CN104699308B - 一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置。制作方法包括形成连接线、黑矩阵、隔离膜、多条第一触控电极以及多条第二触控电极的步骤;其中,所述第一触控电极包括多个相互隔断的第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接线桥接,所述第二触控子电极通过所述隔离膜与所述连接线绝缘;所述黑矩阵和所述隔离膜通过一次构图工艺形成。本发明的方案可减少触控面的构图工艺,可减少制造时间,进而降低制造成本。

Description

一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置
技术领域
本发明涉及触摸屏领域,特别是一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置。
背景技术
目前的触控面板可以分为G-G结构和一体化触控(One Glass Solution,OGS)结构。其中,G-G结构是将触控传感器(Touch sensor)制作在普通玻璃上,然后和保护玻璃进行贴合,其优点是制造工艺简单,和阵列基板(Array)产线兼容性好;缺点是该结构是双层玻璃贴合,最后得到的G-G产品厚度较大,而且透过率偏低。OGS结构是直接在玻璃上形成起挡光作用的黑矩阵、起保护作用的有机树脂以及触控电极,相比于G-G结构,其优点是仅使用一张玻璃,因此结构简单、透过率高,且制作工艺中省掉一张玻璃基板以及贴合工序,有利于降低生产成本、提高产品良率。
如此,OGS将成为触控产业的主导技术方向。目前,即便OGS触摸面板的制作成本低于G-G触控面板,但其制作工序依包括有多道构图工艺,每道构图工艺不仅耗时长还极为昂贵。为此,减少现有OGS触摸面板的制作方法的构图工艺次数,成为了当前亟需解决的技术问题。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种触控面板的制作方法、触控面板及触控触控显示装置,能够减少了制造时间,进而降低制造成本。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供一种触控面板的制作方法,包括形成连接线、黑矩阵、隔离膜、多条第一触控电极以及多条第二触控电极的步骤;
所述第一触控电极包括多个相互隔断的第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接线桥接,所述第二触控子电极通过所述隔离膜与所述连接线绝缘;
所述黑矩阵和所述隔离膜通过一次构图工艺形成。
其中,上述制造方法包括下步骤:
通过一次构图工艺,在衬底基板上,形成第一触控电极和第二触控电极;
通过一次构图工艺,在形成有驱动电极和感应电极的衬底基板上,形成黑矩阵和隔离膜;
通过一次构图工艺,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,形成连接线。
或者,包括下步骤:
通过一次构图工艺,在衬底基板上,形成连接线;
通过一次构图工艺,在形成有连接线的衬底基板上,形成黑矩阵和隔离膜;
通过一次构图工艺,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,形成第一触控电极和第二触控电极。
其中,通过一次构图工艺形成黑矩阵和隔离膜包括:
形成具有绝缘性的黑矩阵材料层;
在黑矩阵材料层上涂布光刻胶;
利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光、显影,形成光刻胶全保留区和光刻胶去除区,其中,光刻胶全保留区对应黑矩阵和隔离膜图形区域,所述光刻胶去除区对应其他区域;
对所述光刻胶去除区的黑矩阵材料层进行刻蚀,形成由黑矩阵材料构成的黑矩阵以及隔离膜的图形;
去除剩余的光刻胶。
或者,通过一次构图工艺形成黑矩阵和隔离膜包括:
通过一次构图工艺形成黑矩阵和隔离膜包括:
依次形成透明绝缘材料层和黑矩阵材料层;
在所述黑矩阵材料层上涂布光刻胶;
利用半曝光掩膜板对所述光刻胶进行曝光并显影,形成光刻胶全保留区、光刻胶半保留区和光刻胶去除区,其中,光刻胶全保留区对应黑矩阵图形区域,所述光刻胶半保留区对应隔离膜图形区域,所述光刻胶去除区对应其他区域;
对所述光刻胶去除区的黑矩阵材料层和透明绝缘材料层进行刻蚀;
对所述光刻胶半保留区的光刻胶进行灰化;
对所述光刻胶半保留区的黑矩阵材料层进行刻蚀,形成只由透明绝缘材料层构成的隔离膜的图形和由透明绝缘材料层以及黑矩阵材料层构成的黑矩阵图形;
去除剩余的光刻胶。
此外,本发明的另一实施例还提供一种由上述制作方法得到的触控面板。
其中,所述触控面板额黑矩阵和隔离膜同层同材料设置。
此外,本发明的另一实施例还提供一种触控显示装置,包括上述触控面板。
本发明的上述技术方案的有益效果如下:
相比于现有技术,本发明触控面板的黑矩阵和隔离膜通过一道构图工艺形成,可减少了制造时间,进而降低制造成本。
附图说明
图1A-图1D为本发明的第一实现方式的制造方法中,通过第一次构图工艺形成第一触控电极和第二触控电极的触控面板示意图;
图2A-图2D为本发明的第一实现方式的制造方法中,通过第二次构图工艺形成黑矩阵以及隔离膜的触控面板示意图;
图3A-图3D为本发明的第一实现方式的制造方法中,为通过第三次构图工艺形成连接的触控面板示意图;
图4A-图4C为本发明的第二实现方式的制造方法中,通过第一次构图工艺形成连接线的触控面板示意图;
图5A-图5D为本发明的第二实现方式的制造方法中,通过第二次构图工艺形成黑矩阵以及隔离膜的触控面板示意图;
图6A-图6C为本发明的第二实现方式的制造方法中,通过第三次构图工艺形成第一触控电极和第二触控电极的触控面板示意图;
图7为通过本发明的制作方法,制造出的触控基板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
针对现有技术存在的问题,本发明提供一种触控面板的制作方法,包括形成连接线、黑矩阵、隔离膜、多条第一触控电极以及多条第二触控电极的步骤;
第一触控电极包括多个相互隔断的第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接线桥接,第二触控子电极通过所述隔离膜与所述连接线绝缘;
与现有技术不同的是,所述黑矩阵和所述隔离膜通过一次构图工艺形成。
相比于现有技术,本实施例的制作方法可节省了一道构图工艺,因此减少了制造时间以及用料,进而降低制造成本。
下面结合几个实现方式,对本发明的制作方法进行详细介绍。
实现方式一
在实现方式一中,制作方法仅需要3道构图工艺,包括:
第一次构图工艺:
参考图1A,在形成有消影层2的衬底基板1上(消影层是完全沉积在衬底基板上的,不需要构图工艺加工成图案),沉积透明导电层3(例如采用ITO材料);
参考图1B,在透明导电层3上涂布光刻胶6,利用掩膜板对所述光刻胶6进行曝光并显影,形成光刻胶6全保留区和光刻胶6去除区,其中,光刻胶6全保留区a对应第一子电极和直接相互连接的第二子电极图形区域,所述光刻胶6去除区b对应其他区域;
参考图1C,对所述光刻胶6去除区b的透明导电层进行刻蚀,并去除剩余的光刻胶6,形成第一子电极31和第二子电极32;
其中,图1D为对应于图1C的衬底基板俯视图,第一触控电极由相互隔断的第一子电极31构成,而第二触控电极由相互连通的第二子电极32构成;
第二次构图工艺:
参考图2A,在形成有第一触控电极和第二触控电极的衬底基板2上,形成具有绝缘性的黑矩阵材料层4;
参考图2B,在黑矩阵材料层上涂布光刻胶6,利用掩膜板对该光刻胶6进行曝光并显影,形成光刻胶6全保留区a和光刻胶6去除区b,其中,光刻胶6全保留区a对应黑矩阵和隔离膜图形区域,所述光刻胶6去除区b对应其他区域;
参考图2C,对所述光刻胶6去除区b的黑矩阵材料层进行刻蚀,并去除剩余的光刻胶6形成黑矩阵41以及隔离膜42的图形;
其中,图2D为对应于图2C的衬底基板俯视图,图中黑矩阵41位于非显示区域,隔离膜42覆盖第二子电极之间相互连接的部位。
第三次构图工艺:
参考图3A,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,沉积导电层5;其中,导电层5的材料可以是金属,之后形成的连接线对应为金属线;参考图3B,在导电层5上涂布光刻胶6,利用掩膜板对所述光刻胶6进行曝光并显影,形成光刻胶6全保留区和光刻胶6去除区,其中,光刻胶6全保留区a对连接线图形区域,光刻胶6去除区b对应其他区域;
参考图3C,对所述光刻胶6去除区b的导电层进行刻蚀,并去除剩余的光刻胶6,形成桥接第一子电极的连接线51。
其中,图3D为对应于图3C的衬底基板俯视图,连接线51与第二触控电极之间通过隔离膜隔断,从而使第一触控电极与第二触控电极相互绝缘。
以上是制作触控面板的全部构图工艺。在本实现方式一中,黑矩阵与隔离膜由同一材料制作而成,因此可以减少制作用料。此外,与现有技术不同是,本实现方式一首次提出3道构图工艺的制作方法,可极大提高触控面板的生产效率,进而减少制作成本。
实现方式二
在实现方式二中,提供另一种3构图工艺的制作方法,包括:
第一次构图工艺:
参考图4A,在形成有消影层2的衬底基板1上(消影层是完全沉积在衬底基板上的,不需要构图工艺加工成图案),沉积导电层5,该导电层5即实现方式一中用于制作连接线的材料层;
参考图4B,在透明导电层5上涂布光刻胶6,利用掩膜板对所述光刻胶6进行曝光并显影,形成光刻胶6全保留区和光刻胶6去除区,其中,光刻胶6全保留区a对连接线图形区域,所述光刻胶6去除区b对应其他区域;
参考图4C,对所述光刻胶6去除区b的透明导电层进行刻蚀,并去除剩余的光刻胶6,形成连接线51。
第二次构图工艺:
参考图5A,在形成有连接线的衬底基板2上,依次形成透明绝缘材料层4'和黑矩阵材料层4;
参考图5B,在黑矩阵材料层上涂布光刻胶6,形成光刻胶6全保留区x、光刻胶6半保留区y和光刻胶6去除区z,其中,光刻胶6全保留区x对应黑矩阵图形区域,所述光刻胶6半保留区y对应隔离膜图形区域,所述光刻胶6去除区z对应其他区域;
参考图5C,对光刻胶6去除区z的黑矩阵材料层和透明绝缘材料层进行刻蚀;
参考图5D,对光刻胶6半保留区y的光刻胶6进行灰化,之后对半保留区y的黑矩阵材料层进行刻蚀,并去所有剩余的光刻胶6,形成黑矩阵41和隔离膜42。
第三次构图工艺:
参考图6A,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,沉积透明导电层3;其中,透明导电层可以是如ITO、IZO等材料;
参考图6B,在导电层5上涂布光刻胶6,利用掩膜板对所述光刻胶6进行曝光并显影,形成光刻胶6全保留区和光刻胶6去除区,其中,光刻胶6全保留区a对连接线图形区域,光刻胶6去除区b对应其他区域;
参考图6C,对所述光刻胶6去除区b的透明导电层进行刻蚀,并去除剩余的光刻胶6,形成由第一子电极31组成的第一触控电极和直接相互连接的第二子电极所形成的第二触控电极。
以上是制作触控面板的全部构图工艺,最终制作出阵列图形的触控面板如图7所示。第一触控电极的各第一子电极31通过连接线51桥接。第二触控电极(由第二子电极32构成的)通过隔离膜42,与第一触控电极绝缘。在触控面板的边缘附近,即非显示区域,形成黑矩阵41。
在本实现方式二中,隔离膜采用透明材料制成,因此相比于实现方式一,在显示区域上具有更高的透光率。
综上实现方式一和实现方式二所述,本发明的制作方法仅需要3道构图工艺即可制作出触控面板,因此可以有效减少制作时间,进而降低制作成本。
此外,本发明的还提供一种由上述制作方法制造出的触控面板以及包含该触控面板的触控显示器。触控显示器可以是手机、PAD、电视等产品,并优选采用OGS一体化触控结构,即触控显示器的触控面板形成触控显示器的显示面板内侧上。其中,如图3C所示,触控面板的黑矩阵与隔离膜可以同层同材料设置。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种触控面板的制作方法,包括形成连接线、黑矩阵、隔离膜、多条第一触控电极以及多条第二触控电极的步骤;
所述第一触控电极包括多个相互隔断的第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接线桥接,所述第二触控子电极通过所述隔离膜与所述连接线绝缘;
其特征在于:
所述黑矩阵和所述隔离膜通过一次构图工艺形成,包括:
依次形成透明绝缘材料层和黑矩阵材料层;
在所述黑矩阵材料层上涂布光刻胶;
利用半曝光掩膜板对所述光刻胶进行曝光并显影,形成光刻胶全保留区、光刻胶半保留区和光刻胶去除区,其中,光刻胶全保留区对应黑矩阵图形区域,所述光刻胶半保留区对应隔离膜图形区域,所述光刻胶去除区对应其他区域;
对所述光刻胶去除区的黑矩阵材料层和透明绝缘材料层进行刻蚀;
对所述光刻胶半保留区的光刻胶进行灰化;
对所述光刻胶半保留区的黑矩阵材料层进行刻蚀,形成只由透明绝缘材料层构成的隔离膜的图形和由透明绝缘材料层以及黑矩阵材料层构成的黑矩阵图形;
去除剩余的光刻胶。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
通过一次构图工艺,在衬底基板上,形成第一触控电极和第二触控电极;
通过一次构图工艺,在形成有驱动电极和感应电极的衬底基板上,形成黑矩阵和隔离膜;
通过一次构图工艺,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,形成连接线。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
通过一次构图工艺,在衬底基板上,形成连接线;
通过一次构图工艺,在形成有连接线的衬底基板上,形成黑矩阵和隔离膜;
通过一次构图工艺,在形成有黑矩阵和隔离膜的衬底基板上,形成第一触控电极和第二触控电极。
4.一种触控面板,其特征在于,所述触控面板由权利要求1至3任一项所述的制作方法制成。
5.根据权利要求4所述的触控面板,其特征在于,所述黑矩阵和所述隔离膜同层同材料设置。
6.一种触控显示装置,其特征在于,包括如权利要求4或5所述的触控面板。
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