DE2111561A1 - Process for producing an image - Google Patents

Process for producing an image

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DE2111561A1 DE19712111561 DE2111561A DE2111561A1 DE 2111561 A1 DE2111561 A1 DE 2111561A1 DE 19712111561 DE19712111561 DE 19712111561 DE 2111561 A DE2111561 A DE 2111561A DE 2111561 A1 DE2111561 A1 DE 2111561A1
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Description

DR. R. POSCHENRIEDIRDR. R. POSCHENRIEDIR

DR. E. BOElTNER
DIPL.-ING. H.-J. MÜLLER
DR. E. BOELTNER
DIPL.-ING. H.-J. MÜLLER

Patentanwalt· rr ™ /qPatent Attorney · rr ™ / q

8 MÜNCHEN 19 HJM/S 8 MUNICH 19 HJM / S

Lueäe-Gralin-Straße 3· „Lueäe-Gralin-Strasse 3 "

Teief·· 4437J6 . Gase Teief 4437J6. Gases

Energy Conversion Devices, Inc., 1675 West Maple Road, Troy, Mich.48084 (V.St.A.)Energy Conversion Devices, Inc., 1675 West Maple Road, Troy , Mich. 48084 (V.St.A.)

Verfahren zur Herstellung einer AbbildungProcess for producing an image

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Abbildung, insbesondere auf ein Kopierund Druckverfahren. Es kann dazu dienen, viele Kopien von einem Original herzustellen oder in einem Datenverarbeitungssystem gespeicherte Daten auszudrucken. Als geeignete Technik zur Herstellung von Duplikatkopien von einer Originalabbildung hat sich die Photooff set-Lithographie erwiesen. Das Verfahren verwendet eine lichtempfindlichte Platte, die einem starken Licht ausgesetzt ist, das durch einen transparenten Film hindurchscheint. Die Abbildung wird durch photochemisohe Wirkung auf die Platte übertragen. Das Endergebnis ist eine Platte, die in der Lage ist, konsistente bzw. fette Farbe bzw. Tinte aufzunehmen, sobald sie zum Drucken vorgesehen ist, und nur Wasser aufzunehmen, wenn sie nicht zum Drucken bestimmt ist. Dieses Verfahren erfordert die Verwendung von Chemikalien und ist nicht reversibel. Demgemäß kann die Platte nicht wieder_verwendet werden, und sie eignet sich nicht für einen völlig automatisierten Vorgang. Außerdem ist dies kein Verfahren, das an die sog. ON-LINE-Verwendung bei Datenverarbeitungssystemen bzw. an die mitlaufende Datenverarbeitung als Ausgangsdrucker anpaßbar i3t.. AußerdemThe invention relates to a method for producing an image, in particular to a copier and Printing process. It can be used to make many copies of an original or in a data processing system print out saved data. As a suitable technique for making duplicate copies Photo offset lithography has proven to be an original illustration. The procedure used a photosensitive plate that emits strong light is exposed that shines through a transparent film. The illustration is made by photochemisohe Transfer the effect to the plate. The end result is a plate that is able to be consistent or bold To absorb paint or ink as soon as it is intended for printing and only to absorb water when it is is not intended for printing. This procedure requires the use of chemicals and is not reversible. Accordingly, the disk cannot be re-used and it does not lend itself to a fully automated process. Besides, this is not a Method that is based on the so-called ON-LINE use in data processing systems or adaptable to the concurrent data processing as output printer i3t .. In addition

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können keine Korrekturen vorgenommen werden, sobald die Platte einmal belichtet ist.no corrections can be made once the plate has been exposed.

Eine der Hauptaufgaben der vorliegenden Erfindung besteht darin, neue und verbesserte Arbeitsweisen zur Herstellung einer Abbildung auf einer Fläche zu schaffen. Die Fläche bzw. Oberfläche weist eine änderbare Empfindlichkeit gegenüber Flüssigkeit auf, die an einigen Teilen der Oberfläche, jedoch nicht an anderen, anhaftet. Die Lösung kann Farbe oder Tinte enthalten, die unmittelbar an der Oberfläche feststellbar bzw. sichtbar sind, oder die Farbe bzw. Tinte können auf eine Abbildungsfläche, wie ein Dokument oder dgl., durch direktes Drucken oder durch Offset-Druckverfahren übertragbar sein.One of the main objects of the present invention is to provide new and improved modes of operation to create an image on a surface. The area or surface has a changeable sensitivity to liquid on some parts of the surface, however not attached to others. The solution may contain paint or ink that acts directly on the Surface are detectable or visible, or the color or ink can be on an imaging surface, such as a document or the like., By direct Print or be transferable by offset printing processes.

So ist beispielsweise eine Druckplatte mit einem amorphen Halbleitermaterial überzogen, das in der Lage ist, zwischen einem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand und einem kristallinen oder geordneterem Zustand in Abhängigkeit von Licht umzuschalten. In dem kristallinen oder stärker geordnetem Zustand ist die Oberfläche des Materials rauh oder körnig bzw. granuliert, während sie im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand glatter ausgebildet ist. Lösungen adhärieren an der rauhen Oberfläche des Materials, haften jedoch nicht an der glatten Oberfläche an. Farbe bzw. Tinte kann unmittelbar mit dem Material verbunden bzw. daran befestigt oder auf ein Dokument oder eineFor example, a printing plate is coated with an amorphous semiconductor material that is used in the Is capable of being between a generally amorphous or disordered state and a crystalline one or a more orderly state depending on the light. In the crystalline or more ordered Condition, the surface of the material is rough or grainy or granulated, while it is in the general amorphous or disordered state is formed smoother. Solutions adhere to the rough surface of the material, but do not adhere to the smooth surface. Color or ink can be directly connected or attached to the material or on a document or a

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Offset-Walze übertragen werden. Das Material kann gereinigt und in einen seiner Zustände zurückgestellt werden, wenn es für die Aufzeichnung einer anderen Abbildung vorbereitet wird.Offset roller are transferred. The material can be cleaned and returned to one of its states when it is prepared for recording another figure.

Ein Beispiel einer Materialgruppe, die Strukturänderungen aufweist, sind sogenannte amorphe Halbleitermaterialien, die in der US-PS 3 271 591 beschrieben und dargestellt sind. Diese Materialien werden nach dem älteren PatentAn example of a material group, the structural changes are so-called amorphous semiconductor materials described in US Pat. No. 3,271,591 and are shown. These materials are named after the earlier patent

(Patentanmeldung zur Bildung von(Patent application for the formation of

Druckplatten verwendet und nach der US-PS 3 530 441 für Informationsspeichersysteme benutzt. Amorphe Halbleitermaterialien können in Abhängigkeit von der Anwendung elektromagnetischer Energie, wie eines Lichtstrahls, eines Elektronenstrahls oder elektrischen Stromes, und auch in Abhängigkeit von Energie, wie Wärme, zwischen zwei stabilen Zuständen geschaltet werden. Wie in größeren Einzelheiten in den o.g. Patentschriften und dem älteren Patent beschrieben, sind amorphe Halbleitermaterialien vorzugsweise strukturpolymer. Sie unterliegen Strukturänderungen, die anordnungs- bzw. konstellationsmäßige und gestaltliche Änderungen in der Atomstruktur einschließen. In einem Zustand ist das Material im wesentlichen ungeordnet und in allgemeinen amorph und hat nur einen bestimmten Grad lokaler Ordnung und/oder lokalisierter Bindung zwischen den Atomen. Im anderen Zustand ist die Atomstruktur des Materials in eine andere bzw. unterschiedliche lokale Ordnung und/oder lokalisierte Bindung geändert, beispielsweise in RichtungPrinting plates are used and used for information storage systems according to U.S. Patent No. 3,530,441. Amorphous Semiconductor materials can, depending on the application of electromagnetic energy, such as one Light beam, electron beam or electric current, and also depending on energy, like heat, can be switched between two stable states. As in greater detail in the above Patent specifications and the earlier patent described, amorphous semiconductor materials are preferably structural polymer. They are subject to structural changes, the arrangement, constellation and design Include changes in atomic structure. In one state the material is essentially disordered and in general amorphous and has only a certain degree of local order and / or more localized Bond between atoms. In the other state the atomic structure of the material is in another or different local order and / or localized binding changed, for example in direction

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zu einem stärker geordneten kristallin-ähnlichen Zustand, in dem eine Anzahl von Atomen in längeren Ketten miteinander verbunden- sind. Dieses Material kann anisotrop sein, d.h. sich in einem Zustand befinden, wenn dessen Eigenschaften längs einer vorgegebenen Achse gemessen werden und sich in einem anderen Zustand befinden, wenn deren Eigenschaften längs einer anderen Achse gemessen werden. Zum Zwecke der Erläuterung der vorliegenden Erfindung wird im folgenden einer der Zustände als der im allgemeinen amorphe oder ungeordnete Zustand und der andere Zustand als der kristalline oder stärker geordnete Zustand bezeichnet. Nach der vorliegenden Erfindung wird der Unterschied in der Struktur der Materialien, wie amorphen Halbleitermaterialien, dazu verwendet, neue und verbesserte Kopier- und Drucktechniken zu schaffen, die keine Photochemikalien erfordern und die reversibel, korrigierbar und wiederverwendbar sind.to a more ordered crystalline-like state in which a number of atoms are in longer Chains are connected to each other. This material can be anisotropic, i.e. in one state if its properties are measured along a given axis and are in are in a different state when their properties are measured along a different axis. For the purpose of explaining the present invention, one of the states is hereinafter referred to as the generally amorphous or disordered state and the state other than crystalline or referred to as a more ordered state. According to the present invention, the difference in the Structure of materials, such as amorphous semiconductor materials, used new and improved To create copying and printing techniques that do not require photochemicals and that are reversible, correctable and are reusable.

Nach einer Ausbildung des Verfahrens nach der Erfindung wird ein LASER-Strahl verwendet, um auf der Oberfläche eines amorphen Halbleitermaterials zu schreiben, das sich anfänglich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befindet. Der LASER-Strahl erzeugt einen im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand, wo immer der Strahl das Material berührt. Ein Netzmittel bzw. eine benetzende oder befeuchtende Lösung wird der gesamten Oberfläche aufgegeben und haftet nur an den kristallinen oder stärker geordneten Bereichen an. Farbe bzw. Tinte oderAccording to an embodiment of the method according to the invention, a LASER beam is used to focus on the Surface of an amorphous semiconductor material that is initially in the crystalline or more orderly state. The LASER beam creates a generally amorphous or disordered one State wherever the beam touches the material. A wetting agent or a wetting or moisturizing agent Solution is applied to the entire surface and adheres only to the crystalline or stronger arranged areas. Color or ink or

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Tusche, die von der benetzenden Lösung abgegeben, abgestoßen bzw. abgewiesen werden, werden danach auf die gesamte Oberfläche aufgegeben, können jedoch nur an den "belichteten", im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Bereichen, anhaften. Eine Offset-Walze überträgt die Farbe auf ein Dokument, Schriftstück oder eine ähnliche Abbildungsfläche. Da das Material wieder in den anfänglichen kristallinen oder stärker geordneten Zustand zurückstellbar ist, kann die Druckplatte immer wieder von neuem wieder verwendet werden. Außerdem sind die Schreibgeschwindigkeiten mit den Ausdruckgeschwindigkeiten von Datenverarbeitungssystemen vereinbar, und die Erfindung kann demgemäß für solche Anwendungen verwendet werden.Indian ink that is released, repelled or rejected by the wetting solution are then removed abandoned on the entire surface, but can only on the "exposed", in general amorphous or disordered areas. An offset roller transfers the color to a document, Document or a similar illustration surface. Because the material is back in the initial crystalline or more ordered state can be reset, the printing plate can again and again can be used again. Also, the writing speeds are the same as the printing speeds of data processing systems compatible, and the invention can accordingly be used for such Applications are used.

Noch ein weiterer Vorteil der Erfindung ist die higkeit, unterschiedliche Tönungen bzw. Graustufen oder -schatten zu kopieren oder zu drucken. Dies kann beispielsweise durch Ändern des Energieinhalts im LASER- oder anderen elektromagnetischen Strahl bewirkt werden, um die Dichte der rauhen oder granulierten Oberflächenstruktur des Materials zu ändern.Yet another advantage of the invention is the ability to use different tones or gray levels or shadows to copy or print. This can be done, for example, by changing the energy content in the LASER or other electromagnetic beam caused to increase the density of the rough or granular Change the surface structure of the material.

Weitere Aufgaben, Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich' dem Fachmann im folgenden unter Bezugnahme auf die Ansprüche und Zeichnungen, in denen:Further objects, advantages and features of the invention will become apparent to those skilled in the art below Reference to the claims and drawings in which:

Fig. 1 ein Diagramm zeigt, das einen Kopierer darstellt, der eine Abbildung auf einer Druckplatte herstellt, indem durch einen trans-Fig. 1 is a diagram showing a copier making an image on a printing plate produced by a trans-

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parenten Film hindurchtretendes Licht benutzt wird;light passing through the parent film is used;

Fig. 2 einen vergrößerten Teilschnitt der Druckplatte von Fig. 1 zeigt;Fig. 2 is an enlarged partial section of the printing plate of Fig. 1 shows;

Fig. 3 eine schematische Darstellung eines "Ausgangsdruckers " zeigt, der eine Druckplatte bildet, die durch die Bewegung eines LASER-Strahls gesteuert wird;Figure 3 shows a schematic representation of an "output printer" employing a printing plate forms which is controlled by the movement of a LASER beam;

Fig. 4 eine vergrößerte Teilansicht der Druckplatte von Fig. 3 zeigt;Figure 4 shows an enlarged partial view of the pressure plate of Figure 3;

Fig. 5 ein Diagramm einer Druckplatte zeigt, in der Abbildungen durch elektrische Ströme gebildet sind; undFig. 5 shows a diagram of a printing plate in which imaging by electric currents are formed; and

Fig. 6 ein Wellenform-Diagramm zeigt, das die Stromimpulse darstellt, die in der Druckplatte von Fig. 5 verwendet werden.Fig. 6 is a waveform diagram showing the current pulses which are used in the printing plate of FIG.

Das Kopiersystem von Fig. \ verwendet eine Druckplatte 10 in Form einer rotierenden Trommel. Die zu kopierende Abbildung erscheint auf einem transparenten bzw. lichtdurchlässigen Film 12, der durch die Fokuslinie bzw. den Brennpunkt einer zylindrischen Linse 14 bewegt wird. Die Linse 14 bündelt Licht 16 von einer Lichtquelle 18. Das durch den Film 12 hindurchtretende Licht 16 wird durch eine sphärische Linse 20 gesammelt und auf der Oberfläche der Platte 10 wieder abgebildet. Die auf der Platte 10 herge-The copier system of Fig. 1 uses a printing plate 10 in the form of a rotating drum. The image to be copied appears on a transparent or translucent film 12 which is moved through the focal line or the focal point of a cylindrical lens 14. The lens 14 focuses light 16 from a light source 18. The light 16 passing through the film 12 is collected by a spherical lens 20 and imaged again on the surface of the plate 10. The produced on the plate 10

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stellte Abbildung wird mit Hilfe einer Walze 22 eingefärbt, und die eingefärbte Abbildung wird auf einen gummibedeckten Zylinder 24 übertragen, der ebenfalls synchron zur Platte 10 rotiert. Die Farbe wird dann vom Zylinder 24 auf ein Dokument 26 übertragen, das durch eine Gegendruckwalze 28 an den Zylinder 24 gedrückt wird.The illustrated figure is colored with the aid of a roller 22, and the colored figure is transferred to a rubber-covered cylinder 24, which also rotates synchronously with the plate 10. the Ink is then transferred from the cylinder 24 to a document 26 which is supported by an impression roller 28 is pressed against the cylinder 24.

Die Platte 10 ist aus einer amorphen Halbleiterschicht aufgebaut, die an einen strukturierten Stützzylinder 32 angelegt ist. Die Platte 10 ist in größeren Einzelheiten in Fig. 2 in einer teilweise vergrößerten Ansicht dargestellt, in der die gleichen Bezugsziffern für die gleichen Elemente wie in Fig. 1 verwendet sind. Das amorphe Halbleitermaterial 30 kann aus SeQ5 Te. ~ PtQ 1 ; SeQ,- Te. Q Ga1 0; oder anderen Materialien, wie den in der US-PS 3 271 591 und US-PS 3 530 441 beschriebenen, sein, die aus einem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand in einen kristallinen oder stärker geordneten Zustand in Abhängigkeit von Energie von der Lichtquelle 18 umgeschaltet werden können. Für amorphe Halbleitermaterialien kann die Lichtquelle 18 eine LASER- oder andere starke Lichtquelle sein. Das Material 30 kann sich anfangs in dem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand befinden und selektiv in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand geschaltet werden, um eine Abbildung, z.B. die Buchstaben ECD, wie in Fig. dargestellt, herzustellen. Die Abbildung ergibt uich aus der Erwärmung der Oberfläche des Materials 30 bis zu der Übergangetemperatür des amorphen HaIb-The plate 10 is constructed from an amorphous semiconductor layer which is applied to a structured support cylinder 32. The plate 10 is shown in greater detail in FIG. 2 in a partially enlarged view, in which the same reference numerals are used for the same elements as in FIG. 1. The amorphous semiconductor material 30 can be made of SeQ 5 Te. ~ Pt Q 1 ; Se Q , - Te . Q Ga 1 0 ; or other materials, such as those described in US Pat. No. 3,271,591 and US Pat. No. 3,530,441, which switch from a generally amorphous or disordered state to a crystalline or more ordered state in response to energy from the light source 18 can be. For amorphous semiconductor materials, the light source 18 can be a LASER or other strong light source. The material 30 may initially be in the generally amorphous or disordered state and selectively switched to the crystalline or more ordered state to produce an image such as the letters ECD as shown in FIG. The figure results from the heating of the surface of the material 30 up to the transition temperature of the amorphous half

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leiters. Me kristallinen Bereiche werden durch EGD repräsentiert und weisen eine rauhe oder körnige Oberfläche auf, während der Rest der Oberfläche des Materials 30 relativ glatt ist. Demgemäß benetzt die an der Walze 22 befindliche Farbe nicht die glatten Bereiche der Oberfläche des Materials 30; sie haftet aber an den rauhen oder körnigen Bereichen an, die durch die Buchstaben ECD dargestellt werden.head. Me crystalline areas are through EGD represents and have a rough or grainy surface while the rest of the surface of material 30 is relatively smooth. Accordingly, the ink located on the roller 22 wets not the smooth areas of the surface of the material 30; but it adheres to the rough or grainy areas represented by the letters ECD.

Durch mehrmaliges Drehen der Platte 10 und durch Wiedereinfärben der rauhen Bereiche des Materials 30 mit Hilfe der farbwalze 22 können weitere Kopien angefertigt werden. Sobald Drucken erwünscht ist, wird eine neue Abbildungswalze 22 durch einen Antrieb 34 zurückgeholt und die Oberfläche des Materials 30 wird an einer Reinigungsstation 36 vorbeigedreht, die einen Strahl geeigneter Reinigungsflüssigkeit oder einen Blasstrahl von Trockenluft aufweisen kann. Das Material 30 wird dann an einer Fokuslinie bzw. am Brennpunkt elektromagnetischer Energie hoher Intensität vorbeigeführt, die durch Zunahme der Intensität der Lichtquelle 18 erzeugbar ist. Dies bewirkt, daß sich die Temperatur an der Oberfläche des Materials 30 bis über dessen Schmelzpunkt erhöht. Wenn sich die Platte 10 dreht, wird die Oberfläche des Materials 30 rasch unter eine Lösch- bew. Kühlwalze 38 geführt, die mit Hilfe eines Antriebs 40 in Kontakt mit dem Material 30 gebracht wird. Der plötzliche Temperatursturz der Oberfläche des Materials 30 führt die kristallinen oder stärker geordneten Bereiche in den im allge- By rotating the plate 10 several times and by re-inking the rough areas of the material 30 with the aid of the inking roller 22, further copies can be made. As soon as printing is desired, a new imaging roller 22 is retrieved by a drive 34 and the surface of the material 30 is rotated past a cleaning station 36 which may have a jet of suitable cleaning liquid or a jet of drying air. The material 30 is then guided past a focus line or the focal point of high-intensity electromagnetic energy, which can be generated by increasing the intensity of the light source 18. This causes the temperature at the surface of the material 30 to rise above its melting point. When the plate 10 rotates, the surface of the material 30 is quickly guided under an erase-moving cooling roller 38 which is brought into contact with the material 30 with the aid of a drive 40. The sudden drop in temperature of the surface of the material 30 leads the crystalline or more ordered areas in the generally

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meinen amorphen oder ungeordneten Zustand zurück. Ein neuer transparenter Film 12 kann durch den Brennpunkt der Linse 14 bewegt und auf der Oberfläche des Materials 30 abgebildet werden, um eine neue Abbildung herzustellen, die durch die Walze 22 einfärbbar ist, nachdem der Antrieb 34 die Walze 22 in Berührung mit dem Material 3 0 gebracht hat.return to my amorphous or disordered state. A new transparent film 12 can through the The focal point of the lens 14 is moved and imaged on the surface of the material 30 in order to to produce a new image that can be colored by the roller 22 after the drive 34 has brought the roller 22 into contact with the material 30.

Fig. 3 zeigt eine andere Ausbildung der Erfindung zur Ausführung der Funktion eines nicht-aufschlagenden Druckers oder Lichtsetzers. Zur Bezeichnung gleicher Elemente wie in Fig. 1-3 sind gleiche Bezugsziffern verwendet. Die Abbildung wird auf der Platte 10 mit Hilfe eines LASER-Strahls 42 hergestellt, der durch eine Quelle 44 erzeugt wird. Der Strahl 42 wird mit Hilfe eines Modulators 46 intensitätsmoduliert. Nach dem Durchtritt durch den Modulator 46 wird der Strahl 42 mit Hilfe einer Abtast- bzw. Zerlegungseinrichtung 48 abgelenkt, der den Strahl 42 auf eine besondere Stelle an der Platte 10 richtet. Ein Datenverarbeitungssystem 50 steuert den Betrieb der Quelle 44, des Modulators 46 und der Ablenkeinrichtung 48 über eine Gruppe von Leitungen 52, 53 bzw. 54. Die Abbildung kann auf der Platte 10 durch eine Reihe von LASER-Impulsen gebildet werden, die über die Breite der Platte 10 entsprechend der Raster- bzw. Zeilenabtastung eines Fernsehempfängers abgelenkt bzw. ausgetastet werden. Der Strahl 42 kann auch abgelenkt werden, um eine kontinuierliche gekrümmte Spur bzw. Bahn zu bilden. Alternativ können alpha-Figure 3 shows another embodiment of the invention for performing the non-impact function Printer or light setter. To denote the same elements as in Figs. 1-3 are the same reference numbers are used. The image is made on the plate 10 with the help of a LASER beam 42 produced by a source 44. The beam 42 is generated with the aid of a modulator 46 intensity modulated. After passing through the modulator 46, the beam 42 is assisted a scanning or decomposition device 48 deflected, the beam 42 to a particular location directed to the plate 10. A data processing system 50 controls the operation of the source 44, des Modulator 46 and the deflector 48 via a group of lines 52, 53 and 54, respectively. The figure can be formed on the plate 10 by a series of LASER pulses transmitted over the Width of the plate 10 deflected according to the raster or line scan of a television receiver or blanked. The beam 42 can also be deflected to be continuous curved To form a track or path. Alternatively, alpha-

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numerische Charakteristik^ durch Anordnung einer Abdeckblende, Abschirmung bzw. Maske im Deflektor bzw. in der Ablenkeinrichtung 48 und durch Formen des IASER-Strahls 14 in die gewünschte Charakteristik vor dem Richten des Strahls 42 auf die Platte 10 gebildet werden.numerical characteristic ^ by the arrangement of a cover, shield or mask in the deflector or in the deflector 48 and by shaping the IASER beam 14 into the desired characteristic may be formed prior to directing the beam 42 onto the plate 10.

Pig. 4 zeigt eine typische Abbildung, die die Buchstaben ECD aufweist, die auf der Platte 10 des Systems von Fig. 3 aufgezeichnet sind. Für gleiche Elemente in den Pig. 3 und 4 sind gleiche Bezugszeichen verwendet. Bei diesem System befindet sich das amorphe Halbleitermaterial 30 anfangs im kristallinen oder stärker geordneten Zustand, und der Strahl 42 schaltet die Oberfläche des Materials 30 in den im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand um, der durch die Bereiche der Buchstaben ECD repräsentiert wird. Das Material 30 wird mit Hilfe des Strahls 42 über seinen Schmelzpunkt erhitzt und durch rasche Abstrahlung der Wärme in das umgebende Material abgekühlt. Beim Betrieb des Systems von Pig. 3 dreht sich die durch den Strahl 42 hergestellte Abbildung unter eine Walze 56, die der Oberfläche des Materials 30 eine Lösung zuführt. Diese lösung kann sich aus einer Mischung von Wasser und Alkohol in einem Verhältnis von etwa 60 $> Alkohol und 40 fo destilliertem Wasser zusammensetzen. Solch eine Lösung benetzt die Bereiche des Materials 30, die sich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befinden, aber haftet nicht an den Buchstaben ECD an, die sich im allgemein amorphen oder un-Pig. FIG. 4 shows a typical image comprising the letters ECD recorded on disk 10 of the system of FIG. For same items in the pig. The same reference numerals are used in 3 and 4. In this system, the amorphous semiconductor material 30 is initially in the crystalline or more ordered state and the beam 42 switches the surface of the material 30 to the generally amorphous or disordered state represented by the regions of the letters ECD. The material 30 is heated above its melting point with the aid of the jet 42 and cooled by rapidly radiating the heat into the surrounding material. When operating the system from Pig. 3, the image produced by the beam 42 rotates under a roller 56 which supplies a solution to the surface of the material 30. This solution can consist of a mixture of water and alcohol in a ratio of about 60 % alcohol and 40 % distilled water. Such a solution wets the areas of material 30 that are in the crystalline or more ordered state, but does not adhere to the letters ECD, which are generally amorphous or un-

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geordneten Zustand befinden. Nach dem Benetzen durch die Walze 56 wird die Abbildung unter die "Farbwalze 22 gedreht. Dort wird Farbe bzw. Tinte oder Tusche von denjenigen Bereichen der Oberfläche 30 abgestoßen, die durch die Lösung an der Walze 56 benetzt bzw. befeuchtet wurden. Die Farbe von der Walze 22 haftet an den Buchstaben ECD an, die nicht von der Lösung der Walze 56 benetzt sind. Die eingefärbte Abbildung wird dann auf den Zylinder 24 und daraufhin auf das Dokument 26 Übertragen.are in an orderly state. After wetting by the roller 56, the image is under the "Inking roller 22 rotated. There, paint or ink or Indian ink is drawn from those areas of the surface 30 repelled, which were wetted or moistened by the solution on the roller 56. the Ink from roller 22 adheres to the letters ECD that is not wetted by roller 56 solution are. The colored image is then on the cylinder 24 and then on the document 26 Transfer.

Zusätzliche Kopien können durch Weiterdrehen der Abbildung an der Oberfläche des Materials 30 unter die Walzen 56 und 22 erzeugt werden. Nachdem eine gewünschte Anzahl von Kopien hergestellt wurde, wird die Walze 56 mit Hilfe eines Antriebs 58 und die. Walze 22 mit Hilfe eines Antriebs 34 außer Eingriff gebracht. Die Reinigungsstation 36 wirkt derart, daß die durch die Walzen 22 und 56 niedergeschlagene Farbe und Lösung entfernt werden. Das Material 30 wird dann dadurch in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand zurückgestellt, daß die gesamte Oberfläche oder Teile derselben mit dem LASER-Strah^bestrichen werden. Der Strahl wird unter Steuerung durch das Datenverarbeitungssystem 50 mit Hilfe des Modulators 46 so eingestellt, daß die Temperatur an der Oberfläche dee Materials 30 bis zum Übergangspunkt ansteigt und dadurch bewirkt wird, daß der im allgemeinen amorphe oder ungeordnete Teil des Materials in den kristall!- nen oder stärker geordneten Zustand transformiertAdditional copies can be made by rotating the image on the surface of the material 30 under the rollers 56 and 22 are generated. After a desired number of copies have been made, is the roller 56 with the help of a drive 58 and the. Roller 22 out of engagement with the aid of a drive 34 brought. The cleaning station 36 acts so that the knocked down by the rollers 22 and 56 Paint and solution are removed. The material 30 is then thereby in the crystalline or more ordered state that the entire surface or parts of it with the LASER beam. The beam is set under the control of the data processing system 50 with the aid of the modulator 46 so that that the temperature at the surface of the material 30 rises to the transition point and is caused by the fact that the generally amorphous or disordered part of the material into the crystal! transformed into a more or less ordered state

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wird. Me Übergangstemperatür in amorphen Halbleitern befindet sich üblicherweise unterhalb der Schmelztemperatur. Nachdem die Oberfläche des Materials 30 wieder in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand zurückgeführt wurde, kann eine andere Abbildung durch Anwendung eines LASER-Strahls 4 2 hergestellt werden.will. Me transition temperature in amorphous semiconductors is usually below the melting temperature. After the surface of the material 30 is returned to the crystalline or more ordered state another image can be made by using a LASER beam 4 2.

Fig. 5 zeigt eine andere Arbeitsweise zur Herstellung einer Abbildung auf einer Druckplatte 60. Die Abbildung wird in dieuem Fall durch Anwendung von Wärme hergestellt, die durch elektromagnetische Energie in Form elektrischen Stromes erzeugt wird. Die Druckplatte 60 ist aus Glas oder einem anderen nicht-leitenden Träger 62 zusammengesetzt, der 7 darauf niedergeschlagene Widerstandssegmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, aufweist. Leiter 74, 75, 76, 77, 78, 79, öü, sind an eine Gruppe von Elektroden 84, 85, 86, 87, 88, 89, 90, 91, 92, 93, 94 angeschlossen, die die linden der Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 elektrisch kontaktieren. Amorphes Halbleitermaterial 30 ist über dem Oberteil der Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 und der Leiter 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81 niedergeschlagen.Fig. 5 shows another procedure for producing an image on a printing plate 60. In this case the image is produced by the application of heat generated by electromagnetic Energy is generated in the form of electric current. The pressure plate 60 is made of glass or another non-conductive support 62, the 7 deposited thereon Resistance segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, has. Head 74, 75, 76, 77, 78, 79, öü, are connected to a group of electrodes 84, 85, 86, 87, 88, 89, 90, 91, 92, 93, 94, which electrically contact the linden of the segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70. Amorphous semiconductor material 30 is over the top of segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 and ladder 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81 dejected.

Ein Zeichengenerator 98 versorgt die Leitungen 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81 mit Strom, die an die Druckplatte über eine Gruppe von Verbindungsstiften angeschlossen sind, die ermöglichen, daß die blatte vom Zeichengenerator 98 getrennt werden kann. An die Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 wird t?e-A character generator 98 supplies lines 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81 with electricity attached to the pressure plate via a group of connecting pins which enable the sheet to be separated from the character generator 98. At the segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 becomes t? e-

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lektiv bzw. wahlweise Strom angelegt, um dafür zu sorgen, daß ein oder mehrere der Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69,. 70 Wärme abstrahlen. So wird Strom vom Zeichengenerator 98 beispielsweise über die Leitung 78 durch die Elektrode 85, das Widerstandssegment 65, die Elektrode 84 und über die Leitung 74 zurück zur Masse geleitet. Der durch das V/iderstandssegment 65 geführte Strom bewirkt, daß dieses Segment Wärme abstrahlt. Die von dem Segment 65 abgestrahlte Wärme wird in einen Teil des amorphen Halbleitermaterials 30 übertragen, mit dem das Segment 65 überzogen ist.selectively or alternatively current is applied to ensure that one or more of the segments 64, 65, 66, 67, 68, 69 ,. 70 Radiate heat. For example, power from character generator 98 is over line 78 through electrode 85, the resistor segment 65, the electrode 84 and passed back to ground via the line 74. The through current carried by resistor segment 65 causes that segment to radiate heat. The one from that Heat radiated from segment 65 is transferred into part of the amorphous semiconductor material 30, with which the segment 65 is covered.

Nunmehr wird auf das in Fig. 6 gezeigte Wellenformdiagramm Bezug genommen, bei dem der Strom I entlang der. Ordinate und die Zeit T entlang der Abszisse aufgetragen sind. Der dargestellte Einstellimpuls 102 hat eine Dauer von etwa 10 ms und der gezeigte Rückstellimpuls 104 hat eine größere Intensität bzw. größere Stromstärke, aber eine kürzere Zeitdauer von etwa 10 us. Der Einstellimpuls 102 bewirkt, daß das die ausgewählten Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 bedeckende Material 30 in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand geschaltet wird, während der Hücksfcellimpuls 104 das Material 30 in den im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand im Anschluß an den plötzlichen Abfall des Rückstellimpulses 104 schaltet.Reference is now made to the waveform diagram shown in FIG Reference where the current I along the. Ordinate and time T along the abscissa are applied. The setting pulse 102 shown has a duration of approximately 10 ms and that shown Reset pulse 104 has a greater intensity or greater current strength, but a shorter period of time of about 10 us. The adjustment pulse 102 causes the selected segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 covering material 30 in the crystalline or more ordered state is switched, while the Hücksfcellimpuls 104 the material 30 in the im general amorphous or disordered state following the sudden fall of the reset pulse 104 switches.

In Betrieb kann die Druckplatte 60 von Fig. 5 so ausgebildet sein, daß sie sämtliche Zahlen von 0 bis 9 und einige Buchataben durch selektives Anlegen von Strom an die Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70In operation, the pressure plate 60 of FIG. 5 can be configured to include all of the numbers from 0 to 9 and some letters by selectively applying power to segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70

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bildet. Nachdem das amorphe Halbleitermaterial 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 in das geeignete Muster umgeschaltet ist, kann auf irgendeine der in Verbindung mit den Systemen von Fig. 1 und 3 beschriebenen Arbeitsweisen gedruckt werden. Die Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 können in irgendeiner geeigneten Form, einschließlich einer Matrix von Punkten, niedergeschlagen werden, die durch orthogonale Leiter gemäß den üblichen Matrixauswahlverfahren gewählt werden. Bei manchen Anwendungen kann es vorteilhaft sein, Strom direkt durch das amorphe Material zu leiten, um zu erwärmen, anstatt daß er durch einen darunterliegenden Widerstand, wie die Segmente 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70, geführt wird.forms. After the amorphous semiconductor material 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 in the appropriate pattern switched to any of those described in connection with the systems of Figs Working methods are printed. The segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70 can be in any appropriate shape, including a matrix of points, represented by orthogonal Conductors can be selected according to standard matrix selection procedures. In some applications it may be advantageous to pass current directly through the amorphous material in order to heat it instead of it through an underlying resistor, such as segments 64, 65, 66, 67, 68, 69, 70.

Bei den Systemen von Fig. 1, 3 und 5 kann auch sog. Grautöne-Drucken und -kopieren durchgeführt werden. So kann beispielsweise beim System von Fig. 1 die Intensität bzw. Stärke des Strahls 16, nachdem er durch den transparenten Film 12 hindurchgetreten ist, eine stark rauhe oder körnige Oberfläche erzeugen, wenn eine dunkle Abbildung gedruckt werden soll und eine weniger rauhe oder körnige Oberfläche hergestellt werden, wenn eine hellgraue Abbildung erwünscht ist. Die Farbe bzw. Tinte von der Walze 22 wird in einem Betrag anhaften, der vom Zustand der Oberfläche 30 abhängt. In entsprechender Weise kann das System von Fig. 3 betrieben werden, um durch Änderung der Intensität des LASER-Strahles 42 eine Grauskala bzw. Grautöne zu erzeugen. Dies kann dadurch erfolgen, daß Material 30 aus dem anfänglich kristallinen oder stärker geordneten Zustand in einenIn the systems of FIGS. 1, 3 and 5, so-called gray-tone printing and copying can also be carried out. For example, in the system of FIG. 1, the intensity or strength of the beam 16 after it has passed through the transparent film 12, creating a very rough or grainy surface, when a dark image is to be printed and a less rough or grainy surface can be produced if a light gray image is desired. The paint or ink from the roller 22 will adhere in an amount which depends on the condition of surface 30. In a corresponding way The system of FIG. 3 can be operated by changing the intensity of the LASER beam 42 to generate a gray scale or shades of gray. This can be done in that material 30 from the initially crystalline or more ordered state into a

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im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand in unterschiedlichen Beträgen geschaltet wird. Einige Reste von kristalliner oder stärker geordneter Struktur können in der Oberfläche des Materials 30 verbleiben, damit eine geringe Benetzung durch die auf der Walze 56 befindliche Lösung bewirkt wird. Demgemäß wird Farbe bzw. Tusche von der V/alze 22 nicht in so einem hohen Maße an solch einer Fläche anhaften, wie es an einer Fläche anhaften würde, die vollständig in den im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand geschaltet ist. Auf diese Weise kann die Grautönung bzw. Grauschattierung geändert werden, um unterschiedliche Kontraste in der Abbildung zu erzeugen, die letztlich auf dem Dokument 26 abgedruckt wird.generally amorphous or disordered state is switched in different amounts. Some residues of crystalline or more ordered structure can be found in the surface of the material 30 remain, so that a slight wetting is caused by the solution located on the roller 56 will. Accordingly, the ink from the V / alze 22 does not adhere to such a surface as much as it does to a surface which is completely switched to the generally amorphous or disordered state. on in this way the gray tint or shade of gray can be changed in order to achieve different contrasts of the image that will ultimately be printed on document 26.

Die Erfindung kann auch dazu verwendet werden, daß nur ein Teil der auf der Platte 10 hergestellten Abbildung wahlweise gelöscht bzw. getilgt wird. Nach Fig. 1 kann ein transparenter Film 12 mit transparenten Öffnungen in jenen Bereichen hergestellt werden, in denen eine Löschung bzw. Tilgung erfolgen soll. Nach Fig. 3 kann der LASER-Strahl 42 auf ausgewählte Bereiche des Materials 30 gerichtet werden, um bestimmte Charaktere oder Teile derselben zu löschen bzw. zu tilgen. Auf diese Weise können Korrekturen ohne Löschen bzw. Tilgen der gesamten Platte und Wiederabbilden des gesamten Musters vorgenommen werden.The invention can also be used to ensure that only part of the image produced on the plate 10 is optionally deleted or erased. According to Fig. 1, a transparent film 12 with transparent Openings are made in those areas in which a deletion or eradication takes place target. According to Fig. 3, the LASER beam 42 can selected areas of the material 30 can be directed to particular characters or portions thereof to be deleted or redeemed. In this way, corrections can be made without deleting or deleting the entire Plate and remapping of the entire pattern can be made.

Die Erfindung kann auch dazu vorwendet werden, daß ein permanentes Bild auf der Platte 10 durch Aufgeben von Farbe bzw. Tinte mit Hilfe der Walze 22 ge-The invention can also be used to create a permanent image on the plate 10 by applying of color or ink with the help of the roller 22

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bildet wird und die Farbe bzw. Tusche in der Lage sind zu trocknen, um eine fixierte bzw. fest-haftende, - permanente Aufzeichnung des Bildes herzustellen. In diesem Fall kann es erwünscht sein, Material 30 herzustellen, das von dem Stützträger 32 wieder entfernbar ist.is formed and the paint or ink are able to dry in order to create a fixed or firmly adhering, - establish permanent recording of the image. In this case it may be desirable to produce material 30, which can be removed again from the support bracket 32.

Bei einigen Anwendungen der Erfindung kann es er-) wünscht sein, Material 30 auf Substraten niederzuschlagen, die verschiedene Formen, wie eine ocheibe, eine flache, rechteckige Platte oder eine flexible Bahn, wie ein Band oder einen Streifen, bilden, die auf einem Rad/speicher- bzw. aufrollbar sind.In some applications of the invention, it may be desirable to deposit material 30 on substrates that have various shapes, such as a disk, a flat, rectangular plate or flexible sheet, such as a tape or strip, which on a wheel / can be stored or rolled up.

Obwohl die Erfindung unter Bezugnahme auf einen kristallinen oder stärker geordneten Zustand beschrieben wurde, ist es nicht notwendig, tatsächlich Kristalle in der Oberfläche des amorphen Materials zu bilden. Auch andere Änderungen der atomaren Struktur sind anwendbar, z.B. Atome, die anfangs in Form langer Ketten miteinander verbunden bzw. verkettet W sind, die in Ringe rückführbar sind. Auch Ketten in der Form von Schraubenlinien bzw. Spiralen oder einer anderen zusammengedrückten Konfiguration können in eine neue Form gestreckt oder auseinandergezogen werden. Auch noch andere Änderungen der lokalen Ordnung oder Phasenanderungen können zu neuen Bindungen zwischen den Atomen führen, aus denen sich neue strukturelle oder chemische Figurationen bilden, die ein unterschiedliches Benetzbarkeitsvermögen ergeben. Diese Änderungen der Atomstruktur und der Mischung verschiedener Phasen des Materials können eine Änderung der Oberflächenrauhheit des Materials erzeugen,Although the invention has been described with reference to a crystalline or more ordered state, it is not necessary to actually form crystals in the surface of the amorphous material. Also other changes in the atomic structure are applicable, for example, atoms, W is the initially in the form of long chains connected to each other or concatenated are traceable in rings. Chains in the form of helices, spirals or other compressed configuration can also be stretched or pulled apart to a new shape. Other changes in the local order or phase changes can also lead to new bonds between the atoms, from which new structural or chemical figurations are formed, which result in different wettability. These changes in the atomic structure and the mixture of different phases of the material can produce a change in the surface roughness of the material,

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so daß Lösungen in unterschiedlichem Ausmaß anhaften. Alternativ kann die iiauhheit der Oberfläche im wesentlichen die gleiche in jedem Zustand des amorphen Materials bleiben, aber das Ausmaß der Anziehung bzw. Anziehungskraft zwischen der Oberfläche und der Lösung kann in Abhängigkeit von der Materialphase'sich ändern, wodurch das Benetzbarkeitsvermögen der Lösung auf der Oberfläche geändert v/ird.so that solutions adhere to varying degrees. Alternatively, the roughness of the surface but the extent remains essentially the same in every state of the amorphous material the attraction or force of attraction between the surface and the solution can be a function of from the material phase's change, thereby increasing the wettability the solution on the surface is changed.

- Patentansprüche - 18 -- Claims - 18 -

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Claims (32)

- 18 -- 18 - PatentansprücheClaims Verfahren zur Herstellung einer Abbildung, insbesondere zur Herstellung einer Kopie von einem Original, bei dem der Zustand von Bereichen einer Trägerfläche gegenüber dem Zustand von Nachbarbereichen entsprechend der Abbildung geändert und die Bereiche mit dem gewünschten Zustand, ggf. nach Übertragung von Abdruckmitteln entsprechend der Abbildung auf eine Abbildungsfläche, sichtbar gemacht werden, dadurch gekennzeichnet, daß für die Trägerfläche eine Schicht aus im wesentlichen amorphem oder ungeordnetem Material verwendet wird, daß die Schicht gemäß der Abbildung mit Energie beaufschlagt wird, um den Zustand der Bereiche mindestens der Oberflächenstruktur der Schicht zu ändern, und daß die Schicht mit einem Mittel, insbesondere einer Lösung, in Berührung gebracht wird, die in den Bereichen mit geändertem Zustand oder in den Nachbarbereichen an der Schicht anhaftet.Method for producing an image, in particular for producing a copy of one Original, in which the state of areas of a support surface compared to the state of neighboring areas Changed according to the figure and the areas with the desired status, if necessary after transmission by means of impression according to the image on an image surface, are made visible, characterized in that a layer of essentially amorphous or disordered material is used for the support surface Material is used that the layer is energized as shown in the figure to change the state of the areas of at least the surface structure of the layer, and that the layer is brought into contact with an agent, in particular a solution, which is in the areas with changed Condition or adhered to the layer in the neighboring areas. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht verwendet wird, von der ein stabiler Zustand der Oberflächenstruktur ein im allgemein amorpher oder ungeordneter Zustand mit bestimmten lokalen Ordnungen und/oder lokalisierbaren Atombindungen ist.2. The method according to claim 1, characterized in that a layer is used, one of which is more stable State of the surface structure a generally amorphous or disordered state with certain local Orders and / or localizable atomic bonds is. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht verwendet wird, die in einen anderen stabilen Zustand der Oberflächenstruktur änderbar ist, der eine gegenüber dem ersten stabilen Zustand unter- 3. The method according to claim 2, characterized in that a layer is used which can be changed in another stable state of the surface structure, the lower one with respect to the first stable state - 19 -- 19 - 109883/1069109883/1069 schiedliche lokale Ordnung und/oder unterschiedliche lokalisierte Atombindung aufweist.has different local orders and / or different localized atomic bonds. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht verwendet wird, deren anderer stabilder Zustand der Oberflächenstruktur ein kristalliner oder stärker als der erste geordneter Zustand ist.4. The method according to claim 3, characterized in that one layer is used, the other stabilder State of the surface structure a crystalline or stronger than the first ordered state is. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht verwendet wird, in der Zwischenzustände zwischen den beiden stabilen Zuständen einstellbar sind.5. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that a layer is used in which intermediate states between the two stable states can be set. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung verwendet wird, die an den im anderen stabilen Zustand befindlichen Bereichen anhaftet.6. The method according to any one of claims 3 to 5, characterized in that a solution is used which adheres to the areas in the other stable state. 7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung verwendet wird, die Farbe bzw. Tinte enthält.7. The method according to claim 5, characterized in that a solution is used, the paint or ink contains. 8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Farbe an der Schicht befestigt wird.8. The method according to claim 6, characterized in that that the paint is attached to the layer. 9· Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht nach dem Benetzen mit der Lösung mit Farbe bzw. Tinte in Berührung gebracht wird, so daß die Farbe nur an den Nachbarbereichen anhaftet, die sich in dem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand befinden.9 · Method according to one of the preceding claims, characterized in that, after wetting with the solution, the layer is in contact with paint or ink is brought so that the color adheres only to the neighboring areas, which are in the general amorphous or disordered state. - 20 -- 20 - 10 9 8 8 3/106910 9 8 8 3/1069 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung bzw. Farbe als Abdruckmittel verwendet und .von den ausgewählten Bereichen der Schicht auf eine gesonderte Abbildungsfläche, wie eine Unterlage, ein Schriftstück, Dokument oder dgl., übertragen wird.10. The method according to any one of claims 6 to 8, characterized characterized in that the solution or paint is used as an impression agent and .of the selected areas the layer on a separate imaging surface, such as a base, a piece of writing, or a document or the like., is transmitted. 11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als im allgemeinen · · amorphes Material ein Halbleitermaterial verwendet wird, das durch Energie zwischen den Zuständen umschaltbar ist.11. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that as in general amorphous material a semiconductor material is used that can be switched between the states by energy is. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß ein Halbleitermaterial verwendet wird, das sich anfänglich in dem im allgemeinen amorphen Zustand befindet und durch das Energiemuster in den Bereichen in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand schaltbar ist.12. The method according to claim 11, characterized in that that a semiconductor material is used which is initially in the generally amorphous state located and by the energy pattern in the areas in the crystalline or more ordered State is switchable. 13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß Energie mindestens einem Teil der sich im kristallinen bzw. stärker geordneten Zustand befindlichen Bereiche zugeführt wird, um diesen Teil zur Herstellung einer anderen Abbildung in den Anfangszustand zurückzuschalten.13. The method according to claim 12, characterized in that at least part of the energy is in the crystalline or more ordered state located areas is supplied to this part for To switch back to the initial state to produce another figure. H. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß als Energie Lichtstrahlen verwendet werden.H. The method according to any one of claims 1 to 13, characterized characterized in that light rays are used as energy. 15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtstrahlen durch ein für die Lichtstrahlen15. The method according to claim 14, characterized in that the light beams through a for the light beams - 21 -- 21 - 109883/1069109883/1069 transparentes Medium auf die Schicht projiziert werden.transparent medium can be projected onto the layer. 16. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß als Energie LASDR-Strahlen verwendet werden.16. The method according to any one of claims 1 to 15, characterized characterized that LASDR rays are used as energy be used. 17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß als Energie Wärme verwendet wird.17. The method according to any one of claims 1 to 16, characterized characterized in that heat is used as energy. 18. Verfahren zur Herstellung einer Abbildung, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht aus amorphem Material verwendet wird, deren Oberflächenstruktur sich in Abhängigkeit von daran angelegter Energie ändert, daß ein Energiemuster bzw. -schema selektiv an diese Schicht angelegt wird, um deren Oberflächenstruktur in Übereinstimmung mit der Abbildung zu ändern, und daß die Schicht mit einer Lösung benetzt bzw. befeuchtet wird, die an ausgewählten Bereichen der Schicht in Abhängigkeit von dem Energiemuster haftet.18. A method for producing an image, characterized in that a layer of amorphous material is used, the surface structure of which varies depending on the energy applied to it changes that an energy pattern or scheme is selectively applied to this layer to reduce its surface structure change in accordance with the figure, and that the layer is wetted with a solution or is moistened on selected areas of the layer depending on the energy pattern adheres. 19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Schicht aus einem amorphen Material zusammensetzt, die eine änderbare Oberflächenstruktur aufweist, die in der Lage ist, zwischen einem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten stabilen Zustand, der eine bestimmte lokale Ordnung oder lokalisierbare Bindung zwischen Atomen^und einem anderen bzw. unterschiedlichen stabilen Zustand, der eine andere bzw. unterschiedliche lokale Ordnung oder lokalisierbare Bindung zwischen Atomen aufweist,19. The method according to claim 18, characterized in, that the layer is composed of an amorphous material, which has a changeable surface structure which is able to switch between a generally amorphous or disordered stable state, which has a definite local order or localizable bond between atoms ^ and another or different stable state, the other or different local order or has a localizable bond between atoms, - 22 -- 22 - 109683/1069109683/1069 21115512111551 änderbar ist, und daß die Änderung in Abhängigkeit von der daran angelegten Energie vorgenommen wird.is changeable, and that the change is made as a function of the energy applied to it. 20. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Schicht aus einem amorphen Material zusammensetzt, die eine änderbare Oberflächenstruktur aufweist, die in der Lage ist, Minderungen zwischen einem im allgemeinen amorphen oder ungeordneten stabilen Zustand, der eine bestimmte lokale Ordnung oder lokalisierte Bindung zwischen Atomen besitzt, und einem kristallinen oder stärker geordneten stabilen Zustand, der eine andere bzw. unterschiedliche lokale Ordnung oder lokalisierbare Bindung zwischen Atomen besitzt, auszuführen, und daß die Änderung in Abhängigkeit von der daran angelegten Energie vorgenommen wird.20. The method according to claim 18, characterized in that that the layer is composed of an amorphous material, which has a changeable surface structure has, which is capable of reductions between a generally amorphous or disordered stable state representing a certain local order or localized bond between atoms possesses, and a crystalline or more ordered stable state, which is a different or has different local order or localizable bond between atoms, and that the change is made as a function of the energy applied thereto. 21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösung an jenen Bereichen der Schicht anhaftet, die sich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befinden.21. The method according to claim 20, characterized in that the solution adheres to those areas of the layer, which are in the crystalline or more ordered state. 22. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung verwendet wird, die Farbe bzw. 22. The method according to any one of claims 18 to 21, characterized in that a solution is used the color or Tinte aufweist, und daß außerdem die Farbe bzw. Has ink, and that also the color or Tinte an dem Material festgelegt wird.Ink attached to the material will. 25. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung verwendet wird, die Farbe bzw. Tinte aufweist, und daß die Lösung von den ausgewählten Bereichen der Schicht auf eine Abbildungsfläche, wie ein Dokument, über-25. The method according to any one of claims 18 to 22, characterized in that a solution is used that has the color or ink, and that the solution from the selected areas of the layer onto an image surface, such as a document, - 23 -- 23 - 109883/1069109883/1069 tragen wird.will wear. 24. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 22, gekennzeichnet durch das Hinzufügen folgender Schritte: Aufbringen von Farbe bzw. Tinte auf die Schicht, nachdem die Schicht mit der Lösung benetzt wurde, so daß Farbe bzw. Tinte an jenen Bereichen des Materials anhaftet, die sich im allgemein amorphen oder ungeordneten Zustand befinden, und daß Tinte nicht an solchen Bereichen des Materials anhaftet, die sich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befinden, an denen die Lösung anhaftet.24. The method according to any one of claims 18 to 22, characterized by adding the following Steps: applying paint or ink to the layer after the layer has been wetted with the solution so that ink adheres to those areas of the material that are generally amorphous or disordered, and that ink does not adhere to such areas of the material adheres, which are in the crystalline or more ordered state to which the solution adheres. 25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß Farbe bzw. Tinte von den genannten Bereichen. des Materials, an denen die Farbe bzw. Tinte anhaftet, auf eine Abbildungsfläche, wie ein Dokument, übertragen wird.25. The method according to claim 24, characterized in that paint or ink from said areas. the material to which the paint or ink has adhered on an imaging surface such as a document, is transmitted. 26. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lösung verwendet wird, die Farbe bzw. Tinte aufweist, und daß die Lösung von jenen Bereichen des Materials, an denen die Lösung anhaftet, auf eine Abbildungsfläche, wie ein Dokument, übertragen wird.26. The method according to any one of claims 18 to 23, characterized characterized in that a solution is used which has paint or ink, and that the Dissolving those areas of the material to which the solution adheres to an imaging surface, like a document, is transmitted. 27. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß das Energiemuster dadurch hergestellt wird, daß durch ein transparentes Medium hindurchtretendes Licht auf das Material projiziert wird.27. The method according to any one of claims 18 to 26, characterized in that the energy pattern is characterized is produced that light passing through a transparent medium onto the material is projected. - 24 -- 24 - 109883/1069109883/1069 21115512111551 28. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 "bis 26, dadurch gekennzeichnet, daß ein LASER-Strahl als Energie auf ausgewählte Bereiche des Materials gerichtet wird.28. The method according to any one of claims 18 "to 26, characterized in that a LASER beam as Energy is directed to selected areas of the material. 29. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß ;inerf<ie in Form von Wärme verwendet wird, die an ausgewählte Bereiche des Materials herangeführt wird.29. The method according to any one of claims 18 to 28, characterized in that; iner f <ie is used in the form of heat which is brought to selected areas of the material. 30. Verfahren nach einem der Ansprüche 18 bis 29, dadurch gekennzeichnet, daß ein amorphes Halbleitermaterial verwendet wird, das in der Lage ist, zwischen den Zuständen in Abhängigkeit von daran angelegter Energie reversibel umgeschaltet zu werden. 30. The method according to any one of claims 18 to 29, characterized in that an amorphous semiconductor material is used, which is able to switch between the states depending on it applied energy to be reversibly switched. 31. Verfahren nach Anspruch ^u, dadurch gekennzeichnet, daß ein amorphes Halbleitermaterial verwendet wird, daß sich anfangs im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand befindet und durch ein Energiemuster in den kristallinen oder stärker ^eordneteir Zustand umschaltbar ist, und daß Energie auf mindestens einen Teil des Materials gerichtet wird, das sich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befindet, um den Bereich in den im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand zurückzuführen, wodurch das Material zur Herstellung einer anderen Abbildung darauf wiederverwendbar ist.31. The method according to claim ^ u, characterized in that that an amorphous semiconductor material is used that is initially generally amorphous or disordered state and through an energy pattern in the crystalline or more strongly organized State is switchable, and that energy is directed to at least part of the material, which is in the crystalline or more ordered state, around the area in the general amorphous or disordered state, causing the material to produce a other illustration on it is reusable. 32. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß ein amorphes Halbleitermaterial verwendet wird,32. The method according to claim 30, characterized in that that an amorphous semiconductor material is used, - 2b - - 2b - 1 09883/10691 09883/1069 das sich anfänglich im kristallinen oder stärker geordneten Zustand befindet und durch ein Energiemuster in den im allgemeinen amorphen oder ungeordneten Zustand umschaltbar ist, und daß Energie auf mindestens einen Teil des Materials gerichtet wird, das sich im allgemein amorphen oder ungeordneten Zustand befindet, um den Teil in den kristallinen oder stärker geordneten Zustand zurückzuführen, wodurch das Material zur Herstellung einer anderen Abbildung darauf wiederverwendbar ist.which is initially in the crystalline or more ordered state and through an energy pattern can be switched to the generally amorphous or disordered state, and that energy is directed at at least a portion of the material which is generally amorphous or disordered State to return the part to the crystalline or more ordered state, whereby the material is reusable to produce another image thereon. 109883/1069109883/1069 LeerseiteBlank page
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