DE2854573C3

DE2854573C3 - A method of forming an image pattern on a surface of a transparent support forming the faceplate of an image display screen

Info

Publication number: DE2854573C3
Application number: DE2854573A
Authority: DE
Inventors: Frederic Robert Hillsboro Oreg. Engstrom
Original assignee: Tektronix Inc
Current assignee: Tektronix Inc
Priority date: 1977-12-27
Filing date: 1978-12-18
Publication date: 1981-10-08
Also published as: GB2012071A; JPS5492168A; US4223083A; JPS6132774B2; FR2413693B1; NL7812495A; DE2854573B2; FR2413693A1; DE2854573A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Bildmusters auf einer Fläche eines die Frontplatte eines Bildanzeigeschirms bildenden transparenten Trägers, bei dem in der angegebenen Reihenfolge zwischen einer Lichtquelle und der Frontplatte eine Maske angeordnet wird, die ein dem gewünschten Bildmuster entsprechendes Muster mit strahlungsdurchlässigen Bereichen aufweist, auf der Innenseite der Frontplatte eine photoempfindliche Schicht aufgebracht wird, die von einer außerhalb der Außenfläche der Frontplatte befindlichen Lichtquelle durch die Frontplatte hindurch belichtet wird, und das Bildmuster auf der photoempfindlichen Schicht entwikkelt wird.The present invention relates to a method for producing an image pattern on a surface of a die Front panel of an image display screen forming transparent support, in which in the specified Sequence between a light source and the front panel, a mask is arranged, which is a dem desired image pattern has corresponding pattern with radiation-permeable areas on the Inside of the front plate a photosensitive layer is applied, which is covered by an outside of the The light source located on the outer surface of the front panel is exposed through the front panel, and that Image pattern is developed on the photosensitive layer.

Aus der DE-AS 25 26 882 ist ein Verfahren der vorgenannten Art zur Herstellung eines Leuchtschirms mit Punkttripeln bzw. Dreiergruppen von Leuchtstoffelementen in Form von Phosphorabscheidungen bekannt geworden. Dabei wird auf die Innenseite eines transparenten Trägers zunächst eine Filterschicht und auf diese eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht. Sodann werden mittels einer Maske, welche gleich der Schattenmaske einer den Leuchtschirm enthaltenden Farbbildröhre ist und welche zwischen der Innenseite des Trägers und einer Ultraviolett-Lichtquelle angeordnet ist, Bereiche der Filterschicht mit Ultraviolettlicht bestrahlt und dabei für sichtbares Licht durchlässig gemacht. Danach wird die lichtempfindliche Schicht von der Außenseite des Trägers her durch die lichtdurchläs-DE-AS 25 26 882 discloses a method of the aforementioned type for producing a luminescent screen known with point triples or groups of three of phosphor elements in the form of phosphor deposits become. First, a filter layer is applied to the inside of a transparent carrier applied to this a photosensitive layer. Then by means of a mask, which is the same as the Shadow mask of a color picture tube containing the fluorescent screen and which is between the inside of the carrier and an ultraviolet light source is arranged, areas of the filter layer with ultraviolet light irradiated and made permeable to visible light. After that, the photosensitive layer of the outside of the carrier through the translucent

sigen Teile der Filterschicht mit sichtbarem Licht bestrahlt Enthält beispielsweise die lichtdurchlässige Schicht einen Leuchtstoff einer der Primärfarben, so kann sie nach ihrer Belichtung derart behandelt werden, daß nur die belichteten Teile stehen bleiben und Punkte einer Farbe der Punkttripel bilden. Die Verfahrensschritte können zur Herstellung der Punkte der beiden weiteren Primärfarben wiederholt werden. Es ist aber auch möglich, mittels der Filterschicht und einer auf diese aufgebrachten Photoresist-Schicht sowie den vogenannten Belichtungsprozessen eine Löcher aufweisende lichtabsorbierende Matrix herzustellen und in die Löcher dieser Matrix die Phosphore für die Primärfarben einzubetten.sigen parts of the filter layer with visible light irradiated If, for example, the transparent layer contains a phosphor of one of the primary colors, see above it can be treated after exposure in such a way that only the exposed parts remain and dots a color of the point triples. The process steps can be used to produce the points of the two further primary colors are repeated. But it is also possible by means of the filter layer and one on this applied photoresist layer as well as the aforementioned exposure processes having holes Produce light-absorbing matrix and in the holes of this matrix the phosphors for the primary colors to embed.

Dabei muß die zur Belichtung mit Ultraviolettlicht verwendete Maske, welche gleich der Schattenmaske der fertigen Farbbildröhre ist, mehrmals am transparenten Träger befestigt werden. Derartige Masken können dadurch relativ leicht zerstört werden, wobei einmal zerstörte Masken gewöhnlich nicht mehr verwendbar sind. Je öfter die Maske montiert und entfernt werden muß, um so größer ist die Wahrscheinlichkeit für eine Zerstörung. Die verschiedenen Maßnahmen, wie beispielsweise erneute Ätzungen, welche zur Realisierung der unterschiedlichen Größen der Maskenöffnungen bei den verschiedenen Schritten zur Herstellung der Röhre erforderlich sind, föiren ebenfalls zu einer Zerstörung einer bestimmten Anzahl von Masken, wodurch die Ausbeute verringert wird, und damit die Herstellungskosten erhöht werden. Wird darüber hinaus die Maske bei jeder Bestrahlung nicht erneut genau ausgerichtet, so ergeben sich Fehlpositionierungen der verschiedenen Farbphosphorpunkte in bezug auf die Löcher in der schwarzen Umrandungsschicht oder Fehlpositionierung der Farbphosphorpunkte zueinander.The mask used for exposure to ultraviolet light must be the same as the shadow mask of the finished color picture tube must be attached several times to the transparent support. Such masks can can thereby be destroyed relatively easily, with masks once destroyed usually no longer usable are. The more often the mask has to be mounted and removed, the greater the likelihood of a Destruction. The various measures, such as renewed etching, which are necessary for implementation the different sizes of the mask openings in the different steps in the manufacture of the tube are required also lead to destruction a certain number of masks, which reduces the yield and thus the manufacturing costs increase. In addition, if the mask is not properly aligned with each exposure, this results in incorrect positioning of the various colored phosphor points in relation to the holes in the black border layer or incorrect positioning of the color phosphor points to one another.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß die genannte Maske nur einmal verwendet wird.The present invention is based on the object of providing a method of the type mentioned at the beginning to design that said mask is used only once.

Zur Lösung der vorstehend genannten Aufgabe ist bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß vorgesehen, daß als nächste Verfahrensschritte nach dem Anordnen der Maske auf der Außenseite der Frontplatte zur Herstellung einer Hilfsmaske eine erste photoempfindliche Schicht aufgebracht wird und daß anschließend die photoempfindliche Schicht auf der Außenseite der Frontplatte durch die Maskenöffnungen und die Frontplatte hindurch belichtet und die belichtete Schicht zur Entwicklung des die Hilfsmaske darstellenden Bildes behandelt wird.To solve the above problem is at a method of the type mentioned according to the invention provided that the next method steps after arranging the mask on the A first photosensitive layer on the outside of the front plate for producing an auxiliary mask is applied and that then the photosensitive layer on the outside of the front plate exposed through the mask openings and the front plate and the exposed layer to Development of the image representing the auxiliary mask is dealt with.

Bei dem vorstehend definierten erfindungsgernäßen Verfahren wird also bei der Herstellung eines Farbanzeigeschirms zunächst eine Hilfsmaske auf der Außenseite des transparenten Trägers erzeugt. Diese Hilfsmaske wird durch Beschichtung der Außenseite des Trägers mit einem lichtempfindlichen Material hergestellt, dessen Löslichkeitseigenschaften durch Belichtung verändert werden. Sodann wird benachbart zur Innenseite des Trägers eine Maske montiert, und die Beschichtung duFch die öffnungen der Maske aus einer geeigneten Energiequelle bestrahlt, um in der Beschichtung ein mit der Maske korreliertes latentes Bild zu erzeugen. Die Maske wird sodann entfernt, wonach die bestrahlte Beschichtung zur Entfernung eines Musters von beabstandeten Elementenbereichen entwickelt wird, welche den Maskenöffnungen entsprechen. Danach wird die Beschichtung behandelt, um sieIn the above-defined inventive method is therefore in the production of a Color display screen initially created an auxiliary mask on the outside of the transparent support. These Auxiliary mask is made by coating the outside of the support with a photosensitive material, whose solubility properties are changed by exposure. Then is adjacent to Inside the carrier a mask is mounted, and the coating through the openings of the mask from a A suitable energy source is irradiated in order to produce a latent image correlated with the mask in the coating produce. The mask is then removed, after which the irradiated coating is used to remove a pattern is developed from spaced element areas corresponding to the mask openings. After that, the coating is treated to make it

strahlungsundurchlässig zu machen. Die resultierende mit öffnungen versehene Beschichtung stellt ein genau definiertes Abbild der Maske dar und dient daher als Hilfsmaske für nachfolgende Bestrahlungsschritte,to make radiopaque. The resulting Coating provided with openings represents a precisely defined image of the mask and therefore serves as a Auxiliary mask for subsequent irradiation steps,

Nach Herstellung der Hilfsmaske auf der Außenseite des Trägers wird auf dessen Innenseite ein im Bedarfsfall mit einer lichtabsorbierenden Schicht versehener Anzeigeschirm in Form eines Mosaikmusters aus Farbphosphorabscheidungen gebildet. Die nachfolgenden Prozeßschritte entsprechen generell bekannten Verfahrensschritten mit der wesentlichen Ausnahme, daß alle Bestrahlungen von photoempfindlichen Beschichtungen durch den die Hilfsmaske aufweisenden Träger erfolgen. Daraus ergeben sich besser definierte und gleichförmigere Phosphorabschei- ι⁵ düngen (und schwarzumrandete Öffnungen). Darüber hinaus sind die Belichtungszeiten sowie die Dicke und die Gleichförmigkeit der lichtempfindlichem Schicht relativ unkritisch. Bedeutungsvoll ist weiterhin, daß die Möglichkeit der Zerstörung der Maske wesentlich reduziert wird, da sie vor dem endgültigen Zusammenbau der Röhre lediglich einmal auf dem Träge^ir montiert wird.After the auxiliary mask has been produced on the outside of the carrier, a display screen, provided with a light-absorbing layer if necessary, in the form of a mosaic pattern of color phosphor deposits is formed on the inside thereof. The following process steps generally correspond to known process steps with the essential exception that all irradiation of photosensitive coatings takes place through the carrier having the auxiliary mask. This results in better defined and more uniform phosphor deposits ι ⁵ fertilize (and black-rimmed openings). In addition, the exposure times and the thickness and uniformity of the photosensitive layer are relatively uncritical. Meaningful is further characterized in that the possibility of destruction of the mask is substantially reduced since it is assembled before the final assembly of the tube only once ^ir on the carrier.

Das vorstehend definierte Verfahren besitzt eine Anzahl von Vorteilen, von denen einige oben schon erwähnt wurden. Beispielsweise ergibt die Verwendung einer Hilfsmaske bei der Schirmherstellung einer Schattenmasken-Farb-Kathodenstrahlröhre verbesserte Ausbeuten und führt zu einer Reduzierung der Kosten, da die Anzahl der Handhabungen der Schattenmaske reduziert wird. Die Positionierung der Phosphorabscheidungen wird verbessert, da die relative Lage zwischen der Frontplatte und der Bestrahlungsmaske fest bleibt Darüber hinaus gewährleistet die Bestrahlung der verschiedenen photoempfindlichen Schichten durch Glas, weiche bei bekannten Verfahren inpraktikabel ist, besser definierte gleichförmigere Abscheidungen, wobei auch die Schichtgleichförmigkeit relativ unkritisch istThe method defined above has a number of advantages, some of which are discussed above mentioned. For example, the use of an auxiliary mask in screen manufacture results in a Shadow mask color cathode ray tube improved yields and leads to a reduction in Cost because the number of manipulations of the shadow mask is reduced. The positioning of the Phosphorus deposition is improved because the relative position between the front plate and the irradiation mask remains fixed Irradiation of the various photosensitive layers through glass, soft in known processes is impractical, better defined, more uniform deposits, with layer uniformity as well is relatively uncritical

Eine Ausgestaltung der Erfindung ist im Anspruch 2 gekennzeichnetAn embodiment of the invention is set out in claim 2 marked

Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Figuren der Zeichnung näher erläutertThe invention is explained below using an exemplary embodiment in conjunction with the figures the drawing explained in more detail

F i g. 1 bis 9 der Zeichnung zeigen dabei Teilschnittdarstellunpen zur Erläuterung verschiedener Verfahrensschritte. F i g. 1 to 9 of the drawing show partial sectional representations to explain various process steps.

Das Ausführungsbeispiel betrifft die Herstellung eines mit einer schwarzen Umrandung versehenen Schirms einer dreifarbigen Schattenmasken-Kathoden- so strahlröhre, in der die Phosphorabscheidungen die Form von kleinen Punkten besitzen. In bekannter Weise besitzt der Kolben einer derartigen Röhre eine als Träger dienende transparente Frontplatte, welche aus Zweckmäßigkeitsßründen der Schirmherstellung anfänglich vom Haupthals der Röhre getrennt ist. Ein TdI einer derartigen Frontplatte 10 ist in F i g. 1 dargestellt.The embodiment relates to the production of one provided with a black border Screen of a three-colored shadow mask cathode so Radiation tube in which the phosphorus deposits are in the form of small dots. In a familiar way the piston of such a tube has a transparent front plate serving as a carrier, which is made of For the sake of convenience in making the screen, it is initially separated from the main neck of the tube. A TdI such a front panel 10 is shown in FIG. 1 shown.

Das Verfahren zur Herstellung eines Anzeigeschirms auf dem Träger 10 umfaßt als ersten Hauptschritt die Herstellung einer Hilfsmaske, d. h. eines Abbildes einer Maske auf einer Außenseite 11 des Trägers. Dieser Verfahrensschritt läuft in folgender Weise ab. Nach einer chemischen Reinigung des Trägers 10 wird auf die Außenseite 11 eine Schicht 12 aus lichtempfindlichem Material aufgebracht Diese Schicht wird durch ein Material gebildet, dessen Löslichkeitseigerschaften durch Belichtung änderbar sind. Im vorliegenden Aiisführungsbeispiel wird die Schicht 12 durch ein Material gebildet, das nach einer derartigen Bestrahlung in einem vorgegebenen Lösungsmittel unlöslich ist Ein speziell geeignetes Material ist mit Ammoniumdichromat sensitivierter Polyvinylalkohol, welcher nach Bestrahlung mit ultraviolettem Licht wasserunlöslich wird. Aus noch zu erläuternden Gründen soll die Schicht 12 in jedem Fall keine Ingredientien enthalten, welche sich bei normalen Ausheiztemperaturen für die Röhre nicht leicht verflüchtigen. Auf die gesamte Außenseite 11 des Trägers 10 wird also eine Schicht 12 aus sensitiviertem Polyvinylalkohol aufgebracht Nach Trocknung dieser Schicht 12 wird in üblicher Weise im Abstand von einer Innenseite 13 des Trägers 10 eine konventionelle Schattenmaske 14 entfernbar angeordnet Die Anordnung aus Schattenmaske und Träger wird sodann zur Bestrahlung in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine geeignete Lichtquelle enthält, die zur Bestrahlung der Innenseite der photoempfindlichen Schicht 12 durch Schattenmaskenöffnungen 15 chemisch -a irksame Strahlung auf den Träger 10 strahltThe method of manufacturing a display screen on the support 10 includes as a first major step Production of an auxiliary mask, d. H. an image of a mask on an outer side 11 of the carrier. This Process step takes place in the following way. After a chemical cleaning of the carrier 10 is on the Outside 11 a layer 12 of light-sensitive material is applied. This layer is through a Formed material whose solubility properties can be changed by exposure. In the present As an exemplary embodiment, the layer 12 is formed by a material which, after such irradiation Is insoluble in a given solvent. A particularly suitable material is ammonium dichromate sensitized polyvinyl alcohol, which is insoluble in water after irradiation with ultraviolet light will. For reasons to be explained, the layer 12 in any case do not contain any ingredients that would be useful for the tube at normal bake-out temperatures do not evaporate easily. A layer 12 is therefore made on the entire outside 11 of the carrier 10 sensitized polyvinyl alcohol applied after This layer 12 is dried in the usual manner at a distance from an inner side 13 of the carrier 10 conventional shadow mask 14 removably arranged. The arrangement of shadow mask and carrier is then placed in an irradiation chamber for irradiation, which contains a suitable light source, those for irradiating the inside of the photosensitive layer 12 through shadow mask openings 15 chemically -a irksame radiation on the carrier 10 radiates

Die Bestrahlung dient dazu, in d<„- Schicht 12 durch Bestrahlung der gesamten Schichtfiäche mit Ausnahme von den öffnungen 15 zugeordneten unbestrahlten Bildbereichen 12a ein mit der Schattenmaske 14 korreliertes latentes Bild zu erzeugen. Dies kann durch eine einzige Bestrahlung unter Verwendung einer kleinen gerichteten Lichtquelle erfolgen, welche längs einer Achse, die der zentralen Längsachse der Kathodenstrahlröhre entspricht, in einem vorgegebenen optischen Abstand von der photoempfindlichen Schicht angeordnet ist Eine derartige Lichtquelle ergibt jedoch ein vergrößertes Bild der Schattenmaskenöffnungen. Unbestrahlte Bildbereiche 12a, welche kleiner als die öffnungen 15 sind, können durch Bestrahlung der Schicht 12 unter Verwendung einer ringförmigen Lichtquelle erhalten werden. Dabei kann ein strahlender Ring, welcher in einem geeigneten Abstand von der Schicht 12 angeordnet ist, durch die öffnungen der benachbarten Schattenmaske als Muster νοΛ sich überlappenden Ringen abgebildet werden, wobei unbestrahlte Bereiche verbleiben, welche kleiner als die Öffnungen sind. Eine derartige Bestrahlung ist graphisch in F i g. 1 dargestellt, wobei die von einer (nichtdargestellten) ringförmigen Lichtquelle ausgestrahlten Lichtstrahlen sich überlappende ringförmige Bereiche der Schicht 12 bestrahlen, wobei die unbestrahlten Bildbereiche 12a verbleiben.The purpose of the irradiation is to penetrate into layer 12 Irradiation of the entire layer surface with the exception of the non-irradiated associated with the openings 15 Image areas 12a to generate a latent image correlated with the shadow mask 14. This can be done by a single irradiation can be carried out using a small directional light source, which is longitudinal an axis corresponding to the central longitudinal axis of the cathode ray tube at a predetermined optical distance from the photosensitive Layer is arranged. Such a light source, however, gives an enlarged image of the shadow mask openings. Unirradiated image areas 12a, which are smaller than the openings 15, can be removed by irradiating the Layer 12 can be obtained using an annular light source. This can be a radiant Ring, which is arranged at a suitable distance from the layer 12, through the openings of the neighboring shadow mask as a pattern νοΛ itself overlapping rings, leaving unexposed areas that are smaller than the Openings are. Such exposure is graphically shown in FIG. 1 shown, with that of a (Not shown) ring-shaped light source emitted light beams overlapping ring-shaped Irradiate areas of the layer 12, the non-irradiated image areas 12a remaining.

Nach der Bestrahlung wird die Maske 14 entfernt und die Schicht 12 durch Waschen des Trägers mit Wasser entwickelt Die unbestrahlten Bildbereiche 12a sind in Wasser löslich und werden daher durch den Waschprozeß entfernt Die bestrahlten Bereiche der Schicht sind durch die Bestrahlung wasserunlöslich geworden und verb^lfcit!en daher an ihren Stelisn. Nach dem Trocknen wird die entwickelte Schicht aus Polyvinylalkohol mit einer FormaldehyiJiösung behandelt um sie auszuhärten und ihre Abreibfestigkeit zu erhöhen. Der Träger wird sodann (für zwei Stunden bei 8O⁰C) ausgeheizt, um Restfeuchtigkeit zu entfernen und die Schicht 12 weiter auszuhärten. In diesem Zustand ist die Schicht 12 aus Polyvinylalkohol relativ klar, Damit die Schicht als Bestrahlungsmaske wirken kann, muß der klare Polyvinylalkohol für chemisch wirksame Strahlung relativ undurchlässig gemacht werden. Zu diesem Zweck wird die Schicht 12 mit einem geeigneten Farbstoff bzw. einem Pigment behandelt. Nach diesem Schritt zur Herstellung der Strahlungsundurchiässigkeit wird der Träger 10 erneut in Wasser gespült und (für 2 hAfter irradiation, the mask 14 is removed and the layer 12 developed by washing the support with water, the unexposed image areas 12a are soluble in water and therefore through the washing process removes the exposed areas of the layer become water-insoluble by the irradiation and verb ^l FCIT! therefore at their stelisn. After drying, the developed layer of polyvinyl alcohol is treated with a formaldehyde solution in order to harden it and increase its abrasion resistance. The carrier is then dried by heating (for two hours at 8O ⁰ C), to remove residual moisture and to further cure the layer 12th In this state, the layer 12 of polyvinyl alcohol is relatively clear. In order for the layer to act as a radiation mask, the clear polyvinyl alcohol must be made relatively opaque to chemically active radiation. For this purpose, the layer 12 is treated with a suitable dye or pigment. After this step to produce the radiation impermeability, the carrier 10 is rinsed again in water and (for 2 h

bei 80°C) getrocknet, um die Bildung einer Hilfsmaske 16 auf der Außenseite Il abzuschließen. Wie Fig. 2 zeigt, besitzt die Maske 16 relativ strahlungsundurchlässige Bereiche 17, sowie mehrere lichtdurchlässige öffnungen 18, welche ein zum Muster der öffnungen in der Schattenmaske 14 korreliertes Muster bilden.at 80 ° C) to form an auxiliary mask 16 complete on the outside Il. As FIG. 2 shows, the mask 16 is relatively radio-opaque Areas 17, as well as several light-permeable openings 18, which are used to pattern the openings in of the shadow mask 14 form a correlated pattern.

Der nächste Schritt des Verfahrens besteht in der Bildung eines schwarzen Randmusters auf der Innenseite 13 des Trägers 10. Aus der Vielzahl von möglichen Verfahren zur Herstellung eines derartigen Musters kommt hier ein Verfahren zur Anwendung, das mit der Aufbringung einer aus mit Dichromat sensitiviertem Polyvinylalkohol bestehenden Schicht 19 auf die Innenseite des Trägers beginnt. Nach Trocknung der Schicht 19 wird der Träger in eine Bestrahlungskammer eingebracht, welche eine kleine gerichtete Lichtquelle enthält, deren Lage mit einer Elektronenkanone in der fertigen Kathodenstrahlröhre korreliert ist. Wie F i g. 3 zeigt, werden Punktbereiche 19a der Polyvinylalkohol-Schicht sodann durch die Öffnungen der Hillsmaske 16 und den Träger 10 belichtet. Nach einer neuerlichen Einstellung der Lichtquelle in eine Stellung, welche mit der Stellung einer zweiten Elektronenkanone korreliert ist, werden Punktbereiche 196 entsprechend bestrahlt. Eine abschließende Bestrahlung von weiteren Punktbereichen (welche in den Zeichnungen aus Übersichtlichkeitsgründen nicht dargestellt sind) erfolgt mit der Lichtquelle in einer dritten auf eine Elektronenkanone korrelierten Stellung. Der Träger wird sodann in Wasser gewaschen, um die nicht-bestrahlten Teile der Schicht 19 zu entfernen, wodurch ein Muster aus Polyvinylalkohol-Punkten auf der Innenseite 13 des Trägers verbleibt, wie dies in Fig.4 dargestellt ist. Gemäß Fig.5 wird sodann auf die Innenseite des Trägers eine die Polyvinylalkohol-Punkte bedeckende Schicht 20 aus anorganischem, lichtabsorbierendem Material, beispielsweise eine kolloidale Graphitsuspension aufgebracht. Nach Trocknung der lichtabsorbierenden Graphitschicht wird sodann ein mit dem Polyvinylalkohol reagierendes chemisches Abhebemittel aufgebracht, um die Punkte und die darüberliegenden Teile der Schicht 20 abzuheben. Als Abhebemittel eignet sich ir*a I Äriini, wnn mit CnUtvafaleütiPA nttiuierlem bracht werden, welche für die fertige Schirmstruktur erforderlich ist. Das Verfahren zur Aufbringung der Phosphorabscheidungen entspricht dem Verfahren zur Bildung der Punktbereiche 19a und I9& Gemäß F i g. 7 wird auf die gesamte Innenseite des Trägers eine photoaushärtbare Aufschlämmung von rotem, grünem oder blauem Phosphor als Schicht 22 aufgebracht, wonach durch die Offnungen 18 in der Hilfsmaske 16 mittels einer kleinen oder »punktförmigen« Quelle fürThe next step in the process is to create a black border pattern on the inside 13 of the carrier 10. From the multitude of possible methods for producing such a pattern a method is used here, which involves the application of a dichromate-sensitized Polyvinyl alcohol existing layer 19 begins on the inside of the carrier. After drying the Layer 19, the carrier is placed in an irradiation chamber, which is a small directional light source contains, the position of which is correlated with an electron gun in the finished cathode ray tube. Like F i g. 3 shows, point areas 19a of the polyvinyl alcohol layer are then passed through the openings of the hill mask 16 and the carrier 10 is exposed. After a new setting of the light source in a position, which with is correlated to the position of a second electron gun, point areas 196 are irradiated accordingly. A final irradiation of further point areas (which are shown in the drawings for reasons of clarity not shown) takes place with the light source in a third on an electron gun correlated position. The support is then washed in water to remove the non-irradiated parts of the Remove layer 19, leaving a pattern of polyvinyl alcohol dots on the inside 13 of the The carrier remains, as shown in Figure 4. According to Figure 5 is then on the inside of the Supports a layer 20 of inorganic, light-absorbing material covering the polyvinyl alcohol dots Material, for example a colloidal graphite suspension applied. After drying the light-absorbing A chemical lifting agent that reacts with the polyvinyl alcohol is then applied to the graphite layer, in order to lift off the points and the overlying parts of the layer 20. As a lifting means is suitable ir * a I Äriini, wnn with CnUtvafaleütiPA nttiuierlem be brought, which is required for the finished umbrella structure. The procedure for applying the Phosphorus deposits correspond to the method for forming the point areas 19a and 19 & according to FIG. 7th a photocurable slurry of red, green is created on the entire inside of the support or blue phosphorus applied as layer 22, after which through the openings 18 in the auxiliary mask 16 by means of a small or "punctiform" source for

ίο chemisch wirksame Strahlung, welche an einer mit der Stelle der richtigen Elektronenkanone korrelierten Stelle angeordnet ist, eine Bestrahlung erfolgt. Sodann wird der Träger zur Entfernung der unbestrahlten Teile der Schicht 22 gewaschen, wodurch punktförmige Farbphosphorabscheidungen 22a verbleiben, welche die Bereiche 13a auf der Innenseite des Trägers bedecken. Das Verfahren wird sodann zur Abscheidung von Phosphorpunkten mit einer anderen Farbe in Bereichen 13f> auf der Innenseite des Trägers wiederholt, wie dies in F i g. 8 dargesteiit ist.ίο chemically effective radiation, which at one with the Position of the correct electron gun correlated position is arranged, an irradiation takes place. Then the support is washed to remove the non-irradiated parts of the layer 22, thereby punctiform Color phosphor deposits 22a remain, which cover the areas 13a on the inside of the carrier. The process is then used to deposit phosphor dots of a different color in areas 13f> repeated on the inside of the carrier, as shown in FIG. 8 is shown.

Punkte eines Phosphors mit einer dritten Farbe werden sodann in der gleichen Weise abgeschieden.Dots of phosphor of a third color are then deposited in the same manner.

Der resultierende mit Schwarzumrandungen versehene Schirm enthält in diesem Zustand eine lichtabsorbierende Matrix 21 mit Phosphorpunkten unterschieclicher Primärfarben in den öffnungen dieser Matrix. Sodann wird eine dünne Schicht 24 aus Aluminium in konventioneller Weise auf den Schirm aufgebracht, wonach die mit dem Schirm und der Hilfsmaske versehene Träger der üblichen Hochtemperatur-Ausheizung ausgesetzt wird, um organische Komponenten, wie beispielsweise den Polyvinylalkohol in den punktförmigen Phosphorabscheidungen zu entfernen. Bei dieser Ausheizung wird auch die Hilfsmaske 16 von der Außenseite 12 des Trägers 10 entfernt, wodurch eine Schirmstruktur nach F i g. 9 verbleibtThe resulting screen, provided with black borders, contains a light-absorbing one in this state Matrix 21 with phosphor points of different primary colors in the openings of this matrix. Then a thin layer 24 of aluminum is applied to the screen in a conventional manner, after which the carrier provided with the screen and the auxiliary mask is subjected to the usual high-temperature baking is exposed to organic components, such as removing the polyvinyl alcohol in the point-like phosphorus deposits. at this heating, the auxiliary mask 16 is removed from the outside 12 of the carrier 10, whereby a Umbrella structure according to FIG. 9 remains

Neben der Herstellung eines schwarzumrandeten Punktschirms ist das beschriebene Verfahren auch für andere Typen von Farbanzeigeschirmen, wie beispielsweise Schirme mit nicht matrizierten Punkten oder Schlitzmaskenröhren anwendbar, wobei entsprechende Modifikationen des oben erläuterten Ausführungsbeicniffclc /foe Verfahrene mAirlirh «inH R^icniplcurpicp kannIn addition to the production of a black-rimmed dot screen, the method described is also suitable for other types of color display screens such as screens with non-matrixed dots or Slotted mask tubes can be used, with corresponding modifications of the embodiment explained above / foe Verfahrene mAirlirh «inH R ^ icniplcurpicp can

Wasserstoffperoxid. Nach der Behandlung mit der Peroxidlösung wird die mit Graphit beschichtete Fläche des Trägers in Wasser gewaschen, wodurch eine Matrix 21 aus lichtabsorbierendem Material verbleibt, welche Elementenbereiche 13a und 136 auf der Innenseite umgibt, wie dies in F i g. 6 dargestellt ist.Hydrogen peroxide. After the treatment with the peroxide solution, the surface coated with graphite becomes of the support washed in water, leaving a matrix 21 of light-absorbing material, which Surrounding element areas 13a and 136 on the inside, as shown in FIG. 6 is shown.

In diesem Zustand des Trägers können nun die verschiedenen Farbphosphorabscheidungen aufgeeine Hilfsmaske dadurch hergestellt werden, daß eine dünne Schicht aus einem geeigneten Metall, wie beispielsweise Chrom auf ein Muster von Polyvinylalkohol-Punkten aufgedampft wird, wonach die Punkte und die über diesen liegenden Bereiche der Metallbeschichtung in ähnlicher Weise entfernt werden, wie dies oben in Verbindung mit der Herstellung der lichtabsorbierenden Matrix beschrieben wurde.In this state of the support, the various color phosphor deposits can now be recorded Auxiliary mask can be produced by making a thin layer of a suitable metal, such as For example, chrome is vapor-deposited onto a pattern of polyvinyl alcohol dots, after which the dots and the overlying areas of the metal coating are removed in a manner similar to that above in connection with the manufacture of the light absorbing matrix.

For this purpose 2 sheets of drawings

Claims

Patent claims:

1, method of making a picture pattern? on a surface of a transparent support forming the faceplate of an image display screen the following procedural steps carried out in the order given;

a) a mask is arranged between a light source and the front plate, which is a dem Pattern corresponding to the desired image pattern with radiation-permeable areas having,

b) a first photosensitive mask is placed on the outside of the front panel to produce an auxiliary mask Layer applied,

c) the photosensitive layer on the outside of the faceplate is through the mask openings and exposed through the faceplate and the exposed layer for developing the the auxiliary mask handles the image,

d) a second photosensitive layer is applied to the inside of the front panel, from a light source located outside the outer surface of the faceplate through the Front panel is exposed through,

e) the image pattern on the second photosensitive layer is developed,

The features a, rf and e form the generic term and the features b and c form the characterizing part.

2. The method according to claims 1, characterized in that that the auxiliary mask (16, 17, 18) is obtained after the development of the image pattern.