DE102010022421A1 - Measuring device and measuring method for absolute distance measurement - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Messeinrichtung und ein Messverfahren zur Bestimmung eines absoluten Abstandswerts zwischen einer Sonde (12) und einer Objektoberfläche (13). Der Abstandswert (d) wird dabei punktförmig im Bereich der optischen Achse (14) der Sonde (12) bestimmt. Die Messeinrichtung weist eine Lichtquelle (15) auf, die kurzkohärentes Licht aussendet. In einem Messlichtweg (M) wird das Licht durch die Sonde (12) auf die Objektoberfläche (13) gerichtet und das dort reflektierte Licht wieder empfangen. Ein anderer Teil des Lichts der Lichtquelle (15) durchläuft einen Referenzlichtweg bis zu einer Referenzfläche (27) und von dort wieder zurück. Das an der Referenzfläche (27) sowie der Objektoberfläche (13) reflektierte Licht wird einem Interferometer (30) zugeführt und dort in einen ersten Lichtweg (L1) sowie einen zweiten Lichtweg (L2) aufgeteilt. Die beiden Lichtwege (L1), (L2) sind unterschiedlich lang und kompensieren die Differenz zwischen Referenzlichtweg (R) und Messlichtweg (M). Der im ersten Lichtweg (L1) vorhandene erste Interferometerspiegel (33) oszilliert in Richtung der optischen Achse (40) des ersten Lichtwegs (L1). Das Licht aus den beiden Lichtwegen (L1), (L2) wird überlagert und wegen der Oszillation des ersten Interferometerspiegels (33) bilden sich Interferenzmuster im überlagerten Licht, die von einem Fotosensor (35) detektiert werden. Der Abstandswert (d) wird in einer an den Fotosensor (35) angeschlossenen Auswerteeinrichtung (37) ermittelt.The present invention relates to a measuring device and a measuring method for determining an absolute distance value between a probe (12) and an object surface (13). The distance value (d) is determined point-like in the area of the optical axis (14) of the probe (12). The measuring device has a light source (15) which emits short-coherent light. In a measuring light path (M), the light is directed through the probe (12) onto the object surface (13) and the light reflected there is received again. Another part of the light from the light source (15) runs through a reference light path to a reference surface (27) and from there back again. The light reflected on the reference surface (27) and the object surface (13) is fed to an interferometer (30) and divided there into a first light path (L1) and a second light path (L2). The two light paths (L1), (L2) are of different lengths and compensate for the difference between the reference light path (R) and the measuring light path (M). The first interferometer mirror (33) present in the first light path (L1) oscillates in the direction of the optical axis (40) of the first light path (L1). The light from the two light paths (L1), (L2) is superimposed and, due to the oscillation of the first interferometer mirror (33), interference patterns are formed in the superimposed light, which are detected by a photosensor (35). The distance value (d) is determined in an evaluation device (37) connected to the photosensor (35).
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optoelektrische Messeinrichtung bzw. ein optoelektrisches Messverfahren zur absoluten Abstandsmessung zwischen einer Sonde und einer Objektoberfläche. Die Messeinrichtung verfügt über ein Interferometer und einen Fotosensor. Der Fotosensor misst die Intensität des vom Interferometer abgestrahlten Lichts. Durch Auswertung des Intensitätssignals kann der Abstand ermittelt werden.The present invention relates to an optoelectronic measuring device or an optoelectric measuring method for absolute distance measurement between a probe and an object surface. The measuring device has an interferometer and a photosensor. The photo sensor measures the intensity of the light emitted by the interferometer. By evaluating the intensity signal, the distance can be determined.
Im Stand der Technik sind hierzu verschiedene Verfahren bekannt. Beispielsweise wird beim Verfahren bzw. der Vorrichtung nach
Aus
Es kann daher als eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung angesehen werden, die bekannten interferometrischen Verfahren und Einrichtung zur Abstandsmessung zu verbessern.It can therefore be regarded as an object of the present invention to improve the known interferometric methods and device for distance measurement.
Diese Aufgabe wird durch eine Messeinrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 sowie ein Messverfahren mit den Merkmalen des Patentanspruches 13 erreicht. Es wird kurzkohärentes Licht von einer Lichtquelle verwendet, die vorzugsweise mehrere Leuchtmittel aufweist, wie zum Beispiel mehrere Superlumineszenzdioden (SLDs). Das ausgesendete Licht wird in einer Sonde in einen Messlichtweg und einen Referenzlichtweg aufgeteilt. Die Sonde empfängt das im Messlichtweg von der Objektoberfläche reflektierte Licht sowie das im Referenzlichtweg von einer Referenzfläche reflektierte Licht. Dabei ist der Abstand zwischen der Referenzfläche und der Objektoberfläche insbesondere größer als die Kohärenzlänge des verwendeten Lichts der Lichtquelle, so dass das an der Objektoberfläche einerseits und an der Referenzfläche andererseits reflektierte Licht nicht interferiert.This object is achieved by a measuring device with the features of claim 1 and a measuring method with the features of
Das an der Referenzfläche und an der Objektoberfläche reflektierte Licht wird von einem Interferometer aufgenommen. Dieses teilt das reflektierte Licht in einen ersten Lichtweg und einen zweiten Lichtweg auf, wobei die Länge der beiden Lichtwege vorzugsweise unterschiedlich voneinander ist. Insbesondere ist die Differenz zwischen den beiden Lichtwegen so gewählt, dass der Abstand zwischen der Referenzfläche und der Objektoberfläche kompensiert wird. Die Länge der Lichtwege wird durch jeweils einen Interferometerspiegel vorgegeben. Der im zweiten Lichtweg vorgesehene zweite Interferometerspiegel ist insbesondere justierbar, um die Differenz in den beiden Lichtwegen einzustellen. Die Justage kann manuell oder automatisiert an den Abstand zwischen Referenzfläche und Objektoberfläche angepasst erfolgen.The light reflected at the reference surface and at the object surface is picked up by an interferometer. This divides the reflected light into a first light path and a second light path, wherein the length of the two light paths is preferably different from each other. In particular, the difference between the two light paths is chosen so that the distance between the reference surface and the object surface is compensated. The length of the light paths is given by an interferometer mirror. The second interferometer mirror provided in the second light path is in particular adjustable in order to adjust the difference in the two light paths. The adjustment can be made manually or automatically adapted to the distance between the reference surface and the object surface.
Der im ersten Lichtweg vorhandene erste Interferometerspiegel ist über eine Oszillationseinrichtung oszillierend bewegbar. Vorzugsweise wird der Interferometerspiegel oszillierend in Richtung der optischen Achse des ersten Lichtweges bewegt. Aufgrund dieser oszillierenden Bewegung erhöht bzw. verringert sich die Differenz zwischen den beiden Lichtwegen um die Amplitude der Oszillationsbewegung. Das an den Interferometerspiegeln reflektierte Licht wird anschließend durch ein Überlagerungsmittel überlagert, wodurch Interferenzeffekte auftreten. Die Intensität des überlagerten Lichts ändert sich abhängig von der Oszillationsbewegung des ersten Interferometerspiegels und wird von einem Fotosensor erfasst. Der Fotosensor ist vorzugsweise von einer Fotodiode, einem Fotowiderstand oder einem Fototransistor gebildet. Er ist als Punktsensor ausgeführt, sozusagen annähernd nulldimesional. Während einer halben Periodendauer der Oszillationsbewegung wird daher lediglich der Abstand an einer einzigen punktförmigen Stelle der Objektoberfläche zu einem Zeitpunkt erfasst. Die Intensität wird durch den Fotosensor an dieser einen Messstelle abhängig von der Zeit erfasst. Eine Strahlaufweitung ist daher nicht notwendig und es können sehr klein bauende Anordnungen realisiert werden.The first interferometer mirror present in the first light path can be moved in an oscillating manner by means of an oscillation device. Preferably, the interferometer mirror is oscillated in the direction of the optical axis of the first optical path. Due to this oscillating movement, the difference between the two light paths increases or decreases by the amplitude of the oscillation movement. The reflected light at the interferometer mirrors is then superimposed by a superposition means, whereby interference effects occur. The intensity of the superimposed light changes depending on the oscillation movement of the first interferometer mirror and is detected by a photosensor. The photosensor is preferably formed by a photodiode, a photoresistor or a phototransistor. It is designed as a point sensor, so to speak, almost zero-dimensional. During half a period of the oscillation movement, therefore, only the distance at a single punctual point of the object surface is detected at one time. The intensity is determined by the photo sensor at this one measuring point depending on the Time recorded. A beam expansion is therefore not necessary and it can be realized very small-sized arrangements.
Bei dieser Anordnung kann der gewünschte Messbereich durch die Amplitude der Oszillationsbewegung des ersten Interferometerspiegels vorgegeben und beeinflusst werden. Beispielsweise kann die Oszillationsamplitude zwischen einigen Mikrometern und einigen hundert Mikrometern liegen. Über die Oszillationsfrequenz wird die Messfrequenz der Messeinrichtung bzw. des Messverfahrens bestimmt. Bevorzugte Oszillationsfrequenzen liegen im Bereich von einigen 100 Hertz bis etwa 100 Kilohertz.With this arrangement, the desired measurement range can be predetermined and influenced by the amplitude of the oscillation movement of the first interferometer mirror. For example, the oscillation amplitude may be between a few micrometers and a few hundred micrometers. About the oscillation frequency, the measuring frequency of the measuring device or the measuring method is determined. Preferred oscillation frequencies are in the range of a few hundred hertz to about 100 kilohertz.
Im Interferometer sind bei dieser Bauart keine Spiegelschrägstellung und keine Strahlaufweitung erforderlich. Dadurch steigt die Lichtausbeute am Fotosensor. Die Signalintensität ist über den gesamten Messbereich gleich. Da die Lichtstrahlen in Richtung der optischen Achse der Lichtwege verlaufen, sind Dispersionseffekte vermieden. Die Interferometerspiegel können rechtwinklig zu der optischen Achse des jeweiligen Lichtwegs ausgerichtet werden, was den Aufbau und die Montage deutlich vereinfacht und die Kostender Messeinrichtung senkt.In the interferometer no mirror skew and no beam expansion are required in this design. This increases the light output at the photo sensor. The signal intensity is the same over the entire measuring range. Since the light rays run in the direction of the optical axis of the light paths, dispersion effects are avoided. The interferometer mirrors can be aligned at right angles to the optical axis of the respective light path, which considerably simplifies assembly and assembly and reduces the cost of the measuring device.
Es ist vorteilhaft, wenn die Interferometerspiegel als Planspiegel ausgeführt sind, die sich rechtwinklig zur optischen Achse des jeweiligen Lichtwegs erstrecken. Planspiegel sind kostengünstig herzustellen.It is advantageous if the interferometer mirrors are designed as plane mirrors which extend at right angles to the optical axis of the respective light path. Flat mirrors are inexpensive to produce.
Vorzugsweise werden als Lichtquelle zwei Superlumineszenzdioden verwendet, wobei die Schwerpunktwellenlängen des von den beiden Superlumineszenzdioden abgestrahlten Lichts unterschiedlich sind. Auf diese Weise kann das gewünschte kurzkohärente Licht erzeugt werden. Beispielsweise kann die Differenz zwischen den Schwerpunktwellenlängen 50 bis 100 Nanometer betragen. Bei einer bevorzugten Ausführung beträgt die Schwerpunktwellenlänge der einen Diode 750 Nanometer und die der anderen Diode 830 Nanometer. Die spektrale Breite des von einer Superlumineszenzdiode abgestrahlten Lichts beträgt etwa 20 bis 30 Nanometer. Alternativ zu dieser bevorzugten Ausführungsform kann anstelle von zwei Superlumineszenzdioden auch lediglich eine Superlumineszenzdiode mit entsprechend breiter Spektralcharakteristik verwendet werden, um ausreichend kurzkohärentes Licht zu erzeugen. Auch andere Kombinationen von Leuchtmitteln sind möglich, beispielsweise einer Superlumineszenzdiode mit einer Laserdiode oder dergleichen.Preferably, two superluminescent diodes are used as the light source, the centroid wavelengths of the light emitted by the two superluminescent diodes being different. In this way, the desired short-coherent light can be generated. For example, the difference between the centroid wavelengths may be 50 to 100 nanometers. In a preferred embodiment, the centroid wavelength of one diode is 750 nanometers and that of the other diode is 830 nanometers. The spectral width of the light emitted by a super-luminescent diode is about 20 to 30 nanometers. As an alternative to this preferred embodiment, instead of two superluminescent diodes, only one superluminescent diode with a correspondingly broad spectral characteristic can be used to generate sufficiently short-coherent light. Other combinations of bulbs are possible, for example, a superluminescent diode with a laser diode or the like.
An der Sonde ist vorzugsweise ein Kollimatorelement vorhanden, das zur Abstrahlung des Lichts in den Messlichtweg dient. Über das Kollimatorelement kann eine Fokussierung des Messlichtstrahls auf die Objektoberfläche erreicht werden. Gleichzeitig ist es auch möglich, die Referenzfläche am Kollimatorelement vorzusehen und insbesondere an der Austrittsfläche des Messlichtstrahls am Kollimatorelement. Auf die Weise wird in der Sonde eine so genannte Commonpath-Anordnung erreicht. Die Sonde weist bei dieser Ausgestaltung einen sehr kompakten Aufbau auf und benötigt wenig Bauraum.A collimator element is preferably present on the probe, which serves to radiate the light into the measuring light path. By means of the collimator element, focusing of the measuring light beam on the object surface can be achieved. At the same time it is also possible to provide the reference surface on the collimator element and in particular on the exit surface of the measuring light beam on the collimator element. In this way, a so-called common path arrangement is achieved in the probe. The probe has a very compact construction in this embodiment and requires little space.
Um die Ausleuchtung des Fotosensors und die Lichtausbeute zu verbessern, kann zwischen dem Interferometer und dem Fotosensor ein optisches Element vorgesehen sein. Dieses optische Element kann auch die Ausbreitungsrichtung des Lichts zwischen Interferometer und Fotosensor ändern.In order to improve the illumination of the photosensor and the luminous efficacy, an optical element may be provided between the interferometer and the photosensor. This optical element can also change the propagation direction of the light between the interferometer and the photosensor.
Das vom Fotosensor erzeugte elektrische Sensorsignal wird vorzugsweise an eine Auswerteeinrichtung übermittelt, die den Abstandswert bestimmt. Vor der Berechnung des Abstandswertes wird das analoge Sensorsignal in ein digitales Signal gewandelt. Zur Verbesserung der Signalqualität wird insbesondere vor der Analog-Digital-Wandlung eine analoge Filterung des Sensorsignals durchgeführt. Beispielsweise kann ein analoges Filter in Form eines Bandpasses in der Auswerteeinrichtung vor dem Analog-Digital-Wandler angeordnet sein. Der Analog-Digital-Wandler der Auswerteeinrichtung ist bevorzugt als 2-Kanal-Analog-Digital-Wandler ausgeführt, der das Sensorsignal, sowie ein die Oszillation des ersten Interferometerspiegels beschreibendes Schwingungssignal synchron abtastet. Das digitalisierte Schwingungssignal dient als Referenzsignal zur Bestimmung der Nulllage des digitalisierten Sensorsignals für die weitere Abstandswertbestimmung.The electrical sensor signal generated by the photosensor is preferably transmitted to an evaluation device which determines the distance value. Before calculating the distance value, the analog sensor signal is converted into a digital signal. To improve the signal quality, an analog filtering of the sensor signal is carried out in particular before the analog-to-digital conversion. For example, an analog filter in the form of a bandpass filter may be arranged in the evaluation device before the analog-to-digital converter. The analog-to-digital converter of the evaluation device is preferably designed as a 2-channel analog-digital converter which synchronously samples the sensor signal, as well as a vibration signal describing the oscillation of the first interferometer mirror. The digitized oscillation signal serves as a reference signal for determining the zero position of the digitized sensor signal for the further distance value determination.
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel kann in der Auswerteeinrichtung ein Messverfahren mit einen oder mehreren von drei Schritten ausgeführt werden. In jedem Schritt kann dabei ein Abstandswert ermittelt werden, wobei die Eindeutigkeit und die Messgenauigkeit der einzelnen Abstandswerte verschieden ist. Vorzugsweise werden zumindest zwei dieser Schritte während des Messvorgangs in der Auswerteeinrichtung durchgeführt. Im ersten Schritt wird der erste Abstandswert anhand des Interferenzmaximums bestimmt. Im zweiten Schritt wird eine Phasendifferenz zwischen von der Objektoberfläche reflektierten unterschiedlichen Lichtfarben bestimmt. In einem dritten Schritt wird die Phase zumindest einer Lichtfarbe des von der Objektoberfläche reflektierten Lichts ermittelt und mit einem vorgegebenen Phasenwert verglichen. Anhand des Vergleichsergebnisses wird der dritte Abstandswert ermittelt. Die Genauigkeit steigt vom ersten zum dritten Abstandswert, während die Eindeutigkeit abnimmt. Daher ist es besonders bevorzugt, die drei Schritte in der genannten Reihenfolge durchzuführen, um sowohl eine große Eindeutigkeit, als auch eine große Messgenauigkeit zu erhalten.In a preferred embodiment, a measuring method with one or more of three steps can be carried out in the evaluation device. In each step, a distance value can be determined, the uniqueness and the measurement accuracy of the individual distance values being different. Preferably, at least two of these steps are performed during the measuring process in the evaluation device. In the first step, the first distance value is determined on the basis of the interference maximum. In the second step, a phase difference between different light colors reflected by the object surface is determined. In a third step, the phase of at least one light color of the light reflected from the object surface is determined and compared with a predetermined phase value. Based on the comparison result, the third distance value is determined. The accuracy increases from the first to the third Distance value while the uniqueness decreases. Therefore, it is particularly preferable to perform the three steps in the order mentioned to obtain both a high uniqueness and a high measurement accuracy.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Patentansprüchen sowie der Beschreibung. Die Beschreibung beschränkt sich dabei auf wesentliche Merkmale der Erfindung. Die Zeichnung ist ergänzend heranzuziehen. Es zeigen:Advantageous embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims and the description. The description is limited to essential features of the invention. The drawing is to be used as a supplement. Show it:
Die beiden Superlumineszenzdioden
Der erste Faserkoppler
Die numerische Apertur des optischen Elements
Das optische Element
Sowohl das im Referenzlichtweg R reflektierte Licht, als auch das im Messlichtweg M reflektierte Licht werden wieder in die zweite Monomodenfaser
Das Interferometer
Das aus dem ersten Lichtweg L1 sowie aus dem zweiten Lichtweg L2 reflektierte und überlagerte Licht weist nur für die Anteile stabile Interferenzen auf, bei denen die Längendifferenz des Referenzlichtwegs R und des Messlichtwegs M kompensiert durch die unterschiedlich langen Lichtwege L1, L2 wurde. Die Interferenzen in diesen Anteilen des vom Fotosensor
Die beiden Interferometerspiegel
Die Messeinrichtung
Zu diesem Zweck wird der Oszillationsantrieb
Die Auswerteeinrichtung
Die Abtastfrequenz wird dabei unter Berücksichtung der Oszillationsfrequenz f und/oder der Bandbreite des analogen Bandpasses
Das erste Digitalsignal D1 wird anschließend in einem Auswerteblock
Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel erfolgt die Ermittlung des Abstandswerts d in drei Schritten:
Das von der Lichtquelle
That from the
In einem zweiten Schritt erfolgt jeweils eine Phasenauswertung für die beiden Schwerpunktwellenlängen der beiden Superluminiszenzdioden
- φ1:
- Phase des Lichts der Schwepunktwellenlänge λ1,
- φ2:
- Phase des Lichts der Schwepunktwellenlänge λ2,
- m2:
- ganzzahliger Faktor
- φ 1 :
- Phase of the light of the spot wavelength λ 1 ,
- φ 2 :
- Phase of the light of the spot wavelength λ 2 ,
- m 2 :
- integer factor
Der zweite Abstandswert d2 ist deutlich genauer als der erste Abstandswert d1. Der Faktor m2 ist in Gleichung (1) derjenige ganzzahlige Wert, der den Betrag der Differenz zwischen dem ersten Abstandswert d1 und dem zweiten Abstandswert d2 minimiert. Dadurch wird sichergestellt, dass der genauere zweite Abstandswert d2 innerhalb des Eindeutigkeitsbereichs liegt. Zur Ermittlung der Phasendifferenz Δφ kann beispielsweise eine Fourietransformation durchgeführt werden, um die Phasenwerte φ1, φ2 zu erhalten.The second distance value d 2 is significantly more accurate than the first distance value d 1 . The factor m 2 in equation (1) is that integer value which is the magnitude of the difference between the first distance value d 1 and the second distance value d 2 minimized. This ensures that the more accurate second distance value d 2 is within the uniqueness range. To determine the phase difference Δφ, for example, a Fourier transformation can be carried out in order to obtain the phase values φ 1 , φ 2 .
In einem dritten Schritt wird ein dritter Abstandwert d3 bestimmt, dessen Genauigkeit weiter erhöht ist. Die Berechnung erfolgt anhand folgender Gleichung: mit
- φ0:
- Konstante,
- m3:
- ganzzahliger Faktor
- φ 0 :
- Constant,
- m 3 :
- integer factor
Der Faktor m3 ist derjenige ganzzahlige Wert, bei dem die Differenz zwischen dem dritten Abstandswert d3 und dem zweiten Abstandswert d2 minimal ist. Der Wert φ0 wird durch Kalibrierung ermittelt und stellt eine Konstante dar.The factor m 3 is the integer value at which the difference between the third distance value d 3 and the second distance value d 2 is minimal. The value φ 0 is determined by calibration and represents a constant.
Im Auswerteblock
In
Um Störungen zu vermeiden oder zumindest zu reduzieren, weil am ersten Interferometerspiegel
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Messeinrichtung und ein Messverfahren zur Bestimmung eines absoluten Abstandswerts zwischen einer Sonde
Bezugszeichenliste LIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1010
- Messeinrichtungmeasuring device
- 11, 11'11, 11 '
- LichtaustrittsflächeLight-emitting surface
- 1212
- Sondeprobe
- 1313
- Objektoberflächeobject surface
- 1414
-
optische Achse v.
12 optical axis v.12 - 1515
- Lichtquellelight source
- 1616
- LeuchtmittelLamp
- 1717
- FaserpigtailPigtail
- 1818
- erster Faserkopplerfirst fiber coupler
- 2222
- erste Monomodenfaserfirst single-mode fiber
- 2323
- zweiter Faserkopplersecond fiber coupler
- 2424
- zweite Monomodenfasersecond single mode fiber
- 2525
-
optisches Element v.
12 optical element v.12 - 2626
- geneigter Spiegelinclined mirror
- 2727
- Referenzflächereference surface
- 2929
- dritte Monomodenfaserthird single mode fiber
- 3030
- Interferometerinterferometer
- 3131
- Kollimatorcollimator
- 3232
- Strahlteilerbeamsplitter
- 3333
- erster Interferometerspiegelfirst interferometer level
- 3434
- zweiter Interferometerspiegelsecond interferometer mirror
- 3535
- Fotosensorphotosensor
- 3636
- optisches Elementoptical element
- 3737
- Auswerteeinrichtungevaluation
- 4040
- optische Achse v. L1optical axis v. L1
- 4141
- optische Achse v. L2optical axis v. L2
- 4242
- Verstellantriebadjustment
- 4545
- Oszillationseinrichtungoscillation
- 4646
- Oszillationsantrieboscillatory
- 4747
- Signalgeneratorsignal generator
- 5050
- Filterfilter
- 5151
- Analog-Digital-WandlerAnalog to digital converter
- 5252
- Auswerteblockevaluation block
- 5555
- Hüllkurveenvelope
- 5757
- Spiegelmirror
- 5858
- vierte Monomodenfaserfourth single-mode fiber
- 5959
- dritter Faserkopplerthird fiber coupler
- AA
- Amplitudeamplitude
- dd
- Abstanddistance
- D1D1
- erstes Digitalsignalfirst digital signal
- D2D2
- zweites Digitalsignalsecond digital signal
- ff
- Frequenzfrequency
- GG
- gefiltertes Signalfiltered signal
- L1L1
- erster Lichtwegfirst light path
- L2L2
- zweiter Lichtwegsecond light path
- MM
- Messlichtwegmeasuring light path
- RR
- Referenzlichtwegreference light
- SS
- Sensorsignalsensor signal
- PP
- Schwingungssignalvibration signal
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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PCT/EP2011/058676 WO2011151255A1 (en) | 2010-06-01 | 2011-05-26 | Measuring device and measuring method for absolute distance measurement |
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R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20120406 |