DE10065965B4 - Production method for a current sensor of the microsystem technology - Google Patents

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Abstract

Fertigungsverfahren für einen Stromsensor der Mikrosystemtechnik,
mit den Schritten, daß
– die Stromleiter (1), die eine Querschnittsreduzierung entsprechend der zulässigen Stromtragfähigkeit an der Meßstelle und einen geringstmöglichen Abstand zueinander aufweisen, im Verbund mit einem umlaufenden Rahmen (1A) gefertigt werden;
– die Stromleiter (1) anschließend mit einer Kunststoffumhüllung (2) versehen werden, wobei die Kunststoffumhüllung zugleich als Isolierung und Leiterfixierung dient;
– anschließend der Rahmen (1A) abgetrennt wird;
– die mit der Kunststoffumhüllung (2) versehenen Stromleiter (1) an einer Keramikplatte (4) angeordnet werden und bedingt durch die Ausgestaltung der Teile, die Stromleiter (1) im Bereich der Meßstelle in einem Ausschnitt an der Keramikplatte 4 angeordnet werden, wobei die eine Seite der Keramikplatte (4) mittels der Kunststoffumhüllung (2) abgedeckt ist und auf der gegenüberliegenden Seite der Keramikplatte (4) der Sensor (3) in Flip-Chip-Montage und die Bauteile (5) des Schaltnetzteiles angeordnet werden.
Production method for a current sensor of microsystem technology,
with the steps that
- The current conductor (1), which have a cross-sectional reduction according to the allowable current carrying capacity at the measuring point and a minimum possible distance from each other, are produced in conjunction with a peripheral frame (1A);
- The conductors (1) are then provided with a plastic sheath (2), wherein the plastic sheath serves as insulation and conductor fixing at the same time;
- then the frame (1A) is separated;
- The provided with the plastic sheath (2) conductor (1) are arranged on a ceramic plate (4) and due to the design of the parts, the current conductors (1) are arranged in the region of the measuring point in a section on the ceramic plate 4, wherein the one side of the ceramic plate (4) by means of the plastic sheath (2) is covered and on the opposite side of the ceramic plate (4) of the sensor (3) in flip-chip mounting and the components (5) of the switching power supply are arranged.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die Erfindung betrifft ein Fertigungsverfahren für einen Stromsensor der Mikrosystemtech nik.The The invention relates to a manufacturing method for a current sensor of the microsystem technology technology.

Bekannt ist dazu durch die WO 99/14605 A1 ein Stromsensor, der als völlige Einheit eines Strom-Überwachungssystem für galvanisch getrennte Strommessung hergestellt ist in Übereinstimmung mit kommerzieller IC Fabrikation und LOC Verpackungstechnologie. Ein Strompfad ist Teil des leitenden Rahmens, an dem mit Hilfe eines vorgefertigten Klebestreifens Sensoren an die Matrize montiert sind.Known For this purpose, WO 99/14605 A1 discloses a current sensor which is a complete unit a power monitoring system for galvanic separate current measurement is made in accordance with commercial IC fabrication and LOC packaging technology. A current path is Part of the conductive frame, with the help of a prefabricated adhesive strip Sensors are mounted to the die.

Die JP 04364472 A ermöglicht es, einen Stromwert mit großer Genauigkeit zu messen und verbessert die Messgenauigkeit einer weiteren eng nebeneinander liegenden-Position durch Einbringen eines elektromagnetischen Konverters mit einen Elektro-Pfad-Leiter. Durch Verkleben des Elementes und des Leiters mit Harz wird ein einheitlicher Körper erzeugt.The JP 04364472 A makes it possible to measure a current value with great accuracy and improves the measuring accuracy of another closely adjacent position by introducing an electromagnetic converter with an electro-path conductor. By bonding the element and the conductor with resin, a unitary body is produced.

Weiterhin ist durch das US-Patent, US 5 041 780 A bekannt, einen Stromleiter mit gegenüberligenden Einkerbungen zu versehen und magnetische Fluß-Sensoren an beiden Seiten der eingeschränkten Sektion anzuordnen.Furthermore, by the US patent, US 5 041 780 A It is known to provide a current conductor with opposing notches and to arrange magnetic flux sensors on both sides of the restricted section.

Durch die DE 41 41 386 A1 ist weiterhin ein Hallsensor bekannt. Er besteht aus einem in ein Halbleiterplättchen integrierten Hallsensor ausreichender Empfindlichkeit, der eine den Magnetfeldbereich des Stromleiters abdeckende Schicht aus ferromagnetischen Material aufweist. Insbesondere ist in den 2a und 2b ein Ausführungsbeispiel gezeigt, bei dem das Halbleiter-Trägerband (leadframe) derart ausgebildet ist, daß ein Teil desselben eine Leiterbahn bildet, die als Metallschleife für den Hallsensor wirkt.By the DE 41 41 386 A1 Furthermore, a Hall sensor is known. It consists of a Hall sensor of sufficient sensitivity integrated in a semiconductor chip, which has a magnetic field region of the conductor covering layer of ferromagnetic material. In particular, in the 2a and 2 B an embodiment is shown in which the semiconductor leadframe is formed such that a part thereof forms a conductor track, which acts as a metal loop for the Hall sensor.

Mit speziell dazu entwickelten Stromsensoren werden die Ströme über ihr Magnetfeld mit Magnetfeldsensoren (Hallsensoren) gemessen, die in einer Standard-CMOS-Technologie implementiert sind. Durch die Verwendung der Standardtechnologie können die Sensoren kostengünstig gefertigt werden und es ist eine umfangreiche Signalverarbeitung möglich, d. h. es können zusätzliche Funktionen dem Sensor mitgegeben werden, wie

  • – Separieren von Ableitströmen,
  • – Messen und Anzeigen der Leiterströme,
  • – Setzen von vorgebbaren Schwellen, die bei Erreichen zur Vorwarnung oder zum Abschalten genutzt werden und dem Lastmanagement dienen können,
  • – Ansteuern einer Datenschnittstelle,
  • – Überprüfung von PE- und N-Leiter.
With specially developed current sensors, the currents are measured via their magnetic field with magnetic field sensors (Hall sensors), which are implemented in a standard CMOS technology. By using the standard technology, the sensors can be manufactured cost-effectively and a comprehensive signal processing is possible, ie additional functions can be added to the sensor, such as
  • - Separation of leakage currents,
  • - measuring and indicating the phase currents,
  • - Setting predefinable thresholds that can be used when they are reached for pre-warning or for shutdown and that can be used for load management,
  • - controlling a data interface,
  • - Verification of PE and N conductors.

Bei der Messung des elektrischen Stromes über die Magnetfeldmessung mit z. B. Hallsensoren o. ä. gibt es eine ganze Reihe möglicher Aufbauvarianten, die sich durch den nutzbaren Meßbereich, die erreichbare Auflösung und die realisierbare Isolationsfestigkeit unterscheiden.at the measurement of the electric current via the magnetic field measurement with z. B. Hall sensors o. Ä. There is a whole range of possible Aufbauvarianten, which is characterized by the usable measuring range, the achievable resolution and distinguish the achievable insulation resistance.

Bei der einfachsten Version wird der Stromleiter direkt auf dem Chip realisiert. Durch den geringen Abstand zwischen Stromleiter und Sensor läßt sich mit dieser Anordnung die höchste Genauigkeit erreichen. Der maximale Meßstrom ist in diesem Fall durch die Stromtragfähigkeit der Metallisierung begrenzt.at The simplest version is the power conductor directly on the chip realized. Due to the small distance between the conductor and Sensor settles with this arrangement the highest Achieve accuracy. The maximum measuring current is in this case the current carrying capacity limited to metallization.

Höhere Ströme können gemessen werden, wenn der Stromleiter nicht monolithisch integriert wird. Mit externen Leitern können prinzipiell sehr hohe Ströme gemessen werden. Die erreichbare Auflösung hängt jeweils vom Abstand des Sensorchips zur Mitte des Stromleiters ab.Higher currents can be measured when the conductor is not monolithically integrated. With external conductors can in principle very high currents be measured. The achievable resolution depends on the distance of the Sensor chips to the middle of the conductor starting from.

Bei mehrpoligen Sensoren ist die geringe Entfernung der Leiter untereinander ebenso wichtig wie der enge Abstand der Stromleiter zum Sensorchip. Auch hier beeinflußt ein geringer Abstand die Empfindlichkeit gegen Fremdfelder.at Multi-pole sensors is the small distance between the conductors as important as the close distance of the conductors to the sensor chip. Also affected here a small distance the sensitivity to external fields.

Es besteht also das Erfordernis, daß die Hallsensoren dicht an die Stromleiter herangebracht werden, d. h. eine enge räumliche Verbindung von hohen Spannungen (einige hundert Volt) und hohen Strömen (im Kurzschlußfall einige kA) der Netzseite mit den geringen Spannungen und Strömen der Siliziumtechnologie auf der Sensorseite. Zwischen diesen unterschiedlichen Seiten muß trotz des von der Meßtechnik geforderten geringen Abstandes eine sichere elektrische Trennung gegeben sein.It So there is a requirement that the Hall sensors close to the conductors are brought, d. H. a close spatial Connection of high voltages (several hundred volts) and high Stream (in case of short circuit some kA) of the grid side with the low voltages and currents of Silicon technology on the sensor side. Between these different ones Pages must be despite of the measuring technique required small distance a safe electrical isolation be given.

Die Position der Stromleiter muß möglichst exakt über den ganzen Temperaturbereich und die gesamte Betriebsdauer gehalten werden. Dabei können mechanische Einflüsse wirken, wie die elektrodynamischen Kräfte aus der parallelen, engen Leiterführung und den hohen Kurzschlußströmen, oder thermische Einflüsse durch die hohen Leiterströme und die unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten der eingesetzten Materialien.The Position of the conductor must be as accurate as possible over the whole temperature range and the entire operating time kept become. It can mechanical influences act as the electrodynamic forces from the parallel, narrow conductor guide and the high short-circuit currents, or thermal influences through the high conductor currents and the different thermal expansion coefficients of the used Materials.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Aufbau- und Verbindungstechnik zu finden, die den geringen Abstand zwischen den Sensoren und den Leitern, sowie den Leitern zueinander erlaubt und dabei die elektrische und mechanische Festigkeit über die gesamte Betriebsdauer garantiert.task the invention is to find a construction and connection technique the small distance between the sensors and the conductors, and the conductors allowed each other while the electrical and mechanical strength over the entire service life guaranteed.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den Patentanspruch gelöst.These The object is achieved by the Claim solved.

Die Erfindung wird anhand der Abbildungen erläutert.The invention is based on the figures explained.

Es zeigt:It shows:

1 die im Verbund mit einem umlaufenden Rahmen 1A gefertigten Stromleiter 1. 1 in conjunction with a surrounding frame 1A manufactured conductor 1 ,

2 die mit einer Kunststoffumhüllung 2 versehenen Stromleiter 1, nachdem der Rahmen 1A abgetrennt wurde. 2 those with a plastic sheath 2 provided conductor 1 after the frame 1A was separated.

3 einen Schnitt durch die mit einer Kunststoffumhüllung 2 versehenen Stromleiter 1. 3 a section through the with a plastic wrap 2 provided conductor 1 ,

4 die Baueinheit der Stromleiter 1 mit Kunststoffumhüllung 2, eingesetzt in eine Keramikplatte 4, an der der Sensor und die Bauteile des Schaltnetzteiles 5 angeordnet sind. 4 the unit of the conductor 1 with plastic coating 2 , inserted in a ceramic plate 4 at which the sensor and the components of the switching power supply 5 are arranged.

Das Fertigungsverfahren für einen Stromsensor der Mikrosystemtechnik besteht aus folgenden Schritten:
Die Stromleiter 1, die eine Querschnittsreduzierung entsprechend der zulässigen Stromtragfähigkeit an der Meßstelle und einen geringstmöglichen Abstand zueinander aufweisen, werden im Verbund mit einem umlaufenden Rahmen 1A gefertigt.
The manufacturing process for a current sensor of the microsystem technology consists of the following steps:
The power conductors 1 , which have a cross-sectional reduction according to the allowable current carrying capacity at the measuring point and the smallest possible distance from each other, are combined with a circumferential frame 1A manufactured.

Die Stromleiter 1 werden anschließend mit einer Kunststoffumhüllung (2) versehen, die zugleich als Isolierung und Leiterfixierung dient.The power conductors 1 are then treated with a plastic wrap ( 2 ), which also serves as insulation and conductor fixing.

Anschließend wird der Rahmen 1A abgetrennt.Subsequently, the frame becomes 1A separated.

Die mit der Kunststoffumhüllung 2 versehenen Stromleiter 1 werden dann an einer Keramikplatte 4 angeordnet, wobei durch die Ausgestaltung der Teile bedingt, die Stromleiter 1 im Bereich der Meßstelle in einem Ausschnitt an der Keramikplatte 4 angeordnet sind. Die eine Seite der Keramikplatte 4 wird mittels der Kunststoffumhüllung 2 abdeckt und auf der gegenüberliegenden Seite der Keramikplatte 4 werden der Sensor 3 in Flip-Chip-Montage und die Bauteile 5 des Schaltnetzteiles angeordnet.The plastic wrap 2 provided conductor 1 are then on a ceramic plate 4 arranged, conditional on the design of the parts, the current conductor 1 in the area of the measuring point in a section on the ceramic plate 4 are arranged. One side of the ceramic plate 4 is by means of plastic wrap 2 covering and on the opposite side of the ceramic plate 4 become the sensor 3 in flip-chip assembly and the components 5 arranged the switching power supply.

Die geringen Abstände der Erregerleiter zu den Hallsensoren und zueinander werden sowohl durch die spezielle Ausgestaltung der Erregerleiter als auch durch die Flip-Chip-Montage des Sensors 3 auf der Keramikplatte 4 erreicht.The short distances between the excitation conductors to the Hall sensors and each other are due both to the special design of the excitation conductor as well as through the flip-chip mounting of the sensor 3 on the ceramic plate 4 reached.

Die Vorteile liegen zum einen in der hohen Sicherheit der Spannungsfestigkeit, zum anderen in der einfacheren Gestaltungsmöglichkeit der Stromleiter 1, die im Verbund an den Sensor 3 herangeführt und deshalb kostengünstig montiert werden können.The advantages are on the one hand in the high reliability of the dielectric strength, on the other hand in the simpler design possibility of the current conductor 1 , which in the composite to the sensor 3 introduced and therefore can be mounted inexpensively.

11
Stromleiterconductor
1A1A
Rahmenframe
22
KunststoffumhüllungPlastic covering
33
Sensorsensor
44
Keramikplatteceramic plate
55
Bauteile des Schaltnetzteilescomponents of the switching power supply

Claims (1)

Fertigungsverfahren für einen Stromsensor der Mikrosystemtechnik, mit den Schritten, daß – die Stromleiter (1), die eine Querschnittsreduzierung entsprechend der zulässigen Stromtragfähigkeit an der Meßstelle und einen geringstmöglichen Abstand zueinander aufweisen, im Verbund mit einem umlaufenden Rahmen (1A) gefertigt werden; – die Stromleiter (1) anschließend mit einer Kunststoffumhüllung (2) versehen werden, wobei die Kunststoffumhüllung zugleich als Isolierung und Leiterfixierung dient; – anschließend der Rahmen (1A) abgetrennt wird; – die mit der Kunststoffumhüllung (2) versehenen Stromleiter (1) an einer Keramikplatte (4) angeordnet werden und bedingt durch die Ausgestaltung der Teile, die Stromleiter (1) im Bereich der Meßstelle in einem Ausschnitt an der Keramikplatte 4 angeordnet werden, wobei die eine Seite der Keramikplatte (4) mittels der Kunststoffumhüllung (2) abgedeckt ist und auf der gegenüberliegenden Seite der Keramikplatte (4) der Sensor (3) in Flip-Chip-Montage und die Bauteile (5) des Schaltnetzteiles angeordnet werden.Manufacturing process for a current sensor of microsystems technology, comprising the steps of - the conductors ( 1 ), which have a cross-sectional reduction according to the permissible current carrying capacity at the measuring point and a minimum possible distance from each other, in conjunction with a peripheral frame ( 1A ) are manufactured; - the conductors ( 1 ) subsequently with a plastic sheath ( 2 ), wherein the plastic sheath serves as insulation and conductor fixing at the same time; - then the frame ( 1A ) is separated; - that with the plastic sheath ( 2 ) provided conductor ( 1 ) on a ceramic plate ( 4 ) and due to the design of the parts, the current conductors ( 1 ) in the area of the measuring point in a section on the ceramic plate 4 be arranged, wherein the one side of the ceramic plate ( 4 ) by means of the plastic covering ( 2 ) and on the opposite side of the ceramic plate ( 4 ) the sensor ( 3 ) in flip-chip mounting and the components ( 5 ) of the switching power supply can be arranged.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10315532B4 (en) * 2003-04-04 2014-08-14 Infineon Technologies Ag Integrated-type current sensor device and method of manufacturing
DE10333089B4 (en) * 2003-07-21 2016-12-29 Infineon Technologies Ag Current evaluation device and method for producing the same
DE102004021862B4 (en) * 2004-05-04 2014-08-07 Infineon Technologies Ag current Senor

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5041780A (en) * 1988-09-13 1991-08-20 California Institute Of Technology Integrable current sensors
DE4141386A1 (en) * 1991-12-16 1993-06-17 Itt Ind Gmbh Deutsche Hall sensor integrated on semiconductor chip mfd. using semiconductor processing - has current conductor for producing magnetic field and magnetic field regional cover of ferromagnetic material and substrate with two different conducting types
WO1999014605A1 (en) * 1997-09-15 1999-03-25 Institute Of Quantum Electronics A current monitor system and a method for manufacturing it

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4897508A (en) * 1988-02-10 1990-01-30 Olin Corporation Metal electronic package
DE3805856A1 (en) * 1988-02-25 1989-09-07 Bayer Ag THERMOPLASTIC BLOCK COPOLYMERS OF VINYL OR VINYLIDE POLYMER SEGMENTS AND SEGMENTS OF LIQUID CRYSTALLINE POLYMERS
EP0537419A1 (en) * 1991-10-09 1993-04-21 Landis & Gyr Business Support AG Device comprising an integrated magnetic field sensor and first and second magnetic flux concentrator, and method to build into a container of synthetic material a plurality of these devices
DE4208758A1 (en) * 1992-03-19 1993-09-23 Basf Ag Polyarylene-ether] sulphone(s) and polyarylene-ether] ketone(s) - useful for encapsulating electrical and electronic components

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5041780A (en) * 1988-09-13 1991-08-20 California Institute Of Technology Integrable current sensors
DE4141386A1 (en) * 1991-12-16 1993-06-17 Itt Ind Gmbh Deutsche Hall sensor integrated on semiconductor chip mfd. using semiconductor processing - has current conductor for producing magnetic field and magnetic field regional cover of ferromagnetic material and substrate with two different conducting types
WO1999014605A1 (en) * 1997-09-15 1999-03-25 Institute Of Quantum Electronics A current monitor system and a method for manufacturing it

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP 04364472 A. PAJ *

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