DE102008042150A1 - Sensor arrangement for determining a parameter of a fluid medium - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Sensoranordnung (110) zur Bestimmung wenigstens eines Parameters eines mit einer Strömungsrichtung (118) strömenden fluiden Mediums (116), insbesondere einer durch ein Strömungsrohr strömenden Ansaugluftmasse einer Brennkraftmaschine. Die Sensoranordnung (110) weist mindestens einen Sensorchip (120) zur Bestimmung des wenigstens einen Parameters auf, welche mit mindestens eine Sensoroberfläche (122) umfasst. Die Sensoranordnung (110) weist weiterhin einen Sensorträger (112) auf, mit welchem der Sensorchip (120) derart verbunden ist, dass die Sensoroberfläche (122) von dem fluiden Medium (116) überströmt wird. Der Sensorträger (112) ist zumindest teilweise als Multilayeraufbau (124) ausgestaltet. Der Multilayeraufbau (124) weist mindestens zwei Substratschichten (126) und elektrische Strukturen (130) in mindestens zwei verschiedenen Schichtebenen des Multilayeraufbaus (124) auf.The invention relates to a sensor arrangement (110) for determining at least one parameter of a fluid medium (116) flowing with a flow direction (118), in particular an intake air mass of an internal combustion engine flowing through a flow pipe. The sensor arrangement (110) has at least one sensor chip (120) for determining the at least one parameter, which comprises at least one sensor surface (122). The sensor arrangement (110) furthermore has a sensor carrier (112) to which the sensor chip (120) is connected such that the sensor surface (122) is overflowed by the fluid medium (116). The sensor carrier (112) is at least partially designed as a multilayer structure (124). The multilayer structure (124) has at least two substrate layers (126) and electrical structures (130) in at least two different layer planes of the multilayer structure (124).

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Description

Stand der TechnikState of the art

Die Erfindung geht aus von Vorrichtungen zur Messung wenigstens eines Parameters eines strömenden fluiden Mediums, insbesondere eines durch ein Strömungsrohr strömenden fluiden Mediums, wie sie aus verschiedenen Bereichen der Technik bekannt sind. So müssen bei vielen Prozessen, beispielsweise auf dem Gebiet der Verfahrenstechnik, der Chemie oder des Maschinenbaus, definiert fluide Medien, insbesondere Gasmassen (z. B. eine Luftmasse) mit bestimmten Eigenschaften (beispielsweise Temperatur, Druck, Strömungsgeschwindigkeit, Massenstrom, Volumenstrom etc.) zugeführt werden. Hierzu zählen insbesondere Verbrennungsprozesse, welche unter geregelten Bedingungen ablaufen.The The invention is based on devices for measuring at least one Parameters of a flowing fluid medium, in particular a fluid flowing through a flow tube Medium, as known from various fields of technology are. So in many processes, for example on the field of process engineering, chemistry or mechanical engineering, defines fluid media, in particular gas masses (eg an air mass) with certain properties (for example, temperature, pressure, Flow velocity, mass flow, volume flow etc.) be supplied. These include in particular combustion processes, which take place under controlled conditions.

Ein wichtiges Anwendungsbeispiel ist die Verbrennung von Kraftstoff in Verbrennungskraftmaschinen von Kraftfahrzeugen, insbesondere mit anschließender katalytischer Abgasreinigung, bei denen geregelt eine bestimmte Luftmasse pro Zeiteinheit (Luftmassenstrom) zugeführt werden muss. Zur Messung des Luftmassendurchsatzes werden dabei verschiedene Typen von Sensoren eingesetzt. Ein aus dem Stand der Technik bekannter Sensortyp ist der so genannte Heißfilmluftmassenmesser (HFM), welcher beispielsweise in DE 196 01 791 A1 in einer Ausführungsform beschrieben ist. Bei derartigen Heißfilmluftmassenmessern wird üblicherweise ein Sensorchip eingesetzt, welcher beispielsweise eine dünne Sensormembran oder eine sonstige Sensorfläche aufweist, beispielsweise ein Silicium-Sensorchip. Auf der Sensormernbran ist typischerweise mindestens ein Heizwiderstand angeordnet, welcher von zwei oder mehr Temperaturmesswiderständen (Temperaturfühlern) umgeben ist. In einem Luftstrom, welcher über die Membran geführt wird, ändert sich die Temperaturverteilung, was wiederum von den Temperaturmesswiderständen erfasst werden kann und mittels einer Ansteuer- und Auswertungsschaltung ausgewertet werden kann. So kann, zum Beispiel aus einer Widerstandsdifferenz der Temperaturmesswiderstände, ein Luftmassenstrom bestimmt werden. Verschiedene andere Varianten dieses Sensortyps sind aus dem Stand der Technik bekannt. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf den beschriebenen Sensortyp des Heißfilmluftmassenmessers beschränkt, sondern kann grund sätzlich für die meisten Arten von Sensoren, die als fest installierte Sensoren oder beispielsweise als austauschbarer Steckfühler in einem strömenden Medium eingesetzt werden, genutzt werden.An important application example is the combustion of fuel in internal combustion engines of motor vehicles, in particular with subsequent catalytic exhaust gas purification, in which regulated a certain air mass per unit time (air mass flow) must be supplied. Various types of sensors are used to measure the air mass flow rate. One type of sensor known from the prior art is the so-called hot film air mass meter (HFM), which is used, for example, in US Pat DE 196 01 791 A1 in one embodiment. Such a hot-film air mass meter typically uses a sensor chip which, for example, has a thin sensor membrane or another sensor surface, for example a silicon sensor chip. The sensor core typically has at least one heating resistor surrounded by two or more temperature sensing resistors. In an air flow, which is guided over the membrane, the temperature distribution changes, which in turn can be detected by the temperature measuring resistors and can be evaluated by means of a control and evaluation circuit. Thus, for example, from a difference in resistance of the temperature measuring resistors, an air mass flow can be determined. Various other variants of this type of sensor are known in the art. The present invention is not limited to the described sensor type of Heißfileinuftmassenmessers, but can in principle be used for most types of sensors that are used as a permanently installed sensors or, for example, as a replaceable plug-in sensor in a flowing medium.

Eine technische Herausforderung bei bekannten Sensoranordnungen, wie beispielsweise Heißfilmluftmassenmessern, stellt in vielen Fällen die Montage des Sensorchips dar. So wird beispielsweise bei bekannten Heißfilmluftmassenmessern ein Sensorträger verwendet, welcher beispielsweise als Blechtasche oder mittels eines Kunststoffteils ausgestaltet wird. In einem separaten Gehäuse ist eine Ansteuer- und Auswerteelektronik vorgesehen, welche durch entsprechende Bonding-Techniken mit zugehörigen Anschlüssen auf dem Sensorchip verbunden wird. Der Sensorchip wird dabei beispielsweise in eine Vertiefung des Sensorträgers eingebracht. Ein Ausführungsbeispiel derartiger Montagen von Sensorchips in Vertiefungen des Sensorträgers sowie zugehöriger Verbindungstechniken mittels Drahtbonding ist in DE 195 24 634 A1 beschrieben. Die Vertiefung zur Aufnahme des Sensorchips kann an ihrer Unterseite eben ausgestaltet sein, kann jedoch auch beispielsweise rinnenförmige Vertiefungen oder andere Strukturen aufweisen.A technical challenge with known sensor arrangements, such as hot-film air mass meters, in many cases represents the mounting of the sensor chip. For example, in known hot-film air mass meters a sensor carrier is used, which is designed, for example, as a metal bag or by means of a plastic part. In a separate housing, a control and evaluation is provided, which is connected by appropriate bonding techniques with associated terminals on the sensor chip. The sensor chip is introduced, for example, in a recess of the sensor carrier. An embodiment of such assemblies of sensor chips in recesses of the sensor carrier and associated connection techniques by means of wire bonding is in DE 195 24 634 A1 described. The recess for receiving the sensor chip may be designed flat on its underside, but may also have, for example, channel-shaped recesses or other structures.

Eine Herausforderung bekannter Sensoranordnungen besteht insbesondere darin, dass diese Sensoranordnungen vergleichsweise aufwendige Montagetechniken erfordern. Insbesondere die beschriebenen Drahtbonding-Verfahren, mittels derer die Ansteuer- und Auswerteschaltungen mit den Sensorchips verbunden werden, sind technisch aufwendig und beinhalten einen hohen Montageaufwand. Zudem sind die Sensoranordnungen vergleichsweise bauraumaufwendig, da Bauraum für die Drahtanschlüsse und die Ansteuer- und Auswerteelektronik vorgesehen werden muss.A In particular, there is the challenge of known sensor arrangements in that these sensor arrangements comparatively complicated assembly techniques require. In particular, the described wire bonding methods, by means of which the control and evaluation circuits with the sensor chips are connected, are technically complex and include one high assembly costs. In addition, the sensor arrangements are comparatively space-consuming, because space for the wire connections and the control and evaluation must be provided.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Es wird daher eine Sensoranordnung zur Bestimmung wenigstens eines Parameters eines mit einer Strömungsrichtung strömenden fluiden Mediums vorgeschlagen, welches die Nachteile der aus dem Stand der Technik bekannten Sensoranordnungen zumindest weitgehend vermeidet. Die Sensoranordnung kann insbesondere zur Messung einer durch ein Strömungsrohr strömenden Ansaugluftmasse einer Brennkraftmaschine eingesetzt werden, insbesondere nach dem oben beschriebenen Heißfilmluftmassenmesser-Prinzip. Auch andere Anordnungen und/oder gemessene Parameter sind jedoch grundsätzlich denkbar.It Therefore, a sensor arrangement for determining at least one Parameters of flowing with a flow direction proposed fluid medium, which has the disadvantages of the state the art known sensor arrangements at least largely avoids. The sensor arrangement can in particular for measuring a by a Flow tube flowing intake air mass one Internal combustion engine are used, in particular after the above described Heißfileinuftmassenmesser principle. Others too However, arrangements and / or measured parameters are basic conceivable.

Ein Grundgedanke der vorliegenden Erfindung besteht darin, den Sensorträger der Sensoranordnung zumindest teilweise als Multilayeraufbau auszugestalten bzw. Multilayer-Substrate als Trägersubstrate zur Aufnahme der Sensorchips zu nutzen.One The basic idea of the present invention is the sensor carrier the sensor arrangement at least partially to design a multilayer structure or multilayer substrates as carrier substrates for recording to use the sensor chips.

Aus der Elektrotechnik sind allgemein Multilayertechniken bekannt, beispielsweise aus der Leiterplattenherstellung. Beispielsweise werden Leiterplatten in Multilayertechnik zur Realisierung elektronischer Schaltungen mit hoher Bauelementdichte verwendet. Unter einem Multilayeraufbau werden dabei allgemein Aufbauten verstanden, bei welchen mindestens zwei, vorzugsweise drei, vier oder mehr Substrate, flächig miteinander zu einem Mehrschichtaufbau verbunden sind. Die Substrate können beispielsweise als Kunststoff- und/oder Keramiksubstrate ausgestaltet sein. Auf den Oberflächen dieser Substrate, in Schichtebenen zwischen den Substraten und/oder auf den Substraten können elektrische Strukturen vorgesehen sein, welche beispielsweise Leiterbahnen, elektrische Bauelemente, Anschlusskontakte oder Ähnliches umfassen. Auch innerhalb der Substrate selbst können elektrische Strukturen angeordnet sein, beispielsweise elektrische Durchkontaktierungen, Leiterbahnen, elektrische Bauelemente oder Ähnliches.From the electrical engineering multilayer techniques are generally known, for example, from the production of printed circuit boards. For example, multilayer circuit boards are used to realize high density electronic circuits. Under a multilayer structure are there understood in general constructions in which at least two, preferably three, four or more substrates are connected flat to each other to form a multi-layer structure. The substrates can be configured, for example, as plastic and / or ceramic substrates. On the surfaces of these substrates, in layer planes between the substrates and / or on the substrates, electrical structures may be provided which comprise, for example, conductor tracks, electrical components, connection contacts or the like. Also within the substrates themselves, electrical structures may be arranged, for example electrical vias, interconnects, electrical components or the like.

Die einzelnen Substrate mit den bereits darauf aufgebrachten elektrischen Strukturen und/oder mit den später darauf aufzubringenden elektrischen Strukturen können beispielsweise flächig miteinander verklebt oder auf andere Weise flächig miteinander verbunden sein. Elektrische Bauelemente können beispielsweise auf einer Vorder- und/oder einer Rückseite des Multilayeraufbaus flächig auf den Multilayeraufbau aufgebracht werden. Die Kontur der einzelnen Ebenen bzw. Schichten des Multilayeraufbaus kann dabei untereinander stets gleich sein, oder es können auch voneinander abweichende Konturen vorgesehen sein.The individual substrates with the already applied thereto electrical Structures and / or with the later applied thereto electrical structures, for example, surface glued together or otherwise flat with each other be connected. Electrical components can, for example on a front and / or a back of the multilayer construction be applied flat on the multilayer structure. The Contour of the individual layers or layers of the multilayer structure can always be the same with each other, or it can also different contours can be provided.

Entsprechend dieses Grundgedankens der vorliegenden Erfindung weist die Sensoranordnung mindestens einen Sensorchip zur Bestimmung des wenigstens einen Parameters des fluiden Mediums auf. Dieser Sensorchip verfügt über mindestens eine Sensoroberfläche. Beispielsweise kann dieser Sensorchip als Silizium-Sensorchip ausgestaltet sein. Insbesondere kann der Sensorchip weiterhin als Heißfilmluftmassenmesser-Sensorchip ausgestaltet sein, wie beispielsweise die im eingangs beschriebenen Stand der Technik offenbarten Heißfilmluftmassenmesser-Sensorchips. Die Sensoroberfläche kann beispielsweise auf einer Membran des Sensorchips angeordnet oder auch auf einer Oberfläche eines porösen Bereichs des Sensorchips, also eines Bereichs, welcher insgesamt eine geringe thermische Masse aufweist. Auch andere Ausgestaltungen sind möglich. Auf der Sensoroberfläche können beispielsweise entsprechende Sensorelemente vorgesehen sein, wie beispielsweise Temperaturfühler, Heizwiderstände oder ähnliche für die Funktion der Bestimmung des wenigstens einen Parameters erforderliche Konturen. Auch komplexere Ausgestaltungen des Sensorchips sind denkbar.Corresponding This basic idea of the present invention comprises the sensor arrangement at least a sensor chip for determining the at least one parameter of the fluid medium. This sensor chip has at least one sensor surface. For example, this one Sensor chip designed as a silicon sensor chip. Especially the sensor chip can continue to act as a hot-film air mass sensor chip be configured, such as those described in the introduction Prior art disclosed hot film air mass sensor chips. The sensor surface can, for example, on a membrane arranged on the sensor chip or on a surface a porous region of the sensor chip, ie an area, which has a low thermal mass overall. Others too Embodiments are possible. On the sensor surface For example, corresponding sensor elements can be provided, such as temperature sensors, heating resistors or similar for the function of the determination of the at least one parameter required contours. Also more complex Embodiments of the sensor chip are conceivable.

Weiterhin weist die Sensoranordnung einen Sensorträger auf, wobei der Sensorchip derart mit dem Sensorträger verbunden ist, dass die Sensoroberfläche von dem fluiden Medium überströmbar ist bzw. im Einsatz überströmt wird. Dies kann, wie aus dem Stand der Technik bekannt, beispielsweise dadurch realisiert werden, dass der Sensorträger ganz oder teilweise als Flügel ausgestaltet ist, welcher eingerichtet ist, um im Einsatz der Sensoranordnung in eine Strömung des fluiden Mediums hineinzuragen. Beispielsweise kann dieser Flügel in einem Bypass eines Steckfühlers angeordnet sein, in welchem diese von einer von einem Hauptstrom des fluiden Mediums abgezweigten Teilströmung überströmt wird. Dabei kann der Flügel beispielsweise beidseitig von dem fluiden Medium überströmt werden, so dass insgesamt der Flügel einen vergleichsweise geringen Druckabfall in dem strömenden fluiden Medium bewirkt. Auch andere Anordnungen, in welchen die Sensorfläche von dem fluiden Medium überströmt wird, sind jedoch grundsätzlich denkbar.Farther the sensor arrangement has a sensor carrier, wherein the sensor chip is connected to the sensor carrier in such a way, the sensor surface can be overflowed by the fluid medium is or is overflowed in use. This can, as known from the prior art, for example realized thereby be that the sensor carrier in whole or in part as a wing is configured, which is adapted to the use of the sensor arrangement into a flow of the fluid medium. For example This wing can be in a bypass of a plug-in sensor be arranged, in which this one of a main stream the fluid medium diverted partial flow overflowed becomes. In this case, the wing, for example, on both sides of the fluid medium to be overflowed, so that in total the wing a comparatively low pressure drop in causes the flowing fluid medium. Also other arrangements, in which the sensor surface is overflowed by the fluid medium, are however conceivable in principle.

Wie oben dargestellt, ist dabei der Sensorträger zumindest teilweise als Multilayeraufbau ausgestaltet. Insbesondere sollte derjenige Teil des Sensorträgers, welcher mit dem Sensorchip verbunden ist, als derartiger Multilayeraufbau ausgestaltet sein. Wie oben dargestellt, weist dieser Multilayeraufbau mindestens zwei Substratschichten und elektrische Strukturen in mindestens zwei verschiedenen Schichtebenen des Multilayeraufbaus auf. Die elektrischen Strukturen können, wie oben dargestellt, beispielsweise elektrische Leiterbahnen, Durchführungen, elektrische Bauelemente, Kontaktpads oder andere Arten elektrischer Strukturen umfassen.As shown above, while the sensor carrier is at least partially designed as a multilayer structure. In particular, should That part of the sensor carrier, which with the sensor chip is connected to be designed as such multilayer structure. As As shown above, this multilayer structure has at least two Substrate layers and electrical structures in at least two different layer levels of multilayer construction. The electrical Structures can, as shown above, for example electrical tracks, bushings, electrical components, Contact pads or other types of electrical structures include.

Der Sensorchip kann dabei insbesondere in einer Vertiefung des Multilayeraufbaus angeordnet sein. Beispielsweise kann diese Vertiefung, abgesehen von erforderlichen Toleranzen und Luftspalten, beispielsweise in ihren lateralen Abmessungen den Abmessungen des Sensorchips entsprechen. Beispielsweise kann diese Vertiefung rechteckig ausgestaltet sein.Of the Sensor chip can in particular in a depression of the multilayer structure be arranged. For example, this depression, apart of required tolerances and air gaps, for example in their lateral dimensions correspond to the dimensions of the sensor chip. For example, this depression can be configured rectangular.

Die Vertiefung kann insbesondere mindestens einen Freischnitt in der obersten Schicht des Multilayeraufbaus umfassen. Unter einem Freischnitt ist dabei eine Anordnung zu verstehen, bei welcher in der Schicht vor oder nach der Montage des Multilayeraufbaus eine entsprechende Öffnung erzeugt wird. Derartige Öffnungen lassen sich beispielsweise durch Laserschneiden, Fräsen, Sägen, Ätzen oder ähnliche Techniken leicht erzeugen. Vorzugsweise ist nicht nur die oberste Schicht des Multilayeraufbaus, also die Schicht, welche dem strömenden fluiden Medium zuweist, sondern auch mindestens eine weitere, tiefer liegende Schicht des Multilayeraufbaus, beispielsweise auch die zweite und dritte, auf die oberste Schicht folgende Schicht, mit einem derartigen Freischnitt zur Erzeugung der Vertiefung versehen. Die Vertiefung kann sich dementsprechend über die oberste Schicht sowie gegebenenfalls über weitere Schichten in die Tiefe des Multilayeraufbaus hinein erstrecken.The In particular, recess can have at least one free punch in the top layer of the multilayer structure include. Under a free cut is thereby to understand an arrangement in which in the layer before or after mounting the multilayer structure a corresponding opening is produced. Such openings can be, for example, by Laser cutting, milling, sawing, etching or easily generate similar techniques. Preferably is not only the top layer of the multilayer structure, ie the layer, which allocates to the flowing fluid medium, but also at least one further, deeper layer of the multilayer structure, for example, the second and third, on the top layer following layer, with such a cutout for production the depression provided. The depression can accordingly over the uppermost layer and optionally further layers extend into the depth of the multilayer structure.

Die vorgeschlagene Sensoranordnung weist gegenüber den bekannten Sensoranordnungen eine Vielzahl von Vorteilen auf. So können die benötigen elektrischen Strukturen auf den einzelnen Schichten des Multilayeraufbaus kostengünstig im Nutzen parallel realisiert werden. Dies kann beispielsweise vor dem Verbinden der einzelnen Schichten zu dem Multilayeraufbau, beispielsweise mittels eines Verklebens, eines Laminierens oder ähnlicher Verbindungstechniken, erfolgen. Die Vertiefung kann problemlos an die Abmessungen und die Form des Sensorchips angepasst werden und ist grundsätzlich frei wählbar.The proposed sensor arrangement has over the known Sensor arrangements on a variety of advantages. So can which require electrical structures on the individual Layers of multilayer construction cost-effective in use be realized in parallel. This can be done, for example, before connecting the individual layers to the multilayer structure, for example by gluing, laminating or the like Connection techniques, done. The depression can easily on the dimensions and shape of the sensor chip can be adjusted and is basically freely selectable.

Die elektrischen Strukturen des Multilayeraufbaus können auch bei der Montage als Hilfestellung verwendet werden. So können diese als Parserstrukturen mittels einer Bilderkennung zur Positionserkennung für einen Kleberauftrag bei einer Montage des Sensorchips auf dem Multilayeraufbau sowie für einen Setzprozess des Sensorchips mit einer ausreichenden Positionierungsgenauigkeit eingesetzt werden. Die Ausrichtung und Positionierung des Sensorchips kann an die Randbedingungen in der Ebene der Schichten des Multilayeraufbaus frei angepasst werden.The electrical structures of the multilayer construction can also be used during assembly as an aid. So can these as parser structures by means of an image recognition for position detection for an adhesive application during assembly of the sensor chip on the multilayer structure as well as for a setting process of the Sensor chips used with sufficient positioning accuracy become. The orientation and positioning of the sensor chip can to the boundary conditions in the plane of the layers of the multilayer structure be adjusted freely.

Die Vertiefung zur Aufnahme des Sensorchips, welche auch als Kaverne bezeichnet werden kann, lässt sich durch das oben beschriebene Freischneiden der Schichten des Vielschichtaufbaus leicht realisieren, im Gegensatz zu beispielsweise bekannten Spritzgießprozessen und/oder Fräsprozessen. Die Anzahl der für diese Vertiefung freizuschneidenden Schichten des Multilayeraufbaus kann beispielsweise durch die Höhe des Sensorchips und die Stärke der einzelnen Schichten, unter Berücksichtung von Zwischenschichten wie beispielsweise Klebeschichten, bestimmt werden. Besonders bevorzugt ist es, wenn die Sensoroberfläche im Wesentlichen bündig mit einer Oberfläche des Multilayeraufbaus angeordnet ist. Unter „im Wesentlichen bündig” können dabei auch Abweichungen von einer bündigen Anordnung, beispielsweise um nicht mehr als 20%, vorzugsweise nicht mehr als 10% oder um nicht mehr als 5%, der Höhe des Sensorchips toleriert werden. Die Vertiefung für die Sensorchipaufnahme kann dabei, wie oben beschrieben, aus mindestens einem oder mehreren Schichten bestehen. Die Freischnitte bzw. Ausschnitte für diese Vertiefung können vor dem Verbinden der einzelnen Schichten zu dem Multilayeraufbau in die einzelnen Schichten eingebracht werden.The Recess for receiving the sensor chip, which also as a cavern can be designated, can be described by the above Easily cutting free the layers of the multilayer structure, in contrast to, for example, known injection molding processes and / or milling processes. The number of for this Deepening layers to be cut free of the multilayer structure, for example by the height of the sensor chip and the strength the individual layers, taking into account intermediate layers such as adhesive layers. Especially preferred it is when the sensor surface is substantially flush is arranged with a surface of the multilayer structure. Under "essentially flush" can it also deviations from a flush arrangement, for example not more than 20%, preferably not more than 10% or not more than 5%, the height of the sensor chip can be tolerated. The Recess for the sensor chip recording can, as above described, consist of at least one or more layers. The free cuts or cutouts for this depression may be prior to joining the individual layers to the multilayer structure be introduced into the individual layers.

Durch diesen Vielschichtaufbau lässt sich auf die Verwendung von Blechtaschen oder Kunststoffteilen, wie sie üblicherweise in Heißfilmluftmassenmessern eingesetzt werden, als Sensorträger vorzugsweise vollständig verzichten. Insgesamt kann die Sensoranordnung und insbesondere der Sensorträger damit sehr kompakt ausgestaltet werden.By This multilayer structure can be applied to the use of metal bags or plastic parts, as they usually do be used in Heißfileinuftmassenmessern, preferably as sensor carrier completely abstain. Overall, the sensor arrangement and in particular the sensor carrier designed so very compact become.

Um die Kompaktheit der Sensoranordnung weiter zu erhöhen, kann auch eine gegebenenfalls vorhandene elektrische Ansteuer- und Auswerteschaltung zur Ansteuerung und Auswertung des Sensorchips bzw. der Sensoranordnung ganz oder teilweise in dem Multilayeraufbau integriert sein. So kann die Ansteuer- und Auswerteelektronik beispielsweise vollständig in dem Multilayer integriert sein. Alternativ kann jedoch auch lediglich ein Teil dieser Ansteuer- und Auswertelektronik in dem Multilayer vorhanden sein, wohingegen weitere Teile, beispielsweise Teile, welche elektrische Bauteile mit höherem Raumbedarf umfassen, extern realisiert sein können beispielsweise in übrigen Bestandteilen der Sensoranordnung und/oder innerhalb einer externen Ansteuerung. Die Verwendung der Multilayeranordnung für die Auswerteelektronik als Sensoraufnahme kann unter Nutzung bereitgestellter elektrischer Strukturen in der Multilayerstruktur erfolgen, beispielsweise entsprechender Leiterbahnen, Durchführungen, Anschlusskontakte, Durchkontaktierungen oder Ähnlichem, sowie gegebenenfalls unter Verwendung aufgebrachter und/oder eingebrachter elektrischer Bauelemente, wie beispielsweise passive oder aktive elektrische Bauelemente. Diese Strukturen können auch zwischen den einzelnen Schichten untergebracht sein, wobei beispielsweise die Höhe der Leiterbahnen und/oder elektrischen Strukturen zusätzlich zu den Höhen der einzelnen Schichten und Schichtverklebungen bzw. Schichtverbindungen bei der Dimensionierung des Multilayeraufbaus zu berücksichtigen ist.Around to further increase the compactness of the sensor arrangement, can also be an optional electrical Ansteuer- and Evaluation circuit for controlling and evaluating the sensor chip or the sensor arrangement wholly or partly in the multilayer structure be integrated. For example, the control and evaluation electronics be fully integrated in the multilayer. alternative However, only a part of this control and evaluation electronics be present in the multilayer, whereas other parts, for example Parts which require more electrical components include, may be implemented externally, for example in other components of the sensor arrangement and / or within an external control. The use of the multilayer arrangement for the transmitter as a sensor recording can under Use of provided electrical structures in the multilayer structure carried out, for example, corresponding tracks, bushings, Terminal contacts, vias or the like, and optionally using applied and / or incorporated electrical components, such as passive or active electrical Components. These structures can also be between the be accommodated individual layers, for example, the Height of the tracks and / or electrical structures in addition to the heights of the individual layers and Schichtverklebungen or layer connections in the dimensioning of the multilayer structure is to be considered.

Weitere bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beziehen sich auf die Verbindung zwischen dem Sensorelement und dem Multilayeraufbau. Eine bevorzugte Form der Verbindung ist dabei das Kleben unter Verwendung mindestens eines Klebstoffs. Dieser Klebstoff kann als isolierender Klebstoff ausgestaltet sein oder kann auch ganz oder teilweise als leitfähiger Klebstoff ausgestaltet sein, beispielsweise um elektrische Verbindungen zwischen elektrischen Strukturen auf dem Multilayeraufbau und dem Sensorchip herzustellen. Alternativ oder zusätzlich kann auch ganz oder teilweise eine Verbindung mittels herkömmlicher Verbindungstechniken, beispielsweise mittels Drahtbonding, erfolgen.Further preferred embodiments of the invention relate on the connection between the sensor element and the multilayer structure. A preferred form of the compound is adhesive bonding using at least one adhesive. This adhesive can be used as an insulating adhesive be designed or may also be wholly or partially conductive Be configured adhesive, for example, electrical connections between electrical structures on the multilayer structure and the Sensor chip produce. Alternatively or additionally also completely or partially a connection by means of conventional Connection techniques, for example by means of wire bonding done.

Bei einem derartigen Verbinden mittels einer Klebetechnik besteht in vielen Fällen die Schwierigkeit, dass bestimmte Flächen des Sensorelements und/oder des Multilayeraufbaus nicht mit Klebstoff kontaminiert werden dürfen. Dies kann beispielsweise dann der Fall sein, wenn bei der mechanischen Anbindung des Sensorelements an den Multilayeraufbau, beispielsweise innerhalb der Vertiefung, unter Umständen lediglich ein Teil der Anbindungsfläche auf dem Sensorelement und/oder innerhalb der Vertiefung fixiert werden darf.In such a connection by means of an adhesive technique, in many cases there is the difficulty that certain areas of the sensor element and / or the multilayer structure may not be contaminated with adhesive. This can be the case, for example, if, in the case of the mechanical connection of the sensor element to the multilayer structure, for example within the recess, only a part of the connection surface on the sensor element and / or within the Deepening may be fixed.

Dementsprechend wird vorgeschlagen, bei einer Verklebung des Sensorchips mit dem Multilayeraufbau den Multilayeraufbau mit mindestens einer Fließsperre in Form mindestens einer Aussparung in dem Multilayeraufbau auszustatten. Diese Aussparung kann insbeson dere in Form mindestens eines Grabens ausgestaltet sein und kann verhindern, dass, außer der zumindest einen Teilfläche des Sensorchips bzw. des Multilayeraufbaus, auf welcher die Verklebung stattfinden soll, weitere Flächen verklebt werden.Accordingly is proposed in a gluing of the sensor chip with the Multilayer construction the multilayer construction with at least one flow barrier in the form of at least one recess in the multilayer structure equip. This recess can in particular in the form of at least one trench be designed and can prevent that, except the at least a partial area of the sensor chip or of the multilayer structure, on which the gluing is to take place, further surfaces be glued.

Diese Aussparung kann beispielsweise mindestens eine obere oder tiefer gelegene Schicht des Multilayeraufbaus teilweise oder vorzugsweise vollständig durchsetzen. Diese durchsetzte Schicht kann beispielsweise eine oberste Schicht des Multilayeraufbaus sein, oder, wenn der Sensorchip in einer Vertiefung des Multilayeraufbaus angeordnet ist, die Schicht des Multilayeraufbaus, welche den Boden der Vertiefung bildet.These Recess may, for example, at least one upper or lower layer of the multilayer structure partially or preferably fully enforce. This interspersed layer may, for example be a top layer of the multilayer construction, or, if the Sensor chip arranged in a recess of the multilayer structure is the layer of the multilayer construction which forms the bottom of the well forms.

Die Aussparung kann beispielsweise als Freischnitt ausgestaltet sein und kann beispielsweise wiederum vor dem Verbinden der einzelnen Schichten des Multilayeraufbaus in die entsprechenden Schichten eingebracht werden, beispielsweise wiederum durch entsprechende Freischneideverfahren, wie beispielsweise Fräsen, Sägen, Bohren, Laserschneiden oder Ähnliches. Die Fließschneide kann beispielsweise als Graben ausgestaltet sein und kann grundsätzlich beliebig geformt sein.The Recess may be configured for example as a free cut and, for example, again before connecting the individual Layers of multilayer construction in the corresponding layers be introduced, for example, again by appropriate Free-cutting processes, such as milling, sawing, Drilling, laser cutting or similar. The flow cutting edge can for example be designed as a trench and can basically be shaped as desired.

Derartige Fließsperren sind auch in einem Nutzen im großtechnischen Maßstab kostengünstig realisierbar. Die Fließsperre kann in der Formgebung an das Bauteil, insbesondere an das Sensorelement, und an dessen Positionierung angepasst werden. Die Fließsperre ist bei einer Oberflächenmontage auf dem Multilayeraufbau als Anbindung an einen Layer einer Zwischenschicht realisierbar.such Flow barriers are also in use in large-scale Scale economically feasible. The flow barrier can in the shape of the component, in particular to the sensor element, and be adapted to its positioning. The flow barrier is on a surface mount on the multilayer structure as a connection to a layer of an intermediate layer feasible.

Die Fließsperre kann insbesondere genutzt werden, um zu verhindern, dass sich aufgrund einer vollflächigen Verklebung mich in weiteren, unerwünschten Flächen mechanische Spannungen in der Sensoranordnung aufbauen. Weiterhin kann auch die Kontamination sensitiver Bereiche durch den Klebstoff und/oder einen Haftvermittler verhindert werden. Vor allem bei flächigen Anbindungen ist die partielle Flächennutzung über die Menge des Klebstoffs oder die Prozessparameter in der Regel nur unzureichend beherrschbar. Die genannten Fließsperren zwischen der Teilfläche als Anbindungsfläche und der weiteren, freizulassenden Flächen definieren die Flächengeometrie zwischen dem Sensorchip und der Anbindungsfläche.The Flow barrier can be used in particular to prevent that due to a full-surface bonding me in other, unwanted surfaces mechanical Build up voltages in the sensor arrangement. Furthermore, the Contamination of sensitive areas by the adhesive and / or a Adhesion promoters are prevented. Especially with flat Connections is the partial land use over the amount of adhesive or the process parameters usually insufficiently manageable. The aforementioned flow barriers between the part surface as a connection surface and The other surfaces to be released define the surface geometry between the sensor chip and the connection surface.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform, welche ebenfalls der Verbesserung der Verklebung zwischen Sensorchip und Multilayeraufbau dient, weist der Multilayeraufbau mindestens ein Reservoir zur Aufnahme überschüssigen Klebstoffs beim Verkleben des Sensorchips mit dem Multilayeraufbau auf. Dieses Reservoir kann insbesondere eingesetzt werden, wenn der Multilayeraufbau eine Vertiefung zur Aufnahme des Sensorchips auf weist. In diesem Fall kann das Reservoir insbesondere innerhalb dieser Vertiefung angeordnet sein. Das Reservoir kann beispielsweise als Graben, Bohrung oder sonstige Nut oder Aufnahme in dem Multilayeraufbau realisiert sein, beispielsweise im Boden der Vertiefung. Besonders bevorzugt ist es dabei, wenn das Reservoir durch eine Überdimensionierung eines Freischnitts zur Erzeugung der Vertiefung in mindestens einer tiefer gelegenen Schichtebene des Multilayeraufbaus relativ zum Freischnitt in mindestens einer höher angeordneten Schichtebene des Multilayeraufbaus hergestellt ist. Ein derartiges Reservoir lässt sich technisch besonders einfach erzeugen, da die Freischnitte in den einzelnen Schichtebenen beispielsweise vor dem Verbinden der Schichtebenen zum Multilayeraufbau hergestellt werden. Wird beispielsweise eine rechteckige Vertiefung zur Aufnahme des Sensorchips verwendet, so kann beispielsweise in der tiefsten Schichtebene, welche noch einen Freischnitt zur Erzeugung der Vertiefung umfasst, dieser Freischnitt als Rechteck mit einer zumindest in einer Dimension höheren Kantenlänge als der bzw. die Freischnitte in darüberliegenden Schichtebenen ausgestaltet sein. Auf diese Weise bildet sich in dieser Schichtebene um den Sensorchip herum vorzugsweise ein – beispielsweise umlaufender – Kanal, in welchen beispielsweise flüssiger überschüssiger Klebstoff beim Einbringen des Sensorchips in die Vertiefung ausweichen kann. Auf diese Weise lassen sich beispielsweise Dosierungstoleranzen beim Dosieren des Klebstoffs vor dem Aufbringen des Sensorchips ausgleichen. Die Toleranzen der Sensoranordnungen, welche durch derartige Variationen des Herstellungsprozesses bedingt sind, lassen sich hierdurch minimieren.In Another preferred embodiment, which also the improvement of bonding between the sensor chip and multilayer structure, the multilayer structure has at least one reservoir for receiving excess Adhesive when bonding the sensor chip with the multilayer structure on. This reservoir can be used in particular if the multilayer structure a recess for receiving the sensor chip having. In this case, the reservoir in particular within be arranged in this recess. The reservoir can, for example realized as a trench, bore or other groove or recording in the multilayer structure be, for example, in the bottom of the recess. Especially preferred It is there if the reservoir by over-sizing a recess for generating the recess in at least one deeper layer layer of the multilayer structure relative to Free cut in at least one higher layer layer of the multilayer structure is made. Such a reservoir leaves technically very easy to produce, as the free cuts in the individual layer planes, for example, before connecting the Layer layers are made for multilayer structure. For example uses a rectangular recess for receiving the sensor chip, so, for example, in the deepest layer plane, which still a free cut for generating the recess comprises, this free cut as a rectangle with at least one dimension higher Edge length as the or the free cuts in overlying Layer planes be configured. This way it forms in this layer plane around the sensor chip preferably a - for example circulating channel, in which, for example, liquid excess Dodge adhesive when inserting the sensor chip into the recess can. In this way, for example, dosage tolerances when dosing the adhesive before applying the sensor chip compensate. The tolerances of the sensor arrangements, which by such variations of the manufacturing process are conditional leave minimize itself thereby.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.embodiments The invention is illustrated in the drawings and in the following Description explained in more detail.

Es zeigenIt demonstrate

1A eine perspektivische Darstellung eines Teils einer erfindungsgemäßen Sensoranordnung; 1A a perspective view of a portion of a sensor arrangement according to the invention;

1B eine Schnittdarstellung durch die Sensoranordnung gemäß 1A; 1B a sectional view through the sensor arrangement according to 1A ;

2 eine Schnittdarstellung eines zu 1B alternativen Ausführungsbeispiels einer Sensoranordnung; 2 a sectional view of an 1B alternative embodiment of a sensor arrangement;

3A eine schematische perspektivische Darstellung der Aufklebung eines Sensorchips auf einen Multilayeraufbau mit lediglich teilweiser Verklebung; 3A a schematic perspective view of the bonding of a sensor chip on a multilayer structure with only partial bonding;

3B eine Schnittdarstellung der Anordnung gemäß 3A mit einer Fließsperre; und 3B a sectional view of the arrangement according to 3A with a flow barrier; and

4 eine Schnittdarstellung eines zu 3B alternativen Ausführungsbeispiels einer Sensoranordnung mit einer Fließsperre in einer Vertiefung zur Aufnahme des Sensorchips. 4 a sectional view of an 3B alternative embodiment of a sensor arrangement with a flow barrier in a recess for receiving the sensor chip.

In den 1A und 1B ist ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Sensoranordnung 110 in Teildarstellung gezeigt. Dabei zeigt 1A eine perspektivische Darstellung eines Sensorträgers 112 der Sensoranordnung 110, wohingegen 1B eine Schnittdarstellung durch diesen Sensorträger 112 entlang einer virtuellen, in 1A mit der Bezugsziffer 114 bezeichneten Schnittlinie zeigt. Auf beide Darstellungen wird im Folgenden Bezug genommen.In the 1A and 1B is a first embodiment of a sensor arrangement according to the invention 110 shown in partial view. It shows 1A a perspective view of a sensor carrier 112 the sensor arrangement 110 , whereas 1B a sectional view through this sensor carrier 112 along a virtual, in 1A with the reference number 114 designated section line shows. Both representations will be referred to below.

Der Sensorträger 112 kann beispielsweise als Messflügel ausgestaltet sein, welcher in die Strömung eines fluiden Mediums hineinragt. Das fluide Medium ist in beiden Figuren symbolisch mit der Bezugsziffer 116 bezeichnet. Beispielsweise strömt dieses fluide Medium mit einer in den Figuren mit der Bezugsziffer 118 bezeichneten Strömungsrichtung, wobei sinngemäß die Strömungsgeschwindigkeit auch verschwindend klein bis hin zu null sein kann.The sensor carrier 112 For example, it can be designed as a measuring wing, which protrudes into the flow of a fluid medium. The fluid medium is symbolic in both figures with the reference numeral 116 designated. For example, this fluid medium flows with one in the figures by the reference numeral 118 designated flow direction, mutatis mutandis, the flow rate can be vanishingly small to zero.

Die Sensoranordnung 110 weist weiterhin einen Sensorchip 120 auf. Dieser Sensorchip 120 kann beispielsweise als Siliziumchip ausgestaltet sein und kann auf einer dem strömenden fluiden Medium 116 zuweisenden Sensorfläche 122 beispielsweise Sensorstrukturen aufweisen. Diese Sensorstrukturen können beispielsweise ein oder mehrere Heizwiderstände, einen oder mehrere Temperaturfühler oder Ähnliches aufweisen. Beispielsweise kann der Sensorchip 120 gemäß einem der aus dem eingangs beschriebenen Stand der Technik bekannten Sensorchips entsprechen.The sensor arrangement 110 also has a sensor chip 120 on. This sensor chip 120 For example, it can be configured as a silicon chip and can be mounted on a flowing fluid medium 116 assigning sensor surface 122 For example, have sensor structures. These sensor structures may, for example, have one or more heating resistors, one or more temperature sensors or the like. For example, the sensor chip 120 according to one of the sensor chips known from the prior art described above.

Der Sensorträger 112 ist dabei erfindungsgemäß als Multilayeraufbau 124 ausgestaltet. Dieser Multilayeraufbau kann, wie aus 1B erkennbar ist, eine Mehrzahl von Substratschichten 126 umfassen. Diese Substratschichten können beispielsweise aus Substraten mit Kunststoffmaterialien, Keramikmaterialien oder anderen Materialien oder Verbundmaterialien oder Materialkombinationen hergestellt sein. Diese können beispielsweise mittels Klebeschichten 128 miteinander verklebt sein und können in unterschiedlichen Schichtebenen, beispielsweise auf jeweils einer oder mehreren Oberflächen der Substratschichten 126, elektrische Strukturen 130 aufweisen. Diese elektrischen Strukturen 130 sind in 1B lediglich angedeutet. Diese elektrischen Strukturen 130 können beispielsweise Leiterbahnen, Durchführungen, Durchkontaktierungen, Kontaktpads, elektrische Bauelemente aktiver und/oder passiver Art oder andere Arten elektrischer Strukturen oder Kombinationen der genannten und/oder anderer Elemente umfassen, welche beispielsweise genutzt werden können, um eine Ansteuer- und Auswerteschaltung 132 der Sensoranordnung 110 ganz oder teilweise in dem Multilayeraufbau 124 zu realisieren. Diese Ansteuer- und Auswerteschaltung 132 kann beispielsweise elektrische Bauelemente 134 umfassen, welche in 1B ebenfalls lediglich symbolisch angedeutet sind und welche beispielsweise auf der Vorderseite 136 und/oder auf der Rückseite 138 des Multilayeraufbaus 124 aufgebracht sein können.The sensor carrier 112 is according to the invention as a multilayer structure 124 designed. This multilayer construction can be as though 1B it can be seen, a plurality of substrate layers 126 include. These substrate layers may be made, for example, from substrates having plastic materials, ceramic materials or other materials or composite materials or combinations of materials. These can, for example, by means of adhesive layers 128 be glued together and can in different layer planes, for example, on each one or more surfaces of the substrate layers 126 , electrical structures 130 exhibit. These electrical structures 130 are in 1B merely hinted. These electrical structures 130 For example, tracks, feedthroughs, vias, contact pads, active and / or passive electrical devices, or other types of electrical structures, or combinations of the foregoing and / or other elements may be used to drive and evaluate circuitry 132 the sensor arrangement 110 wholly or partly in the multilayer structure 124 to realize. This control and evaluation circuit 132 can, for example, electrical components 134 include, which in 1B are also indicated only symbolically and which, for example, on the front 136 and / or on the back 138 of the multilayer construction 124 can be applied.

Der Sensorchip 120 ist in dem in den 1A und 1B dargestellten Ausführungsbeispiel in einer Vertiefung 140 in dem Multilayeraufbau 124 angeordnet. Diese Vertiefung ist, wie in 1B erkennbar, in Form von rechteckigen Freischnitten 142 in dem Multilayeraufbau 124 ausgestaltet. Diese Freischnitte 142, welche in dem dargestellten Ausführungsbeispiel rechteckig ausgestaltet sind und im Wesentlichen an die Form des Sensorchips 120 angepasst sind, können beispielsweise vor dem Verbinden der einzelnen Substratschichten 126 zu dem Multilayeraufbau 124 in diese Substratschichten 126 eingeschnitten werden. Anschließend können die Substratschichten 126 entsprechend zu dem Multilayeraufbau 124 laminiert werden.The sensor chip 120 is in the in the 1A and 1B illustrated embodiment in a recess 140 in the multilayer construction 124 arranged. This recess is as in 1B recognizable, in the form of rectangular cutouts 142 in the multilayer construction 124 designed. These free cuts 142 which are configured rectangular in the illustrated embodiment and substantially to the shape of the sensor chip 120 are adapted, for example, before connecting the individual substrate layers 126 to the multilayer construction 124 in these substrate layers 126 be cut. Subsequently, the substrate layers 126 according to the multilayer structure 124 be laminated.

Vor dem Einbringen des Sensorchips 120 kann ein Klebstoff 144 in die Vertiefung 140 eingebracht werden, das heißt beispielsweise auf die Bodenfläche der Vertiefung 140, welche durch die oberste, nicht freigeschnittene Schicht (in 1B die dritte Schicht, von der Vorderseite 136 her betrachtet). Anschließend kann der Sensorchip 120 auf diesen Klebstoff 144 aufgebracht werden, so dass der Sensorchip 120 mit dem Multilayeraufbau 124 verklebt ist. Auch eine andere Art von Verbindungstechnik kann vorgesehen sein. Weiterhin können, zusätzlich zu einem Klebstoff 144, auch noch andere Stoffe eingebracht werden, beispielsweise ein Haftvermittler.Before inserting the sensor chip 120 can be an adhesive 144 into the depression 140 are introduced, that is, for example, on the bottom surface of the recess 140 , which through the top, not cut-free layer (in 1B the third layer, from the front 136 looked at). Then the sensor chip 120 on this glue 144 be applied so that the sensor chip 120 with the multilayer construction 124 is glued. Also, another type of connection technique may be provided. Furthermore, in addition to an adhesive 144 , Other substances are introduced, for example, a bonding agent.

Da der Klebstoff 144 beim Einbringen des Sensorchips 120 nach den Seiten ausweichen muss, ist in 2 ein zu 1B ähnliches Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Sensoranordnung 110 gezeigt, welches ein derartiges Ausweichen ermöglicht oder erleichtert. Dieses Ausführungsbeispiel kann grundsätzlich analog zu dem Ausführungsbeispiel gemäß 1B ausgestaltet sein, so dass in weiten Teilen auf die obige Beschreibung verwiesen werden kann.Because the glue 144 during insertion of the sensor chip 120 must dodge the pages is in 2 one too 1B similar embodiment of the sensor arrangement according to the invention 110 shown, which allows or facilitates such evasion. This embodiment can basically analogous to the embodiment according to 1B be configured, so that in many parts to the above description can be referenced.

Im Unterschied der Ausführungsform in 1B weist die Vertiefung 140 in dem Ausführungsbeispiel gemäß 2 jedoch ein Reservoir 146 zur Aufnahme überschüssigen Klebstoffs auf. Dieses Reservoir ist in dem dargestellten Ausführungsbeispiel beispielsweise als umlaufende Rinne bzw. als umlaufender Hohlraum in der, von der Vorderseite 136 her betrachteten, zweiten Substratschicht 126 des Multilayeraufbaus 124 aufgebaut. Dieser Hohlraum wird dadurch erzeugt, dass der Freischnitt in dieser zweiten Schnitt größer dimensioniert ist als der Freischnitt in der darüberliegenden, der Vorderseite 136 zuweisenden ersten Substratschicht 126. Auch andere Ausgestaltungen des Reservoirs 146 sind grundsätzlich denkbar und können alternativ oder zusätzlich eingesetzt werden. Beispielsweise kann das Reservoir 146 Gräben, Rinnen, Nuten, Bohrungen oder Ähnliches am Boden der Vertiefung 140 aufweisen. Die dargestellte Ausführungsform des Reservoirs 146 gemäß 2 lässt sich jedoch technisch besonders einfach realisieren, da diese lediglich eine größere Dimensionierung des zweiten Freischnitts erfordert, bevor die Substratschichten 126 zu dem Multilayeraufbau 124 verbunden werden.In contrast to the embodiment in 1B indicates the depression 140 in the embodiment according to 2 but a reservoir 146 to pick up excess adhesive. This reservoir is in the illustrated embodiment, for example, as a circumferential groove or as a circumferential cavity in, from the front 136 considered, second substrate layer 126 of the multilayer construction 124 built up. This cavity is created by the free cut in this second cut is dimensioned larger than the cutout in the overlying, the front 136 assigning first substrate layer 126 , Also other embodiments of the reservoir 146 are basically conceivable and can be used alternatively or additionally. For example, the reservoir 146 Ditches, gutters, grooves, holes or the like at the bottom of the depression 140 exhibit. The illustrated embodiment of the reservoir 146 according to 2 However, it is technically particularly easy to implement, since this requires only a larger dimensioning of the second free cutting before the substrate layers 126 to the multilayer construction 124 get connected.

Es sei darauf hingewiesen, dass der Aufbau der Ausführungsbeispiele in den 1A und 1B sowie in 2 lediglich beispielhaft zu verstehen ist. So kann die Vertiefung 140, im Gegensatz zu den hier dargestellten Freischnitten in zwei Substratschichten 126, auch lediglich einen Freischnitt in einer Schicht oder in mehr als zwei Schichten umfassen. Weiterhin ist aus den 1B und 2 erkennbar, dass die Sensoroberfläche 122 des Sensorchips 120 leicht zurückgesetzt ist gegenüber der Oberfläche der Vorderseite 136. Dies ist nicht zwingend erforderlich. So ist es beispielsweise aus strömungstechnischen Gründen auch möglich, diese Sensoroberfläche 122 bündig mit der Vorderseite 136 des Multilayeraufbaus 124 auszugestalten.It should be noted that the structure of the embodiments in the 1A and 1B as in 2 merely by way of example. So can the recess 140 , in contrast to the free cuts shown here in two substrate layers 126 , also comprise only one free cut in one layer or in more than two layers. Furthermore, from the 1B and 2 recognizable that the sensor surface 122 of the sensor chip 120 slightly set back from the surface of the front 136 , This is not mandatory. So it is also possible, for example, for fluidic reasons, this sensor surface 122 flush with the front 136 of the multilayer construction 124 embody.

Weitere bevorzugte Ausführungsformen betreffen, wie oben erläutert, Details der Verklebung mittels des Klebstoffs 144. So sind in den 3A und 3B sowie in 4 zwei Ausführungsbeispiele gezeigt, welche keine vollflächige Klebung des Sensorchips 120 mit dem Multilayeraufbau 124 beinhalten, sondern lediglich eine teilflächige Verklebung.Further preferred embodiments relate, as explained above, details of the bonding by means of the adhesive 144 , So are in the 3A and 3B as in 4 shown two embodiments, which no full-surface adhesion of the sensor chip 120 with the multilayer construction 124 include, but only a partial bonding.

Dabei zeigt 3A eine perspektivische Darstellung eines dritten Ausführungsbeispiels einer Sensoranordnung 110 mit Teilverklebung, wohingegen 3B wiederum, ähnlich zu 1B, eine Schnittdarstellung entlang der Schnittlinie 114 in 3A zeigt.It shows 3A a perspective view of a third embodiment of a sensor arrangement 110 with Teilverklebung, whereas 3B again, similar to 1B , a sectional view along the section line 114 in 3A shows.

Diese Ausführungsform trägt der Tatsache Rechnung, dass bei verschiedenen Sensoranordnungen 110, insbesondere Sensoranordnungen mit Sensorchips 120 in Form mikromechanischer Sensoren, die Einleitung mechanischer Spannungen sowie die Kontamination sensitiver Bereiche durch den Klebstoff 140 und/oder einen Haftvermittler nicht erlaubt ist.This embodiment takes into account the fact that different sensor arrangements 110 , in particular sensor arrangements with sensor chips 120 in the form of micromechanical sensors, the introduction of mechanical stresses and the contamination of sensitive areas by the adhesive 140 and / or a bonding agent is not allowed.

Insbesondere bei flächigen Anbindungen ist die partielle Flächennutzung über die Menge und/oder die Prozessparameter jedoch nur unzureichend beherrschbar.Especially with area connections, the partial land use is over however, the quantity and / or the process parameters are insufficient manageable.

Daher ist in dem Ausführungsbeispiel gemäß den 3A und 3B lediglich eine Teilfläche 148 als nutzbarer Bereich und als Anbindungsfläche mit dem Multilayeraufbau 124 verklebt. Die übrigen Flächen des Sensorchips 120 sind hingegen freitragend und nicht an den Sensorträger 112 angebunden.Therefore, in the embodiment according to the 3A and 3B only a partial area 148 as a usable area and as a connection surface with the multilayer structure 124 bonded. The remaining areas of the sensor chip 120 On the other hand, they are self-supporting and not on the sensor carrier 112 tethered.

Um zu verhindern, dass, bereits beim Aufbringen des Klebstoffs 144 und/oder später beim Aufsetzen des Sensorchips 120, Klebstoff 144 auf die übrigen, außerhalb der Anbindungsfläche 148 gelegenen Flächen des Sensorelements 120 gelangt, ist in dem in 3A und 3B dargestellten Ausführungsbeispiel eine Fließsperre 150 in Form eines Grabens 152 vorgesehen. Diese Fließsperre 150 ist beispielsweise durch einen Freischnitt in der obersten und/oder in weiteren Substratschichten 126 des Multilayeraufbaus 124 realisiert. Dieser Freischnitt lässt sich beispielsweise wiederum vor dem Verbinden der Substratschichten 126 zu dem Multilayeraufbau 124 verzeugen. Die Fließsperre 150 wirkt als Fließgrenze für den Klebstoff 144 und/oder den Haftvermittler. Die Breite und/oder die anderen Dimensionen wie beispielsweise die Tiefe, der Fließsperre 150 können an die Randbedingungen angepasst werden, beispielsweise die Dimensionen des Sensorchips 120, die Menge und/oder die Viskosität des Klebstoffs 144 oder ähnliche Randbedingungen. Die Breite der Fließsperre 150 kann beispielsweise 0,7 mm betragen und deren Tiefe 0,3 mm. Auch andere Dimensionierungen sind jedoch grundsätzlich möglich. Falls die Breite bei einer gegebenen Dicke der Substratschichten 126 nicht in ausreichendem Abstand realisierbar ist, lassen sich weitere Substratschichten 126 des Multilayeraufbaus 124 nutzen. Allgemein sollte der mindestens eine Graben 152 der Fließsperre 150 beispielsweise parallel zu den gewünschten Begrenzungslinien der Anbindungsfläche 148 verlaufen.To prevent, already when applying the adhesive 144 and / or later when placing the sensor chip 120 , Adhesive 144 on the rest, outside the connection area 148 lying surfaces of the sensor element 120 is in the in 3A and 3B illustrated embodiment, a flow barrier 150 in the form of a ditch 152 intended. This flow barrier 150 is for example by a free cut in the top and / or in further substrate layers 126 of the multilayer construction 124 realized. This free cut can be, for example, again before connecting the substrate layers 126 to the multilayer construction 124 verzeugen. The flow barrier 150 acts as yield point for the adhesive 144 and / or the bonding agent. The width and / or the other dimensions such as the depth, the flow barrier 150 can be adapted to the boundary conditions, for example the dimensions of the sensor chip 120 , the amount and / or the viscosity of the adhesive 144 or similar boundary conditions. The width of the flow barrier 150 For example, it can be 0.7 mm and its depth 0.3 mm. However, other dimensions are possible in principle. If the width is at a given thickness of the substrate layers 126 can not be realized at a sufficient distance, can be further substrate layers 126 of the multilayer construction 124 use. Generally, the at least one trench should 152 the flow barrier 150 for example, parallel to the desired boundary lines of the connection surface 148 run.

Während das Ausführungsbeispiel gemäß den 3A und 3B eine Sensoranordnung 110 zeigt, in welcher der Sensorchip 120 auf die Vorderseite 136 des Multilayeraufbaus 124 aufgebracht ist, zeigt 4 ein analoges Ausführungsbeispiel, welches ähnlich zu dem Ausführungsbeispiel in den 1A und 1B ausgestaltet ist. Wiederum ist in diesem Ausführungsbeispiel eine Vertiefung 140 in Form von Freischnitten 142 in den obersten Substratschichten 126 des Multilayeraufbaus 124 vorgesehen. Für die möglichen Ausgestaltungen dieser Vertiefung 140 kann auf die Beschreibung der obigen Ausführungsbeispiele verwiesen werden.While the embodiment according to the 3A and 3B a sensor arrangement 110 shows in which the sensor chip 120 on the front 136 of the multilayer construction 124 is applied, shows 4 an analogous embodiment, which is similar to the embodiment in the 1A and 1B is designed. Again, in this embodiment, a recess 140 in the form of free cuts 142 in the uppermost substrate layers 126 of the multilayer construction 124 intended. For the possible embodiments of this depression 140 can be made to the description of the above embodiments.

Analog zu dem Ausführungsbeispiel in den 3A und 3B ist jedoch wiederum lediglich eine Teilfläche 148 als Anbindungsfläche über einen Klebstoff 144, gegebenenfalls mit einem Haftvermittler, an den Boden der Vertiefung 140 angebunden. Analog zu dem Ausführungsbeispiel in den 3A und 3B ist wiederum mindestens eine Fließsperre 150 vorgesehen, beispielsweise wiederum in Form eines Grabens 152, welche beispielsweise am Boden der Vertiefung 140 vorgesehen sein kann und welche verhindert, dass Klebstoff 144 und/oder Haftvermittler auf Flächen des Sensorchips 140 und/oder des Multilayeraufbaus 124 gelangt, wo diese unerwünscht sind. Die Fließsperre 150 lässt sich auch beispielsweise mit einen oder mehreren Reservoirs 146 kombinieren, beispielsweise dem in 2 gezeigten Ausführungsbeispiel eines Reservoirs 146. Auf diese Weise lassen sich die Teilflächen 148, welche als Anbindungsfläche genutzt werden sollen, exakt definieren, wobei überschüssiger Klebstoff 144 in das mindestens eine Reservoir 146 entweichen kann, ohne in unerwünschte Bereiche zu gelangen. Insofern bietet die erfindungsgemäße Ausführungsform ein hohes Maß an Prozessstabilität und Reproduzierbarkeit der damit hergestellten Sensoranordnungen 110.Analogous to the embodiment in the 3A and 3B however, is again only a partial area 148 as a bonding surface via an adhesive 144 optionally with a primer, to the bottom of the well 140 tethered. Analogous to the embodiment in the 3A and 3B is again at least one flow barrier 150 provided, for example, again in the form of a trench 152 which, for example, at the bottom of the recess 140 can be provided and which prevents adhesive 144 and / or adhesion promoter on surfaces of the sensor chip 140 and / or multilayer construction 124 reaches where they are undesirable. The flow barrier 150 can also be used, for example, with one or more reservoirs 146 combine, for example, the in 2 shown embodiment of a reservoir 146 , In this way, the faces can be 148 exactly define what should be used as a connection surface, with excess adhesive 144 in the at least one reservoir 146 can escape without getting into unwanted areas. In this respect, the embodiment according to the invention offers a high degree of process stability and reproducibility of the sensor arrangements produced therewith 110 ,

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • - DE 19601791 A1 [0002] - DE 19601791 A1 [0002]
  • - DE 19524634 A1 [0003] - DE 19524634 A1 [0003]

Claims (10)

Sensoranordnung (110) zur Bestimmung wenigstens eines Parameters eines mit einer Strömungsrichtung (118) strömenden fluiden Mediums (116), insbesondere einer durch ein Strömungsrohr strömenden Ansaugluftmasse einer Brennkraftmaschine, wobei die Sensoranordnung (110) mindestens einen Sensorchip (120) zur Bestimmung des wenigstens einen Parameters mit mindestens einer Sensoroberfläche (122) aufweist, wobei die Sensoranordnung (110) einen Sensorträger (112) aufweist, wobei der Sensorchip (120) derart mit dem Sensorträger (112) verbunden ist, dass die Sensoroberfläche (122) von dem fluiden Medium (116) überströmt wird, wobei der Sensorträger (112) zumindest teilweise als Multilayeraufbau (124) ausgestaltet ist, wobei der Multilayeraufbau (124) mindestens zwei Substratschichten (126) und elektrische Strukturen (130) in mindestens zwei verschiedenen Schichtebenen des Multilayeraufbaus (124) aufweist.Sensor arrangement ( 110 ) for determining at least one parameter of one with a flow direction ( 118 ) flowing fluid medium ( 116 ), in particular a flowing through a flow tube intake air mass of an internal combustion engine, wherein the sensor arrangement ( 110 ) at least one sensor chip ( 120 ) for determining the at least one parameter with at least one sensor surface ( 122 ), wherein the sensor arrangement ( 110 ) a sensor carrier ( 112 ), wherein the sensor chip ( 120 ) in such a way with the sensor carrier ( 112 ), that the sensor surface ( 122 ) of the fluid medium ( 116 ) is flowed over, wherein the sensor carrier ( 112 ) at least partially as a multilayer structure ( 124 ), wherein the multilayer structure ( 124 ) at least two substrate layers ( 126 ) and electrical structures ( 130 ) in at least two different layer levels of the multilayer structure ( 124 ) having. Sensoranordnung (110) nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei der Sensorchip (120) mit dem Multilayeraufbau (124) auf zumindest einer Teilfläche (148) verklebt ist, wobei der Multilayeraufbau (124) mindestens eine Fließsperre (150) in Form mindestens einer Aussparung, insbesondere in Form mindestens eines Grabens, aufweist, um eine Verklebung weiterer Flächen zu verhindern.Sensor arrangement ( 110 ) according to the preceding claim, wherein the sensor chip ( 120 ) with the multilayer structure ( 124 ) on at least one partial surface ( 148 ) is glued, wherein the multilayer structure ( 124 ) at least one flow barrier ( 150 ) in the form of at least one recess, in particular in the form of at least one trench, in order to prevent adhesion of further surfaces. Sensoranordnung (110) nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei die Aussparung mindestens eine obere oder tiefer gelegene Schicht des Multilayeraufbaus (124) vollständig durchsetzt.Sensor arrangement ( 110 ) according to the preceding claim, wherein the recess has at least one upper or lower layer of the multilayer structure ( 124 ) completely interspersed. Sensoranordnung (110) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Sensorchip (120) in einer Vertiefung (140) des Multilayeraufbaus (124) angeordnet ist.Sensor arrangement ( 110 ) according to one of the preceding claims, wherein the sensor chip ( 120 ) in a depression ( 140 ) of the multilayer structure ( 124 ) is arranged. Sensoranordnung (110) nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei die Vertiefung (140) mindestens einen Freischnitt in der obersten Substratschicht (126) des Multilayeraufbaus (124) und vorzugsweise in mindestens einer weiteren Substratschicht (126) des Multilayeraufbaus (124) umfasst.Sensor arrangement ( 110 ) according to the preceding claim, wherein the recess ( 140 ) at least one free cut in the uppermost substrate layer ( 126 ) of the multilayer structure ( 124 ) and preferably in at least one further substrate layer ( 126 ) of the multilayer structure ( 124 ). Sensoranordnung (110) nach einem der beiden vorhergehenden Ansprüche, wobei der Sensorchip (120) flächig auf einer Aufnahmefläche einer tieferliegenden Schicht des Multilayeraufbaus (124) fixiert ist.Sensor arrangement ( 110 ) according to one of the two preceding claims, wherein the sensor chip ( 120 ) flat on a receiving surface of a deeper layer of the multilayer structure ( 124 ) is fixed. Sensoranordnung (110) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Multilayeraufbau (124), insbesondere eine Vertiefung (140) zur Aufnahme des Sensorchips (120), mindestens ein Reservoir (146) zur Aufnahme überschüssigen Klebstoffs bei einem Verkleben des Sensorchips (120) mit dem Multilayeraufbau (124) aufweist.Sensor arrangement ( 110 ) according to one of the preceding claims, wherein the multilayer structure ( 124 ), in particular a depression ( 140 ) for receiving the sensor chip ( 120 ), at least one reservoir ( 146 ) for receiving excess adhesive when sticking the sensor chip ( 120 ) with the multilayer structure ( 124 ) having. Sensoranordnung (110) nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei das Reservoir (146) durch eine Überdimensionierung eines Freischnitts in mindestens einer tiefer gelegenen Substratschicht (126) des Multilayeraufbaus (124) relativ zu mindestens einer höher angeordneten Substratschicht (126) des Multilayeraufbaus (124) erzeugt ist.Sensor arrangement ( 110 ) according to the preceding claim, wherein the reservoir ( 146 ) by over-dimensioning a free-cutting in at least one lower-lying substrate layer ( 126 ) of the multilayer structure ( 124 ) relative to at least one higher substrate layer ( 126 ) of the multilayer structure ( 124 ) is generated. Sensoranordnung (110) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Sensoroberfläche (122) im Wesentlichen bündig mit einer Oberfläche des Multilayeraufbaus (124) angeordnet ist.Sensor arrangement ( 110 ) according to one of the preceding claims, wherein the sensor surface ( 122 ) substantially flush with a surface of the multilayer structure ( 124 ) is arranged. Sensoranordnung (110) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Sensoranordnung (110) eine elektrische Ansteuer- und Auswerteschaltung (132) zur Ansteuerung und/oder Auswertung des Sensorchips (120) aufweist, wobei die Ansteuer- und Auswerteschaltung (132) zumindest teilweise in dem Multilayeraufbau (124) integriert ist.Sensor arrangement ( 110 ) according to one of the preceding claims, wherein the sensor arrangement ( 110 ) an electrical control and evaluation circuit ( 132 ) for controlling and / or evaluating the sensor chip ( 120 ), wherein the drive and evaluation circuit ( 132 ) at least partially in the multilayer structure ( 124 ) is integrated.
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