DE102008005857A1 - Alkali-free glass - Google Patents
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Abstract
Es wird ein als Substratglas für TFT-Anwendungen geeignetes alkalifreies Glas angegeben, das frei von toxischen Bestandteilen ist und bezüglich seines Viskositätsverhaltens und seines thermischen Ausdehnungskoeffizienten optimiert ist und für den Floatprozess geeignet ist. Das Glas enthält (in Gew.-% auf Oxidbasis): 3,3-8,0 MgO, 0,1-4,9 CaO, 5,1-18,0 B2O3, 10-30 Al2O3, 50-65 SiO2, 0,-0,2 SnO2, 0-0,2 ZrO2, <= 0,1 R2O, weitere Oxide <= 5.An alkali-free glass suitable for use as a substrate glass for TFT applications, which is free of toxic constituents and is optimized with respect to its viscosity behavior and its thermal expansion coefficient and is suitable for the float process, is specified. The glass contains (in% by weight based on oxide): 3.3-8.0 MgO, 0.1-4.9 CaO, 5.1-18.0 B2O3, 10-30 Al2O3, 50-65 SiO2, 0, -0.2 SnO2, 0-0.2 ZrO2, <= 0.1 R2O, other oxides <= 5.
Description
Die Erfindung betrifft ein alkalifreies Glas, das ökologisch unbedenklich, kostengünstig herzustellen und gut für den Floatprozess geeignet ist.The The invention relates to an alkali-free glass that is ecological harmless, inexpensive and good for the float process is suitable.
Alkalifreie Gläser, die beispielsweise als Display-Gläser für TFT-Anwendungen geeignet sind, werden in der Regel im Floatprozess verarbeitet und weisen als Hauptbestandteile Siliciumoxid, Aluminiumoxid, Boroxid, Magnesiumoxid, Calciumoxid, Strontiumoxid, Bariumoxid und ggf. weitere Bestandteile auf.alkali-free Glasses, for example, as display glasses are suitable for TFT applications are usually processed in the float process and have as main constituents silica, Alumina, boria, magnesia, calcia, strontia, Barium oxide and possibly other ingredients on.
Für derartige Gläser wird eine Freiheit von toxischen Bestandteilen, insbesondere von As2O3, Sb2O3, BaO und SrO, angestrebt. Alkalioxide sollen in derartigen Gläsern nur in einem unvermeidbaren Anteil vorhanden sein, der durch Verunreinigungen bedingt ist. Der Alkaligehalt sollte hierbei jedoch nicht 1000 ppm überschreiten.For such glasses, a freedom of toxic components, in particular of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , BaO and SrO, sought. Alkali oxides should be present in such glasses only in an unavoidable proportion, which is due to impurities. However, the alkali content should not exceed 1000 ppm.
Für die Prozessfähigkeit, d. h. etwa für eine Beschichtung mit Silicium, und für ein Handling von großen Glasscheiben sind als Parameter wesentlich, der thermische Ausdehnungskoeffizient, der spezifische Elastizitätsmodul und die thermische Belastbarkeit ohne Verformung (T14,5, d. h. Temperatur bei einem Logarithmus der Viskosität von 14,5). Der thermische Ausdehnungskoeffizient sollte möglichst gering sein, um kurze Durchlaufzeiten beim Beschichtungsprozess zu ermöglichen. Je kleiner der thermische Ausdehnungskoeffizient ist, desto schneller kann das Glasstück auf Prozesstemperatur gebracht und wieder abgekühlt werden, ohne dass spannungsbedingte Risse entstehen. Dies spart Belegungszeit in teuren Beschichtungsanlagen und trägt wesentlich zur Wirtschaftlichkeit eines Gesamtprozesses bei. Andererseits muss der thermische Ausdehnungskoeffizient des Glases an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten des Siliciumsubstrates angepasst sein. Ein guter Kompromiss liegt bei einem α von 2,9–3,2·10–6/K.For the process capability, ie for a coating with silicon, and for the handling of large glass panes, the parameters are essentially the coefficient of thermal expansion, the specific modulus of elasticity and the thermal load capacity without deformation (T14.5, ie temperature at a logarithm of the viscosity of 14.5). The coefficient of thermal expansion should be as low as possible in order to allow short throughput times in the coating process. The smaller the coefficient of thermal expansion, the faster the glass piece can be brought to process temperature and cooled again without causing stress-induced cracks. This saves time in expensive coating systems and contributes significantly to the profitability of an overall process. On the other hand, the thermal expansion coefficient of the glass must be adapted to the thermal expansion coefficient of the silicon substrate. A good compromise is an α of 2.9-3.2 x 10 -6 / K.
Für eine qualitativ hochwertige Schicht sollte das Silicium bei möglichst hohen Temperaturen abgeschieden werden. Dabei ist es wichtig, dass sich das Glas nicht verformt. Dies ist sichergestellt, wenn eine Temperatur nicht überschritten wird, bei der die Viskosität η = 1014,5 dPas bzw. lg η = 14,5 beträgt. (Dies sei als T14,5 definiert). Der Wert soll vorzugsweise mindestens > 660°C, bevorzugt > 700°C sein. Im Laufe des Prozesses müssen große Scheiben mit einer Dicke von ca. 0,7 mm zwischen verschiedenen Stationen bewegt werden, ohne zu brechen. Hierzu ist ein hoher Elastizitätsmodul, genauer gesagt ein hoher spezifischer Elastizitätsmodul (definiert als E/ρ) von mindestens > 31·106 Nm/kg, bevorzugt > 34·106 Nm/kg wünschenswert.For a high-quality layer, the silicon should be deposited at the highest possible temperatures. It is important that the glass does not deform. This is ensured if a temperature is not exceeded at which the viscosity η = 10 14.5 dPas or lg η = 14.5. (This is defined as T14.5). The value should preferably be at least> 660 ° C., preferably> 700 ° C. During the process, large disks approximately 0.7 mm thick must be moved between different stations without breaking. For this purpose, a high elastic modulus, more precisely a high specific modulus of elasticity (defined as E / ρ) of at least> 31 × 10 6 Nm / kg, preferably> 34 × 10 6 Nm / kg, is desirable.
Die Herstellkosten des Rohglases werden, abgesehen von den Rohstoffkosten, im Wesentlichen durch den Schmelz- und Heißformgebungsprozess bestimmt. Die Kosten des Einschmelzprozesses werden wesentlich bestimmt durch die Faktoren Durchsatz des Glases und Verschleiß des teueren Feuerfestmaterials (vergleiche Wannenstandzeit). Beide werden in gegensätzlicher Weise durch die Temperatur des Einschmelzprozesses bestimmt. Für ein gutes Einschmelzen des Gemenges ist im Allgemeinen eine Viskosität von lg η = 2 oder kleiner erforderlich, gekennzeichnet durch die Temperatur T2. Da die Viskosität umso niedriger wird, je höher die Temperatur ist, ist für einen wirtschaftlichen Einschmelzprozess eine möglichst hohe Temperatur wünschenswert. Die Standfestigkeit des Feuerfestmaterials der Wanne ist jedoch umso höher, je niedriger die Temperatur ist. Damit ergibt sich ein Zielkonflikt, der am besten dadurch zu lösen ist, dass die Viskosität des Glases beim Einschmelzen, gekennzeichnet durch T2, und der absolute Level von T2 möglichst niedrig ist. Da sich die Verwendung von Alkalien, die bekanntermaßen zum Absenken der Viskosität von Gläsern verwendet werden, verbietet, ist die Absenkung der Viskosität in für TFT-Anwendung geeigneten Gläsern eine schwierige Aufgabe. Gängige Gläser weisen Werte von T2 > 1680°C auf. Angestrebt sind jedoch Werte darunter.The Production costs of the raw glass are, apart from the raw material costs, essentially by the melting and hot forming process certainly. The costs of the melting process are substantially determined through the factors throughput of the glass and wear of the expensive refractory material (compare tub life). Both will in a contrary way by the temperature of the melting process certainly. For a good melting of the mixture is in Generally, a viscosity of lg η = 2 or smaller required, characterized by the temperature T2. There the higher the viscosity, the lower the viscosity Temperature is, is for an economic smelting process the highest possible temperature desirable. The stability of the refractory material of the tub is however the higher the lower the temperature. This results a conflict of goals that is best solved by that the viscosity of the glass during melting, characterized through T2, and the absolute level of T2 as low as possible is. As is the use of alkalis, which are known used to lower the viscosity of glasses, prohibits the lowering of the viscosity in for TFT application suitable glasses a difficult task. Common glasses have values of T2> 1680 ° C. However, the target is values below.
Für die Kosten des Floatprozesses ist eine der wesentlichen Einflussgrößen die Ausbeute an Gutglas. Diese kann man u. a. dadurch günstig beeinflussen, dass die Temperaturunterschiede im Floatbad relativ gering sind. Dies vermeidet Strömungen im Zinnbad und die damit verbundenen Glasfehler. Für das Glas bedeutet dies, dass ein starker Anstieg der Viskosität mit der Temperatur wünschenswert ist. Dies kann man beispielsweise durch den Unterschied T7,6 – T14,5 ausdrücken („kurzes Glas"). Diese Differenz sollte möglichst klein sein. Außerdem bedeutet dies, dass das Glas schnell erstarrt und somit das Zinnbad kurz gehalten werden kann, wodurch die Kosten an gebundenem Kapital niedriger als üblich sind. Einige bekannte Gläser weisen hier Werte von > 275°C auf, während vorzugsweise ein niedrigerer Wert angestrebt ist. Für den Floatprozess geeignet bedeutet weiterhin, dass keine reduzierbaren Komponenten wie As2O3 und Sb2O3 vorhanden sein dürfen (diese sollen aufgrund der Giftigkeit ohnehin vermieden werden).For the cost of the float process is one of the main factors influencing the yield of good glass. This can be favorably influenced, inter alia, by the fact that the temperature differences in the float bath are relatively low. This avoids flows in the tin bath and the associated glass defects. For the glass, this means that a large increase in viscosity with temperature is desirable. This can be expressed for example by the difference T7.6 - T14.5 ("short glass") .This difference should be as small as possible, which also means that the glass solidifies quickly and thus the tin bath can be kept short, thus reducing the cost Some known glasses have values of> 275 ° C, while preferably a lower value is desired.Furthermore, suitable for the float process means that no reducible components such as As 2 O 3 and Sb 2 O 3 may be present (these should be avoided anyway because of the toxicity).
Das Ziel, eine möglichst hohe Temperatur für T14,5 zu erhalten, ist gegenläufig zu dem Ziel, eine möglichst niedrige Temperatur für T2 zu erhalten. Erhöht man beispielsweise den Anteil von SiO2 im Glas, erhöht sich T14,5, allerdings auch T2. Deswegen ist es sinnvoll, hier zusätzlich die Differenz T2 – T14,5 zu betrachten. Bekannte Gläser weisen hier oft Werte von > 980°C auf, während möglichst kleinere Werte bevorzugt sind.The goal of achieving the highest possible temperature for T14.5 is in opposition to the goal of achieving the lowest possible temperature for T2. Increases, for example, the proportion of SiO 2 in the glass, increased T14.5, but also T2. For this reason, it makes sense to additionally consider the difference T2 - T14.5. Known glasses often have values of> 980 ° C., while the smallest possible values are preferred.
So
ist etwa aus der
Aus
der
Aus
der
Aus
der
Laut Ausführungsbeispielen sind darin jedoch immer toxische Bestandteile enthalten.Loud However, embodiments are always toxic in it Contain ingredients.
Aus
der
Jedoch enthalten alle Ausführungsbeispiele mehr oder minder große Mengen an Bariumoxid, was bekanntermaßen toxisch ist (es wird u. a. als Rattengift verwendet).however All embodiments contain more or less large Amounts of barium oxide, which is known to be toxic (it we you. a. used as rat poison).
Aus
der
Der Ausdehnungskoeffizient dieser Gläser ist jedoch relativ hoch.Of the Coefficient of expansion of these glasses, however, is relative high.
Gleichermaßen
ergeben sich auch bei den sehr ähnlichen aus der
Aus
der
Der thermische Ausdehnungskoeffizient dieser Gläser ist relativ hoch.Of the thermal expansion coefficient of these glasses is relative high.
Aus
der
Aus
der
Sämtliche der Ausführungsbeispiele enthalten die toxischen Bestandteile Strontiumoxid und Bariumoxid. Auch sind sämtliche Ausführungsbeispiele mit As2O3 oder Sb2O3 geläutert.All of the embodiments contain the toxic components strontium oxide and barium oxide. Also, all embodiments are purified with As 2 O 3 or Sb 2 O 3 .
Aus
der
Dabei sind sämtliche Ausführungsbeispiele entweder mit As2O3 oder Sb2O3 geläutert. Auch enthalten sämtliche Ausführungsbeispiele Bariumoxid und Strontiumoxid, wobei es sich um toxische Materialien handelt.All embodiments are purified either with As 2 O 3 or Sb 2 O 3 . Also, all embodiments include barium oxide and strontium oxide, which are toxic materials.
Derartige Materialien sollen erfindungsgemäß vermieden werden.such Materials should be avoided according to the invention.
Aus
der
Sämtliche Ausführungsbeispiele enthalten allerdings SrO und BaO, also Bestandteile, die erfindungsgemäß vermieden werden sollen.All However, embodiments include SrO and BaO, So ingredients that avoided according to the invention should be.
Aus
der
Auch diese Gläser weisen einen relativ hohen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf.Also These glasses have a relatively high thermal expansion coefficient on.
Aus
der
Auch hierbei ist der thermische Ausdehnungskoeffizient relativ groß. Auch ist Bariumoxid enthalten.Also Here, the thermal expansion coefficient is relatively large. Also included is barium oxide.
Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein als Substratglas geeignetes Glas bereitzustellen, das bis auf zufällige Verunreinigungen aufgrund der verwendeten Rohstoffe oder aus den Schmelzanlagen frei ist von toxischen oder umweltgefährdenden Stoffen und Schwermetallen. Als Läutermittel soll SnO2 verwendet werden, während auf die Läutermittel der Gruppe der Halogene und SO3 verzichtet werden soll. Außerdem soll das Glas frei von Bariumoxid und Strontium oxid sein. Auch soll das Glas kein P2O5 enthalten. Schließlich das Glas gut für den Floatprozess geeignet sein, einen hohen spezifischen E-Modul aufweisen und einen Ausdehnungskoeffizienten α im Bereich von etwa 2,9–3,2·10–6/K. Dabei soll die Temperatur T14,5 > 660°C sein, die Einschmelztemperatur T2 < 1680°C sein und wobei T14,5 – T2 < 970°C sein soll und T7,6 – T14,5 < 275°C sein soll.Against this background, the invention has the object to provide a glass suitable as a substrate glass, which is free of accidental contamination due to the raw materials used or from the melting plants of toxic or environmentally hazardous substances and heavy metals. The refining agent SnO 2 is to be used, while the refining agents of the group of halogens and SO 3 should be dispensed with. In addition, the glass should be free of barium oxide and strontium oxide. Also, the glass should not contain P 2 O 5 . Finally, the glass will be well suited for the float process, have a high specific modulus of elasticity and an expansion coefficient α in the range of about 2.9-3.2 x 10 -6 / K. The temperature should be T14.5> 660 ° C, the meltdown temperature T2 <1680 ° C, and wherein T14.5 - T2 should be <970 ° C and T7.6 - T14.5 <275 ° C should be.
Diese
Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein alkalifreies
Glas mit folgender Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) gelöst:
Weiter
bevorzugt ist hierbei ein Glas mit folgender Zusammensetzung:
Alternativ
ist auch ein Glas mit folgender Zusammensetzung bevorzugt:
Schließlich
ist ein Glas mit folgender Zusammensetzung bevorzugt:
Vorzugsweise enthalten die erfindungsgemäßen Gläser maximal 3 Gew.-%, weiter bevorzugt maximal 1 Gew.-% an weiteren nicht toxischen Oxiden, wie etwa TiO2.The glasses according to the invention preferably contain not more than 3% by weight, more preferably not more than 1% by weight, of further non-toxic oxides, such as TiO 2 .
Als Läutermittel ist vorzugsweise 0,02–0,2 Gew.-% an SnO2 enthalten.As refining agent is preferably 0.02-0.2 wt .-% of SnO 2 contained.
Zusätzlich kann als Hilfsläutermittel 0,01–0,2 Gew.-% ZrO2 enthalten sein.In addition, 0.01-0.2% by weight ZrO 2 may be contained as auxiliary semiconducting agent.
Der CaO-Gehalt beträgt vorzugsweise mindestens 1 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 3 Gew.-%, weiter bevorzugt mindestens 4 Gew.-%.Of the CaO content is preferably at least 1% by weight, preferably at least 3% by weight, more preferably at least 4% by weight.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beträgt der Gehalt an Al2O3 12–25 Gew.-%, vorzugsweise 14–24 Gew.-%.According to a further embodiment of the invention, the content of Al 2 O 3 is 12-25% by weight, preferably 14-24% by weight.
Der Gehalt an MgO kann schließlich gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung 3–6 Gew.-% betragen.Of the Content of MgO can finally be determined according to a further embodiment of the invention 3-6 wt .-% amount.
Vorzugsweise ist das erfindungsgemäße Glas frei von Halogenen und P2O5.Preferably, the glass according to the invention is free from halogens and P 2 O 5 .
Die Gläser enthalten vorzugsweise 50–65 Gew.-% (etwa 54 -< 69 Mol-%) SiO2. Bei geringerem Gehalt verschlechtert sich die chemische Beständigkeit und die thermische Belastbarkeit und der thermische Ausdehnungskoeffizient und die Dichte nehmen zu hohe Werte an. Bei höherem Gehalt verschlechtert sich die Schmelzbarkeit. Bevorzugt enthalten die Gläser mehr als 52 Gew.-% (56 Mol-%) und weniger als 63,5 Gew.-% (67,5 Mol-%) SiO2.The glasses preferably contain 50-65 wt% (about 54- <69 mol%) SiO 2 . At lower content, the chemical resistance and the thermal resistance deteriorate, and the thermal expansion coefficient and the density become too high. At higher content, the meltability deteriorates. The glasses preferably contain more than 52% by weight (56 mol%) and less than 63.5% by weight (67.5 mol%) of SiO 2 .
Die Gläser enthalten 5,1–18 Gew.-% B2O3 (ca. 4–17 Mol-%). Bei geringerem Gehalt verschlechtert sich die Schmelzbarkeit, bei höheren Gehalten nimmt die chemische Beständigkeit und die thermische Belastbarkeit bei einer Beschichtung ab.The glasses contain 5.1-18 wt% B 2 O 3 (about 4-17 mol%). At lower content deteriorates the meltability, at higher levels decreases the chemical resistance and the thermal resistance in a coating.
Vorzugsweise beträgt der Gehalt daher < 14 Gew.-%. Bei zu hohen Gehalten verschlechtert sich auch der Elastizitätsmodul.Preferably the content is therefore <14 Wt .-%. If the contents are too high, the modulus of elasticity also deteriorates.
Die Gläser enthalten 10–30 Gew.-% Al2O3 (etwa 5,9–17,5 Mol-%). Bei höheren Gehalten steigt die Dichte zu stark an, bei niedrigeren Gehalten sinkt die Schmelzbarkeit und die thermische Belastbarkeit. Außerdem verbessert Al2O3 die Kristallisationsfestigkeit und die chemische Beständigkeit. Vorzugsweise liegt die Konzentration von Al2O3 zwischen 14 und 24 Gew.-%.The glasses contain 10-30 wt% Al 2 O 3 (about 5.9-17.5 mol%). At higher levels the density increases too much, at lower levels the meltability and the thermal loadability decreases. In addition, Al 2 O 3 improves crystallization resistance and chemical resistance. Preferably, the concentration of Al 2 O 3 is between 14 and 24% by weight.
Die oben genannten Oxide besitzen alle netzwerkbildende Eigenschaften, tragen damit zur Glasbildung bei und bestimmen ganz wesentlich die Produkteigenschaften des gefertigten Glases. Daher kommt es entscheidend darauf an, sie im richtigen Verhältnis zueinander einzusetzen. Insbesondere der Gehalt an Al2O3 ist hierbei zu beachten, da es gleichzeitig auch als Netzwerkwandler wirken kann.The above-mentioned oxides all have network-forming properties, thus contributing to the formation of glass and determine very significantly the product properties of the finished glass. Therefore, it is crucial to use them in the right relationship to each other. In particular, the content of Al 2 O 3 should be taken into account, since it can also act as a network converter at the same time.
SiO2 und B2O3 sind dagegen reine Glasbildner. Beide bewirken einen niedrigen Ausdehnungskoeffizienten und eine niedrige Dichte. Gegensätzlich beeinflusst wird der Viskositätsverlauf (Schmelzverhalten, Formgebung, Anwendungstemperaturen) und zwar so, dass SiO2 eine generelle Anhebung der Viskositätskurve bewirkt und B2O3 eine generelle Absenkung. Eine hohe SiO2-Konzentration führt also zu hohen Werten von T2 und T14,5 und eine hohe B2O3-Konzentration führt entsprechend zu tiefen Werten. Die grobe Einstellung des Viskositätsverhaltens, des Ausdehnungskoeffizienten und der Dichte gelingt daher schon mit SiO2 und B2O3. Möchte man jedoch einen möglichst niedrigen Wert für T2 und einen hohen für T14,5, so kommt es auch auf Al2O3 an.In contrast, SiO 2 and B 2 O 3 are pure glass formers. Both cause a low expansion coefficient and a low density. The viscosity profile (melting behavior, shaping, application temperatures) is influenced in opposite directions, in such a way that SiO 2 causes a general increase of the viscosity curve and B 2 O 3 a general lowering. A high SiO 2 concentration thus leads to high values of T2 and T14.5 and a high B 2 O 3 concentration correspondingly leads to low values. The coarse setting of the viscosity behavior, the expansion coefficient and the density is therefore already successful with SiO 2 and B 2 O 3 . However, if one wants the lowest possible value for T2 and a high one for T14.5, then it depends on Al 2 O 3 .
Neben den zuvor beschriebenen Absolutwerten sind auch die relativen Konzentrationen von Bedeutung. Diese werden ausgedrückt durch die Verhältnisse auf molarer Basis r = Al2O3/B2O3 und Q = SiO2/(Al2O3 + B2O3).In addition to the absolute values described above, the relative concentrations are also important. These are expressed by the ratios on a molar basis r = Al 2 O 3 / B 2 O 3 and Q = SiO 2 / (Al 2 O 3 + B 2 O 3 ).
Mit dem ersten Verhältnis r kann man gezielt einen niedrigen T2-Wert bei gleichzeitig hohem T14,5-Wert erhalten. Es wird vermutet, dass dies damit zusammenhängt, dass Al2O3 sowohl als Netzwerkbildner als auch als Netzwerkwandler fungieren kann. Bei niedrigen Temperaturen überwiegen die netzwerkbildenden Eigenschaften, das Netzwerk wird verfestigt und man muss mehr Energie (also eine höhere Temperatur) aufwenden, um ein gewisses viskoses Verhalten zu erzwingen, d. h. T14,5 verschiebt sich zu höheren Temperaturen. Bei höheren Temperaturen wirkt Al2O3 mehr als Netzwerkwandler, das Netzwerk wird geschwächt und man kann schon mit niedrigen Temperaturen ein niedrigviskoses Verhalten erreichen, d. h. T2 verschiebt sich zu niedrigeren Temperaturen.With the first ratio r, one can obtain a low T2 value and a high T14.5 value. It is believed that this is related to the fact that Al 2 O 3 can function both as a network former and as a network converter. At low temperatures, the network forming properties predominate, the network is solidified and more energy (ie, higher temperature) must be applied to force some viscous behavior, ie T14.5 shifts to higher temperatures. At higher temperatures, Al 2 O 3 acts as a network converter, weakening the network and allowing low-viscosity behavior at low temperatures, ie T2 shifts to lower temperatures.
Anders ausgedrückt, die Differenz T2 – T14,5 wird möglichst klein, d. h. man kann das Glas bei relativ niedrigen Temperaturen schonend für feuerfeste Material- und Edelmetallbauteile (PtRh 10 statt PtRh 20) energiesparend schmelzen und doch gleichzeitig hohe Prozesstemperaturen für das Beschichten mit Silicium realisieren.Different expressed, the difference T2 - T14.5 is possible small, d. H. You can get the glass at relatively low temperatures gentle on refractory material and precious metal components (PtRh 10 instead of PtRh 20) melt energy efficiently and yet at the same time realize high process temperatures for silicon coating.
Die Erfinder haben erkannt, dass das Viskositätsverhalten auch von der Menge des Oxides MgO abhängt, dem nach dem bekannten Stand der Technik keine glasbildenden Eigenschaften zugeordnet werden.The Inventors have recognized that the viscosity behavior as well depends on the amount of oxide MgO, which according to the known State of the art no glass-forming properties are assigned.
Im Rahmen der Erfindung wurde jedoch festgestellt, dass das molare Verhältnis R = (Al2O3 + MgO)/B2O3 den Zusammenhang zwischen den gewünschten Eigenschaften und der Glaszusammensetzung besser ausdrückt als r. Es ist denkbar, dass MgO zumindest in diesem Glassystem bei tiefen Temperaturen netzwerkbildende Eigenschaften besitzt.In the context of the invention, however, it has been found that the molar ratio R = (Al 2 O 3 + MgO) / B 2 O 3 better expresses the relationship between the desired properties and the glass composition than r. It is conceivable that MgO possesses network-forming properties at low temperatures, at least in this glass system.
Wünschenswert sind Temperaturdifferenzen von < 950 K für T2 – T14,5. Hierfür muss R größer gleich 1,8, bevorzugt mindestens 2 sein. Für eine maximale Lage von T2 von 1650°C muss Q < 3,4 sein.Desirable are temperature differences of <950 K for T2 - T14.5. For this, R must be larger is 1.8, preferably at least 2. For a maximum Position of T2 of 1650 ° C must be Q <3.4.
Des Weiteren ist das molare Verhältnis P = RO/Al2O3 von Bedeutung für die Kristallisationseigenschaften des Glases. Soll die obere Entglasungsgrenze (OEG) < als 1350°C sein, so muss P mindestens größer 1 sein. Bevorzugt soll OEG allerdings < als 1300°C sein, wozu ein Wert von P > 1,05 erforderlich ist. Besonders bevorzugt ist eine OEG < 1200°C mit P > etwa 1,15. Wie das Gegenbeispiel 9 in der Tabelle 2 zeigt, ist eine OEG < 1300°C auch mit anderen Werten als P > 1 möglich, jedoch fallen dann andere Eigenschaften aus dem gewünschten Rahmen, z. B. T2 mit 1670°C, anstatt < 1650°C. Dies ist bedingt durch Q > 3,4. Diese Verhältnisse gelten auch für alle anderen beschriebenen Eigenschaften.Furthermore, the molar ratio P = RO / Al 2 O 3 is of importance for the crystallization properties of the glass. If the upper devitrification limit (OEG) <than 1350 ° C, P must be at least greater than 1. Preferably, however, OEG should be <1300 ° C, which requires a value of P> 1.05. Particularly preferred is an OEG <1200 ° C with P> about 1.15. As the counterexample 9 in Table 2 shows, an OEG <1300 ° C. is also possible with values other than P> 1, but then other properties fall out of the desired frame, e.g. T2 at 1670 ° C instead of <1650 ° C. This is due to Q> 3,4. This behavior The same applies to all other properties described.
Ein weiteres wichtiges Verhältnis ist das molare Verhältnis von MgO/CaO bzw. höhere Erdalkalien. Dieses hat Einfluss auf Dichte, thermischen Ausdehnungskoeffi zienten und Elastizitätsmodul bzw. spezifischen Elastizitätsmodul. Um eine Dichte < 2,45 g/cm3 bei einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 2,9–3,2·10–6/K und einem spezifischen E-Modul von < 31·106 Nm/kg sollte MgO/RO mindestens 1,0 sein, bevorzugt > 1,3. Jedoch sollte ein Wert von 3,5 nicht überschritten werden, da sonst der Ausdehnungskoeffizient zu klein wird und das Silicium sonst nicht mehr spannungsfrei auf das Glas aufgebracht werden kann.Another important relationship is the molar ratio of MgO / CaO or higher alkaline earths. This has an influence on density, thermal expansion coefficients and modulus of elasticity or specific modulus of elasticity. To obtain a density <2.45 g / cm 3 with a thermal expansion coefficient of 2.9-3.2 · 10 -6 / K and a specific modulus of <31 · 10 6 Nm / kg, MgO / RO should be at least 1 , 0, preferably> 1.3. However, a value of 3.5 should not be exceeded, since otherwise the expansion coefficient is too small and the silicon can not be applied stress-free otherwise on the glass.
BeispieleExamples
Ausführungsbeispiele
sind in der nachfolgenden Tab. 1 enthalten (Daten in Gew.-%). Unter
den Beispielnummern 9, 10 und 11, 12 sind Vergleichsbeispiele aus
dem Stand der Technik enthalten. Die entsprechenden Daten in Mol-%
sind in Tabelle 2 enthalten. Tab. 1: Schmelzbeispiele in Gew.-% (aus
RFA-Messungen)
- nmb: nicht messbar, angegebener Wert ist gerechnet
- nmb: not measurable, declared value has been calculated
Bei
den Vergleichsbeispielen 9 und 10 aus der
In
den Vergleichsbeispielen 11 und 12 aus dem Zusammensetzungsbereich
der
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