DE102010001071A1 - Tetraaminodisiloxanes and polyamides prepared therewith - Google Patents
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Abstract
Tetraaminodisiloxan der folgenden Formel (I)mit R1, R2, gleich oder verschieden, ausgewählt aus der Gruppe der linearen, verzweigten oder cyclischen Alkylreste, Alkenylreste, Alkinylreste, Arylreste, Heteroarylreste, und R3, R4, R5, R6 gleich oder verschieden ausgewählt aus der Gruppe H, lineare, verzweigte oder cyclische Alkylreste, Alkenylreste, Alkinylreste, Arylreste, Heteroarylreste, Halogene und Pseudohalogene sowie damit hergestellte Polyimide.Tetraaminodisiloxane of the following formula (I) with R1, R2, identical or different, selected from the group of linear, branched or cyclic alkyl radicals, alkenyl radicals, alkynyl radicals, aryl radicals, heteroaryl radicals, and R3, R4, R5, R6, identically or differently selected from the group Group H, linear, branched or cyclic alkyl radicals, alkenyl radicals, alkynyl radicals, aryl radicals, heteroaryl radicals, halogens and pseudohalogens and polyimides prepared therewith.
Description
Stand der TechnikState of the art
Im Bereich der Hochleistungspolymere sind Polyimide als Spezialpolymere für verschiedene Anwendungen bekannt, die eine sehr gute Temperaturstabilität erfordern. Sie verfügen darüber hinaus über gute mechansiche Eigenschaften und sind chemisch beständig und oxidationsunempfindlich. In der Regel werden Polyimide mit einer hohen thermischen Beständigkeit in zwei Stufen aus einem aromatischen Diamin und einem aromatischen Dianhydrid als Pulver hergestellt. In der ersten Stufe führt die Addition der Diamine mit Tetracarbonsäuredianhydriden zu in dipolar-aprotischen Lösungsmitteln löslichen Polyamid-Polycarbonsäuren, die in einem zweiten Schritt unter Wasserabspaltung intramolekular zu meist unlöslichen Polyimiden cyclisieren.In the field of high-performance polymers, polyimides are known as special polymers for various applications which require very good temperature stability. They also have good mechanical properties and are chemically resistant and resistant to oxidation. In general, polyimides having high thermal resistance are prepared in two stages from an aromatic diamine and an aromatic dianhydride as a powder. In the first stage, the addition of the diamines with tetracarboxylic dianhydrides leads to polyamide-polycarboxylic acids which are soluble in dipolar aprotic solvents and in a second step cyclize with intramolecular dehydrogenation to give mostly insoluble polyimides.
Die thermoplastische Verarbeitbarkeit der Polyimide hängt stark von zwei Parametern ab: der Struktur der Polymerketten und dem Molekulargewicht. Einige Polyimide, insbesondere homopolymere Polyimide, haben eine sehr hohe thermische Beständigkeit und gute mechanische Eigenschaften. Allerdings haben diese Polyimide den Nachteil, nicht als Thermoplaste verarbeitet werden zu können, denn bei Polyimiden mit hoher Molekülsymmetrie liegt die Schmelztemperatur oberhalb ihrer Zersetzungstemperatur. Aus diesem Grund werden thermoplastisch verarbeitbare Materialen als Copolymere hergestellt. Die copolymerbasierten Polyimide ermöglichen eine thermoplastische Verarbeitung, jedoch ist eine strikte Einhaltung der Stöchiometrie der Edukte für ein geeignetes Eigenschaftsprofil der Polymere unentbehrlich. Deswegen müssen die Reaktionsbedingungen streng kontrolliert werden, um die Zusammensetzung und die Eigenschaften des Materials reproduzierbar zu erhalten.The thermoplastic processability of the polyimides depends strongly on two parameters: the structure of the polymer chains and the molecular weight. Some polyimides, especially homopolymeric polyimides, have very high thermal stability and good mechanical properties. However, these polyimides have the disadvantage that they can not be processed as thermoplastics, because for polyimides with high molecular symmetry, the melting temperature is above its decomposition temperature. For this reason, thermoplastically processable materials are produced as copolymers. The copolymer-based polyimides allow thermoplastic processing, but strict adherence to the stoichiometry of the educts for a suitable property profile of the polymers is indispensable. Therefore, the reaction conditions must be strictly controlled to reproducibly obtain the composition and properties of the material.
Ab einem bestimmten Molekulargewicht ist es auch im Fall der Copolymere nicht mehr möglich, diese Polyimide aus der Schmelze zu verarbeiten. Aus diesem Grund wird versucht das Molekulargewicht durch den Einsatz monofunktioneller Endgruppen zu steuern und zu begrenzen. Obwohl diese Methode gut etabliert ist und als einfach gilt, hat die Benutzung von monofunktionellen Endgruppen einen nachteiligen Einfluss auf die mechanischen Eigenschaften der Polymere. Die monofunktionellen Endgruppen können zu einer breiteren Molekulargewichtsverteilung und zu der Anwesenheit von Oligomeren im Material führen, was eine negative Auswirkung auf die mechanischen Eigenschaften des Materials haben kann und somit die Anwendung der Polyimide als Werkstoffe einschränken kann.From a certain molecular weight, it is no longer possible, even in the case of the copolymers, to process these polyimides from the melt. For this reason, it is attempted to control and limit the molecular weight by using monofunctional end groups. Although this method is well established and considered simple, the use of monofunctional end groups has a detrimental effect on the mechanical properties of the polymers. The monofunctional end groups can lead to a broader molecular weight distribution and to the presence of oligomers in the material, which can have a negative impact on the mechanical properties of the material and thus limit the use of the polyimides as materials.
Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention
Gegestand der vorliegenden Erfindung ist ein Tetraaminodisiloxan der folgenden Formel (I) mit R1, R2 gleich oder verschieden, ausgewählt aus der Gruppe der linearen, verzweigten oder cyclischen Alkylreste, Alkenylreste, Alkinylreste, Arylreste, Heteroarylreste,
und R3, R4, R5, R6 gleich oder verschieden, ausgewählt aus der Gruppe H, der linearen, verzweigten oder cyclischen Alkylreste, Alkenylreste, Alkinylreste, Arylreste, Heteroarylreste, Halogene und Pseudohalogene.Item of the present invention is a tetraaminodisiloxane of the following formula (I) with R 1 , R 2, identical or different, selected from the group of the linear, branched or cyclic alkyl radicals, alkenyl radicals, alkynyl radicals, aryl radicals, heteroaryl radicals,
and R 3 , R 4 , R 5 , R 6, identically or differently, are selected from the group consisting of H, linear, branched or cyclic alkyl radicals, alkenyl radicals, alkynyl radicals, aryl radicals, heteroaryl radicals, halogens and pseudohalogens.
Den Kernpunkt der Erfindung stellen neue Tetraaminodisiloxane für die Herstellung neuartiger thermoplastischer polyimidbasierter Kunststoffe mit hoher thermischer Beständigkeit dar, die mittels Extrusion oder Spritzguss verarbeitet werden können. In diesem Zusammenhang wird durch die Auswahl und Bereitstellung der neuen Ausgangsmaterialien ein Einfluss auf das Eigenschaftsprofil der Thermoplasten, insbesondere in Bezug auf die mechanischen und thermischen Eigenschaften, ermöglicht. Die resultierenden thermoplastischen polyimidbasierten Kunststoffe können eine Schmelztemperatur im Bereich von 300°C–400°C sowie eine Zersetzungstemperatur oberhalb 400°C aufweisen. Weiterhin sind diese Materialen beständig gegenüber Lösungsmitteln und Oxidation.At the heart of the invention are novel tetraaminodisiloxanes for the production of novel thermoplastic polyimide-based plastics with high thermal resistance, which can be processed by means of extrusion or injection molding. In this context, the selection and provision of the new starting materials makes it possible to influence the property profile of the thermoplastics, in particular with regard to the mechanical and thermal properties. The resulting thermoplastic polyimide-based plastics can have a melting temperature in the range of 300 ° C-400 ° C as well have a decomposition temperature above 400 ° C. Furthermore, these materials are resistant to solvents and oxidation.
Die hier vorgestellten neuen Tetraaminodisiloxane und die daraus erhältlichen Polyimide erfüllen das oben erwähnte Eigenschaftsprofil gut. Weiterhin haben die Tetraaminodisiloxane den Vorteil, dass sie mit entsprechend bevorzugten Tetracarbonsäuredianhydriden die Polyimide als Homopolymere synthetisieren können. Somit wird der Einsatz monofunktioneller Endgruppen für eine thermoplastische Verarbeitbarkeit der Polyimide nicht benötigt. Eine Verschlechterung der mechanischen Eigenschaften aufgrund von verbleibenden monofunktionellen Monomeren oder dadurch auftretender Oligomeren wird damit wirksam verhindert.The new tetraaminodisiloxanes and the polyimides obtainable from them fulfill the abovementioned property profile well. Furthermore, the tetraaminodisiloxanes have the advantage that they can synthesize the polyimides as homopolymers with correspondingly preferred tetracarboxylic dianhydrides. Thus, the use of monofunctional end groups for thermoplastic processability of the polyimides is not needed. Deterioration of the mechanical properties due to remaining monofunctional monomers or oligomers occurring thereby is effectively prevented.
Durch den Einbau von Disiloxan-Einheiten der erfindungsgemäßen Tetraaminodisiloxane werden erstmals Polyimide als so genannte Leiterpolymere hergestellt. In diesen sind zwei lineare Molekülketten in definierten Abständen durch Si-O-Si „Sprossen” miteinander verbunden. Aufgrund ihrer Struktur sind sie besonders widerstandsfähig: Kommt es zum Bruch eines Kettenstranges, so wird die Kette immer noch durch den zweiten Strang zusammengehalten. Insbesondere im Hinblick auf eine hohe thermische Stabilität kann bei Leiterpolymeren angeführt werden, dass erst bei sehr hohen Temperaturen ein Abbau der Molekülketten stattfindet. Das hat den Hintergrund, dass es bei normalen Thermoplasten z. B. infolge von Wärmeeinwirkung zu einer Kettenspaltung kommt, die schnell zu einer erheblichen Verschlechterung der mechanischen Eigenschaften führt. Bei einem Leiterpolymer müssen aber beide verbundenen Kettenstränge an ein und derselben Stelle gespalten werden, bevor es zu einer Kettenspaltung kommt und damit zu einem Molekulargewichtsabbau, der zu der Verschlechterung der mechanischen Eigenschaften führt.By incorporating disiloxane units of the tetraaminodisiloxanes according to the invention, polyimides are prepared for the first time as so-called conductor polymers. In these two linear molecular chains are connected at defined distances by Si-O-Si "rungs". Due to their structure, they are particularly resistant: If a chain strand breaks, the chain is still held together by the second strand. In particular, with regard to a high thermal stability can be stated in ladder polymers that takes place only at very high temperatures degradation of the molecular chains. This has the background that it is normal for z. B. due to heat to chain scission occurs, which leads quickly to a significant deterioration of the mechanical properties. In the case of a ladder polymer, however, both connected chain strands must be split at one and the same point before chain scission occurs and, consequently, a molecular weight degradation which leads to the deterioration of the mechanical properties.
In Bezug auf die Reste R3, R4, R5, R6 ist es gleichermaßen im Rahmen der vorliegenden Erfindung, dass jeder Rest R3, R4, R5, und R6 auch mehr als einen Substituenten des entsprechenden Phenylrings ausgewählt aus der genannten Gruppe, repräsentiert.With respect to the radicals R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , it is equally within the scope of the present invention that each radical R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 is also selected from more than one substituent of the corresponding phenyl ring the said group represents.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung können die Reste R1 und R2 ausgewählt sein aus der Gruppe der linearen oder verzweigten C1-C20-Alkylreste, der C1-C20-Arylreste und der C1-C20-Heteroarylreste.In a preferred embodiment of the invention, the radicals R 1 and R 2 may be selected from the group of the linear or branched C 1 -C 20 -alkyl radicals, the C 1 -C 20 -aryl radicals and the C 1 -C 20 -heteroaryl radicals.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung können die Aminogruppen jeweils in para oder meta Stellung zur Disiloxangruppe angeordnet sein. Dadurch können besonders leicht zugängliche Ausgangschemikalien für die Herstellung der erfindungsgemäßen Tetraaminodisiloxane verwendet werden, was einen deutlichen Kostenvorteil für die resultierenden Polyimide hervorbringen kann. Zudem haben sich gerade die genannten para- und/oder meta-Aminophenylgruppen als solche Sturktureinheiten herausgestellt, die das Ziel eines hohen Schmelzpunkts, der jedoch unter der Zersetzungstemperatur liegt, erfüllen können und gleichzeitig gute mechanische Eigenschaften der resultierenden Polymere sicherstellen.In a further preferred embodiment of the invention, the amino groups may each be arranged in the para or meta position to the disiloxane group. As a result, particularly readily available starting chemicals can be used for the preparation of the tetraaminodisiloxanes according to the invention, which can bring about a significant cost advantage for the resulting polyimides. In addition, the para- and / or meta-aminophenyl groups mentioned have just been found to be such sturcture units which can meet the objective of a high melting point but below the decomposition temperature and at the same time ensure good mechanical properties of the resulting polymers.
Bevorzugt können R1 und R2 ausgewählt sein aus der Gruppe der Phenyl- und Naphthylreste und die Aminogruppen in para und/oder meta Stellung zur Disiloxangruppe angeordnet sein. Insbesondere Tetraaminodislioxane der allgemeinen Formeln (II) oder (III) werden aufgrund ihrer Sturktur bevorzugt für die Herstellung von Polyimiden mit hervorragenden Eigenschaften eingesetzt: Preferably, R 1 and R 2 can be selected from the group of the phenyl and naphthyl radicals and the amino groups can be arranged in the para and / or meta position to the disiloxane group. In particular, tetraaminodislioxanes of the general formulas (II) or (III) are preferably used for the preparation of polyimides with outstanding properties because of their structure:
Ein weiterer Gegestand der vorliegenden Erfindung besteht in einem Polyimid, hergestellt durch Umsetzung von
- a) mindestens einem erfindungsgemäßen Tetraaminodisiloxan und
- b) mindestens einer organischen Tetracarbonsäure oder eines Tetracarbonsäurederivats.
- a) at least one tetraaminodisiloxane according to the invention and
- b) at least one organic tetracarboxylic acid or a tetracarboxylic acid derivative.
In einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die Tetracarbonsäurekomponente b) ausgewählt sein aus der Gruppe Benzol-1,2,4,5-tetracarbonsäure-1,2:4,5-dianhydrid, 3,3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid und 4,4'-Oxybis(phthalsäureanhydrid).In a preferred embodiment of the present invention, the tetracarboxylic acid component b) can be selected from the group benzene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid-1,2: 4,5-dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 4,4'-oxybis (phthalic anhydride).
Weiterhin bevorzugt kann die Tetraaminosisiloxankomponente a) ausgewählt sein aus der Gruppe der para- und/oder meta-Tretraaminophenyl-Disiloxane mit den Resten R1, R2, gleich oder verschieden, ausgewählt aus der Gruppe der linearen oder verzweigten Alkylreste, der Arylreste und der Heteroarylreste. Insbesondere bevorzugt sind die Reste R1 und R2 Phenylreste.Further preferably, the Tetraaminosisiloxankomponente a) be selected from the group of para- and / or meta-Tretraaminophenyl disiloxanes having the radicals R 1 , R 2 , the same or different, selected from the group of linear or branched alkyl radicals, the aryl radicals and heteroaryl. Particularly preferably, the radicals R 1 and R 2 are phenyl radicals.
Bevorzugt kann ein erfindungsgemäßes Polyimid zur Herstellung eines Spritzgussteils, als Bauteil im Motorraum eines Kraftfahrzeugs, als Lagerkomopnente oder als Isolationsmaterial in der Druck- oder Elektronikindustrie Verwendung finden. Die erfindungsgemäß hergestellten Polymere können aufgrund ihrer guten Kombination von mechanischen und thermischen Eigenschaften insbesondere als Baumaterialen für die Anfertigung von thermischen hochbeanspruchten Komponenten im Motorraum von Kraftfahrzeugen wie Dichtungen oder Kolbenringe, eingesetzt werden, sowie als Ersatz für das kommerzielle Polymer „Vespel” der Firma DuPont, das als Sinterwerkstoff für Lager eingesetzt wird.A polyimide according to the invention may preferably be used for producing an injection-molded part, as a component in the engine compartment of a motor vehicle, as a bearing component or as an insulation material in the printing or electronics industry. Due to their good combination of mechanical and thermal properties, the polymers produced according to the invention can be used in particular as building materials for the manufacture of highly stressed thermal components in the engine compartment of motor vehicles such as seals or piston rings, and as a replacement for the commercial polymer "Vespel" from DuPont. which is used as a sintered material for bearings.
BeispieleExamples
1 Herstellung von Tetraaminodisiloxanen gemäß der Formel (I): 1.1 Umsetzung von Bromanilin mit Tertbutyldicarbonat (Boc2O) 1 Preparation of tetraaminodisiloxanes according to the formula (I): 1.1 Reaction of bromoaniline with tert-butyl dicarbonate (Boc 2 O)
Es wurden 20 g (0.116 mol) Bromanilin in 234 mL Wasser dispergiert. Das Ditertbutyldicarbonat (Boc2O, 25.65 g, 0.116 mol) wurde bei 80°C aufgeschmolzen und zur Dispersion bei RT zugetropft. Die Reaktionsmischung wurde anschließend 24 h bei RT gerührt. Die Suspension wurde einer Filtration unterzogen. Das Pulver wurde drei Mal mit Wasser gewaschen und bei 80°C getrocknet.20 g (0.116 mol) of bromoaniline were dispersed in 234 ml of water. The di-tert-butyl dicarbonate (Boc 2 O, 25.65 g, 0.116 mol) was melted at 80 ° C and added dropwise to the dispersion at RT. The reaction mixture was then stirred at RT for 24 h. The suspension was subjected to filtration. The powder was washed three times with water and dried at 80 ° C.
1.1.A tert-Butyl-N-(4-bromphenyl)carbamat (weißes Pulver):1.1.A tert -Butyl N- (4-bromophenyl) carbamate (white powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.37 (s, 9H, -CH3); 7.23 (d, 2H, Phenyl); 7.29 (d, 2H, Phenyl); 8.43 (s, 1H, -NH-) 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 28 (-CH3); 79 (-C-); 115 (Phenyl C-Br); 121 (Phenyl CH); 132 (Phenyl CH); 140 (Phenyl C-NH-); 154 (-C=O) IR: v (cm–1)= 3367 (s, -NH); 2979 (s, -CH3); 1696 (s, -C=O); 1068 (s, -Br)NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1:37 (s, 9H, -CH 3); 7.23 (d, 2H, phenyl); 7.29 (d, 2H, phenyl); 8.43 (s, 1H, -NH-) 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 28 (-CH 3 ); 79 (-C-); 115 (phenyl C-Br); 121 (phenyl CH); 132 (phenyl CH); 140 (phenyl C-NH-); 154 (-C = O) IR: v (cm -1 ) = 3367 (s, -NH); 2979 (s, -CH 3 ); 1696 (s, -C = O); 1068 (s, -Br)
1.1B tert-Butyl-N-(3-bromphenyl)carbamat (braunes Pulver): 1.1B tert -Butyl N- (3-bromophenyl) carbamate (brown powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.5 (s, 9H, -CH3); 7.09 (te, 2H, Phenyl); 7.31 (d, 1H, Phenyl); 7.81 (s, 1H, Phenyl); 8.6 (s, 1H, -NH-). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH3); 78 (-C-); 114 (Phenyl CH); 119 (C-Br); 120 (Phenyl CH); 123 (Phenyl CH); 128 (Phenyl CH), 139 (Phenyl C-NH-); 150.9 (-C=O). IR: v (cm–1) = 3309 (s, -NH-); 2975 (s, -CH3); 1609 (s, -C=O); 1068 (s, Phenyl C-Br).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.5 (s, 9H, -CH 3); 7.09 (t, 2H, phenyl); 7.31 (d, 1H, phenyl); 7.81 (s, 1H, phenyl); 8.6 (s, 1H, -NH-). 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH 3 ); 78 (-C-); 114 (phenyl CH); 119 (C-Br); 120 (phenyl CH); 123 (phenyl CH); 128 (phenyl CH), 139 (phenyl C-NH-); 150.9 (-C = O). IR: v (cm -1 ) = 3309 (s, -NH-); 2975 (s, -CH 3 ); 1609 (s, -C = O); 1068 (s, phenyl C-Br).
1.2 Lithiierung von tert-Butyl-N-(4-bromphenyl)carbamat und tert-Butyl-N-(3-bromphenyl)carbamat mit Butyllithium 1.2 Lithiation of tert-butyl N- (4-bromophenyl) carbamate and tert-butyl N- (3-bromophenyl) carbamate with butyllithium
Alle Schritte wurden in Inertgasatmosphäre (Argon, 99.999%) durchgeführt. Die Lösungsmittel (Tetrahydrofuran, Hexan) wurden vor dem Einsatz in Argonatmosphäre mittels einer Na/K-Legierung getrocknet. 23.5 mL von einer Butyllithiumlösung 2.5 M in Hexan wurden in 150 mL Hexan verdünnt. Diese Lösung wurde zu einer auf –80°C abgekühlten Lösung von 15 g (0.045 mol) tert-Butyl-N-(4-bromphenyl)carbamat bzw. tert-Butyl-N-(3-bromphenyl)carbamat in 350 mL Tetrahydrofuran langsam zugetropft. Die Reaktionslösung wurde für 5 h bei –80°C gerührt und anschließend ohne weitere Verarbeitung einer Reaktion mit den Chlor-substituierten Siloxanen (siehe 1.3) unterzogen.All steps were carried out in an inert gas atmosphere (argon, 99.999%). The solvents (tetrahydrofuran, hexane) were dried before use in an argon atmosphere using a Na / K alloy. 23.5 mL of a 2.5 M butyllithium solution in hexane were diluted in 150 mL of hexane. This solution was slowly added to a solution of 15 g (0.045 mol) of tert-butyl N- (4-bromophenyl) carbamate or tert-butyl N- (3-bromophenyl) carbamate cooled to -80 ° C. in 350 ml of tetrahydrofuran dropwise. The reaction solution was stirred for 5 h at -80 ° C and then subjected without further processing of a reaction with the chloro-substituted siloxanes (see 1.3).
1.3: Umsetzung von tert-Butyl-N-(4-lithiophenyl)carbamats bzw. von tert-Butyl-N-(3-lithiophenyl)carbamats mit Chlor-substituierten Disilanen 1.3: Reaction of tert-butyl N- (4-lithiophenyl) carbamate or of tert-butyl N- (3-lithiophenyl) carbamate with chlorine-substituted disilanes
Zu der –80°C kalten Lösung, die bei der Lithiierung des tert-Butyl-N-(4-bromphenyl)carbamats bzw. tert-Butyl-N-(3-bromphenyl)carbamats (siehe 1.2) erhalten wurde, wurde eine Lösung von 4.86 g Trichlorphenylsilan in 50 mL Hexan langsam zugetropft. Anschließend wurde die Lösung 5 h bei –80°C gerührt. Dann wurde das Lösemittel in Vakuum (10–2 mbar) entfernt.To the -80 ° C solution obtained by lithiation of the tert-butyl N- (4-bromophenyl) carbamate or tert-butyl N- (3-bromophenyl) carbamate (see 1.2) a solution was obtained Of 4.86 g of trichlorophenylsilane in 50 mL of hexane is slowly added dropwise. The solution was then stirred at -80 ° C for 5 h. Then the solvent was removed in vacuo (10 -2 mbar).
Chlorphenyl-bis(4-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan (weißes Pulver):Chlorophenyl bis (4- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane (white powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.36 (s, 18H, -CH3); 6.93 (d, 3H, Phenyl CH); 7.29 (te, 6H, Phenyl CH); 7.8 (d, 4H, Phenyl CH); 8.59 (s, 2H, -NH-). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 28 (-CH3); 83 (-C-); 120 (Phenyl CH); 128 (Phenyl CH); 132 (Phenyl CH); 136 (Phenyl C-Si-); 140 (Phenyl C-NH-); 156 (-C=O). 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = –25. IR: v (cm–1) = 3417 (s, -NH-); 2977 (s, -CH3); 1698 (s, C=O); 1430 (s, Si-C Phenyl); 1120 (w, Si-C Phenyl); 700 (s, Si-C Phenyl).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d 8): δ (ppm) = 1:36 (s, 18H, -CH 3); 6.93 (d, 3H, phenyl CH); 7.29 (te, 6H, phenyl CH); 7.8 (d, 4H, phenyl CH); 8.59 (s, 2H, -NH-). 13 C (500 MHz, THF-d 8 ): δ (ppm) = 28 (-CH 3 ); 83 (-C-); 120 (phenyl CH); 128 (phenyl CH); 132 (phenyl CH); 136 (phenyl C-Si); 140 (phenyl C-NH-); 156 (-C = O). 29 Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = -25. IR: v (cm -1 ) = 3417 (s, -NH-); 2977 (s, -CH 3 ); 1698 (s, C = O); 1430 (s, Si-C phenyl); 1120 (w, Si-C phenyl); 700 (s, Si-C phenyl).
Chlorphenyl-bis(3-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan (weißes Pulver): Chlorophenyl bis (3- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane (white powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.36 (s, 18H, -CH3); 6.96 (te, 2H, Phenyl CH); 7.25, (te, 5H, Phenyl CH); 7.48 (d, 2H, Phenyl CH); 7.73 (d, 2H, Phenyl CH); 7.84 (d, 2H, Phenyl CH); 8.66 (s, 2H, -NH-) 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 28 (-CH3); 82 (-C-); 122 (Phenyl C-Si-); 124 (Phenyl CH); 128 (Phenyl CH); 130 (Phenyl CH); 133 (Phenyl CH); 135 (Phenyl CH); 141 (Phenyl C-NH-); 155 (-C=O) 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = –25 IR: v (cm–1) = 3331 (s, -NH-); 2975 (s, -CH3); 1732 (s, C=O); 1428 (m, Si-C Phenyl); 1153 (w, Si-C Phenyl); 694 (s, Si-C Phenyl).Δ (ppm) = 1:36 (s, 18H, -CH 3); NMR: 1 H (500 MHz, THF-d 8) 6.96 (te, 2H, phenyl CH); 7.25, (te, 5H, phenyl CH); 7.48 (d, 2H, phenyl CH); 7.73 (d, 2H, phenyl CH); 7.84 (d, 2H, phenyl CH); 8.66 (s, 2H, -NH-) 13 C (500 MHz, THF-d 8 ): δ (ppm) = 28 (-CH3); 82 (-C-); 122 (phenyl C-Si); 124 (phenyl CH); 128 (phenyl CH); 130 (phenyl CH); 133 (phenyl CH); 135 (phenyl CH); 141 (phenyl C-NH-); 155 (-C = O) 29 Si (500 MHz, THF-d 8 ): δ (ppm) = -25 IR: v (cm -1 ) = 3331 (s, -NH-); 2975 (s, -CH3); 1732 (s, C = O); 1428 (m, Si-Cphenyl); 1153 (w, Si-C phenyl); 694 (s, Si-C phenyl).
1.4: Hydrolyse von Chlorphenyl-bis(4-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan und von Chlorphenyl-bis(3-tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan 1.4: Hydrolysis of chlorophenyl bis (4- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane and of chlorophenyl bis (3-tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane
Chlorphenyl-bis(4-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan bzw. Chlorphenyl-bis(3-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)silan wurde mit Wasser bei RT umgesetzt. Durch die Hydrolyse entstehen Silanole, die in einem Kondensationsschritt in Disiloxane umgewandelt werden. Anschließend wurde das Pulver drei Mal mit Wasser gewaschen und bei 80°C getrocknet.Chlorophenyl bis (4- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane or chlorophenyl bis (3- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) silane was reacted with water at RT. Hydrolysis produces silanols which are converted into disiloxanes in a condensation step. Subsequently, the powder was washed three times with water and dried at 80 ° C.
1,1,3,3-Tetra(4-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)-1,3-diphenyldisiloxan (rosa Pulver):1,1,3,3-tetra (4- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) -1,3-diphenyldisiloxane (pink powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.42 (s, 36H, -CH3); 6.82 (d, 14H, Phenyl CH); 6.96 (d, 12H, Phenyl CH); 8.26 (s, 4H, -NH-). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH3); 77.5 (-C-); 112 (Phenyl CH); 118 (Phenyl CH); 126 (Phenyl CH); 130 (Phenyl CH); 132 (Phenyl C-Si-); 138 (Phenyl C-NH-); 151.5 (-C=O). 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = –80. IR: v (cm–1) = 3367 (s, -NH-); 2982 (s, -CH3); 1696 (s, C=O); 1430 (s, Si-C Phenyl); 1120 (m, Si-C Phenyl); 1050 (s, Si-C); 700 (s, Si-C Phenyl).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1:42 (s, 36H, -CH 3); 6.82 (d, 14H, phenyl CH); 6.96 (d, 12H, phenyl CH); 8.26 (s, 4H, -NH-). 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH 3 ); 77.5 (-C-); 112 (phenyl CH); 118 (phenyl CH); 126 (phenyl CH); 130 (phenyl CH); 132 (phenyl C-Si); 138 (phenyl C-NH-); 151.5 (-C = O). 29 Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = -80. IR: v (cm -1 ) = 3367 (s, -NH-); 2982 (s, -CH 3 ); 1696 (s, C = O); 1430 (s, Si-C phenyl); 1120 (m, Si-Cphenyl); 1050 (s, Si-C); 700 (s, Si-C phenyl).
1,1,3,3-Tetra(3-(tert-butylcarbamat-N-yl)phenyl)-1,3-diphenyldisiloxan (rosarotes Pulver): 1,1,3,3-Tetra (3- (tert-butylcarbamate-N-yl) phenyl) -1,3-diphenyldisiloxane (pink powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1.43 (s, 36H, -CH3); 6.58 (te, 14H, Phenyl CH); 6.84 (d, 4H, Phenyl CH); 7.31 (s, 8H, Phenyl CH); 8.17 (s, 4H, -NH-). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH3); 78 (-C-); 114 (Phenyl CH); 120 (Phenyl CH); 123 (Phenyl CH); 125 (Phenyl CH); 128 (Phenyl CH); 132 (Phenyl C-Si-); 140 (Phenyl C-NH-); 51 (-C=O). 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = –80. IR: v (cm–1) = 3421 (s, -NH-); 2973 (s, -CH3); 1691 (s, C=O); 1430 (s, Si-C Phenyl); 1125 (m, Si-C Phenyl); 1056 (s, -Si-O); 697 (s, Si-C Phenyl).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 1:43 (s, 36H, -CH 3); 6.58 (te, 14H, phenyl CH); 6.84 (d, 4H, phenyl CH); 7.31 (s, 8H, phenyl CH); 8.17 (s, 4H, -NH-). 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 26 (-CH 3 ); 78 (-C-); 114 (phenyl CH); 120 (phenyl CH); 123 (phenyl CH); 125 (phenyl CH); 128 (phenyl CH); 132 (phenyl C-Si); 140 (phenyl C-NH-); 51 (-C = O). 29 Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = -80. IR: v (cm -1 ) = 3421 (s, -NH-); 2973 (s, -CH 3 ); 1691 (s, C = O); 1430 (s, Si-C phenyl); 1125 (m, Si-Cphenyl); 1056 (s, -Si-O); 697 (s, Si-C phenyl).
1.5 Entfernung der tert-Butylcarbamatgruppe durch eine Reaktion mit Trifluoressigsäure in Toluol bei RT 1.5 Removal of the tert-butyl carbamate by reaction with trifluoroacetic acid in toluene at RT
Die mittels tert-Butylcarbamatgruppen geschützten Disiloxane, die unter 1.3 und 1.4 erhalten wurden, wurden in einer Reaktion mit Trifluoressigsäure entschützt. Zu einer Lösung von 1.41 × 10–2 mol geschütztes Disiloxan (14.93 g) in 45 mL Toluol wurden 0.07 mol (12 mL) Trifluoressigsäure zugetropft. Die Reaktionslösung wurde für 3 h bei RT gerührt und anschließend wurde das Lösungsmittel in Vakuum (10–2 mbar) entfernt. Das Produkt wurde anschließend mit Wasser versetzt und die Suspension mittels einer 0.5 M NaOH-Lösung auf einem neutralen pH-Wert (pH = 7) gebracht. Anschließend wurde die Suspension einer Filtration unterzogen. Das Pulver wurde dann drei Mal mit Wasser gewaschen und bei RT getrocknet.The tert-butylcarbamate-protected disiloxanes obtained in 1.3 and 1.4 were deprotected in a reaction with trifluoroacetic acid. To a solution of 1.41 × 10 -2 mol protected disiloxane (14.93 g) in 45 mL toluene was added dropwise 0.07 mol (12 mL) trifluoroacetic acid. The reaction solution was stirred for 3 h at RT and then the solvent was removed in vacuo (10 -2 mbar). The product was then treated with water and the suspension brought to a neutral pH (pH = 7) by means of a 0.5 M NaOH solution. Subsequently, the suspension was subjected to filtration. The powder was then washed three times with water and dried at RT.
1,1,3,3-Tetra(4-aminophenyl)-1,3-diphenyldisiloxan (rosarotes Pulver):1,1,3,3-tetra (4-aminophenyl) -1,3-diphenyldisiloxane (pink powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 6.7 (d, 8H, -NH2); 7.16 (d, 14H, Phenyl CH); 7.72 (s, 12H, Phenyl CH). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 109 (Phenyl CH); 116 (Phenyl CH); 128 (Phenyl CH); 132 (Phenyl CH); 134 (Phenyl C-Si-); 147 (Phenyl C-NH2). 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = –80. IR: v (cm–1) = 3600 (m, -NH2); 3385 (s, -NH2); 1430 (s, Si-C Phenyl); 1130 (s, Si-C Phenyl); 1068 (s. Si-O); 700 (s, Si-C Phenyl).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 6.7 (d, 8H, -NH 2); 7.16 (d, 14H, phenyl CH); 7.72 (s, 12H, phenyl CH). 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 109 (phenyl CH); 116 (phenyl CH); 128 (phenyl CH); 132 (phenyl CH); 134 (phenyl C-Si); 147 (phenyl C-NH 2 ). 29 Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = -80. IR: v (cm -1 ) = 3600 (m, -NH 2 ); 3385 (s, -NH 2 ); 1430 (s, Si-C phenyl); 1130 (s, Si-C phenyl); 1068 (see Si-O); 700 (s, Si-C phenyl).
1,1,3,3-Tetra(3-aminophenyl)-1,3-diphenyldisiloxan (rosarotes Pulver): 1,1,3,3-Tetra (3-aminophenyl) -1,3-diphenyldisiloxane (pink powder):
- NMR: 1H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 6.42 (d, 8H, -NH2); 6.57 (d, 8H, Phenyl CH); 6.70 (s, 8H, Phenyl CH); 6.79 (t, 10H, Phenyl CH). 13C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 114 (Phenyl CH); 118 (Phenyl CH); 120 (Phenyl CH); 123 (Phenyl C-Si-); 127 (Phenyl CH); 130 (Phenyl CH); 134 (Phenyl CH); 149 (Phenyl C-NH2). 29Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm)= –80. IR: v (cm–1) = 3399 (m, -NH2); 3071 (s, -NH2); 1432 (s, Si-C Phenyl); 1135 (s, Si-C Phenyl); 1068 (s. Si-O); 691 (s, Si-C Phenyl).NMR: 1 H (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 6.42 (d, 8H, -NH 2); 6.57 (d, 8H, phenyl CH); 6.70 (s, 8H, phenyl CH); 6.79 (t, 10H, phenyl CH). 13 C (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = 114 (phenyl CH); 118 (phenyl CH); 120 (phenyl CH); 123 (phenyl C-Si); 127 (phenyl CH); 130 (phenyl CH); 134 (phenyl CH); 149 (phenyl C-NH2). 29 Si (500 MHz, THF-d8): δ (ppm) = -80. IR: v (cm -1 ) = 3399 (m, -NH 2 ); 3071 (s, -NH 2 ); 1432 (s, Si-Cphenyl); 1135 (s, Si-C phenyl); 1068 (see Si-O); 691 (s, Si-C phenyl).
2 Herstellung von Disiloxangruppen enthaltenden Polyimiden gemäß der Erfindung 2.1 Umsetzung der Tetraaminodisiloxane mit Tetracarbonsäuredianhydriden 2 Preparation of Disiloxane-Containing Polyimides According to the Invention 2.1 Reaction of the Tetraaminodisiloxanes with Tetracarboxylic Dianhydrides
Zu einer Lösung von 4.09 × 10–3 mol (2.69 g) Tetra(aminophenyl)-substituiertes Diphenyldisiloxan in 14 mL Dimethylacetamid wurden 8.18 × 10–3 mol Tetracarbonsäuredianhydrid (1.78 g Benzol-1,2,4,5-tetracarbonsäure-1,2:4,5-dianhydrid bzw. 2.62 g, 3',4,4'-Benzophenontetracarbonsäure-dianhydrid bzw. 2.52 g 4,4'-Oxybis(phthalsäureanhydrid)) hinzugefügt. Die Reaktionslösung wurde für 24 h bei RT gerührt und ohne weitere Aufarbeitung und Charakterisierung in die nächste Reaktionsstufe eingesetzt. 2.2 Thermische Behandlung von Polyamidsäuren aus 2.1 zur Herstellung von erfindungsgemäßen Polyimiden To a solution of 4.09 × 10 -3 mol (2.69 g) tetra (aminophenyl) -substituted diphenyldisiloxane in 14 mL dimethylacetamide was added 8.18 × 10 -3 mol of tetracarboxylic dianhydride (1.78 g benzene-1,2,4,5-tetracarboxylic acid-1, 2: 4,5-dianhydride or 2.62 g, 3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride or 2.52 g 4, 4'-oxybis (phthalic anhydride)). The reaction solution was stirred for 24 h at RT and used without further workup and characterization in the next reaction stage. 2.2 Thermal treatment of polyamic acids from 2.1 for the preparation of polyimides according to the invention
Die unter Punkt 2.1 erhaltene Polyamidsäure-Lösung wurde 12 h bei 150°C erwärmt. In Abhängigkeit von der eingesetzten Polyamidsäure fällt das Polyimid aus der Lösung aus oder bleibt in der Lösung. Wenn das Polyimid aus der Lösung ausfällt, wurde die anschließend erhaltene Suspension filtriert, das feste Produkt mit Wasser gewaschen und dann bei 80°C getrocknet. Wenn das Produkt in der Lösung bleibt, wurde es durch das Hinzufügen von Wasser ausgefällt und dann anschließend einer Aufarbeitung wie oben beschrieben unterzogen. IR: v (cm–1)= 1774 (m, Imid); 1721 (s, -C=O); 1435 (m, Si-C Phenyl); 1113 (s, Si-C Phenyl); 1070 (m, Si-O); 703 (m, Si-C Phenyl).
Zersetzungstemperatur (°C) = 443 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt) IR: v (cm–1) = 1777 (m, Imid); 1720 (s, -C=O); 1430 (m, Si-C Phenyl); 1108 (s, Si-C Phenyl); 1068 (m, Si-O); 706 (m, Si-C Phenyl).
Zersetzungstemperatur (°C) = 380 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt). IR: v (cm–1) 1781 (m, Imid); 1720 (s, -C=O); 1491 (m, Si-C Phenyl); 1120 (m, Si-C Phenyl); 1012 (m, Si-O); 710 (s, Si-C Phenyl).
Schmelztemperatur (°C) = 401
Zersetzungstemperatur (°C) = 450 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt).
450 (mittels TGA unter künstlicher Luft-Atmosphäre bestimmt) IR: v (cm–1) = 1779 (m, Imid); 1723 (s, -C=O); 1428 (m, Si-C Phenyl); 1130 (s, Si-C Phenyl); 1077 (s, Si-O); 697 (m, Si-C Phenyl).
Schmelztemperatur (°C) = 200
Zersetzungstemperatur (°C) = 350 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt). IR: v (cm–1) = 1777 (m, Imid); 1723 (s, -C=O); 1430 (m, Si-C Phenyl); 1237 (m, C-O-C); 1130 (s, Si-C Phenyl); 1068 (s, Si-O); 697 (m, Si-C Phenyl).
Schmelztemperatur (°C) = 235
Zersetzungstemperatur (°C) = 352 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt). IR: v (cm–1) 1779 (m, Imid); 1718 (s, -C=O); 1428 (m, Si-C Phenyl); 1237 (m, C-O-C); 1133 (s, Si-C Phenyl); 1032 (m, Si-O); 697 (m, Si-C Phenyl).
Schmelztemperatur (°C) = 200
Zersetzungstemperatur (°C) = 347 (mittels TGA unter Ar-Atmosphäre bestimmt).The polyamic acid solution obtained under point 2.1 was heated at 150.degree. C. for 12 hours. Depending on the polyamic acid used, the polyimide precipitates out of solution or remains in the solution. When the polyimide precipitates out of solution, the resulting suspension was filtered, the solid product washed with water and then dried at 80 ° C. If the product remains in the solution, it was precipitated by the addition of water and then subjected to work-up as described above. IR: v (cm -1 ) = 1774 (m, imide); 1721 (s, -C = O); 1435 (m, Si-Cphenyl); 1113 (s, Si-C phenyl); 1070 (m, Si-O); 703 (m, Si-C phenyl).
Decomposition temperature (° C) = 443 (determined by TGA under Ar atmosphere) IR: v (cm -1 ) = 1777 (m, imide); 1720 (s, -C = O); 1430 (m, Si-Cphenyl); 1108 (s, Si-Cphenyl); 1068 (m, Si-O); 706 (m, Si-C phenyl).
Decomposition temperature (° C) = 380 (determined by TGA under Ar atmosphere). IR: v (cm -1 ) 1781 (m, imide); 1720 (s, -C = O); 1491 (m, Si-Cphenyl); 1120 (m, Si-Cphenyl); 1012 (m, Si-O); 710 (s, Si-C phenyl).
Melting temperature (° C) = 401
Decomposition temperature (° C) = 450 (determined by TGA under Ar atmosphere).
450 (determined by TGA under artificial air atmosphere) IR: v (cm -1 ) = 1779 (m, imide); 1723 (s, -C = O); 1428 (m, Si-Cphenyl); 1130 (s, Si-C phenyl); 1077 (s, Si-O); 697 (m, Si-C phenyl).
Melting temperature (° C) = 200
Decomposition temperature (° C) = 350 (determined by TGA under Ar atmosphere). IR: v (cm -1 ) = 1777 (m, imide); 1723 (s, -C = O); 1430 (m, Si-Cphenyl); 1237 (m, COC); 1130 (s, Si-C phenyl); 1068 (s, Si-O); 697 (m, Si-C phenyl).
Melting temperature (° C) = 235
Decomposition temperature (° C) = 352 (determined by TGA under Ar atmosphere). IR: v (cm -1 ) 1779 (m, imide); 1718 (s, -C = O); 1428 (m, Si-Cphenyl); 1237 (m, COC); 1133 (s, Si-C phenyl); 1032 (m, Si-O); 697 (m, Si-C phenyl).
Melting temperature (° C) = 200
Decomposition temperature (° C) = 347 (determined by TGA under Ar atmosphere).
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Citations (7)
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---|---|---|---|---|
US4405208A (en) * | 1980-02-08 | 1983-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display devices with polyimide-siloxane copolymer resin alignment film |
US4520075A (en) * | 1983-09-02 | 1985-05-28 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd. | Siloxane-modified polyimide precursor and polyimide |
US5286890A (en) * | 1992-04-16 | 1994-02-15 | Hughes Aircraft Company | Aromatic amine terminated silicone monomers, oligomers, and polymers therefrom |
JPH073018A (en) * | 1993-06-14 | 1995-01-06 | Toshiba Chem Corp | Polyimide resin |
DE3856218D1 (en) * | 1987-03-31 | 1998-08-20 | Occidental Chem Co | Soluble polyimide siloxanes and process for their manufacture and use |
US20030065044A1 (en) * | 2001-09-14 | 2003-04-03 | Ube Industries, Ltd. | Aromatic polyimide foam |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4405208A (en) * | 1980-02-08 | 1983-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display devices with polyimide-siloxane copolymer resin alignment film |
US4520075A (en) * | 1983-09-02 | 1985-05-28 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd. | Siloxane-modified polyimide precursor and polyimide |
DE3856218D1 (en) * | 1987-03-31 | 1998-08-20 | Occidental Chem Co | Soluble polyimide siloxanes and process for their manufacture and use |
US5286890A (en) * | 1992-04-16 | 1994-02-15 | Hughes Aircraft Company | Aromatic amine terminated silicone monomers, oligomers, and polymers therefrom |
JPH073018A (en) * | 1993-06-14 | 1995-01-06 | Toshiba Chem Corp | Polyimide resin |
US20030065044A1 (en) * | 2001-09-14 | 2003-04-03 | Ube Industries, Ltd. | Aromatic polyimide foam |
US20070098995A1 (en) * | 2003-06-10 | 2007-05-03 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Adhesive film and process for preparing the same as well as adhesive sheet and semiconductor device |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ARNOLD,C.A.:Synthesis and Physical Behavior of Siloxane Modified Polyimides.In:Polymer Engineering and Science, 1989,Vol.29,No.20,S.1413-1418 * |
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