elektrolyten selbst, der im wesent­ lichen aus schwefelsaurem Kupfersulfat besteht, löst sich der Kupferschrott 33 nicht. Die Einbringung von Kupferionen in den Elektrolyten geschieht wie folgt:
Eine Pumpe 34 entnimmt dem Sumpf 31 Elektrolyt und führt diesen über eine Leitung 35 einer Vielzahl parallel geschal­ teter Luft-Injektoren 36 zu. In den Luft-Injektoren 36 wird der Elektrolyt mit Luft-Sauerstoff angereichert und so auf den Kupferschrott 33 im Behälter 32 gerichtet. Mit Hilfe des Luftsauerstoffes kann der Elektrolyt nunmehr den Kup­ ferschrott 33 auflösen, so daß zusätzliche Kupferionen in den Elektrolyten gelangen.
This device comprises a serving as a sump for the electro lyte container 31 , which is filled to a certain level with electrolyte. A permeable basket 32 , in which copper scrap 33 is located, is immersed in this. The copper scrap 33 does not dissolve due to the electrolyte itself, which consists essentially of sulfuric acid copper sulfate. Copper ions are introduced into the electrolyte as follows:
A pump 34 removes electrolyte from the sump 31 and feeds it via a line 35 to a large number of air injectors 36 connected in parallel. In the air injectors 36 , the electrolyte is enriched with air-oxygen and thus directed onto the copper scrap 33 in the container 32 . With the help of atmospheric oxygen, the electrolyte can now dissolve the copper scrap 33 , so that additional copper ions get into the electrolyte.

Der Kupfergehalt im Elektrolyten kann in weiten Grenzen, etwa zwischen 2 und 240 g/l, vorzugsweise zwischen 10 und 200 g/l schwanken. Besonders typisch ist eine Kupfer­ konzentration von 100 g/l. Häufig werden außerdem etwa 10 g/­ l EDTA als Additiv eingesetzt.The copper content in the electrolyte can be approximately between 2 and 240 g / l, preferably between 10 and fluctuate 200 g / l. A copper is particularly typical concentration of 100 g / l. Frequently about 10 g / l EDTA used as an additive.

In der Leitung 35 liegt ein Magnetventil 37, welches von einer Regeleinrichtung 38 für den Kupfergehalt des Elektro­ lyten gesteuert wird. Die Regeleinrichtung 38 ist über eine Leitung 39 mit einem im Elektrolyten angeordneten Sensor 40 verbunden. Dieser überwacht die Konzentration der Kup­ ferionen im Elektrolyten, beispielsweise indem er die Dich­ te des Elektrolyten feststellt, oder auf photometrische Weise. Sinkt die Kupferionenkonzentration im Elektrolyten unter einen bestimmten Wert ab, so öffnet die Regeleinrich­ tung 38 das Magnetventil 37. Nunmehr kann über die Luft-Injektoren 36 mit Luftsauerstoff angereicherter Elektrolyt auf den Kupferschrott 33 treffen und aus diesem so lange Kupferionen herauslösen, bis die vom Sensor 40 überwachte Kupferionenkonzentration wieder den gewünschten Wert er­ reicht hat. Dann schließt die Regeleinrichtung 38 das Mag­ netventil 37.In the line 35 is a solenoid valve 37 , which is controlled by a control device 38 for the copper content of the electrolyte. The control device 38 is connected via a line 39 to a sensor 40 arranged in the electrolyte. This monitors the concentration of copper ions in the electrolyte, for example by determining the density of the electrolyte, or in a photometric manner. If the copper ion concentration in the electrolyte drops below a certain value, the control device 38 opens the solenoid valve 37 . Now, via the air injectors 36 , electrolyte enriched with atmospheric oxygen can hit the copper scrap 33 and release copper ions therefrom until the copper ion concentration monitored by the sensor 40 has reached the desired value again. Then the control device 38 closes the magnetic valve 37 .

Durch die Temperierung des Elektrolyten kann, wie bereits erwähnt, Einfluß darauf genommen werden, wo sich bevorzugt das Kupfer während der Elektrolyse in der Vorrichtung von Fig. 1 auf den Leiterplatten abscheidet. Es hat sich he­ rausgestellt, daß eine Kühlung des Elektrolyten dazu führt, daß die Metallabscheidung bevorzugt an den Mantelflächen der Durchgangsbohrung in den Leiterplatten erfolgt. Besonders geeignet ist ein Temperaturbereich zwischen 10 und 30°C, vorzugsweise zwischen 18 und 24°C. Aus diesem Grunde wird durch die in Fig. 2 dargestellte Einrichtung der Elektrolyt zusätzlich gekühlt. Hierzu ist zunächst eine Haupt-Kühlein­ richtung 41 vorgesehen, welche eine im Sumpf 31 angeordnete Kühlschlange 42 mit Kühlmittel versorgt. Durch die Kühlschla­ nge 42 wird der im Sumpf 31 befindliche Elektrolyt auf einer bestimmten Grundtemperatur gehalten.As already mentioned, the temperature control of the electrolyte can influence where the copper preferentially deposits on the printed circuit boards during the electrolysis in the device of FIG. 1. It has been found that cooling the electrolyte leads to the metal deposition preferably taking place on the lateral surfaces of the through-hole in the printed circuit boards. A temperature range between 10 and 30 ° C., preferably between 18 and 24 ° C., is particularly suitable. For this reason, the electrolyte is additionally cooled by the device shown in FIG. 2. For this purpose, a main cooling device 41 is initially provided, which supplies a cooling coil 42 arranged in the sump 31 with coolant. The cooling coil 42 keeps the electrolyte in the sump 31 at a certain basic temperature.

Eine Pumpe 43 entnimmt dem Sumpf 31 derart vorgekühlten Elektrolyt und führt diesen über die Leitung 19 dem oberen Anschlußstutzen 18 der in Fig. 1 gezeigten Maschine zu. In der Leitung 19 liegt ein Hilfskühler 44, dessen Kühl­ schlange 45 von einer Hilfs-Kühleinrichtung 46 versorgt wird. Die Hilfs-Kühleinrichtung 46 steht über eine elek­ trische Leitung 47 mit einem Temperatursensor 48 in Ver­ bindung, der im Bereich der zu galvanisierenden Gegenstände auf der der oberen inerten Anode 4 zugewandten Seite (Fig. 1) angeordnet ist. Der Temperatursensor 47 mißt die dort herrschende lokale Temperatur des Elektrolyten. Steigt diese über einen bestimmten Wert an, so sorgt die Hilfs-Kühleinrichtung 46 durch Beschickung der Kühlschlange 45 im Hilfs­ kühler 44 dafür, daß die Temperatur im Bereich des Sensors 48 wieder in entsprechender Weise absinkt.A pump 43 takes the precooled electrolyte from the sump 31 and feeds it via line 19 to the upper connection piece 18 of the machine shown in FIG. 1. In the line 19 is an auxiliary cooler 44 , the cooling coil 45 is supplied by an auxiliary cooling device 46 . The auxiliary cooling device 46 is connected via an elec trical line 47 to a temperature sensor 48 , which is arranged in the area of the objects to be electroplated on the side facing the upper inert anode 4 ( FIG. 1). The temperature sensor 47 measures the local temperature of the electrolyte there. If this rises above a certain value, the auxiliary cooling device 46 ensures by charging the cooling coil 45 in the auxiliary cooler 44 that the temperature in the area of the sensor 48 drops again in a corresponding manner.

Eine weitere Pumpe 49 entnimmt dem Sumpf 31 der Einrich­ tung von Fig. 2 Elektrolyten und führt diesen über die Leitung 21 dem unteren Anschlußstutzen 20 der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung zu. In der Leitung 21 liegt ein weiterer Hilfskühler 50, dessen Kühlschlange 51 unabhängig von der Kühlschlange 45 von der Hilfs-Kühleinrichtung 46 versorgt wird. Hierzu ist die Hilfs-Kühleinrichtung 46 über eine elektrische Leitung 52 mit einem Temperatursensor 53 verbunden, der im Bereich der zu galvanisierenden Gegenstände auf der der unteren Anode 5 zugewandte Seite angeordnet ist und dort die lokale Temperatur mißt. Mit Hilfe des Tempera­ tursensors 53, der Hilfs-Kühleinrichtung 46 und des Hilfs­ kühlers 50 wird diese lokale Temperatur des Elektrolyten unterhalb eines bestimmten Wertes gehalten, der sich durchaus von dem Sollwert der Temperatur auf der anderen Seite der zu galvanisierenden Gegenstände unterscheiden kann. Da die Grundkühlung des Elektrolyten bereits im Sumpf durch die Haupt-Kühleinrichtung 41 bzw. deren Kühlschlange 42 besorgt wird, braucht die Leistung der Hilfs-Kühleinrichtung 46 nicht sehr groß ausgelegt zu sein. Die Temperatur des Elektrolyten im Sumpf 31 befindet sich bereits recht nahe an den Sollwerten der Temperaturen im Bereich der oberen und unteren Anode 4, 5, so daß die Einregelung auf diese Sollwerte durch die Hilfskühler 44 und 50 sehr rasch und mit geringen Regelschwankungen erfolgen kann.Another pump 49 takes the sump 31 of the Einrich device of FIG. 2 electrolyte and leads this via line 21 to the lower connection piece 20 of the device shown in Fig. 1. A further auxiliary cooler 50 is located in line 21 , the cooling coil 51 of which is supplied by the auxiliary cooling device 46 independently of the cooling coil 45 . For this purpose, the auxiliary cooling device 46 is connected via an electrical line 52 to a temperature sensor 53 which is arranged in the area of the objects to be electroplated on the side facing the lower anode 5 and measures the local temperature there. With the help of the temperature sensor 53 , the auxiliary cooling device 46 and the auxiliary cooler 50 , this local temperature of the electrolyte is kept below a certain value, which may well differ from the target value of the temperature on the other side of the objects to be galvanized. Since the basic cooling of the electrolyte is already provided in the sump by the main cooling device 41 or its cooling coil 42 , the output of the auxiliary cooling device 46 need not be designed to be very large. The temperature of the electrolyte in the sump 31 is already quite close to the target values of the temperatures in the area of the upper and lower anode 4 , 5 , so that the auxiliary coolers 44 and 50 can regulate these target values very quickly and with slight control fluctuations.

Die Stromversorgungseinrichtung für die Vorrichtung von Fig. 1 ist in Fig. 3 gezeigt. Sie umfaßt einen schema­ tisch dargestellten Transformator 54, der primärseitig mit der Netzspannung und sekundärseitig mit zwei Impulsgenera­ toren 55, 56 verbunden ist. Die Impulsgeneratoren 55 und 56 können jeweils unabhängig voneinander Rechteckimpulse erzeugen, deren Frequenz, Taktverhältnis, Amplitude, Pola­ rität und relative Phasenlage im wesentlichen frei wählbar sind. Die Ausgangssignale der beiden Impulsgeneratoren 55 und 56 werden überlagert und über die Leitungen 6 bzw. 8 den Elektroden der Vorrichtung von Fig. 1 zugeführt. An den Elektroden (Anoden 4, 5, Kontakträdern 7 und damit letzt­ endlich den Leiterplatten selbst) liegt somit eine gepuls­ te Gleichspannung. Der Funktion der Vorrichtung entsprechend liegt an den Anoden 4, 5 im zeitlichen Mittel überwiegend eine positive Spannung an; während gewisser Zeitspannen jedoch kann eine Umpolung dergestalt stattfinden, daß die Anoden 4, 5 gegenüber den Kontaktrollen 7 und damit gegenüber den Leiterplatten negativ sind. Während dieser Zeitphasen wird die auf den Leiterplatten abgeschiedene Kupferschicht kurzzeitig wieder etwas abgetragen. Außerdem werden Polarisa­ tions- und Konzentrationseffekte in der Nähe der Elektro­ den der Vorrichtung von Fig. 1 weitgehend eliminiert. Die von den beiden Impulsgeneratoren 55 und 56 abgegebenen Im­ pulse werden für den jeweiligen Einsatzzweck optimiert und an die gegebene Geometrie sowohl der Leiterplatten selbst als auch der Vorrichtung sowie die chemische Zusammenset­ zung und Temperatur des Elektrolyten angepaßt. Bei optima­ ler Einstellung, die durch gezielte Versuchsserien zu er­ mitteln ist, lassen sich sehr hohe Abscheideraten von ei­ nigen µ pro Meter bei einer Bewegungsgeschwindigkeit von etwa einem Meter pro Minute der Leiterplatten erzielen. Dies bedeutet, daß in einer Vorrichtung, deren Gesamtlänge 5 Meter nicht übersteigt, auf einen Schritt eine Schicht mit einer Dicke von 25 µ aufgalvanisiert werden kann. Die bisher bei Galvanisierungsvorgängen von Leiterplatten ein­ gesetzte Sicherheitsschicht mit einer Dicke von 4-5 µ, die gesondert aufgebracht wurde, kann weggelassen werden.The power supply device for the device of FIG. 1 is shown in FIG. 3. It comprises a schematically illustrated transformer 54 , which is connected on the primary side to the mains voltage and on the secondary side with two impulse generators 55 , 56 . The pulse generators 55 and 56 can each independently generate rectangular pulses, the frequency, clock ratio, amplitude, polarity and relative phase position are essentially freely selectable. The output signals of the two pulse generators 55 and 56 are superimposed and fed to the electrodes of the device of FIG. 1 via lines 6 and 8, respectively. At the electrodes (anodes 4 , 5 , contact wheels 7 and thus finally the circuit board itself) is therefore a pulsed DC voltage. Corresponding to the function of the device, a positive voltage is predominantly applied to the anodes 4 , 5 on average over time; during certain periods, however, a polarity reversal can take place in such a way that the anodes 4 , 5 are negative with respect to the contact rollers 7 and thus with respect to the printed circuit boards. During these time phases, the copper layer deposited on the printed circuit boards is briefly removed again. In addition, polarization and concentration effects in the vicinity of the electrodes of the device of FIG. 1 are largely eliminated. The delivered by the two pulse generators 55 and 56 in the pulse are optimized for the respective application and adapted to the given geometry of both the circuit board itself and the device as well as the chemical composition and temperature of the electrolyte. With optimal settings, which can be determined by means of targeted test series, very high deposition rates of a few µ per meter can be achieved with a movement speed of about one meter per minute of the printed circuit boards. This means that in a device, the total length of which does not exceed 5 meters, a layer with a thickness of 25 μ can be electroplated in one step. The safety layer with a thickness of 4-5 μ that was previously used in the electroplating of printed circuit boards and which was applied separately can be omitted.

Claims (14)

1. Vorrichtung zur Galvanisierung, insbesondere Verkup­ ferung, flacher, platten- oder bogenförmiger Gegen­ stände, insbesondere von gedruckten Leiterplatten, mit
  • a) einem Maschinengehäuse, welches einen mit einem flüssi­ gen Elektrolyten anfüllbaren Raum aufweist;
  • b) einer Fördereinrichtung, welche die Gegenstände im we­ sentlichen horizontal, parallel zu ihrer Haupterstrec­ kungsrichtung, kontinuierlich von einem Eingang zu ei­ nem Ausgang durch das Maschinengehäuse befördert;
  • c) mindestens einer Anode, welche sich parallel zum Bewe­ gungsweg der Gegenstände erstreckt und mit einem ersten Pol einer Spannungsquelle verbunden ist;
  • d) einer Kontaktiereinrichtung, welche einen elektrischen Kontakt zu den Gegenständen herstellt und mit einem zwei­ ten Pol der Spannungsquelle verbunden ist;
dadurch gekennzeichnet, daß die Spannungsquelle mindestens einen einstellbaren Impuls­ generator (55, 56) umfaßt, dessen Ausgangssignale an die Anoden (4, 5) und die Kontaktiereinrichtung (7) gelegt und Rechteckimpulse mit wählbarer Wiederholfrequenz, Takt­ verhältnis, Amplitude und Polarität sind, wobei im zeitli­ chen Mittel die Anode (4, 5) gegenüber der Kontaktierein­ richtung (7) positiv ist.
1. Device for electroplating, in particular copper plating, flat, plate-shaped or arc-shaped objects, in particular printed circuit boards, with
  • a) a machine housing which has a space which can be filled with a liquid electrolyte;
  • b) a conveyor which conveys the objects substantially horizontally, parallel to their main direction of extension, continuously from an input to an output through the machine housing;
  • c) at least one anode which extends parallel to the movement path of the objects and is connected to a first pole of a voltage source;
  • d) a contacting device which makes electrical contact with the objects and is connected to a second pole of the voltage source;
characterized in that the voltage source comprises at least one adjustable pulse generator ( 55 , 56 ), the output signals of which are applied to the anodes ( 4 , 5 ) and the contacting device ( 7 ) and square-wave pulses with a selectable repetition frequency, clock ratio, amplitude and polarity, whereby on average the anode ( 4 , 5 ) is positive with respect to the contacting device ( 7 ).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Spannungsquelle mindestens zwei unabhängig voneinander arbeitende Impulsgeneratoren (55, 56) umfaßt, deren addierte Ausgangssignale an die Anode (4, 5) bzw. die Kontaktiereinrichtung (7) gelegt sind und deren relative Phasenlage einstellbar ist.2. Device according to claim 1, characterized in that the voltage source comprises at least two independently working pulse generators ( 55 , 56 ), the added output signals of which are applied to the anode ( 4 , 5 ) or the contacting device ( 7 ) and their relative phase position is adjustable. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der oder die Impulsgeneratoren (55, 56) solche Ausgangssignale erzeugen, daß die effektiv an der Anode (4, 5) bzw. der Kontaktiereinrichtung (7) liegende Spannung während eines Teils der Zeit die umgekehrte Pola­ rität aufweist, bei welcher die Anode (4, 5) gegenüber der Kontaktiereinrichtung (7) negativ ist.3. Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the one or more pulse generators ( 55 , 56 ) generate such output signals that the effective at the anode ( 4 , 5 ) or the contacting device ( 7 ) voltage during part the time has the opposite polarity, at which the anode ( 4 , 5 ) relative to the contacting device ( 7 ) is negative. 4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Wiederholfrequenz der Ausgangssignale des Impulsgenerators (55, 56) zwischen 10 und 10.000 Hz liegt.4. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the repetition frequency of the output signals of the pulse generator ( 55 , 56 ) is between 10 and 10,000 Hz. 5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, daß eine Einrichtung (42, 44, 50) vorgesehen ist, mit welcher der Elektrolyt kühlbar ist.5. Device according to one of the preceding claims, that a device ( 42 , 44 , 50 ) is provided with which the electrolyte can be cooled. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Sumpf (31) für den Elektrolyten vorgesehen ist, aus welchem der Elektrolyt kontinuierlich in den mit Elektrolyt befüllbaren Raum des Maschinengehäuses (1) ge­ bracht und in welchen der Elektrolyt von dort wieder zu­ rückgebracht wird, und daß die Kühleinrichtung umfaßt:
  • a) einen Hauptkühler (42), mit welchem der in dem Sumpf (31) befindliche Elektrolyt unterhalb einer ersten vor­ wählbaren Temperatur gehalten wird;
  • b) mindestens einen Hilfskühler (44, 50), mit welchem der dem Sumpf (31) entnommene Elektrolyt auf dem Wege zu dem mit Elektrolyt befüllbaren Raum des Maschinengehäu­ ses (1) kühlbar ist und der diesen Elektrolyt auf einer zweiten vorwählbaren Temperatur hält, die niedriger als die erste ist.
6. The device according to claim 5, characterized in that a sump ( 31 ) is provided for the electrolyte, from which the electrolyte is continuously brought into the electrolyte-fillable space of the machine housing ( 1 ) and in which the electrolyte is returned from there and that the cooling device comprises:
  • a) a main cooler ( 42 ) with which the electrolyte in the sump ( 31 ) is kept below a first selectable temperature;
  • b) at least one auxiliary cooler ( 44 , 50 ) with which the electrolyte removed from the sump ( 31 ) can be cooled on the way to the space of the machine housing ( 1 ) which can be filled with electrolyte and which keeps this electrolyte at a second preselectable temperature which is lower than the first.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, bei welcher sich beid­ seits parallel zum Bewegungsweg der Gegenstände je­ weils eine Anode erstreckt, dadurch gekennzeichnet, daß zwei unabhängig voneinander betreibbare Hilfskühler (44, 50) vorgesehen sind, wobei der den ersten Hilfskühler (44) durchströmende Elektrolyt den Gegenständen auf der der einen Anode (4) zugewandten Seite und der den anderen Hilfskühler (50) durchströmende Elektrolyt den Gegenständen auf der der anderen Anode (5) zugewandten Seite zugeführt wird.7. The device according to claim 6, in which both sides parallel to the path of movement of the objects each anode, characterized in that two independently operable auxiliary coolers ( 44 , 50 ) are provided, the electrolyte flowing through the first auxiliary cooler ( 44 ) the objects on the side facing one anode ( 4 ) and the electrolyte flowing through the other auxiliary cooler ( 50 ) are fed to the objects on the side facing the other anode ( 5 ). 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß jedem Hilfskühler (44, 50) ein in der Nähe der Gegenstände auf der der entsprechenden Anode (4, 5) zuge­ wandten Seite angeordneter Temperatursensor (48, 53) zuge­ ordnet ist, welcher die dortige Temperatur des Elektrolyten überwacht und danach den zugeordneten Hilfskühler (44, 50) steuert.8. The device according to claim 7, characterized in that each auxiliary cooler ( 44 , 50 ) in the vicinity of the objects on the corresponding anode ( 4 , 5 ) facing side arranged temperature sensor ( 48 , 53 ) is assigned, which the monitors the temperature of the electrolyte there and then controls the associated auxiliary cooler ( 44 , 50 ). 9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (4, 5) eine in­ erte dimensionsstabile Elektrode ist und eine gesonderte Einrichtung (34-40) vorgesehen ist, mit welcher dem Elek­ trolyt die bei der Galvanisierung entzogenen Metallionen wieder zuführbar sind.9. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the anode ( 4 , 5 ) is a first dimensionally stable electrode and a separate device ( 34-40 ) is provided with which the electrolyte the metal ions removed during the galvanization again are feedable. 10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (4, 5) aus platiniertem Streckmetall oder mit leitfähigem Oxid überzogenem Material oder Kohlenstoff besteht.10. The device according to claim 9, characterized in that the anode ( 4 , 5 ) consists of platinized expanded metal or material coated with conductive oxide or carbon. 11. Vorrichtung nach Anspruch 9 zur Kupfergalvanisierung, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung, mit wel­ cher dem Elektrolyten die bei der Galvanisierung entzogenen Kupferionen wieder zuführbar sind, umfaßt:
  • a) einen Vorrat (33) an metallischem Kupfer;
  • b) eine Einrichtung (34-40), mit welcher ein Teil des Elek­ trolyten mit Sauerstoff anreicherbar und dem metalli­ schen Kupfer zuführbar ist.
11. The device according to claim 9 for copper electroplating, characterized in that the device with which the electrolyte is removed from the copper ions withdrawn during the electroplating comprises:
  • a) a supply ( 33 ) of metallic copper;
  • b) a device ( 34-40 ) with which part of the electrolyte can be enriched with oxygen and the metallic copper can be supplied.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine Pumpe (34) vorgesehen ist, welche dem Sumpf (31) Elektrolyt entnimmt und über einen oder mehrere Luft­ injektoren (36) dem Vorrat (33) an metallischem Kupfer zu­ führt.12. The apparatus according to claim 11, characterized in that a pump ( 34 ) is provided which takes the electrolyte from the sump ( 31 ) and injectors ( 36 ) to the supply ( 33 ) of metallic copper via one or more air injectors. 13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Maschinengehäuse (1) mehrere senkrecht zur Bewegungsrichtung der Gegenstände verlaufende Wände (14) vorgesehen sind, welche bis nahe an die Gegenstände heranreichen und eine Mehrzahl von Boh­ rungen (15) umfassen, über welche Elektrolyt den Gegenstän­ den zuführbar bzw. von den Gegenständen abführbar ist.13. Device according to one of the preceding claims, characterized in that in the machine housing ( 1 ) a plurality of perpendicular to the direction of movement of the objects walls ( 14 ) are provided, which come up close to the objects and comprise a plurality of holes ( 15 ) , via which the electrolyte can be supplied to or removed from the objects. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Strömungsrichtung des Elektrolyten sich bei in Bewegungsrichtung der Gegenstände aufeinanderfolgenden Wänden (14) abwechselt.14. The apparatus according to claim 13, characterized in that the flow direction of the electrolyte alternates with successive walls ( 14 ) in the direction of movement of the objects.
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