CN103358808B - 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品 - Google Patents

Abstract

本发明针对现有技术中的光学防伪元件制作难度高、工艺流程复杂、工艺可控性低和生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位的缺陷，提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品。根据本发明的光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层，其中，所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列，所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成，从而形成再现图像。

Description

一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品

技术领域

本发明涉及防伪领域，尤其涉及一种适用于钞票、信用卡、护照和有价证券等各类高安全产品和高附加值产品的光学防伪元件，还涉及使用该光学防伪元件的产品，诸如钞票、信用卡、护照和有价证券等。

背景技术

由于光学防伪元件具有独特的视觉效果和易识别性，所以被广泛应用于钞票、信用卡、护照和有价证券等高安全产品以及其它高附加值产品中。

CN101563640、CN101443692、CN101120139、CN101346244、US5712731、US0034082、US4765656、US4892336、CN1271106、CN1552589等专利文献中公开了同一类在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件，其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用来再现具有一定景深或呈现动态效果的图案。在这种结构的防伪元件中，微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内，因此在制作过程中，首先需要对微图文阵列和微透镜阵列分别进行原版制备，然后在生产中在薄膜基材的两侧上分别对微图文阵列和微透镜阵列进行批量复制。这种结构的防伪元件的缺陷在于：(1)该结构要求微透镜阵列、微图文阵列均为周期性排列，在制作原版时其周期误差在亚微米级，因此制作难度高；(2)在生产过程中，需要在基材的两个表面上依次分别进行加工，因此工艺流程复杂；(3)在生产过程中，需要解决微透镜阵列和微图文阵列的对位问题，因此工艺可控性低；(4)由于生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位，所以一些防伪效果无法达到预期甚至无法实现。

CN101563640公开了一种反射结构，在该反射结构中，将微透镜阵列和微图文阵列重叠制作在防伪元件的基材上，即微透镜阵列和微图文阵列位于基材的同一侧上，基材的另一侧上则镀有反射层，其中微图文阵列通过反射层所形成的虚像的位置位于微透镜阵列的焦平面附近，从而使微透镜阵列通过基材另一侧上的反射层对与其相邻层的微图文阵列进行成像。该防伪元件结构在生产时首先需要在基材上加工微图文阵列层，在此基础上再加工微透镜阵列层，其本质也属于微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内。因此该防伪元件结构仍然具有上文中提到的四点缺陷，并且，由于微图文阵列与微透镜阵列相互重叠、相互干扰，从而影响采样合成再现图像的像质，更进一步地降低了安全元件的防伪效果和实用价值。

发明内容

本发明针对现有技术中的上述缺点，提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品。

本发明提供一种光学防伪元件，所述光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层，其中，所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列，所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成，从而形成再现图像。

本发明还提供一种使用上述光学防伪元件的产品。

由于根据本发明的光学防伪元件和使用该光学防伪元件的产品包括微浮雕结构、基材和反射层，微浮雕结构位于基材的其中一侧上并且包括微图文阵列和微透镜阵列，而且微图文阵列嵌套在微透镜阵列中并且与微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合，而反射层则位于基材的另一层上，所以其具有以下优点：(1)微透镜阵列和微图文阵列可以在制作原版时一次成型，即在制作原版时即完成了微透镜阵列和微图文阵列的严格对位，不需要在后期生产过程中考虑对位问题，从而工艺可控性好，制作难度低；(2)在生产时只需在基材的一个表面上进行一次加工即可完成微透镜阵列和微图文阵列的制作，因此工艺流程简单；(3)由于保证了微图文阵列和微透镜阵列的严格对位，所以能够实现一些复杂的防伪效果。

附图说明

图1为根据本发明的光学防伪元件的一种实现方式的剖面图；

图2和图3分别示出了根据本发明的光学防伪元件中的微浮雕结构所包括的微透镜阵列和微图文阵列的一种排列方式；

图4为根据本发明的采用锯齿型反射层的光学防伪元件的剖面图；

图5为根据本发明的在微浮雕结构上覆盖有保护层的光学防伪元件的剖面图；

图6a-6d分别给出了根据本发明的由球面微透镜、椭球面微透镜、柱面微透镜、谐衍射微透镜、平面衍射微透镜、菲涅耳波带片组成的在平面内随机排列的微透镜阵列和相对应的微图文阵列所组成的微浮雕结构的光学防伪元件的平面俯视图、立体结构示意图和再现图像示意图。

具体实施方式

下面将结合附图来详细描述根据本发明的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品，以便更好地理解本发明的思想。应当理解，所述附图和详细描述只是对本发明优选实施方式的描述，并非以任何方式来限制本发明的范围。

如图1所示，根据本发明的光学防伪元件1包括基材2、位于所述基材2的第一表面上且至少部分覆盖所述基材2的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材2的第二表面上且至少部分覆盖所述基材2的第二表面的反射层5，其中，所述微浮雕结构包括微透镜阵列3以及嵌套在所述微透镜阵列3中且与所述微透镜阵列3位于同一平面内但与所述微透镜阵列3不重合的微图文阵列4，所述微透镜阵列3能够通过所述反射层5对所述微图文阵列4进行采样合成，从而形成再现图像。

图1中所示的微透镜阵列3为球面微透镜阵列，但是本领域技术人员应当理解，微透镜阵列3可以是由多个微透镜单元构成的非周期性阵列、随机性阵列、周期性阵列、局部周期性阵列或它们的任意组合，而且，微透镜单元并不局限于球面微透镜，其可以是折射型微透镜、衍射型微透镜或它们的任意组合，其中折射型微透镜可以选取球面微透镜、椭球面微透镜、柱面微透镜或其它任意几何形状的基于几何光学的微透镜，衍射型微透镜可以选取谐衍射微透镜、平面衍射微透镜、菲涅耳波带片，当然，除了菲涅耳波带片之外，还可以选择连续曲面型或阶梯型透镜作为微透镜单元。另外，微透镜阵列3可以由上述其中一种形式的微透镜构成或者可以由上述多种形式的微透镜构成。

依据微透镜阵列3的排列形式及所需再现的效果，所述微图文阵列4可以与所述微透镜阵列3相对应，并且根据本发明的微图文阵列4相对应的也可以为由多个微图文单元构成的非周期阵列、随机性阵列、周期性阵列、局部周期性阵列或它们的任意组合。

图2和图3分别示意性地示出了连续型球面微透镜阵列3和与之相对应并在同一微浮雕平面内的微图文阵列4的两种排列方式，其中图2和图3中所示的四边形/六边形周期性排列的微透镜阵列3与四边形/六边形周期性排列的微图文阵列4之间存在排列周期的微差或两阵列之间存在排列方向的相对微小错角，从而在采样合成再现的范围内，并特殊地进一步满足了莫尔放大的条件。莫尔放大原理描述了周期性排列的两阵列之间产生的一种常见的光学现象。下面简单地描述莫尔放大原理。

当微透镜阵列3与微图文阵列4的排列周期分别为L_len和L_letter时，莫尔放大倍数为m＝L_len/|L_len-L_letter|，若L_len＞L_letter则人眼观察到的莫尔放大效果为下沉的图像，若L_len＜L_letter则人眼观察到的莫尔放大效果为上浮的图像。当微透镜阵列3与微图文阵列4的排列周期完全相同但存在两阵列的排列方向之间的微小角度差α时，相应地，莫尔放大倍数为m＝0.5/sin(α/2)，此时人眼观察到莫尔放大效果为移动方向与观察者视角偏移方向相正交的图像动感效果。应当理解的是，可以根据产品要求，基于莫尔放大原理来任意设定微透镜阵列3和与之相对应的微图文阵列4的排列方式。

优选地，当所设计的微透镜阵列3和微图文阵列4存在重合区域时，通常优先保证微透镜阵列3的完整性。如图2和图3中，微图文阵列4存在与微透镜阵列3之间的周期差或阵列间角度差，因此必然存在微透镜阵列3与微图文阵列4的重合区域，此时微透镜阵列3将占据部分微图文阵列4的区域。将重叠部分的微图文阵列4略去能够消除微透镜阵列3与微图文阵列4之间的相互干扰。而且，微图文阵列4和微透镜阵列3可以以相互穿插或区域分割的方式共同存在于同一平面内。

优选地，微浮雕结构与反射层5之间的距离大约为微透镜阵列3的焦距的1/2，这样，微透镜阵列3就能够对微图文阵列4在反射层5中的虚像进行采样合成以形成再现图像，当所述光学防伪元件1的反射层5为平面镜面反射结构时，微图文阵列4在微透镜阵列3所在的区域的正下方没有虚像，因此在微透镜阵列3上方的一定角度范围内无法观察到莫尔放大再现图像，即观察角度必须满足一定的条件才能观察到再现图像。令观察角度θ为观察方向与光学防伪元件1的平面法线方向的夹角，基材2的厚度为d，球面微透镜3的直径为r，则观察角度θ≥arctan(0.25r/d)为能够观察到莫尔放大再现图像的必要条件，即当以观察角度θ≥arctan(0.25r/d)观察时可以透过微透镜阵列3再现由反射层5所成的微图文阵列4的像，所形成的莫尔放大图像随着观察角度θ的改变可具有图像变换、位置移动或景深变化等的效果。另外，由于微浮雕结构与反射层5之间的距离大约为微透镜阵列3的焦距的1/2左右，因此所述基材2的厚度也为所述微透镜阵列3的焦距的1/2左右，使得能够保证根据本发明的光学防伪元件产品对厚度控制的要求，即使得根据本发明的该光学防伪元件的厚度更薄，方便了该光学防伪元件的应用，使得根据本发明的光学防伪元件特别适合于开窗安全线。

各种莫尔放大图像效果的设计方法与背景技术中介绍的微透镜阵列与微图文阵列分别在各自平面内的结构所对应的莫尔放大图像效果的设计方法相同。但是需要强调的是，由于根据本发明的光学防伪元件1中的微透镜阵列3与微图文阵列4所组成的微浮雕结构可以通过一次原版制作完成，因此能够准确控制微透镜阵列3和微图文阵列4在光学防伪元件1的平面内的相对位置关系，从而能够容易地控制任意选取的观察角度下的莫尔放大图像内容的确定性。

优选地，根据本发明的周期性或局部周期性微透镜阵列3和微图文阵列4的周期为10微米至200微米，优选为40微米至100微米；微透镜阵列3的焦距可以为10微米至200微米，优选为20微米至60微米。由于微浮雕结构与反射层5之间的距离优选大约为微透镜阵列3的焦距的1/2左右，所以基材2的厚度可以为5微米至100微米，优选为10微米至30微米。优选地，根据本发明的微浮雕结构的加工深度小于15微米，优选为0.5微米至10微米。

另外，包括微透镜阵列3和微图文阵列4的微浮雕结构的原版可以通过微加工工艺来实现，具体来说，可以通过光学曝光、电子束曝光等工艺实现，还可以结合热熔回流等工艺来实现，但是应当理解，它们的实现方法并不局限于上述方法。

优选地，根据本发明的光学防伪元件1中的基材2可以是至少局部透明的无色或有色介质层，而且基材2可以是一层单一的透明介质薄膜，例如采用PET膜、PVC膜等，当然也可以是表面带有功能涂层(比如压印层)的透明介质薄膜，还可以是经过复合而成的多层膜。

优选地，根据本发明的反射层5可以用涂布、印刷、沉积等方式实现，反射层5所采用的材料可以是金属、介质或它们的任意组合，反射层5的结构可以是由金属、介质或它们的任意组合构成的单层结构或多层结构。其中，金属可以采用铝、金、银、铬、铁等材料，当然也可以采用合金；介质可以采用MgF₂、LiF、SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZnS、Si₃N₄等材料。当然，本领域技术人员应当理解，所述的金属和介质材料并不局限于上面所述的材料，其他金属和介质也是可以选择的。

优选地，反射层5中还可以形成有镂空图案，其中所述镂空图案可以为宏观图案、微文字、精细线条等，从而能够实现更好的防伪效果。

优选地，反射层5可以为能够按需求对反射光进行调制的浮雕结构，包括平面、曲面形状结构或它们的任意组合，例如，反射层5可以是锯齿型、平面微反射镜型、正弦型反射面，采用这样的反射层5的优势在于能够控制采样合成所形成的再现图像的观察角度。

例如，图4示出了根据本发明的反射层5为锯齿型反射结构的光学防伪元件1的剖面图。入射光从位于基材2的第一表面上的微浮雕结构入射至位于基材2的第二表面上的反射层5后的出射方向由锯齿型反射层5的斜面倾角β决定。锯齿形反射层5的一个优势是能够控制采样合成再现图像的观察角度，例如，对于图4所示的锯齿型反射层5而言，在光学防伪元件1的法线左侧的观察角度范围可表征为观察角与元件法线方向夹角≥[arctan(0.25r/d)+β]，相应地，在元件法线右侧的观察角度范围可表征为观察角与元件法线方向夹角≥[arctan(0.25r/d)-β]。

另外，位于所述光学防伪元件1的基材2的第二表面上的用于调制反射光方向的反射层5的原版可以通过微加工工艺来实现，具体来说，可以通过光学曝光、电子束曝光等工艺来实现，当然还可以结合热熔回流等工艺来实现，但是其实现方法并不局限于上述方法。而在制作光学防伪元件1时，则可以通过将反射层5的原版通过UV压印工艺复制到基材2的第二表面上，从而在基材2的第二表面上形成反射层5。

优选地，可以在微浮雕结构的表面上覆盖保护层6(如图5所示)，以对根据本发明的微浮雕结构进行保护，从而增加根据本发明的光学防伪元件1的使用寿命。其中，保护层6可以通过涂布、印刷、沉积、填埋等工艺形成，并且其可以是一层或多层结构，而且保护层6优选是透明的。当保护层6直接覆盖所述微浮雕结构时，保护层6的折射率小于微浮雕结构的折射率，并且两者的折射率的差值大于或等于0.3；而当保护层6在深度上并未完全覆盖微浮雕结构时，保护层6与微浮雕结构之间的折射率可以不受限制。

当然，图5所示的保护层6还可以兼具增加颜色效果的功能，从而提高采样合成再现图像的表现力。应当理解的是，增加颜色效果的功能可以通过与保护层相分离的功能层来单独实现，即不将增加颜色效果的功能集成到保护层6中，而是用单独的功能层来实现，其中，该功能层可以是一层或多层结构，并且该功能层也可以通过涂布、印刷、喷墨、染色、沉积等方式实现，功能层的材料可以选用但并不局限于油墨、颜料、染料、液晶、荧光材料等。应当理解的是，该功能层可以位于所述微浮雕结构的上表面、所述微浮雕结构的下表面、所述基材中、所述反射层的上表面、所述反射层中、所述反射层的下表面等中的一者或多者上，并且该功能层可以具有衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征、荧光特征、用于机读的磁、光、电、放射性特征等中一个或多个特征。

优选地，根据本发明的光学防伪元件1的一面或两面上可以涂布粘结层，以便能够将根据本发明的光学防伪元件1与被保护的对象粘结在一起。具体实施时，可以将粘结胶涂布于上述的任何一种光学防伪元件1的第一和/或第二表面上，粘结层可以覆盖其所涂布的表面的部分或全部。当粘结层与根据本发明的微浮雕结构直接接触时，粘结层的折射率小于微浮雕结构的折射率，并且两者的折射率的差值大于或等于0.3。

下面结合图6a-6d对根据本发明的光学防伪元件1的有益效果作进一步的说明。图6a-6d示意性地示出了由球面微透镜7、椭球面微透镜8、柱面微透镜9、谐衍射微透镜10、平面衍射微透镜11、菲涅耳波带片12组成的在平面内随机排列的微透镜阵列3和相对应的微图文阵列4所组成的微浮雕结构的平面俯视图(图6a)、立体结构示意图(图6b)和人眼观察到的采样合成再现图像示意图(图6c和6d)。图6a-6d中的“a、b、c、d、e、f”的实心和空心字符象征性地代表微图文阵列3的微图文单元(或称像素)。其中图6c和6d示意性地分别示出了在观察角度μ和v下人眼所观察到的再现图像13和再现图像14，而忽略其它观察角度下所对应的微图文阵列情况以及再现图像情况。图6c和6d还分别针对μ和v两个观察角度标明了从微图文透射的光线被微透镜收集的路径。

图6a-6d的示例可以进一步说明以下几点：

(1)微透镜阵列3中的微透镜单元的选取可以是多样的，可选取折射型和衍射型微透镜中的一种或几种间的结合。

(2)微透镜阵列3和微图文阵列4均可以是非周期性的或随机排列的。

(3)微透镜阵列3和微图文阵列4之间存在着相应的对应关系，以实现相应的再现图像。图6a-6d中示意性地给出了仅角度μ和v下观察到的两帧再现图像。以此为基础，不难理解：对于任何观察角度A≥arctan(0.25r/d)(反射层为平面镜面反射的情况)，其对应的再现图像均可按需求自由设定，即角度A、再现图像A′、角度A下的微图文阵列A″、微图文阵列A″在平面内所覆盖区域A″′这四者中的任意两者之间是一一映射的。当作为变量的观察角度A在A≥arctan(0.25r/d)的条件下连续变化时形成了观察的全视角，在这个过程中所对应的再现图像的所有内容均得到呈现，同时微图文阵列具体化为一个整体并覆盖所述基材2的第一表面上的微透镜阵列以外的所有区域。这样，基于以上分析的结论，可以通过设计微透镜阵列3及微图文阵列4，特别是设计微图文阵列4的具体形式，来得到下沉、上浮、动感、缩放、旋转、多通道转换、连续景深变化图形、三维图形、连续多帧动画等之一或多个效果的组合特征。

(4)对于现有技术中微透镜阵列与微图文阵列分别加工在基材的两侧或一侧的结构而言，由于微透镜阵列和微图文阵列之间的对位是无法控制的，所以任何一帧再现图像呈现给观察者时，其所对应的观察角度都是不可预知的，将决定一些设计所产生的效果(例如三维图像、多帧动画等效果)的不确定性，从而易出现立体视感消失、图像不连续、跳帧等现象，而图6a-6d的示例则明显地反映出根据本发明的光学防伪元件1消除了上述缺陷。

根据本发明的光学防伪元件1特别适合制作成开窗安全线。所述安全线的厚度不大于50μm。带有所述开窗安全线的防伪纸用于钞票、信用卡、护照、有价证券等各类高安全产品及高附加值产品的防伪以及各类包装纸、包装盒等。

根据本发明的光学防伪元件1也可用作标签、标识、宽条、透明窗口、覆膜等，可以通过各种粘结机理粘附在各种物品上，例如转移到钞票、信用卡等高安全产品和高附加值产品上。

另外，在生产根据本发明的光学防伪元件1时，可以在基材2的第一表面上例如通过UV压印工艺复制形成包含微透镜阵列3和微图文阵列4的微浮雕结构层，在基材2的第二表面上蒸镀反射层5。

生产根据本发明的光学防伪元件1的另一种方法是在不同的基材上分别制作反射层5和包含微透镜阵列3以及微图文阵列4的微浮雕结构，再经过本领域中公知的复合工艺将二者复合在一起。两者复合时，带有微透镜阵列3和微图文阵列4的微浮雕结构的薄膜和带有反射层5的薄膜可以是背对背地复合，即带有微透镜阵列3和微图文阵列4的微浮雕结构与反射层5之间的距离为两层基材的厚度加上复合胶的厚度；也可以是带有微透镜阵列3和微图文阵列4的微浮雕结构的薄膜与带有反射层5的薄膜面向同一方向复合，即微浮雕结构和反射层5之间的距离为其中一层基材的厚度加上复合胶的厚度。

以上仅示例性地描述了本发明的某些优选实施方案。但是本领域技术人员可以理解，在不偏离本发明构思和精神的前提下，可以对本发明作出各种等同变换或修改，而如此得到的技术方案也应属于本发明的保护范围。

Claims (20)

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层，其中，所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列，所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成，从而形成再现图像。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构与所述反射层之间的距离为所述微透镜阵列的焦距的二分之一。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微透镜阵列为由多个微透镜单元构成的周期性阵列和/或非周期性阵列和/或随机性阵列和/或局部周期性阵列。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述微透镜单元为折射型和/或衍射型微透镜。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件，其中，所述微透镜单元的焦距为10微米至200微米。

6.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述微透镜单元的焦距为20微米至60微米。

7.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微图文阵列为由多个微图文单元构成的周期性阵列和/或非周期性阵列和/或随机性阵列和/或局部周期性阵列。

8.根据权利要求3至7中任一项权利要求所述的光学防伪元件，其中，所述周期为10微米至200微米。

9.根据权利要求3至7中任一项权利要求所述的光学防伪元件，其中，所述周期为40微米至100微米。

10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的加工深度小于15微米。

11.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的加工深度为0.5微米至10微米。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述微浮雕结构的表面上覆盖有保护层，并且当所示微浮雕结构与所述保护层直接接触时，所述保护层的折射率小于所述微浮雕结构的折射率，并且两者的折射率的差值大于或等于0.3。

13.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，该光学防伪元件还包括位于所述微浮雕结构的上表面和/或所述微浮雕结构的下表面和/或所述基材中和/或所述反射层的上表面和/或所述反射层中和/或所述反射层的下表面的、能够实现颜色效果的功能层。

14.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其中，所述功能层还具有衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征、荧光特征和/或用于机读的磁、光、电、放射性特征。

15.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述反射层为单层结构或多层结构，并且每层结构由金属、介质或金属和介质的组合构成。

16.根据权利要求15所述的光学防伪元件，其中，所述反射层中形成有镂空图案。

17.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述反射层为能够对反射光进行调制的浮雕结构。

18.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述光学防伪元件还包括位于所述光学防伪元件的一面或两面上的粘结层。

19.根据权利要求18所述的光学防伪元件，其中，当所述粘结层与所述微浮雕结构直接接触时，所述粘结层的折射率小于所述微浮雕结构的折射率，并且两者的折射率差值大于或等于0.3。

20.使用根据权利要求1至19中任一项权利要求所述的光学防伪元件的防伪产品。