DE102017001524B4 - Arrangement for measuring at least partially reflective surfaces - Google Patents
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Abstract
Anordnung zur Vermessung zumindest teilweise reflektierender Oberflächen eines Messobjektes (8), umfassend mindestens eine Beleuchtungsquelle (1), mindestens vier sammelnde Optiken (3, 5, 7, 10), mindestens zwei Raumfilter (6, 9), mindestens ein optisches Gitter (4) und eine Bildaufnahmeeinheit (11), wobei die Beleuchtungsquelle (1), die sammelnden Optiken (3, 5, 7, 10), die Raumfilter (6, 9), das optische Gitter (4) und die Bildaufnahmeeinheit (11) entlang einer gemeinsamen optische Achse positioniert sind. Arrangement for measuring at least partially reflecting surfaces of a measuring object (8) comprising at least one illumination source (1), at least four collecting optics (3, 5, 7, 10), at least two spatial filters (6, 9), at least one optical grating (4 ) and an image pickup unit (11), wherein the illumination source (1), the collecting optics (3, 5, 7, 10), the spatial filters (6, 9), the optical grating (4) and the image pickup unit (11) along a common optical axis are positioned.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zur Vermessung von zumindest teilweise reflektierenden Oberflächen, mit der auch komplexe Freiformoberflächen mit großen Neigungen vermessen und ohne zusätzliche Nullelemente mit großer Genauigkeit rekonstruiert werden können.The present invention relates to an arrangement for measuring at least partially reflecting surfaces, with which even complex free-form surfaces with large inclinations can be measured and reconstructed with great accuracy without additional zero elements.
Eine exakte Formvermessung von Oberflächen ist in ganz unterschiedlichen Anwendungsbereichen der Technik, vor allem aber in der optischen Messtechnik, unabdingbar. Die rasante Entwicklung in diesen Bereichen, besonders für Freiformoberflächen, erfordert neue fortschrittliche Methoden und Sensoren für diese Messungen mit hoher Auflösung und Genauigkeit bei kurzer Messzeit [
Freiformoberflächen sind nicht-rotationssymmetrische Oberflächen, die gegenüber herkömmlichen rotationssymmetrischen Oberflächen einige Vorteile haben. So erlauben sie z.B. eine größere Anzahl von Freiheitsgraden im Entwurf und eine höhere Funktionsvielfalt für die Verwendung in einem optischen System [
Neben diesen Vorteilen, gibt es jedoch auch noch viele Herausforderungen bei der Herstellung und Charakterisierung dieser Freiformoberflächen, die nach dem heutigen Stand der Technik mit immer genaueren und teureren CNC-Fertigungsmaschinen hergestellt werden [
In addition to these advantages, however, there are still many challenges in the production and characterization of these free-form surfaces, which are produced according to the current state of the art with increasingly accurate and expensive CNC production machines [
Aus dem Stand der Technik sind eine Vielzahl von Verfahren zur dreidimensionalen Vermessung optisch glatter Oberflächen mit Hilfe der Erfassung ihrer Form oder Wellenfront bekannt.A variety of methods for the three-dimensional measurement of optically smooth surfaces by means of the detection of their shape or wavefront are known from the prior art.
Die am weitesten verbreiteten Verfahren werden mit Kontakt- oder taktilen Koordinaten-Messmaschinen realisiert, mit denen auch komplexe Oberflächen vermessen werden können. Nachteilig dabei ist, dass diese Verfahren eine vibrationsfreie Umgebung voraussetzen, sie in ihrer räumlichen Auflösung begrenzt und relativ zeitaufwändig sind. Daher werden diese Messverfahren in der Fertigung nur für die Charakterisierung von einzelnen Stichproben eingesetzt. Eine Integration der erforderlichen Messtechnik in z.B. eine CNC-Maschine ist nur bedingt möglich [
Andere bekannte Messverfahren nutzen die Eigenschaften von Licht als elektromagnetische Welle, um Oberflächen bzw. Wellenfronten zu vermessen. Dabei wird das Messobjekt beleuchtet und das von seiner Oberfläche reflektierte Licht mit unterschiedlichen Verfahren und Messgeräten erfasst und analysiert. Jedoch dürfen die dafür erforderlichen Messgeräte bzw. ihre Baugruppen nicht im Strahlengang der Beleuchtung positioniert sein, da andernfalls das Messobjekt ganz oder teilweise von den optischen Bauteilen abgeschattet wird (vgl. hierzu
Das Problem der ungewollten Abschattung wird nach dem Stand der Technik mit der Verwendung von Strahlteilern (
Nachfolgend sind die wichtigsten, aus dem Stand der Technik bekannten optischen Verfahren zur Vermessung von Oberflächen oder Wellenfronten aufgeführt.The most important optical methods known from the prior art for measuring surfaces or wavefronts are listed below.
Für die meisten optischen Bauteile mit leicht gekrümmten Oberflächen im konventionellen Design und mit unkomplizierten, einfachen Geometrien, wie z.B. ebene, leicht gekrümmte oder sphärische Flächen (Linsen, Spiegel etc.), kommen oft interferometrische Verfahren zum Einsatz [
Zur Erreichung einer hohen Messgenauigkeit bedarf es bei diesen Verfahren einer hohen optomechanischen Präzision der Messeinrichtung. Damit verbunden sind ein sehr hoher Justage-Aufwand und eine störungsarme Umgebung (Fremdlicht, mechanische Vibrationen, Temperaturkonstanz). Diese Maßnahmen erfordern einen hohen apparativen Aufwand mit entsprechenden Kosten. Problematisch ist außerdem der geringe dynamische Bereich (Messbereich) dieser Verfahren von nur einigen Lichtwellenlängen. Um diese Begrenzung aufzuheben, wird mit einem Bezugselement eine Referenzwellenfront erzeugt (Null-Test) und diese mit der Objektwelle des Messobjektes verglichen. Allerdings stellt die Fertigung eines Null-Test-Bauteils sowohl technologisch als auch ökonomisch eine große Hürde dar, zumal auch dieses vor seiner Verwendung erst geprüft werden muss. Eine andere Methode, den Messbereich etwas, aber nicht immer ausreichend zu erhöhen, ist die Tilted Wave Interferometry [
Aus den oben genannten Gründen werden in der Regel interferometrische Messverfahren zur Oberflächen- und Rauheitsprüfung genutzt. Als Messverfahren zur Oberflächenrekonstruktion sind sie jedoch ungeeignet.In order to achieve a high measuring accuracy, these methods require a high optomechanical precision of the measuring device. This is associated with a very high adjustment effort and a low-noise environment (extraneous light, mechanical vibration, temperature stability). These measures require a high expenditure on equipment with corresponding costs. Another problem is the low dynamic range (measuring range) of these methods of only a few wavelengths of light. To remove this limitation, a reference element becomes a reference wavefront generated (zero test) and compared with the object wave of the measurement object. However, the production of a zero-test component represents a major hurdle both technologically and economically, especially since this must first be tested before it is used. Another method of slightly but not always increasing the measurement range is the Tilted Wave Interferometry [
For the reasons mentioned above, interferometric measuring methods for surface and roughness testing are generally used. However, they are unsuitable as surface reconstruction measuring methods.
Bei Bauteilen mit anspruchsvoll geformten Oberflächen wie z.B. Asphären kommen die aus dem Stand der Technik bekannten Wellenfrontmessverfahren, wie z.B. das Hartmann-Verfahren oder der Shack-Hartmann-Test zum Einsatz (z.B. Patent
Mit der Offenlegungsschrift
Weiterhin wird in der einschlägigen Patent- und Nichtpatentliteratur eine konfokale Abtastung von zu vermessenden Oberflächen vorgeschlagen (z.B.
Andere Verfahren vermessen ein Gittermuster, welches an der spiegelnden Oberfläche reflektiert bzw. transmittiert wird. Das Gitter besitzt eine veränderliche Gitterperiode, die an die zu erwartende Oberflächenform entsprechend ihrer Gradienten / Neigungen angepasst ist. Diese Verfahren lassen sich unter dem Begriff der deflektometrische Verfahren zusammenfassen. Zahlreichende Patente und Publikationen wurden hierzu veröffentlicht (z.B.
Ein anderes, nach dem Rasterreflexionsverfahren arbeitendes Messverfahren ist in [
In der
Eine als Holographic Wavefront Sensor bezeichnete Messeinrichtung wird in der
Im Patent
Für die Verwendung in der Augenmedizin wurde ein Ophthalmic talbot-moire wavefront Sensor entwickelt (Patent
Zusammenfassend kann festgestellt werden, dass zur Vermessung von reflektierenden Oberflächen bisher nicht auf Strahlteiler bzw. seitliche einfallende Beleuchtung verzichtet werden kann. Die Gesamtmaße der erforderlichen Messanordnungen fallen somit groß aus und die Messaufbauten sind nicht kompakt. Demzufolge ist ein hoher Justage-Aufwand zwischen dem Beleuchtungsarm und dem Aufnahmearm notwendig. Außerdem können zusätzliche, ungewollte Effekte wie Mehrfachausbreitungen und -reflexionen an und zwischen den Oberflächen der Strahlteiler auftreten. Ferner sind die Anschaffungskosten von Strahlteilern mit guter Qualität oft sehr hoch.
All diese Nachteile sowie die hohen Anforderungen an eine störungsarme Umgebung (mechanische Vibrationen, Temperaturkonstanz) erschweren eine direkte Integration der vorgestellten Messverfahren in laufende Fertigungsverfahren, z.B. mit einer CNC-Maschine.In summary, it can be stated that the measurement of reflecting surfaces can not be dispensed with beam splitters or lateral incident illumination. The overall dimensions of the required measurement arrangements are therefore large and the measurement setups are not compact. Consequently, a high adjustment effort between the lighting arm and the pickup arm is necessary. In addition, additional unwanted effects such as multiple propagation and reflection at and between the surfaces of the beam splitters may occur. Furthermore, the cost of high quality beam splitters is often very high.
All these disadvantages and the high demands on a low-noise environment (mechanical vibrations, temperature stability) complicate a direct integration of the presented measuring methods in current manufacturing processes, eg with a CNC machine.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die aufgezeigten Nachteile aus dem Stand der Technik zu überwinden.The object of the present invention is to overcome the disadvantages of the prior art.
Erfindungsgemäß gelingt die Lösung dieser Aufgabe mit den Merkmalen des ersten Patentanspruches. Weitere Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Lösung sind in den Unteransprüchen angegeben.According to the invention, the solution of this problem succeeds with the features of the first claim. Further embodiments of the solution according to the invention are specified in the subclaims.
Die Erfindung baut auf dem Prinzip der Wellenfrontvermessung mit Fourieroptiken auf, bei dem das Messobjekt mit der zu vermessenden Oberfläche mit mindestens einer Lichtquelle, zwei Abbildungssystemen und einer Kamera kombiniert wird, wobei die optischen Elemente gleichzeitig sowohl als Beleuchtungseinheit als auch als Modulationseinheit bzw. Auswerteeinheit verwendet werden. Erfindungsgemäß werden alle optischen Elemente auf einer optischen Achse angeordnet, ohne dass eine Abschattung zwischen der Beleuchtung und dem Messobjekt stattfindet. Folglich kann auf eine seitliche Beleuchtung bzw. Strahlteiler verzichtet und ein kompakter Messaufbau mit geringen Abmaßen realisiert werden.
Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung liegt in der Nutzung einer partiell kohärenten Beleuchtung. Es werden kohärente oder partiell kohärente monochromatische Lichtquellen (z.B. Laser, LED) verwendet, wobei LEDs hierbei deutlich besser für die Beleuchtung geeignet sind als Laserlichtquellen. Die Abmaße kostengünstiger LEDs sind heute bereits kleiner als einen Millimeter. Das ermöglicht den Entwurf neuer Beleuchtungssysteme auf kleinstem Raum.
Durch die teilkohärente Eigenschaft des Lichts werden die unerwünschten Interferenzen an den reflektierenden Oberflächen der Bauelemente des Versuchsaufbaus vermieden. Außerdem lassen sich die sogenannten Speckleprobleme bei teilkohärenter Beleuchtung drastisch reduzieren. Zum Großteil sind die verwendeten LEDs nicht gesundheitsschädlich im Vergleich zu einer Beleuchtung mit Laserlicht. Das führt dazu, dass eine Benutzung von Schutzbrillen nicht unbedingt nötig ist.The invention is based on the principle of wavefront measurement with Fourier optics, in which the measurement object with the surface to be measured is combined with at least one light source, two imaging systems and a camera, the optical elements simultaneously being used both as a lighting unit and as a modulation unit or evaluation unit become. According to the invention, all optical elements are arranged on an optical axis, without shading taking place between the illumination and the measurement object. Consequently, it is possible to dispense with a lateral illumination or beam splitter and to realize a compact measurement setup with small dimensions.
Another aspect of the present invention is the use of partially coherent illumination. Coherent or partially coherent monochromatic light sources (eg lasers, LEDs) are used, whereby LEDs are much better suited for illumination than laser light sources. The dimensions of inexpensive LEDs are already smaller than one millimeter. This allows the design of new lighting systems in the smallest space.
The partially coherent nature of the light avoids the unwanted interference at the reflective surfaces of the devices of the experimental setup. In addition, the so-called speckle problems can be drastically reduced with partially coherent illumination. For the most part, the LEDs used are not harmful to health compared to a laser light. This leads to the fact that a use of goggles is not absolutely necessary.
Im Folgenden wird die erfindungsgemäße kompakte Anordnung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt:
-
1 - die Abschattung eines Messobjektes durch optische Bauteile (Problemstellung) -
2 - aus dem Stand der Technik bekannte Problemlösungen- a - die Verwendung von Strahlteilern
- b - die Verwendung einer seitlichen Beleuchtung
-
3 - der Beleuchtungspfad einer erfindungsgemäßen Anordnung -
4 - der Reflexionspfad einer erfindungsgemäßen Anordnung -
5 - Ausführungsbeispiele für eine zusätzliche außeraxiale parallele Beleuchtung des Messobjektes -
6 - weitere Ausführungsbeispiele für eine zusätzliche außeraxiale parallele Beleuchtung des Messobjektes -
7 - Ausführungsbeispiele für eine wellenlängenkodierte Beleuchtung des Messobjektes
-
1 - the shading of a measuring object by optical components (problem definition) -
2 - Problem solutions known from the prior art- a - the use of beam splitters
- b - the use of side lighting
-
3 - The illumination path of an inventive arrangement -
4 - The reflection path of an arrangement according to the invention -
5 Embodiments for an additional extra-axial parallel illumination of the measurement object -
6 - Further embodiments of an additional extra-axial parallel illumination of the measurement object -
7 - Embodiments for a wavelength-coded illumination of the measurement object
In
In
Ein geeignetes analytisches Verfahren zur Ermittlung dieser Wellenfrontverformung wurde in [
A suitable analytical procedure for determining this wavefront deformation was presented in [
Es liegt ebenso im Bereich der Erfindung, dass für die Erfassung von Gradientenspektren anderer Richtungen sowie noch höherer Oberflächengradienten weitere Punktlichtquellen (
It is also within the scope of the invention that for the detection of gradient spectra of other directions as well as even higher surface gradients further point light sources (
In
Ein Ausführungsbeispiel für eine wellenlängenkodierte Beleuchtung der zu vermessenden Oberfläche des Messobjektes (
Schließlich können in Abhängigkeit von den zu vermessenden lateralen Abmessungen des Messobjektes (
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- - Beleuchtungsquelle mit Beleuchtungsspektrum a- Illumination source with illumination spectrum a
- 22
- - Lochblende- pinhole
- 3, 5, 7, 103, 5, 7, 10
- - sammelnde Optik- collecting optics
- 44
- - optisches Gitter- optical grating
- 6, 96, 9
- - Raumfilter- room filter
- 88th
- - Messobjekt mit zumindest teilweise reflektierender Oberfläche- DUT with at least partially reflective surface
- 1111
- - Bildaufnahmeeinheit- Image acquisition unit
- 1313
- - Abschattung- Shading
- 1414
- - Strahlteiler- Beam splitter
- 1616
- - Beleuchtungsquelle mit Beleuchtungsspektrum b- Illumination source with illumination spectrum b
- 1717
- - Beleuchtungsquelle mit Beleuchtungsspektrum c- Illumination source with illumination spectrum c
- 1818
- - Beleuchtungsquelle mit Beleuchtungsspektrum d- Illumination source with illumination spectrum d
- 1919
- - Beleuchtungsquelle mit Beleuchtungsspektrum e- Illumination source with illumination spectrum e
LiteraturlisteBibliography
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