DE3540987C2 - Method of making an electron tube - Google Patents

Method of making an electron tube

Info

Publication number
DE3540987C2
DE3540987C2 DE19853540987 DE3540987A DE3540987C2 DE 3540987 C2 DE3540987 C2 DE 3540987C2 DE 19853540987 DE19853540987 DE 19853540987 DE 3540987 A DE3540987 A DE 3540987A DE 3540987 C2 DE3540987 C2 DE 3540987C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
getter
separate vacuum
temperature treatment
electron tube
tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19853540987
Other languages
German (de)
Other versions
DE3540987A1 (en
Inventor
Karl Schnur
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales Electron Devices GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Patent Verwaltungs GmbH filed Critical Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority to DE19853540987 priority Critical patent/DE3540987C2/en
Publication of DE3540987A1 publication Critical patent/DE3540987A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3540987C2 publication Critical patent/DE3540987C2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J7/18—Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer ein nicht verdampfendes Getter enthaltenden Elektronenröhre, bei dem das Getter vor Einbau in die Röhre in einem gesonderten Vakuumraum bei einem Druck von wenig er als 0,133 Pa einer Tempe­ raturbehandlung bei Temperaturen zwischen 750°C und 1100°C unterworfen wird.The present invention relates to a method for Making a non-evaporating getter containing electron tube, in which the getter before Installation in the tube in a separate vacuum room at a pressure of less than 0.133 Pa of a temperature temperature treatment at temperatures between 750 ° C and 1100 ° C is subjected.

Aus der DE-OS 16 14 204 ist ein vorstehendes Verfah­ ren bekannt. Mit diesem bekannten Verfahren soll der Wasserstoff, der bei der Umwandlung des Zirkonhydrids entsteht, entfernt werden. Zu diesem Zweck genügt eine verhältnismäßig kurze Erhitzung von wenigen Minuten. From DE-OS 16 14 204 is an above procedure ren known. With this known method Hydrogen, which is used in the conversion of zirconium hydride arises, be removed. For this purpose it is sufficient a relatively short heating of a few Minutes.  

Bei Hoch-Vakuumröhren für extrem lange Lebensdauer, insbesondere bei Satelliten-Wanderfeldröhren, hat sich herausgestellt, daß mit zunehmender Betriebszeit eine Verschlechterung des Vakuums und des Wirkungsgrades auftritt. Es hat sich dabei gezeigt, daß nicht ver­ dampfbare Getter, insbesondere Zirkon-Kohlenstoffget­ ter, offensichtlich Spurenstoffe freisetzen, die zum einen vakuumverschlechternd wirken und zum anderen, was besonders störend ist, zu Isolationsfehlern führen. So werden offensichtlich auf Keramikteilen der Wanderfeld­ röhren Stoffe abgelagert, die aus dem Getter stammen und die die Isolationsfestigkeit dieser Keramikteile verringern.With high vacuum tubes for extremely long service life, especially in the case of satellite traveling wave tubes emphasized that with increasing operating time a Vacuum and efficiency deterioration occurs. It has been shown that not ver steamable getters, in particular zirconium carbon get ter, obviously release trace substances, which lead to one that worsens the vacuum and on the other what is particularly disruptive, lead to insulation faults. So become obvious on ceramic parts of the hiking field tubes deposited substances that come from the getter and the insulation strength of these ceramic parts reduce.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird darin gesehen, ein Verfahren der eingangs genannten Art so zu verbessern, daß insbesondere bei Satelliten-Wanderfeld­ röhren die Isolationseigenschaften und die Vakuumeigen­ schaften über eine sehr lange Lebensdauer verbessert aufrechterhalten werden.The object of the present invention is therein seen a process of the type mentioned above improve that especially with satellite walking field tubes the insulation properties and the vacuum inherent improved over a very long life be maintained.

Diese Aufgabe wird durch das im Kennzeichnen des Pa­ tentanspruchs 1 angegebene Merkmal gelöst.This task is carried out by the Pa Solved claim 1 specified feature.

Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sind in den Unteransprüchen angegeben.Advantageous embodiments of the method are in the Subclaims specified.

Es hat sich gezeigt, daß erst durch eine sehr lange Dauererhitzung solcher nicht verdampfenden Getter in dem Getter eingeschlossene unerwünschte Spurenstoffe entfernt werden können. Von wesentlicher Bedeutung ist, daß die beschriebene Temperaturvorbehandlung in einem geschlossenen Vakuumgefäß durchgeführt wird, wobei es wiederum von wesentlicher Bedeutung ist, daß die Er­ hitzung des Getters direkt am Getter erfolgt, so daß sich die aus dem Getter während der Temperaturbehand­ lung ausdampfenden Spurenstoffe an der vergleichsweise kühlen Wand des Vakuumgefäßes niederschlagen können.It has been shown that only through a very long time Continuous heating of such non-evaporating getters unwanted trace substances included in the getter can be removed. Is essential that the temperature pretreatment described in one closed vacuum vessel is performed, it again it is essential that the Er heating of the getter takes place directly on the getter, so that from the getter during the heat treatment evaporating trace substances on the comparatively cool wall of the vacuum vessel.

Anhand der Figur wird die Erfindung nachfolgend näher erläutert.The invention is explained in more detail below with the aid of the figure explained.

Ein Zirkon-Kohlenstoffgetter 3, das fest mit einer Heizwendel 4 aus Wolfram verbunden ist, wird inner­ halb eines Vakuumraumes 1 befestigt. Die Befestigung erfolgt bevorzugt in der Weise, daß die Enden der Heizwendel 4 auf im Vakuumraum befindliche Durchfüh­ rungen 5, z. B. durch eine Schweißverbindung, aufge­ bracht ist. Das Vakuumgefäß 1 ist zweckmäßig ein üblicher Elektronenröhrenkolben mit einem Sinterglas 5, in welchem sich die vakuumdicht eingesetzten Durchführungen befinden.A zirconium carbon getter 3 , which is firmly connected to a heating coil 4 made of tungsten, is fastened within a vacuum space 1 . The attachment is preferably carried out in such a way that the ends of the heating coil 4 on implementations located in the vacuum space 5 , for. B. is brought up by a welded joint. The vacuum vessel 1 is expediently a conventional electron tube bulb with a sintered glass 5 , in which the bushings inserted in a vacuum-tight manner are located.

Durch Anlegen einer Heizspannung an die entsprechen­ den Durchführungen wird das Getter 1 auf die gewün­ schte Temperatur, insbesondere auf eine Temperatur von ungefähr 900° aufgeheizt und diese Temperaturbe­ handlung zweckmäßig etwa 100 Stunden lang durchge­ führt. Zuvor wurde das Vakuumgefäß 1 mittels des nunmehr abgeschmolzenen Pumpstutzens 6 auf einen Unterdruck von etwa 1,33·10-2 Pa gebracht. Nach Durchfüh­ rung der Temperaturbehandlung wird das Vakuumgefäß 1 zerstört und das vorbehandelte Getter 3 entnommen und in die vorgesehene Elektronenstrahlröhre eingebaut.By applying a heating voltage to the corresponding bushings, the getter 1 is heated to the desired temperature, in particular to a temperature of approximately 900 °, and this temperature treatment is advantageously carried out for about 100 hours. Previously, the vacuum vessel 1 was brought to a negative pressure of approximately 1.33 · 10 -2 Pa by means of the now-melted down pump connector 6 . After carrying out the temperature treatment, the vacuum vessel 1 is destroyed and the pretreated getter 3 is removed and installed in the provided electron beam tube.

Claims (8)

1. Verfahren zum Herstellen einer ein nicht ver­ dampfendes Getter enthaltenden Elektronenröhre, bei dem das Getter vor Einbau in die Röhre in einem gesonderten Vakuumraum bei einem Druck von weniger als 0,133 Pa einer Temperaturbehandlung bei Temperaturen zwischen 750° und 1100°C unterworfen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperaturbehandlung wenig­ stens 40 Stunden lang vorgenommen wird.1. A process for producing an electron tube containing a non-evaporating getter, in which the getter is subjected to a temperature treatment at temperatures between 750 ° and 1100 ° C. in a separate vacuum space at a pressure of less than 0.133 Pa before being installed in the tube, thereby characterized in that the heat treatment is carried out for at least 40 hours. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß die Temperaturbehandlung bei 850°C bis 950°C vorgenommen wird.2. The method according to claim 1, characterized in net that the temperature treatment at 850 ° C to 950 ° C is made. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, da­ durch gekennzeichnet, daß die Temperaturbehandlung in dem gesonderten Vakuumraum bei einem Druck von ca. 1,33·10-2 Pa vorgenommen wird. 3. The method according to claim 1 or claim 2, characterized in that the temperature treatment is carried out in the separate vacuum space at a pressure of about 1.33 · 10 -2 Pa. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Zirkon-Kohlenstoff­ getter verwendet wird.4. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a zirconium carbon getter is used. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Getter nach der Temperaturbehandlung in dem gesonderten Vakuumraum in eine Elektronenstrahlröhre eingebaut wird.5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the getter after the Temperature treatment in the separate vacuum room in an electron beam tube is installed. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als gesonderter Vakuum­ raum ein abgeschmolzenes Glasgefäß verwendet wird und die Aufheizung des Getters mittels einer Heizwendel, die in thermi­ schem Kontakt mit dem Getter steht, vorgenommen wird, wobei das Glasgefäß vakuumdicht eingeschmolzene Zuführungen aufweist, an welchen die Heizwendel befestigt ist.6. The method according to any one of claims 1 to 5, characterized in that as a separate vacuum a melted glass vessel is used and heating the getter using a Heating coil in thermi there is chemical contact with the getter, whereby the glass vessel is melted down in a vacuum-tight manner Has feeds on which the heating coil is attached. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als gesonderter Vakuumraum eine Elektronenröhrenhülle verwendet wird. 7. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that as a separate vacuum space Electron tube cover is used.   8. Verfahren nach einem der Patentansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperaturbehandlung 80 bis 120 Stunden lang vorgenommen wird.8. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that the heat treatment 80 to 120 hours long.
DE19853540987 1985-11-19 1985-11-19 Method of making an electron tube Expired - Fee Related DE3540987C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853540987 DE3540987C2 (en) 1985-11-19 1985-11-19 Method of making an electron tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853540987 DE3540987C2 (en) 1985-11-19 1985-11-19 Method of making an electron tube

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3540987A1 DE3540987A1 (en) 1987-05-21
DE3540987C2 true DE3540987C2 (en) 1994-06-09

Family

ID=6286365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19853540987 Expired - Fee Related DE3540987C2 (en) 1985-11-19 1985-11-19 Method of making an electron tube

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3540987C2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2231716A (en) * 1989-05-10 1990-11-21 Philips Electronic Associated Producing and maintaining a vacuum space in an infrared detector or other device with a getter

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE946076C (en) * 1945-02-03 1956-07-26 Lorenz C Ag Process for the production of highly active getter substances
NL153369B (en) * 1966-01-08 1977-05-16 Philips Nv PROCESS OF MANUFACTURING AN ELECTRICAL DISCHARGE TUBE AND ELECTRICAL DISCHARGE TUBE PROVIDED WITH A NON-EVAPORATING GAS BINDER, MANUFACTURED ACCORDING TO THIS PROCESS.
DE2158949C3 (en) * 1971-11-10 1980-01-17 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Getter body for operation at room temperature in electrical discharge vessels

Also Published As

Publication number Publication date
DE3540987A1 (en) 1987-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3509465C2 (en) Process for the production of porous, non-evaporable getter devices, getter devices thus produced and their use
DE1155759B (en) Device for obtaining the purest crystalline semiconductor material for electrotechnical purposes
DE2647088A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR CLEANING SURFACES
DE2816832A1 (en) CATHODE OF AN ELECTRON SOURCE AND METHOD OF MANUFACTURING IT
WO2016012070A1 (en) Method for closing a double-walled glass tube in a vacuum-tight manner
DE3540987C2 (en) Method of making an electron tube
DE2011215C3 (en) Electric heater
DE1927825A1 (en) Process for the production of superconducting cavity resonators, in particular for particle accelerators
DE2512906A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING A PICTURE PLAYBACK EAR
DE2259526A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING AN ROENTINE TUBE WITH AN ACTIVATED THREAD AS A CATHOD
DE2146918B2 (en) Rotating anode for X=ray tube with refractory coating - of graphite applied by pyrolytic deposition
DE838167C (en)
DE3500430A1 (en) GETTER FOR GLOW AND DISCHARGE LAMPS OF HIGH INTENSITY
DE2310465A1 (en) PROCESS FOR MANUFACTURING A RADIOACTIVE TRITIUM FILM EMITING BUTTERFLY AND A DETECTOR EQUIPPED WITH IT
DE2806534A1 (en) ELECTRON BEAM PIPES
DE2422884C2 (en) Holder for the electrodes of an electron beam generation system within the vacuum envelope of a microwave tube
DE2430649A1 (en) CATHODE HOLDING DEVICE OF A CATHODE TUBE
DE1464969A1 (en) Method for manufacturing an electronic discharge device
DE2120927C3 (en) Process for sintering compacts made of high-melting metal or alloy powder
AT164775B (en) Ceramic body, in particular for electrical discharge devices, and methods for combining bodies, at least one of which is made of ceramic material
DE551178C (en) Process for creating a high vacuum in x-ray tubes
AT132843B (en) Process for generating a high vacuum in X-ray tubes.
AT167209B (en) Electrical resistance wire with reinforced ends and method for its manufacture
DE3115494A1 (en) Method for improving the vacuum-tightness of metal parts
AT220252B (en) Electron tube structure with several spaced, concentric, flange-shaped support parts for holding the electrodes

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8320 Willingness to grant licenses declared (paragraph 23)
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: AEG ELEKTRONISCHE ROEHREN GMBH, 89077 ULM, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: THOMSON TUBES ELECTRONIQUES GMBH, 89077 ULM, DE