DE102004062994A1 - Semiconductor component with semiconductor chip and flip-chip contacts, including flat pattern on reverse side of chip to allow precise orientation of chip with wiring substrate surfaces - Google Patents

Semiconductor component with semiconductor chip and flip-chip contacts, including flat pattern on reverse side of chip to allow precise orientation of chip with wiring substrate surfaces Download PDF

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Abstract

In a semiconductor (SC) component comprising a housing (1) and an SC chip (2) with flip-chip contacts (3) arranged on its active upper side (4) and located on contact connecting surfaces (5) of the upper side (6) of a wiring substrate (7), the underside (8) of which has external contact surfaces with external contacts (9) of the SC component (10), in electrical contact with surfaces (5), the reverse side (11) of the chip has a flat pattern (12) with boundary edges (13) in a predetermined geometric orientation relative to the arrangement of flip-chip contacts on the active upper side. An independent claim is included for the production of the SC components by: producing an SC wafer with SC chip positions, integrated circuits and contact surfaces for flip-chip contacts (3) in a predetermined arrangement on its active side (4); applying the flat pattern (12) to the reverse side (11) of the wafer in the SC chip positions; applying the flip-chip contacts to the contact surfaces in the SC chip positions; separating the wafer into SC chips (2) with flip-chip contacts; preparing a wiring substrate (7) with SC component positions and appropriately arranged contact connection surfaces (5); applying the chips to the wiring substrate in the SC component positions, while orienting the flip-chip contacts (3) relative to the contact connection surfaces (5) utilizing the flat pattern (12); bonding the flip-chip contacts to the contact connection surfaces; and packing the SC component positions in a plastics housing mass (17), while embedding the SC chips (2).

Description

Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauteil mit einem Halbleiterchip mit Flipchip-Kontakten und ein Verfahren zu seiner Herstellung. Die Flipchip-Kontakte sind dazu auf der aktiven Oberseite des Halbleiterchips angeordnet und werden bei einer Oberflächenmontage auf einem Verdrahtungssubstrat auf entsprechenden Kontaktanschlussflächen des Verdrahtungssubstrats positioniert und über diese Kontaktanschlussflächen mit dem Verdrahtungssubstrat elektrisch verbunden. Die Flipchip-Kontakte und die entsprechenden Kontaktanschlussflächen auf dem Verdrahtungssubstrat werden somit von dem Halbleiterchip abgedeckt, so dass die Zuordnung der Flipchip-Kontakte des Halbleiterchips zu den Kontaktanschlussflächen des Verdrahtungssubstrats nicht zuverlässig erfolgen kann, außer wenn glatte und exakte Seitenränder des Halbleiterchips als Bezugsgrößen zur Verfügung stehen.The The invention relates to a semiconductor device with a semiconductor chip with flip-chip contacts and a method for its manufacture. The flip-chip contacts are for this purpose on the active upper side of the semiconductor chip are arranged and surface mounted on a wiring substrate on respective contact pads of the wiring substrate positioned and over these contact pads electrically connected to the wiring substrate. The flipchip contacts and the corresponding ones Contact pads on the wiring substrate are thus from the semiconductor chip covered, so that the assignment of the flip-chip contacts of the semiconductor chip to the contact pads of the wiring substrate can not be reliably performed unless smooth and exact margins of the semiconductor chip as reference quantities for disposal stand.

Erschwerend wirken sich deshalb Sägetechniken aus, die einen Halbleiterwafer nicht vollständig beim Vereinzeln zu Halbleiterchips durchtrennen, sondern Verbindungsstege minimaler Dicke zwischen den Halbleiterchips aufweisen, die beim Vereinzeln durchbrochen werden, so dass ausgefranste Rückseitenränder entstehen, über die ein Zuordnen der Flipchip-Kontakte zu den Kontaktanschlussflächen nicht eindeutig möglich ist. Dieses beim Vereinzeln der Halbleiterchips aus einem Halbleiterwafer entstehende sog. „Chipchipping" erschwert den Zuordnungsprozess von Halbleiterbauteilen mit Halbleiterchips und mit Flipchip-Kontakten und vergrößert das Ausfallrisiko bei der Herstellung derartiger Halbleiterbauteile.aggravating Therefore, sawing techniques affect not completely a semiconductor wafer when singulated to semiconductor chips cut through, but connecting webs of minimum thickness between have the semiconductor chips, which break through when singulated be created so that frayed back margins on the an assignment of the flip-chip contacts to the contact pads not clearly possible is. This is the result of singulating the semiconductor chips from a semiconductor wafer so-called "chipchipping" complicates the assignment process of semiconductor devices with semiconductor chips and flip-chip contacts and increase that Risk of default in the production of such semiconductor devices.

Eine weitere Unsicherheit liegt in dem Sägeverfahren selbst. Der Verlauf der Sägenuten, die über den ganzen Halbleiterwafer in einer Gitterstruktur eingebracht werden, können gegenüber den geplanten versetzt oder schräg eingebracht worden sein. Auch dieser Fehler kann zu einem vollständigen Versagen einzelner Halbleiterbauteile führen.A further uncertainty lies in the sawing process itself. The course the sawing, the over the entire semiconductor wafers are introduced in a lattice structure, can across from the planned offset or oblique have been introduced. Again this error can lead to a complete failure lead individual semiconductor devices.

Aus der Druckschrift US 6,278,293 B1 ist ein Verfahren und eine Struktur zum Fertigen von Halbleiterbauteilen bekannt, wobei das Verfahren ein Bereitstellen eines Halbleiterchips und eines Substrats umfasst, und wobei der Halbleiterchip und das Substrat zueinander ausgerichtet werden. Der Halbleiterchip weist dazu eine Halbleiterchipmarkierung zum Ausrichten auf einer ersten Seite des Halbleiterchips auf, wobei diese Markierung den Halbleiterchip-Kontaktflächen auf einer zweiten Seite des Halbleiterchips entspricht. Das Substrat weist mindestens eine Ausrichtmarkierung auf einer ersten Seite des Substrats auf, wobei die Ausrichtmarkierung des Substrats Substratkontaktflächen der ersten Seite des Substrats entspricht und wobei die Markierung auf den Halbleiterchips zusätzlich Identifikationsinformationen aufweist.From the publication US 6,278,293 B1 For example, a method and structure for fabricating semiconductor devices is known, wherein the method includes providing a semiconductor chip and a substrate, and wherein the semiconductor chip and the substrate are aligned with each other. For this purpose, the semiconductor chip has a semiconductor chip marking for aligning on a first side of the semiconductor chip, wherein this marking corresponds to the semiconductor chip contact areas on a second side of the semiconductor chip. The substrate has at least one alignment mark on a first side of the substrate, wherein the alignment mark of the substrate corresponds to substrate contact areas of the first side of the substrate, and wherein the mark on the semiconductor chips additionally has identification information.

Dieses bekannte Verfahren und die bekannte Struktur haben den Nachteil, dass zusätzlich zu der Markierung auf einem Halbleiterchip auch das Substrat eine Ausrichtmarkierung außerhalb des Abdeckbereichs durch den Halbleiterchip aufweisen muss, um eine korrekte Zuordnung zwischen Halbleiterchip und Substrat zu gewährleisten. Außerdem bietet es keine Lösung für Halbleiterchips mit ausgefransten Rändern auf den Rückseiten an, sondern geht von glatten Rändern des Halbleiterchips aus.This known methods and the known structure have the disadvantage that in addition to the mark on a semiconductor chip also the substrate one Alignment mark outside of the cover area must have by the semiconductor chip to a ensure correct assignment between the semiconductor chip and the substrate. Also offers there is no solution for semiconductor chips with frayed edges on the backs on, but goes from smooth edges of the semiconductor chip.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Zuverlässigkeit der Bauteilfertigung zu erhöhen und qualitativ bessere und zuverlässigere Halbleiterbauteile mit vermindertem Kostenaufwand zu schaffen.task The invention is the reliability to increase component production and qualitatively better and more reliable semiconductor devices to create at a reduced cost.

Gelöst wird diese Aufgabe mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.Is solved this object with the subject of the independent claims. Advantageous developments The invention will become apparent from the dependent claims.

Erfindungsgemäß wird ein Halbleiterbauteil mit einem Gehäuse und mit einem Halbleiterchip geschaffen, wobei der Halbleiterchip eine Anordnung von Flipchip-Kontakten auf seiner aktiven Oberseite aufweist. Diese Flipchip-Kontakte sind auf Kontaktanschlussflächen der Oberseite eines Verdrahtungssubstrats angeordnet. Das Verdrahtungssubstrat weist auf seiner der Oberseite mit Kontaktanschlussflächen gegenüber liegenden Unterseite Außenkontaktflächen mit Außenkontakten des Halbleiterbauteils auf. Die Außenkontaktflächen stehen mit den Kontaktanschlussflächen elektrisch in Verbindung. Erfindungsgemäß weist die Rückseite des Halbleiterchips ein flächiges Muster auf, dessen Begrenzungsränder eine vorgegebene geometrische Zuordnung zu der Zuordnung der Flipchip-Kontakte auf der aktiven Oberseite aufweisen.According to the invention is a Semiconductor component with a housing and provided with a semiconductor chip, wherein the semiconductor chip has an array of flip-chip contacts on its active top. These flip-chip contacts are on contact pads of the Top of a wiring substrate arranged. The wiring substrate faces on its upper side with contact pads opposite bottom outer contact surfaces with external contacts of the semiconductor device. The external contact surfaces are with the contact pads electrically connected. According to the invention, the back of the semiconductor chip a planar Pattern on whose boundary edges a predetermined geometric assignment to the assignment of the flip-chip contacts on the active top.

Dieses Halbleiterbauteil hat den Vorteil, dass mit hoher Präzision die Zuordnung zwischen einem Halbleiterchip mit Flipchip-Kontakten und einer Anordnung von Kontaktanschlussflächen auf der Oberseite des Verdrahtungssubstrats erfolgen kann, so dass Fehlzuordnungen und Fertigungsausfälle bei diesem Halbleiterbauteil minimiert sind. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass das flächige Muster auf der Rückseite des Halbleiterchips ein Ausrichten der Halbleiterchips zu dem Verdrahtungssubstrat mit Hilfe der gesägten Ränder der Halb leiterchips vermeidet. Die Ausrichtung kann folglich unabhängig von der Struktur und der Genauigkeit der Ränder des Halbleiterchips erfolgen. Somit ist es auch zulässig, Halbleiterchips einzusetzen, deren Ränder ein sogenanntes "Chipchipping" aufweisen, das dadurch entsteht, dass aus sicherheitstechnischen Gründen der Halbleiterwafer beim Vereinzeln zu Halbleiterchips nicht vollständig in seiner Gesamtdicke durchsägt wird, sondern ein Verbindungssteg von wenigen Mikrometern Dicke zwischen den Halbleiterchips bestehen bleibt, bis ein Vereinzeln durchgeführt werden kann.This semiconductor device has the advantage that the association between a semiconductor chip with flip-chip contacts and an arrangement of contact pads on the top side of the wiring substrate can be performed with high precision, so that misalignments and manufacturing failures are minimized in this semiconductor device. Another advantage is that the planar pattern on the back of the semiconductor chip avoids aligning the semiconductor chips to the wiring substrate by means of the sawn edges of the semiconductor chips. The alignment can thus be carried out independently of the structure and the accuracy of the edges of the semiconductor chip. Thus, it is also permissible Use semiconductor chips whose edges have a so-called "chip chipping", which arises because of safety reasons, the semiconductor wafer is not completely cut through in its total thickness when singulated to semiconductor chips, but a connecting web of a few microns thickness between the semiconductor chips remains until a singling can be carried out.

Durch die erfindungsgemäße Lösung wird der Nachteil, dass nun keine glatten Ränder mehr zum Justieren zur Verfügung stehen, überwunden. Anstelle der gesägten und relativ ungenauen Ränder tritt nun ein präzises flächiges Muster, das definierte Randstrukturen aufweist, die der Anordnung der Flipchip-Kontakte auf der gegenüber liegenden aktiven Seite entsprechen. Da die flächigen Muster auf den Rückseiten des Halbleiterchips angeordnet sind, steht praktisch die gesamte Fläche für das Ausbilden derartiger flächiger Muster zur Verfügung. Somit kann als flächiges Muster für einen quadratischen Halbleiterchip auch ein Quadrat eingesetzt werden. Die Ränder dieses Quadrats spiegeln die Ränder des quadratischen Halbleiterchips wider und ihre Anordnung entspricht der Anordnung der Flipchip-Kontakte, und ist unabhängig von der Anordnung der Sägespuren bzw. von ausgefransten Rändern des Halbleiterchips.By the solution according to the invention is the Disadvantage that now no more smooth edges to adjust for disposal stand, overcome. Instead of the sawn and relatively inaccurate edges now a precise one flat Pattern having defined edge structures, the arrangement the flip-chip contacts on the opposite corresponding active side. Because the flat pattern on the backs the semiconductor chip are arranged, is practically the entire area for the Forming such surface Patterns available. Thus, as a flat Pattern for a square semiconductor chip can also be inserted into a square. The margins this square reflect the edges of the square semiconductor chip and their arrangement corresponds the arrangement of flip-chip contacts, and is independent of the arrangement of the saw marks or from frayed edges of the semiconductor chip.

Ein weiteres sich anbietendes flächiges Muster ist ein Rechteck für rechteckige Halbleiterchips. Auch hier ersetzen die Ränder des flächigen Musters die nicht exakten Ränder des Halbleiterchips und lassen eine exakte Positionierung und Ausrichtung zu den Kontaktflächen des Verdrahtungssubstrats zu. Dabei kann es hilfreich sein, wenn eine der Ecken des Rechtecks oder des Quadrats leicht angeschrägt bzw. angephased ist, um die Ausrichtung des Halbleiterchips bzw. seiner Flipchip-Kontakte sichtbar und nachvollziehbar zu machen, ohne dass sie selbst zu sehen sind.One further offering flat Pattern is a rectangle for rectangular semiconductor chips. Again, replace the edges of the flat Pattern the non-exact edges of the semiconductor chip and leave an exact positioning and alignment to the contact surfaces of the wiring substrate. It can be helpful if one of the corners of the rectangle or the square slightly bevelled or is phased to the alignment of the semiconductor chip or its Make flip-chip contacts visible and traceable without them they themselves are visible.

Anstelle eines Quadrats kann auch ein eingeschriebenes flächiges Muster in Form eines Kreises auf die Rückseite des Halbleiterchips aufgebracht werden. Ein derartiger Kreis kann zur Verdeutlichung der Ausrichtung der Flipchip-Kontakte auf einer Seite parallel zu einem der Ränder abgeflacht sein. Dieses flächige Muster hat den Vorteil, dass der kreisförmige Rand sehr exakt auf die Rückseite eines Halbleiterwafers in den Halbleiterchippositionen bzw. auf eine Rückseite eines Halbleiterchips aufgebracht werden kann, wodurch die Ausrichtung des Halbleiterchips nicht mehr von den ausgefransten Rändern abhängig ist.Instead of a square can also be a registered flat pattern in the form of a Circle on the back of the semiconductor chip are applied. Such a circle can to illustrate the orientation of the flip-chip contacts on one Side parallel to one of the edges be flattened. This flat Pattern has the advantage that the circular edge is very accurate on the back a semiconductor wafer in the semiconductor chip positions or on a back a semiconductor chip can be applied, whereby the alignment of the semiconductor chip is no longer dependent on the frayed edges.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist das flächige Muster ein Oval auf. Dieses Oval ist für rechteckige Halbleiterchips vorgesehen, und erstreckt sich mit seiner Längsachse entlang der Längsseite der Halbleiterchips und mit seiner Querachse ist es in Richtung der Querseite des Halbleiterchips ausgerichtet. Auch hier ist es möglich, eine Markierung des Ovals zusätzlich anzubringen, um die Ausrichtung nachzuvollziehen.In a further preferred embodiment the invention has the flat Pattern an oval. This oval is intended for rectangular semiconductor chips, and extends with its longitudinal axis along the long side the semiconductor chips and with its transverse axis it is in direction the transverse side of the semiconductor chip aligned. Again, it is possible to have one Additional marking of the oval to understand the alignment.

Eine weitere Möglichkeit, ein flächiges Muster aufzubringen, besteht darin, einen Stern auf der Rückseite des Halbleiterchips photolithographisch aufzubringen. Die Vielstrahligkeit des Sterns sollte jedoch radial symmetrisch ausgebildet sein, um den Bezug zu der Zuordnung der Flipchip-Kontakte zu gewährleisten.A another possibility a flat Applying a pattern is a star on the back of the semiconductor chip photolithographically applied. The multi-beam However, the star should be radially symmetrical to to ensure the reference to the assignment of the flip-chip contacts.

Auch ein flächiges Muster in Form eines Sonnenmusters mit entsprechend symbolischen Sonnenstrahlen oder der Nachbildung einer Kompassrose mit entsprechenden acht Pfeilen in die unterschiedlichen Hauptrichtungen sorgt für eine eindeutige Zuordnung von flächigem Muster und dessen Rändern zu der Anordnung der Flipchip-Kontakte auf der gegenüber liegenden aktiven Oberseite des Halbleiterbauteils. Dabei kann durch Weglassen eines der Strahlen die Ausrichtung und Zuordnung noch weiter verbessert werden.Also a flat Pattern in the form of a sun pattern with corresponding symbolic sunbeams or the replica of a compass rose with the corresponding eight arrows in the different main directions ensures a clear assignment of areal Pattern and its edges to the arrangement of the flip-chip contacts on the opposite active top of the semiconductor device. It can by omitting one of the beams enhances the alignment and mapping even further become.

In weiteren bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung sind flächige Pfeilmuster oder ein Kreuz vorgesehen, wobei das flächige Muster auch gekreuzte Pfeilmuster umfassen kann. Mit einem flächigen Muster aus einem Kreuz oder aus einem gekreuzten Pfeilmuster können die Hauptausrichtungen der Flipchip-Kontakte gekennzeichnet werden, wobei wiederum die Ränder dieser Muster ein Maß für die Zuordnung und Ausrichtung der Flipchip-Kontakte sind.In Further preferred embodiments of Invention are planar Arrow pattern or a cross provided, wherein the area pattern may also include crossed arrow patterns. With a flat pattern from a cross or from a crossed arrow pattern can the Main orientations of flipchip contacts are marked, again the edges this pattern is a measure of the assignment and alignment of the flip-chip contacts.

Ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils mit einem Gehäuse und mit einem Halbleiterchip, der eine Anordnung von Flipchip-Kontakten auf seiner aktiven Oberseite aufweist und auf seiner Rückseite ein flächiges Muster aufweist, dessen Begrenzungsränder eine vorgegebene geometrische Zuordnung zu der Anordnung der Flipchip-Kontakte auf der aktiven Oberseite aufweisen, weist die nachfolgenden Verfahrensschritte auf.One Method for producing a semiconductor device with a housing and with a semiconductor chip having an array of flip-chip contacts on its active top and on its back a flat Pattern whose boundary edges a predetermined geometric assignment to the arrangement of flip-chip contacts on the active top have, has the following method steps.

Zunächst wird ein Wafer mit Halbleiterchippositionen und mit integrierten Schaltungen hergestellt, wobei die integrierten Schaltungen mit Kontaktflächen für Flipchip-Kontakte in vorgegebener Anordnung auf der aktiven Oberseite des Halbleiter wafers vorgesehen werden. Auf die Rückseite des Halbleiterwafers werden flächige Muster in den Halbleiterchippositionen aufgebracht, deren Begrenzungsränder eine vorgegebene geometrische Zuordnung der Anordnung der Kontaktflächen auf der aktiven Oberseite aufweisen. Das Aufbringen von flächigen Mustern auf die Rückseite des Halbleiterwafers kann vor oder auch nach der Strukturierung der aktiven Oberseite des Halbleiterwafers in den Halbleiterchippositionen erfolgen. Danach werden Flipchip-Kontakte in den Halbleiterchippositionen auf entsprechende Kontaktflächen aufgebracht. Anschließend erfolgt ein Auftrennen des Halbleiterwafers in Halbleiterchips mit Flipchip-Kontakten.First, a wafer is manufactured with semiconductor chip positions and with integrated circuits, wherein the integrated circuits are provided with contact surfaces for flip-chip contacts in a predetermined arrangement on the active top of the semiconductor wafer. Flat patterns in the semiconductor chip positions are applied to the back side of the semiconductor wafer, the boundary edges of which have a predetermined geometric assignment of the arrangement of the contact surfaces on the active top side. The application of areal patterns to the back of the semiconductor wafer may be anticipated or even after the structuring of the active top side of the semiconductor wafer in the semiconductor chip positions. Thereafter, flip-chip contacts in the semiconductor chip positions are applied to corresponding contact surfaces. Subsequently, the semiconductor wafer is split into semiconductor chips with flip-chip contacts.

Unabhängig von der Herstellung eines geeigneten Halbleiterchips oder mehrerer geeigneter Halbleiterchips kann das Herstellen eines Verdrahtungssubstrats erfolgen. Dabei kann das Verdrahtungssubstrat mehrere Halbleiterbauteilpositionen aufweisen, in denen Kontaktanschlussflächen angeordnet sind. Die Anordnung der Kontaktanschlussflächen in den Halbleiterbauteilpositionen entspricht der Anordnung der Flipchip-Kontakte der Halbleiterchips. Auf ein derartig vorbereitetes Verdrahtungssubstrat werden dann die Halbleiterchips in den Halbleiterbauteilpositionen unter Ausrichten der Flipchip-Kontakte der Halbleiterchips zu der Anordnung der Kontaktanschlussflächen des Verdrahtungssubstrats mit Hilfe der flächigen Muster auf den Rückseiten der Halbleiterchips aufgebracht.Independent of the production of a suitable semiconductor chip or a plurality of suitable semiconductor chips For example, a wiring substrate may be made. there For example, the wiring substrate may have a plurality of semiconductor device positions. in those contact pads are arranged. The arrangement of the contact pads in the semiconductor device positions corresponds to the arrangement of the flip-chip contacts the semiconductor chips. Be on such a prepared wiring substrate then the semiconductor chips in the semiconductor device positions below Aligning the flip chip contacts of the semiconductor chips to the device the contact pads of the wiring substrate with the help of the flat patterns on the backsides the semiconductor chips applied.

Danach können die so ausgerichteten Flipchip-Kontakte der Halbleiterchips auf die Kontaktanschlussflächen des Verdrahtungssubstrats gebondet werden. Nach dem Bonden werden die Halbleiterbauteilpositionen in einer Kunststoffgehäusemasse unter Einbetten der Halbleiterchips verpackt. Dabei können die Halbleiterchips in den Halbleiterbauteilpositionen mit Einzelgehäuse versehen werden oder in ein gemeinsames Gehäuse für mehrere Halbleiterchippositionen eingebettet werden. Im letzteren Fall schließt sich ein Auftrennen des Verdrahtungssubstrats mit mehreren Halbleiterbauteilpositionen zu einzelnen Halbleiterbauteilen an. Im anderen Fall können die fertigen Halbleiterbauteile aus dem Verdrahtungssubstrat ausgestanzt werden.After that can the thus aligned flip-chip contacts of the semiconductor chips the contact pads of the wiring substrate. After bonding will be the semiconductor device positions in a plastic housing composition under Embedding the semiconductor chips packaged. In this case, the semiconductor chips in the semiconductor device positions are provided with individual housing or in a common housing for many Embedded semiconductor chip positions. In the latter case closes separating the wiring substrate with a plurality of semiconductor device positions to individual semiconductor devices. In the other case, the finished semiconductor devices punched out of the wiring substrate become.

Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass mit hoher Präzision Halbleiterchips mit Flipchip-Kontakten auf einem Verdrahtungssubstrat mit entsprechenden Kontaktanschlussflächen für die Flipchip-Kontakte positioniert und gebondet werden können, ohne dass bei dieser Positionierung die Ränder und die Präzision der Ränder des Halbleiterchips entscheidend sind. Somit können mit diesem Verfahren auch Halbleiterchips präzise auf die Kontaktanschlussflächen des Verdrahtungssubstrats aufgebracht werden, bei denen die Ränder ausgefranst sind.This Method has the advantage that with high precision semiconductor chips with Flipchip contacts on a wiring substrate with corresponding Contact pads for the Flipchip contacts can be positioned and bonded without in this positioning the edges and the precision the edges of the semiconductor chip are crucial. Thus, with this method, semiconductor chips precise on the contact pads be applied to the wiring substrate in which the edges frayed are.

Dazu wird beim Auftrennen des Halbleiterwafers in Halbleiterchips vorzugsweise eine Sägetechnik eingesetzt, die den Halbleiterwafer nicht vollständig entlang der geplanten Trennspuren durchtrennt, sondern bei der die Tiefe der Sägenuten geringer ist als die Dicke der Halbleiterwafer, so dass wenige Mikrometer dünne Verbindungsstege aus Silizium zwischen den Halbleiterchips bzw. den Halbleiterchippositionen des Halbleiterwafers bestehen bleiben. Diese Sägetechnik hat den Vorteil, dass die Sägeblätter eine höhere Standzeit aufweisen, da sie nicht in eine Klebefolie oder eine Kunststofffolie oder eine Klebstoffmasse beim Auftrennen des Halbleiterwafers in Halbleiterchips eindringen müssen. Die Sägeblätter werden mit ihren empfindlichen Diamantspitzen somit nicht von Kunststoff oder Klebstoffmassen kontaminiert und behalten ihre Sägeschärfe für eine längere Standzeit bei.To is preferably when dividing the semiconductor wafer into semiconductor chips a sawing technique used, which does not complete the semiconductor wafer along the planned Traces of separation severed, but at the depth of the saw grooves less than the thickness of the semiconductor wafer, so that a few microns thin connecting webs of silicon between the semiconductor chips or the semiconductor chip positions of the semiconductor wafer persist. This sawing technique has the advantage that the saw blades a higher Have life as they are not in an adhesive film or a plastic film or an adhesive mass in the separation of the semiconductor wafer in Must penetrate semiconductor chips. The saw blades become with their sensitive diamond tips thus not plastic or adhesive masses and retain their Sä sharpness for a longer life at.

Mit einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des Verfahrens erfolgt das Aufbringen von flächigen Mustern mittels Photolithographie-Technik. Dazu wird zunächst auf die Rückseite des Halbleiterwafers eine photosensitive Polyamidschicht aufgebracht, die anschließend mittels Photolithographie strukturiert wird. Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass die Polyamidschicht ohne großen Aufwand nach dem Ausrichten entweder entfernt werden oder als Haftvermittlungsschicht zu der Gehäusekunststoffmasse dienen kann.With a preferred embodiment of the Method, the application of planar patterns by means of photolithography technique. This will be first on the back a photosensitive polyamide layer is applied to the semiconductor wafer, the following is structured by photolithography. This procedure has the advantage that the polyamide layer without much effort after alignment either removed or as an adhesion layer to the Housing plastic compound serve can.

Eine weitere Möglichkeit, ein flächiges Muster auf die Rückseite des Halbleiterwafers in jeder der Halbleiterbauteilpositionen anzubringen, besteht darin, das flächige Muster mittels Schablonendruck-Technik aufzubringen. Die Schablonendruck-Technik setzt voraus, dass in einer entsprechenden Schablone Öffnungen vorhanden sind, durch die eine Strukturierung mittels eines Lackierungsmittels erfolgen kann. In diesem Fall wird nicht die Umgebung des flächigen Musters lackiert, sondern das Muster selbst erhält eine Lackschicht.A another possibility a flat Pattern on the back of the semiconductor wafer in each of the semiconductor device positions, is the flat Apply pattern using stencil printing technique. The stencil printing technique requires that in a corresponding template openings are present, through which a structuring by means of a coating agent can be done. In this case, the environment of the flat pattern does not become painted, but the pattern itself receives a varnish layer.

Ein weitere Möglichkeit, ein flächiges Muster auf die Rückseite des Halbleiterwafers präzise aufzubringen, besteht in einer Strahldrucktechnik analog zur Tintenstrahldruck-Technik zum Bedrucken von Papier. Auch hier ist die Strahldrucktechnik inzwischen so weit entwickelt, dass präzise Ränder des flächigen Musters gebildet werden können, die ihrerseits ein Maß und eine Zuordnung zu der Anordnung der Flipchip-Kontakte auf der gegenüber liegenden Seite des Halbleiterchips zulassen.One another possibility a flat Pattern on the back of the semiconductor wafer precisely apply, consists in a jet printing technique analogous to the inkjet printing technique for printing on paper. Again, the jet printing technique is now developed so far that precise margins of the plane Pattern can be formed which in turn is a measure and an assignment to the arrangement of the flip-chip contacts on the opposite side allow the semiconductor chip.

In einer weiteren Variante des Verfahrens werden die Flipchip-Kontakte auf den Halbleiterwafer nicht vor dem Auftren nen des Halbleiterwafers in Halbleiterchips aufgebracht, sondern nach dem Auftrennen. Für diese Variante ist es von Vorteil, dass die wenige Mikrometer dünnen Verbindungsstege zwischen den Halbleiterchips dafür sorgen, dass eine präzise Anordnung der Flipchip-Kontakte auf der gesamten Oberfläche des Halbleiterwafers möglich ist, zumal eine Verschiebung oder ein Verdrehen der einzelnen Halbleiterchips aufgrund der verbindenden wenige Mikrometer dünnen Stege ausgeschlossen ist.In Another variant of the method, the flip-chip contacts on the semiconductor wafer not before the order NEN of the semiconductor wafer applied in semiconductor chips, but after the separation. For this Variant, it is advantageous that the few micrometers thin connecting webs between the semiconductor chips for it make sure that is accurate Arrangement of flip-chip contacts on the entire surface of the Semiconductor wafer possible is, especially a shift or a twisting of the individual semiconductor chips is excluded due to the connecting a few microns thin webs.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung werden zum Vereinzeln der Halbleiterchips die oben erwähnten Verbindungsstege aufgebrochen, wobei unregelmäßig ausgefranste Begrenzungsränder der Rückseiten der vereinzelten Halbleiterchips entstehen. Diese Verfahrensvariante hat den Vorteil, dass zum Aufbrechen der Verbindungsstege keine besonderen Vorbereitungen zu treffen sind, sondern dass mit den herkömmlichen Vereinzelungsvorrichtungen, bei denen ein Stichel gegen die Rückseite in jeder der Halbleiterbauteilpositionen gepresst wird, bereits ausreicht, um die wenige Mikrometer dünnen Stege und damit den Zusammenhalt des bereits aufgesägten Wafers zu unterbrechen. Den Nachteil der unregelmäßigen oder ausgefransten Ränder der Halbleiterchips, die dann nicht mehr zur Justage der Halbleiterchips in Relation zu Kontaktanschlussflächen eines Verdrahtungssubstrats geeignet sind, wird durch das erfindungsgemäße flächige Muster auf den Rückseiten des Halbleiterchips kompensiert.In a further embodiment The invention for separating the semiconductor chips are the above mentioned Connecting webs broken, with irregularly frayed boundary edges of the backs the isolated semiconductor chips arise. This process variant has the advantage that for breaking the connecting webs no special Preparations are to be made but that with the conventional ones Singling devices in which a stylus against the back in each of the semiconductor device positions is already pressed sufficient to the few microns thin webs and thus the cohesion of the already marked Break wafers. The disadvantage of irregular or frayed edges the semiconductor chips, which then no longer for adjusting the semiconductor chips in relation to contact pads of a wiring substrate are suitable, by the inventive flat pattern on the backs of the semiconductor chip compensated.

Zusammenfassend ist festzustellen, dass durch die erfindungsgemäße beispielhafte Photomaskierung der Waferrückseiten z.B. mit einem Photoimid sich der Diebonder anhand dieser flächigen Muster orientieren kann. Diese Photomaske wird relativ zur aktiven Vorderseite ausgerichtet. Ein versetztes Sägen und/oder ein Rückseiten-Chipping beeinflusst bei dem erfin dungsgemäßen Halbleiterbauteil mit dem zugehörigen Verfahren die Erkennungs- und Platzierungsgenauigkeit des Diebonders nicht mehr.In summary It should be noted that by the exemplary photomasking according to the invention the wafer backs e.g. with a Photoimid the Diebonder on the basis of this flat pattern can orient. This photomask becomes relative to the active front side aligned. A staggered sawing and / or a backside chipping influenced in the inventions to the invention semiconductor device with the associated Process the recognition and placement accuracy of Diebonders no more.

Die Erfindung wird nun anhand der beigefügten Figuren näher erläutert.The The invention will now be described with reference to the accompanying figures.

1 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht eines Halbleiterbauteils einer ersten Ausführungsform der Erfindung; 1 shows a schematic perspective view of a semiconductor device of a first embodiment of the invention;

2 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht eines Halbleiterbauteils einer zweiten Ausführungsform der Erfindung; 2 shows a schematic perspective view of a semiconductor device of a second embodiment of the invention;

3 zeigt eine Prinzipskizze eines Teils eines Halbleiterwafers von seiner aktiven Oberseite aus mit geplanten Sägespuren; 3 shows a schematic diagram of a portion of a semiconductor wafer from its active top with planned Sägespuren;

4 zeigt eine Prinzipskizze des Teils des Halbleiterwafers der 3 nach Einbringen von Sägenuten und Ausbilden von ausgefransten Rändern; 4 shows a schematic diagram of the part of the semiconductor wafer of 3 after insertion of saw grooves and formation of frayed edges;

5 zeigt einen schematischen Querschnitt durch den Teil des Halbleiterwafers gemäß 4 entlang der Schnittlinie A-A in 4; 5 shows a schematic cross section through the part of the semiconductor wafer according to 4 along the section line AA in 4 ;

6 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers mit einem ersten flächigen Muster in den Halbleiterchippositionen; 6 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer with a first planar pattern in the semiconductor chip positions;

7 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers mit einem zweiten flächigen Muster in den Halbleiterchippositionen; 7 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer with a second planar pattern in the semiconductor chip positions;

8 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers mit einem dritten flächigen Muster in den Halbleiterchippositionen; 8th shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer with a third area pattern in the semiconductor chip positions;

9 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers mit einem vierten flächigen Muster in den Halbleiterchippositionen; 9 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer with a fourth area pattern in the semiconductor chip positions;

10 zeigt Prinzipskizzen von unterschiedlichen flächigen Mustern auf den Rückseiten von Halbleiterchips. 10 shows schematic diagrams of different area patterns on the backs of semiconductor chips.

1 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht eines Halbleiterbauteils 10 einer ersten Ausführungsform der Erfindung. Um die einzelnen Komponenten des Halbleiterbauteils 10 deutlich zu kennzeichnen, ist das Gehäuse 1 aus einer undurchsichtigen Kunststoffgehäusemasse 17 mit gestrichelten Linien angedeutet, so dass ein Halbleiterchip 2 sichtbar wird, der eine Anordnung von Flipchip-Kontakten 3 auf seiner aktiven Oberseite 4 aufweist. Die Flipchip-Kontakte 3 sind auf Kontaktanschlussflächen 5 der Oberseite 6 eines Verdrahtungssubstrats 7 angeordnet. 1 shows a schematic perspective view of a semiconductor device 10 a first embodiment of the invention. To the individual components of the semiconductor device 10 clearly marked, is the case 1 from an opaque plastic housing compound 17 indicated by dashed lines, so that a semiconductor chip 2 becomes visible, which is an array of flip-chip contacts 3 on its active top 4 having. The flipchip contacts 3 are on contact pads 5 the top 6 a wiring substrate 7 arranged.

Das Verdrahtungssubstrat 7 weist auf seiner der Oberseite 6 gegenüber liegenden Unterseite 8 Außenkontaktflächen mit Außenkontakten 9 des Halbleiterbauteils 10 auf. Die Außenkontakte 9 stehen über nicht gezeigte Außenkontaktflächen und nicht gezeigte Durchkontakte mit den Kontaktanschlussflächen 5 elektrisch in Verbindung. Dabei weist die Rückseite 11 des Halbleiterbauteils 2 ausgefranste Begrenzungsränder 21 auf.The wiring substrate 7 points to its top 6 opposite bottom 8th External contact surfaces with external contacts 9 of the semiconductor device 10 on. The external contacts 9 are not shown outer contact surfaces and not shown through contacts with the contact pads 5 electrically connected. This shows the back 11 of the semiconductor device 2 frayed boundary edges 21 on.

Diese ausgefransten Begrenzungsränder 21 können zur Ausrichtung des Halbleiterchips 2 mit seinen Flipchip-Kontakten 3 auf den Kontaktanschlussflächen 5 nicht beitragen. Vielmehr besteht die Gefahr, dass das Halbleiterbauteil 10 Fehlfunktionen zeigt.These frayed boundary edges 21 can be used to align the semiconductor chip 2 with its flip-chip contacts 3 on the contact pads 5 do not contribute. Rather, there is a risk that the semiconductor device 10 Malfunctions shows.

Auf der Rückseite 11 des Halbleiterchips 2 ist ein flächiges Muster 12 aus einem Pfeil 33 angebracht, wobei der Pfeil 33 und insbesondere die Randseiten 34, 35 und 36 des Pfeils 33 der Anordnung der Flipchip-Kontakte 3 auf der aktiven Oberseite 4 des Halbleiterbauteils 10 entsprechen, so dass von oben aus ohne direkte Sicht auf die Außenkontakte 9 der Halbleiterchip 2 auf dem Verdrahtungssubstrat 7 ausgerichtet und fixiert werden kann. Dabei wird ein elektrischer Pfad von den Kontaktflächen des Halbleiterchips 2 über die Flipchip-Kontakte 3 des Halbleiterchips 2 und den Kontaktanschlussflächen 5 des Verdrahtungssubstrats 7 und weiter über eine Verdrahtungsstruktur zu Durchkontakten durch das Verdrahtungssubstrat 7 und schließlich zu Außenkontaktflächen, die mit Außenkontakten 9 des Halbleiterbauteils 10 belegt sind, hergestellt. Dabei sind die Außenkontakte 9 des Halbleiterbauteils etwa um eine Größenordnung größer als die Flipchip-Kontakte des Halbleiterchips. Die Verdrahtungsstruktur sorgt dafür, dass von den Flipchip-Kontakten 3 von wenigen Mikrometern Durchmesser ein Leiterbahnnetz ausgeht, das die Flipchip-Kontakte 3 mit den Außenkontakten 9 über das Verdrahtungssubstrat 7 verbindet.On the back side 11 of the semiconductor chip 2 is a flat pattern 12 from an arrow 33 attached, the arrow 33 and especially the margins 34 . 35 and 36 of the arrow 33 the arrangement of the flip-chip contacts 3 on the active top 4 of the semiconductor device 10 correspond, so from the top without direct view of the external contacts 9 the semiconductor chip 2 on the wiring substrate 7 can be aligned and fixed. In this case, an electrical path from the contact surfaces of the semiconductor chip 2 via the flipchip contacts 3 of the semiconductor chip 2 and the contact pads 5 of the wiring substrate 7 and further via a wiring structure to vias through the wiring substrate 7 and finally to external contact surfaces, with external contacts 9 of the semiconductor device 10 are occupied, produced. Here are the external contacts 9 of the semiconductor device about an order of magnitude larger than the flip-chip contacts of the semiconductor chip. The wiring structure ensures that from the flipchip contacts 3 of a few micrometers in diameter, a printed circuit network is going out, the flip-chip contacts 3 with the external contacts 9 over the wiring substrate 7 combines.

2 zeigt eine schematische perspektivische Ansicht eines Halbleiterbauteils 20 einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in 1 werden mit den gleichen Bezugszeichen gegenzeichnet und nicht extra erörtert. 2 shows a schematic perspective view of a semiconductor device 20 a second embodiment of the invention. Components with the same functions as in 1 are countersigned with the same reference signs and not discussed separately.

Ein Unterschied zu der ersten Ausführungsform der Erfindung gemäß 1 besteht darin, dass als flächiges Muster 12 ein Kreuz 28 gewählt wurde. Um eine Vorzugsrichtung anzuzeigen, ist ein Kreuzbalken mit einer Spitze 30 versehen. Mit Hilfe der Spitze 30 kann eine Vertauschung um 180° der Flipchip-Kontakte 3 bzw. des Halbleiterchips 2 vermieden werden. Die Zuordnung zwischen dem Kreuz 28 und den Flipchip-Kontakten 3 erfolgt über Begrenzungsränder 13 des Kreuzes 28. Die Flipchip-Kontakte 3 stehen mit den Außenkontakten 9 über entsprechende Durchkontakte elektrisch in Verbindung.A difference from the first embodiment of the invention according to 1 is that as a flat pattern 12 a cross 28 was chosen. To indicate a preferred direction is a crossbar with a tip 30 Mistake. With the help of the tip 30 can be a 180 ° commutation of the flip-chip contacts 3 or of the semiconductor chip 2 be avoided. The association between the cross 28 and the flip-chip contacts 3 via limiting margins 13 of the cross 28 , The flipchip contacts 3 stand with the external contacts 9 electrically connected via corresponding vias.

3 zeigt eine Prinzipskizze eines Teils eines Halbleiterwafers 14 von seiner aktiven Oberseite 4 aus. Dieser Teil des Halbleiterwafers 14 umfasst vier integrierte Schaltungen 16, die entlang von Trennspuren 18 beim Vereinzeln des Halbleiterwafers 14 zu einzelnen Halbleiterchips 2 aufgetrennt werden können. Jede dieser integrierten Schaltungen 16 ist in einer Halbleiterchipposition 15 angeordnet, wobei die Halbleiterchippositionen 15 in Zeilen 37 und Spalten 38 auf dem Halbleiterwafer 14 angeordnet sind. 3 shows a schematic diagram of a part of a semiconductor wafer 14 from his active top 4 out. This part of the semiconductor wafer 14 includes four integrated circuits 16 passing along separation marks 18 when singulating the semiconductor wafer 14 to individual semiconductor chips 2 can be separated. Each of these integrated circuits 16 is in a semiconductor chip position 15 arranged, wherein the semiconductor chip positions 15 in lines 37 and columns 38 on the semiconductor wafer 14 are arranged.

4 zeigt eine Prinzipskizze eines Teils des Halbleiterwafers 14 der 3 nach Einbringen von Sägenuten 31 und Ausbilden von ausgefransten Rändern 21. Diese ausgefransten Ränder 21 entstehen nach dem Sägen des Halbleiterwafers 14 durch Aufbrechen von Verbindungsstegen, die nur wenige Mikrometer dick sind. Durch eine leichte Verbiegung des Halbleiterwafers können bereits die ausgefransten Ränder durch Brechen der Verbindungsstege 19 entstehen. 4 shows a schematic diagram of a portion of the semiconductor wafer 14 of the 3 after insertion of saw grooves 31 and forming frayed edges 21 , These frayed edges 21 arise after sawing the semiconductor wafer 14 by breaking connecting webs that are only a few microns thick. By a slight bending of the semiconductor wafer can already the frayed edges by breaking the connecting webs 19 arise.

5 zeigt einen schematischen Querschnitt durch den Teil des Halbleiterwafers 14 gemäß 4 entlang der Schnittebe ne A-A. Beim Sägen ist der Halbleiterwafer 14 auf einer Klebstofffolie bzw. einer Sägefolie 32 angeordnet, die den Halbleiterwafer auf einem Sägetisch fixiert. Beim Sägen wird die Dicke d des Halbleiterwafers 14 nicht vollständig in den Trennspuren 18 durchtrennt, sondern es werden Sägenuten 31 in einer Tiefe t eingebracht, die geringer ist als die Dicke d des Halbleiterwafers 14. Dabei bleiben Verbindungsstege 19 aus Halbleitermaterial zurück, die wenige Mikrometer dick sind und bei der geringsten Belastung auseinander brechen. Diese Belastung kann beim Abheben der Folie von dem Sägetisch erfolgen, wobei die Folie leicht gebogen wird oder diese Belastung kann auch beim Abheben von einzelnen Halbleiterchips 2 von der Sägefolie 32 auftreten. 5 shows a schematic cross section through the part of the semiconductor wafer 14 according to 4 along the section AA. When sawing is the semiconductor wafer 14 on an adhesive film or a sawing foil 32 arranged, which fixes the semiconductor wafer on a saw table. When sawing, the thickness d of the semiconductor wafer becomes 14 not completely in the separation marks 18 but it will be Sägenuten 31 introduced at a depth t, which is less than the thickness d of the semiconductor wafer 14 , There are connecting bridges 19 of semiconductor material that are a few microns thick and break apart at the slightest stress. This load can be done when lifting the film from the saw table, the film is easily bent or this burden can also when lifting individual semiconductor chips 2 from the sawing foil 32 occur.

6 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers 14 mit einem ersten flächigen Muster 12, das glatte Begrenzungsränder 13 aufweist, wobei dieses erste flächige Muster 12 Quadrate 22 darstellt für beispielsweise quadratische Halbleiterchips. Eine der Ecken eines jeden der Quadrate 22 zeigt eine Phase 39, um eine Ausrichtung des Halbleiterchips zu erleichtern. 6 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer 14 with a first flat pattern 12 , the smooth boundary edges 13 having, this first planar pattern 12 squares 22 represents for example square semiconductor chips. One of the corners of each of the squares 22 shows a phase 39 to facilitate alignment of the semiconductor chip.

7 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers 14 mit einem zweiten flächigen Muster 12 in den Halbleiterchippositionen 15. Dieses flächige Muster 12 mit seinen Randseiten 13 stellt ein Rechteck 23 dar und ist für Halbleiterchips 2 mit einer rechteckigen flächigen Erstreckung von Vorteil. Auch hier ist eine der Ecken mit einer Phase 39 versehen, um ein Ausrichten der Halbleiterchips 2 zu erleichtern. 7 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer 14 with a second flat pattern 12 in the semiconductor chip positions 15 , This flat pattern 12 with its edge sides 13 represents a rectangle 23 and is for semiconductor chips 2 with a rectangular areal extension of advantage. Again, one of the corners is one phase 39 provided to align the semiconductor chips 2 to facilitate.

8 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers 14 mit einem dritten flächigen Muster 12 in den Halbleiterchippositionen 15. Das flächige Muster 12 ist in dieser Ausführungsform der Erfindung ein Oval 24, wobei ein Randbereich abgeflacht ist, um wieder die Ausrichtung des Halbleiterchips 2 zu erleichtern. 8th shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer 14 with a third flat pattern 12 in the semiconductor chip positions 15 , The flat pattern 12 is an oval in this embodiment of the invention 24 wherein an edge region is flattened to restore alignment of the semiconductor chip 2 to facilitate.

9 zeigt eine Prinzipskizze der Rückseite des Halbleiterwafers 14 mit einem vierten flächigen Muster 12 in den Halbleiterchippositionen 15, wobei das flächige Muster 12 einen Kreis 25 darstellt, der an einer Seite abgeflacht ist, um die Ausrichtung des Halbleiterchips 2 zu erleichtern. 9 shows a schematic diagram of the back of the semiconductor wafer 14 with a fourth flat pattern 12 in the semiconductor chip positions 15 , where the area pattern 12 a circle 25 which is flattened on one side to the orientation of the semiconductor chip 2 to facilitate.

10 zeigt Prinzipskizzen von unterschiedlichen flächigen Mustern 12 auf den Rückseiten 11 von Halbleiterchips 2. Dabei zeigt 1(a) ein Sonnenmuster 27 oder ein Muster einer Kompassrose mit einem Strahlenkranz 40 aus mehreren Strahlen 41, wobei einer der Strahlen 41 abgedunkelt ist, um die Ausrichtung des Halbleiterchips 2 zu erleichtern. Die 10(b) zeigt ein Kreuz 28 aus Pfeilen 33, das ein gekreuztes Pfeilmuster 29 bildet, wobei sich eine Pfeilspitze 30 von den übrigen drei Pfeilspitzen unterscheidet, so dass auch hier ein Ausrichten des Halbleiterchips möglich ist. Schließlich zeigt 10(c) ein einfaches Kreuz 28 mit einer einzelnen Pfeilspitze 30, wie es auch in 2 in perspektivischer Ansicht auf der Rückseite 11 eines Halbleiterchips 2 zu sehen ist. Mit 10(d) wird ein Stern 26 als flächiges Muster 12 dargestellt. Dieser vierzackige Stern 26 weist eine abgeschnittene Spitze 30 auf, um die Ausrichtung des Halbleiterchips 2 zu erleichtern. 10 shows schematic diagrams of different areal patterns 12 on the backs 11 of semiconductor chips 2 , It shows 1 (a) a sun pattern 27 or a pattern of a compass rose with a radiate wreath 40 from several rays 41 where one of the rays 41 is dimmed to the orientation of the semiconductor chip 2 to facilitate. The 10 (b) shows a cross 28 from arrows 33 , a crossed arrow pattern 29 forms, with an arrowhead 30 differs from the other three arrowheads, so that an alignment of the semiconductor chip is also possible here. Finally shows 10 (c) one simple cross 28 with a single arrowhead 30 as it is in 2 in perspective view on the back 11 a semiconductor chip 2 you can see. With 10 (d) becomes a star 26 as a flat pattern 12 shown. This four-pointed star 26 has a cut off point 30 on to the orientation of the semiconductor chip 2 to facilitate.

Claims (18)

Halbleiterbauteil mit einem Gehäuse (1) und mit einem Halbleiterchip (2), der eine Anordnung von Flipchip-Kontakten (3) auf seiner aktiven Oberseite (4) aufweist, wobei die Flipchip-Kontakte (3) auf Kontaktanschlussflächen (5) der Oberseite (6) eines Verdrahtungssubstrats (7) angeordnet sind, das auf seiner der Oberseite (6) gegenüberliegenden Unterseite (8) Außenkontaktflächen mit Außenkontakten (9) des Halbleiterbauteils (10) aufweist, die mit den Kontaktanschlussflächen (5) elektrisch in Verbindung stehen, wobei die Rückseite (11) des Halbleiterchips (2) ein flächiges Muster (12) aufweist, dessen Begrenzungsränder (13) eine vorgegebene geometrische Zuordnung zu der Anordnung der Flipchip-Kontakte (3) auf der aktiven Oberseite (4) aufweisen.Semiconductor component with a housing ( 1 ) and with a semiconductor chip ( 2 ) comprising an array of flip-chip contacts ( 3 ) on its active upper side ( 4 ), wherein the flip-chip contacts ( 3 ) on contact pads ( 5 ) of the top side ( 6 ) of a wiring substrate ( 7 ) arranged on its top ( 6 ) opposite underside ( 8th ) External contact surfaces with external contacts ( 9 ) of the semiconductor device ( 10 ), which with the contact pads ( 5 ) are electrically connected, the back ( 11 ) of the semiconductor chip ( 2 ) a planar pattern ( 12 ) whose boundary edges ( 13 ) has a predetermined geometric assignment to the arrangement of the flip-chip contacts ( 3 ) on the active top side ( 4 ) exhibit. Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Quadrat (22) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a square ( 22 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Rechteck (23) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a rectangle ( 23 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Kreis (25) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a circle ( 25 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Oval (24) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) an oval ( 24 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Stern (26) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a star ( 26 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Sonnenmuster (27) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a sun pattern ( 27 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein Kreuz (28) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a cross ( 28 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein flächiger Pfeil (33) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a flat arrow ( 33 ). Halbleiterbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das flächige Muster (12) ein gekreuztes Pfeilmuster (29) ist.Semiconductor component according to Claim 1, characterized in that the planar pattern ( 12 ) a crossed arrow pattern ( 29 ). Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils (10) mit einem Gehäuse (1) und mit einem Halbleiterchip (2), der eine Anordnung von Flipchip-Kontakten (3) auf seiner aktiven Oberseite (4) aufweist, und auf seiner Rückseite (11) ein flächiges Muster (12) aufweist, dessen Begrenzungsränder (13) eine vorgegebene geometrische Zuordnung zu der Anordnung der Flipchip-Kontakte (3) auf der aktiven Oberseite (4) aufweisen, wobei das Verfahren folgende Verfahrenschritte aufweist: – Herstellen eines Halbleiterwafers (14) mit Halbleiterchippositionen (15) und mit integrierten Schaltungen (16) und mit Kontaktflächen für Flipchip- Kontakte (3) in vorgegebener Anordnung auf seiner aktiven Oberseite (4), – Aufbringen von flächigen Mustern (12) auf die Rückseite (11) des Halbleiterwafers (14) in den Halbleiterchippositionen (15), deren Begrenzungsränder (13) eine vorgegebene geometrische Zuordnung zu der Anordnung der Kontaktflächen auf der aktiven Oberseite (4) aufweisen, – Aufbringen von Flipchip-Kontakten (3) auf Kontaktflächen in den Halbleiterchippositionen (15); – Auftrennen des Halbleiterwafers (14) in Halbleiterchips (2) mit Flipchip-Kontakten (3); – Herstellen eines Verdrahtungssubstrats (7) mit Halbleiterbauteilpositionen und Kontaktanschlussflächen (5), deren Anordnung in den Halbleiterbauteilpositionen der Anordnung der Flipchip-Kontakte (3) der Halbleiterchips (2) entspricht; – Aufbringen von Halbleiterchips (2) auf das Verdrahtungssubstrat (7) in den Halbleiterbauteilpositionen unter Ausrichten der Flipchip-Kontakte (3) der Halbleiterchips (2) zu der Anordnung der Kontaktanschlussflächen (5) des Verdrahtungssubstrats (7) mit Hilfe der flächigen Muster (12) auf den Rückseiten (11) der Halbleiterchips (2); – Bonden der Flipchip-Kontakte (3) der Halbleiterchips (2) auf den Kontaktanschlussflächen (5); – Verpacken der Halbleiterbauteilpositionen in eine Kunststoffgehäusemasse (17) unter Einbetten der Halbleiterchips (2).Method for producing a semiconductor component ( 10 ) with a housing ( 1 ) and with a semiconductor chip ( 2 ) comprising an array of flip-chip contacts ( 3 ) on its active upper side ( 4 ), and on its rear side ( 11 ) a planar pattern ( 12 ) whose boundary edges ( 13 ) has a predetermined geometric assignment to the arrangement of the flip-chip contacts ( 3 ) on the active top side ( 4 ), the method comprising the following steps: - producing a semiconductor wafer ( 14 ) with semiconductor chip positions ( 15 ) and with integrated circuits ( 16 ) and with contact surfaces for flip-chip contacts ( 3 ) in a predetermined arrangement on its active upper side ( 4 ), - application of areal patterns ( 12 ) on the back ( 11 ) of the semiconductor wafer ( 14 ) in the semiconductor chip positions ( 15 ) whose boundary edges ( 13 ) a predetermined geometric assignment to the arrangement of the contact surfaces on the active upper side ( 4 ), - application of flip-chip contacts ( 3 ) on contact surfaces in the semiconductor chip positions ( 15 ); Separating the semiconductor wafer ( 14 ) in semiconductor chips ( 2 ) with flip-chip contacts ( 3 ); Manufacture of a wiring substrate ( 7 ) with semiconductor device positions and contact pads ( 5 ), whose arrangement in the semiconductor component positions of the arrangement of the flip-chip contacts ( 3 ) of the semiconductor chips ( 2 ) corresponds; - Application of semiconductor chips ( 2 ) on the wiring substrate ( 7 ) in the semiconductor device positions, aligning the flip-chip contacts ( 3 ) of the semiconductor chips ( 2 ) to the arrangement of the contact pads ( 5 ) of the wiring substrate ( 7 ) with the help of the flat pattern ( 12 ) on the backsides ( 11 ) of the semiconductor chips ( 2 ); Bonding the flip-chip contacts ( 3 ) of the semiconductor chips ( 2 ) on the contact pads ( 5 ); Packaging the semiconductor device positions in a plastic housing composition ( 17 ) with embedding of the semiconductor chips ( 2 ). Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen von flächigen Mustern (12) mittels Photolithographie-Technik erfolgt.Method according to claim 11, characterized in that the application of two-dimensional patterns ( 12 ) is done by photolithography technique. Verfahren nach Anspruch 11 oder Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das zum Aufbringen von flächigen Mustern (12) zunächst auf die Rückseite des Halbleiterwafers (14) eine photosensitive Polyamidschicht aufgebracht wird, die anschließend mittels Photolithographie-Technik strukturiert wird.A method according to claim 11 or claim 12, characterized in that for the application of planar patterns ( 12 ) first on the back of the semiconductor wafer ( 14 ) is applied a photosensitive polyamide layer, which is then patterned by photolithography technique. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen von flächigen Mustern (12) mittels Schablonendrucktechnik erfolgt.A method according to claim 11, characterized in that the application of flat Inspect ( 12 ) by means of stencil printing technology. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen von flächigen Mustern (12) mittels Strahldrucktechnik erfolgt.Method according to claim 11, characterized in that the application of two-dimensional patterns ( 12 ) takes place by means of jet printing technology. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Flipchip-Kontakte (3) auf einzelne Halbleiterchips (2) nach einem Auftrennen des Halbleiterwafers (14) aufgebracht werden.Method according to one of claims 11 to 15, characterized in that the flip-chip contacts ( 3 ) on individual semiconductor chips ( 2 ) after a separation of the semiconductor wafer ( 14 ) are applied. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Auftrennen des Halbleiterwafers (14) in Halbleiterchips (2) durch Sägen entlang von Trennspuren (18) zwischen den Halbleiterchippositionen derart erfolgt, dass die Sägetiefe (t) um wenige Mikrometer geringer ist als die Dicke (d) des Halbleiterwafers (14).Method according to one of claims 11 to 16, characterized in that the separation of the semiconductor wafer ( 14 ) in semiconductor chips ( 2 ) by sawing along separation tracks ( 18 ) between the semiconductor chip positions in such a way that the sawing depth (t) is smaller by a few micrometers than the thickness (d) of the semiconductor wafer ( 14 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass beim Vereinzeln der Halbleiterchips (2) Verbindungsstege (19) von wenigen Mikrometer Dicke zwischen den Halbleiterchippositionen (15) aufgebrochen werden, wobei unregelmäßig ausgefranste Begrenzungsränder (21) der Rückseiten (11) der vereinzelten Halbleiterchips (2) entstehen.Method according to one of claims 11 to 17, characterized in that when singulating the semiconductor chips ( 2 ) Connecting bridges ( 19 ) of a few micrometers thickness between the semiconductor chip positions ( 15 ) are broken, with irregular frayed boundary edges ( 21 ) of the backsides ( 11 ) of the isolated semiconductor chips ( 2 ) arise.
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