DE3741385C2 - Solder mask coating that can be imaged by exposure - Google Patents

Solder mask coating that can be imaged by exposure

Info

Publication number
DE3741385C2
DE3741385C2 DE3741385A DE3741385A DE3741385C2 DE 3741385 C2 DE3741385 C2 DE 3741385C2 DE 3741385 A DE3741385 A DE 3741385A DE 3741385 A DE3741385 A DE 3741385A DE 3741385 C2 DE3741385 C2 DE 3741385C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
diisocyanate
acid
reaction mixture
composition according
approx
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE3741385A
Other languages
German (de)
Other versions
DE3741385A1 (en
Inventor
Songvit Setthachayanon
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Armstrong World Industries Inc
Original Assignee
Armstrong World Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Armstrong World Industries Inc filed Critical Armstrong World Industries Inc
Publication of DE3741385A1 publication Critical patent/DE3741385A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3741385C2 publication Critical patent/DE3741385C2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/025Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/035Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • C08F299/06Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/34Carboxylic acids; Esters thereof with monohydroxyl compounds
    • C08G18/348Hydroxycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/6725Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen containing ester groups other than acrylate or alkylacrylate ester groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, insbesondere eine solche zur Bildung einer Schutzüberzugsfolie mit ausgezeichneten Eigenschaften, die allein zur Ausbildung einer lichtempfindlichen klebrigen Beschichtung oder im Gemisch mit einer Reihe anderer Arten von Komponenten wie einem Vernetzer zur Steigerung der Vernetzungsdichte, einem Harz zur Beseitigung der Klebrigkeit oder sogar mit einer anderen lichtempfindlichen Komponente zur Steigerung der Lichtempfindlichkeit verwendet werden kann. Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Beschichtung kann somit für die Herstellung von Photoresists wie Plattier- und Ätzresists, sowie von Lötmasken verwendet werden.The invention relates to a photosensitive resin composition, especially one for Formation of a protective cover film with excellent Properties that are used only to train one photosensitive sticky coating or in Mix with a number of other types of Components like a crosslinker to increase the Crosslinking density, a resin to eliminate the Stickiness or even with another photosensitive Component to increase sensitivity to light can be used. The photosensitive coating according to the invention can thus be used for the production of photoresists such as Plating and etching resists, as well as solder masks used will.

Lötmasken werden zur Herstellung von gedruckten Schaltungen verwendet und dienen in erster Linie zur Verhinderung der Bildung von Lötstegen, zur Aufrechterhaltung der elektrischen Isolierung zwischen den Leitern, um auf diese Weise eine Leitung zwischen den Lötbereichen und die Korrosion eines blanken Kupferleiters zu verhindern. Außerdem ist es wünschenswert, über durch Belichtung abbildbare Lötmasken zu verfügen, die in der Lage sind, eine Abbildung festzuhalten, die als Pause verwendet werden kann, auf die das Lot aufgebracht wird. Da eine Steigerung der Verdrahtungsdichte erwünscht ist, ist es auch wünschenswert eine Lötmaske zu verwenden, die ein hohes Auflösungsvermögen sowie extrem gute Isoliereigenschaften aufweist. Diese Vorzüge weist die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung auf.Solder masks are used to manufacture printed Circuits used and primarily serve to prevent the formation of solder bridges, for Maintaining electrical insulation between the conductors to conduct a line this way between the soldering areas and the corrosion of a to prevent bare copper conductor. Besides, is it is desirable to have imaging over exposure To have solder masks that are capable of Keeping picture used as a break on which the solder is applied. There an increase in wiring density is desired it is also desirable to have a solder mask too use that high resolution as well  has extremely good insulation properties. These The photosensitive according to the invention has advantages Composition on.

Bekannt sind Lötmasken aus der US-PS 44 99 163, in der eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung beschrieben wird, die ein Urethandiacrylat oder -dimethacrylat, eine unverzweigte Polymerverbindung mit einer Glasumwandlungstemperatur im Bereich von ca. 40 bis 150°C und einen Sensibilisator enthält, der unter UV-Lichteinwirkung freie Radikale erzeugt. Die beschriebene unverzweigte Polymerverbindung umfaßt unverzweigte Vinylpolymere oder -copolymere, wie z. B. Polymere aus Vinylmonomeren, die Methylmethacrylat, Butylmethacrylat, Methylstyrol, Vinyltoluol und dergleichen umfassen. Der Sensibilisator zur Erzeugung der freien Radikale umfaßt z. B. substituierte und unsubstituierte mehrkernige Chinone.Soldering masks are known from US Pat. No. 4,499,163, in described a photosensitive resin composition which is a urethane diacrylate or dimethacrylate, an unbranched polymer compound with a glass transition temperature in the range of approx. 40 to 150 ° C and contains a sensitizer which generates free radicals under the influence of UV light. The described unbranched polymer compound comprises unbranched vinyl polymers or copolymers, such as e.g. B. polymers of vinyl monomers, the methyl methacrylate, Butyl methacrylate, methyl styrene, vinyl toluene and the like. The sensitizer for Generation of free radicals includes e.g. B. substituted and unsubstituted polynuclear quinones.

Eine weitere lichthärtbare Urethanacrylatharzzusammensetzung, die zur Herstellung dauerhafter Resists verwendet werden kann, wird in der US-PS 45 87 201 beschrieben. Das Urethanacrylat der dort beschriebenen Zusammensetzung ist aus Polybutadienpolymer zusammengesetzt und wird zur Bildung des dauerhaften Resists mit einem Photopolymerisationsinitiator gemischt.Another light curable urethane acrylate resin composition, those for making permanent resists can be used is in US-PS 45 87 201 described. The urethane acrylate described there Composition is made of polybutadiene polymer composed and becomes the formation of the permanent Resists mixed with a photopolymerization initiator.

Die meisten durch Belichtung abbildbaren Lötmasken haben jedoch den Nachteil, daß sie in einer wäßrigen Lösung nicht entwickelt werden können. Dies macht die Verwendung von Entwicklerlösungen auf der Basis eines organischen Lösungsmittels notwendig. Most solder masks that can be imaged by exposure have the disadvantage, however, that they are in an aqueous Solution can not be developed. This makes the use of developer solutions on the An organic solvent base is required.  

Die Verwendung organischer Lösungsmittel ist jedoch aufgrund der Umweltschutzvorschriften zur Bekämpfung der Verschmutzung durch Lösungsmittel unerwünscht.However, the use of organic solvents due to environmental protection regulations solvent pollution undesirable.

Ein weiterer Nachteil von Lötmasken, für deren Entwicklung Lösungen auf der Basis eines organischen Lösungsmittels erforderlich sind, ist die anhaltende Empfindlichkeit des Endproduktes gegenüber organischen Lösungsmitteln wie Methylenchlorid. Bei bestimmten Produktanwendungen ist außerdem eine derartige Empfindlichkeit unerwünscht.Another disadvantage of solder masks, for their development Solutions based on an organic Solvent is required is the persistent Sensitivity of the end product to organic Solvents such as methylene chloride. With certain Product applications is also one of them Sensitivity undesirable.

Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, durch Belichtung abbildbare Beschichtungszusammensetzungen für Lötmasken zu entwickeln, die in wäßrigen Lösungen entwickelt werden können und die gegenüber organischen Lösungsmitteln wie Methylenchlorid beständig sind. Diese Aufgabe wird, wie aus den vorstehenden Ansprüchen ersichtlich, gelöst.It is therefore an object of the invention by exposure imageable coating compositions to develop for solder masks that are in aqueous Solutions can be developed and the opposite resistant to organic solvents such as methylene chloride are. This task becomes, as from the above claims evident, solved.

Gegenstand der Erfindung ist die Bereitstellung einer solchen Beschichtungszusammensetzung. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist die Bereitstellung einer Beschichtungszusammensetzung für Lötmasken, die mit handelsüblichen Alkaliverdünnern entfernt werden können. Die beschriebenen lichtempfindlichen Harzzusammensetzung besitzen demnach ausgezeichnete Eigenschaften in bezug auf ihr Auflösungsvermögen, ihre Flexibiltät, ihr Haftvermögen auf Metallen, ihre Beständigkeit gegen Lösungsmittel und hohe Temperaturen sowie ausgezeichnete elektrische Isoliereigenschaften.The object of the invention is to provide such a coating composition. Another The object of the invention is to provide a coating composition for solder masks, those with commercially available alkali thinners can be removed. The described photosensitive Resin compositions accordingly have excellent resolving power, their flexibility, their adherence on metals, their resistance to solvents and high temperatures as well as excellent electrical Insulation properties.

Gemäß einer besonderen Ausführungsform der Erfindung wird ein hochviskoses lichtempfindliches Material bereitgestellt, das als Zusatz für Zusammensetzungen geeignet ist, die die Zugabe sowohl eines Verdickungsmittels, als auch eines lichtempfindlichen Beschichtungsmaterials erfordern. Die vorliegenden lichtempfindlichen Materialien erfüllen somit eine zweifache Aufgabe, nämlich sowohl die eines Verdickungsmittels, als auch die eines lichtempfindlichen, lichthärtbaren Zusatzes. Solche Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen sind somit geeignete lichtempfindliche, lichthärtbare Verdickungsmittel für Stoffe wie z. B. Farben, Tinten usw.According to a special embodiment of the invention becomes a highly viscous photosensitive material  provided that as an additive for compositions is suitable, the addition of both a thickener, as well as a photosensitive Require coating material. The present photosensitive materials thus fulfill one double task, namely that of a thickener, as well as that of a light sensitive, light-curable additive. Such embodiments of the compositions according to the invention thus suitable light-sensitive, light-curable Thickeners for fabrics such as B. colors, inks etc.

Eine lichthärtbare Beschichtungszusammensetzung umfaßt eine UV-empfindliche Verbindung ausgewählt aus carboxyliertem Urethan-diacrylat, carboxyliertem Urethan-triacrylat, carboxyliertem Urethan-dimethacrylat und carboxyliertem Urethan-trimethacrylat. Im nachfolgenden wird mit der Bezeichnung carboxyliertes Urethan-di- (und/odedr) -tri(meth)acrylat auf diese Gruppe Bezug genommen. Unter (Meth)acrylat ist dabei Acrylat und/oder Methacrylat zu verstehen.A photo-curable coating composition comprises a UV sensitive compound selected from carboxylated urethane diacrylate, carboxylated Urethane triacrylate, carboxylated urethane dimethacrylate and carboxylated urethane trimethacrylate. The following is called carboxylated Urethane di (and / odedr) tri (meth) acrylate referred to this group. Below is (meth) acrylate to understand acrylate and / or methacrylate.

Diese carboxylierten Urethan-di- und/oder -tri(meth)acrylate werden aus Säurefragmenten, die Carboxylgruppen bereitstellen, erhalten. Diese Zusammensetzungen werden durch Kondensation eines Diisocyanats, einer Polyolcarbonsäure und eines Hydroxyalkyl(meth)acrylats erhalten.These carboxylated urethane di- and / or tri (meth) acrylates are made from acid fragments that Provide carboxyl groups. These compositions by condensation of a diisocyanate, a polyol carboxylic acid and a hydroxyalkyl (meth) acrylate receive.

Die Polyolcarbonsäure sollte in einer Menge enthalten sein, die erforderlich ist, um wenigstens ca. 0,3 Milliäquivalent Säure pro Gramm (mÄqu/g) Gemisch der gesamten Menge an Reagentien - gewöhnlich sind dies Diisocyanat, Polyolcarbonsäure und Hydroxyalkyl(meth)acrylat - zu gewährleisten. Um bei diesem Produkt einen geeigneten Grad an Lichtempfindlichkeit zu erzielen, sollte das verwendete Hydroxyalkyl(meth)acrylat in einer Mindestmenge von ca. 0,5 mÄqu/g der gesamten Menge an Diisocyanat, Diol- oder Triolcarbonsäure und Hydroxyalkyl(meth)acrylat vorliegen.The polyol carboxylic acid should contain an amount that is required to at least 0.3 milliequivalents of acid per gram (meq / g) Mix of the total amount of reagents - usually these are diisocyanate, polyol carboxylic acid and hydroxyalkyl (meth) acrylate - to ensure. Around  a suitable level of light sensitivity with this product to achieve the used Hydroxyalkyl (meth) acrylate in a minimum amount of approx. 0.5 meq / g of the total amount of diisocyanate, Diol or triol carboxylic acid and hydroxyalkyl (meth) acrylate are present.

Die Erfindung umfaßt eine Reihe von Ausführungsformen, die dadurch realisiert werden, daß man die obenangeführte Beschichtungszusammensetzung mit anderen spezifisch ausgewählten Komponenten mischt. Diese Komponenten, die ausgewählt werden, um eine spezifische Qualität oder Eigenschaft zu gewährleisten oder zu verbessern, umfassen ein Bindemittel, einen Vernetzer, Farbstoffe, Pigmente, Thermopolymerisationsinhibitoren und Zusätze, die dazu bestimmt sind, die Beschichtungeigenschaften zu verbessern.The invention includes a number of embodiments that are realized by coating composition mentioned above with other specifically selected components. These components that are selected to be a ensure specific quality or property or improve, include a binder, a crosslinker, dyes, pigments, thermopolymerization inhibitors and additives that go with it are determined, the coating properties too improve.

Die lichthärtbare Beschichtungszusammensetzung enthält den Carboxylanteil, der die organophile Natur des Urethan(meth)acrylatpolymers verändert. Dadurch werden die erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzungen stärker organophob und damit beständig gegenüber organischen Lösungsmitteln wie Methylenchlorid. Außerdem können die carboxylierten lichtempfindlichen Polymere in großen Mengen mit anderen hydrophilen Bindemitteln und Vernetzern vermischt werden. Zudem werden durch die Einführung des Carboxylanteils die erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzungen in wäßrigen Alkalilösungen (pH über 7,5) bis zur Belichtung mit UV-Licht löslich oder quellfähig. Vorteilhafterweise kann bei Verwendung der erfindungsgemäßen Zusamemensetzungen zur Herstellung einer lichthärtbaren Beschichtung oder Lötmaske die Entwicklungsstufe in wäßrigen alkalischen Lösungen durchgeführt werden. Es kann somit festgestellt werden, daß die Empfindlichkeit der Verbindung gegenüber UV-Licht trotz der Tatsache, daß die Einarbeitung des Carboxylanteils zu einer Abänderung des Urethan(meth)acrylats führt, wodurch es in wäßrigem Alkali löslich wird, erhalten bleibt. Durch die Carboxylierung wird außerdem die Haftung auf Metallen verbessert. Durch die Mischung eines Bindemittels, eines Vernetzers und eines carboxylierten Urethandi- und/oder -tri(meth)-acrylats erhält man eine verbesserte Lötmaske. In einer bevorzugten Mischung wird ein Copolymer aus Styrol und Maleinsäureanhydrid als Bindemittel, das auch Carboxylgruppen bereitstellt, verwendet. Bevorzugte Vernetzer sind (Meth)acrylat und polyfunktionelle (Meth)acrylatmonomere.The photocurable coating composition contains the carboxyl portion, which is the organophilic nature changed the urethane (meth) acrylate polymer. Thereby become the coating compositions of the invention more organophobic and therefore permanent against organic solvents such as methylene chloride. In addition, the carboxylated photosensitive Polymers in bulk with others hydrophilic binders and crosslinkers mixed will. In addition, through the introduction the carboxyl portion of the coating compositions of the invention in aqueous alkali solutions (pH above 7.5) soluble until exposure to UV light or swellable. Advantageously, at Use of the compositions according to the invention for the production of a light-curable coating or solder mask the development stage in aqueous alkaline  Solutions are carried out. It can thus, the sensitivity the connection to UV light despite the fact that the incorporation of the carboxyl portion too leads to a change in the urethane (meth) acrylate, whereby it becomes soluble in aqueous alkali remains. The carboxylation also improves adhesion to metals. Through the Mixture of a binder, a crosslinking agent and a carboxylated urethane and / or tri (meth) acrylate you get an improved solder mask. In a preferred blend is a copolymer of Styrene and maleic anhydride as a binder, the also provides carboxyl groups used. Preferred Crosslinkers are (meth) acrylate and polyfunctional (Meth) acrylate monomers.

Bevorzugte erfindungsgemäße carboxylierte Urethandi- (und/oder) -tri(meth)acrylate können dargestellt werden durch die Formel IPreferred carboxylated urethane di- (and / or) tri (meth) acrylates can be represented are represented by the formula I

worin n eine ganze Zahl von 1 bis 4 bedeutet und k sowohl 0 als auch 1 bedeuten kann und worin R₁ von der Acrylatreaktionskomponente c) abgeleitet ist und Wasserstoff oder Methyl bedeutet, R₂ von der Hydroxyalkyl(meth)acrylatreaktionskomponente c) abgeleitet ist und ein unverzweigtes oder verzweigtes Kohlenwasserstofffragment mit 2 bis 28 C-Atomen ist und R₃ abgeleitet ist von der Diisocyanatkomponente des Reaktionsgemisches. R₃ kann ein verzweigtes, unverzweigtes oder cyclisches gesättigtes, ungesättigtes oder aromatisches Kohlenwasserstofffragment darstellen R₃ weist 4 bis 20, vorzugsweise 6 bis 18 C-Atome auf. Bei anderen bevorzugten Ausführungsformen ist R₃ abgeleitet von einem Diisocyanatreagens, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Trimethylhexamethylen-, Hexamethylen-, Isophoron-, Tolylen-, 4,4′-Methylbis(cyclohexyl)-, Methylendiphenyl- und Tetramethylxylol-diisocyanat. R₄ ist ein unverzweigter, cyclischer oder verzweigter, aromatischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoff mit 2 bis 28 C-Atomen R₄ kann gegebenenfalls auch ein Hydroxyl (des bei der Herstellung der Zusammensetzung verwendeten Polyols) enthalten. R₅ ist abgeleitet von einem Reaktionsgemisch, enthaltend a) die in Formel II gezeigte und beschriebene Polyolcarbonsäure oder b) die Polyolcarbonsäure der Formel II und die in Formel III gezeigte und beschriebene Hydroxyldicarbonsäure. R₅ enthält somit immer wenigstens eine COOH-Gruppe und mindestens 3 C-Atome. Ist R₅ von a) (d. h. nur von den Verbindungen der Formel II) abgeleitet, so enthält es nur eine COOH-Gruppe mit einem verzweigten oder unverzweigten, gesättigten, ungesättigten oder aromatischen Kohlenwasserstoffrest mit insgesamt 3 bis 30 C-Atomen einschließlich der C-Atome des Carboxyls. Ist R₅ und b) abgeleitet, so sind in der Gesamtzusammesetzung R₅-Gruppen, die von der Polyolcarbonsäure der Formel II abgeleitet sind, und auch R₅-Gruppen, die von den Hydroxyl-dicarbonsäuren der Formel III abgeleitet sind, vorhanden. Die von den Hydroxyl-dicarbonsäureverbindungen der Formel III abgeleiteten R₅-Gruppen besitzen somit klarerweise zwei COOH-Gruppen und können ebenfalls 3 bis 30 C-Atome einschließlich der 2 C-Atome des Carboxyls aufweisen. Die Beschreibung der Verbindungen nach Formel II und III enthält weitere Informationen betreffend die Konzentration und die bevorzugten Strukturen dieser R₅-Gruppen. where n is an integer from 1 to 4 and k can mean both 0 and 1 and wherein R₁ of the acrylate reaction component c) is derived and Is hydrogen or methyl, R₂ of the hydroxyalkyl (meth) acrylate reaction component c) is derived and an unbranched or branched hydrocarbon fragment with 2 to 28 Is C atoms and R₃ is derived from the Diisocyanate component of the reaction mixture. R₃ can a branched, unbranched or cyclic saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon fragment represent R₃ has 4 to 20,  preferably 6 to 18 carbon atoms. With others preferred Embodiments is derived from R₃ a diisocyanate reagent selected from the group consisting of trimethylhexamethylene, hexamethylene, Isophorone, tolylene, 4,4'-methylbis (cyclohexyl), methylene diphenyl and tetramethylxylene diisocyanate. R₄ is a straight, cyclic or branched, aromatic, saturated or unsaturated hydrocarbon with 2 to 28 carbon atoms R₄ can optionally also a hydroxyl (of which in the Preparation of the composition used polyols) contain. R₅ is derived from a reaction mixture, containing a) those in formula II polyol carboxylic acid shown and described or b) the polyol carboxylic acid of formula II and in Formula III shown and described hydroxyldicarboxylic acid. R₅ thus always contains at least a COOH group and at least 3 carbon atoms. Is R₅ of a) (i.e. only from the compounds of formula II) derived, it contains only one COOH group a branched or unbranched, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon residue with a total of 3 to 30 carbon atoms inclusive of the C atoms of the carboxyl. If R₅ and b) are derived, so in the overall composition are R₅ groups that derived from the polyol carboxylic acid of formula II are, and also R₅ groups by the hydroxyl dicarboxylic acids of the formula III are derived available. That of the hydroxyl dicarboxylic acid compounds of the formula III derived R₅ groups thus clearly have two COOH groups and can also contain 3 to 30 carbon atoms including the Have 2 carbon atoms of the carboxyl. The description contains the compounds of formula II and III more information regarding concentration and the preferred structures of these R₅ groups.  

Es versteht sich, daß die genaue Lage jeder R₅-Gruppierung innhalb des Polymermoleküls von der Zahl der reaktionsfähigen Hydroxylgruppen der Verbindung in Formel II oder III sowie von der etwas zufällig verlaufenden Kondensationsreaktion abhängt. Ist z. B. R₅ abgeleitet von b) und bedeutet y in Formel III 1, ist R₅ eine endständige Gruppe mit zwei COOH-Gruppen. Gleichzeitig sind andere R₅-Gruppierungen aus demselben Reaktionsgemisch (abgeleitet aus der Polyolcarbonsäure nach Formel II), wie in Formel I angegeben, willkürlich im Gerüst der Polymermolekularstruktur angeordnet.It is understood that the exact location of each R₅ grouping within the polymer molecule by the number the reactive hydroxyl groups of the compound in formula II or III as well as from the somewhat random condensing reaction depends. Is z. B. R₅ derived from b) and means y in formula III 1, R₅ is a terminal group with two COOH groups. At the same time, other R₅ groups are out the same reaction mixture (derived from the Polyol carboxylic acid according to formula II), as in formula I. indicated, arbitrarily in the skeleton of the polymer molecular structure arranged.

In Formel I hat die Gruppe R₂ vorzugsweise 2 bis 16 C-Atome oder ist insbesondere eine Gruppierung, ausgewählt aus der Gruppe Ethyl, Propyl, Butyl undIn formula I the group R₂ preferably has 2 to 16 C atoms or is in particular a grouping selected from the group of ethyl, propyl, butyl and

worin m 1 oder 2 ist.where m is 1 or 2.

R₄ ist abgeleitet von dem Polyol, das gegebenenfalls dem Reaktionsgemisch zugesetzt wird. R₄ hat daher 2 bis 28 C-Atome und 2 bis 5 O-Atome. Die O-Atome können gegebenenfalls in einer nicht umgesetzten OH-Gruppe enthalten sein. Ist R₄ vorhanden, weist es 2 bis 28 C-Atome auf oder vorzugsweise 2-18 C-Atome, wobei es gegebenenfalls auch noch eine OH-Gruppe aufweist. Bei anderen bevorzugten Ausführungsformen ist R₄ eine gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 bis 10 C-Atomen und 2 bis 5 O-Atomen, gegebenenfalls in Form einer nicht umgesetzten OH-Gruppe. In den spezifischen Beispielen für derartige bevorzugte Ausführungsformen ist R₄ eine Gruppe, ausgewählt aus Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl und Octyl und weist 2 bis 5 O-Atome auf, die aus den obigen OH-Gruppen stammen. R₄ kann außerdem von Glyceryl- oder 2-Ethyl-2-(hydroxymethyl)-1,3-propylen abgeleitet sein.R₄ is derived from the polyol, which is optionally is added to the reaction mixture. R₄ therefore has 2 up to 28 C atoms and 2 to 5 O atoms. The O atoms can optionally in an unreacted OH group be included. If R₄ is present, it has 2 up to 28 carbon atoms on or preferably 2-18 carbon atoms, where appropriate, there is also an OH group having. In other preferred embodiments R₄ is a saturated or unsaturated hydrocarbon group with 2 to 10 C atoms and 2 to 5 O atoms, possibly in the form of an unreacted OH group. In the specific examples  for such preferred embodiments, R₄ a group selected from ethyl, propyl, butyl, Pentyl, hexyl, heptyl and octyl and has 2 to 5 O atoms that come from the above OH groups. R₄ can also from glyceryl or 2-ethyl-2- (hydroxymethyl) -1,3-propylene be derived.

Die erfindungsgemäßen carboxylierten Urethan-di- (und/oder)-tri(meth)acrylate können durch Kondensation eines Diisocyanats mit einer Polyolcarbonsäure (s. Formel II) und einem Hydroxyalkyl(meth)acrylat in einer einstufigen Reaktion erhalten werden. Das Carboxylgruppen enthaltende Polyol kann eine beliebige Carbonsäure mit 2 oder mehr, gegebenenfalls mit 2 bis 5 OH-Gruppen sein, vorzugsweise jedoch eine Diol- oder Triolcarbonsäure.The carboxylated urethane-di- (and / or) tri (meth) acrylates can by condensation a diisocyanate with a polyol carboxylic acid (see formula II) and a hydroxyalkyl (meth) acrylate can be obtained in a one-step reaction. The Polyol containing carboxyl groups can be any Carboxylic acid with 2 or more, optionally with 2 to 5 OH groups, but preferably one Diol or triol carboxylic acid.

Die Polyolcarbonsäure entspricht daher geeigneterweise der nachstehenden Formel IIThe polyol carboxylic acid therefore suitably corresponds Formula II below

[HO]x-R₆-COOH[HO] x -R₆-COOH

worin x eine ganze Zahl von 2 bis 5 ist und R₆ eine verzweigte, cyclische oder unverzweigte, gesättigte, ungesättigte oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 bis 29 C-Atomen darstellt. Vorzgsweise hat R₆ 2 bis 24 C-Atome und x ist vorzugsweise 2 oder 3 (wie z. B. bei einem Diol oder Triol). Besonders bevorzugt ist x 2 und R₆ eine verzweigte oder unverzweigte, gesättigte, ungesättigte oder aromatische Kohlenwasserstoffstruktur mit 2 bis 20 C-Atomen. Eine bevorzugte Ausführungsform verwendet eine α-α-Dimethylolalkansäure als carboxyliertes Diol, das besonders bevorzugt ein Alkyl mit 1 bis 8 C-Atomen enthält. Andere bevorzugte Diolcarbonsäuren sind ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus α-α-Dimethylolessigsäure, α-α-Dimethylolpropionsäure, α-α-Dimethylolbuttersäure, α-α-Diethylolessigsäure, α-α-Diethylolpropansäure, α-α-Dipropylolpro­ pionsäure, α-α-Dipropylolbuttersäure und 2,3-Di­ hydroxylpropansäure.where x is an integer from 2 to 5 and R₆ is one branched, cyclic or unbranched, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon group with 2 to 29 carbon atoms. Preferably R₆ has 2 to 24 carbon atoms and x is preferably 2 or 3 (such as a diol or triol). X 2 and R₆ are particularly preferably branched or unbranched, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon structure with 2 to 20 C atoms. A preferred embodiment is used an α-α-dimethylolalkanoic acid as carboxylated Diol, which is particularly preferably an alkyl having 1 to 8 Contains carbon atoms. Other preferred diol carboxylic acids  are selected from the group consisting of α-α-dimethylol acetic acid, α-α-dimethylol propionic acid, α-α-dimethylol butyric acid, α-α-diethylolacetic acid, α-α-diethylolpropanoic acid, α-α-dipropylolpro pionic acid, α-α-dipropylol butyric acid and 2,3-di hydroxylpropanoic acid.

Gegebenenfalls kann ein Polyol zusätzlich dem Reak­ tionsgemisch zugegeben werden. Dadurch wird die Molekularmasse des erfindungsgemäßen Produktes erhöht. Die Anwesenheit eines Polyols führt zu Stoffen, wie sie in Formel I, worin k gleich 1 ist, dargestellt sind.If necessary, a polyol can be added to the reac tion mixture are added. This will make the Molecular mass of the product according to the invention elevated. The presence of a polyol leads to substances as shown in formula I, wherein k is 1 are.

Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist besonders bevorzugt, bei der eine höhere Konzentration an Hydroxylgruppen bereitgestellt wird (wie z. B. durch Zugabe eines Polyols oder durch Verwendung einer Carbonsäure nach Formel II, worin x 3, 4 oder 5 bedeutet). Bei dieser Ausführungsform wird dem Reaktionsgemisch eine Hydroxyldicarbonsäure zu­ gegeben. Geeignete Hydroxylcarbonsäuren sind durch Formel III dargestelltOne embodiment of the present invention is particularly preferred at a higher concentration is provided on hydroxyl groups (such as e.g. B. by adding a polyol or by use a carboxylic acid according to formula II, wherein x 3, 4 or 5 means). In this embodiment a hydroxyl dicarboxylic acid to the reaction mixture given. Suitable hydroxyl carboxylic acids are by Formula III shown

[HO]y-R₇-(COOH)₂ (III)[HO] y -R₇- (COOH) ₂ (III)

worin y 1 bis 5 (vorzugsweise 1 bis 3) ist und R₇ eine unverzweigte, cyclische oder verzweigte, ge­ sättigte, ungesättigte oder aromatische Kohlenwasser­ stoffgruppe bedeutet, die 1 bis 28, vorzugsweise 1 bis 18 und besonders bevorzugt 1 bis 12 C-Atome enthält. Ist y 2 bis 5, so hat R₇ vorzugsweise 2 bis 18 C-Atome. Diese Disäuren sollten vorzugsweise dann verwendet werden, wenn die Konzentration der Hydro­ xylgruppen im gesamten Reaktionsgemisch mindestens ca. 0,3 mÄqu OH-Gruppen pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien (Diisocyanat, Polyolcarbonsäure, Hydro­ xylalkyl(meth)acrylat, Hydroxydicarbonsäure und, ge­ gebenenfalls, Polyol) betragen soll. Diese Disäuren können geeigneterweise in einer Menge von ca. 0,3 bis ca 0,7 mÄqu Säure pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien verwendet werden. Geeignete Hydroxy­ dicarbonsäuren können ausgewählt werden aus der Gruppe, bestehend aus Äpfel-, Wein-, Dihydroxywein-, Hydroxyadipin-, Dihydroxyadipin- und Trihydroxadi­ pinsäure.wherein y is 1 to 5 (preferably 1 to 3) and R₇ an unbranched, cyclic or branched, ge saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbons group means 1 to 28, preferably 1 to 18 and particularly preferably 1 to 12 carbon atoms contains. If y is 2 to 5, R₇ preferably has 2 to 18 carbon atoms. These diacids should then preferably used when the concentration of hydro xyl groups in the entire reaction mixture at least  approx. 0.3 meq OH groups per gram total amount Reagents (diisocyanate, polyol carboxylic acid, hydro xylalkyl (meth) acrylate, hydroxydicarboxylic acid and, ge if necessary, polyol). These diacids can suitably in an amount of about 0.3 to about 0.7 meq of acid per gram of total amount Reagents are used. Suitable hydroxy dicarboxylic acids can be selected from the Group consisting of apple, wine, dihydroxy wine, Hydroxyadipine, Dihydroxyadipine and Trihydroxadi pinic acid.

Diese Dicarbonsäure können zur Bereitstellung hitzehärtbarer freier endständiger Gruppen verwendet werden. Vorteilhafterweise können diese Endgruppen auch rektionsfähige Stellen für die zukünftige Um­ setzung mit anderen Stoffen abgeben. So sind z. B. Melamin und Epoxy zwei Verbindungen oder Gruppen, die mit den endständigen Carboxylgruppen umgesetzt werden. Durch derartige Umsetzungen können die Eigenschaften des Stoffes weiter modifiziert oder verbessert werden. Die spezifischen gewünschten Eigenschaften oder Qualitäten hängen von dem beab­ sichtigten Verwendungszweck des Stoffes ab.This dicarboxylic acid can be used to provide thermosetting free terminal groups used will. These end groups can advantageously also reactive positions for the future order surrender with other substances. So z. B. Melamine and epoxy two compounds or groups, implemented with the terminal carboxyl groups will. Such implementations can Properties of the substance further modified or be improved. The specific ones you want Properties or qualities depend on the dist intended use of the substance.

Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtungs­ zusammensetzung auf der Basis von carboxyliertem Urethan-di- (und/oder) -tri(meth)acrylat wird die Umsetzung in einer trockenen Lösungsmittellösung durchgeführt, die selbst mit dem Isocyanat nicht reagiert. Entsprechende Beispiele für derartige Lö­ sungsmittel sind Ester, wie Ethylacetat und Propy­ lenglycolmonomethyletheracetat, Ketone, wie Methyl­ ethylketon, Methylisobutylketon und N-Methylpyrro­ lidon, aromatische Kohlenwasserstoffe wie Toluol und Xylol sowie Gemische dieser Verbindungen.To produce the coating according to the invention composition based on carboxylated Urethane di (and / or) tri (meth) acrylate is the Implementation in a dry solvent solution performed that not even with the isocyanate responds. Corresponding examples of such Lö solvents are esters such as ethyl acetate and propy lenglycolmonomethyletheracetate, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and N-methyl pyrro lidon, aromatic hydrocarbons such as toluene and  Xylene and mixtures of these compounds.

Die Umsetzung zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzung wird bei einem Feststoffgehalt der Lösung in einem Bereich von ca. 20 bis ca. 100 Gew.-%, vorzugsweise in einem Bereich von ca. 35 bis ca. 95 Gew.-% und insbesondere von ca. 65 bis ca. 85 Gew.-% durchgeführt. Die Reaktionstemperatur liegt im allgemeinen innerhalb eines Bereichs von ca. 50 bis ca. 95°C, vorzugsweise zwi­ schen ca. 65 bis 85°C. Vorzugsweise wird die Homo­ polymerisation durch die Zugabe eines Radikalpoly­ merisationsinhibitors wie Hydrochinon, m-Dinitro­ benzol, Phenothiazin usw. inhibiert. Insbesondere werden diese Inhibitoren in einer Menge von ca. 0,005 bis ca. 1 Gew.-%, bezogen auf das Feststoffge­ wicht, eingesetzt.The implementation for the preparation of the invention Coating composition is at a Solids content of the solution in a range of approx. 20 to about 100 wt .-%, preferably in a range from approx. 35 to approx. 95% by weight and in particular from approx. 65 to about 85 wt .-% performed. The reaction temperature is generally within one Range of about 50 to about 95 ° C, preferably between approx. 65 to 85 ° C. Preferably the homo polymerization by adding a radical poly merization inhibitors such as hydroquinone, m-dinitro inhibited benzene, phenothiazine, etc. Especially these inhibitors are used in an amount of approx. 0.005 to about 1 wt .-%, based on the solid matter important, used.

Vorzugsweise werden auch Kondensationskatalysatoren wie Zinn- oder Aminkatalysatoren verwendet. Diese können ausgewählt werden aus der Gruppe Dibutyl- Zinn-dilaurat, Dimethyl-Zinn-diendecanoat, Dibutyl- Zinn-bisoctylthioglycolat, Triethylamin und Triethy­ lendiamin. Für die Erzielung optimaler Ergebnisse wird die Reaktion unter Überschichtung mit trockener Luft durchgeführt.Condensation catalysts are also preferred such as tin or amine catalysts used. These can be selected from the group dibutyl Tin dilaurate, dimethyl tin diene decanoate, dibutyl Tin bisoctylthioglycolate, triethylamine and triethy lendiamine. For optimal results the reaction becomes drier with overlaying Air performed.

Das Diisocyanat kann ein verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter, ungesättigter oder aromatischer Kohlenwasserstoff sein. Gewöhnlich enthält er 4 bis 20, vorzugsweise 6 bis 18 C-Atome. Diisoxyanate können ausgewählt werden aus der Gruppe, bestehend aus Xylylendiisocyanat, 1-Isocyanat- 3-isocyanat-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexan, 3,3′- Dimethyldiphenylmethan-4,4′-diisocyanat, 2,4-Toly­ lendiisocyanat, 2,6-Tolylendiisocyanat, 2,2,4-Tri­ methylhexamethylen-diisocyanat, 2,4,4-Trimethylhexa­ methylen-diisocyanat, Methylen-bis(4-cyclohexyliso­ cyanat), Hexamethylen-diisocyanat, m-Tetramethylxy­ lol-diisocyanat, p-Tetramethylxylol-diisocyanat, Methylen-bis-phenyl-diisocyanat, 1,5-naphthylen-di­ isocyanat, m-Phenylen-diisocyanat und Gemischen davon. Am meisten bevorzugt sind 2,6-Tolylen-di­ isocyanat, 2,4-Tolylen-diisocyanat, 1-Isocyanat-3- isocyanatmethyl-3,5,5-trimethylcyclohexan, 2,2,4- Trimethylhexamethylen-diisocyanat und 2,4,4-Tri­ methylhexamethylen-diisocyanat.The diisocyanate can be a branched, unbranched or cyclic, saturated, unsaturated or aromatic hydrocarbon. Usually it contains 4 to 20, preferably 6 to 18 carbon atoms. Diisoxyanates can be selected from the group consisting of xylylene diisocyanate, 1-isocyanate 3-isocyanat-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, 3,3′- Dimethyldiphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 2,4-toly  lene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,2,4-tri methylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexa methylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyliso cyanate), hexamethylene diisocyanate, m-tetramethylxy lol diisocyanate, p-tetramethylxylene diisocyanate, Methylene-bis-phenyl-diisocyanate, 1,5-naphthylene-di isocyanate, m-phenylene diisocyanate and mixtures thereof. Most preferred are 2,6-tolylene-di isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 1-isocyanate-3- isocyanatmethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, 2,2,4- Trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,4,4-tri methylhexamethylene diisocyanate.

Bei Verwendung eines Polyols werden die Molekular­ masse, die Aushärtungsgeschwindigkeit und die Ver­ netzungsdichte erhöht. Das Polyol kann 2 bis 28 C-Atome enthalten. Gewöhnlich ist der Kohlenwasser­ stoffteil verzweigt oder unverzweigt, gesättigt, un­ gesättigt oder aromatisch und enthält 2 bis 5 Hydroxylgruppen. Vorzugsweise ist das Polyol ein Diol oder Triol mit 2 bis 16 C-Atomen. Bevorzugte Diole können ausgewählt werden aus Ethylenglycol, Propylenglycol, Butandiol, Pentandiol, Hexandiol, Octandiol, Neopentylglycol, 2-Methylpropan-1,3-diol, Cyclohexandimethanol und Diethylenglycol. Weitere bevorzugte Polyole sind Glycerin, Trimethylolpropan oder Hexantriol, das ebenfalls verwendet werden kann.When using a polyol, the molecular mass, the curing speed and the ver increased wetting density. The polyol can be 2 to 28 Contain carbon atoms. The hydrocarbon is common Part of fabric branched or unbranched, saturated, un saturated or aromatic and contains 2 to 5 Hydroxyl groups. The polyol is preferably a Diol or triol with 2 to 16 carbon atoms. Preferred Diols can be selected from ethylene glycol, Propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, Octanediol, neopentyl glycol, 2-methylpropane-1,3-diol, Cyclohexane dimethanol and diethylene glycol. Further preferred polyols are glycerol, trimethylolpropane or hexanetriol, which are also used can.

Das Hydroxyalkylacrylat (Komponente c) enthält ein Alkyl mit ca. 2 bis 28 C-Atomen. Auch dieses Alkyl kann unver­ zweigt, cyclisch oder verzweigt und gesättigt oder ungesättigt sein. Vorzugsweise hat das Alkyl des Hydroxyalkyl(meth)acrylats 2 bis 12 C-Atome. Bevor­ zugte Hydroxyalkyl(meth)acrylate können aus Hydroxyethyl-, Hydroxypropyl- und Hydroxybutyl- (meth)acrylat sowie aus Verbindungen der FormelThe hydroxyalkyl acrylate (Component c) contains an alkyl with approx. 2 to 28 C atoms. This alkyl can also be branches, cyclic or branched and saturated or be unsaturated. Preferably the alkyl has Hydroxyalkyl (meth) acrylate 2 to 12 carbon atoms. Before  Preferred hydroxyalkyl (meth) acrylates can be made from Hydroxyethyl, hydroxypropyl and hydroxybutyl (meth) acrylate and from compounds of the formula

worin m 1 oder 2 ist, ausgewählt werden.where m is 1 or 2.

Bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtungs­ zusammensetzung sollten die Konzentrationen der Reagentien so gewählt sein, daß die Gesamtkonzentra­ tion an OH-Gruppen wenigstens annähernd der Diiso­ cyanatmenge gleichkommt. Dies bedeutet im großen und ganzen, daß die Konzentration an Polyolen plus Diolen der Dialkylolcarbonsäure plus Hydroxyl(meth)- acrylat ausreicht, um das Verhältnis von Hydroxyl zu Diisocyanat auf wenigstens ca. 0,95 : 1 und vorzugs­ weise auf wenigstens 1 : 1 einzustellen. Insbesondere sollte der OH-Anteil im Äquivalentüberschuß vorliegen. Vorzugsweise sollte der Hydroxylanteil in einem Äquivalentüberschuß, bezogen auf das Diisocyanat, im Bereich von ca. 1,05 : 1 bis ca. 0,95 : 1, insbesondere von 1,02 : 1 bis ca. 1 : 1 vorliegen.In the production of the coating according to the invention composition should be the concentrations of Reagents should be chosen so that the total concentration tion on OH groups at least approximately the Diiso amount of cyanate. This means on the whole and whole that the concentration of polyols plus Diols of dialkylol carboxylic acid plus hydroxyl (meth) - acrylate is sufficient to the ratio of hydroxyl to Diisocyanate to at least about 0.95: 1 and preferred set to at least 1: 1. Especially the OH portion should be present in the equivalent excess. Preferably, the hydroxyl portion should be in one Equivalent excess, based on the diisocyanate, in Range from about 1.05: 1 to about 0.95: 1, especially from 1.02: 1 to approx. 1: 1.

Die Polyolcarbonsäure ist eine wichtige Komponente der erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzung und liegt vorzugsweise in einer Menge vor, die aus­ reicht, um das ungehärtete Copolymer in wäßrigen Alkalilösungen löslich oder quellfähig zu machen. Gegebenenfalls liegt die Polyolcarbonsäure in einer Mindestmenge von ca. 0,3 mÄqu Säure pro Gramm Ge­ samtmenge an Reagentien, vorzugsweise in einer Menge von 0,5 mÄqu Säure pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien oder darüber vor. The polyol carboxylic acid is an important component the coating composition of the invention and is preferably present in an amount consisting of enough to contain the uncured copolymer in aqueous To make alkali solutions soluble or swellable. The polyol carboxylic acid may be in one Minimum amount of approximately 0.3 meq of acid per gram of Ge total amount of reagents, preferably in one amount of 0.5 meq acid per gram total amount of reagents or above.  

Die polare Löslichkeit wird noch weiter verbessert, wenn die Polyolcarbonsäure im Reaktionsgemisch in einer Menge von über 0,8 mÄqu Säure pro Gramm Ge­ samtmenge an Reagentien verwendet wird.The polar solubility is further improved, when the polyol carboxylic acid in the reaction mixture in an amount of more than 0.8 meq of acid per gram of Ge total amount of reagents is used.

Der bevorzugte Bereich an Milliäquivalent Säure pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien liegt zwischen ca. 0,8 und 1,6. Wird ein hochviskoses Produkt, das besonders geeignet ist für die Mischung mit anderen Stoffen, angestrebt, sollt das Reaktionsgemisch insbesondere eine Mindestmenge von ca. 1, ganz be­ sonders bevorzugt von ca. 1 bis ca. 1,6 mÄqu Säure pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien enthalten. Die Disäure nach Formel III kann ebenfalls zur Menge an Milliäquivalent Säure hinzugerechnet werden.The preferred range of milliequivalents of acid per The total amount of reagents is between approx. 0.8 and 1.6. Becomes a highly viscous product that is particularly suitable for mixing with others The reaction mixture should contain substances in particular a minimum amount of about 1, be completely particularly preferably from about 1 to about 1.6 meq acid per Contains grams of total amount of reagents. The Diacid according to formula III can also add to the amount Milliequivalents of acid are added.

Ein weiterer Vorteil der Carboxylierung der Urethandi- und -tri(meth)acrylate ist der, daß die UV-empfindliche Verbindung mit hydrophilen Harzen gemischt werden kann. Ferner kann der hydrophile Charakter dieser UV-empfindlichen Verbindung bis zu einem gewissen Grade durch Abänderung der Konzentration der Carboxylierung in den Urethandi- und -tri(meth)acrylaten gesteuert werden. Dies er­ möglicht es, den hydrophilen Charakter für ein be­ stimmtes Harz festzulegen. Wenn z. B. die Verwendung eines stärker hydrophoben bzw. weniger hydrophilen Harzes erwünscht ist, kann eine geringe Konzentration an Carboxylierung im Urethandi- und -tri- (meth)arylat verwendet werden, um die Verträglichkeit mit dem gewählten Harz zu verbessern. Umgekehrt würde man, wenn die Verwendung eines hydrophilen Harzes erwünscht ist, die Carboxylkon­ zentration so stark anheben, daß das Harz und das Urethandi- und -tri(meth)acrylat in größeren Kon­ zentrationen miteinander gemischt werden können. Die Polyolcarbonsäure kann im Reaktionsgemisch in Konzentrationen bei einer Menge an carboxyliertem Polyol von ca. 5 bis ca. 45 Gew.-%, vorzugsweise ca. 5 bis ca. 25 Gew.-% und insbesondere von ca. 12 bis ca. 25 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtmenge an Reagentien verwendet werden.Another advantage of carboxylation Urethane and tri (meth) acrylates is that the UV-sensitive compound with hydrophilic resins can be mixed. Furthermore, the hydrophilic Character of this UV sensitive compound up to to some extent by changing the Concentration of carboxylation in the urethane and tri (meth) acrylates can be controlled. This he allows the hydrophilic character for a be the right resin. If e.g. B. the use a more hydrophobic or less hydrophilic Resin is desired, a low concentration of carboxylation in urethane and tri (meth) arylate used to improve tolerance to improve with the chosen resin. Conversely, one would, if using a hydrophilic resin is desired, the carboxylcon Raise the concentration so much that the resin and the Urethane and tri (meth) acrylate in larger cones  concentrations can be mixed together. The polyol carboxylic acid can in the reaction mixture Concentrations at an amount of carboxylated Polyol from approx. 5 to approx. 45% by weight, preferably approx. 5 to about 25% by weight and in particular from about 12 to approx. 25% by weight, based on the total amount reagents are used.

Wird zusätzlich ein spezifisches Polyol eingesetzt, so kann es im Reaktionsgemisch in einer Menge von ca. 2 bis ca. 18 Gew.-%, vorzugsweise von ca. 2 bis ca. 15 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge an Rea­ gentien, verwendet werden.If a specific polyol is also used, so it can be in the reaction mixture in an amount of about 2 to about 18% by weight, preferably from about 2 to approx. 15% by weight, based on the total amount of rea gentia.

Im Falle des Diisocyanats beträgt die Konzentration gewöhnlich ca. 30 bis ca. 80 Gew.-%, vorzugsweise ca. 50 bis ca. 75 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge an Reagentien.In the case of the diisocyanate, the concentration is usually about 30 to about 80% by weight, preferably about 50 to about 75 wt .-%, based on the total amount of reagents.

Das Hydroxyalkyl(meth)acrylat muß im Reaktionsgemisch in einer Mindestmenge von ca. 0,50 mÄqu Acrylat pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien vorliegen, um die erforderliche UV-Empfindlichkeit zu gewährleisten. Ge­ eignet ist eine Menge im Bereich von ca. 0,5 bis ca. 1,6 mÄqu Acrylat pro Gramm Gesamtmenge an Reagentien. Die Menge in Gew.-% liegt gewöhnlich im Be­ reich von ca. 5 bis ca. 50 und vorzugsweise im Bereich von ca. 10 bis ca. 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge an Reagentien.The hydroxyalkyl (meth) acrylate must be in the reaction mixture in a minimum amount of approx.0.50 mEqu acrylate per gram Total amount of reagents available to meet the required To ensure UV sensitivity. Ge a quantity in the range of approx. 0.5 to is suitable approx. 1.6 meq of acrylate per gram of total amount of reagents. The amount in% by weight is usually in the range range from about 5 to about 50 and preferably in Range from about 10 to about 30 wt .-%, based on the Total amount of reagents.

Die erfindungsgemäße Beschichtungszusammensetzung auf der Basis des carboxylierten Urethandi- (und/oder) -tri(meth)­ acrylatcopolymers weist gewöhnlich ein Molekularge­ wicht von ca. 500 bis ca. 6500, vorzugsweise von ca. 800 bis ca. 3000 und besonders bevorzugt von ca. 1000 bis ca. 2500 auf (ermittelt durch Gelper­ meationschromatographie und bezogen auf eine Standard­ eichkurve für Polystyrol).The coating composition according to the invention based on the carboxylated urethane di (and / or) tri (meth) acrylate copolymer usually has a molecular weight weight from about 500 to about 6500, preferably from about 800 to about 3000 and particularly preferably from  approx. 1000 to approx. 2500 (determined by Gelper meation chromatography and based on a standard calibration curve for polystyrene).

In einer bevorzugten Ausführungsform wird die er­ findungsgemäße Beschichtungszusammensetzung mit einem Bindemittel gemischt. Das hierbei verwendete Harz sollte vorzugsweise eine Glasübergangstempe­ ratur von ca. 155°C oder höher aufweisen und ist besonders bevorzugt hydrophil. Die hohe Glasüber­ gangstemperatur verbessert die Temperaturbeständig­ keit des Produktes. Es können verschiedene im Handel erhältliche Harze verwendet werden. Geeignete Mischungen der erfindungsgemäßen carboxylierten Urethandi- (und/oder) -tri(meth)acrylate können vorteilhafterweise durch Variieren der Carboxyl­ konzentration erzielt werden. Für diesen Zweck ge­ eignete Harze sind Copolymere von Styrol und Malein­ säureanhydrid, insbesondere solche, die mit Alkoholen mit niedrigem Molekulargewicht teilweise ver­ estert sind. Im Handel erhältlich sind Copolymere von Styrol und Maleinsäureanhydrid, die mit Alkohol­ gemischen (von Methyl- bis Butylalkohol) verestert sind. Das Molekulargewicht solcher im Handel erhältlicher Copolymere schwankt in einem weiten Bereich. Das Molekulargewicht für dieses Harzbindemittel sollte gewöhnlich in einem Bereich von ca. 25 000 bis ca. 300 000 und besonders bevorzugt im Bereich von ca. 60 000 bis ca. 250 000 liegen. Vorzugsweise weist das Copolymer ein Verhältnis von Styrol zu Malein­ säureanhydrid von ca. 1 : 1 bis ca. 2 : 1 auf. Die be­ vorzugte Glasübergangstemperatur des Bindemittels liegt im Bereich von ca. 155 bis ca. 200°C. In a preferred embodiment, he coating composition according to the invention mixed with a binder. The used here Resin should preferably be a glass transition temp temperature of approx. 155 ° C or higher particularly preferably hydrophilic. The high glass over transition temperature improves the temperature resistance product. There can be various in the trade available resins can be used. Suitable Mixtures of the carboxylated according to the invention Urethane di (and / or) tri (meth) acrylates can advantageously by varying the carboxyl concentration can be achieved. For this purpose ge suitable resins are copolymers of styrene and malein acid anhydride, especially those containing alcohols with low molecular weight partially ver are esters. Copolymers are commercially available of styrene and maleic anhydride with alcohol mixtures (from methyl to butyl alcohol) esterified are. The molecular weight of such commercially available Copolymers vary widely. The molecular weight for this resin binder should usually be in the range of approximately 25,000 to approximately 300,000 and particularly preferably in the range of approximately 60,000 to approximately 250,000. Preferably points the copolymer has a styrene to maleic ratio acid anhydride from about 1: 1 to about 2: 1. The be preferred glass transition temperature of the binder lies in the range of approx. 155 to approx. 200 ° C.  

Das Bindemittel kann in einer Menge von ca. 85 bis ca. 25 Gew.-%, vorzugsweise jedoch von ca. 17 bis ca. 60 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Gesamtzusammen­ setzung, verwendet werden. Vorzugsweise wird die Beschichtungszusammensetzung auf der Basis von carboxyliertem Urethandi- (und/oder) -tri(meth) acrylat mit dem Bindemittel so gemischt, daß die Glasumwandlungstemperatur des Endproduktes ca. 70 bis ca. 190°C beträgt. Die Säurezahl des Bindemittels liegt zwischen ca. 120 und ca. 280 mg KOH pro Gramm Bindemittel. Als Bindemittel zusammen mit der erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzung auf der Basis von carboxyliertem Urethandi- (und/oder) -tri(meth)acrylat können auch andere Polymere mit dem oben beschriebenen Molekulargewicht sowie der oben ange­ gebenen Glasumwandlungstemperatur und Säurezahl verwendet werden. Geeignete Polymere für die Ver­ wendung als Bindemittel sind u. a. Methylmethacrylat- comethacrylsäure und Methylmethacrylat-methyl­ acrylat-methacrylsäure.The binder can be used in an amount of approximately 85 to approx. 25% by weight, but preferably from approx. 17 to approx. 60% by weight, based on the total settlement, be used. Preferably the Coating composition based on carboxylated urethane di (and / or) tri (meth) acrylate mixed with the binder so that the Glass transition temperature of the end product approx. 70 up to approx. 190 ° C. The acid number of the binder is between approx. 120 and approx. 280 mg KOH per Grams of binder. As a binder together with the coating composition according to the invention on the Base of carboxylated urethane di (and / or) tri (meth) acrylate can use other polymers with the above described molecular weight and the above given glass transition temperature and acid number be used. Suitable polymers for ver Use as binders are u. a. Methyl methacrylate comethacrylic acid and methyl methacrylate-methyl acrylate methacrylic acid.

Wird das erfindungsgemäße carboxylierte Urethandi- (und/oder) -tri(meth)acrylat zusammen mit anderen Stoffen, wie den oben beschriebenen Bindemitteln, oder anderen Zusätzen, die zugegeben werden dürfen, wie z. B. Vernetzungsmitteln, Farbstoffen, Lösungs­ mitteln, Pigmenten, Photoinitiatoren oder thermischen Inhibitoren, verwendet, so sollte die Konzen­ tration der UV-empfindlichen carboxylierten Be­ schichtungskomponente im Bereich von ca. 10 bis ca. 85 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Zusammen­ setzung, betragen. Vorzugsweise liegt sie im Bereich von ca. 15 bis ca. 75 und besonders bevorzugt im Bereich von ca. 17 bis ca. 60 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung. Is the carboxylated invention Urethane di (and / or) tri (meth) acrylate along with others Substances, such as the binders described above, or other additives that may be added such as B. crosslinking agents, dyes, solutions agents, pigments, photoinitiators or thermal Inhibitors used, so should the conc tration of UV-sensitive carboxylated Be layering component in the range from approx. 10 to approx. 85 wt .-%, based on the total amount of the total settlement, amount. It is preferably in the range from about 15 to about 75 and particularly preferably in Range from about 17 to about 60 wt .-%, based on the Total amount of the composition.  

Bevorzugte Vernetzungsmittel sind (Meth)acrylatmo­ nomere, Vernetzungsmittel werden dann verwendet, wenn eine höhere Vernetzungsdichte erwünscht ist. Diese wiederum verbessert die Produktbeständig­ keit gegenüber Lösungsmitteln, wie z. B. Methylen­ chlorid. Besonders bevorzugt sind polyfunktionelle (Meth)acrylatmonomere. Solche können ausgewählt werden aus Trimethylolpropantri(meth)acrylat, tri­ methylpropanethoxyliertem Tri(meth)acrylat, Dipen­ taerythrithydroxypentaacrylat und Ditrimethylolpro­ pantetraacrylat.Preferred crosslinking agents are (meth) acrylate mo nomers, crosslinking agents are then used if a higher crosslink density is desired. This in turn improves product stability speed towards solvents, such as. B. methylene chloride. Polyfunctional ones are particularly preferred (Meth) acrylate monomers. Such can be selected are made of trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tri methyl propane ethoxylated tri (meth) acrylate, dipene taerythrithydroxypentaacrylate and Ditrimethylolpro pantetraacrylate.

Andere Vernetzer, die eingesetzt werden können, können aus der Gruppe, bestehend aus Divinylether, acrylierte Epoxyverbindungen, Epoxyharze und Amino­ plastharze ausgewählt werden. Bevorzugt sind die acrylierten Epoxyverbindungen, da sie die Beständig­ keit des Produkts gegenüber Wärmeeinwirkung und Lösungsmitteln und seine Haftfähigkeit verbessern.Other crosslinkers that can be used can be selected from the group consisting of divinyl ether, acrylated epoxy compounds, epoxy resins and amino plastic resins can be selected. Those are preferred Acrylated epoxy compounds as they are the most resistant product against heat and Improve solvents and its adhesiveness.

Bei der Verwendung der erfindungsgemäßen carboxy­ lierten Beschichtungszusammensetzung als Lötmaske wird die Zusammensetzung auf ein geeignetes Substrat aufgetragen und dann bis zur Klebfreiheit getrocknet. Danach erfolgt die Belichtung des be­ schichteten Substrats durch UV-Strahlen mit ca. 75 bis 105 mJ/cm², wonach es in einer wäßrigen Alkalilösung entwickelt werden kann. Vorzugsweise ist die wäßrige Alkalilösung eine solche von Kalium- oder Natriumcarbonat. In der Regel wird die durch Belichtung des beschichteten Substrats er­ haltene Abbildung der Lötmaske nun einer visuellen Prüfung unterzogen.When using the carboxy according to the invention gated coating composition as a solder mask the composition will be appropriate Apply substrate and then until non-sticky dried. Then the exposure of the be layered substrate by UV rays with approx. 75 to 105 mJ / cm², after which it is in an aqueous Alkali solution can be developed. Preferably the aqueous alkali solution is one of Potassium or sodium carbonate. As a rule, the by exposure of the coated substrate holding image of the solder mask now a visual Subjected to testing.

Bei der Verwendung der erfindungsgemäßen Zusammen­ setzung ist es von Vorteil, daß die Beschichtung gegebenenfalls leicht mit Hilfe einer wäßrigen Alkalilösung entfernt und dann erneuert werden kann. Die Menge an Alkali, die für die Lösung zum Entwickeln oder Entfernen der Beschichtung erfor­ derlich ist, ist sehr gering. Verwendet werden kann eine Lösung, die 1 Gew.-% Base enthält. Wenn die Abbildung die gewünschte Qualität erlangt hat, kann die erfindungsgemäße Beschichtung noch zusätzlich durch UV-Licht von 3 bis 5 J/cm² gehärtet werden. Danach erfolgt eine thermische Härtung vorzugsweise bei 150°C über einen Zeitraum, der für das Aushär­ ten ausreicht. Die erfindungsgemäßen Zusammen­ setzungen weisen ein ausgezeichnetes Auflösungs­ vermögen, eine ausgezeichnete Flexibilität und ein ausgezeichnetes Haftvermögen auf Metallen auf.When using the combination according to the invention  it is advantageous that the coating optionally slightly with the help of an aqueous Alkali solution can be removed and then renewed. The amount of alkali required for the solution Develop or remove the coating is very low. Can be used a solution containing 1 wt .-% base. If the Image has achieved the desired quality the coating according to the invention additionally can be cured by UV light of 3 to 5 J / cm². Thermal curing is then preferably carried out at 150 ° C for a period of time for curing sufficient. The combination according to the invention Settlements have an excellent resolution ability, excellent flexibility and a excellent adhesion to metals.

Das Wesen der vorliegenden Erfindung ist auch leicht aus den nachfolgenden Beispielen zu ersehen. Es versteht sich dabei, daß diese Beispiele die vorliegende Erfindung nur veranschaulichen und sie daher nicht begrenzen. Ist nichts anderes ange­ geben, so verstehen sich alle Teile- und Prozent­ angaben als Gewichtsteile und -prozente.The essence of the present invention is also light can be seen from the examples below. It it goes without saying that these examples are the only illustrate the present invention and it therefore do not limit. Nothing else is said all parts and percent are understood stated as parts and percentages by weight.

Beispiel 1example 1

Das nachfolgende Beispiel illustriert die Herstellung einer durch Belichtung abbildbaren Beschich­ tungszusammensetzung.The following example illustrates the production a coating that can be imaged by exposure composition.

In einem 5-l-Rundbodenkolben, der mit einem mechanischen Rührwerk, einem Thermometer, einem Kon­ densator, einem Gaseinlaßrohr und einem Heizmantel ausgestattet ist, werden 236,0 g (ca. 4 Äquivalente) 1,6-Hexandiol, 268,0 g (ca. 4 Äquivalente) Dimethyl­ olpropionsäure, 951,2 g (ca. 8,2 Äquivalente) 2- Hydroxyethylacrylat, 0,23514 g Phenothiazin als Radikalpolymerisationsinhibitor, 783,8 g N-methyl- 2-pyrrolidon als Lösungsmittel und 31, 35 g Dibutyl- Zinn-dilaurat (T-12) als Katalysator vorgelegt. Unter eine Schicht von trockener Luft werden unter Rühren 1.680,0 g (ca. 16 Äquivalente) Trimethyl­ hexamethylendiisocyanat in zwei gleichen Teilmengen in einem Abstand von 30 Minuten dem Gemisch zugege­ ben. Bei jeder Zugabe erfolgt eine exotherme Reak­ tion. Die Reaktionstemperatur wird durch Kühlen in einem Eiswasserbad auf unter 85°C gehalten. Nach der Zugabe der zweiten Teilmenge Trimethylhexa­ methylendiisocyanat wird die Reaktionstemperatur 10 bis 12 Stunden konstant bei 85°C gehalten, bis das IR-Absorptionsmaxium des Isocyanats verschwunden ist, was den Abschluß der Reaktion anzeigt.In a 5-liter round-bottom flask equipped with a mechanical Agitator, a thermometer, a con condenser, a gas inlet pipe and a heating jacket 236.0 g (approx. 4 equivalents)  1,6-hexanediol, 268.0 g (about 4 equivalents) dimethyl olpropionic acid, 951.2 g (approx.8.2 equivalents) 2- Hydroxyethyl acrylate, 0.23514 g phenothiazine as Radical polymerization inhibitor, 783.8 g N-methyl 2-pyrrolidone as solvent and 31, 35 g of dibutyl Tin dilaurate (T-12) presented as a catalyst. Be under a layer of dry air Stir 1,680.0 g (about 16 equivalents) trimethyl hexamethylene diisocyanate in two equal aliquots added to the mixture at an interval of 30 minutes ben. An exothermic reak occurs with each addition tion. The reaction temperature is controlled by cooling in kept in an ice water bath below 85 ° C. After Add the second portion of trimethylhexa methylene diisocyanate becomes the reaction temperature 10 kept constant at 85 ° C for up to 12 hours until the IR absorption maximum of the isocyanate disappeared is what indicates the completion of the reaction.

Beispiel 2Example 2

Die lichtempfindliche Beschichtungszusammensetzung nach Beispiel 1 wird zur Herstellung einer durch Belichtung abbildbaren Lötmaske verwendet. Die Löt­ maske wird dadurch hergestellt, daß man in einem 500 ml-Rundkolben, der mit einem Rührwerk, einem Gasein­ laßrohr, einem Thermometer und einem Kondensator ausgestattet ist, 6,5 g eines niedermolekularen copolymeren Antischaummittels, 91,25 g N-methyl- 2-pyrrolidon als Lösungsmittel, und 82,0 g eines veresterten Copolymers aus Styrol und Maleinsäure­ anhydrid als Bindemittel vorlegt. (Das hier verwen­ dete Harz ist Scripset 550 der Fa. Monsanto). Das Gemisch wird 30 Minuten gerührt und auf 95°C er­ hitzt, wonach man eine trübe Lösung erhält. Danach werden die Temperatur auf 70°C abgesenkt und folgende Komponenten dem Gemisch zugesetzt: 0,004 g Phenothiazin als Radikalpolymerisationsinhibitor, 77,5 g der UV-empfindlichen Beschichtungszusammen­ setzung nach Beispiel 1 und 9,0 g eines grünen Farbstoffs. Während das Gemisch unter einem Strom trockener Luft gehalten wird, wird eine vorgängig bereitete Lösung, die 47,8 g Trimethylolpropantri­ acrylat (SR351) als Vernetzungsmittel, 6,5 g Iso­ propylthioxanthon (abgekürzt ITX) als Photoinitiator und 8,4 g Ethyl-p-dimethylaminobenzoat (abgekürzt) EPD) als Sensibilisator enthält, zugegeben.The photosensitive coating composition according to Example 1 is used to produce a Exposure imageable solder mask used. The solder mask is made by using a 500th ml round-bottom flask, which with an agitator, a gas let tube, a thermometer and a condenser is equipped, 6.5 g of a low molecular weight copolymeric antifoam, 91.25 g of N-methyl 2-pyrrolidone as a solvent, and 82.0 g of one esterified copolymer of styrene and maleic acid anhydride as a binder. (Use this dete Harz is Scripset 550 from Monsanto). The Mixture is stirred for 30 minutes and at 95 ° C heats, after which a cloudy solution is obtained. After that  the temperature is reduced to 70 ° C and the following Components added to the mixture: 0.004 g Phenothiazine as radical polymerization inhibitor, 77.5 g of the UV sensitive coating together setting according to Example 1 and 9.0 g of a green Dye. While the mixture is under a stream dry air is kept, a preliminary prepared solution, the 47.8 g trimethylolpropane tri acrylate (SR351) as crosslinking agent, 6.5 g Iso propylthioxanthone (abbreviated ITX) as a photoinitiator and 8.4 g of ethyl p-dimethylaminobenzoate (abbreviated) EPD) is added as a sensitizer.

Die obigen Komponenten werden unter trockener Luft 30 Minuten bei 70°C gemischt und danach in ein bern­ steinfarbenes Gefäß ausgetragen. Die so erhaltene Lötmaske wurde wie in Beispiel 3 beschrieben ver­ wendet.The above components are in dry air Mixed for 30 minutes at 70 ° C and then in a bern stone-colored vessel carried. The so obtained Solder mask was used as described in Example 3 turns.

Beispiel 3Example 3

Die in Beispiel 2 hergestellte Zusammensetzung wird als Beschichtung auf zwei 15,24 cm × 20,32 cm (6′′ × 8′′) große mit blankem Kupfer plattierte Epoxyplatten in einer Dicke von ca. 0,0508 mm (2 mil) unter Verwendung eines Gitters mit einer Maschenweite von ca. 0,193 mm (75 mesh) aus Monofilpolyester und einer Gummiwalze mit einer Durometerhärte von 70 aufgetragen. Die nasse Beschichtung wird 12 Minuten in einem Umlaufluftofen bei 100°C getrocknet, wobei ein 0,03556 mm (1,4 mil) dicker klebfreier Film entsteht.The composition prepared in Example 2 is as a coating on two 15.24 cm × 20.32 cm (6 ′ ′ × 8 ′ ′) large epoxy plates plated with bare copper in a thickness of approximately 0.0508 mm (2 mils) below Use a mesh with a mesh size of approx. 0.193 mm (75 mesh) made of monofilament polyester and a rubber roller with a durometer hardness of 70 applied. The wet coating will last 12 minutes dried in a circulating air oven at 100 ° C, where a 0.03556 mm (1.4 mil) thick non-stick film arises.

Die getrockneten Filme werden dann auf Raumtem­ peratur abgekühlt und bei 75 mJ/cm² mittels einer 400 W-Quecksilberdampflampe durch eine negative Druckvorlage IPC (Institute for Interconnecting Packaging electronic circuits) No. B-25 belichtet. Die belichteten Filme werden dann von Hand in einer 1%igen K₂CO₃-Lösung 45 Sekunden lang entwickelt und dann mit frischem Wasser gespült.The dried films are then room temperature temperature cooled and at 75 mJ / cm² using a  400 W mercury vapor lamp through a negative Print template IPC (Institute for Interconnecting Packaging electronic circuits) No. B-25 exposed. The exposed films are then hand-made in one Developed 1% K₂CO₃ solution for 45 seconds and then rinsed with fresh water.

Es wird eine ausgezeichnete Auflösung des IPC B-25 erzielt.It will be an excellent resolution of the IPC B-25 achieved.

Nach dem Entwickeln werden die Platten bei 3 J/cm² gehärtet und dann eine Stunde bei 150°C zur Nach­ härtung heiß getrocknet.After developing, the plates are at 3 J / cm² hardened and then for one hour at 150 ° C for night curing hot dried.

Eine der beiden Platten wird dann 15 Minuten lang in Methylenchlorid (MeCl₂) getaucht, wobei an der Maske keine Zersetzung beobachtet wird (Test auf Lösungsmittelbeständigkeit).One of the two plates is then left in for 15 minutes Methylene chloride (MeCl₂) immersed, being on the mask no decomposition is observed (test for Resistance to solvents).

Die andere Platte wird einem Haftungstest mittels Gitterschnitt nach ASTM D3359-78 Methode B unter­ zogen, wobei kein Haftungsverlust festgestellt wird. Die Platte wird dann mit einem Harzverdünner be­ strichen und mit der Lötmaske nach unten in einem Tiegel auf geschmolzenem Lot, 10 Sekunden bei 260 bis 275°C schwimmen gelassen. Nach diesem Löttiegel­ test wird die Platte, während sie noch warm ist, so­ fort mit 1,1,1-Trichlorethan gespült. Eine Stunde danach wird die Platte nochmals dem Gitterschnitt­ test zur Prüfung der Beschichtungshaftung unterzo­ gen, wobei kein Haftungsverlust festgestellt werden kann. The other plate is subjected to an adhesion test Cross-cut according to ASTM D3359-78 Method B below pulled, with no loss of liability is found. The plate is then loaded with a resin thinner paint and with the solder mask down in one Crucible on molten solder, 10 seconds at 260 floated up to 275 ° C. After this solder pot test the plate while it is still warm, so continued rinsed with 1,1,1-trichloroethane. One hour then the plate is again cross-cut test to check the coating adhesion unterzo gene, whereby no loss of liability is found can.  

Beispiel 4Example 4

Unter Verwendung der Apparatur und des Verfahrens, die in Beispiel 1 beschrieben sind, werden Urethan­ diacrylatoligomere mit verschiedener Carboxylierung hergestellt. Die Probe 4 enthält keinerlei Carb­ oxylierung, wohingegen Probe 9 die höchste Carboxy­ lierung aufweist. Alle Proben weisen einen Fest­ stoffgehalt von 80% auf. Die Zusammensetzung jeder einzelnen Probe ist in Tabelle 1 aufgelistet.Using the equipment and process, described in Example 1 become urethane diacrylate oligomers with various carboxylation manufactured. Sample 4 contains no carb oxylation, whereas sample 9 has the highest carboxy has. All samples have a festival content of 80%. The composition of everyone individual sample is listed in Table 1.

Tabelle 1Table 1

Die verwendeten Abkürzungen haben folgende Bedeu­ tung:The abbreviations used have the following meaning tung:

DMPS = Dimethylolpropionsäure
2HEA = 2-Hydroxyethylacrylat
TMDI = Trimethylhexamethylen-diisocyanat
DZnN = Dimethyl-Zinn-Diendecanoat
M-Pyrol = N-Methylpyrrolidon
Äqu = Äquivalent
DMPS = dimethylol propionic acid
2HEA = 2-hydroxyethyl acrylate
TMDI = trimethylhexamethylene diisocyanate
DZnN = dimethyl tin diene decanoate
M-pyrol = N-methylpyrrolidone
Equ = equivalent

Die Viskosität der Proben 4 bis 9 in Pa/s (cps) wurde bei 24°C (75°F) unter Verwendung eines Brook­ field RVT Viskosimeters Nr. 6 bei einer Umdrehungs­ geschwindigkeit der Spindel von 10 UpM gemessen.The viscosity of samples 4 to 9 in Pa / s (cps) was at 24 ° C (75 ° F) using a Brook field RVT viscometer # 6 at one turn speed of the spindle measured from 10 rpm.

Beispiel 5Example 5

Die Proben 5 bis 9 der carboxylierten Urethanacrylate werden zur Herstellung von Lötmasken verwendet. Diese werden dann zum Vergleich der Eigen­ schaften getestet. Beispiel 5 dient zusammen mit den nachfolgenden Beispielen 6 und 7 zum Vergleich der Eigenschaften der carboxylierten Urethanacrylate mit Masken, die nichtcarboxylierte Urethane enthalten.Samples 5 through 9 of the carboxylated urethane acrylates are used to manufacture solder masks. These are then used to compare the properties tested. Example 5 is used together with the Examples 6 and 7 below to compare the Properties of the carboxylated urethane acrylates with Masks containing non-carboxylated urethanes.

Die hier als Proben D bis H bezeichneten Lötmasken werden mit der in Beispiel 2 beschriebenen Apparatur und nach dem dort beschriebenen allgemeinen Verfahren hergestellt.The soldering masks referred to here as samples D to H are described with that in Example 2 Apparatus and according to the general described there Process manufactured.

Die Menge für jede Komponente ist in der nach­ folgenden Tabelle angegeben: The amount for each component is in the after following table:  

Tabelle 2 Table 2

Gebräuchliche Formulierung für die Lötmaskenproben D bis H Common formulation for the solder mask samples D to H

Blanke mit Kupfer plattierte Epoxyplatten werden mit Lötmasken der Proben D bis H nach dem allgemeinen in Beispiel 3 beschriebenen Verfahren beschichtet. Die Platten werden dann getestet und die Test­ ergebnisse bewertet.
Belichtungsgeschwindigkeit: bei den Proben D bis H ausgezeichnet bei 75 mJ/cm².
Entwicklung: bei den Proben D bis H in 1%iger wäßriger K₂CO₃-Lösung ausgezeichnet. Schwach bei Entwicklung der Proben D bis H in 1,1,1-Trichlorethan.
Bare copper-plated epoxy plates are coated with solder masks of samples D to H according to the general procedure described in Example 3. The plates are then tested and the test results evaluated.
Exposure speed: excellent for samples D to H at 75 mJ / cm².
Development: excellent for samples D to H in 1% aqueous K₂CO₃ solution. Weak when developing samples D to H in 1,1,1-trichloroethane.

Haftungstest: nach ASTM D3359-78 Verfahren B
(Note 5 bedeutet kein Haftungsverlust)
(Note 0 bedeutet totaler Haftungsverlust)
Adhesion test: according to ASTM D3359-78 method B
(Grade 5 means no liability loss)
(Note 0 means total loss of liability)

Beispiel 6Example 6

Proben einer Lötmaskenzusammensetzung werden unter Verwendung der Probe 4, eines nicht carboxylierten Stoffes, wie in Beispiel 2 beschrieben, hergestellt.Samples of a solder mask composition are shown below Use of sample 4, a non-carboxylated Fabric as described in Example 2, prepared.

Die Komponenten und die verwendeten Mengen sind in der nachfolgenden Tabelle angegeben:The components and the amounts used are in given in the table below:

Tabelle 3 Table 3

Zum Zweck des Vergleichs werden beide Formulierungen (A und B) nach den in Beispiel 3 beschriebenen Verfahren getestet und für die Beschichtung einer blanken, mit Kupfer plattierten Epoxyplatte verwendet, die ebenfalls bewertet wurde. Die Ergeb­ nisse sind nachstehend angeführt:For the purpose of comparison, both wording (A and B) according to those described in Example 3 Process tested and for coating a bare, copper-clad epoxy plate used, which was also evaluated. The results nisse are listed below:

Beispiel 7Example 7

Für Vergleichszwecke wird außerdem eine Probe 4 verwendet zur Herstellung eines lichtempfindlichen Elements, das dann auf seine Entwicklung in ver­ schiedenen Arten von Lösungsmitteln hin bewertet wird. Das lichtempfindliche Element (Probe C) wird hergestellt durch Mischen der Komponenten aus Tabelle 4 bis 50°C in einem 500 ml-Rundbodenkolben, der ausgestattet ist mit einem Rührwerk, einem Gas­ einlaßrohr, einem Thermometer und einem Konden­ sator.A sample 4 is also used for comparison purposes used to make a photosensitive Elements, which is then based on its development in ver different types of solvents becomes. The photosensitive element (sample C) is prepared by mixing the components from Table 4 up to 50 ° C in a 500 ml round bottom flask, which is equipped with an agitator, a gas inlet pipe, a thermometer and a condenser sator.

In der nachfolgenden Tabelle ist die Menge für jede Komponente angegeben.In the table below is the quantity for each Component specified.

Tabelle 4 Table 4

Lötmaskenzusammensetzung (Probe C), enthaltend ein nicht carboxyliertes Urethan-diacrylat (Probe 4) Solder mask composition (sample C) containing a non-carboxylated urethane diacrylate (sample 4)

Das nicht carboxylierte Urethan-diacrylat (Probe 4) zeigt nur eine sehr begrenzte Verträglichkeit mit dem Styrol/Maleinsäureanhydridharz (Scripset 550). Homogene Gemische des nicht carboxylierten Urethan-diacrylats und des Styrol/Maleinsäureanhy­ dridharzes konnten nur für eine verhältnismäßig kurze Zeit (weniger als einen Monat) und nur dann hergestellt werden, wenn das Verhältnis des Urethan-diacrylats zum Harz kleiner als 1 war. Wenn dieses Verhältnis erhöht wird, kommt es zur Phasen­ trennung (Probe B).The non-carboxylated urethane diacrylate (sample 4) shows only a very limited compatibility with the styrene / maleic anhydride resin (Scripset 550). Homogeneous mixtures of the non-carboxylated Urethane diacrylate and styrene / maleic acid dridharzes could only be proportionate short time (less than a month) and only then be made when the ratio of the Urethane diacrylate to resin was less than 1. If If this ratio is increased, phases occur separation (sample B).

Das carboxylierte Urethandi- oder tri(meth)acrylat jedoch kann verschiedene Carboxylkonzentrationen aufweisen und ist dabei in jedem Verhältnis mit dem Styrol/Maleinsäureanhydridharz und anderen als Bin­ demittel verwendeten Harzen mischbar und verträglich. Das Ergebnis ist ausgezeichnete Lagerfähig­ keit, Einheitlichkeit und sehr gute Verarbeitbar­ keit der Produkte.The carboxylated urethane or tri (meth) acrylate however, different carboxyl concentrations can have and is in every relationship with the Styrene / maleic anhydride resin and others than Bin Resins used are miscible and compatible. The result is excellent storability consistency, uniformity and very easy to process products.

Beispiel 8Example 8

Es werden carboxylierte Urethan-triacrylat-Proben unter Verwendung der in Beispiel 1 beschriebenen Apparatur und nach dem dort angegebenen allgemeinen Verfahren hergestellt. Die spezifischen, für jede Triacrylatprobe verwendeten Komponenten sind in der nachfolgenden Tabelle angegeben. Carboxylated urethane triacrylate samples are used using those described in Example 1 Apparatus and according to the general given there Process manufactured. The specific, for each Components used in the triacrylate sample are in the following table.  

Tabelle 5 Table 5

Das Produkt der Proben 10 und 11 wird dann zur Her­ stellung der Lötmasken I bzw. J verwendet.The product of samples 10 and 11 then becomes Her position of the solder mask I or J used.

Die Lötmasken werden unter Verwendung der in Beispiel 2 verwendeten Apparatur und des dort be­ schriebenen allgemeinen Verfahrens hergestellt. The solder masks are made using the in Example 2 used equipment and be there general procedure described.  

Tabelle 6 Table 6

Lötmaskenzusammensetzungen auf der Basis von carboxylierten Urethan, triacrylaten Solder mask compositions based on carboxylated urethane, triacrylates

Die in den obigen Tests verwendeten Platten wurden unter Verwendung der Proben I und J gemäß dem in Beispiel 3 beschrieben Verfahren hergestellt.The plates used in the above tests were using samples I and J according to the method described in Process described in Example 3.

Claims (9)

1. Durch Belichtung abbildbare Beschichtungszusammensetzung, umfassend ein UV-empfindliches Polymer, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem carboxylierten Urethandimethacrylat, einem carboxylierten Urethandiacrylat, einem carboxylierten Urethantriacrylat und einem carboxylierten Urethantrimethacrylat, wobei das Polymer hergestellt ist durch Kondensation eines Reaktionsgemisches aus a) einem Diisocyanat mit 6 bis 18 C-Atomen, b) einer Polyolcarbonsäure der Formel [OH]x=R₆-COOH, worin x eine ganze Zahl von 2 bis 5 bedeutet und R₆ eine unverzweigte oder verzweigte, gesättigte oder ungesättigte oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 bis 29 C-Atomen bedeutet, und c) einem Hydroxyalkyl(meth)acrylat, worin jedes Alkyl 2 bis 28 C-Atome aufweist, mit der Maßgabe, daß die Komponente a) in einer Menge von ca. 30 bis ca. 80 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge des Reaktionsgemisches, die Komponente b) in einer Menge von ca. 5 bis ca. 45 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge des Reaktionsgemisches, bei einer Mindestmenge von ca. 0,3 Milliäquivalent Säure pro Gramm Gesamtmenge des Reaktionsgemisches und die Komponente c) in einer Menge von ca. 5 bis 50 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge des Reaktionsgemisches, bei einer Mindestmenge von 0,5 Milliäquivalent Acrylat pro Gramm Gesamtmenge des Reaktionsgemisches vorliegen.1. Exposing coating composition, full a UV sensitive polymer selected from the group consisting of a carboxylated Urethane dimethacrylate, a carboxylated Urethane diacrylate, a carboxylated urethane triacrylate and a carboxylated urethane trimethacrylate, the polymer being made by condensation of a reaction mixture a) a diisocyanate with 6 to 18 carbon atoms, b) one Polyolcarboxylic acid of the formula [OH] x = R₆-COOH, where x is an integer from 2 to 5 and R₆ an unbranched or branched, saturated or unsaturated or aromatic hydrocarbon group with 2 to 29 carbon atoms, and c) a hydroxyalkyl (meth) acrylate, wherein each alkyl Has 2 to 28 carbon atoms, with the proviso that the Component a) in an amount of about 30 to about 80% by weight,  based on the total amount of the reaction mixture, component b) in an amount of approx. 5 up to approx. 45% by weight, based on the total amount of Reaction mixture, with a minimum amount of approx. 0.3 milliequivalents of acid per gram of total amount of Reaction mixture and component c) in one Amount of about 5 to 50 wt .-%, based on the Total amount of the reaction mixture, with a minimum amount of 0.5 milliequivalents of acrylate per gram The total amount of the reaction mixture is present. 2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich ein Bindemittel enthält.2. Composition according to claim 1, characterized in that they additionally one Contains binders. 3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gkennzeichnet, daß das Reaktionsgemisch zusätzlich ein Polyol mit 2 bis 28 C-Atomen und 2 bis 5 Hydroxylgruppen enthält.3. Composition according to claim 1, characterized in that that the reaction mixture additionally a polyol with 2 to 28 carbon atoms and 2 contains up to 5 hydroxyl groups. 4. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsgemisch zusätzlich eine Dicarbonsäure der Formel [OH]y-R₇(COOH)₂worin y eine ganze Zahl von 1 bis 5 und R₇ ein Kohlenwasserstofffragment mit 1 bis 28 C-Atomen darstellt, enthält.4. Composition according to one of claims 1-3, characterized in that the reaction mixture additionally a dicarboxylic acid of the formula [OH] y -R₇ (COOH) ₂worin y is an integer from 1 to 5 and R₇ is a hydrocarbon fragment with 1 to 28 C- Represents atoms contains. 5. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente b) zusätzlich ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus α-α-Dimethylolessigsäure, α-α-Dimethylolpropionsäure, α-α-Dimethylolbuttersäure, α-α-Diethylolessigsäure, α-α-Diethylolpropionsäure und α-α-Diethylbuttersäure. 5. Composition according to one of claims 1-4, characterized in that the component b) is additionally selected from the group, consisting of α-α-dimethylol acetic acid, α-α-dimethylol propionic acid, α-α-dimethylol butyric acid, α-α-diethylolacetic acid, α-α-diethylolpropionic acid and α-α-diethylbutyric acid.   6. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 3-5, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Bindemittel aufweist, das ein Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymer mit einer Glasübergangstemperatur von ca. 155°C oder höher darstellt.6. Composition according to one of claims 3-5, characterized in that it is a Has binder which is a styrene / maleic anhydride copolymer with a glass transition temperature 155 ° C or higher. 7. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsgemisch ca. 0,8 bis 1,6 Milliäquivalent Säure pro Gramm Gesamtmenge des Reaktionsgemisches enthält.7. Composition according to one of claims 1-6, characterized in that the reaction mixture about 0.8 to 1.6 milliequivalents of acid contains per gram total amount of the reaction mixture. 8. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-7, dadurch gekennzeichnet, daß das Diisocyanat ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus 1-Isocyanat-3-isocyanat-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexan, Xyloldiisocyanat, 3,3′-Dimethyl-diphenylmethan-4,4′-diisocyanat, 2,4-Tolylen-diisocyanat, 2,6-Tolylen-diisocyanat, 2,2,4-Trimethyl-hexamethylen-diisocyanat, 2,4,4-Trimethylhexamethylen-diisocyanat, Methylen-bis(4-cyclohexyldiisocyanat), Hexamethylen-diisocyanat, 1,5-Naphthylen-diisocyanat, meta-Phenylen-diisocyanat, meta-Tetramethylxylol-di-isocyanat, para-Tetramethylxylol-diisocyanat und Methylenbisphenyl-diisocyanat.8. Composition according to one of claims 1-7, characterized in that the Diisocyanate is selected from the group consisting of from 1-isocyanate-3-isocyanate-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, Xylene diisocyanate, 3,3'-dimethyl-diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, Methylene bis (4-cyclohexyl diisocyanate), hexamethylene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, meta-phenylene diisocyanate, meta-tetramethylxylene di-isocyanate, para-tetramethylxylene diisocyanate and Methylene bisphenyl diisocyanate. 9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich einen Vernetzer enthält.9. The composition according to claim 8, characterized in that that they also have a Contains crosslinker.
DE3741385A 1986-12-08 1987-12-07 Solder mask coating that can be imaged by exposure Expired - Fee Related DE3741385C2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US93960486A 1986-12-08 1986-12-08
US4546487A 1987-05-04 1987-05-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3741385A1 DE3741385A1 (en) 1988-06-09
DE3741385C2 true DE3741385C2 (en) 1996-06-05

Family

ID=26722797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3741385A Expired - Fee Related DE3741385C2 (en) 1986-12-08 1987-12-07 Solder mask coating that can be imaged by exposure

Country Status (13)

Country Link
KR (1) KR910001523B1 (en)
CN (1) CN1031227C (en)
BR (1) BR8706609A (en)
CA (1) CA1332093C (en)
CH (1) CH680622A5 (en)
DE (1) DE3741385C2 (en)
FR (1) FR2607820B1 (en)
GB (1) GB2199335B (en)
HK (1) HK60692A (en)
IT (1) IT1233418B (en)
MX (1) MX168832B (en)
NL (1) NL190785C (en)
SG (1) SG61192G (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR910021456A (en) * 1990-02-20 1991-12-20 우메모토 요시마사 Water-soluble photocurable polyurethane poly (meth) acrylates, adhesives containing them and methods of making laminated articles
CA2040097A1 (en) * 1990-04-12 1991-10-13 Wako Yokoyama Urethane polymers for printing plate compositions
US5341799A (en) * 1991-12-23 1994-08-30 Hercules Incorporated Urethane polymers for printing plate compositions
DE50014951D1 (en) * 1999-09-30 2008-03-20 Basf Ag WITH UV RADIATION AND THERMALLY HARDENABLE AQUEOUS POLYURETHANE ISOLATIONS AND THEIR USE
US20120097329A1 (en) * 2010-05-21 2012-04-26 Merck Patent Gesellschaft Stencils for High-Throughput Micron-Scale Etching of Substrates and Processes of Making and Using the Same
CN104193944A (en) * 2014-08-21 2014-12-10 苏州瑞红电子化学品有限公司 Controllable-acid-value photosensitive alkali-soluble polyurethane acrylate resin and photoresist composition thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4153778A (en) * 1978-03-30 1979-05-08 Union Carbide Corporation Acrylyl capped urethane oligomers
NL8401785A (en) * 1984-06-04 1986-01-02 Polyvinyl Chemie Holland PROCESS FOR PREPARING AN AQUEOUS DISPERSION OF URETHAN ACRYLATE ENTCOPOLYMERS AND STABLE AQUEOUS DISPERSION THUS OBTAINED.
WO1986006730A1 (en) * 1985-05-17 1986-11-20 M&T Chemicals, Inc. Aqueous alkaline developable, uv curable urethane acrylate compounds and compositions useful for forming solder mask coatings

Also Published As

Publication number Publication date
GB8728631D0 (en) 1988-01-13
BR8706609A (en) 1988-07-19
CA1332093C (en) 1994-09-20
MX168832B (en) 1993-06-10
CN1031227C (en) 1996-03-06
GB2199335B (en) 1991-01-09
HK60692A (en) 1992-08-21
FR2607820A1 (en) 1988-06-10
NL190785C (en) 1994-08-16
CN87107321A (en) 1988-06-22
IT1233418B (en) 1992-03-31
CH680622A5 (en) 1992-09-30
DE3741385A1 (en) 1988-06-09
GB2199335A (en) 1988-07-06
SG61192G (en) 1992-09-04
KR910001523B1 (en) 1991-03-15
FR2607820B1 (en) 1994-06-10
KR880014415A (en) 1988-12-23
NL190785B (en) 1994-03-16
NL8702942A (en) 1988-07-01
IT8722899A0 (en) 1987-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5089376A (en) Photoimagable solder mask coating
DE19758244B4 (en) Based on bicycloalkenes photoresist copolymer, process for its preparation and its use
DE60017470T2 (en) PHOTO- OR HEAT-HARDENING COMPOSITIONS FOR MAKING MATTER FILMS
EP0493317B1 (en) Radiosensitive composition on basis of water as solvent or dispersion medium, respectively
DE3107585C3 (en) Photosensitive urethane resin compositions and their use
EP0633503B1 (en) Photopolymerizable compositions
EP0402894B1 (en) Photoresist
DE3036694A1 (en) RUBBER-ELASTIC, ETHYLENICALLY UNSATURATED POLYURETHANE AND MIXTURE CONTAINING THE SAME BY RADIATION
DE3200703C2 (en) Urethane polymer, process for its preparation and its use
DE3412992A1 (en) BY RADIATION POLYMERIZABLE MIXTURE AND METHOD FOR APPLYING MARKINGS TO A SOLDER STOP PRESIS LAYER
DE2822189A1 (en) PHOTOPOLYMERIZABLE MIXTURE
DE3529222C2 (en)
DE3136818A1 (en) PHOTO-SENSITIVE RESIN
DE2517034A1 (en) LIGHT SENSITIVE COMPOSITION
DE3139909A1 (en) PHOTO-SENSITIVE RESIN
DE2736058C2 (en) Transferable photopolymerizable recording material
DE3045788A1 (en) RADIANT URETHANE GROUP ACRYLIC ACID ESTERS AND THEIR USE
DE3741385C2 (en) Solder mask coating that can be imaged by exposure
DE60207640T2 (en) An active radiation curable polyimide resin composition
DE69534788T2 (en) PROCESS FOR PREPARING PHOTO SENSITIVE RESIN AND LIQUID PHOTO SENSITIVE RESIN COMPOSITION
DE69829157T2 (en) Urethane oligomers containing photosensitive compositions
US5102774A (en) Photoimagable coating compositions which are developable in aqueous alkaline solutions and can be used for solder mask compositions
DE4142735A1 (en) POLYMERIZABLE MIXTURE BY RADIATION AND METHOD FOR PRODUCING A SOLDER STOP MASK
DE69333313T2 (en) Solder resist ink composition
EP0143380B1 (en) Photoresist composition

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8125 Change of the main classification

Ipc: C08G 18/67

8125 Change of the main classification

Ipc: C09D175/16

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee