DE4041408C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE4041408C2
DE4041408C2 DE4041408A DE4041408A DE4041408C2 DE 4041408 C2 DE4041408 C2 DE 4041408C2 DE 4041408 A DE4041408 A DE 4041408A DE 4041408 A DE4041408 A DE 4041408A DE 4041408 C2 DE4041408 C2 DE 4041408C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
semiconductor memory
signal
test
control signal
state control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4041408A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4041408A1 (de
Inventor
Makoto Suwa
Hiroshi Itami Hyogo Jp Miyamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Publication of DE4041408A1 publication Critical patent/DE4041408A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4041408C2 publication Critical patent/DE4041408C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/46Test trigger logic
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/18Address timing or clocking circuits; Address control signal generation or management, e.g. for row address strobe [RAS] or column address strobe [CAS] signals

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Halbleiterspeicher nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Sie betrifft insbesondere Halbleiterspeicher, die mit einer Betriebsart betrieben werden, die sich durch eine Kombination zweier von außen angelegter Steuersignale auszeichnet. Die vorliegende Erfindung ist besonders auf dynamische Schreib-Lesespeicher (dynamic random access memory=DRAM) anwendbar.
In den letzten Jahren wurden Halbleiterspeicher in verschiedenen elektrischen Geräten, wie Computern, eingesetzt. Besonders die Nachfrage nach dynamischen Schreib-Lesespeichern (nachfolgend als DRAM bezeichnet) und statischen Schreib-Lesespeichern (nachfolgend als SRAM bezeichnet) soll zukünftig weiter steigen. Während sich die folgende Erfindung auf Halbleiterspeicher (z. B. DRAMs und SRAMs) bezieht, die mit Betriebsarten betrieben werden, die sich durch eine Kombination zweier von außen angelegter Steuersignale auszeichnen, wird im folgenden zum Zwecke der Einfachheit eine Beschreibung eines DRAM vorgenommen.
Die Fig. 1 zeigt ein Blockdiagramm eines herkömmlichen DRAM. Der DRAM in Fig. 1 umfaßt ein Speicherzellenfeld 1 mit einer Mehrzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Speicherzel­ len, einen extern angelegte Adreßsignale A0 bis A10 empfangen­ den Adreßpuffer 4, einen Zeilendekodierer 2 zum Dekodieren von vom Adreßpuffer 4 ausgegebenen Zeilenadreßignalen RA0 bis RA9, einen Spaltendekodierer 3 zum Dekodieren von vom Adreßpuffer 4 ausgegebenen Spaltenadreßignalen CA0 bis CA9 und einen Leseverstärker 15 zum Verstärken der aus dem Speicherzellenfeld 1 gelesenen Signale. Der DRAM umfaßt weiter einen Eingangskreis 100b zum Empfangen eines von außen an­ gelegten Zeilenadressen-Taktsignals (nachfolgend als -Si­ gnal bezeichnet), einen Eingangskreis 200b zum Empfangen eines von außen angelegten Spaltenadressen-Taktsignals (nachfolgend als -Signal bezeichnet) und einen Eingangs­ kreis 300b zum Empfangen eines von außen angelegten Schreib- Steuersignals (nachfolgend als -Signal bezeichnet). Der - Eingangskreis 100b erzeugt ein internes Signal. Der -Ein­ gangskreis 200b erzeugt ein internes -Signal als Reaktion auf das externe -Signal. Der -Eingangskreis 300b erzeugt ein internes -Signal als Reaktion auf das externe -Signal.
Der Zeilendekodierer 2 wählt eine Zeile, d. h. eine Wortleitung aus, die von den Zeilenadreßsignalen RA0 bis RA9 als Reaktion auf das interne -Signal bestimmt wird. Ein Spaltendekodie­ rer 3 wählt eine Spalte aus, die von den Spaltenadreßsignalen CA0 bis CA9 als Reaktion auf das interne -Signal bestimmt wird. Mit anderen Worten, der Spaltendekodierer 3 schaltet die mit der Spalte verbundenen Transistoren in einem Eingabe-Aus­ gabe-Gatterkreis 5 (nachfolgend als I/O-Kreis bezeichnet) ein, um die Bitleitungen in der bezeichneten Spalte mit einem Ein­ gabepuffer 6 oder einem Ausgabepuffer 7 zu verbinden, wobei die Spalte durch die Spaltenadreßsignale CA0 bis CA9 bezeich­ net wurde.
Ein Adreßpuffer 4 empfängt extern angelegte Adreßsignale A0 bis A10, um dann Zeilenadreßsignale RA0 bis RA9 und Spal­ tenadreßsignale CA0 bis CA9 an den Zeilendekodierer 2 bzw. den Spaltendekodierer 3 in einem gewöhnlichen Schreib- und Lesemo­ dus anzulegen. Der Adreßpuffer 4 empfängt interne Adreßsig­ nale Q0 bis Q9, die von einem Auffrischungs-Zählkreis 8 (refresh counter, nachfolgend als Refresh-Zähler bezeichnet) zum Anlegen von Zeilenadreßsignalen RA0 bis RA9 an den Zeilen­ dekodierer 2 zum Auffrischen im Auffrisch-Modus erzeugt wer­ den. Ein Auffrischungs-Steuerkreis 9 (refresh controller, nachfolgend als Refresh-Steuerkreis bezeichnet) steuert den Refresh-Zähler 8 als Reaktion auf das interne -Signal. Es wird darauf hingewiesen, daß die Betriebsarten des DRAM durch die Kombinationen des internen -Signals, des internen - Signals und des internen -Signals bestimmt bzw. gesteuert werden.
Im gewöhnlichen Schreib- und Lesebetrieb werden Daten zwischen dem I/O-Kreis 5 und dem Eingabepuffer 6 oder zwischen dem I/O- Kreis 5 und dem Ausgabepuffer 7 auf einer 4-Bit-Basis übertra­ gen. Wenn sich das interne -Signal auf "H"-Potential (logisch "H") befindet (im Lesebetrieb), gibt ein I/O-Steuer­ kreis 11 aus dem Speicherzellenfeld 1 gelesene Daten Dout über den Ausgabepuffer 7 aus, als Reaktion auf ein Zeilenadreßsig­ nal RA10 und ein Spaltenadreßsignal CA10. Wenn sich das in­ terne -Signal auf "L"-Potential (logisch "L") befindet (im Schreibbetrieb), legt der I/O-Steuerkreis 11 von außen über den Eingangspuffer 6 angelegte Daten Din an den I/O-Kreis 5 auf 4-Bit-Basis.
Ein Testbetriebs-Steuerkreis 14 erkennt einen extern bestimm­ ten Testbetrieb als Reaktion auf das interne -Signal, das interne -Signal und das interne -Signal. Das bedeutet, daß der Testbetriebs-Steuerkreis 14 ein Testsignal mit L- Potential erzeugt, wenn der Testbetrieb extern bestimmt ist. Der Spaltendekodierer 3 dekodiert die Spaltenadreßsignale CA1 bis CA9, wenn das Testsignal mit L-Potential angelegt wird. Das heißt, das Spaltenadreßbit CA0 wird nicht beachtet. Als Ergebnis wird die Datenübertragung zwischen dem I/O-Kreis 5 und dem Eingangspuffer 6 oder dem Ausgangspuffer 7 auf einer 8-Bit-Basis durchgeführt. Wenn das Testsignal mit L-Poten­ tial angelegt wird, führen der Eingangpuffer 6 und der Aus­ gangspuffer 7 den Datenlese- und Datenschreibbetrieb auf einer 8-Bit-Basis durch. Mit anderen Worten, bei extern bestimmtem Testbetrieb wird der Testvorgang für eine Speicherzelle auto­ matisch gestartet.
Ein Anfang und ein Ende des Testbetriebs sind entsprechend der Zeitdiagramme in Fig. 2 und Fig. 3 bestimmt. Sobald der Anfang des Testbetriebs bestimmt ist, wie in Fig. 2 gezeigt, bewirkt dies ein Abfallen des internen -Signals und des internen -Signals. Hierauf folgt ein Abfall des internen -Signals zum Zeitpunkt t1. Wenn sich das interne -Signal und das in­ terne -Signal auf L-Potential befinden, erkennt der Testbe­ triebs-Steuerkreis 14 die Bestimmung des Testbetriebsanfangs als Reaktion auf den Abfall des internen -Signals. Folglich erzeugt der Testbetriebs-Steuerkreis 14 einen Teststartimpuls und ein Testsignal mit Niedrigpotential.
Im anderen Fall bei Bestimmung von Testbetriebsende wird zu­ erst der Abfall des internen -Signals bewirkt, wie in Fig. 3 gezeigt. Das interne -Signal wird auf H-Potential gehal­ ten. Wenn das interne -Signal abfällt (zum Zeitpunkt t2), erkennt, der Testbetriebs-Steuerkreis 14 die externe Bestimmung des Testbetriebsendes, indem er das -Signal auf L-Potential und das -Signal auf H-Potential erkennt. Folglich erzeugt der Testbetriebs-Steuerkreis 14 einen Testendeimpuls , um das Testsignal anzuheben. Es wird darauf hingewiesen, daß die Zeitpunkte der in Fig. 3 gezeigten Signalwechsel die glei­ chen wie in einem -vor--Auffrischungszyklus sind.
Ein Schaltbild in Fig. 4 zeigt den -Eingangkreis 100b, den -Eingangskreis 200b und den -Eingangskreis 300b, die in Fig. 1 zu sehen sind. Jeder der in Fig. 4 gezeigten Eingangs­ kreise 100b, 200b und 300b weist dieselbe Schaltungsanordnung auf. Der -Eingangskreis 100b z. B. beinhaltet kaskadierte Inverter 21b und 31. Der Inverter 21b weist in Reihe zwischen Spannungsversorgung Vcc und Erde geschaltete pMOS-Transistoren Q13, Q18 und einen nMOS-Transistor Q19 auf. Ein nMOS-Transi­ stor Q14 ist parallel zum Transistor Q19 verbunden. Die Tran­ sistoren Q18 und Q19 sind so verbunden, daß sie ein externes -Signal an ihren Gates empfangen. Die Transistoren Q13 und Q14 sind so verbunden, daß sie ein Aktivierungssignal Φ an ih­ ren Gates empfangen. Der Inverter 31 weist in Serie zwischen Spannungsversorgung Vcc und Masse einen pMOS-Transistor Q15 und einen nMOS-Transistor Q16 auf. Ein pMOS-Transistor Q17 ist zwischen Spannungsversorgung Vcc und dem Eingangsknoten des Inverters 31 angeordnet, um das Laden des Eingangsknotens zu beschleunigen. Das Gate des Transistors Q17 ist mit dem Ausga­ beknoten des Inverters 31 verbunden.
Der Inverter 21b besitzt eine Schwellspannung VTRAS′. Der Wert der Schwellspannung bestimmt sich nach einem Verhältnis von Transistorgrößen, wie einem Verhältnis der Kanalbreiten des Transistors Q18 zum Transistor Q19. Entsprechend besitzt ein Inverter 22b eine Schwellspannung VTCAS′ und ein Inverter 23b Inverter 23b die Schwellspannung VTWE′. Es wird darauf hinge­ wiesen, daß die Schwellspannungen der Inverter 21b, 22b und 23b üblicherweise auf den gleichen Wert gesetzt werden. Das heißt, ein Verhältnis der Transistorgrößen der die Inverter 21b, 22b, 23b bildenden Transistoren ist festgelegt, so daß die Schwellspannungen entsprechend festgelegt sind.
Diese Inverter 21b, 22b und 23b sind daher mit einer festen Schwellspannung gefertigt. Die Schwellspannung der gefertigten Inverter 21b, 22b und 23b kann allerdings schwanken, begründet durch Probleme im Herstellungsprozeß des DRAM. Besonders die Schwellspannung VTRAS′ des Inverters 21b im -Eingangskreis 100b, die kleiner als die anderen Schwellspannungen VTCAS′ und VTWE′ gelegt ist, führt zu derartigen Problemen, wie dies im folgenden beschrieben wird.
Die Fig. 5A bis 5B sind Zeitablaufdiagramme, welche die in den herkömmlichen Kreisen 100b, 200b und 300b erzeugten Probleme erklären. Unter Bezug auf Fig. 5 wird angenommen, daß das ex­ terne -Signal, das externe -Signal und das externe - Signal eine Spannung VIH als H-Potential und eine Spannung VIL als L-Potential aufweisen. Es wird zusätzlich angenommen, daß die Schwellspannung VTRAS′ für das externe -Signal niedri­ ger ist als die Schwellspannungen VTGAS′ und VTWE′ für das ex­ terne -Signal und das externe -Signal. Es wird weiterhin angenommen, daß die Spannung VIH niedriger ist als die Schwellspannungen VTGAS′ und VTWE′ und höher als die Schwell­ spannung VTRAS′.
Das als Reaktion auf das externe -Signal erzeugte interne -Signal befindet sich auf H-Potential bis zum Zeitpunkt t11, wie in Fig. 5B gezeigt. Das externe -Signal fällt zum Zeitpunkt t11 ab, wodurch das interne -Signal entsprechend abfällt. Andererseits werden das interne -Signal und das interne -Signal auf einem L-Potential gehalten, wie dies in Fig. 5C gezeigt ist. Als Ergebnis fällt das Testsignal zum Zeitpunkt t11 ab, wie in Fig. 5D gezeigt, um dieselbe Situa­ tion wie in Fig. 2 zu erzeugen. Mit anderen Worten, der Test­ betrieb wird gestartet, obwohl der Beginn des Testbetriebs von außen nicht notwendig gemacht wurde. Mit anderen Worten, der Betrieb im Testmodus wird gestartet, obwohl ein gewöhnlicher Lese- oder Schreibbetrieb notwendig ist. Dies führt zu Unan­ nehmlichkeiten bei einem Test vor dem Ausliefern der DRAMSs (einem Test in der Fabrik), wie es an späterer Stelle be­ schrieben werden wird.
Die Fig. 6 zeigt ein Blockdiagramm des in Fig. 1 gezeigten Testbetriebs-Steuerkreises bzw. der Testbetriebs-Steuerschal­ tung 14. Wie in Fig. 6 gezeigt, umfaßt der Testbetriebs-Steu­ erkreis 14 einen -vor--Freigabe-Erkennungskreis 61 zum Erkennen eines Abfalls des internen -Signals vor einem Ab­ fall des internen -Signals, einen -vor--Freigabe-Er­ kennungskreis 62 zum Erkennen eines Abfalls des internen - Signals vor einem Abfall des internen -Signals und einen -vor--Freigabe-Erkennungskreis 63 zum Erkennen eines Ab­ falls des internen -Signals vor einem Abfall des internen -Signals. Sobald eine vorbestimmte Bedingung entdeckt ist, bewirken die Erkennungskreise 61, 62 und 63 das Abfallen der Erkennungssignale , bzw. . Das bedeutet, wenn die Bestimmung des Testbetriebsstarts erkannt wird, daß die Erken­ nungskreise 61 und 62 Signale bzw. von L-Potential ausgeben. Ein Testbetriebs-Steuerkreis 64 legt den Teststart­ impuls an einem Haltekreis 65 an als Reaktion auf die Si­ gnale und . Der Haltekreis 65 erzeugt das Testsignal auf L-Potential, indem er den Impuls hält.
Andererseits bewirkt die Erkennung der Bestimmung des Testbe­ triebsendes nur den Abfall des Ausgangssignals im Erken­ nungskreis 61. Der Testbetriebs-Steuerkreis 64 legt den Testendeimpuls an den Haltekreis 65 an als Reaktion auf das Signal . Der Haltekreis 65 bewirkt den Anstieg des Testsi­ gnals als Reaktion auf den Impuls . Zusätzlich bewirkt die Bestimmung des Nur--Auffrischungsbetriebs nur den Ab­ fall des Ausgangssignals des Erkennnungskreises 63. Der Testbetriebs-Steuerkreis erzeugt den Testendeimpuls als Re­ aktion auf das Signal , wodurch das Ansteigen des Testsi­ gnals bewirkt wird. Der -vor--Freigabe-Erkennungs­ kreis 63 und ein Teil des Testbetriebs-Steuerkreises 64 bilden einen Kreis 70 zum Verhindern einer Rücksetzung des Testbe­ triebs.
Das Flußdiagramm in Fig. 7 zeigt die Reihenfolge der Tests ei­ nes DRAMs vor der Auslieferung. Unter Bezug auf Fig. 7 wird zuerst ein DC-Test in Schritt 51 durchgeführt, während dem die DRAMs im gewöhnlichen Betriebsmodus betrieben werden und der Stromverbrauch gemessen wird. Dann wird in Schritt 52 ein Funktionstest durchgeführt. Im Funktionstest wird überprüft, ob die DRAMs einen gewünschten Betrieb in mehreren gewöhnli­ chen Betriebsmodi durchführen. In Schritt 53 wird ein Test der Eingangspegelgrenzen durchgeführt. Im Test der Eingangpegel­ grenzen wird ein Spannungsbereich erfaßt, der einen normalen Betrieb erlaubt, indem H oder L-Spannungspotentiale von extern angelegten Eingangs- oder Steuersignalen variiert werden. Wäh­ rend Schritt 54 wird ein Test der zeitlichen Grenzen durchge­ führt. Im Test der zeitlichen Grenzen wird die Grenze ermit­ telt, bis zu der die DRAMs einen gewünschten Betrieb als Reak­ tion auf ein von außen angelegtes Steuersignal durchführen können, indem die Taktzeit des Steuersignals verändert wird.
In den in Fig. 7 gezeigten Testschritten 51 bis 54 wird eine Überprüfung durchgeführt, ob die DRAMs einen erforderlichen Standard erfüllen oder gebrauchstauglich sind, und DRAMs, die diesen Erfordernissen nicht gerecht werden, werden als defekt betrachtet (durchgefallen). Andererseits werden nur diejenigen DRAMS, die alle diese Erfordernisse erfüllen, als nicht defekt betrachtet und entsprechend ausgeliefert (bestanden). Es sollte bemerkt werden, daß in allen der in Fig. 7 gezeigten Tests 51 bis 54 die DRAMs zu jeder Zeit in einem gewöhnlichen Betriebsmodus betrieben werden sollten.
Wie beschrieben, sollen die Tests vor der Auslieferung in ei­ nem gewöhnlichen Betriebsmodus entsprechend der Testsequenz nach Fig. 7 durchgeführt werden. Daher sollte der Wechsel ei­ nes Betriebszustands der DRAMs vom gewöhnlichen Betrieb in einen Testbetrieb ohne externen Befehl vermieden werden. Wenn die DRAMs während der in Fig. 7 gezeigten Testsequenz in einen unerwünschten Testmodus versetzt werden, zeigt das Testergeb­ nis ein negatives Ergebnis, obwohl keiner der DRAMs defekt ist. Dies bedeutet, daß ein normaler Testbetrieb nicht möglich ist. Es ist daher notwendig, Situationen wie die in den Fig. 5A bis 5D gezeigten während eines Tests vor dem Ausliefern zu verhindern.
Aus der 36 39 169 C2 ist eine Halbleiterspeichervorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 bekannt, die durch Anlegen von Signalen über die RAS- und CAS-Eingangsanschlüsse in einen Testmodus versetzt werden kann. Jedoch muß bei der beschriebenen Vorrichtung ein Spannungspegel für das CAS-Signal gewählt werden, der höher als der normale "H"-Pegel ist, um den Testmodus zu aktivieren.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Halblei­ terspeicher zu schaffen, der das Eintreten in einen unerwünschten Be­ triebszustand verhindert, wobei dieser Betriebszustand durch eine Kombination eines externen -Signals und eines externen -Si­ gnals bewirkt wird.
Die Aufgabe wird durch den Halbleiterspeicher nach dem Patentanspruch 1 gelöst. Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Es folgt die Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der Figuren. Von den Figuren zeigt
Fig. 1 ein Blockdiagramm eines herkömmlichen DRAM;
Fig. 2 ein Zeitablaufdiagramm, das einen Anfang eines Testbetriebs zeigt;
Fig. 3 ein Zeitablaufdiagramm, das ein Ende des Testbe­ triebs zeigt;
Fig. 4 ein Schaltbild, das den -Eingangskreis, den - Eingangskreis und den -Eingangskreis nach Fig. 1 zeigt;
Fig. 5A bis 5D Zeitablaufdiagramme, die die in herkömmlichen Eingangskreisen erzeugten Probleme erklären;
Fig. 6 ein Blockdiagramm des in Fig. 1 gezeigten Testbe­ triebs-Steuerkreises;
Fig. 7 ein Flußdiagramm der Tests an einem DRAM vor der Auslieferung;
Fig. 8 ein Schaltbild eines -Eingangskreises, eines -Eingangskreises und eines -Eingangskreises entsprechend einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 9A bis 9D Zeitablaufdiagramme, die den Betrieb der in Fig. 8 gezeigten Eingangskreise erklären;
Fig. 10 ein Diagramm, das ein Layout des den -Eingangs­ kreis bildenden Inverters in Fig. 8 zeigt;
Fig. 11 ein Diagramm, das ein Layout des den -Eingangs­ kreis bildenden Inverters in Fig. 8 zeigt.
Wie in Fig. 8 gezeigt, beinhaltet ein -Eingangskreis 100a einen Inverter 21a mit einer Schwellspannung VTRAS. Ein - Eingangskreis 200a beinhaltet einen Inverter 22a mit einer Schwellspannung VTCAS. Ein -Eingangskreis 300a beinhaltet einen Inverter 23a mit einer Schwellspannung VTWE. Jeder Wert der drei Schwellspannungen VTRAS, VTCAS, VTWE wird so einge­ stellt, daß er dem folgenden Ausdruck entspricht.
VTRAS<VTCAS=VTWE (1)
Die Schwellspannung VTRAS des Inverters 21a wird z. B. durch Steuern des Kanalbreitenverhältnisses eines pMOS-Transistors Q11 und eines nMOS-Transistors Q12 eingestellt. Entsprechend wird die Schwellspannung VTGAS durch Steuern eines Kanalbrei­ tenverhältnisses eines pMOS-Transistors Q21 und eines nMOS- Transistors Q22 eingestellt.
Die Fig. 10 zeigt den pMIS-Transistor Q11 und den nMIS-Transi­ stor Q12, die den Inverter 21a bilden. Der Transistor Q11 weist eine Kanalbreite W11 auf. Der Transistor Q12 besitzt eine Kanalbreite W12, die kleiner als W11 ist. Die Bezugszei­ chen N11, N12 und N13 in Fig. 10 entsprechen den Positionen der Knoten N11, N12 bzw. N13, wie in Fig. 8 gezeigt.
Die Fig. 11 zeigt den pMOS-Transistor Q21 und den nMOS-Transi­ stor Q22, die den Inverter 22a bilden. Der Transistor Q21 weist eine Kanalbreite W21 auf. Der Transistor Q22 besitzt eine Kanalbreite W22. Die Bezugszeichen N21, N22 und N23 ent­ sprechen auch den Positionen der in Fig. 8 gezeigten Knoten.
Um den oben beschriebenen Zusammenhang (1) zu erfüllen, werden die Kanalbreiten W11, W12, W21 und W22 der Transistoren Q11, Q12, Q21und Q22 so festgelegt, daß sie den folgenden Zusam­ menhang erfüllen.
W12/W11<W22/W21 (2)
Man kann die folgenden Vorteile erhalten, wenn die Schwell­ spannungen des -Eingangskreises 100a, des -Eingangskrei­ ses 200a und des -Eingangskreises 300a so festgelegt werden, daß sie die Bedingung des Ausdrucks (1) erfüllen.
Wie in Fig. 9A gezeigt, wird angenommen, daß die H-Potentiale des externen -Signals, des externen -Signals und des ex­ ternen -Signals niedriger sind als der Spannungswert der Schwellspannung VTRAS und höher als die Schwellspannungen VTCAS und VTWE. Es wird zusätzlich angenommen, daß das externe -Signal, das externe -Signal und das externe -Signal zum Zeitpunkt t11 abfallen und zum Zeitpunkt t12 ansteigen. Da im in Fig. 8 gezeigten -Eingangskreis 100a die Schwellspan­ nung VTRAS auf einen höheren Pegel als der Spannungswert VIH, dem H-Potential des externen -Signals, gesetzt ist, wird die interne -Signalleitung auf einem L-Potential wie in Fig. 9B gezeigt gehalten. Da die Schwellspannungen VTCAS und VTWE niedriger als der Spannungswert VIH gesetzt sind, ändern sich das interne -Signal und das interne -Signal als Re­ aktion auf das externe -Signal und das externe -Signal, wie in Fig. 9C gezeigt. Da das interne -Signal auf L-Poten­ tial verbleibt, bleibt das vom Testbetriebs-Steuerkreis 14 er­ zeugte Testsignal auf hohem Potential, wodurch verhindert wird, daß der mit den Eingangskreisen 100a, 200a und 300a ver­ sehene DRAM in Fig. 8 in einen unerwünschten Testbetriebsmodus versetzt wird.
Dadurch, daß die Schwellspannung VTRAS für das externe -Si­ gnal höher gewählt wurde als die Schwellspannungen VTCAS und VTWE, ist eine Bestimmung eines L-Potentials des externen - Signals leichter als eine Bestimmung eines L-Potentials des externen -Signals. Das interne -Signal wechselt daher leichter auf ein L-Potential verglichen mit dem internen - Signal und dem internen -Signal. Folglich ist ein wie in Fig. 2 gezeigter Wechsel, daß ein internes -Signal nach der Bewegung des internen - und des internen -Signals auf L- Potential abfällt, fast unmöglich. Es ist daher möglich zu verhindern, daß der DRAM in einem Testmodus betrieben wird, ohne daß eine Anforderung für einen Start eines Testbetriebs vorlag.
In einem Test des DRAM mit den in Fig. 8 gezeigten Eingangs­ kreisen 100a, 200a und 300a, der entsprechend der in Fig. 7 gezeigten Testsequenz durchgeführt wird, ist ein Betriebsmodus fast nie aus Versehen in den Testmodus gewechselt. Mit anderen Worten, der DRAM kann seinen Betrieb leicht unter einem gewöhnlichen Betriebsmodus forsetzen. Folglich arbeitet der DRAM in einem gewöhnlichen Betriebsmodus während des in Fig. 7 gezeigten Tests, so daß ein korrektes Testergebnis erhalten werden kann, ohne daß ein Test erneut durchgeführt werden muß.
Während in der Ausführungsform nach Fig. 8 die Schwellspannung gesteuert wird, indem die Kanalbreiten der die Inverter 21a, 22a und 23a der entsprechenden Eingangskreise 100a, 200a und 300a bildenden Transistoren festgelegt werden, ist die Steue­ rung der Schwellspannung nicht hierauf beschränkt, und es sollte erwähnt werden, daß dies auch erreicht werden kann, wenn z. B. eine Gatelänge dieser Transistoren oder eine Diffu­ sionskonzentration der Transistoren kontrolliert verändert wird. Es sollte ferner erwähnt werden, daß die Steuerung der Kanalbreite z. B. des Transistors Q13 im -Eingangskreis sich auf die Steuerung der Schwellspannung auswirkt. Das bedeutet, es ist sinnvoll, ein Verhältnis der Kanalbreite W13 des Tran­ sistors Q13 und des Transistors Q11, d. h. W13/W11, kleiner zu setzen als ein Verhältnis im Inverter 22a des -Eingangs­ kreises 200a. Mit anderen Worten, die Schwellspannung VTRAS kann gesteuert werden, indem eine Kanalbreite mindestens eines Transistors der den Inverter 21a bildenden Transistoren Q11 bis Q13 geändert wird.
Während in der Vorrichtung nach Fig. 8 die Schwellspannungen so gesetzt sind, daß die den Ausdruck (1) erfüllen, sollte festgestellt werden, daß die Schwellspannung TWE für das ex­ terne -Signal beliebig ist. Das bedeutet, daß mindestens die Schwellspannungen VTRAS und VTCAS den Ausdruck (1) erfüllen sollten.
Während CMOS-Inverter 21a, 22a und 23a in der Ausführungsform nach Fig. 8 benutzt werden, sollte ferner festgestellt werden, daß an deren Stelle auch nMOS-Inverter benutzt werden können.

Claims (7)

1. Halbleiterspeicher, der unter einem von einer Kombination von extern angelegten ersten und zweiten Zustandssteuersignalen (, ) vorbestimmten Betriebsmodus betreibbar ist, wobei das erste und das zweite Zustandssteuersignal (, ) einen ersten bzw. einen zweiten Logikzustand (L, H) entsprechend ihres Potentials einnehmen können, miteiner zum Empfangen des ersten Zustandssteuersignals () verbundenen ersten Bestimmungseinrichtung (22a) zum Bestimmen eines Logikzustands des ersten Zustandssteuersignals (),einer zum Empfangen des zweiten Zustandssteuersignals () verbundenen zweiten Bestimmungseinrichtung (21a) zum Bestimmen eines Logikzustands des zweiten Zustandssteuersignals (),
einer mit der ersten und zweiten Bestimmungseinrichtung (21a, 22a) verbundenen Betriebsmodus-Erkennungsvorrichtung (14) zum Erfassen des Vorliegens des vorbestimmten Betriebsmodus, dadurch gekennzeichnet, daß
Schwellspannungspegel der ersten und zweiten Bestimmungseinrichtung (21a, 22a) so festgelegt sind, daß der Schwellspannungspegel der ersten Bestimmungseinrichtung (22a) niedriger als der der zweiten Bestimmungseinrichtung (21a) ist.
2. Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Bestimmungseinrichtung (22a) eine zum Empfangen des ersten Zustandssteuersignals verbundene erste Invertiervorrichtung (22a) aufweist und
die zweite Bestimmungseinrichtung (21a) eine zum Empfangen des zweiten Zustandssteuersignals verbundene zweite Invertiervorrichtung (21a) aufweist.
3. Halbleiterspeicher nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Invertiervorrichtung (22a) einen ersten Feldeffekttransistor (Q21) des einen Leitungstyps und einen zweiten Feldeffekttransistor (Q22) des entgegengesetzten Leitungstyps aufweist, die in Reihe zwischen einem ersten und zweiten Spannungsversorgungspotential verbunden sind,
die zweite Invertiervorrichtung (21a) einen dritten Feldeffekttransistor (Q11) des einen Leitungstyps und einen vierten Feldeffekttransistor (Q12) des entgegengesetzten Leitungstyps aufweist, die in Reihe zwischen dem ersten und zweiten Spannungsversorgungspotential verbunden sind, und
die Schwellspannungen durch Festlegen der Kanalbreite des ersten bis vierten Feldeffekttransistors (Q21, Q22, Q11, Q12) festgelegt sind.
4. Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der vorbestimmte Betriebsmodus einen Testmodus zum Testen des Halbleiterspeichers ist,
die Betriebszustands-Erkennungsvorrichtung (14) eine von der ersten und der zweiten Bestimmungseinrichtung (22a, 21a) abhängige Testbetriebs-Steuereinrichtung (14) aufweist zum Versetzen des Betriebs des Halbleiterspeichers in den Testmodus.
5. Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daßdas erste Zustandssteuersignal ein Spaltenadreß-Taktsignal () aufweist,das zweite Zustandssteuersignal ein Zeilenadreß-Taktsignal () aufweist,
der erste Logikzustand durch L-Potential definiert ist und
der zweite Logikzustand durch H-Potential definiert ist.
6. Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterspeicher einen dynamischen Schreib-/Lesespeicher (DRAM) umfaßt.
7. Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Betriebsmodus-Erkennungsvorrichtung (14) zum Erkennen des Testmodus als Reaktion auf den Wechsel des internen -Signals von einem H-Pegel auf einen L-Pegel reagiert, während sich das interne -Signal auf L-Pegel befindet.
DE4041408A 1989-12-28 1990-12-21 Halbleiterspeicher Granted DE4041408A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1340228A JPH0799619B2 (ja) 1989-12-28 1989-12-28 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4041408A1 DE4041408A1 (de) 1991-07-11
DE4041408C2 true DE4041408C2 (de) 1992-08-20

Family

ID=18334925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4041408A Granted DE4041408A1 (de) 1989-12-28 1990-12-21 Halbleiterspeicher

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5157630A (de)
JP (1) JPH0799619B2 (de)
DE (1) DE4041408A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19524874C1 (de) * 1995-07-07 1997-03-06 Siemens Ag Verfahren zum Versetzen einer integrierten Schaltung von einer ersten in eine zweite Betriebsart
US6151269A (en) * 1992-11-06 2000-11-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device including dynamic type memory and static type memory formed on the common chip and an operating method thereof

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2568455B2 (ja) * 1990-08-16 1997-01-08 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH04119600A (ja) * 1990-09-10 1992-04-21 Mitsubishi Electric Corp テストモード機能内蔵ダイナミックランダムアクセスメモリ装置
JP3282188B2 (ja) * 1991-06-27 2002-05-13 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
FR2684206B1 (fr) * 1991-11-25 1994-01-07 Sgs Thomson Microelectronics Sa Circuit de lecture de fusible de redondance pour memoire integree.
US5455517A (en) * 1992-06-09 1995-10-03 International Business Machines Corporation Data output impedance control
GB2330208A (en) * 1996-12-23 1999-04-14 Holtek Microelectronics Inc Integrated circuit with a built-in test mode activation system
CN1072399C (zh) * 1997-02-04 2001-10-03 盛群半导体股份有限公司 检测-测试模式的系统及方法
US6339347B1 (en) 2000-03-30 2002-01-15 Intel Corporation Method and apparatus for ratioed logic structure that uses zero or negative threshold voltage
KR100642414B1 (ko) * 2004-04-20 2006-11-03 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 제어 회로
KR100612950B1 (ko) * 2004-04-22 2006-08-14 주식회사 하이닉스반도체 외부클럭을 사용한 디램의 라스타임 제어회로 및 라스타임제어방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62170094A (ja) * 1986-01-21 1987-07-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶回路
JPS62250593A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Hitachi Ltd ダイナミツク型ram
JPH0810554B2 (ja) * 1986-09-29 1996-01-31 株式会社東芝 半導体集積回路
JP2518401B2 (ja) * 1989-06-14 1996-07-24 三菱電機株式会社 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6151269A (en) * 1992-11-06 2000-11-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device including dynamic type memory and static type memory formed on the common chip and an operating method thereof
DE19524874C1 (de) * 1995-07-07 1997-03-06 Siemens Ag Verfahren zum Versetzen einer integrierten Schaltung von einer ersten in eine zweite Betriebsart

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0799619B2 (ja) 1995-10-25
DE4041408A1 (de) 1991-07-11
JPH03203091A (ja) 1991-09-04
US5157630A (en) 1992-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4140846C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung und Betriebsverfahren
DE60033873T2 (de) Ein DRAM fähig zur selektiven Ausführung eines Selbstauffrischungsvorgangs
DE3903714C2 (de)
DE4314321C2 (de) Impulssignal-Erzeugungsschaltung und Verwendung derselben in einer Halbleiterspeichereinrichtung
DE4322994C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung und Verfahren zum Setzen des Test-Modus einer Halbleiterspeichervorrichtung
DE102016209540B4 (de) Boost-steuerung zur verbesserung eines sram-schreibvorgangs
DE4214970C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung und Betriebsverfahren dafür
DE3347306C2 (de)
DE4126474A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung mit testmodus
DE602004006848T2 (de) Test für schwache sram-zellen
DE4333765C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung
DE4317887A1 (de) Dynamische Speichervorrichtung für wahlfreien Zugriff mit Selbst-Refresh-Funktion
DE4041408C2 (de)
DE4002664C2 (de)
DE3930932A1 (de) Ausgangsrueckkopplungssteuerschaltung fuer integrierte schaltung
DE102005012099A1 (de) Inhaltsadressierbare Speicherzelle und zugehöriges Speicherzellenfeld
DE3942656C2 (de)
DE4129875A1 (de) Dynamische direktzugriffsspeichereinrichtung mit einem testmodusbetrieb und betriebsverfahren hierfuer
DE4304886C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung
DE10255102B3 (de) SRAM-Speicherzelle mit Mitteln zur Erzielung eines vom Speicherzustand unabhängigen Leckstroms
DE4201785C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung und Verfahren zur Initialisierung einer internen Schaltung einer Halbleiterspeichereinrichtung
DE19814143C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung die einen Normalbetriebsmodus, einen Störungstestmodus und einen Selbst-Auffrischmodus aufweist
DE19823930A1 (de) Integrierte Halbleiterschaltung mit an einem Halbleiterchip angeordnetem DRAM
DE4309320A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung und Betriebsverfahren
DE4138102C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung und Verfahren zum Betreiben einer Halbleiterspeichereinrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee