CN111566533B - 光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法 - Google Patents

光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111566533B
CN111566533B CN201780096537.4A CN201780096537A CN111566533B CN 111566533 B CN111566533 B CN 111566533B CN 201780096537 A CN201780096537 A CN 201780096537A CN 111566533 B CN111566533 B CN 111566533B
Authority
CN
China
Prior art keywords
holding portion
optical element
disposed
narrow
inclined surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201780096537.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111566533A (zh
Inventor
渡部义信
嘉藤真英
古里博志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gigaphoton Inc
Original Assignee
Gigaphoton Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gigaphoton Inc filed Critical Gigaphoton Inc
Publication of CN111566533A publication Critical patent/CN111566533A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111566533B publication Critical patent/CN111566533B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/021Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/023Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/04Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
    • G02B7/10Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification by relative axial movement of several lenses, e.g. of varifocal objective lens
    • G02B7/102Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification by relative axial movement of several lenses, e.g. of varifocal objective lens controlled by a microcomputer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • G03F7/2006Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/134Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/139Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)

Abstract

光学元件的移动装置具有:第1保持部,其保持第1光学元件;第2保持部,其保持第2光学元件,并具有相对于接近第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;引导部,其能够与第1方向平行地移动第2保持部;以及弹性部件,其被配置于第1保持部与第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与倾斜面垂直地交叉且与第1方向平行。

Description

光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造 方法
技术领域
本公开涉及光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法。
背景技术
随着半导体集成电路的微细化和高集成化,在半导体曝光装置中要求分辨率的提高。下面,将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此,从曝光用光源输出的光的短波长化得以发展。在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。当前,作为曝光用的气体激光装置,使用输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的ArF准分子激光装置。
作为当前的曝光技术,如下的液浸曝光已经实用化:利用液体充满曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙,通过改变该间隙的折射率,使曝光用光源的外观的波长变短。在使用ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下,对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被称为ArF液浸光刻。
KrF、ArF准分子激光装置的自然振荡中的谱线宽度较宽,大约为350~400pm,因此,通过曝光装置侧的投影透镜缩小地投影到晶片上的激光(紫外线光)产生色像差,分辨率降低。因此,需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色像差的程度。谱线宽度也被称为谱宽度。因此,在气体激光装置的激光谐振器内设置具有窄带化元件的窄带化模块(Line Narrow Module),通过该窄带化模块实现谱宽度的窄带化。另外,窄带化元件也可以是标准具或光栅等。将这种谱宽度被窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2017/026000号公报
发明内容
本公开的1个观点的光学元件的移动装置具有:第1保持部,其保持第1光学元件;第2保持部,其保持第2光学元件,并具有相对于接近第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;引导部,其能够与第1方向平行地移动第2保持部;以及弹性部件,其被配置于第1保持部与第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与倾斜面垂直地交叉且与第1方向平行。
本公开的1个观点的窄带化激光装置具有:激光谐振器;腔,其被配置于激光谐振器,并收容激光气体;一对电极,其被配置于腔;波长选择元件,其被配置于激光谐振器;以及谱宽度可变部,其被配置于激光谐振器。谱宽度可变部具有:第1光学元件;第1保持部,其保持第1光学元件;第2光学元件;第2保持部,其保持第2光学元件,并具有相对于接近第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;引导部,其能够与第1方向平行地移动第2保持部;以及弹性部件,其被配置于第1保持部与第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与倾斜面垂直地交叉且与第1方向平行。
本公开的1个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤:通过窄带化激光装置生成激光;将激光输出到曝光装置;以及在曝光装置内在感光基板上曝光激光,以制造电子器件。窄带化激光装置具有:激光谐振器;腔,其被配置于激光谐振器,并收容激光气体;一对电极,其被配置于腔;波长选择元件,其被配置于激光谐振器;以及谱宽度可变部,其被配置于激光谐振器。谱宽度可变部具有:第1光学元件;第1保持部,其保持第1光学元件;第2光学元件;第2保持部,其保持第2光学元件,并具有相对于接近第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;引导部,其能够与第1方向平行地移动第2保持部;以及弹性部件,其被配置于第1保持部与第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与倾斜面垂直地交叉且与第1方向平行。
附图说明
下面,参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
图1示意地示出比较例的窄带化激光装置的结构。
图2A~图2C示出比较例中的谱宽度可变部15的具体结构。
图3A~图3C示出本公开的第1实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。
图4A~图4C示出本公开的第2实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。
图5A~图5C示出本公开的第3实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。
图6概略地示出与窄带化激光装置1连接的曝光装置4的结构。
具体实施方式
<内容>
1.比较例
1.1窄带化激光装置的结构
1.1.1腔和脉冲功率模块
1.1.2激光谐振器
1.1.3传感器单元
1.1.4激光控制部
1.2窄带化激光装置的动作
1.2.1腔和脉冲功率模块
1.2.2激光谐振器
1.2.3传感器单元
1.2.4激光控制部
1.3谱宽度可变部中包含的移动装置
1.3.1结构
1.3.2动作
1.4课题
2.将弹性部件配置于第1面内的移动装置
2.1 结构
2.2 作用
3.将弹性部件配置于第1直线上的移动装置
3.1 结构
3.2 作用
4.将构成引导部的轨道配置于第1面内的移动装置
4.1 结构
4.2 作用
5.其他
下面,参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的几个例子,不限定本公开的内容。此外,各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外,对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。
1.比较例
1.1窄带化激光装置的结构
图1示意地示出比较例的窄带化激光装置的结构。图1所示的窄带化激光装置包含腔10、一对放电电极11a和11b、脉冲功率模块(PPM)13、窄带化模块14和谱宽度可变部15。窄带化激光装置还包含传感器单元16和激光控制部30。窄带化激光装置是输出脉冲激光的准分子激光装置,该脉冲激光用于入射到曝光装置4等外部装置。
在图1中,示出从与一对放电电极11a和11b之间的放电方向平行的方向观察的窄带化激光装置。放电电极11b位于比放电电极11a更靠纸面的进深侧的位置。从窄带化激光装置输出的脉冲激光的行进方向是+Z方向。一对放电电极11a和11b之间的放电方向是+V方向或-V方向。-V方向与重力的方向大致一致。+H方向是与+Z方向和+V方向双方垂直的方向。+Z方向相当于本公开中的第1方向。+V方向或-V方向相当于本公开中的第2方向。另外,在本公开中,“平行”和“垂直”不意味着规定方向和角度的严格数值,而意味着容许实用范围内的误差。“平行”能够替换成“大致平行”,“垂直”能够替换成“大致垂直”。
1.1.1腔和脉冲功率模块
腔10封入有激光气体,该激光气体例如包含作为稀有气体的氩气或氪气、作为卤素气体的氟气或氯气、作为缓冲气体的氖气或氦气。
在腔10内配置有一对放电电极11a和11b。在一对放电电极11a和11b连接有脉冲功率模块13。脉冲功率模块13包含未图示的充电电容器和开关13a。在脉冲功率模块13的充电电容器连接有充电器12。
在腔10的两端设置有窗口10a和10b。如图1所示,窗口10a和10b被配置成光相对于这些窗口的入射面和HZ面大致一致,并且该光的入射角度成为大致布鲁斯特角。
1.1.2激光谐振器
窄带化模块14和谱宽度可变部15构成激光谐振器。
窄带化模块14包含2个棱镜14a和14b、以及光栅14c。棱镜14a、棱镜14b和光栅14c分别被支承于未图示的保持架。棱镜14a、棱镜14b和光栅14c构成本公开的波长选择元件。
棱镜14b构成为能够通过旋转台14d调节姿态,该旋转台14d具有与V方向平行的旋转轴。旋转台14d被驱动器14e驱动。
光栅14c的表面的物质由高反射率的材料构成,在表面以规定间隔形成有多个槽。各槽的方向与V方向平行。各槽的与HZ面平行的截面的形状例如为直角三角形。
谱宽度可变部15是使激光谐振器内的激光的波面可变的波面可变部,包含平凸柱面透镜151和平凹柱面透镜152。平凹柱面透镜152被配置于比平凸柱面透镜151更接近腔10的位置。以平凸柱面透镜151的柱面凸面153和平凹柱面透镜152的柱面凹面154相面对的方式配置这些透镜。平凸柱面透镜151相当于本公开中的第1光学元件,平凹柱面透镜152相当于本公开中的第2光学元件。
平凸柱面透镜151的柱面凸面153的中心轴与V方向平行。平凸柱面透镜151的平面与Z方向垂直。在平凸柱面透镜151的平面涂布有部分反射膜。
平凹柱面透镜152的柱面凹面154的中心轴与V方向平行。平凹柱面透镜152的平面与Z方向垂直。平凹柱面透镜152能够通过移动装置50向+Z方向或-Z方向移动。移动装置50被驱动器65驱动。
在腔10与窄带化模块14之间配置有限制波束宽度的缝板10c。在腔10与谱宽度可变部15之间配置有限制波束宽度的缝板10d。
1.1.3传感器单元
传感器单元16包含分束器16a、16b和16c、脉冲能量检测器16d、谱宽度检测器16e和波长检测器16f。
分束器16a被配置于谱宽度可变部15与曝光装置4之间的脉冲激光的光路上。分束器16a构成为使从谱宽度可变部15输出的脉冲激光以高透射率透射,并反射从谱宽度可变部15输出的脉冲激光的一部分。
分束器16b被配置于由分束器16a反射后的脉冲激光的光路上。分束器16b构成为使由分束器16a反射后的脉冲激光的一部分透射,并反射由分束器16a反射后的脉冲激光的另一部分。
分束器16c被配置于透射过分束器16b的脉冲激光的光路上。分束器16c构成为使透射过分束器16b的脉冲激光的一部分透射,并使透射过分束器16b的脉冲激光的另一部分反射。
脉冲能量检测器16d被配置于由分束器16b反射后的脉冲激光的光路上。脉冲能量检测器16d由光电二极管、光电管或热电元件构成。
谱宽度检测器16e被配置于由分束器16c反射后的脉冲激光的光路上。谱宽度检测器16e包含标准具分光器。
波长检测器16f被配置于透射过分束器16c的脉冲激光的光路上。波长检测器16f包含标准具分光器。
1.1.4激光控制部
曝光装置4包含曝光装置控制部40。曝光装置控制部40构成为进行后述工件台WT的移动等的控制。曝光装置控制部40对激光控制部30输出目标脉冲能量的数据、目标谱宽度的数据、目标波长的数据和触发信号。
激光控制部30包含脉冲能量控制部30a、谱宽度控制部30b和波长控制部30c。脉冲能量控制部30a、谱宽度控制部30b和波长控制部30c分别构成为被载入激光控制部30中包含的未图示的存储器中的程序模块。
1.2窄带化激光装置的动作
1.2.1腔和脉冲功率模块
激光控制部30从曝光装置控制部40接收触发信号。激光控制部30根据从曝光装置控制部40接收到的触发信号向脉冲功率模块13发送触发信号。
脉冲功率模块13从激光控制部30接收到触发信号后,根据充电器12中被充电的电能生成脉冲状的高电压,将该高电压施加给一对放电电极11a和11b之间。
当对一对放电电极11a和11b之间施加高电压后,在一对放电电极11a和11b之间引起放电。通过该放电的能量,腔10内的激光气体被激励,跃迁到高能级。然后,被激励的激光气体跃迁到低能级时,放出与该能级差对应的波长的光。
腔10内产生的光经由窗口10a和10b向腔10的外部射出。
1.2.2激光谐振器
棱镜14a和14b使从腔10的窗口10a射出的光的H方向的波束宽度扩大,使该光入射到光栅14c。此外,棱镜14a和14b使来自光栅14c的反射光的H方向的波束宽度缩小,并且使该光经由窗口10a返回到腔10内的放电空间。
光栅14c使经由棱镜14a和14b入射的光在与HZ面平行的面内向与光的波长对应的方向衍射。光栅14c被进行利特罗配置,以使经由棱镜14a和14b入射到光栅14c的光的入射角和期望波长的衍射光的衍射角一致。由此,期望波长附近的光经由棱镜14a和14b返回到腔10。
旋转台14d对棱镜14b的姿态进行调节,由此,经由棱镜14a和14b入射到光栅14c的光的入射角被变更。由此,由窄带化模块14选择的光的波长被变更。
包含平凸柱面透镜151的谱宽度可变部15使从腔10的窗口10b射出的光中的一部分透射而进行输出,使另一部分反射而返回到腔10。
这样,从腔10射出的光在窄带化模块14与谱宽度可变部15之间往复。该光每当通过一对放电电极11a和11b之间的放电空间时被放大。此外,该光每当在窄带化模块14折返时被窄带化。进而,通过上述窗口10a和10b的配置,选择H方向的偏振成分。这样进行激光振荡而被窄带化的光作为激光从谱宽度可变部15输出。
移动装置50使平凹柱面透镜152向+Z方向或-Z方向移动,由此,从谱宽度可变部15返回到腔10的光的波面的与HZ面平行的截面的形状变化。由此,入射到光栅14c的光的波面变化,由窄带化模块14选择的光的谱宽度被变更。
1.2.3传感器单元
传感器单元16中包含的脉冲能量检测器16d检测由分束器16b反射后的脉冲激光的脉冲能量。脉冲能量检测器16d将检测到的脉冲能量的数据输出到激光控制部30。
传感器单元16中包含的谱宽度检测器16e检测由分束器16c反射后的脉冲激光的谱宽度。谱宽度检测器16e将检测到的谱宽度的数据输出到激光控制部30。
传感器单元16中包含的波长检测器16f检测透射过分束器16c的脉冲激光的波长。波长检测器16f检测的波长可以是峰值波长或重心波长,也可以是峰值的半值处的2个波长的平均值。波长检测器16f将检测到的波长的数据输出到激光控制部30。
1.2.4激光控制部
激光控制部30中包含的脉冲能量控制部30a根据从脉冲能量检测器16d接收到的脉冲能量的数据和从曝光装置控制部40接收到的目标脉冲能量的数据,设定充电器12的充电电压。由此,从窄带化激光装置输出的脉冲激光的脉冲能量接近目标脉冲能量。
激光控制部30中包含的谱宽度控制部30b根据从谱宽度检测器16e接收到的谱宽度的数据和从曝光装置控制部40接收到的目标谱宽度的数据,经由驱动器65对谱宽度可变部15进行控制。由此,从窄带化激光装置输出的脉冲激光的谱宽度接近目标谱宽度。
激光控制部30中包含的波长控制部30c根据从波长检测器16f接收到的波长的数据和从曝光装置控制部40接收到的目标波长的数据,经由驱动器14e对旋转台14d进行控制。由此,从窄带化激光装置输出的脉冲激光的波长接近目标波长。
1.3谱宽度可变部中包含的移动装置
1.3.1结构
图2A~图2C示出比较例中的谱宽度可变部15的具体结构。图2A是在-V方向上观察谱宽度可变部15的局部剖视图,相当于从与图1相同的方向观察的图。图2B是在-H方向上观察谱宽度可变部15的图。图2C是在+Z方向上观察谱宽度可变部15的图。
谱宽度可变部15中包含的移动装置包含第1保持部51、第2保持部52、第1轨道531、第2轨道532和弹性部件54。
第1保持部51包含透镜保持部511和轨道保持部512。如图2A所示,第1保持部51通过透镜保持部511和轨道保持部512构成为大致L字型。透镜保持部511保持平凸柱面透镜151的端部。轨道保持部512保持构成引导部的第1轨道531和第2轨道532。
第1轨道531和第2轨道532各自的长度方向与Z方向平行。
第2保持部52包含透镜保持部521、倾斜面结构部522、第1引导跟随部525和第2引导跟随部526。透镜保持部521保持平凹柱面透镜152的端部。倾斜面结构部522位于透镜保持部521的+H方向侧。倾斜面结构部522具有倾斜面529。倾斜面529相对于V方向和Z方向双方倾斜,与H方向平行。第1引导跟随部525和第2引导跟随部526位于透镜保持部521的-H方向侧。第1引导跟随部525构成为沿着第1轨道531移动。第2引导跟随部526构成为沿着第2轨道532移动。
弹性部件54例如由螺旋弹簧构成。弹性部件54位于第1保持部51的透镜保持部511与第2保持部52的透镜保持部521之间。在透镜保持部511和透镜保持部521分别形成有收容弹性部件54的端部的凹陷,以规定弹性部件54的两端的位置。
谱宽度可变部15中包含的移动装置还包含轮子61、连杆部62、致动器63和固定部64。
轮子61位于连杆部62的前端。轮子61构成为能够绕与H方向平行的旋转轴旋转。连杆部62包含第1连杆621、第2连杆622和连结部623。在第1连杆621的前端支承有轮子61。第2连杆622被支承于致动器63。第1连杆621和第2连杆622通过连结部623连结。连杆部62的长度方向与V方向平行。连结部623构成为能够手动调整连杆部62的长度。
致动器63被支承于固定部64。固定部64的相对于第1保持部51的相对位置被未图示的部件固定。致动器63构成为能够使连杆部62和轮子61相对于固定部64向+V方向和-V方向移动。例如,致动器63能够使连杆部62和轮子61移动,以使轮子61与倾斜面529相切。致动器63被上述驱动器65驱动。
1.3.2动作
当倾斜面529被按压后,第2保持部52沿着第1轨道531和第2轨道532移动。倾斜面529被按压时的第2保持部52的移动方向是接近第1保持部51的方向、即+Z方向。由此,平凹柱面透镜152向接近平凸柱面透镜151的方向移动。此外,此时,弹性部件54被压缩。
当针对倾斜面529的按压力减小后,通过弹性部件54的反作用力,第2保持部52沿着第1轨道531和第2轨道532向-Z方向移动。由此,平凹柱面透镜152向远离平凸柱面透镜151的方向移动。
按压倾斜面529的力通过致动器63经由连杆部62和轮子61提供到倾斜面529。致动器63使轮子61向-V方向移动,由此,倾斜面529被按压,第2保持部52和平凹柱面透镜152向+Z方向移动。致动器63使轮子61向+V方向移动,由此,通过弹性部件54的反作用力,第2保持部52和平凹柱面透镜152向-Z方向移动。通过使轮子61的移动方向相对于平凹柱面透镜152的移动方向垂直,能够提高致动器63的配置的自由度。
1.4课题
在平凹柱面透镜152被移动时,平凹柱面透镜152的姿态被第1轨道531和第2轨道532限制。即,大致维持柱面凹面154的中心轴与V方向平行的状态,大致维持平凹柱面透镜152的平面与Z方向垂直的状态。
但是,当为了高速控制谱线宽度而使第2保持部52高速移动时,针对第2保持部52的负荷增大。由此,第2保持部52有时弹性变形。当第2保持部52弹性变形时,平凹柱面透镜152的姿态有时变化。
特别是在平凹柱面透镜152的姿态的变化包含绕与V方向平行的轴的旋转成分的情况下,入射到光栅14c的光的入射角被变更。由此,由窄带化模块14选择的光的波长变化。优选波长控制部30c对窄带化模块14进行控制,由此,这种平凹柱面透镜152的姿态的变化引起的波长的变化收敛于期望的范围内。
但是,在高速控制谱线宽度的情况下,窄带化模块14的控制有时未充分追随于平凹柱面透镜152的姿态的变化引起的波长的变化。
在以下说明的实施方式中,减少平凹柱面透镜152的姿态的变化,实现波束特性的高精度控制。
2.将弹性部件配置于第1面内的移动装置
2.1结构
图3A~图3C示出本公开的第1实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。图3A是在-V方向上观察谱宽度可变部15的局部剖视图,相当于从与图1和图2A相同的方向观察的图。图3B是在-H方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2B相同的方向观察的图。图3C是在+Z方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2C相同的方向观察的图。
第1实施方式中的谱宽度可变部15包含与参照图2A~图2C说明的比较例中的谱宽度可变部15相同的结构要素。在第1实施方式中的谱宽度可变部15中,与比较例中的谱宽度可变部15的不同之处在于弹性部件54的位置。
在第1实施方式中,设与倾斜面529垂直交叉且与Z方向平行的面为第1面P1。第1面P1与VZ面平行。在图3A和图3C中,图示为第1面P1在倾斜面529的中心处与倾斜面529交叉,但是,本公开不限于此。第1面P1是在倾斜面529的某位置处与倾斜面529垂直交叉且与Z方向平行的面即可。
在第1实施方式中,弹性部件54被配置于第1面P1通过的位置。与此相伴,为了收容弹性部件54的端部而分别形成于透镜保持部511和透镜保持部521的凹陷的位置也与比较例中的凹陷的位置不同。
关于其他方面,第1实施方式与比较例相同。
2.2作用
第2保持部52承受来自轮子61的按压力和来自弹性部件54的反作用力。这些力根据第2保持部52的位移量、第2保持部52的加速度等而变动。在上述比较例中,这些力的作用线分别位于与VZ面平行的各个面内。即,在比较例中,这些力的作用线位于H方向上不同的面内。因此,伴随着这些力的变动,在第2保持部52中产生绕与V方向平行的轴的力偶。由此,平凹柱面透镜152的姿态绕与V方向平行的轴变化,由窄带化模块14选择的光的波长有时变化。
与此相对,在第1实施方式中,在第1面P1通过的位置配置有弹性部件54。由此,第2保持部52从轮子61承受的按压力的作用线和第2保持部52从弹性部件54承受的反作用力的作用线位于与VZ面平行的大致相同的面内。由此,第2保持部52中的绕与V方向平行的轴的力偶减少。因此,即使第2保持部52弹性变形而使平凹柱面透镜152的姿态变化,绕与V方向平行的轴的旋转成分也减少。由此,由窄带化模块14选择的光的波长的变化减少。
3.将弹性部件配置于第1直线上的移动装置
3.1结构
图4A~图4C示出本公开的第2实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。图4A是在-V方向上观察谱宽度可变部15的局部剖视图,相当于从与图1、图2A和图3A相同的方向观察的图。图4B是在-H方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2B和图3B相同的方向观察的图。图4C是在+Z方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2C和图3C相同的方向观察的图。
第2实施方式中的谱宽度可变部15包含与参照图2A~图2C说明的比较例和参照图3A~图3C说明的第1实施方式中的谱宽度可变部15相同的结构要素。第2实施方式中的谱宽度可变部15与比较例和第1实施方式中的谱宽度可变部15的不同之处在于弹性部件54的位置。
在第2实施方式中,设与倾斜面529交叉且与Z方向平行的直线为第1直线L1。如图4A所示,第1直线L1位于第1面P1内。在图4A和图4B中,图示为第1直线L1在从倾斜面529的中心稍微向-V方向和-Z方向偏移的位置处与倾斜面529交叉,但是,本公开不限于此。第1直线L1是在倾斜面529的某位置处与倾斜面529交叉且与Z方向平行的直线即可。
在第2实施方式中,弹性部件54被配置于第1直线L1通过的位置。与此相伴,为了收容弹性部件54的端部而形成于透镜保持部511的凹陷的位置也与第1实施方式中的凹陷的位置不同。此外,用于收容弹性部件54的另一个端部的凹陷形成于倾斜面结构部522而不是形成于透镜保持部521。
关于其他方面,第2实施方式与第1实施方式相同。
3.2作用
第2保持部52从轮子61承受的按压力能够分成+Z方向的分力和-V方向的分力。这些分力中的+Z方向的分力使第2保持部52向+Z方向移动。在上述第1实施方式中,第2保持部52从轮子61承受的按压力的+Z方向的分力的作用线和第2保持部52从弹性部件54承受的反作用力的作用线在第1面P1内位于在V方向上错开的位置处。因此,伴随着这些力的变动,在第2保持部52的倾斜面结构部522中产生了绕与H方向平行的轴的力偶。当在第2保持部52的倾斜面结构部522中产生绕与H方向平行的轴的力偶时,第2保持部52扭转,平凹柱面透镜152的姿态变化。第2保持部52扭转所引起的平凹柱面透镜152的姿态的变化有时包含绕与V方向平行的轴的旋转成分。
与此相对,在第2实施方式中,在第1直线L1通过的位置配置有弹性部件54。由此,第2保持部52从轮子61承受的按压力的+Z方向的分力的作用线和第2保持部52从弹性部件54承受的反作用力的作用线在V方向上的错开量减少。由此,第2保持部52的倾斜面结构部522中的绕与H方向平行的轴的力偶减少。因此,第2保持部52的扭转减少,平凹柱面透镜152的姿态的变化减少。即使平凹柱面透镜152的姿态变化,绕与V方向平行的轴的旋转成分也减少。由此,由窄带化模块14选择的光的波长的变化减少。
4.将构成引导部的轨道配置于第1面内的移动装置
4.1结构
图5A~图5C示出本公开的第3实施方式中的谱宽度可变部15的具体结构。图5A是在-V方向上观察谱宽度可变部15的局部剖视图,相当于从与图1、图2A、图3A和图4A相同的方向观察的图。图5B是在-H方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2B、图3B和图4B相同的方向观察的图。图5C是在+Z方向上观察谱宽度可变部15的图,相当于从与图2C、图3C和图4C相同的方向观察的图。
第3实施方式中的谱宽度可变部15与第2实施方式中的谱宽度可变部15的不同之处在于第1轨道531和第2轨道532的位置。
在第3实施方式中的谱宽度可变部15中,第1保持部51包含透镜保持部513和轨道保持部514。如图5B所示,第1保持部51通过透镜保持部513和轨道保持部514构成为大致L字型。透镜保持部513保持平凸柱面透镜151的端部。轨道保持部514保持构成引导部的第1轨道531和第2轨道532。此外,在轨道保持部514形成有沿着第2保持部52的移动方向的槽519。
如图5C所示,第2保持部52在透镜保持部521的-H方向侧和+H方向侧分别具有第1突起部527和第2突起部528。在第1突起部527的-V方向侧和第2突起部528的-V方向侧分别固定有第1引导跟随部525和第2引导跟随部526。第1引导跟随部525相当于本公开中的第1部分,第2引导跟随部526相当于本公开中的第2部分。倾斜面结构部522固定于第2突起部528的+V方向侧。倾斜面结构部522位于离开透镜保持部521的位置。
在第3实施方式中,设与倾斜面529交叉且与V方向平行的直线为第2直线L2。如图5C所示,第2直线L2位于第1面P1内。在图5B和图5C中,图示为第2直线L2在倾斜面529的中心处与倾斜面529交叉,但是,本公开不限于此。第2直线L2是在倾斜面529的某位置处与倾斜面529交叉且与V方向平行的直线即可。
在第3实施方式中,第2轨道532被配置于第1面P1通过的位置。
进而,优选第2轨道532被配置于第2直线L2通过的位置。
此外,优选平凹柱面透镜152位于第1引导跟随部525与第2引导跟随部526之间。
关于其他方面,第3实施方式与第2实施方式相同。
4.2作用
在上述第2实施方式中,第2保持部52的透镜保持部521有时由于倾斜面结构部522从轮子61承受的按压力中的-V方向的分力而弹性变形。当透镜保持部521弹性变形时,平凹柱面透镜152的姿态变化。平凹柱面透镜152的姿态的变化有时包含绕与V方向平行的轴的旋转成分。
与此相对,在第3实施方式中,在第1面P1通过的位置配置有第2轨道532。由此,能够利用被配置于第1面P1通过的位置的第2轨道532承受倾斜面结构部522从轮子61承受的按压力中的-V方向的分力。此外,倾斜面结构部522固定于第2突起部528,而不是直接固定于透镜保持部521,因此,即使倾斜面结构部522弹性变形,对透镜保持部521的影响也较少。由此,抑制了透镜保持部521的弹性变形,抑制了平凹柱面透镜152的姿态的变化。
此外,在第3实施方式中,在第2直线L2通过的位置配置有第2轨道532。由此,第2保持部52的倾斜面结构部522中的绕与H方向平行的轴的力偶减少。因此,倾斜面结构部522和第2突起部528的弹性变形减少,平凹柱面透镜152的姿态的变化减少。
此外,在第3实施方式中,平凹柱面透镜152位于第1引导跟随部525与第2引导跟随部526之间。由此,能够在接近平凹柱面透镜152的重心的位置支承第2保持部52,即使使第2保持部52高速移动,也能够抑制平凹柱面透镜152的姿态的变化。
由此,由窄带化模块14选择的光的波长的变化减少。
5.其他
图6概略地示出与窄带化激光装置1连接的曝光装置4的结构。如上所述,窄带化激光装置1生成激光并将其输出到曝光装置4。
在图6中,曝光装置4包含照明光学系统41和投影光学系统42。照明光学系统41通过从窄带化激光装置1入射的激光对掩模版台RT的掩模版图案进行照明。投影光学系统42对透射过掩模版的激光进行缩小投影,使其在被配置于工件台WT上的未图示的工件上成像。工件是被涂布了光刻胶的半导体晶片等感光基板。曝光装置4使掩模版台RT和工件台WT同步地平行移动,由此在工件上曝光反映了掩模版图案的激光。通过以上这种曝光工序在半导体晶片上转印器件图案,由此,能够制造电子器件。
上述说明不是限制,而是简单的例示。因此,本领域技术人员明白能够在不脱离权利要求书的情况下对本公开的实施方式施加变更。此外,本领域技术人员还明白组合使用本公开的实施方式。
只要没有明确记载,则本说明书和权利要求书整体所使用的用语应该解释为“非限定性”用语。例如,“包含”或“所包含”这样的用语应该解释为“不限于记载为所包含的部分”。“具有”这样的用语应该解释为“不限于记载为所具有的部分”。此外,不定冠词“一个”应该解释为意味着“至少一个”或“一个或一个以上”。此外,“A、B和C中的至少一方”这样的用语应该解释为“A”“B”“C”“A+B”“A+C”“B+C”或“A+B+C”。进而,应该解释为还包含它们和“A”“B”“C”以外的部分的组合。

Claims (13)

1.一种光学元件的移动装置,其是在窄带化激光装置中的谱宽度可变部中使用的光学元件的移动装置,其中,
所述光学元件的移动装置具有:
第1保持部,其保持第1光学元件;
第2保持部,其保持第2光学元件,并具有相对于接近所述第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;
引导部,其能够与所述第1方向平行地移动所述第2保持部;以及
弹性部件,其被配置于所述第1保持部与所述第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与所述倾斜面垂直地交叉且与所述第1方向平行,
所述弹性部件被配置于如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向平行且与所述倾斜面交叉,
所述引导部的至少一部分被配置于所述第1面通过且如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向垂直且与所述倾斜面交叉。
2.根据权利要求1所述的光学元件的移动装置,其中,
所述引导部的至少一部分被配置于所述第1面通过的位置。
3.根据权利要求2所述的光学元件的移动装置,其中,
所述引导部包含被保持于所述第1保持部的第1轨道和第2轨道,
所述第2保持部包含沿着所述第1轨道移动的第1部分和沿着所述第2轨道移动的第2部分,
所述第2光学元件被保持于所述第1部分与所述第2部分之间。
4.根据权利要求1所述的光学元件的移动装置,其中,
所述第1光学元件是柱面凸透镜,
所述第2光学元件是柱面凹透镜,
所述柱面凸透镜的柱面凸面的中心轴和所述柱面凹透镜的柱面凹面的中心轴与第2方向平行,该第2方向在所述第1面内与所述第1方向垂直。
5.根据权利要求1所述的光学元件的移动装置,其中,
所述光学元件的移动装置还具有:
轮子;
连杆部,其支承所述轮子;以及
致动器,其使所述连杆部移动,以使所述轮子按压所述倾斜面。
6.根据权利要求5所述的光学元件的移动装置,其中,
所述致动器使所述连杆部在第2方向上移动,该第2方向在所述第1面内与所述第1方向垂直。
7.一种窄带化激光装置,其具有:
激光谐振器;
腔,其被配置于所述激光谐振器,并收容激光气体;
一对电极,其被配置于所述腔;
波长选择元件,其被配置于所述激光谐振器;以及
谱宽度可变部,其被配置于所述激光谐振器,
其中,
所述谱宽度可变部具有:
第1光学元件;
第1保持部,其保持所述第1光学元件;
第2光学元件;
第2保持部,其保持所述第2光学元件,并具有相对于接近所述第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;
引导部,其能够与所述第1方向平行地移动所述第2保持部;以及
弹性部件,其被配置于所述第1保持部与所述第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与所述倾斜面垂直地交叉且与所述第1方向平行,
所述弹性部件被配置于如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向平行且与所述倾斜面交叉,
所述引导部的至少一部分被配置于所述第1面通过且如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向垂直且与所述倾斜面交叉。
8.根据权利要求7所述的窄带化激光装置,其中,
所述引导部的至少一部分被配置于所述第1面通过的位置。
9.根据权利要求8所述的窄带化激光装置,其中,
所述引导部包含被保持于所述第1保持部的第1轨道和第2轨道,
所述第2保持部包含沿着所述第1轨道移动的第1部分和沿着所述第2轨道移动的第2部分,
所述第2光学元件被保持于所述第1部分与所述第2部分之间。
10.根据权利要求7所述的窄带化激光装置,其中,
所述第1光学元件是柱面凸透镜,
所述第2光学元件是柱面凹透镜,
所述柱面凸透镜的柱面凸面的中心轴和所述柱面凹透镜的柱面凹面的中心轴与第2方向平行,该第2方向在所述第1面内与所述第1方向垂直。
11.根据权利要求7所述的窄带化激光装置,其中,
所述窄带化激光装置还具有:
轮子;
连杆部,其支承所述轮子;以及
致动器,其使所述连杆部移动,以使所述轮子按压所述倾斜面。
12.根据权利要求11所述的窄带化激光装置,其中,
所述致动器使所述连杆部在第2方向上移动,该第2方向在所述第1面内与所述第1方向垂直。
13.一种电子器件的制造方法,其包含以下步骤:
通过窄带化激光装置生成激光;
将所述激光输出到曝光装置;以及
在所述曝光装置内在感光基板上曝光所述激光,以制造电子器件,
所述窄带化激光装置具有:
激光谐振器;
腔,其被配置于所述激光谐振器,并收容激光气体;
一对电极,其被配置于所述腔;
波长选择元件,其被配置于所述激光谐振器;以及
谱宽度可变部,其被配置于所述激光谐振器,
所述谱宽度可变部具有:
第1光学元件;
第1保持部,其保持所述第1光学元件;
第2光学元件;
第2保持部,其保持所述第2光学元件,并具有相对于接近所述第1保持部的第1方向倾斜的倾斜面;
引导部,其能够与所述第1方向平行地移动所述第2保持部;以及
弹性部件,其被配置于所述第1保持部与所述第2保持部之间的、第1面通过的位置,该第1面与所述倾斜面垂直地交叉且与所述第1方向平行,
所述弹性部件被配置于如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向平行且与所述倾斜面交叉,
所述引导部的至少一部分被配置于所述第1面通过且如下直线通过的位置,该直线与所述第1方向垂直且与所述倾斜面交叉。
CN201780096537.4A 2017-12-07 2017-12-07 光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法 Active CN111566533B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2017/044076 WO2019111393A1 (ja) 2017-12-07 2017-12-07 光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111566533A CN111566533A (zh) 2020-08-21
CN111566533B true CN111566533B (zh) 2023-07-14

Family

ID=66750861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201780096537.4A Active CN111566533B (zh) 2017-12-07 2017-12-07 光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11081853B2 (zh)
JP (1) JP7231560B2 (zh)
CN (1) CN111566533B (zh)
WO (1) WO2019111393A1 (zh)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11352012A (ja) * 1998-06-11 1999-12-24 Nikon Corp 光学系の検査方法、光学系の製造方法及び露光装置の製造方法
AU2003246243A1 (en) * 2002-07-03 2004-01-23 Nikon Corporation Method of exposure and aligner
JP4563865B2 (ja) * 2005-05-17 2010-10-13 オリンパスイメージング株式会社 撮像装置
JP2009136050A (ja) * 2007-11-29 2009-06-18 Nidec Copal Corp 駆動装置
US8339503B2 (en) * 2008-09-10 2012-12-25 Panasonic Corporation Lens barrel and imaging device
JP2014048467A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Ricoh Co Ltd レンズ鏡胴
JP2015055799A (ja) * 2013-09-13 2015-03-23 Hoya株式会社 光学要素の駆動機構
WO2015133515A1 (ja) * 2014-03-07 2015-09-11 コニカミノルタ株式会社 レンズユニットおよび撮像装置
JP6585174B2 (ja) 2015-08-07 2019-10-02 ギガフォトン株式会社 狭帯域化レーザ装置
CN106824924A (zh) * 2017-02-14 2017-06-13 王建 一种用于机械零件的除尘散热一体化设备

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2019111393A1 (ja) 2020-12-24
JP7231560B2 (ja) 2023-03-01
WO2019111393A1 (ja) 2019-06-13
US11081853B2 (en) 2021-08-03
US20200280161A1 (en) 2020-09-03
CN111566533A (zh) 2020-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5157004B2 (ja) 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法
CN107534266B (zh) 激光装置和窄带化光学系统
CN107851958B (zh) 窄带化激光装置
CN113169510A (zh) 激光装置的波长控制方法和电子器件的制造方法
US9147993B2 (en) Master oscillator system and laser apparatus
CN110679045B (zh) 激光系统
CN110383606B (zh) 窄带化模块
US20230352900A1 (en) Laser apparatus and method of manufacturing electronic device
CN111566533B (zh) 光学元件的移动装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法
US10797465B2 (en) Laser apparatus
US20230208094A1 (en) Laser device and electronic device manufacturing method
JP5730428B2 (ja) 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法
CN109565144B (zh) 激光装置
US20240136787A1 (en) Gas laser device and electronic device manufacturing method
US20220385027A1 (en) Line narrowing device, electronic device manufacturing method
JP5580256B2 (ja) 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法
WO2021186739A1 (ja) 狭帯域化装置、及び電子デバイスの製造方法
US20230064314A1 (en) Line narrowing gas laser device, wavelength control method, and electronic device manufacturing method
US20230187892A1 (en) Line narrowing gas laser device and electronic device manufacturing method
CN116670592A (zh) 激光系统、谱波形计算方法和电子器件的制造方法
CN115997324A (zh) 激光装置、波长控制方法和电子器件的制造方法
CN117581430A (zh) 气体激光装置和电子器件的制造方法
CN116491034A (zh) 具有增加的波长分离的多焦点成像
CN117397134A (zh) 波长控制方法、激光装置和电子器件的制造方法
CN117099274A (zh) 波长计测装置、窄带化激光装置和电子器件的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant