WO2022220083A1 - 光学積層体 - Google Patents

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WO2022220083A1
WO2022220083A1 PCT/JP2022/014950 JP2022014950W WO2022220083A1 WO 2022220083 A1 WO2022220083 A1 WO 2022220083A1 JP 2022014950 W JP2022014950 W JP 2022014950W WO 2022220083 A1 WO2022220083 A1 WO 2022220083A1
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liquid crystal
stress relaxation
film
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佑介 北河
伸行 幡中
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住友化学株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a transferable optical laminate.
  • a circularly polarizing plate including a polarizing film and a retardation film is widely used in a flat panel display (FPD) such as an organic EL display.
  • FPD flat panel display
  • an optical laminate in which the polarizing film and/or the retardation film is an optically anisotropic layer comprising a coating layer obtained by coating a polymerizable liquid crystal compound on a substrate and polymerizing it. are known (Patent Documents 1 to 5).
  • the optical layered body as disclosed in the above patent document is produced by transferring an optically anisotropic layer formed on a base material to a transfer material, that is, by peeling off the base material and removing an adhesive layer or the like. It can be incorporated into a display device or the like by laminating it to a transfer material through an intermediate layer.
  • a transfer material that is, by peeling off the base material and removing an adhesive layer or the like.
  • An object of the present invention is to provide an optical layered body that is thin yet suppresses the occurrence of lamination misalignment and wrinkles when transferred to a transfer-receiving body, and that can be easily transferred to any transfer-receiving body. .
  • the present invention includes the following aspects.
  • An optical laminate comprising a first substrate film, a first stress relaxation layer, a polarizing layer, an adhesive layer, a retardation layer, a second stress relaxation layer, and a second substrate film in this order,
  • the total thickness of the layers located between the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer is 20 ⁇ m or less
  • the storage modulus of the first stress relaxation layer is 1.5 MPa or less
  • An optical laminate in which both the first base film and the second base film are peelable base films.
  • the optical layered body according to [1] further comprising a diffusion prevention layer between the first stress relieving layer and the polarizing layer.
  • the first stress relaxation layer The optical laminate according to any one of [1] to [5], which has a thickness of 10 to 80 ⁇ m.
  • the thickness (T1) of the first stress relaxation layer and the thickness (T2) of the second stress relaxation layer are represented by the formula (1): T1/T2 ⁇ 1.0 (1)
  • the peel force (F1) when peeling the first base film from the optical laminate and the peel force (F2) when peeling the second base film from the optical laminate are represented by the formula (2): 0.02 (N/25mm) ⁇
  • an optical layered body that is thin yet suppresses the occurrence of lamination misalignment and wrinkles when transferred to a transfer-receiving body, and that can be easily transferred to any transfer-receiving body.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical layered body of the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical layered body of the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical layered body of the present invention
  • the optical laminate of the present invention includes a first substrate film, a first stress relaxation layer, a polarizing layer, an adhesive layer, a retardation layer, a second stress relaxation layer, and a second substrate film in this order.
  • An example of the layer structure of the optical layered body of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2, but the layered body of the present invention is not limited to these embodiments.
  • the optical layered body 11 shown in FIG. The material film 7 is laminated in this order.
  • the first base film 1 and the second base film 7 are each peelable, and the peelable second base film 7 is peeled off from the optical layered body 11.
  • a laminate structure 12 comprising a first base film 1, a first stress relaxation layer 2, a polarizing layer 3, an adhesive layer 4, a retardation layer 5, and a second stress relaxation layer 6 is formed on, for example, an OLED substrate. It can be transferred to an object to be transferred (substrate).
  • the first base film 1 is peeled off, and the first stress relaxation layer 2, the polarizing layer 3, the adhesive layer 4, and the position are bonded to the front panel or the like through the first stress relaxation layer 2.
  • a display device including the laminate structure 13 composed of the retardation layer 5 and the second stress relieving layer 6 is obtained.
  • the order of peeling the first base film and the second base film from the optical laminate of the present invention is not necessarily limited, but the base film on the side to be bonded to the substrate is peeled first.
  • the second base film is peeled off first, and after bonding to the substrate, the first base film is peeled off.
  • the optical layered body of the present invention further includes an anti-diffusion layer between the first stress relieving layer and the polarizing layer.
  • the optical laminate 11 shown in FIG. 2 has an anti-diffusion layer 8 between the first stress relieving layer 2 and the polarizing layer 3 .
  • the polarizing layer 3 may also have a diffusion prevention layer 9 on the side opposite to the first stress relaxation layer 2 .
  • the optical laminate of the present invention comprises a first substrate film, a first stress relaxation layer, a polarizing layer, an adhesive layer, a retardation layer, a second stress relaxation layer, a second substrate film and a diffusion prevention layer. , as long as it does not affect the effects of the present invention, it may further include other layers.
  • Other layers include, for example, an alignment film for forming the polarizing layer, an alignment film for forming the retardation layer, a second retardation layer, an adhesive layer other than the polarizing layer and the adhesive layer between the retardation layers. Examples include an adhesive layer and a resin layer having UV absorbability.
  • the first base film and the second base film are layers detachably laminated on the optical layered body.
  • resins constituting the first base film and the second base film include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and norbornene-based polymers; cyclic olefin-based resins; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate.
  • polymethacrylates polyacrylates; cellulosic resins such as triacetylcellulose, diacetylcellulose and cellulose acetate propionate; polycarbonates; polysulfones; plastics such as Among them, at least one selected from cellulose resins, cyclic olefin resins, and polyethylene terephthalate resins is preferable from the viewpoint of smoothness and quality as a coating substrate. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a resin can be formed into a resin film by known means such as a solvent casting method and a melt extrusion method.
  • the first base film and the second base film may be the same or different.
  • the “base film” includes the first base film and the second base film.
  • the elastic modulus of the first base film at 23°C is preferably 2,500 to 6,000 MPa.
  • the elastic modulus of the first base film is equal to or higher than the above lower limit, air bubbles and wrinkles are less likely to occur when the second base film is peeled off and transferred to the substrate, and this has the effect of suppressing lamination misalignment with the substrate. tend to be better.
  • the elastic modulus is equal to or less than the above upper limit, the balance between strength and rigidity against stress is good, and it has moderate flexibility (that is, it has moderate elasticity and is less likely to break even when bent).
  • the elastic modulus of the first base film at 23° C. is more preferably 3000 MPa or more, still more preferably 3500 MPa or more, and more preferably 5500 MPa or less.
  • the elastic modulus of the second base film at 23°C is preferably 2500-6000 MPa.
  • the elastic modulus of the second base film at 23° C. is more preferably 3000 MPa or more, still more preferably 3500 MPa or more, and more preferably 5500 MPa or less.
  • the elastic modulus of the base film can be measured using a tensile tester. Specifically, it can be measured, for example, by the method described in Examples below.
  • the base film is treated by corona treatment, plasma treatment, flame treatment, etc. depending on the structure of the adjacent layers.
  • a modification treatment may be applied to the surface of the material film.
  • the treatment methods may be the same or different.
  • the thickness of the first base film and the second base film may be appropriately determined according to the structure of the base film, the structure of the layer adjacent to the base film, etc.
  • each is preferably 20 ⁇ m or more, more preferably 30 ⁇ m or more, still more preferably 40 ⁇ m or more, and preferably 120 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less, and further preferably 80 ⁇ m or less.
  • the thicknesses of the first base film and the second base film may be the same or different.
  • the thickness of the base film can be measured by a laser microscope, film thickness meter, or the like, and the thickness of each layer such as a polarizing layer and a retardation layer constituting the optical laminate and the thickness of the film can be measured in the same way.
  • a layer having a function of controlling the peeling force when peeling the substrate film from the optical laminate may be provided on the side of the substrate film adjacent to the stress relaxation layer. good.
  • peel force adjusting layer may be provided on the first base film and the second base film.
  • the release force adjustment layer is, for example, a composition for forming a release force adjustment layer that contains a component capable of adjusting the adhesion of the base film to the stress relaxation layer laminated on the base film on the surface of the resin film that is the base film. It can be formed by applying an object.
  • the release force adjusting layer conventionally known materials in this field can be used as long as the desired release force can be secured.
  • the composition for forming the release force adjusting layer that can form the release force adjusting layer in the present invention include, for example, a solution containing a silane compound; a solution containing silica powder; a curable resin composition; Compositions containing release materials such as alkyl-based materials and fatty acid amide-based materials are included. Among them, it is preferable to use a solution containing a silane compound from the viewpoint of easily forming a thin layer that can impart a desired peeling force.
  • Silane compounds that can constitute the release force adjusting layer include, for example, silicon polymers such as polysilane, silicone resins such as silicone oils and silicone resins, and organic and inorganic silane compounds such as silicone oligomers, silsessiloxanes and alkoxysilanes. and, more specifically, nonionic compounds containing Si elements such as silane coupling agents. These silane compounds may be used singly or in combination of two or more. Among them, silane coupling agents are preferred.
  • the silane coupling agent is a silane compound having at least one functional group selected from the group consisting of a vinyl group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, a (meth)acryloyl group, an isocyanate group, an imidazole group and an epoxy group. and more preferably a Si element-containing compound having at least one functional group and at least one alkoxysilyl group or silanol group.
  • a vinyl group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, a (meth)acryloyl group, an isocyanate group, an imidazole group and an epoxy group have polarity. It is possible to control the adhesion with.
  • the silane coupling agent is preferably a silane coupling agent having an alkoxysilyl group and the at least one functional group.
  • the functional group may have an appropriate substituent or protective group in order to control the reactivity of the silane coupling agent.
  • silane coupling agent examples include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, 3-glycidoxypropyltri methoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltri methoxysilane, 3-(2-
  • silane coupling agents may also be used, such as KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM- 403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM-903, KBE-903, Silane couplings from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. such as KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBM-9659, KBE-585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, and KBE-9007 agents.
  • a layer containing a silane compound that functions as a peel force adjusting layer can be formed, for example, from a silane compound-containing solution obtained by mixing and dissolving a silane compound in an appropriate solvent.
  • the solvent used for the silane compound-containing solution can be appropriately selected according to the solubility of the silane compound used. Specific examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, alcohol solvents such as propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, ⁇ -butyrolactone.
  • propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate and other ester solvents acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and other ketone solvents, pentane, hexane, heptane and other aliphatic hydrocarbon solvents, toluene , aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, nitrile solvents such as acetonitrile, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the silane compound in the silane compound-containing solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, relative to the total mass of the silane compound-containing solution, from the viewpoint of easy control of the peeling force. , more preferably 0.2% by mass or more.
  • the content of the silane compound is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less, relative to the total mass of the silane compound-containing solution.
  • the layer containing a silane compound that functions as a release force adjusting layer can be formed, for example, by applying a silane compound-containing solution to the surface of the substrate film on which the release force adjusting layer is to be formed, and then drying and removing the solvent. can.
  • Examples of the method of applying the silane compound-containing solution to the surface on which the release force adjusting layer is to be formed include spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, bar coating, applicator method, and the like.
  • Drying methods for removing the solvent contained in the coating film obtained from the silane compound-containing solution include natural drying, ventilation drying, heat drying, and vacuum drying. Conditions such as drying temperature and drying time can be appropriately determined according to the composition of the silane compound-containing solution, the material of the substrate film, and the like.
  • the thickness of the layer containing a silane compound that functions as a peel force adjusting layer is usually 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 30 nm to 300 nm.
  • the optical laminate of the present invention has a first stress relaxation layer on the polarizing layer side of the first base film and a second stress relaxation layer on the retardation layer side of the second base film.
  • the stress relaxation layer is a layer formed on the polarizing layer side surface of the first base film and the retardation layer side surface of the second base film, It means a layer having a function of relieving the stress applied to the optical layered body when the film and the second base film are peeled off.
  • the first base film and the second base film constitute an optical laminate with stress relaxation layers interposed therebetween. There is a stress relief layer on the outer layer.
  • the optical layered body of the present invention has the effect of suppressing wrinkles, bonding misalignment, generation of air bubbles, etc. that may occur when the base film is peeled off from the thin optical layered body and transferred to the substrate. Excellent. Although the reason for this is not clear, when the base film is peeled off from the optical layered body, the stress relaxation layers act on each other to relieve the stress applied to the optical layered body. , it is considered that the effect of suppressing the occurrence of lamination misalignment, wrinkles, etc. is higher than that of an optical laminate having a stress relaxation layer on only one side.
  • the first base film and the first stress relaxation layer, and the second base film and the second stress relaxation layer are adjacent to each other, or It is preferable to dispose only through the peel force adjusting layer.
  • the “stress relaxation layer” includes the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer.
  • the storage elastic modulus of the first stress relaxation layer is 1.5 MPa or less.
  • the storage elastic modulus of the first stress relaxation layer exceeds 1.5 MPa, air bubbles and wrinkles are likely to occur when the second base film is peeled off and transferred to the substrate, and lamination with the substrate tends to be easily misaligned.
  • the storage elastic modulus of the first stress relaxation layer is preferably 0.8 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or less, still more preferably 0.4 MPa or less, and particularly preferably 0.3 MPa or less.
  • the storage elastic modulus is equal to or less than the above upper limit, the effect of suppressing lamination misalignment, wrinkles, air bubbles, etc.
  • the lower limit of the storage modulus of the first stress relaxation layer is not particularly limited, it is usually 0.005 MPa or more, preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.02 or more, and still more preferably 0 .04 MPa or more.
  • the storage elastic modulus of the second stress relaxation layer is preferably 0.8 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or less, still more preferably 0.4 MPa or less, and particularly preferably 0.3 MPa or less.
  • the storage elastic modulus is equal to or less than the above upper limit, it is easy to secure peelability when peeling the second base film while suppressing floating of the second base film.
  • the lower limit of the storage elastic modulus of the second stress relaxation layer is not particularly limited, it is usually 0.005 MPa or more, preferably 0.01 MPa or more, more preferably 0.02 or more, and still more preferably 0 .04 MPa or more.
  • the storage modulus of the stress relaxation layer can be measured using a viscoelasticity measuring device. Specifically, it can be measured, for example, by the method described in Examples below.
  • the stress relaxation layer can relax the stress generated in the optical layered body when the base film is peeled off, and after the base film is peeled off, the stress relaxation layer can be used as an adhesive for bonding to the transferred body such as the substrate or the front plate. It is preferably a layer that functions as a layer.
  • the stress relieving property of the stress relieving layer and the adhesiveness to the transferred material can be controlled by the types of components constituting the stress relieving layer, their content ratios, thickness and the like.
  • a stress relieving layer having such a function can be prepared using conventionally known materials in the relevant field.
  • compositions for forming stress relaxation layers containing resins as main components are mentioned.
  • the stress relaxation layer is preferably formed from a composition containing a (meth)acrylic resin as a base polymer.
  • Examples of the (meth)acrylic resin (base polymer) used in the composition for forming the stress relaxation layer include butyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic Polymers or copolymers containing one or more of (meth)acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acid as monomers are preferably used.
  • the base polymer is copolymerized with a polar monomer.
  • polar monomers examples include (meth)acrylic acid, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, glycidyl ( Monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an epoxy group, etc., such as meth)acrylates, can be mentioned.
  • the structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the (meth)acrylic resin constituting the stress relaxation layer is is preferably 80 to 99.9% by mass, more preferably 85% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more.
  • the structural unit derived from the polar monomer is It is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 3% by mass or less.
  • the (meth)acrylic resin that constitutes the stress relaxation layer can be produced by various known methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization.
  • a polymerization initiator is usually used in the production of this acrylic resin.
  • the content of the polymerization initiator is preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of all monomers used for producing the (meth)acrylic resin.
  • thermal polymerization initiator examples include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl-2,2′-azobis(2-methylpropio azo compounds such as 2,2′-azobis (2-hydroxymethylpropionitrile); lauryl peroxide, tert-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, cumene hydroperoxide organic compounds such as oxides, diisopropyl peroxydicarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyneo
  • Peroxides inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate, and hydrogen peroxide
  • photopolymerization initiators include 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone and the like.
  • a thermal polymerization initiator is added under a nitrogen atmosphere, and the temperature is adjusted to 40 to 90°C, preferably 50 to 80°C.
  • a method of stirring can be mentioned.
  • the monomers and the polymerization initiator may be added continuously or intermittently during the polymerization, or may be added in a state of being dissolved in an organic solvent.
  • organic solvents examples include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; aliphatic alcohol solvents such as propyl alcohol and isopropyl alcohol; and ketone-based solvents such as methyl isobutyl ketone and the like can be used.
  • the stress relaxation layer may contain only the acrylic resin, or may be formed using a cross-linking agent in combination.
  • the cross-linking agent is a metal ion having a valence of 2 or more, which forms a carboxylic acid metal salt with a carboxyl group; a polyamine compound, which forms an amide bond with a carboxyl group; Examples include epoxy compounds and polyols that form ester bonds with carboxyl groups; and polyisocyanate compounds that form amide bonds with carboxyl groups.
  • a stress relaxation layer-forming composition obtained by dissolving the above-described acrylic resin as a main component in a solvent is applied onto the base film or the release force adjustment layer on which the stress relaxation layer is to be laminated. It can be provided by a method of coating by a bar coating method or the like and drying.
  • the solvent include those exemplified in the preparation method of the acrylic resin.
  • the thickness of the stress relieving layer may be appropriately determined according to the configuration of the stress relieving layer, the configuration and size of the display device, and the like.
  • the thickness of the first stress relaxation layer is preferably 5 to 80 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m or more, still more preferably 20 ⁇ m or more, more preferably 70 ⁇ m or less, still more preferably 60 ⁇ m. It is below.
  • the thickness of the second stress relaxation layer is preferably 5 to 80 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m or more, still more preferably 20 ⁇ m or more, and more preferably 60 ⁇ m or less, still more preferably 40 ⁇ m or less.
  • the thickness of the first stress relieving layer and the thickness of the second stress relieving layer may be the same or different.
  • the thickness of the first stress relief layer (T1) and the thickness of the second stress relief layer (T2) are determined by formula (1): T1/T2 ⁇ 1.0 (1) is preferably satisfied.
  • the thickness of the first stress relieving layer and the thickness of the second stress relieving layer satisfy the relationship of the above formula (1), when the second base film is peeled from the thin optical laminate and transferred to the substrate, It is easier to improve the effect of suppressing wrinkles to be obtained, lamination displacement due to entrainment, generation of air bubbles, and the like.
  • the value of T1/T2 is more preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more, and 3.0. or more.
  • the polarizing layer is a layer (polarizer) having a polarizing function.
  • the polarizing layer contains a dichroic dye, which is a dye having anisotropic absorption, and is advantageous for thinning the optical layered body. It is a cured layer formed from a polymerizable liquid crystal composition (hereinafter also referred to as a "polarizing layer-forming composition") containing a liquid crystal compound of a kind, preferably containing a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye. preferable.
  • the polymerizable liquid crystal compound (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (A)") contained in the composition for forming the polarizing layer of the present invention is a compound having at least one polymerizable group.
  • the term “polymerizable group” refers to a group that can participate in a polymerization reaction due to an active radical generated from a polymerization initiator, an acid, or the like.
  • Examples of the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound (A) include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, oxiranyl group, and oxetanyl group. etc. Among them, a radically polymerizable group is preferred, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and a vinyloxy group are more preferred, and a (meth)acryloyl group is even more preferred.
  • the polymerizable liquid crystal compound forming the polarizing layer has the same functional group (polymerizable group) as the compound forming the alignment film for forming the polarizing layer described later, such as a (meth)acryloyl group,
  • a (meth)acryloyl group such as a (meth)acryloyl group
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) is preferably a compound exhibiting smectic liquid crystallinity.
  • a polymerizable liquid crystal compound exhibiting smectic liquid crystallinity By using a polymerizable liquid crystal compound exhibiting smectic liquid crystallinity, a polarizing layer with a high degree of orientational order can be formed. From the viewpoint of realizing a higher degree of alignment order, the liquid crystal state exhibited by the polymerizable liquid crystal compound (A) is more preferably a high-order smectic phase (high-order smectic liquid crystal state).
  • the higher order smectic phase includes smectic B phase, smectic D phase, smectic E phase, smectic F phase, smectic G phase, smectic H phase, smectic I phase, smectic J phase, smectic K phase and smectic L phase.
  • smectic B phase, smectic F phase and smectic I phase are more preferable.
  • Thermotropic liquid crystals or lyotropic liquid crystals may be used as liquid crystals, but thermotropic liquid crystals are preferred because they allow precise film thickness control.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) may be a monomer, but may be an oligomer or polymer in which a polymerizable group is polymerized.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) is not particularly limited as long as it is a liquid crystal compound having at least one polymerizable group, and known polymerizable liquid crystal compounds can be used, but compounds exhibiting smectic liquid crystallinity are preferred.
  • Examples of such a polymerizable liquid crystal compound include compounds represented by the following formula (A1) (hereinafter sometimes referred to as "polymerizable liquid crystal compound (A1)").
  • X 1 and X 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, wherein the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon
  • a hydrogen atom contained in the group may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group.
  • a carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom.
  • at least one of X 1 and X 2 is an optionally substituted 1,4-phenylene group or an optionally substituted cyclohexane-1,4-diyl group.
  • Y 1 is a single bond or a divalent linking group.
  • n is 1 to 3, and when n is 2 or more, multiple X 1s may be the same or different.
  • X 2 may be the same as or different from any or all of the plurality of X 1 's.
  • the plurality of Y 1 may be the same or different.
  • n is preferably 2 or more.
  • U1 represents a hydrogen atom or a polymerizable group.
  • U2 represents a polymerizable group.
  • W 1 and W 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • V 1 and V 2 each independently represent an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — constituting the alkanediyl group is —O—, -CO-, -S- or NH- may be substituted.
  • X 1 and X 2 are each independently preferably a 1,4-phenylene group optionally having a substituent, or a 1,4-phenylene group optionally having a substituent, or cyclohexane-1,4-diyl group, and at least one of X 1 and X 2 is a 1,4-phenylene group optionally having a substituent, or a 1,4-phenylene group optionally having a substituent cyclohexane-1,4-diyl group, preferably trans-cyclohexane-1,4-diyl group.
  • Optionally substituted 1,4-phenylene group or optionally substituted cyclohexane-1,4-diyl group may have a methyl group, ethyl and alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as butyl group, cyano group and halogen atoms such as chlorine atom and fluorine atom. It is preferably unsubstituted.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A1) is represented by the formula (A1-1) in the formula (A1): -(X 1 -Y 1 ) n -X 2 - (A1-1) [In the formula, X 1 , Y 1 , X 2 and n each have the same meaning as above. ] [hereinafter, also referred to as partial structure (A1-1)] has an asymmetric structure, because it facilitates smectic liquid crystallinity.
  • Examples of the polymerizable liquid crystal compound (A1) in which the partial structure ( A1-1) is an asymmetric structure include, for example, a polymerizable liquid crystal compound (A1 ).
  • n 2 Y 1s have the same structure
  • two X 1s have the same structure
  • one X 2 has a different structure from these two X 1s
  • Polymerizable liquid crystal compound (A1), X 1 bonded to W 1 of two X 1 has a different structure from the other X 1 and X 2
  • the other X 1 and X 2 have the same structure
  • a polymerizable liquid crystal compound (A1) is also included.
  • n 3 Y 1s have the same structure as each other, and any one of the three X 1s and one X 2 has a different structure from all the other three. liquid crystal compound (A1).
  • R a and R b each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Y 1 is more preferably —CH 2 CH 2 —, —COO—, or a single bond, and when there are multiple Y 1s , Y 1 bonded to X 2 is —CH 2 CH 2 — or CH 2 O— is more preferred.
  • X 1 and X 2 all have the same structure, it is preferred that there are two or more Y 1 with different binding modes.
  • the structure is asymmetrical, and smectic liquid crystallinity tends to occur.
  • U2 is a polymerizable group.
  • U 1 is a hydrogen atom or a polymerizable group, preferably a polymerizable group.
  • Both U 1 and U 2 are preferably polymerizable groups, and preferably both are radically polymerizable groups.
  • Examples of the polymerizable group include the same groups as those exemplified above as the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound (A).
  • the polymerizable group represented by U 1 and the polymerizable group represented by U 2 may be different from each other, but are preferably groups of the same type, and at least one of U 1 and U 2 is (meta) It is preferably an acryloyl group, and more preferably both are (meth)acryloyl groups.
  • the polymerizable group may be in a polymerized state or in an unpolymerized state, preferably in an unpolymerized state.
  • the alkanediyl groups represented by V 1 and V 2 include methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, butane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl, pentane- 1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, decane-1,10-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group and icosane-1,20-diyl groups.
  • V 1 and V 2 are preferably alkanediyl groups having 2 to 12 carbon atoms, more preferably alkanediyl groups having 6 to 12 carbon atoms.
  • Examples of the substituent optionally possessed by the alkanediyl group include a cyano group and a halogen atom. is more preferred.
  • W 1 and W 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -S-, -COO- or -OCOO-, more preferably a single bond or -O-.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) is not particularly limited as long as it is a polymerizable liquid crystal compound having at least one polymerizable group, and known polymerizable liquid crystal compounds can be used.
  • a structure that tends to exhibit smectic liquid crystallinity it is preferable to have an asymmetric molecular structure in the molecular structure, specifically polymerizable having the following partial structures (Aa) to (Ai)
  • a polymerizable liquid crystal compound that is a liquid crystal compound and exhibits smectic liquid crystallinity is more preferable.
  • polymerizable liquid crystal compound (A) examples include compounds represented by formulas (A-1) to (A-25).
  • the cyclohexane-1,4-diyl group is preferably a trans form.
  • formula (A-2), formula (A-3), formula (A-4), formula (A-5), formula (A-6), formula (A-7), formula (A- 8), at least one selected from the group consisting of compounds represented by formula (A-13), formula (A-14), formula (A-15), formula (A-16) and formula (A-17) Seeds are preferred.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the polymerizable liquid crystal compound (A) is, for example, described in Lub et al., Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996), or a known method described in Japanese Patent No. 4,719,156.
  • the composition for forming a polarizing layer may contain other polymerizable liquid crystal compounds other than the polymerizable liquid crystal compound (A).
  • the ratio of the polymerizable liquid crystal compound (A) to the total mass of all the polymerizable liquid crystal compounds contained in the composition is preferably 51% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 90% by mass. % or more.
  • the polarizing layer-forming composition contains two or more polymerizable liquid crystal compounds (A), at least one of them may be the polymerizable liquid crystal compound (A1), and all of them may be polymerizable liquid crystal compounds (A1 ).
  • the polymerizable liquid crystal compound (A1) may be the polymerizable liquid crystal compound (A1), and all of them may be polymerizable liquid crystal compounds (A1 ).
  • the content of the polymerizable liquid crystal compound in the polarizing layer-forming composition is preferably 40 to 99.9% by mass, more preferably 60 to 99% by mass, based on the solid content of the polarizing layer-forming composition. Yes, more preferably 70 to 99% by mass.
  • the orientation of the polymerizable liquid crystal compound tends to be high.
  • solid content refers to a component obtained by removing volatile components such as solvents from the composition for forming a polarizing layer. It refers to the components of the target composition excluding volatile components such as solvents.
  • the polarizing layer-forming composition that forms the polarizing layer usually contains a dichroic dye.
  • the term "dichroic dye” means a dye having different absorbance in the long-axis direction of the molecule and in the short-axis direction of the molecule.
  • the dichroic dye that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above properties, and may be a dye or a pigment. Also, two or more dyes or pigments may be used in combination, or a dye and a pigment may be used in combination. In addition, the dichroic dye may have polymerizability or may have liquid crystallinity.
  • Dichroic dyes preferably have a maximum absorption wavelength ( ⁇ MAX ) in the range of 300 to 700 nm.
  • Examples of such dichroic dyes include acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes and anthraquinone dyes.
  • K 1 and K 3 are, independently of each other, a phenyl group optionally having substituent(s), a naphthyl group optionally having substituent(s), It represents a phenyl benzoic acid ester group or a monovalent heterocyclic group which may have a substituent.
  • K 2 is a p-phenylene group optionally having substituents, a naphthalene-1,4-diyl group optionally having substituents, 4,4′- optionally having substituents represents a stilbenylene group or an optionally substituted divalent heterocyclic group;
  • p represents an integer of 0 to 4;
  • p is an integer of 2 or more, multiple K2 may be the same or different.
  • Examples of monovalent heterocyclic groups include groups obtained by removing one hydrogen atom from heterocyclic compounds such as quinoline, thiazole, benzothiazole, thienothiazole, imidazole, benzimidazole, oxazole, and benzoxazole.
  • the divalent heterocyclic group includes a group obtained by removing two hydrogen atoms from the above heterocyclic compound.
  • the substituent optionally possessed by the divalent heterocyclic group includes an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having a polymerizable group and having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms; a methoxy group; , ethoxy group, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as butoxy group; alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms having a polymerizable group; fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as trifluoromethyl group; cyano group a nitro group; a halogen atom; an amino group, a diethylamin
  • B 1 to B 30 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, substituted or represents an unsubstituted amino group (the definitions of substituted amino group and unsubstituted amino group are as described above), chlorine atom or trifluoromethyl group;
  • n1 to n4 each independently represents an integer of 0 to 3; When n1 is 2 or more, the plurality of B2 may be the same or different, When n2 is 2 or more, the plurality of B6 may be the same or different, When n3 is 2 or more, multiple B9 may be the same or different, When n4 is 2 or more, the plurality of B14 may be the same or different.
  • a compound represented by formula (I-9) is preferable as the anthraquinone dye.
  • R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • a compound represented by formula (I-10) is preferable as the oxazone dye.
  • R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • a compound represented by formula (I-11) is preferable as the acridine dye.
  • R 16 to R 23 each independently represent a hydrogen atom, —R x , —NH 2 , —NHR x , —NR x 2 , —SR x or a halogen atom.
  • R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms for R x includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a pentyl group. and hexyl group, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms includes phenyl group, toluyl group, xylyl group, naphthyl group and the like.
  • the compound represented by formula (I-12) and the compound represented by formula (I-13) are preferable.
  • D 1 and D 2 each independently represent a group represented by any one of formulas (I-12a) to (I-12d).
  • n5 represents an integer of 1-3.
  • D 3 and D 4 each independently represent a group represented by any one of formulas (I-13a) to (1-13h).
  • n6 represents an integer of 1-3.
  • the dichroic dye contained in the polarizing layer-forming composition for forming the polarizing layer is preferably an azo dye.
  • the weight average molecular weight of the dichroic dye is usually 300-2000, preferably 400-1000.
  • the dichroic dye contained in the polarizing layer forming composition for forming the polarizing layer is preferably hydrophobic.
  • the hydrophobic dichroic dye means a dye having a solubility of 1 g or less in 100 g of water at 25°C.
  • the content of the dichroic dye in the polarizing layer-forming composition can be appropriately determined according to the type of the dichroic dye used, etc., but is preferably 0.1 to 0.1 parts per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. It is 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, still more preferably 0.1 to 12 parts by mass.
  • the content of the dichroic dye is within the above range, the alignment of the polymerizable liquid crystal compound is less likely to be disturbed, and a polarizing layer having a high degree of alignment order can be obtained.
  • the polarizing layer-forming composition for forming the polarizing layer may contain a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator is a compound capable of initiating the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound, and is preferably a photopolymerization initiator because it can initiate the polymerization reaction under lower temperature conditions.
  • photopolymerization initiators capable of generating active radicals or acids by the action of light may be mentioned, and among these, photopolymerization initiators capable of generating radicals by the action of light are preferred.
  • a polymerization initiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • photopolymerization initiators As the photopolymerization initiator, known photopolymerization initiators can be used.
  • photopolymerization initiators that generate active radicals include self-cleavage photopolymerization initiators and hydrogen abstraction photopolymerization initiators.
  • Self-cleavage photopolymerization initiators include self-cleavage benzoin compounds, acetophenone compounds, hydroxyacetophenone compounds, ⁇ -aminoacetophenone compounds, oxime ester compounds, acylphosphine oxide compounds, azo compounds, etc. Available.
  • hydrogen abstraction type photopolymerization initiator hydrogen abstraction type benzophenone compounds, benzoin ether compounds, benzyl ketal compounds, dibenzosuberone compounds, anthraquinone compounds, xanthone compounds, thioxanthone compounds, halogenoacetophenone compounds. compounds, dialkoxyacetophenone-based compounds, halogenobisimidazole-based compounds, halogenotriazine-based compounds, triazine-based compounds, and the like can be used.
  • photopolymerization initiators that generate acid, iodonium salts, sulfonium salts, and the like can be used.
  • a reaction at a low temperature is preferable from the viewpoint of preventing dissolution of the dye, and a self-cleavage photopolymerization initiator is preferable from the viewpoint of reaction efficiency at a low temperature.
  • compounds and oxime ester compounds are preferred.
  • photopolymerization initiators include the following.
  • Benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1,2-diphenyl-2,2-dimethoxyethan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(2- Hydroxyacetophenones such as hydroxyethoxy)phenyl]propan-1-one, oligomers of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propan-1-one system compound; ⁇ -Aminoacetophenones such as 2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylthiophenyl)propan-1-one and 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one
  • a commercially available photopolymerization initiator may also be used.
  • Commercially available polymerization initiators include Irgacure (registered trademark) 907, 184, 651, 819, 250, and 369, 379, 127, 754, OXE01, OXE02, OXE03 (manufactured by BASF); Omnirad BCIM, Esacure 1001M, Esacure KIP160 (manufactured by IDM Resins B.V.); Seikuol (registered trademark) BZ, Z, and BEE (manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.); Kayacure (registered trademark) BP100, and UVI-6992 (Dow ⁇ Chemical Co., Ltd.); Adeka Optomer SP-152, N-1717, N-1919, SP-170, Adeka Arkles NCI-831, Adeka Arkles NCI-930 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.); TAZ-A,
  • the content of the polymerization initiator in the polarizing layer-forming composition for forming the polarizing layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. parts, more preferably 2 to 8 parts by mass, particularly preferably 4 to 8 parts by mass.
  • the content of the polymerization initiator is within the above range, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be carried out without greatly disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the polymerization rate of the polymerizable liquid crystal compound is preferably 60% or more, more preferably 65% or more, and even more preferably 70% or more, from the viewpoint of line contamination and handling during production.
  • the polarizing layer-forming composition may further contain a photosensitizer.
  • a photosensitizer By using a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be further accelerated.
  • photosensitizers include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (e.g., 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, etc.); phenothiazine and rubrene and the like.
  • Photosensitizers can be used alone or in combination of two or more.
  • the content thereof may be appropriately determined according to the types and amounts of the polymerization initiator and the polymerizable liquid crystal compound, but 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. is preferably from 0.1 to 30 parts by mass, more preferably from 0.5 to 10 parts by mass, and even more preferably from 0.5 to 8 parts by mass.
  • the polarizing layer-forming composition may contain a leveling agent.
  • the leveling agent has the function of adjusting the fluidity of the composition for forming the polarizing layer and making the coating film obtained by applying the composition for forming the polarizing layer more flat. agents.
  • the leveling agent is preferably at least one selected from the group consisting of a leveling agent containing a polyacrylate compound as a main component and a leveling agent containing a fluorine atom-containing compound as a main component.
  • a leveling agent can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • leveling agents mainly composed of polyacrylate compounds include “BYK-350”, “BYK-352”, “BYK-353”, “BYK-354”, “BYK-355”, and “BYK-358N”. , “BYK-361N”, “BYK-380”, “BYK-381” and “BYK-392” (BYK Chemie).
  • Leveling agents mainly composed of fluorine atom-containing compounds include, for example, “Megafac (registered trademark) R-08", “R-30”, “R-90”, “F-410", “F-411”, “F-443”, “F-445”, “F-470”, “F-471”, “F-477”, “F-479”, “ F-482” and “F-483” (DIC Corporation); “Surflon (registered trademark) S-381”, “S-382”, “S-383”, “S-393”, “SC-101", “SC-105", “KH-40” and “SA-100” (AGC Seimi Chemical Co., Ltd.); “E1830", “E5844” (Daikin Fine Chemicals Laboratory Co., Ltd.) "Ftop EF301", “Ftop EF303”, “Ftop EF351” and “Ftop EF352” (Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.).
  • the polarizing layer-forming composition contains a leveling agent
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the content of the leveling agent is within the above range, the polymerizable liquid crystal compound is easily oriented, unevenness is less likely to occur, and a smoother polarizing layer tends to be obtained.
  • the polarizing layer-forming composition may contain additives other than the photosensitizer and the leveling agent.
  • additives include, for example, antioxidants, release agents, stabilizers, colorants such as bluing agents, flame retardants, and lubricants.
  • the content of the other additives should be more than 0% and 20% by mass or less based on the solid content of the polarizing layer-forming composition. is preferable, more preferably more than 0% and 10% by mass or less.
  • the polarizing layer-forming composition can be produced by a conventionally known method for preparing a polarizing layer-forming composition. It can be prepared by mixing and stirring additives and the like. In addition, since compounds exhibiting smectic liquid crystallinity generally have high viscosity, a solvent is added to the polarizing layer-forming composition from the viewpoint of improving the coatability of the polarizing layer-forming composition and facilitating the formation of the polarizing layer. Viscosity may be adjusted by
  • the solvent used in the polarizing layer-forming composition can be appropriately selected according to the solubility of the polymerizable liquid crystal compound and the dichroic dye used.
  • alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, ⁇ - ester solvents such as butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Examples include aromatic hydrocarbon solvents such
  • the content of the solvent is preferably 100 to 1,900 parts by mass, more preferably 150 to 900 parts by mass, and still more preferably 180 to 600 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the polarizing layer-forming composition. Department.
  • the polarizing layer is preferably a polarizer with a high degree of orientational order.
  • a polarizer with a high degree of orientational order provides a Bragg peak derived from a higher-order structure such as a hexatic phase or a crystal phase in X-ray diffraction measurement.
  • a Bragg peak means a peak derived from a periodic plane structure of molecular orientation. Therefore, the polarizing layer constituting the optical laminate of the present invention preferably exhibits a Bragg peak in X-ray diffraction measurement.
  • the polymerizable liquid crystal compound or its polymer is preferably oriented so that the polarizing layer exhibits a Bragg peak in X-ray diffraction measurement. It is more preferable that the molecules of the polymerizable liquid crystal compound are oriented in the direction of absorbing the “horizontal alignment”.
  • a polarizer having a plane period interval of molecular orientation of 3.0 to 6.0 ⁇ is preferred.
  • a high degree of orientational order exhibiting a Bragg peak can be realized by controlling the type of polymerizable liquid crystal compound to be used, the type and amount of dichroic dye, the type and amount of polymerization initiator, and the like.
  • the polarizing layer is formed by, for example, forming a coating film of a composition for forming a polarizing layer on a substrate or an alignment film described later, removing a solvent from the coating film, and converting a polymerizable liquid crystal compound into a liquid phase. Raising the temperature to the phase transition temperature or higher and then lowering the temperature to cause the phase transition of the polymerizable liquid crystal compound to a liquid crystal phase (smectic phase), and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining the liquid crystal phase. can be obtained by a method comprising
  • Examples of methods for applying the polarizing layer-forming composition to a substrate or an alignment film include spin coating, extrusion, gravure coating, die coating, bar coating, applicator methods, and flexo coating. well-known methods such as a printing method such as a printing method.
  • a dry coating film is formed by removing the solvent by drying or the like under conditions in which the polymerizable liquid crystal compound contained in the coating film obtained from the polarizing layer-forming composition is not polymerized. Drying methods include natural drying, ventilation drying, heat drying, and reduced pressure drying.
  • the temperature is raised to a temperature equal to or higher than the temperature at which the polymerizable liquid crystal compound undergoes phase transition to the liquid phase, and then the temperature is lowered to convert the polymerizable liquid crystal compound to the liquid crystal phase (smectic phase). transfer.
  • a phase transition may be carried out after removing the solvent in the coating film, or may be carried out simultaneously with the removal of the solvent.
  • the polarizing layer is formed as a cured product of the composition for forming the polarizing layer.
  • a photopolymerization method is preferable as the polymerization method.
  • the light irradiated to the dry coating film includes the type of polymerizable liquid crystal compound contained in the dry coating film (especially the type of polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound), the type of polymerization initiator and It is appropriately selected according to the amount thereof.
  • UV light is preferable in that it is easy to control the progress of the polymerization reaction and that a widely used photopolymerization apparatus in the field can be used. It is preferable to select the types of the polymerizable liquid crystal compound and the polymerization initiator contained in the polarizing layer-forming composition.
  • the polymerization temperature can also be controlled by light irradiation while cooling the dry coating film with an appropriate cooling means at the time of polymerization.
  • a patterned polarizing layer can also be obtained by performing masking or development during photopolymerization.
  • low-pressure mercury lamp low-pressure mercury lamp, medium-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, xenon lamp, halogen lamp, carbon arc lamp, tungsten lamp, gallium lamp, excimer laser, wavelength range 380 ⁇ LED light sources that emit light at 440 nm, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, metal halide lamps, and the like can be used.
  • the UV irradiation intensity is usually 10 to 3,000 mW/cm 2 .
  • the ultraviolet irradiation intensity is preferably in the wavelength range effective for activation of the photopolymerization initiator.
  • the irradiation time is usually 0.1 second to 10 minutes, preferably 1 second to 5 minutes, more preferably 5 seconds to 3 minutes, still more preferably 10 seconds to 1 minute.
  • the cumulative amount of light is 10 to 3,000 mJ/cm 2 , preferably 50 to 2,000 mJ/cm 2 , more preferably 100 to 1,000 mJ/cm. 2 .
  • the polymerizable liquid crystal compound is polymerized while maintaining the liquid crystal state of the liquid crystal phase, particularly the smectic phase, preferably the high-order smectic phase, to form the polarizing layer.
  • the polarizing layer obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining the liquid crystal state of the smectic phase is different from the conventional host-guest type polarizing film, that is, the liquid crystal state of the nematic phase, due to the action of the dichroic dye.
  • the polarizing performance is higher than that of the polarizing layer.
  • it has the advantage of being superior in strength compared to those coated with only dichroic dyes or lyotropic liquid crystals.
  • the thickness of the polarizing layer can be appropriately selected according to the display device to which it is applied, and is preferably 0.1 to 5 ⁇ m, more preferably 0.3 to 4 ⁇ m, still more preferably 0.5 to 3 ⁇ m.
  • the thickness of the polarizing layer is at least the above lower limit, it is easy to prevent the necessary light absorption from becoming impossible, and when it is at most the above upper limit, orientation defects due to a decrease in the orientation ordering force of the orientation film occur. It is easy to suppress the occurrence of
  • the polarizing layer may be formed on the alignment film.
  • the alignment film has an alignment regulating force that aligns the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction, and by applying the polarizing layer-forming composition onto the alignment film, it is easy to obtain a polarizing layer that is aligned with high accuracy.
  • the alignment film preferably has solvent resistance so that it does not dissolve when the polarizing layer-forming composition is applied or the like, and has heat resistance in heat treatment for removing the solvent and for aligning the polymerizable liquid crystal compound.
  • the alignment film is preferably a photo-alignment film from the viewpoints of accuracy and quality of the alignment angle, water resistance and bending resistance of the optical layered body including the alignment film.
  • the photo-alignment film is also advantageous in that the direction of the alignment regulating force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the irradiated polarized light.
  • the photo-alignment film is usually a composition containing a polymer, oligomer or monomer having a photo-reactive group (hereinafter also referred to as "polymer having a photo-reactive group, etc.”) and a solvent (hereinafter referred to as “photo-alignment film forming composition”) is applied onto a substrate or, if necessary, a diffusion prevention layer provided on the substrate, and irradiated with polarized light (preferably polarized UV).
  • the substrate on which the photo-alignment film is formed the same substrate film as the optical laminate of the present invention can be used.
  • the polymer or the like contained in the photo-alignment film-forming composition has the same reactive group as the functional group of the polymerizable liquid crystal compound that forms the polarizing layer (e.g., (meth) acryloyl group), Adhesion to the polarizing layer tends to improve.
  • the polarizing layer e.g., (meth) acryloyl group
  • a photoreactive group refers to a group that produces liquid crystal alignment ability when irradiated with light.
  • Specific examples include groups involved in photoreactions that cause liquid crystal alignment ability, such as orientation induction of molecules caused by light irradiation, isomerization reactions, dimerization reactions, photocrosslinking reactions, photodecomposition reactions, and the like.
  • a group involved in a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction is preferable from the viewpoint of excellent orientation.
  • Photoreactive groups having a C ⁇ N bond include groups having structures such as aromatic Schiff bases and aromatic hydrazones.
  • groups may have substituents such as alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, allyloxy groups, cyano groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxyl groups, sulfonic acid groups, and halogenated alkyl groups.
  • a photoreactive group that participates in a photodimerization reaction is preferable, the amount of polarized light irradiation required for photoalignment is relatively small, and a photoalignment film having excellent thermal stability and stability over time can be easily obtained.
  • Cinnamoyl and chalcone groups are preferred.
  • a polymer having a photoreactive group a polymer having a cinnamoyl group having a cinnamic acid structure at the end of the polymer side chain is particularly preferable.
  • a photo-alignment inducing layer can be formed, for example, by coating a composition for forming a photo-alignment film on a substrate or a diffusion prevention layer provided on a substrate.
  • the solvent contained in the composition include the same solvents as those previously exemplified as solvents that can be used in forming the polarizing layer, and are appropriately selected according to the solubility of the polymer having a photoreactive group. can do.
  • the content of the polymer or the like having a photoreactive group in the composition for forming a photo-alignment film can be appropriately adjusted depending on the type of the polymer or the like and the thickness of the desired photo-alignment film, but the mass of the composition for forming a photo-alignment film is preferably at least 0.2% by mass, more preferably in the range of 0.3 to 10% by mass.
  • the composition for forming a photo-alignment film may contain a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide, or a photosensitizer, as long as the properties of the photo-alignment film are not significantly impaired.
  • the method of applying the composition for forming a photo-alignment film onto the substrate or onto the diffusion prevention layer, and the method of removing the solvent from the composition for forming a photo-alignment film that has been coated include the composition for forming a polarizing layer.
  • the same method as the method of applying to the material and the method of removing the solvent can be used.
  • Irradiation with polarized light may be in the form of directly irradiating polarized UV to the coating film of the composition for forming a photo-alignment film after removing the solvent, or in the form of irradiating polarized light from the substrate side and transmitting the polarized light. .
  • the polarized light is substantially parallel light.
  • the wavelength of polarized light to be irradiated is preferably in a wavelength range in which a photoreactive group such as a polymer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet rays) with a wavelength in the range of 250 to 400 nm is particularly preferred.
  • Examples of the light source used for the polarized irradiation include a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and an ultraviolet light laser such as KrF and ArF. preferable.
  • a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp are preferable because of their high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm.
  • Polarized UV can be emitted by passing the light from the light source through a suitable polarizer.
  • a polarizing filter, a polarizing prism such as Glan-Thompson or Glan-Taylor, or a wire grid type polarizer can be used.
  • the number average molecular weight of the photo-alignment film is preferably 20,000 to 100,000, more preferably 25,000 or more, more preferably 90,000 or less, still more preferably 80,000 or less.
  • the number average molecular weight of the photo-alignment film can be controlled by adjusting the amount of the monomer used in the composition for forming the photo-alignment film, the type and amount of the polymerization initiator, and the like.
  • number average molecular weight of the photo-alignment film substantially corresponds to the number average molecular weight of the polymer constituting the cured photo-alignment film, and is measured using a measuring instrument such as gel permeation chromatography. is the molecular weight calculated by measuring the cured photo-alignment film itself.
  • the thickness of the photo-alignment film is preferably 10-5000 nm, more preferably 10-1000 nm, still more preferably 30-300 nm.
  • the thickness of the photo-alignment film is within the above range, it is possible to exhibit good adhesion at the interface with the polarizing layer and exhibit alignment ordering power, so that the polarizing layer can be formed with high alignment order.
  • the optical layered body of the present invention may further include an anti-diffusion layer between the first stress relieving layer and the polarizing layer.
  • the existence of the anti-diffusion layer between the first stress relaxation layer and the polarizing layer can effectively suppress the diffusion of the dichroic dye in the polarizing layer to other layers.
  • the laminate is incorporated into a display device or the like, deterioration of optical properties over time due to diffusion of the dichroic dye can be suppressed.
  • the diffusion prevention layer is preferably provided adjacent to the polarizing layer on the first stress relieving layer side of the polarizing layer, and the first stress relieving layer side of the polarizing layer and the retardation layer It is more preferable that the polarizing layer is provided on both sides, adjacent to the polarizing layer, or only via the alignment film forming the polarizing layer.
  • the anti-diffusion layer is provided on both the first stress relieving layer side and the retardation layer side of the polarizing layer, they may be the same or different.
  • the diffusion prevention layer is not particularly limited as long as it is a layer having a function of preventing diffusion of the dichroic dye.
  • water-soluble polymer has a significantly different polarity than the dichroic dye, it can prevent the diffusion of the dichroic dye.
  • water-soluble polymers that can form the diffusion barrier layer include polyacrylamide-based polymers; polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers, (meth)acrylic acid or its anhydride-vinyl alcohol copolymers alcohol-based polymers; carboxyvinyl-based polymers; polyvinylpyrrolidone; starches; sodium alginate; These polymers may be used alone or in combination of two or more.
  • the diffusion prevention layer is a layer formed from a resin composition containing a water-soluble polymer (hereinafter also referred to as a "water-soluble polymer-containing resin composition")
  • the content of the water-soluble polymer in the layer is preferably 75%. % by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 85% by mass or more.
  • the diffusion-preventing layer is a layer formed from a resin composition containing a water-soluble polymer
  • a cross-linked structure is formed by using a cross-linking agent to increase the denseness of the layer and improve the diffusion-preventing function of the dichroic dye.
  • cross-linking agents include, for example, ionic cross-linking agents such as glyoxylate, water-soluble additives and cross-linking agents such as epoxy cross-linking agents, isocyanate cross-linking agents, glyoxal for the purpose of imparting water resistance.
  • Hydrophobic cross-linking agents such as polyhydric aldehyde-based cross-linking agents such as glyoxal derivatives and metal compound-based cross-linking agents such as zirconium chloride-based or titanium lactate-based cross-linking agents may also be used.
  • the amount to be added may be appropriately determined according to the type of cross-linking agent used. For example, it may be 0.1 to 100 parts by mass, preferably 1 to 50 parts by mass, and more preferably 10 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the water-soluble polymer.
  • the content of the cross-linking agent is within the above range, the anti-diffusion layer becomes dense, and the effect of shielding the dichroic dye in the light absorption anisotropic film is likely to be improved.
  • a water-soluble polymer-containing resin composition capable of forming a diffusion prevention layer is usually prepared as a solution in which a water-soluble polymer is dissolved in a solvent.
  • the solvent may be selected according to the water-soluble polymer to be used, but typically includes water, alcohol, a mixture of water and alcohol, and the like, with water being preferred.
  • the solid content concentration of the water-soluble polymer-containing resin composition obtained by adding a solvent to the components constituting the diffusion prevention layer such as the water-soluble polymer and the cross-linking agent is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 2 to 50% by mass. 30% by mass.
  • the solid content concentration of the water-soluble polymer-containing resin composition is within the above range, the viscosity of the composition is low, and therefore the coating property and handleability are improved.
  • the water-soluble polymer-containing resin composition may contain other components such as additives in addition to the water-soluble polymer, cross-linking agent, and solvent such as water. Such other ingredients include, for example, preservatives, leveling agents, and the like.
  • the amount thereof is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, based on the solid content of the resin composition.
  • a diffusion prevention layer can be obtained by coating a surface on which a diffusion prevention layer is to be formed with a resin composition containing a water-soluble polymer, and drying and curing the coating film.
  • the method of applying the water-soluble polymer-containing resin composition is not particularly limited, and includes known methods similar to the method of applying the composition for forming a polarizing layer to a substrate or the like.
  • the drying temperature, time, and the like for forming the diffusion prevention layer from the coating film of the water-soluble polymer-containing resin composition are not particularly limited, and may be appropriately determined according to the composition of the water-soluble polymer-containing resin composition to be used.
  • the drying treatment can be carried out, for example, by blowing hot air, and the temperature is usually in the range of 40-100°C, preferably 60-100°C. Also, the drying time is usually 10 to 600 seconds.
  • a curable composition containing an active energy ray-curable resin capable of forming a diffusion prevention layer includes a cation containing a cationically polymerizable compound as a curable compound.
  • cationic polymerizable compounds include epoxy compounds having one or more epoxy groups in the molecule, oxetane compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and vinyl compounds.
  • radically polymerizable compounds include (meth)acrylic compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, vinyl compounds, and the like.
  • the diffusion prevention layer-forming curable composition can contain one or more cationic polymerizable compounds and/or can contain one or more radically polymerizable compounds.
  • the cationic polymerizable compound which is the main component of the cationic polymerizable curable composition, is a compound that undergoes a cationic polymerization reaction and cures when irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, or by heating. It refers to oligomers, and examples thereof include epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl compounds. Among them, preferred cationic polymerizable compounds are epoxy compounds.
  • An epoxy compound is a compound having one or more, preferably two or more epoxy groups in the molecule.
  • An epoxy compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • Examples of epoxy compounds include alicyclic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds, hydrogenated epoxy compounds, and aliphatic epoxy compounds.
  • the epoxy compound preferably contains an alicyclic epoxy compound and an aliphatic epoxy compound from the viewpoint of weather resistance, curing speed and adhesiveness.
  • the content of the epoxy compound is It is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more, still more preferably 20 parts by mass or more, preferably 70 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, and even more preferably 50 parts by mass or less.
  • the content of the cationic polymerizable compound is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
  • the cationic polymerization type curable composition may further contain a polymer component (thermoplastic resin, etc.).
  • the diffusion prevention layer-forming curable composition contains a cationic polymerizable compound
  • it preferably contains a photocationic polymerization initiator.
  • Photocationic polymerization initiators generate cationic species or Lewis acids by irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams, and initiate the polymerization reaction of cationic curable compounds. . Since the photocationic polymerization initiator acts catalytically with light, it is excellent in storage stability and workability even when mixed with a photocationically curable compound.
  • Examples of compounds that generate cationic species or Lewis acids upon irradiation with active energy rays include onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, and iron-arene complexes.
  • the photocationic polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • aromatic sulfonium salts are preferably used because they have ultraviolet absorption properties even in a wavelength region around 300 nm, so that they are excellent in curability and can give a cured product having good mechanical strength and adhesive strength.
  • the content of the photocationic polymerization initiator in the curable composition for forming the diffusion prevention layer is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the curable compound. be.
  • the content of the cationic photopolymerization initiator is within the above range, the cationic polymerizable compound can be sufficiently cured, and high mechanical strength and adhesive strength can be imparted to the obtained diffusion prevention layer.
  • a hybrid type curable composition can be obtained by adding a radically polymerizable compound to the cationic polymerizable curable composition in addition to the cationic polymerizable compound.
  • a radically polymerizable compound By using a radically polymerizable compound together, the effect of increasing the hardness and mechanical strength of the diffusion prevention layer can be expected, and the viscosity, curing speed, etc. of the curable composition can be more easily adjusted.
  • the radically polymerizable compound which is the main component of the radically polymerizable curable composition, is a compound that undergoes a radical polymerization reaction and is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays, or by heating. It refers to an oligomer, specifically a compound having an ethylenically unsaturated bond.
  • Compounds having an ethylenically unsaturated bond include (meth)acrylic compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, as well as styrene, styrenesulfonic acid, vinyl acetate, vinyl propionate, and N-vinyl.
  • vinyl compounds such as -2-pyrrolidone; Among them, preferred radically polymerizable compounds are (meth)acrylic compounds.
  • the (meth)acrylic compound is a compound having at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and may be a monomer, oligomer or polymer.
  • Examples of (meth)acrylic compounds include (meth)acrylate compounds such as monofunctional (meth)acrylate compounds and polyfunctional (meth)acrylate compounds; urethane (meth)acrylate compounds such as polyfunctional urethane (meth)acrylate compounds; Epoxy (meth)acrylate compounds such as polyfunctional epoxy (meth)acrylate compounds; carboxyl group-modified epoxy (meth)acrylate compounds, polyester (meth)acrylate compounds, and the like.
  • the (meth)acrylic compounds may be used singly or in combination of two or more.
  • the (meth)acrylate compounds include monofunctional (meth)acrylate compounds having one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and polyfunctional (meth)acrylate compounds having two or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule. Acrylate compounds are mentioned.
  • the crosslink density of the diffusion prevention layer can be adjusted by controlling the molecular weight between crosslink points and the number of crosslink points of the compound. More specifically, the smaller the molecular weight between cross-linking points, the higher the cross-linking density, and the higher the number of cross-linking points, the denser the cross-linking density, which can enhance the shielding property against the dichroic dye in the light absorption anisotropic film. .
  • a urethane (meth)acrylate compound generally means a reaction product of an isocyanate compound, a polyol compound and a (meth)acrylate compound, and is a polyfunctional urethane (meth)acrylate having two or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule.
  • a compound is preferred. Since the polyfunctional urethane (meth)acrylate compound can form a crosslinked structure, it is advantageous from the viewpoint of improving the dichroic dye diffusion prevention function of the diffusion prevention layer and can impart appropriate toughness.
  • the number of functional groups of the polyfunctional urethane (meth)acrylate compound is preferably 2-5.
  • Epoxy (meth)acrylate compounds include, for example, polyfunctional epoxy (meth)acrylate compounds that can be obtained by an addition reaction between polyglycidyl ether and (meth)acrylic acid and have at least two (meth)acryloyloxy groups in the molecule. ) acrylates and the like. Polyester (meth)acrylate compounds include, for example, compounds having an ester bond and at least two (meth)acryloyl groups (typically (meth)acryloyloxy groups) in the molecule.
  • the diffusion prevention layer-forming curable composition when the diffusion prevention layer-forming curable composition contains a radically polymerizable compound, it preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate compound as the radically polymerizable compound.
  • the content of the polyfunctional (meth)acrylate compound is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 60 parts by mass or more, and still more preferably 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the curable composition. or more, preferably 100 parts by mass or less, more preferably 95 parts by mass or less, and even more preferably 90 parts by mass or less.
  • the diffusion barrier layer-forming curable composition contains a radically polymerizable compound
  • a polyfunctional (meth)acrylate compound and a polyfunctional urethane (meth)acrylate compound are used as the radically polymerizable compound.
  • the ratio of the polyfunctional (meth)acrylate compound and the urethane (meth)acrylate compound is preferably 95:5 to 50:50, more preferably 90:10 to 70:30 (polyfunctional (meth)acrylate compound : urethane (meth)acrylate compound, mass ratio).
  • the diffusion prevention layer-forming curable composition contains a radically polymerizable compound, it preferably contains a radical photopolymerization initiator.
  • a photo-radical polymerization initiator initiates a polymerization reaction of a radical-curable compound by irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, or electron beams.
  • a photoradical polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • photoradical polymerization initiators include acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyldimethylketal, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- Acetophenone initiators such as [4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; benzophenone, 4-chlorobenzophenone and 4, Benzophenone initiators such as 4′-diaminobenzophenone; alkylphenone initiators such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone; benzoin propyl ether and benzoin ether-based initiators such as benzoin ethyl ether; thioxanthone-based initiators such as 4-isopropylthioxanthone; acylphosphin
  • the content of the photoradical polymerization initiator in the diffusion prevention layer-forming curable composition is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 2 to 8 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the curable compound. be.
  • the photoradical polymerization initiator is less likely to remain while sufficiently expressing the polymerization initiation ability and improving the curability, resulting in a decrease in visible light transmittance. etc., can be easily suppressed.
  • the curable composition for forming a diffusion barrier layer may contain an organic solvent in order to adjust the viscosity to be suitable for the coating method to be employed, for example, and may contain substantially no solvent (no solvent).
  • substantially free means not excluding the case where the solvent is unavoidably mixed.
  • Any solvent can be used as long as it can dissolve the components constituting the anti-diffusion layer. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the type and content of the solvent are appropriately selected according to the type, content, shape, coating method, thickness of the diffusion prevention layer, etc. of the components constituting the diffusion prevention layer.
  • the amount thereof is, for example, preferably 3 to 1000 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass, more preferably 7 to 50 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the solid content of the curable composition. is.
  • the curable composition for forming a diffusion prevention layer may optionally contain a cationic polymerization accelerator, a photosensitizer, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow
  • Additives such as modifiers, plasticizers, antifoaming agents, antistatic agents and leveling agents may be contained.
  • a curable composition for forming a diffusion barrier layer is applied to the surface on which the diffusion barrier layer is to be formed, and the coating film is irradiated with active energy rays to cure the composition to obtain the diffusion barrier layer.
  • the method of applying the curable composition for forming the diffusion prevention layer, the type of active energy ray used for curing, the light source, the irradiation conditions, etc. are the same as the method of applying and curing the composition for forming the polarizing layer. Conditions and the like can be adopted.
  • the thickness of the diffusion prevention layer is preferably 0.1 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less, more preferably 0.3 ⁇ m or more and 4 ⁇ m or less, and still more preferably 0.5 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less.
  • the diffusion prevention layer is included on both the first stress relaxation layer side and the retardation layer side of the polarizing layer, the thicknesses thereof may be the same or different.
  • the retardation layer contained in the optical layered body of the present invention is a layer exhibiting a retardation.
  • the retardation layer is preferably a coating layer, more preferably a cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing at least one polymerizable liquid crystal compound.
  • the optical laminate of the present invention suppresses the occurrence of lamination misalignment, wrinkles, etc. when the two outer layer surfaces appearing by peeling the first base film and the second base film are respectively transferred and assembled into a display device. Since it is excellent in the effect of polarizing, it can be expected to have a high circular polarization function even after it is incorporated in a display device or the like by double-sided transfer.
  • the optical laminate of the present invention may contain one or more retardation layers.
  • the optical layered body of the present invention preferably contains a retardation layer that satisfies the following formula (3). 120 nm ⁇ Re(550) ⁇ 170 nm (3)
  • Re( ⁇ ) represents an in-plane retardation value of the retardation layer at a wavelength of ⁇ nm.
  • the in-plane retardation Re (550) of the retardation layer is within the range of formula (3), the retardation layer becomes a retardation layer that functions as a quarter-wave plate, and an optical laminate including the retardation layer
  • the body circularly polarizing plate
  • a more preferable range of the in-plane retardation value is 130 nm ⁇ Re(550) ⁇ 150 nm.
  • the retardation layer satisfying the formula (3) satisfies the following formulas (4) and (5).
  • Re( ⁇ ) represents an in-plane retardation value of the retardation layer at a wavelength of ⁇ nm.
  • the retardation layer has an in-plane retardation value at a short wavelength smaller than an in-plane retardation value at a long wavelength, that is, a so-called reverse wavelength dispersion. show gender.
  • Re(450)/Re(550) is preferably 0.70 or more, more preferably 0.78 or more, from the viewpoint of improving the reverse wavelength dispersion and further enhancing the effect of improving the reflection hue in the front direction. Also, it is preferably 0.92 or less, more preferably 0.90 or less, still more preferably 0.87 or less, particularly preferably 0.86 or less, and most preferably 0.85 or less.
  • Re(650)/Re(550) is preferably 1.01 or more, more preferably 1.02 or more.
  • ny is the refractive index at a wavelength ⁇ nm in a direction parallel to the plane of the retardation layer and perpendicular to the nx direction in the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer. show.
  • the optical laminate of the present invention preferably includes a retardation layer composed of a "horizontally aligned liquid crystal cured layer" in which a polymerizable liquid crystal compound is cured in a state in which it is aligned horizontally with respect to the plane of the substrate, and the above formula ( It is more preferable to include a horizontally aligned liquid crystal cured layer that satisfies 3) to (5).
  • the retardation layer constituting the retardation layer is usually a "horizontally aligned liquid crystal cured layer".
  • the optical laminate of the present invention may further include a retardation layer that is a cured liquid crystal layer (retardation layer) that is a positive C plate, in addition to the retardation layer that is a horizontally aligned liquid crystal cured layer.
  • the cured liquid crystal layer which is a positive C plate, is a "vertically aligned liquid crystal cured layer" in which a polymerizable liquid crystal compound is cured in a state of being vertically aligned with respect to the substrate surface.
  • the front reflection hue can be improved when the optical laminate is applied to an organic EL display device or the like.
  • an improvement in oblique reflection hue can also be expected.
  • the retardation layer which is the vertically aligned liquid crystal cured layer, is preferably arranged between the polarizing layer and the second stress relaxation layer.
  • the liquid crystal cured layer preferably satisfies formula (6).
  • nx represents the principal refractive index at the wavelength ⁇ nm in the direction parallel to the plane of the liquid crystal cured layer in the refractive index ellipsoid formed by the liquid crystal cured layer
  • ny represents the liquid crystal cured layer formed In the refractive index ellipsoid, it is parallel to the plane of the liquid crystal cured layer and represents the refractive index at the wavelength ⁇ nm in the direction orthogonal to the direction of
  • the oblique reflection hue can be improved when the optical laminate (circularly polarizing plate) including the liquid crystal cured layer is applied to an organic EL display device.
  • the retardation value Rth(550) in the thickness direction of the liquid crystal cured layer is more preferably ⁇ 90 nm or more, more preferably ⁇ 80 nm or more, and more preferably ⁇ 50 nm or less.
  • the retardation layer (horizontal alignment liquid crystal cured layer and vertical alignment liquid crystal cured layer) is a polymerizable liquid crystal composition containing at least one polymerizable liquid crystal compound (hereinafter, also referred to as a "composition for forming a retardation layer"). ) consists of a hardened layer.
  • the polymerizable liquid crystal compound can be appropriately selected from conventionally known polymerizable liquid crystal compounds in the field of retardation films according to desired optical properties.
  • a polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having a polymerizable group.
  • the polymerizable liquid crystal compound in general, a polymer (cured product) obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound alone in a state aligned in a specific direction is opposite to the polymerizable liquid crystal compound exhibiting positive wavelength dispersion. and a polymerizable liquid crystal compound exhibiting wavelength dispersion.
  • either one type of polymerizable liquid crystal compound may be used alone, or both types of polymerizable liquid crystal compounds may be mixed and used.
  • the optical laminate when the optical laminate includes a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a vertically aligned liquid crystal cured layer, the polymerizable liquid crystal compounds constituting these layers may be the same or different.
  • the horizontally aligned liquid crystal cured layer is a cured layer of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound exhibiting so-called reverse wavelength dispersion. is preferably
  • the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound forming the retardation layer in the present invention is preferably a photopolymerizable group.
  • a photopolymerizable group is a polymerizable group, and refers to a group that can participate in a polymerization reaction by a reactive species generated from a photopolymerization initiator, such as an active radical or an acid.
  • Examples of photopolymerizable groups include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, oxiranyl group and oxetanyl group. Among them, a (meth)acryloyl group, a vinyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group are preferred, and an acryloyl group is more preferred.
  • the liquid crystallinity exhibited by the polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, but the thermotropic liquid crystal is preferable in that it enables precise film thickness control. Further, the phase-ordered structure of the thermotropic liquid crystal may be nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, or discotic liquid crystal.
  • a polymerizable liquid crystal compound can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • a polymerizable liquid crystal compound having a so-called T-shaped or H-shaped molecular structure tends to exhibit reverse wavelength dispersion when polymerized and cured, and a polymerizable liquid crystal compound having a T-shaped molecular structure exhibits stronger properties. It tends to exhibit reverse wavelength dispersion.
  • the polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse wavelength dispersion is preferably a compound having the following characteristics (A) to (D).
  • A A compound capable of forming a nematic phase or a smectic phase.
  • B The polymerizable liquid crystal compound has ⁇ electrons along the longitudinal direction (a).
  • C It has ⁇ electrons in a direction crossing the major axis direction (a) [intersecting direction (b)].
  • D A polymerizable liquid crystal compound defined by the following formula (i), where N ( ⁇ a) is the sum of ⁇ electrons present in the major axis direction (a), and N (Aa) is the sum of the molecular weights present in the major axis direction.
  • ⁇ electron density in the long axis direction (a) of D( ⁇ a) N( ⁇ a)/N(Aa) (i) and a polymerizable liquid crystal compound defined by the following formula (ii), where N( ⁇ b) is the sum of ⁇ electrons present in the cross direction (b), and N(Ab) is the sum of the molecular weights present in the cross direction (b).
  • a polymerizable liquid crystal compound having ⁇ electrons on the major axis and the direction crossing it generally tends to form a T-shaped structure.
  • the major axis direction (a) and the number of ⁇ electrons N are defined as follows.
  • the long axis direction (a) is, for example, the long axis direction of a rod-like structure in the case of a compound having a rod-like structure.
  • the number of ⁇ electrons N ( ⁇ a) present in the major axis direction (a) does not include ⁇ electrons that disappear due to the polymerization reaction.
  • the number of ⁇ electrons N ( ⁇ a) present along the long axis direction (a) is the total number of ⁇ electrons on the long axis and ⁇ electrons conjugated therewith, for example, present along the long axis direction (a) It includes the number of ⁇ electrons present in a ring that satisfies Hückel's rule.
  • the number of ⁇ electrons N ( ⁇ b) existing in the cross direction (b) does not include ⁇ electrons that disappear due to the polymerization reaction.
  • a polymerizable liquid crystal compound satisfying the above has a mesogenic structure in the major axis direction.
  • a liquid crystal phase (nematic phase, smectic phase) is expressed by this mesogenic structure.
  • a nematic phase or a smectic phase can be formed by heating a polymerizable liquid crystal compound that satisfies the above (A) to (D) above the phase transition temperature.
  • the major axis directions of the polymerizable liquid crystal compound are usually oriented parallel to each other, and the major axis directions are the nematic phase or the smectic phase. orientation direction.
  • This polymer film absorbs ultraviolet rays by ⁇ electrons in the long axis direction (a) and ⁇ electrons in the cross direction (b).
  • ⁇ bmax be the absorption maximum wavelength of ultraviolet rays absorbed by ⁇ electrons in the cross direction (b).
  • ⁇ bmax is typically between 300 nm and 400 nm.
  • the density of ⁇ electrons satisfies the above formula (iii), and the ⁇ electron density in the cross direction (b) is higher than the ⁇ electron density in the major axis direction (a). is greater than the absorption of linearly polarized UV light (wavelength: ⁇ bmax) having a plane of vibration in the major axis direction (a).
  • the ratio (absorbance in cross direction (b) of linearly polarized ultraviolet rays/absorbance in long axis direction (a)) is, for example, more than 1.0, preferably 1.2 or more, usually 30 or less, for example 10 or less. is.
  • the polymerizable liquid crystal compound having the above characteristics generally exhibits reverse wavelength dispersion in the birefringence of the polymer when polymerized in a unidirectionally oriented state.
  • a compound represented by the following formula (X) (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (X)”) can be used.
  • Ar represents a divalent group having an aromatic group which may have a substituent.
  • the aromatic group here include groups exemplified by (Ar-1) to (Ar-23) described later.
  • Ar may also have two or more aromatic groups. At least one or more of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom may be contained in the aromatic group.
  • the number of aromatic groups contained in Ar is two or more, the two or more aromatic groups may be bonded to each other with a single bond, -CO-O-, or a divalent linking group such as -O-. .
  • G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group.
  • the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a carbon may be substituted with an alkoxy group, a cyano group or a nitro group having a number of 1 to 4, and the carbon atoms constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group are an oxygen atom or a sulfur atom; Alternatively, it may be substituted with a nitrogen atom.
  • L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • k and l each independently represent an integer of 0 to 3 and satisfy the relationship 1 ⁇ k+l.
  • B 1 and B 2 and G 1 and G 2 may be the same or different from each other.
  • E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.
  • P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, at least one of which is a polymerizable group.
  • G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenylenediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , a 1,4-cyclohexanediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 substituted with a methyl group ,4-phenylenediyl group, unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, particularly preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted It is a substituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group. At least one of G 1 and G 2 present in plurality is preferably a di
  • R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms
  • R c and R d represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or -OCOR a6-1 - be.
  • R a2-1 , R a4-1 and R a6-1 each independently represent a single bond, —CH 2 — or —CH 2 CH 2 —.
  • L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or -OCO-.
  • R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • B 1 and B 2 are each independently more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or -OCOR a14-1 - be.
  • R a10-1 , R a12-1 and R a14-1 each independently represent a single bond, —CH 2 — or —CH 2 CH 2 —.
  • B 1 and B 2 are each independently more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, -OCO- or -OCOCH 2 CH 2 - be.
  • Polymerizable groups represented by P 1 or P 2 include epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyl group, oxiranyl group, and oxetanyl group and the like. Among them, a (meth)acryloyl group, a vinyl group and a vinyloxy group are preferred, and a (meth)acryloyl group is more preferred.
  • Ar preferably has at least one selected from an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, an optionally substituted aromatic heterocyclic ring, and an electron-withdrawing group.
  • aromatic hydrocarbon ring examples include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring and the like, with benzene ring and naphthalene ring being preferred.
  • aromatic heterocyclic ring examples include furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, indole ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, triazole ring, triazine ring, pyrroline ring, imidazole ring, and pyrazole ring.
  • the nitrogen atom preferably has a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring, and more preferably has a benzothiazole ring.
  • the nitrogen atom preferably has a ⁇ electron.
  • the total number N ⁇ of ⁇ electrons possessed by the group represented by Ar is usually 6 or more, preferably 8 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 14 or more, Especially preferably, it is 16 or more. Also, it is preferably 36 or less, more preferably 32 or less, even more preferably 26 or less, and particularly preferably 24 or less.
  • aromatic groups contained in Ar include the following groups.
  • the * mark represents a connecting portion
  • Z 0 , Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl having 1 to 12 carbon atoms.
  • Z 0 , Z 1 and Z 2 may contain a polymerizable group.
  • Q 1 and Q 2 are each independently -CR 2' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2' -, - represents CO— or —O—, and R 2′ and R 3′ each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
  • J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.
  • Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.
  • W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group or a halogen atom, and m represents an integer of 0-6.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and biphenyl group. , is preferably a naphthyl group, more preferably a phenyl group.
  • the aromatic heterocyclic group includes a C4-20 group containing at least one heteroatom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group and a benzothiazolyl group.
  • An aromatic heterocyclic group can be mentioned, and a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group are preferable.
  • Y 1 , Y 2 and Y 3 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group.
  • a polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring assembly.
  • a polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a condensed polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring assembly.
  • Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and Z 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group. Moreover, Z 0 , Z 1 and Z 2 may contain a polymerizable group.
  • Q 1 and Q 2 are preferably -NH-, -S-, -NR 2' - and -O-, and R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O- and -NH- are particularly preferred.
  • formulas (Ar-1) to (Ar-23) are preferable from the viewpoint of molecular stability.
  • Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is attached and Z 0 .
  • the aromatic heterocyclic group include those described above as the aromatic heterocyclic ring that Ar may have, and examples thereof include pyrrole ring, imidazole ring, pyrroline ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, and indole.
  • This aromatic heterocyclic group may have a substituent.
  • Y 1 together with the nitrogen atom and Z 0 to which it is attached, may be the aforementioned optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group.
  • examples include benzofuran ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring and the like.
  • the compound represented by formula (X) can be produced, for example, according to the method described in JP-A-2010-31223.
  • polymerizable liquid crystal compound (Y) a compound containing a group represented by the following formula (Y) (hereinafter also referred to as "polymerizable liquid crystal compound (Y)") may be used.
  • the polymerizable liquid crystal compound (Y) generally tends to exhibit positive wavelength dispersion.
  • These polymerizable liquid crystal compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • P11-B11-E11-B12-A11-B13- (Y) [In formula (Y), P11 represents a polymerizable group.
  • A11 represents a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group.
  • B11 is -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16 -, -NR 16 -CO-, -CO-, - represents CS- or a single bond.
  • R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • E11 represents an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group and alicyclic hydrocarbon group of A11 is preferably in the range of 3 to 18, more preferably in the range of 5 to 12, particularly 5 or 6. preferable.
  • a hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and the divalent aromatic hydrocarbon group represented by A11 is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, It may be substituted with a cyano group or a nitro group, and hydrogen atoms contained in the C1-6 alkyl group and the C1-6 alkoxy group may be substituted with a fluorine atom.
  • A11 is preferably a cyclohexane-1,4-diyl group or a 1,4-phenylene group.
  • E11 is preferably a linear alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • —CH 2 — constituting the alkanediyl group may be replaced with —O—.
  • B11 is preferably -O-, -S-, -CO-O- or -O-CO-, and more preferably -CO-O-.
  • the polymerizable group represented by P11 a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group is preferable in terms of high polymerization reactivity, particularly photopolymerization reactivity, and handling is easy, and the production of the liquid crystal compound itself is also easy. Therefore, the polymerizable group is preferably a group represented by the following formulas (P-11) to (P-15).
  • R 17 to R 21 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • P11 is preferably a group represented by formulas (P-14) to (P-20), more preferably a vinyl group, a p-stilbene group, an epoxy group or an oxetanyl group. More preferably, the group represented by P11-B11- is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.
  • Examples of the polymerizable liquid crystal compound (Y) include compounds represented by formula (I), formula (II), formula (III), formula (IV), formula (V) or formula (VI).
  • P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 I) P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11
  • II P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12
  • III P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11
  • P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 V) P11-B11-E11-B12-A11-B13-
  • F11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a dimethylamino group, a hydroxyl group, a methylol group, a formyl group, a sulfo group; (—SO 3 H), a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and —CH 2 — constituting the alkyl group and the alkoxy group may be replaced with —O— good.
  • Both the polymerizable liquid crystal compound (X) and the polymerizable liquid crystal compound (Y) can be used horizontally or vertically. Moreover, the polymerizable liquid crystal compound (X) and the polymerizable liquid crystal compound (Y) may be used alone, or two or more of them may be used, or both may be used in combination.
  • the content of the polymerizable liquid crystal compound in the retardation layer-forming composition is, for example, 70 to 99.5 parts by mass, preferably 80 to 99.5 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the solid content of the retardation layer-forming composition. 99 parts by mass, preferably 85 to 98 parts by mass, and even more preferably 90 to 95 parts by mass. If the content of the polymerizable liquid crystal compound is within the above range, it is advantageous from the viewpoint of the orientation of the obtained retardation layer. When the retardation layer-forming composition contains two or more polymerizable liquid crystal compounds, the total amount of all the liquid crystal compounds contained in the retardation layer-forming composition is preferably within the above content range. .
  • the retardation layer-forming composition may contain a polymerization initiator for initiating the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the polymerization initiator can be appropriately selected from those conventionally used in the field, and may be a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator is preferable because it can initiate a polymerization reaction.
  • Suitable photopolymerization initiators that can be used in the polarizing layer-forming composition are the same as those exemplified above.
  • the composition for forming a retardation layer is usually applied to a base film or the like in a state of being dissolved in a solvent, it preferably contains a solvent.
  • a solvent capable of dissolving the polymerizable liquid crystal compound is preferable, and a solvent inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is preferable.
  • the solvent include those exemplified above as usable in the polarizing layer-forming composition.
  • composition for forming a retardation layer may contain the additives exemplified as additives contained in the photosensitizer, the leveling agent, and the composition for forming the polarizing layer, if necessary.
  • the photosensitizer and leveling agent include those exemplified above as usable in the polarizing layer-forming composition.
  • a composition for forming a retardation layer can be prepared, for example, by mixing and stirring a polymerizable liquid crystal compound and, if necessary, a polymerization initiator, a solvent, additives, and the like.
  • the retardation layer is formed, for example, by coating a retardation layer-forming composition on a substrate or an alignment film, drying the obtained coating film, and removing the polymerizable liquid crystal compound in the retardation layer-forming composition. After orienting the polymerizable liquid crystal compound, the polymerizable liquid crystal compound is polymerized by light irradiation or the like while maintaining the orientation state.
  • the substrate include the same substrate films as those constituting the optical layered body of the present invention.
  • the alignment film in addition to the photo-alignment film exemplified above as a film that can be used in producing the polarizing layer of the present invention, an alignment film containing an alignment polymer, and a groove alignment film having an uneven pattern or a plurality of grooves on the surface. A film or the like may be mentioned, and an appropriate selection may be made according to the desired alignment control force and the like.
  • oriented polymer examples include polyamides and gelatins having an amide bond in the molecule, polyimide having an imide bond in the molecule and its hydrolysates such as polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, poly Oxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid esters. Among them, polyvinyl alcohol is preferred.
  • Orientation polymer can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • An alignment film containing an alignment polymer is usually formed by applying a composition in which an alignment polymer is dissolved in a solvent (hereinafter also referred to as an "alignment polymer composition") to the surface of a substrate film or the like on which an alignment film is to be formed. , the solvent is removed, or the oriented polymer composition is applied to the substrate, the solvent is removed, and rubbing is performed (rubbing method).
  • a solvent hereinafter also referred to as an "alignment polymer composition”
  • the solvent include the same solvents as those previously exemplified as the solvent that can be used in the polarizing layer-forming composition.
  • the concentration of the oriented polymer in the oriented polymer composition may be within a range in which the oriented polymer material can be completely dissolved in the solvent. 0.1 to 10% is more preferable.
  • a commercially available alignment film material may be used as it is as the alignment polymer composition.
  • Commercially available alignment film materials include Sanever (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and Optomer (registered trademark, manufactured by JSR Corporation).
  • the method of applying the oriented polymer composition to the surface of the substrate or the like on which the orientation film is to be formed and the method of removing the solvent in the coating film include the method of applying the polarizing layer-forming composition to the substrate film or the like, and the method of removing the solvent in the coating film.
  • a method similar to the method for removing the solvent in the coating film can be employed.
  • a rubbed alignment film is obtained by subjecting the dried coating film of the resulting alignment polymer composition to a rubbing treatment.
  • the rubbing treatment include a method in which a rubbing roll wound with a rubbing cloth and rotating is brought into contact with a dry coating film of the oriented polymer composition.
  • a plurality of regions (patterns) with different alignment directions can be formed in the alignment film by masking during the rubbing process.
  • a groove alignment film is a film having an uneven pattern or a plurality of grooves on its surface.
  • a polymerizable liquid crystal compound is applied to a film having a plurality of linear grooves arranged at regular intervals, liquid crystal molecules are aligned along the grooves.
  • a method for obtaining a grooved alignment film after exposure through an exposure mask having patterned slits on the surface of a photosensitive polyimide film, development and rinsing are performed to form an uneven pattern, and a plate having grooves on the surface.
  • the thickness of the alignment film (orientation film or photo-alignment film containing an alignment polymer) for forming the retardation layer is usually in the range of 10 to 10000 nm, preferably in the range of 10 to 2500 nm, more preferably 10 1000 nm or less, more preferably 10 to 500 nm, particularly preferably 50 to 250 nm.
  • the thickness of the retardation layer can be appropriately selected according to the display device to which it is applied. More preferably, it is 1 to 3 ⁇ m.
  • the thickness of each retardation layer included in the retardation layer may be the same or different, but each should be within the above range. preferable.
  • the optical laminate of the present invention includes a retardation layer composed of a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a retardation layer composed of a vertically aligned liquid crystal cured layer
  • the vertically aligned liquid crystal cured layer is between the polarizing layer and the second stress relaxation layer.
  • a retardation layer made of a horizontally aligned liquid crystal cured layer and a retardation layer made of a vertically aligned liquid crystal cured layer are included, a polarizing layer, an adhesive layer, a first retardation layer, a second retardation layer and a second It is preferable that the layers are laminated in the order of the stress relaxation layers.
  • either the retardation layer that is the horizontally aligned liquid crystal cured layer or the retardation layer that is the vertically aligned liquid crystal cured layer may be arranged on the polarizing layer side (that is, the first retardation layer).
  • the retardation layer composed of the horizontally aligned liquid crystal cured layer and the retardation layer composed of the vertically aligned liquid crystal cured layer may be bonded via an adhesive layer, or a vertically aligned liquid crystal cured layer may be provided with a vertical alignment regulation layer.
  • a vertically aligned liquid crystal cured layer is laminated with or without an alignment film having a force, or a horizontal alignment layer is laminated on a vertically aligned liquid crystal cured layer with or without an alignment film having a horizontal alignment regulating force.
  • An oriented liquid crystal cured layer may be laminated.
  • the adhesive layer arranged between the polarizing layer and the retardation layer is a layer formed from an adhesive.
  • the tacky-adhesive layer can be formed from a known tacky-adhesive agent as long as it can function as a layer for bonding the polarizing layer and the retardation layer.
  • the pressure-sensitive adhesive or adhesive is not particularly limited, and conventionally known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used without particular limitations. Examples of adhesives include adhesives having a base polymer such as acrylic, rubber, urethane, silicone, and polyvinyl ether. Alternatively, an energy ray-curable adhesive, a heat-curable adhesive, or the like may be used. Examples of adhesives include active energy ray-curable adhesives, water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, and non-solvent-based adhesives. In one embodiment of the invention, the adhesive layer is formed from an adhesive.
  • the thickness of the adhesive layer is usually 1-40 ⁇ m, preferably 3-25 ⁇ m.
  • the slow axis (optical axis) of the retardation layer and the absorption axis of the polarizing layer are substantially at 45°.
  • a function as a circularly polarizing plate can be obtained.
  • substantially 45° is usually in the range of 45 ⁇ 5°.
  • the optical laminate of the present invention comprises a first substrate film, a first stress relaxation layer, a polarizing layer, an adhesive layer, a retardation layer, and a second stress relaxation layer so as to have a desired structure according to its use.
  • the second base film, and if necessary, the alignment film, the diffusion prevention layer, etc. can be produced by forming and laminating them in an appropriate order according to the production method described above for each layer.
  • the substrate film / diffusion Prepare a laminate (A) containing in this order the prevention layer / alignment film / polarizing layer / diffusion prevention layer / adhesive layer / retardation layer / alignment film / base film; furthermore, on the first base film forming a first stress relaxation layer on the first base film/first stress relaxation layer/base film laminate (B); and forming a second stress relaxation layer on the second base film, A laminate (C) consisting of a second base film/second stress relaxation layer/base film is produced; the base film of the laminate (A) and
  • the diffusion prevention layer and the first stress relaxation layer are laminated, and the base film of both outer layers of the laminate (A), the base film of the laminate (B), and the base film of the laminate (C) are attached.
  • the first base film / first stress relaxation layer / diffusion prevention layer / orientation An optical layered body is obtained which includes film/polarizing layer/diffusion prevention layer/adhesive layer/retardation layer/orientation film/second stress relaxation layer/second substrate film in this order.
  • the total thickness of the layers located between the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer is 20 ⁇ m or less.
  • the present invention has a structure suitable for suppressing the occurrence of lamination misalignment and wrinkles that tend to occur during transfer in a thin optical laminate, and is arranged between the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer.
  • a laminated body having a thin structure (laminated body) for providing a circularly polarized light function consisting of a polarizing layer, a retardation layer, and the like a more remarkable effect of the present invention is likely to be obtained.
  • the total thickness of the layers positioned between the first stress relieving layer and the second stress relieving layer is preferably 18 ⁇ m or less, more preferably 16 ⁇ m or less, although it varies depending on the desired layer structure.
  • the lower limit of the total thickness of the layers located between the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer is not particularly limited, it is usually 5 ⁇ m or more.
  • the peel force (F1) when peeling the first base film from the optical laminate and the peel force (F2) when peeling the second base film from the optical laminate are , equation (2): 0.02 (N/25mm) ⁇
  • the peel force F1 and the peel force F2 satisfy the relationship represented by the formula (2), the adhesion force of the first substrate film in the optical layered body and the adhesion force of the second substrate film in the optical layered body there is a moderate strength relationship between Therefore, when the above relationship is satisfied, the first base material and the second base material can be easily peeled off from the optical layered body in the desired order.
  • the peeling force of the base film that is peeled off first from the optical laminate is smaller than the peeling force of the base film that is peeled off later, the base film is easily peeled off, making it difficult to transfer to a transfer target. Lamination displacement and wrinkles are less likely to occur.
  • the absolute value of F1-F2 in the present invention is preferably 0.03 N/25 mm or more, more preferably 0.04 N/25 mm or more, from the viewpoint that such effects can be more easily improved.
  • the upper limit of the absolute value of F1-F2 is usually 0.3 N/25 mm or less, preferably 0.2 N/25 mm or less, more preferably 0.08 N/25 mm or less.
  • the value of F1-F2 can be controlled by adjusting the release force F1 and the release force F2 respectively.
  • the release force F1 and the release force F2 are designed so that the release force on the side of the substrate that is released first is smaller than the release force on the side of the substrate that is released later.
  • the peel force F1 is preferably less than 0.30 N/25 mm, more preferably 0.25 N/25 mm or less, even more preferably 0.15 N/25 mm or less.
  • the upper limit of the peeling force F1 is within the above range, the first substrate film can be easily peeled off from the optical layered body, and in relation to the peeling force F2, it is within an effective range for suppressing lamination misalignment, wrinkles, and the like. It is easy to control the peeling force F1.
  • the peel force F1 is preferably 0.04 N/25 mm or more, more preferably 0.06 N/25 mm or more, and still more preferably 0.08 N/25 mm or more.
  • the peeling force F1 is equal to or more than the above lower limit, the unintended first substrate before transferring the laminate into a display device or the like while ensuring easy peelability when peeling the first substrate film from the optical laminate Detachment of the film can be suppressed.
  • the peel force F2 is preferably less than 0.30N/25mm, more preferably 0.25N/25mm or less, and even more preferably 0.15N/25mm or less.
  • the peel force F2 is preferably 0.01 N/25 mm or more, more preferably 0.02 N/25 mm or more, and still more preferably 0.03 N/25 mm or more.
  • the peeling force F2 is equal to or higher than the lower limit, while ensuring easy peelability when peeling the second base material film from the optical laminate, the second base material is not intended before transfer to incorporate the laminate into a display device or the like. Detachment of the film can be suppressed.
  • the peel forces F1 and F2 are respectively the substrate film on the opposite side of the substrate film whose peel force is to be measured in the optical laminate to be measured (for example, the second substrate film when measuring F1, and the second substrate film when measuring F2).
  • the peel force can be measured according to the 90° peel test method specified in JIS K 6854-1:1999. A detailed method for measuring the peeling forces F1 and F2 will be described in Examples below.
  • the peeling force F1 and the peeling force F2 are determined, for example, by the structure and thickness of the layers adjacent to the first base film and the second base film, the types and thicknesses of the first base film and the second base film, It can be adjusted by surface treatment or the like of the first base film, the second base film and/or the layer adjacent to these base films. For example, modifying the surface of the first base film and/or the second base film, or providing a release force adjusting layer as a layer adjacent to the first base film or the second base film. Thus, the peeling force of the first base film or the second base film from the optical laminate can be controlled.
  • both the peelable first substrate film and the peelable second substrate film constituting the optical layered body are peeled off, and only the layered structure having a circularly polarizing plate function is covered. It is used by transferring it to a transfer body.
  • the optical laminate of the present invention includes the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer, and is excellent in suppressing the occurrence of wrinkles and lamination displacement when the base film is peeled off and transferred to the substrate. .
  • the optical layered body of the present invention can be prepared by using a general apparatus conventionally and widely used in the relevant field for manufacturing an optical film, an optical layered body, etc., using a first substrate or a second substrate in the desired order. It can be continuously and easily peeled off from the optical layered body.
  • a display device is a device having a display element, and includes a light-emitting element or a light-emitting device as a light source.
  • Examples of display devices include liquid crystal displays, organic electroluminescence (EL) displays, inorganic electroluminescence (EL) displays, touch panel displays, electron emission displays (e.g. field emission displays (FED), surface field emission displays). (SED)), electronic paper (display device using electronic ink or electrophoretic element, plasma display device, projection display device (e.g.
  • Liquid crystal display devices include transmissive liquid crystal display devices, semi-transmissive liquid crystal display devices, reflective liquid crystal display devices, direct view liquid crystal display devices, projection liquid crystal display devices, and the like. These display devices may be display devices that display two-dimensional images, or may be stereoscopic display devices that display three-dimensional images.
  • composition for forming a photo-alignment film was obtained by mixing the following components and stirring the resulting mixture at 80° C. for 1 hour.
  • Photo-alignable polymer polymer described in JP-A-2013-033249 (number average molecular weight: about 28200, Mw / Mn: 1.82) 2 parts
  • Polarizing Layer-Forming Composition The following components were mixed and stirred at 80° C. for 1 hour to obtain a polarizing layer-forming composition.
  • dichroic dye an azo dye described in Examples of JP-A-2013-101328 was used.
  • ⁇ Polymerizable liquid crystal compound A1 75 parts
  • ⁇ Polymerization initiator 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (Irgacure 369; manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 6 parts
  • ⁇ Leveling agent polyacrylate compound (BYK-361N; manufactured by BYK-Chemie) 1.2 parts
  • Solvent o-xylene 250 parts
  • the composition for forming a photo-alignment film was applied using a bar coater to form a coating film.
  • the coating film was dried at 100° C. for 2 minutes to remove the solvent and form a dry film.
  • the dry film was irradiated with polarized UV light at an intensity of 20 mJ/cm 2 (313 nm standard) to impart an alignment regulating force to form a photo-alignment film A of 50 nm.
  • the composition for forming a polarizing layer was applied using a bar coater to form a coating film. Furthermore, the solvent was removed by drying at 110° C. for 2 minutes, and the polymerizable liquid crystal compound was phase-transitioned to a liquid phase, and then cooled to room temperature to phase-transition the polymerizable liquid crystal compound to a smectic liquid crystal state. . Thereafter, the resulting dry film is irradiated with ultraviolet light at 1000 mJ/cm 2 (365 nm standard) using a high-pressure mercury lamp to polymerize the polymerizable liquid crystal compound contained in the dry film while maintaining the smectic liquid crystal state. to form a 3 ⁇ m polarizing layer.
  • a 3% by mass aqueous solution of the water-soluble polymer (1) was applied using a bar coater, dried at 100° C. for 2 minutes, and the water-soluble polymer ( A 2 ⁇ m-thick anti-diffusion layer B composed of the film of 1) was formed to obtain a polarizing plate (1) composed of substrate 1/diffusion-preventing layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion-preventing layer B.
  • the composition for forming a retardation layer was applied by a bar coater to form a coating film.
  • This coating film was dried by heating at 120° C. for 2 minutes and then cooled to room temperature to obtain a dry film. Then, using an ultraviolet light irradiation device, the dry film was irradiated with ultraviolet light at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 (365 nm standard), thereby aligning the polymerizable liquid crystal compound in the horizontal direction with respect to the substrate surface.
  • a retardation film (1) composed of substrate 2/photo-alignment film B/retardation layer (horizontally aligned liquid crystal cured layer) was obtained.
  • laminate A1 The anti-diffusion layer B surface of the polarizing plate (1) prepared above and the retardation layer surface of the retardation film (1) are coated with an adhesive (manufactured by Lintec Corporation, pressure-sensitive adhesive 5 ⁇ m Thickness), the angle formed by the absorption axis of the polarizing plate (1) and the slow axis of the retardation film (1) is 45 °, substrate 1 / anti-diffusion layer A / light
  • a laminate A1 consisting of alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo alignment film B/substrate 2 was obtained.
  • Table 2 shows the composition of the vertically aligned liquid crystal cured layer forming composition. After mixing each component and stirring the obtained solution at 80 degreeC for 1 hour, it cooled to room temperature and obtained the composition for vertical alignment liquid-crystal cured layer forming.
  • LR9000 in Table 2 is Laromer (registered trademark) LR-9000 manufactured by BASF Japan
  • Irg907 is Irgacure (registered trademark) 907 manufactured by BASF Japan
  • BYK361N is a leveling agent manufactured by BYK Chemie Japan
  • LC242 represents a polymerizable liquid crystal manufactured by BASF Corporation represented by the following formula
  • PGMEA represents propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate.
  • a composition for forming a vertically aligned liquid crystal cured layer was applied on the alignment film C using a bar coater, dried at 90° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp (under nitrogen atmosphere, wavelength 365 nm). integrated light intensity at 1000 mJ/cm 2 ) to form a vertically aligned liquid crystal cured layer with a thickness of 500 nm in which the polymerizable liquid crystal compound is cured in a state aligned in the direction perpendicular to the plane of the substrate; A laminate consisting of alignment film C/cured layer of vertically aligned liquid crystal was obtained.
  • a cationically polymerizable adhesive layer-forming curable composition is prepared by mixing a cationic polymerizable compound and a cationic polymerization initiator described below, followed by defoaming. did.
  • the cationic polymerization initiator was blended as a 50% by mass propylene carbonate solution, and the solid content is shown.
  • Laminate A2 After subjecting the surface of the vertically aligned liquid crystal cured layer of the laminate composed of substrate 3 / alignment film C / vertically aligned liquid crystal cured layer produced above to corona treatment, the substrate of laminate A1 was applied. The surface exposed by peeling off the material 2 and the surface of the vertically aligned liquid crystal cured layer subjected to the corona treatment are bonded via the adhesive layer forming curable composition, and a UV irradiation device (SPOT CURE SP- 7; manufactured by Ushio Inc.) was used to irradiate ultraviolet rays at an exposure amount of 500 mJ/cm 2 (365 nm standard).
  • SPOT CURE SP- 7 manufactured by Ushio Inc.
  • substrate 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo-alignment film B/adhesive layer/vertical alignment liquid crystal cured layer/alignment film C/ A laminate A2 composed of the base material 3 was obtained.
  • the thickness of the adhesive layer was 2 ⁇ m.
  • release force adjusting layer forming composition (1) KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), which is a silane coupling agent, was dissolved in o-xylene so as to be 0.25% by weight, and the release force was An adjustment layer-forming composition (1) was prepared.
  • composition for forming release force adjusting layer (2) KBE-903 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), which is a silane coupling agent, was dissolved to 0.25% by weight with respect to o-xylene, and the release force was An adjustment layer-forming composition (2) was prepared.
  • a stress relaxation layer-forming composition (1) was prepared according to the following composition.
  • - Acrylic resin (1) obtained in Polymerization Example 1 100 parts (non-volatile content)
  • 0.5 parts ⁇ Silane compound: KBM-403, 3-Gly 0.5 part of sidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was mixed, and ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 10%, to prepare the composition for forming a stress relaxation layer (1). Obtained.
  • Base material with release force adjusting layer (base material A)
  • the composition for forming a release force adjusting layer (1) was applied by a bar coating method to the non-release-treated side of a polyethylene terephthalate film (thickness: 38 ⁇ m) one side of which had been subjected to release treatment, and was placed in an oven at 120°C. for 1 minute to obtain a base material with a release force adjusting layer (base material A).
  • Laminate A4 Containing Stress Relaxation Layer B In the same manner as in the production of laminate A3 consisting of base material A/stress relaxation layer A/base material B, except that the thickness of the stress relaxation layer was 25 ⁇ m, the base material A laminate A4 comprising a material A/stress relaxation layer B/base material B and provided with a stress relaxation layer B was produced.
  • a stress relaxation layer-forming composition (2) was prepared according to the following composition. - Acrylic resin obtained in Polymerization Example 2: 100 parts (non-volatile content) ⁇ Coronate L: 3.0 parts ⁇ KBM-403: 0.5 parts were mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 10% to obtain a composition (2) for forming a stress relaxation layer.
  • Coronate L and KBM-403 are the same as those used for preparing the composition (1) for forming a stress relaxation layer.
  • Laminate A7 Containing Stress Relaxation Layer B The stress relaxation layer-forming composition (1) was applied to the release-treated surface of a release-treated polyethylene terephthalate film (thickness: 38 ⁇ m) (base material B). Laminate A7 consisting of base material B/stress relaxation layer A/base material B was prepared in the same manner as the laminate A3 consisting of base material A/stress relaxation layer A/base material B except for the above.
  • a stress relaxation layer-forming composition (3) was prepared according to the following composition. - Acrylic resin obtained in Polymerization Example 3: 100 parts (non-volatile content) ⁇ Coronate L: 0.3 parts ⁇ KBM-403: 0.25 parts were mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 15% to obtain a composition (3) for forming a stress relaxation layer.
  • a stress relaxation layer-forming composition (4) was prepared according to the following composition.
  • - Acrylic resin obtained in Polymerization Example 4 80 parts (non-volatile content) ⁇ A-DOG, a bifunctional acrylate obtained from Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.: 20 parts of solid content ⁇ Coronate L: 3.0 parts ⁇ KBM-403: 0.5 parts ⁇ Photopolymerization initiator (Irgacure 500) : 1.5 parts were mixed. Ethyl acetate was added so that the solid content concentration was 13% to obtain a composition (4) for forming a stress relaxation layer.
  • A-DOG is a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane and has the structure of the following formula.
  • a laminate A10 comprising a substrate A/stress relaxation layer F/substrate B and provided with a stress relaxation layer F.
  • Example 1 Substrate 1 / anti-diffusion layer A / photo-alignment film A / polarizing layer / anti-diffusion layer B / adhesive layer / retardation layer / photo-alignment film B / substrate 2
  • the substrate 2 of the laminate A1 is peeled off
  • the exposed surface and the surface exposed by peeling off the base material B of the laminate A7 composed of the base material B/stress relaxation layer A/base material B are bonded, and the base material 1/diffusion prevention layer A/photo alignment
  • An optical laminate B1 consisting of film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo-alignment film B/stress relaxation layer A/substrate B was produced.
  • Example 2 Except that the laminate A4 was used instead of the laminate A3, and the surface exposed by peeling the substrate 1 of the optical laminate B1 and the surface exposed by peeling the substrate B of the laminate A4 were bonded together.
  • An optical laminate (2) consisting of A/base material B was obtained.
  • Example 3 Except that the laminate A5 was used instead of the laminate A3, and the surface exposed by peeling the substrate 1 of the optical laminate B1 and the surface exposed by peeling the substrate B of the laminate A5 were bonded together.
  • An optical laminate (3) consisting of A/base material B was obtained.
  • Example 4 Example except that the laminate A8 was used instead of the laminate A7, and the surface of the laminate A1 exposed by peeling off the base material 2 and the exposed surface of the laminate A8 by peeling off the base material B were bonded together.
  • An optical laminate (4) made of the base material C was obtained.
  • Example 5 Except that the laminate A6 was used instead of the laminate A3, and the surface exposed by peeling the substrate 1 of the optical laminate B1 and the surface exposed by peeling the substrate B of the laminate A6 were bonded together.
  • An optical laminate (5) consisting of A/base material B was obtained.
  • Example 6 Substrate 1/diffusion prevention layer A/photo-alignment film A/polarizing layer/diffusion prevention layer B/adhesive layer/retardation layer/photo-alignment film B/adhesive layer/vertical alignment liquid crystal cured layer/alignment film C/substrate 3
  • An optical laminate B2 composed of the relaxation layer A/base material B was produced.
  • Example 7 Except that the laminate A11 was used instead of the laminate A7, and the surface exposed by peeling the substrate 2 of the optical laminate A1 and the surface exposed by peeling the substrate B of the laminate A11 were bonded together.
  • An optical laminate (7) composed of B/base material B was obtained.
  • Example 8 Except that the laminate A12 was used instead of the laminate A7, and the surface exposed by peeling the substrate 2 of the optical laminate A1 and the surface exposed by peeling the substrate B of the laminate A12 were bonded together.
  • An optical laminate (8) composed of C/base material B was obtained.
  • Example 9 Except that the laminate A9 was used instead of the laminate A3, and the surface exposed by peeling off the base material 1 of the optical laminate B1 and the exposed surface by peeling off the base material B of the laminate A9 were bonded together.
  • An optical laminate (9) consisting of A/base material B was obtained.
  • Example 10 Except that the laminate A10 was used instead of the laminate A3, and the surface exposed by peeling off the substrate 1 of the optical laminate B1 and the surface exposed by peeling off the substrate B of the laminate A10 were bonded together.
  • An optical laminate (10) consisting of A/base material B was obtained.
  • the thickness of the layer between the first stress relaxation layer and the agent 2 stress relaxation layer does not include the thicknesses of the first stress relaxation layer and the second stress relaxation layer (the thickness in the table is (value rounded to the first decimal place).
  • First base film 2 First stress relaxation layer 3: Polarizing layer 4: Adhesive layer 5: Retardation layer 6: Second stress relaxation layer 7: Second base film 8, 9: Diffusion prevention layer 11: Optical laminate 12, 13: laminate structure

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Abstract

薄型でありながら、被転写体に転写する際に貼合ズレやシワの発生を抑制し、任意の被転写体へ容易に転写可能な光学積層体を提供することを目的とする。　第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第２応力緩和層、および第２基材フィルムをこの順に含む光学積層体であって、第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みが２０μm以下であり、第１応力緩和層の貯蔵弾性率が１．５ＭＰａ以下であり、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムがいずれも剥離可能な基材フィルムである、光学積層体。

Description

光学積層体
　本発明は、転写可能な光学積層体に関する。
　有機ＥＬ表示装置等のフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光膜と位相差膜とを含む円偏光板が広く用いられている。このような円偏光板として、偏光膜および／または位相差膜が、重合性液晶化合物を基材上に塗布して重合させることにより得られるコーティング層からなる光学異方性層である光学積層体が知られている（特許文献１～５）。
特開２０１４－６３１４３号公報 特開２０１７－８３８４３号公報 特開２０２０－５６８３４号公報 特開２０１９－９１０８８号公報 特開２０２０－１３１６４号公報
　前記特許文献に開示されるような光学積層体は、基材上に形成された光学異方性層を被転写体に転写すること、すなわち、前記基材を剥離し、粘接着層等を介して被転写体に貼合することによって表示装置等に組み込むことができる。
　しかしながら、光学積層体が薄型化されるとハンドリングが難しくなる傾向にあり、基材を剥離して光学異方性層を被転写体に転写する際に、貼合ズレやシワが生じるなどの不具合が出ることがある。
　本発明は、薄型でありながら、被転写体に転写する際に貼合ズレやシワの発生を抑制し、任意の被転写体へ容易に転写可能な光学積層体を提供することを目的とする。
　本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の態様を包含する。
［１］第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第二応力緩和層、および第２基材フィルムをこの順に含む光学積層体であって、
　第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みが２０μm以下であり、
　第１応力緩和層の貯蔵弾性率が１．５ＭＰａ以下であり、
　第１基材フィルムおよび第２基材フィルムがいずれも剥離可能な基材フィルムである、光学積層体。
［２］第１応力緩和層と偏光層との間にさらに拡散防止層を含む、［１］に記載の光学積層体。
［３］偏光層が、スメクチック液晶相を示す重合性液晶化合物と二色性色素とを含む重合性液晶組成物の液晶硬化層である、［１］または［２］に記載の光学積層体。
［４］位相差層が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した水平配向液晶硬化層である、［１］～［３］のいずれかに記載の光学積層体。
［５］第１基材フィルムの２３℃における弾性率が２，５００～６，０００ＭＰａである、［１］～［４］のいずれかに記載の光学積層体
［６］第１応力緩和層の厚みが１０～８０μｍである、［１］～［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］第１応力緩和層の厚み（Ｔ１）と第２応力緩和層の厚み（Ｔ２）とが式（１）：
Ｔ１／Ｔ２　≧　１．０　　　　　（１）
を満たす、［１］～［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］光学積層体から第１基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ１）と、光学積層体から第２基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ２）とが式（２）：
０．０２（Ｎ／２５ｍｍ）≦｜Ｆ１－Ｆ２｜　　　　　（２）
を満たす、［１］～［７］のいずれかに記載の光学積層体。
［９］拡散防止層の厚みが５μｍ以下である、［２］～［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］重合性液晶化合物が基材面内に対して垂直方向に配向した状態で硬化した垂直配向液晶硬化層を、偏光層と第２応力緩和層との間にさらに含む、［１］～［９］のいずれかに記載の光学積層体。
　本発明によれば、薄型でありながら、被転写体に転写する際に貼合ズレやシワの発生を抑制し、任意の被転写体へ容易に転写可能な光学積層体を提供することができる。
本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
　以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
　本発明の光学積層体は、第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第２応力緩和層、および第２基材フィルムをこの順に含む。以下、本発明の光学積層体の層構成の一例を図１および図２に基づいて説明するが、本発明の積層体はこれらの態様に限定されるものではない。
　図１に示される光学積層体１１は、第１基材フィルム１、第１応力緩和層２、偏光層３、粘接着層４、位相差層５、第２応力緩和層６および第２基材フィルム７をこの順に積層してなる。図１に示される光学積層体１１において、第１基材フィルム１および第２基材フィルム７は、それぞれ剥離可能であり、光学積層体１１から、剥離可能な第２基材フィルム７を剥離して、第１基材フィルム１、第１応力緩和層２、偏光層３、粘接着層４、位相差層５、第２応力緩和層６からなる積層体構造１２を、例えばＯＬＥＤ基板等の被転写体（基板）へ転写することができる。その後、第１基材フィルム１を剥離して、第１応力緩和層２を介して前面板等と貼合することにより、第１応力緩和層２、偏光層３、粘接着層４、位相差層５、第２応力緩和層６からなる積層体構造１３を含む表示装置が得られる。なお、本発明の光学積層体から第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを剥離する順は、必ずしも限定されるものではないが、基板へ貼合する側の基材フィルムを先に剥離する場合に本発明の効果をより顕著に得られるため、本発明の一実施態様においては、第２基材フィルムを先に剥離して基板へ貼合後、第１基材フィルムが剥離される。
　本発明の好ましい一実施態様において、本発明の光学積層体は、第１応力緩和層と偏光層との間にさらに拡散防止層を含む。図２に示される光学積層体１１は、第１応力緩和層２と偏光層３との間に拡散防止層８を有する。偏光子からの二色性色素の拡散抑制効果を向上させるために、偏光層３の第１応力緩和層２とは反対側の面にも拡散防止層９を有していてよい。
　本発明の光学積層体は、第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第２応力緩和層および第２基材フィルムおよび拡散防止層に加えて、本発明の効果に影響を及ぼさない限りにおいて、さらに他の層を含んで構成されていてもよい。他の層としては、例えば、偏光層を形成するための配向膜、位相差層を形成するための配向膜、第２の位相差層、偏光層および位相差層間の粘接着層以外の粘接着層、ＵＶ吸収能を有する樹脂層等が挙げられる。
　以下、本発明の光学積層体の各構成について詳細に説明する。
　〔第１基材フィルムおよび第２基材フィルム〕
　第１基材フィルムおよび第２基材フィルムは、それぞれ剥離可能に光学積層体に積層される層である。第１基材フィルムおよび第２基材フィルムは、例えば、光学フィルムの分野において従来公知の樹脂フィルム等を用いることができる。第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびノルボルネン系ポリマーのようなポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドのようなプラスチックが挙げられる。中でも、平滑性や塗布基材としての品質の観点から、セルロース系樹脂、環状オレフィン系樹脂およびポリエチレンテレフタレート樹脂から選択される少なくとも１種が好ましい。これらは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して樹脂フィルムとすることができる。第１基材フィルムと第２基材フィルムは、同じであっても、異なっていてもよい。なお、本明細書において、単に「基材フィルム」と記載する場合、該「基材フィルム」としては第１基材フィルムおよび第２基材フィルムが包含されるものとする。
　本発明の一実施態様において、第１基材フィルムの２３℃における弾性率は２，５００～６，０００ＭＰａであることが好ましい。第１基材フィルムにおける該弾性率が上記下限以上であると、第２基材フィルムを剥離して基板へ転写する際に気泡やシワが生じ難く、基板との貼合ズレを抑制する効果に優れる傾向がある。また、弾性率が上記上限以下であると、応力に対する強さや剛性のバランスがよく、適度なしなりを有する（つまり、適度な弾力性があり曲げても破断等が生じにくい）ことで、第２基材フィルムを剥離して基板へ転写する際に基板との貼合ズレを抑制する効果に優れる傾向がある。本発明において、第１基材フィルムの２３℃のおける弾性率は、より好ましくは３０００ＭＰａ以上、さらに好ましくは３５００ＭＰａ以上であり、より好ましくは５５００ＭＰａ以下である。
　本発明の一実施態様において、第２基材フィルムの２３℃における弾性率は２５００～６０００ＭＰａであることが好ましい。第２基材フィルムにおける該弾性率が上記範囲内であると、第２基材フィルムを剥離する際の剥離性を確保しやすく、基板への良好な貼合を実現しやすい。本発明において、第２基材フィルムの２３℃のおける弾性率は、より好ましくは３０００ＭＰａ以上、さらに好ましくは３５００ＭＰａ以上であり、より好ましくは５５００ＭＰａ以下である。
　基材フィルムの弾性率は、引張試験機を用いて測定できる。詳細には、例えば、後述する実施例に記載の方法により測定できる。
　フィルム表面に所望の離型性や密着性を付与し、基材フィルムの剥離性を制御しやすくするために、隣接する層の構成等に応じて、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理等により基材フィルム表面に改質処理を施してもよい。本発明の光学積層体において、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを表面改質処理する場合、その処理方法は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
　第１基材フィルムおよび第２基材フィルムの厚みは、基材フィルムの構成、該基材フィルムに隣接する層の構成等に応じて適宜決定すればよいが、塗布・乾燥時における膜面品質の観点から、それぞれ、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、さらに好ましくは４０μｍ以上であり、また、好ましくは１２０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下、さらに好ましくは８０μｍ以下である。本発明の光学積層体において、第１基材フィルムと第２基材フィルムの厚みは、互いに同じであっても異なっていてもよい。
　基材フィルムの厚みはレーザー顕微鏡や膜厚計等により測定でき、以下、光学積層体を構成する偏光層や位相差層等の各層や膜の厚みの測定も同様である。
　基材フィルムの応力緩和層に隣接する側に、光学積層体から基材フィルムを剥離する際の剥離力を制御する機能を有する層（以下、「剥離力調整層」ともいう）を設けてもよい。剥離力調整層を設ける場合、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムに設けられる剥離力調整層は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
　剥離力調整層は、例えば、基材となる樹脂フィルムの表面に、該基材フィルムに積層される応力緩和層に対する基材フィルムの密着性を調整し得る成分を含む剥離力調整層形成用組成物を塗布することにより形成し得る。剥離力調整層は、所望の剥離力を確保し得る限り、当該分野で従来公知の材料等を用いることができる。本発明において剥離力調整層を形成し得る剥離力調整層形成用組成物としては、例えば、シラン化合物を含む溶液；シリカ粉等を含有する溶液；硬化性樹脂組成物；フッ素系材料、長鎖アルキル系材料、脂肪酸アミド系材料等の離型材料を含む組成物等が挙げられる。中でも、薄膜で、所望の剥離力を付与し得る層を容易に形成しやすい観点から、シラン化合物を含む溶液から形成することが好ましい。
　剥離力調整層を構成し得るシラン化合物としては、例えば、ポリシランのようなケイ素ポリマー、シリコーンオイルおよびシリコーンレジンのようなシリコーン樹脂、並びにシリコーンオリゴマー、シルセスシロキサンおよびアルコキシシランのような有機無機シラン化合物、より具体的にはシランカップリング剤等のＳｉ元素を含む非イオン性の化合物が挙げられる。これらのシラン化合物は、１種を単独で用いてもよく、または２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、シランカップリング剤が好ましい。
　シランカップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、イミダゾール基およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有するシラン化合物が好ましく、前記少なくとも１種の官能基と、少なくとも１つのアルコキシシリル基またはシラノール基とを有するＳｉ元素を含む化合物であることがより好ましい。ビニル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、イミダゾール基およびエポキシ基は極性を有し、これらの官能基を適宜選定することにより、基材フィルムと応力緩和層との密着性を制御することができる。かかる観点からは、シランカップリング剤がアルコキシシリル基と前記少なくとも１種の官能基とを有するシランカップリング剤であることが好ましい。なお、前記官能基は、シランカップリング剤の反応性を制御するために適宜置換基または保護基を有していてもよい。
　シランカップリング剤としては、具体的に例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、および３－グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランが挙げられる。
　市販のシランカップリング剤を用いてもよく、例えば、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、およびＫＢＥ－９００７のような信越化学工業（株）製のシランカップリング剤が挙げられる。
　剥離力調整層として機能するシラン化合物を含む層は、例えば、シラン化合物を適当な溶剤に混合溶解したシラン化合物含有溶液から形成することができる。
　シラン化合物含有溶液に用いる溶剤は、用いるシラン化合物の溶解性等に応じて適宜選択することができる。具体的には例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、単独または２種以上組合せて使用できる。
　シラン化合物含有溶液におけるシラン化合物の含有量は、剥離力を制御しやすい観点から、シラン化合物含有溶液の総質量に対して、好ましくは０．０１質量％以上、より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは０．２質量％以上である。シラン化合物の含有量は、シラン化合物含有溶液の総質量に対して、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、さらに好ましくは５質量％以下である。
　剥離力調整層として機能するシラン化合物を含む層は、例えば、シラン化合物含有溶液を基材フィルムの剥離力調整層を形成する面に塗布した後、溶剤を乾燥、除去することにより形成することができる。
　剥離力調整層を形成する面にシラン化合物含有溶液を塗布する方法としては、例えば、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。
　シラン化合物含有溶液から得られる塗膜中に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。乾燥温度および乾燥時間等の各条件は、シラン化合物含有溶液の組成、基材フィルムの材料等に応じて適宜決定し得る。
　剥離力調整層として機能するシラン化合物を含む層の厚みは、通常、１０ｎｍ～１０００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ～５００ｎｍ、より好ましくは３０ｎｍ～３００ｎｍである。
　〔第１応力緩和層および第２応力緩和層〕
　本発明の光学積層体は、第１基材フィルムの偏光層側の面に第１応力緩和層を、第２基材フィルムの位相差層側の面に第２応力緩和層を有する。本発明において応力緩和層とは、第１基材フィルムの偏光層側の面および第２基材フィルムの位相差層側の面に形成される層であって、光学積層体から第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを剥離する際に光学積層体にかかる応力を緩和する機能を有する層を意味する。本発明においては、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムがそれぞれ応力緩和層を介して光学積層体を構成しており、表示装置内へ組み込まれる（転写される）積層体構造の両側の外層に応力緩和層が存在する。本発明の光学積層体は、このような構造により、薄型の光学積層体から基材フィルムを剥離して基板に転写する際に生じ得るシワや、貼合ズレ、気泡の発生等の抑制効果に優れる。その理由は定かではないが、光学積層体から基材フィルムを剥離する際に光学積層体にかかる応力を各応力緩和層が相互に作用して緩和することによって、応力緩和層が存在しない、または、一方の側にしか応力緩和層が存在しない光学積層体よりも貼合ズレやシワ等の発生抑制効果が高くなるものと考えられる。かかる効果を十分に得るために、本発明の光学積層体において、第１基材フィルムと第１応力緩和層、および、第２基材フィルムと第２応力緩和層は、それぞれ隣接して、または剥離力調整層のみを介して配置されることが好ましい。なお、本明細書において、単に「応力緩和層」と記載する場合、該「応力緩和層」としては第１応力緩和層および第２応力緩和層が包含されるものとする。
　本発明の光学積層体において、第１応力緩和層の貯蔵弾性率は１．５ＭＰａ以下である。第１応力緩和層の貯蔵弾性率が１．５ＭＰａを超えると、第２基材フィルムを剥離して基板へ転写する際に気泡やシワが生じやすく、基板との貼合ズレを生じやくなる傾向がある。本発明において、第１応力緩和層の貯蔵弾性率は、好ましくは０．８ＭＰａ以下、より好ましくは０．５ＭＰａ以下、さらに好ましくは０．４ＭＰａ以下、特に好ましくは０．３ＭＰａ以下である。貯蔵弾性率が上記上限以下であると、第２基材フィルムを剥離して基板へ転写する際の貼合ズレやシワ、気泡等の抑制効果が向上するとともに、第１基材フィルムと貼合されている間には第１基材フィルムの浮きを抑えながら、該第１基材フィルムを剥離する際の剥離性を確保し得る。第１応力緩和層の貯蔵弾性率の下限値は特に限定されるものではないが、通常、０．００５ＭＰａ以上であり、好ましくは０．０１ＭＰａ以上、より好ましくは０．０２以上、さらに好ましくは０．０４ＭＰａ以上である。
　第２応力緩和層の貯蔵弾性率は、好ましくは０．８ＭＰａ以下、より好ましくは０．５ＭＰａ以下、さらに好ましくは０．４ＭＰａ以下、特に好ましくは０．３ＭＰａ以下である。貯蔵弾性率が上記上限以下であると、第２基材フィルムの浮きを抑えながら、該第２基材フィルムを剥離する際の剥離性を確保しやすい。第２応力緩和層の貯蔵弾性率の下限値は特に限定されるものではないが、通常、０．００５ＭＰａ以上であり、好ましくは０．０１ＭＰａ以上、より好ましくは０．０２以上、さらに好ましくは０．０４ＭＰａ以上である。
　応力緩和層の貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置を用いて測定できる。詳細には、例えば、後述する実施例に記載の方法により測定できる。
　応力緩和層は、基材フィルムを剥離する際には剥離時に光学積層体に生じる応力を緩和でき、基材フィルムを剥離後には、基板や前面板等の被転写体と貼合するための粘着層として機能する層であることが好ましい。応力緩和層における応力の緩和性および被転写体に対する粘着性は、応力緩和層を構成する成分の種類、その含有量比、厚み等によって制御し得る。そのような機能を有する応力緩和層は、当該分野で従来公知の材料等を用いて調製できる。例えば、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする組成物（以下、「応力緩和層形成用組成物」ともいう）が挙げられる。中でも、透明性、粘着性、耐候性、耐熱性等に優れる観点から、応力緩和層は（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする組成物から形成されることが好ましい。
　応力緩和層形成用組成物に用いられる（メタ）アクリル系樹脂（ベースポリマー）としては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種または２種以上をモノマーとする重合体または共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。
　本発明の一実施態様において応力緩和層を構成する（メタ）アクリル系樹脂における（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位の総質量に対して、好ましくは８０～９９．９質量％であり、より好ましくは８５質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上である。また、（メタ）アクリル系樹脂が極性モノマーに由来する構造単位を含んでなる場合、該極性モノマーに由来する構造単位は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位の総質量に対して０．１～５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％以上であり、また、より好ましくは３質量％以下である。
　応力緩和層を構成する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法など、公知の各種方法によって製造することができる。このアクリル樹脂の製造においては、通常、重合開始剤が用いられる。重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂の製造に用いられる全ての単量体の合計１００質量部に対して、０．００１～５質量部であることが好ましい。
　重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤などが用いられる。熱重合開始剤として、例えば、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチル－４－メトキシバレロニトリル）、ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、および２，２’－アゾビス（２－ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート、および（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、および過酸化水素などの無機過酸化物などを挙げることができる。光重合開始剤として、例えば、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトンなどを挙げることができる。
　アクリル系樹脂を溶液重合法により調製する場合、例えば、所望の単量体および有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下で熱重合開始剤を添加して、４０～９０℃、好ましくは５０～８０℃で攪拌する方法を挙げることができる。また、反応を制御するために、単量体や重合開始剤を重合中に連続的または間歇的に添加したり、有機溶媒に溶解した状態で添加したりしてもよい。ここで、有機溶媒としては、例えば、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤；酢酸エチルや酢酸ブチルなどのエステル系溶剤；プロピルアルコールやイソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、およびメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤等を用いることができる。
　応力緩和層は、上記アクリル系樹脂のみを含むものであってもよいが、架橋剤を併用して形成されるものであってもよい。架橋剤としては、２価以上の金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの；ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの；ポリエポキシ化合物やポリオールであって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの；ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものが例示される。
　応力緩和層は、例えば、主成分として上述したようなアクリル系樹脂を溶剤に溶解させた応力緩和層形成用組成物を、応力緩和層を積層しようとする基材フィルムまたは剥離力調整層上にバーコート法などによって塗布し、乾燥させる方法によって設けることができる。溶剤としては、アクリル系樹脂の調製方法において例示したものと同様のものが挙げられる。
　応力緩和層の厚みは、応力緩和層の構成、表示装置の構成や大きさ等に応じて適宜決定すればよい。
　本発明の一実施態様において、第１応力緩和層の厚みは、好ましくは５～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ以上、さらに好ましく２０μｍ以上であり、また、より好ましくは７０μｍ以下、さらに好ましくは６０μｍ以下である。また、第２応力緩和層の厚みは、好ましくは５～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ以上、さらに好ましくは２０μｍ以上であり、また、より好ましくは６０μｍ以下、さらに好ましくは４０μｍ以下である。第１応力緩和層の厚みと第２応力緩和層の厚みとは同じであっても、異なっていてもよい。
　第１応力緩和層の厚みが第２応力緩和層の厚みよりも厚いと、第２基材フィルムを剥離して基板へ転写する際の貼合ズレ、シワや気泡の発生等を抑制する効果が高くなる傾向がある。したがって、本発明の一実施態様において、第１応力緩和層の厚み（Ｔ１）と第２応力緩和層の厚み（Ｔ２）とが式（１）：
Ｔ１／Ｔ２　≧　１．０　　　　　（１）
を満たすことが好ましい。第１応力緩和層の厚みと第２応力緩和層の厚みとが上記式（１）の関係を満たすと、薄型の光学積層体から第２基材フィルムを剥離して基板に転写する際に生じ得るシワや、引き連れによる貼合ズレ、気泡の発生等の抑制効果がより向上しやすくなる。第１応力緩和層の厚みと第２応力緩和層の厚みとが異なる場合、Ｔ１／Ｔ２の値は、より好ましくは１．５以上であり、さらに好ましくは２．０以上であり、３．０以上であってもよい。
　〔偏光層〕
　本発明において、偏光層は偏光機能を有する層（偏光子）である。偏光層は、吸収異方性を有する色素である二色性色素を含み、光学積層体の薄型化に有利である観点から、本発明の光学積層体において偏光層はコーティング層であり、少なくとも１種の液晶化合物を含む、好ましくは重合性液晶化合物と二色性色素とを含む重合性液晶組成物（以下、「偏光層形成用組成物」ともいう）から形成される硬化層であることが好ましい。
　本発明の偏光層を形成する偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」ともいう）は、少なくとも１つの重合性基を有する化合物である。ここで、重合性基とは、重合開始剤から発生する活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性液晶化合物（Ａ）が有する重合性基としては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、（メタ）アクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、ラジカル重合性基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましい。偏光層を形成する重合性液晶化合物が、後述する偏光層を形成するための配向膜を形成する化合物が有する官能基と同じ官能基（重合性基）、例えば（メタ）アクリロイル基を有すると、配向膜および偏光層間の相溶性が高く、層間の優れた密着性を発現できる。
　本発明において、重合性液晶化合物（Ａ）はスメクチック液晶性を示す化合物であることが好ましい。スメクチック液晶性を示す重合性液晶化合物を用いることにより、配向秩序度の高い偏光層を形成することができる。より高い配向秩序度を実現し得る観点から、重合性液晶化合物（Ａ）の示す液晶状態は、高次スメクチック相（高次スメクチック液晶状態）であることがより好ましい。ここで、高次スメクチック相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相およびスメクチックＬ相を意味し、これらの中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相およびスメクチックＩ相がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、重合性液晶化合物（Ａ）はモノマーであってもよいが、重合性基が重合したオリゴマーであってもポリマーであってもよい。
　重合性液晶化合物（Ａ）としては、少なくとも１つの重合性基を有する液晶化合物であれば特に限定されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができるが、スメクチック液晶性を示す化合物が好ましい。そのような重合性液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ１）で表される化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ１）」ということがある）が挙げられる。
　　Ｕ１－Ｖ１－Ｗ１－（Ｘ１－Ｙ１）ｎ－Ｘ２－Ｗ２－Ｖ２－Ｕ２　　　（Ａ１）
［式（Ａ１）中、
　Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子または硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。ただし、Ｘ１およびＸ２のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基である。
　Ｙ１は、単結合または二価の連結基である。
　ｎは１～３であり、ｎが２以上の場合、複数のＸ１は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。Ｘ２は、複数のＸ１のうちのいずれかまたは全てと同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、ｎが２以上の場合、複数のＹ１は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。液晶性の観点からｎは２以上が好ましい。
　Ｕ１は、水素原子または重合性基を表わす。
　Ｕ２は、重合性基を表わす。
　Ｗ１およびＷ２は、互いに独立して、単結合または二価の連結基である。
　Ｖ１およびＶ２は、互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－またはＮＨ－に置き換わっていてもよい。］
　重合性液晶化合物（Ａ１）において、Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、好ましくは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であり、Ｘ１およびＸ２のうちの少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であり、トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることが好ましい。置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または、置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数１～４のアルキル基、シアノ基および塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子が挙げられる。好ましくは無置換である。
　また、重合性液晶化合物（Ａ１）は、式（Ａ１）中、式（Ａ１－１）：
－（Ｘ１－Ｙ１）ｎ－Ｘ２－　　　　（Ａ１－１）
〔式中、Ｘ１、Ｙ１、Ｘ２およびｎはそれぞれ上記と同じ意味を示す。〕
で示される部分〔以下、部分構造（Ａ１－１）ともいう〕が非対称構造であることが、スメクチック液晶性を発現し易い点で好ましい。
　部分構造（Ａ１－１）が非対称構造である重合性液晶化合物（Ａ１）としては、例えば、ｎが１であり、１つのＸ１とＸ２とが互いに異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）が挙げられる。また、ｎが２であり、２つのＹ１が互いに同じ構造である化合物であって、２つのＸ１が互いに同じ構造であり、１つのＸ２はこれら２つのＸ１とは異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）、２つのＸ１のうちのＷ１に結合するＸ１が、他方のＸ１およびＸ２とは異なる構造であり、他方のＸ１とＸ２とは互いに同じ構造である重合性液晶化合物（Ａ１）も挙げられる。さらに、ｎが３であり、３つのＹ１が互いに同じ構造である化合物であって、３つのＸ１および１つのＸ２のうちのいずれか１つが他の３つの全てと異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）が挙げられる。
　Ｙ１は、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、単結合、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲａ＝ＣＲｂ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＲａ＝Ｎ－または－ＣＯ－ＮＲａ－が好ましい。ＲａおよびＲｂは、互いに独立して、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表わす。Ｙ１は、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－または単結合であることがより好ましく、複数のＹ１が存在する場合、Ｘ２と結合するＹ１は、－ＣＨ２ＣＨ２－またはＣＨ２Ｏ－であることがより好ましい。Ｘ１およびＸ２が全て同一構造である場合、互いに異なる結合方式である２以上のＹ１が存在することが好ましい。互いに異なる結合方式である複数のＹ１が存在する場合には、非対称構造となるため、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。
　Ｕ２は、重合性基である。Ｕ１は、水素原子または重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ１およびＵ２がともに重合性基であることが好ましく、ともにラジカル重合性基であることが好ましい。重合性基としては、重合性液晶化合物（Ａ）が有する重合性基として先に例示した基と同様のものが挙げられる。Ｕ１で示される重合性基とＵ２で示される重合性基とは、互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましく、Ｕ１およびＵ２の少なくとも一方が（メタ）アクリロイル基であることが好ましく、両方が（メタ）アクリロイル基であることがより好ましい。また、重合性基は重合している状態であってもよいし、未重合の状態であってもよいが、好ましくは未重合の状態である。
　Ｖ１およびＶ２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基およびイコサン－１，２０－ジイル基等が挙げられる。Ｖ１およびＶ２は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６～１２のアルカンジイル基である。
　該アルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基およびハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換の直鎖状アルカンジイル基であることがより好ましい。
　Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯＯ－が好ましく、単結合または－Ｏ－がより好ましい。
　重合性液晶化合物（Ａ）としては、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物であれば特に限定されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができるが、スメクチック液晶性を示すことが好ましく、スメクチック液晶性を示しやすい構造としては、分子構造中に非対称性の分子構造を有することが好ましく、具体的には下記（Ａ－ａ）～（Ａ－ｉ）の部分構造を有する重合性液晶化合物であってスメクチック液晶性を示す重合性液晶化合物であることがより好ましい。高次スメクチック液晶性を示しやすいという観点から（Ａ－ａ）、（Ａ－ｂ）または（Ａ－ｃ）の部分構造を有することがより好ましい。なお、下記（Ａ－ａ）～（Ａ－ｉ）において、＊は結合手（単結合）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　重合性液晶化合物（Ａ）としては、具体的には例えば、式（Ａ－１）～式（Ａ－２５）で表される化合物が挙げられる。重合性液晶化合物（Ａ）がシクロヘキサン－１，４－ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン－１，４－ジイル基は、トランス体であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　これらの中でも、式（Ａ－２）、式（Ａ－３）、式（Ａ－４）、式（Ａ－５）、式（Ａ－６）、式（Ａ－７）、式（Ａ－８）、式（Ａ－１３）、式（Ａ－１４）、式（Ａ－１５）、式（Ａ－１６）および式（Ａ－１７）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）として、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。
　重合性液晶化合物（Ａ）は、例えば、Ｌｕｂ等、Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ、１１５、３２１－３２８（１９９６）、または特許第４７１９１５６号などに記載の公知の方法で製造できる。
　本発明において、偏光層形成用組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）以外の他の重合性液晶化合物を含んでいてもよいが、配向秩序度の高い偏光層を得る観点から、偏光層形成用組成物に含まれる全重合性液晶化合物の総質量に対する重合性液晶化合物（Ａ）の割合は、好ましくは５１質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上である。
　偏光層形成用組成物が２種以上の重合性液晶化合物（Ａ）を含む場合、そのうちの少なくとも１種が重合性液晶化合物（Ａ１）であってもよく、その全てが重合性液晶化合物（Ａ１）であってもよい。複数の重合性液晶化合物を組合せることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。
　偏光層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有量は、偏光層形成用組成物の固形分に対して、好ましくは４０～９９．９質量％であり、より好ましくは６０～９９質量％であり、さらに好ましくは７０～９９質量％である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向性が高くなる傾向がある。なお、ここでいう「固形分」とは、偏光層形成用組成物から溶剤等の揮発成分を除いた成分のことをいい、以下、本明細書において「固形分」という場合は、同様に、対象とする組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた成分をいう。
　本発明において、偏光層を形成する偏光層形成用組成物は、通常、二色性色素を含む。
ここで、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を意味する。本発明において用い得る二色性色素は、上記性質を有するものであれば特に制限されず、染料であっても、顔料であってもよい。また、２種以上の染料または顔料をそれぞれ組合せて用いてもよいし、染料と顔料とを組合せて用いてもよい。また、二色性色素は、重合性を有していてもよいし、液晶性を有していてもよい。
　二色性色素としては、３００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素等が挙げられる。
　アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素等が挙げられ、ビスアゾ色素およびトリスアゾ色素が好ましく、例えば、式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ともいう）が挙げられる。
　Ｋ１（－Ｎ＝Ｎ－Ｋ２）ｐ－Ｎ＝Ｎ－Ｋ３　　　（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｋ１およびＫ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよい安息香酸フェニルエステル基または置換基を有していてもよい１価の複素環基を表わす。Ｋ２は、置換基を有していてもよいｐ－フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン－１，４－ジイル基、置換基を有していてもよい４，４’－スチルベニレン基または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表わす。ｐは０～４の整数を表わす。ｐが２以上の整数である場合、複数のＫ２は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で－Ｎ＝Ｎ－結合が－Ｃ＝Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＮＨＣＯ－、－Ｎ＝ＣＨ－結合に置き換わっていてもよい。］
　１価の複素環基としては、例えば、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾールなどの複素環化合物から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。２価の複素環基としては、前記複素環化合物から２個の水素原子を除いた基が挙げられる。
　Ｋ１およびＫ３におけるフェニル基、ナフチル基、安息香酸フェニルエステル基および１価の複素環基、並びにＫ２におけるｐ－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基、４，４’－スチルベニレン基および２価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１～２０のアルキル基、重合性基を有する炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～４のアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などの炭素数１～２０のアルコキシ基；重合性基を有する炭素数１～２０のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、重合性基を有する炭素数１～６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は－ＮＨ２である。）等が挙げられる。なお、前記重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
　化合物（Ｉ）の中でも、以下の式（Ｉ－１）～式（Ｉ－８）のいずれかで表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 ［式（Ｉ－１）～（Ｉ－８）中、
　Ｂ１～Ｂ３０は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルケニル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表わす。
　ｎ１～ｎ４は、互いに独立に０～３の整数を表わす。
　ｎ１が２以上である場合、複数のＢ２は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ２が２以上である場合、複数のＢ６は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ３が２以上である場合、複数のＢ９は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ４が２以上である場合、複数のＢ１４は互いに同一でも異なっていてもよい。］
　前記アントラキノン色素としては、式（Ｉ－９）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式（Ｉ－９）中、
　Ｒ１～Ｒ８は、互いに独立して、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘまたはハロゲン原子を表わす。
　Ｒｘは、炭素数１～６のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　前記オキサゾン色素としては、式（Ｉ－１０）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ［式（Ｉ－１０）中、
　Ｒ９～Ｒ１５は、互いに独立して、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘまたはハロゲン原子を表わす。
　Ｒｘは、炭素数１～６のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　前記アクリジン色素としては、式（Ｉ－１１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式（Ｉ－１１）中、
　Ｒ１６～Ｒ２３は、互いに独立して、水素原子、－Ｒｘ、－ＮＨ２、－ＮＨＲｘ、－ＮＲｘ ２、－ＳＲｘまたはハロゲン原子を表わす。
　Ｒｘは、炭素数１～６のアルキル基または炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　式（Ｉ－９）、式（Ｉ－１０）および式（Ｉ－１１）において、Ｒｘの炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。
　前記シアニン色素としては、式（Ｉ－１２）で表される化合物および式（Ｉ－１３）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 ［式（Ｉ－１２）中、
　Ｄ１およびＤ２は、互いに独立に、式（Ｉ－１２ａ）～式（Ｉ－１２ｄ）のいずれかで表される基を表わす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 ｎ５は１～３の整数を表わす。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 ［式（Ｉ－１３）中、
　Ｄ３およびＤ４は、互いに独立に、式（Ｉ－１３ａ）～式（１－１３ｈ）のいずれかで表される基を表わす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 ｎ６は１～３の整数を表わす。］
　これらの二色性色素の中でも、アゾ色素は直線性が高いため偏光性能に優れる偏光層の作製に好適である。したがって、本発明の一実施態様において、偏光層を形成する偏光層形成用組成物に含まれる二色性色素は、好ましくはアゾ色素である。
　本発明において、二色性色素の重量平均分子量は、通常、３００～２０００であり、好ましくは４００～１０００である。
　本発明の一実施態様において、偏光層を形成する偏光層形成用組成物に含まれる二色性色素は疎水性であることが好ましい。二色性色素が疎水性であると、二色性色素と重合性液晶化合物との相溶性が向上し、二色性色素と重合性液晶化合物が均一な相状態を形成し、高い配向秩序度を有する偏光層を得ることができる。なお、本発明において、疎水性の二色性色素とは、２５℃、１００ｇの水に対する溶解度が１ｇ以下である色素を意味する。
　偏光層形成用組成物における二色性色素の含有量は、用いる二色性色素の種類などに応じて適宜決定し得るが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１～５０質量部であり、より好ましくは０．１～２０質量部であり、さらに好ましくは０．１～１２質量部である。二色性色素の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱し難く、高い配向秩序度を有する偏光層を得ることができる。
　本発明において、偏光層を形成するための偏光層形成用組成物は、重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で重合反応を開始できる点において光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤は単独または二種以上組合せて使用できる。
　光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、活性ラジカルを発生する光重合開始剤としては、自己開裂型の光重合開始剤、水素引き抜き型の光重合開始剤がある。
　自己開裂型の光重合開始剤として、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用できる。また、水素引き抜き型光重合開始剤として、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。
　酸を発生する光重合開始剤としては、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩等を使用できる。
　この中でも、色素の溶解を防ぐ観点から低温での反応が好ましく、低温での反応効率の観点から自己開裂型の光重合開始剤が好ましく、特にアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。
　光重合開始剤としては、具体的には例えば、以下のものが挙げられる。
　ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物；
　２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１，２－ジフェニル－２，２－ジメトキシエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマー等のヒドロキシアセトフェノン系化合物；
　２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン等のα－アミノアセトフェノン系化合物；
　１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（O－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；　２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；
　ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６－トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；
　ジエトキシアセトフェノンなどのジアルコキシアセトフェノン系化合物；
　２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチ_ル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジンおよび２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系化合物。光重合開始剤は、例えば上記の光重合開始剤から偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物との関係において適宜選択すればよい。
　また、市販の光重合開始剤を用いてもよい。市販の重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、および３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）；Ｏｍｎｉｒａｄ　ＢＣＩＭ、Ｅｓａｃｕｒｅ　１００１Ｍ、Ｅｓａｃｕｒｅ　ＫＩＰ１６０（ＩＤＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、およびＢＥＥ（精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、およびＵＶＩ－６９９２（ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ－１５２、Ｎ－１７１７、Ｎ－１９１９、ＳＰ－１７０、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ－Ａ、およびＴＡＺ－ＰＰ（日本シイベルヘグナー株式会社製）；並びに、ＴＡＺ－１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。
　偏光層を形成するための偏光層形成用組成物における重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは１～１０質量部であり、より好ましくは１～８質量部、さらに好ましくは２～８質量部、特に好ましくは４～８質量部である。重合開始剤の含有量が上記の範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を大きく乱すことなく、重合性液晶化合物の重合反応を行うことができる。
　また、本発明において重合性液晶化合物の重合率は、製造時のライン汚染や取扱いの観点から、６０％以上であることが好ましく、６５％以上がより好ましく、７０％以上がさらに好ましい。
　偏光層形成用組成物は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤を用いることにより重合性液晶化合物の重合反応をより促進させることができる。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン（例えば、ジブトキシアントラセンなど）などのアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン等が挙げられる。光増感剤は単独または２種以上組合せて使用できる。
　偏光層形成用組成物が光増感剤を含む場合、その含有量は、重合開始剤および重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜決定すればよいが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。
　また、偏光層形成用組成物はレベリング剤を含んでいてもよい。レベリング剤は、偏光層形成用組成物の流動性を調整し、該偏光層形成用組成物を塗布することにより得られる塗膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。レベリング剤は単独または２種以上組合せて使用できる。
　ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、例えば、“ＢＹＫ－３５０”、“ＢＹＫ－３５２”、“ＢＹＫ－３５３”、“ＢＹＫ－３５４”、“ＢＹＫ－３５５”、“ＢＹＫ－３５８Ｎ”、“ＢＹＫ－３６１Ｎ”、“ＢＹＫ－３８０”、“ＢＹＫ－３８１”および“ＢＹＫ－３９２”（ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ社）が挙げられる。
　フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、例えば、“メガファック（登録商標）Ｒ－０８”、同“Ｒ－３０”、同“Ｒ－９０”、同“Ｆ－４１０”、同“Ｆ－４１１”、同“Ｆ－４４３”、同“Ｆ－４４５”、同“Ｆ－４７０”、同“Ｆ－４７１”、同“Ｆ－４７７”、同“Ｆ－４７９”、同“Ｆ－４８２”および同“Ｆ－４８３”（ＤＩＣ（株））；“サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１”、同“Ｓ－３８２”、同“Ｓ－３８３”、同“Ｓ－３９３”、同“ＳＣ－１０１”、同“ＳＣ－１０５”、“ＫＨ－４０”および“ＳＡ－１００”（ＡＧＣセイミケミカル（株））；“Ｅ１８３０”、“Ｅ５８４４”（（株）ダイキンファインケミカル研究所）；“エフトップＥＦ３０１”、“エフトップＥＦ３０３”、“エフトップＥＦ３５１”および“エフトップＥＦ３５２”（三菱マテリアル電子化成（株））が挙げられる。
　偏光層形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０５～５質量部が好ましく、０．０５～３質量部がより好ましい。レベリング剤の含有量が上記の範囲内であると、重合性液晶化合物を配向させやすく、かつ、ムラが生じ難く、より平滑な偏光層を得られる傾向がある。
　偏光層形成用組成物は、光増感剤およびレベリング剤以外の他の添加剤を含有してよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤および滑剤などが挙げられる。偏光層形成用組成物が他の添加剤を含有する場合、他の添加剤の含有量は、偏光層形成用組成物の固形分に対して、０％を超えて２０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０％を超えて１０質量％以下である。
　偏光層形成用組成物は、従来公知の偏光層形成用組成物の調製方法により製造することができ、通常、重合性液晶化合物および二色性色素、並びに、必要に応じて重合開始剤および上記添加剤等を混合、撹拌することにより調製することができる。また、一般にスメクチック液晶性を示す化合物は粘度が高いため、偏光層形成用組成物の塗布性を向上させて偏光層の形成を容易にする観点から、偏光層形成用組成物に溶剤を加えることにより粘度調整を行ってもよい。
　偏光層形成用組成物に用いる溶剤は、用いる重合性液晶化合物および二色性色素の溶解性等に応じて適宜選択することができる。具体的には、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤などが挙げられる。これらの溶剤は、単独または２種以上組合せて使用できる。溶剤の含有量は、偏光層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは１００～１９００質量部であり、より好ましくは１５０～９００質量部であり、さらに好ましくは１８０～６００質量部である。
　本発明において、偏光層は配向秩序度の高い偏光子であることが好ましい。配向秩序度の高い偏光子は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークを意味する。したがって、本発明の光学積層体を構成する偏光層はＸ線回折測定においてブラッグピークを示すことが好ましい。すなわち、本発明の光学積層体を構成する偏光層においては、重合性液晶化合物またはその重合体が、Ｘ線回折測定において該偏光層がブラッグピークを示すように配向していることが好ましく、光を吸収する方向に重合性液晶化合物の分子が配向する「水平配向」していることがより好ましい。本発明においては分子配向の面周期間隔が３．０～６．０Åである偏光子が好ましい。ブラッグピークを示すような高い配向秩序度は、用いる重合性液晶化合物の種類、二色性色素の種類やその量、および重合開始剤の種類やその量等を制御することにより実現し得る。
　本発明において偏光層は、例えば、基材または後述する配向膜上に偏光層形成用組成物の塗膜を形成すること、該塗膜から溶剤を除去すること、重合性液晶化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後降温して、該重合性液晶化合物を液晶相（スメクチック相）に相転移させること、および、前記液晶相を保持したまま重合性液晶化合物を重合させることを含む方法により得ることができる。
　偏光層形成用組成物を基材または配向膜に塗布する方法としては、例えば、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。
　次いで、偏光層形成用組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で、溶剤を乾燥等によって除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。
　さらに、重合性液晶化合物を液体相に相転移させるため、重合性液晶化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後降温し、該重合性液晶化合物を液晶相（スメクチック相）に相転移させる。かかる相転移は、前記塗膜中の溶剤除去後に行ってもよいし、溶剤の除去と同時に行ってもよい。
　重合性液晶化合物の液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させることにより、偏光層形成用組成物の硬化物として偏光層が形成される。重合方法としては光重合法が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）、重合開始剤の種類およびそれらの量等に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線およびγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物や重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら光照射することで、重合温度を制御することもできる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた偏光層を得ることもできる。
　前記活性エネルギー線の光源としては、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
　紫外線照射強度は、通常、１０～３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは１秒～５分、より好ましくは５秒～３分、さらに好ましくは１０秒～１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０～３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０～２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００～１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
　光重合を行うことにより、重合性液晶化合物は、液晶相、特にスメクチック相、好ましくは高次スメクチック相の液晶状態を保持したまま重合し、偏光層が形成される。重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して得られる偏光層は、前記二色性色素の作用にも伴い、従来のホストゲスト型偏光フィルム、すなわち、ネマチック相の液晶状態からなる偏光層と比較して、偏光性能が高いという利点がある。さらに、二色性色素やリオトロピック液晶のみを塗布したものと比較して、強度に優れるという利点もある。
　偏光層の厚みは、適用される表示装置に応じて適宜選択でき、好ましくは０．１～５μｍ、より好ましくは０．３～４μｍ、さらに好ましくは０．５～３μｍである。偏光層の膜厚が、上記の下限値以上であると、必要な光吸収が得られなくなることを防止しやすく、上記の上限値以下であると、配向膜による配向規則力の低下による配向欠陥の発生を抑制しやすい。
　偏光層は、配向膜上に形成されていてもよい。配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有するものであり、配向膜上に偏光層形成用組成物を塗布することにより精度よく配向した偏光層が得られやすい。配向膜としては、前記偏光層形成用組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。本発明において、配向膜としては、配向角の精度および品質、並びに、配向膜を含む光学積層体の耐水性や耐屈曲性等の観点から光配向膜が好ましい。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でも有利である。
　光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー、オリゴマーまたはモノマー（以下、「光反応性基を有するポリマー等」ともいう）と溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ともいう）を、基材または必要に応じて基材上に設けられた拡散防止層上に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜形が形成される基材としては、本発明の光学積層体の基材フィルムと同様のものが挙げられる。光配向膜形成用組成物に含まれるポリマー等が、偏光層を形成する重合性液晶化合物が有する重合性基が有する官能基と同じ反応性基（例えば、（メタ）アクリロイル基）を有すると、偏光層との間の密着性が向上する傾向にある。
　光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。
　Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。
　中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマー等としては、ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
　光配向膜形成用組成物を、例えば、基材または基材上に設けられた拡散防止層上に塗布することにより光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、偏光層を形成する際に用い得る溶剤として先に例示した溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー等の溶解性に応じて適宜選択することができる。
　光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー等の含有量は、ポリマー等の種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。
　光配向膜形成用組成物を基材上または拡散防止層上に塗布する方法、および、塗布された光配向膜形成用組成物から溶剤を除去する方法としては、偏光層形成用組成物を基材等に塗布する方法および溶剤を除去する方法と同様の方法が挙げられる。
　偏光の照射は、光配向膜形成用組成物の塗膜から溶剤を除去したものに直接偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。
また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー等の光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レーザーなどが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
　なお、偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
　光配向膜の数平均分子量は、好ましくは２００００～１０００００であり、より好ましくは２５０００以上であり、また、より好ましくは９００００以下、さらに好ましくは８００００以下である。光配向膜の数平均分子量が上記範囲内であると、光配向膜に隣接する層との密着性が向上しやすい。光配向膜の数平均分子量は、光配向膜形成用組成物に用いるモノマーの量、重合開始剤の種類や量等により制御できる。
　なお、ここでいう「光配向膜の数平均分子量」とは、実質的に、硬化した光配向膜を構成しているポリマーの数平均分子量に相当し、ゲル浸透クロマトグラフィー等の測定機器を用いて、硬化した光配向膜自体を測定することにより算出される分子量である。
　光配向膜の厚みは、好ましくは１０～５０００ｎｍであり、より好ましくは１０～１０００ｎｍであり、さらに好ましくは３０～３００ｎｍである。光配向膜の厚みが上記範囲であると、偏光層との界面において良好な密着性を発現しつつ、配向規則力を発揮することができ、高い配向秩序で偏光層を形成できる。
　〔拡散防止層〕
　本発明の光学積層体は、第１応力緩和層と偏光層との間にさらに拡散防止層を含んでいてもよい。第１応力緩和層と偏光層との間に拡散防止層が存在することにより、偏光層中の二色性色素の他の層への拡散を効果的に抑制することができ、本発明の光学積層体を表示装置等へ組み込んだ場合に、二色性色素の拡散に起因する経時的な光学特性の低下を抑制することができる。かかる効果を十分に得る観点から、拡散防止層は偏光層の第１応力緩和層側に偏光層と隣接して設けられていることが好ましく、偏光層の第１応力緩和層側と位相差層側との両方に、それぞれ偏光層と隣接して、または、偏光層を形成する配向膜のみを介して設けられていることがより好ましい。拡散防止層が偏光層の第１応力緩和層側および位相差層側の両方に設けられる場合、それらは同じであっても、異なっていてもよい。
　拡散防止層としては、二色性色素の拡散防止機能を有する層である限り特に限定されるものではなく、例えば、水溶性ポリマーを含む樹脂組成物から形成される層、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む硬化性組成物から形成される層などが挙げられる。
　水溶性ポリマーは二色性色素と極性が大きく異なるため二色性色素の拡散を妨げることができる。拡散防止層を形成し得る水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリアクリルアミド系ポリマー；ポリビニルアルコール、およびエチレン－ビニルアルコール共重合体、（メタ）アクリル酸またはその無水物－ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマー；カルボキシビニル系ポリマー；ポリビニルピロリドン；デンプン類；アルギン酸ナトリウム；またはポリエチレンオキシド系ポリマー等が挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　拡散防止層が水溶性ポリマーを含む樹脂組成物（以下、「水溶性ポリマー含有樹脂組成物」ともいう）から形成される層である場合、該層における水溶性ポリマーの含有量は、好ましくは７５質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは８５質量％以上である。
　拡散防止層が水溶性ポリマー含有樹脂組成物から形成される層である場合、該層の緻密性を高めて、二色性色素の拡散防止機能を向上させるために架橋剤を用いることにより架橋構造を導入してもよい。そのような架橋剤としては、例えば、グリオキシル酸塩等のイオン結合性架橋剤やエポキシ系架橋剤などの水溶性添加剤や架橋剤の他、耐水性付与を目的として、イソシアネート系架橋剤、グリオキザールやグリオキザール誘導体等の多価アルデヒド系架橋剤、塩化ジルコニウム系またはチタンラクテート系等の金属化合物系架橋剤などの疎水性架橋剤を用いてもよい。
　拡散防止層に架橋構造を導入するために架橋剤を使用する場合、その添加量は用いる架橋剤の種類等に応じて適宜決定すればよい。例えば、水溶性ポリマー１００質量部に対して、０．１～１００質量部であってよく、好ましくは１～５０質量部、より好ましくは１０～３０質量部である。架橋剤の含有量が上記範囲であると、拡散防止層が緻密になり、光吸収異方性膜中の二色性色素に対する遮蔽効果が向上しやすい。
　拡散防止層を形成し得る水溶性ポリマー含有樹脂組成物は、通常、水溶性ポリマーを溶剤に溶解させた溶液として調製される。溶剤は、用いる水溶性ポリマーに応じて選択すればよいが、典型的には、水、アルコール、水とアルコールの混合物等が挙げられ、水が好ましい。
　水溶性ポリマーや架橋剤等の拡散防止層を構成する成分に溶剤を添加することにより得られる水溶性ポリマー含有樹脂組成物の固形分濃度は、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは２～３０質量％である。水溶性ポリマー含有樹脂組成物の固形分濃度が上記範囲内であると該組成物の粘度が低くなることから、塗工性や取扱性が良好となる。
　水溶性ポリマー含有樹脂組成物は、水溶性ポリマー、架橋剤および水などの溶剤に加えて、添加剤等の他の成分を含んでいてもよい。そのような他の成分としては、例えば、防腐剤、レベリング剤などが挙げられる。水溶性ポリマー含有樹脂組成物が添加剤等の他の成分を含む場合、その量は、該樹脂組成物の固形分に基づき、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。
　例えば、拡散防止層を形成する面に水溶性ポリマー含有樹脂組成物を塗工し、該塗膜を乾燥して硬化させることにより拡散防止層を得ることができる。
　水溶性ポリマー含有樹脂組成物を塗布する方法は特に限定されず、偏光層形成用組成物を基材等へ塗布する方法と同様の公知の方法が挙げられる。
　水溶性ポリマー含有樹脂組成物の塗膜から拡散防止層を形成するための乾燥温度や時間等は特に限定されず、用いる水溶性ポリマー含有樹脂組成物の組成等に応じて適宜決定すればよい。乾燥処理は、例えば、熱風を吹き付けることなどによって行なうことができ、その温度は、通常４０～１００℃、好ましくは６０～１００℃の範囲内である。また、乾燥時間は通常、１０～６００秒である。
　活性エネルギー線硬化性樹脂は高度に重合し得るため二色性色素の拡散防止機能に優れる傾向にある。拡散防止層を形成し得る活性エネルギー線硬化性樹脂を含む硬化性組成物（以下、「拡散防止層形成用硬化性組成物」ともいう）としては、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型の硬化性組成物、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型の硬化性組成物、カチオン重合性化合物およびラジカル重合性化合物の双方を含むハイブリッド型の硬化性組成物等が挙げられる。カチオン重合性化合物の具体例としては、分子内に１個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、分子内に１個以上のオキセタン環を有するオキセタン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。また、ラジカル重合性化合物の具体例としては、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系化合物、ビニル化合物等が挙げられる。拡散防止層形成用硬化性組成物は、カチオン重合性化合物を１種または２種以上含むことができ、および／または、ラジカル重合性化合物を１種または２種以上含むことができる。
　カチオン重合型の硬化性組成物の主成分であるカチオン重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりカチオン重合反応が進行し、硬化する化合物またはオリゴマーをいい、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等を例示することができる。中でも、好ましいカチオン重合性化合物はエポキシ化合物である。
　エポキシ化合物とは、分子内に１個以上、好ましくは２個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。中でも、耐候性、硬化速度および接着性の観点から、エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物や脂肪族エポキシ化合物を含むことが好ましい。
　本発明の一実施態様において、拡散防止層形成用硬化性組成物がカチオン重合性化合物としてエポキシ化合物を含む場合、エポキシ化合物の含有量は、硬化性組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは１５質量部以上、さらに好ましくは２０質量部以上であり、好ましくは７０質量部以下、より好ましくは６０質量部以下、さらに好ましくは５０質量部以下である。
　カチオン重合性化合物を含む拡散防止層形成用硬化性組成物（ハイブリッド型の場合を含む）に含まれる硬化性化合物の全量を１００質量％とするとき、カチオン重合性化合物の含有量（２種以上のカチオン重合性化合物が含まれる場合にはそれらの合計含有量）は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上である。また、カチオン重合型の硬化性組成物は、ポリマー成分（熱可塑性樹脂等）をさらに含んでいてもよい。
　拡散防止層形成用硬化性組成物がカチオン重合性化合物を含む場合、光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、または電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種またはルイス酸を発生し、カチオン硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、光カチオン硬化性化合物に混合しても保存安定性や作業性に優れる。活性エネルギー線の照射によりカチオン種またはルイス酸を生じる化合物として、例えば、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、鉄－アレーン錯体等を挙げることができる。
　光カチオン重合開始剤は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。中でも、芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ付近の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械的強度や接着強度を有する硬化物を与えることができるため好ましく用いられる。
　拡散防止層形成用硬化性組成物における光カチオン重合開始剤の含有量は、硬化性化合物の固形分１００質量部に対して、好ましくは１～１０質量部、より好ましくは２～８質量部である。光カチオン重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、カチオン重合性化合物を十分に硬化させることができ、得られる拡散防止層に高い機械的強度や接着強度を付与し得る。
　カチオン重合型の硬化性組成物に、カチオン重合性化合物に加えてラジカル重合性化合物を含有させることによりハイブリッド型の硬化性組成物とすることもできる。ラジカル重合性化合物を併用することにより、拡散防止層の硬度や機械的強度を高める効果が期待でき、さらには硬化性組成物の粘度や硬化速度等の調整がより行いやすくなる。
　ラジカル重合型の硬化性組成物の主成分であるラジカル重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりラジカル重合反応が進行し、硬化する化合物またはオリゴマーをいい、具体的にはエチレン性不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系化合物の他、スチレン、スチレンスルホン酸、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ－ビニル－２－ピロリドンのようなビニル化合物等が挙げられる。中でも、好ましいラジカル重合性化合物は（メタ）アクリル系化合物である。
　（メタ）アクリル系化合物は、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物であり、モノマー、オリゴマーまたはポリマーであってもよい。（メタ）アクリル化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物などの（メタ）アクリレート化合物；多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物などのウレタン（メタ）アクリレート化合物；多官能エポキシ（メタ）アクリレート化合物などのエポキシ（メタ）アクリレート化合物；カルボキシル基変性エポキシ（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。（メタ）アクリル系化合物は、１種のみを単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。
　（メタ）アクリレート化合物としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　多官能（メタ）アクリレート化合物を用いる場合、該化合物の架橋点間分子量および架橋点数を制御することにより、拡散防止層の架橋密度を調整できる。より詳細には、架橋点間分子量が小さくなるほど架橋密度が上がり、また架橋点数が多くなるほど架橋密度が密になり、光吸収異方性膜中の二色性色素に対する遮蔽性を高めることができる。
　ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、一般に、イソシアネート化合物とポリオール化合物と（メタ）アクリレート化合物の反応物を意味し、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、架橋構造を形成できるため、拡散防止層の二色性色素拡散防止機能を向上する観点から有利であるとともに、適度な靱性を付与することができる。多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物の官能基数は、好ましくは２～５である。
　エポキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ポリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との付加反応により得ることができ、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ポリエステル（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、分子内にエステル結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基（典型的には（メタ）アクリロイルオキシ基）とを有する化合物が挙げられる。
　本発明の一実施態様において拡散防止層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物を含有する場合、ラジカル重合性化合物として多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。この場合、多官能（メタ）アクリレート化合物の含有量は、硬化性組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは６０質量部以上、さらに好ましくは７０質量部以上であり、好ましくは１００質量部以下、より好ましくは９５質量部以下、さらに好ましくは９０質量部以下である。
　また、本発明の一実施態様において拡散防止層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物を含有する場合、ラジカル重合性化合物として多官能（メタ）アクリレート化合物と多官能ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。この場合、多官能（メタ）アクリレート化合物とウレタン（メタ）アクリレート化合物とを、好ましくは９５：５～５０：５０、より好ましくは９０：１０～７０：３０の比率（多官能（メタ）アクリレート化合物：ウレタン（メタ）アクリレート化合物、質量比）で含むことが好ましい。
　拡散防止層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物を含有する場合、光ラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。光ラジカル重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、または電子線のような活性エネルギー線の照射によって、ラジカル硬化性化合物の重合反応を開始させるものである。光ラジカル重合開始剤は、１種のみを単独で使用してもよいし２種以上を併用してもよい。
　光ラジカル重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、３－メチルアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オンおよび２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン等のアセトフェノン系開始剤；ベンゾフェノン、４－クロロベンゾフェノンおよび４，４’－ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン等のアルキルフェノン系開始剤；ベンゾインプロピルエーテルおよびベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤；４－イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系開始剤；その他、キサントン、フルオレノン、カンファーキノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン等が挙げられる。
　拡散防止層形成用硬化性組成物における光ラジカル重合開始剤の含有量は、硬化性化合物の固形分１００質量部に対して、好ましくは１～１０質量部、より好ましくは２～８質量部である。光ラジカル重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合開始能を十分に発現させ、硬化性を向上させながら、光ラジカル重合開始剤が残存しにくくなるため、可視光線透過率の低下等を抑制しやすくなる。
　本発明において、拡散防止層形成用硬化性組成物は、例えば、採用する塗工方式に適した粘度に調整するために有機溶剤を含有してもよく、実質的に溶剤を含まないもの（無溶剤である）であってもよい。なお、「実質的に含まない」とは、溶剤が不可避的に混入する場合を排除しないことを意味する。
　溶剤としては、拡散防止層を構成する成分を溶解し得るものであればよく、偏光層形成用組成物に用い得る溶剤と同様のものが例示される。これらの溶剤は、単独で用いても、２種以上を組合せて用いてもよい。
　溶剤の種類および含有量は、拡散防止層を構成する成分の種類や含有量、形状、塗布方法、拡散防止層の厚みなどに応じて適宜選択される。溶剤を含む場合にその量は、例えば、硬化性組成物の固形分１００質量部に対して、好ましくは３～１０００質量部、より好ましくは５～１００質量部、さらに好ましくは７～５０質量部である。
　拡散防止層形成用硬化性組成物は、必要に応じて、カチオン重合促進剤、光増感剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤等の添加剤を含有してもよい。
　例えば、拡散防止層を形成する面に拡散防止層形成用硬化性組成物を塗工し、該塗膜に活性エネルギー線を照射して、該組成物を硬化することにより拡散防止層を得ることができる。拡散防止層形成用硬化性組成物を塗布する方法、硬化に用いる活性エネルギー線の種類、光源、照射条件等としては、偏光層形成用組成物を塗布する方法および硬化する方法と同様の方法および条件等を採用し得る。
　拡散防止層の厚みは、好ましくは０．１μｍ以上５μｍ以下、より好ましくは０．３μm以上４μｍ以下、さらに好ましく０．５μm以上は３μｍ以下である。上記範囲内であると、偏光層中の二色性色素の他の層への拡散を効果的に抑制することができる。偏光層の第１応力緩和層側および位相差層側の両方に拡散防止層を含む場合、その厚みは同じであってもよく、異なっていてもよい。
　〔位相差層〕
　本発明の光学積層体に含まれる位相差層は、位相差を発現する層である。光学積層体の薄型化の観点から位相差層は、好ましくはコーティング層であり、より好ましくは、少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化層からなる。本発明の光学積層体は、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを剥離して現れる２つの外層面をそれぞれ転写して表示装置へ組み込む際の、貼合ズレやシワ等の発生を抑制する効果に優れるため、両面転写により表示装置等へ組み込んだ後も高い円偏光機能が期待できる。本発明の光学積層体において位相差層は１つであっても、２つ以上含まれていてもよい。
　本発明の光学積層体は、下記式（３）を満たす位相差層を含むことが好ましい。
　１２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍ　　　（３）
〔式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける位相差層の面内位相差値を表す。〕
　位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）が式（３）の範囲内であると、該位相差層は１／４波長板として機能する位相差層となり、該位相差層を含む光学積層体（円偏光板）を有機ＥＬ表示装置等に適用した場合の正面反射色相を向上させる効果（着色を抑制させる効果）が高まりやすい。面内位相差値のさらに好ましい範囲は、１３０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍである。
　また、前記式（３）を満たす位相差層が、下記式（４）および（５）を満たすことが好ましい。
　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００　　　（４）
　１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）　　　（５）
〔式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける位相差層の面内位相差値を表す。〕
　位相差層が式（４）および（５）を満たす場合、当該位相差層は、短波長での面内位相差値が長波長での面内位相差値よりも小さくなる、いわゆる逆波長分散性を示す。このような位相差層を有する光学積層体（円偏光板）は、有機ＥＬ表示装置等に組み込んだ場合の正面色相に優れる傾向にある。逆波長分散性が向上し、正面方向の反射色相の向上効果をより高め得る観点から、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．７０以上、より好ましくは０．７８以上であり、また、好ましくは０．９２以下、より好ましくは０．９０以下、さらに好ましくは０．８７以下、特に好ましくは０．８６以下、より特に好ましくは０．８５以下である。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１．０１以上、より好ましくは１．０２以上である。
　上記面内位相差値は、位相差層の膜厚ｄによって調整することができる。面内位相差値は、上記式Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ（λ）－ｎｙ（λ））×ｄによって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ）：波長λ（ｎｍ）における位相差層の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄとを調整すればよい。なお、前記式において、ｄは対象とする位相差層の厚みを表し、ｎｘは、該位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す。
　本発明の光学積層体は、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した「水平配向液晶硬化層」からなる位相差層を含むことが好ましく、前記式（３）～（５）を満たす水平配向液晶硬化層を含むことがより好ましい。本発明の光学積層体が１つの位相差層を含む場合、通常、該位相差層を構成する位相差層は「水平配向液晶硬化層」である。
　本発明の光学積層体は、水平配向液晶硬化層である位相差層に加えて、さらに、ポジティブＣプレートである液晶硬化層（位相差層）である位相差層を含んでいてもよい。ポジティブＣプレートである液晶硬化層は、重合性液晶化合物が基材面に対して鉛直方向に配向した状態で硬化した「垂直配向液晶硬化層」である。水平配向液晶硬化層である位相差層と垂直配向液晶硬化層である位相差層とを組み合わせて含むことにより、該光学積層体を有機ＥＬ表示装置等に適用した場合に正面反射色相の向上に加えて斜方反射色相の向上も期待し得る。本発明の光学積層体が、垂直配向液晶硬化層を含む場合、該垂直配向液晶硬化層である位相差層は偏光層と第２応力緩和層との間に配置されることが好ましい。
　本発明の光学積層体が垂直配向液晶硬化層を含む場合、該液晶硬化層は、式（６）を満たすことが好ましい。
　－１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦－４０ｎｍ　　　（６）
〔式中、Ｒｔｈ（５５０）は液晶硬化層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差値を表し、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ））／２－ｎｚ）×ｄである（ｄは液晶硬化層の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表し、ｎｚは、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層の平面に対して垂直な方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）。〕
　垂直配向液晶硬化層が式（６）を満たす場合、該液晶硬化層を含む光学積層体（円偏光板）を有機ＥＬ表示装置に適用した場合の斜方反射色相を向上させることができる。前記液晶硬化層の膜厚方向の位相差値Ｒｔｈ（５５０）は、より好ましくは－９０ｎｍ以上、さらに好ましくは－８０ｎｍ以上であり、また、より好ましくは－５０ｎｍ以下である。
　本発明において位相差層（水平配向液晶硬化層および垂直配向液晶硬化層）は、少なくとも１種の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物（以下、「位相差層形成用組成物」ともいう）の硬化層からなる。重合性液晶化合物としては、所望する光学特性に応じて、位相差フィルムの分野において従来公知の重合性液晶化合物から適宜選択することができる。
　重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物である。重合性液晶化合物としては、一般に、該重合性液晶化合物を単独で特定方向に配向した状態で重合することにより得られる重合体（硬化物）が、正波長分散性を示す重合性液晶化合物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とが挙げられる。本発明においては、どちらか一方の種類の重合性液晶化合物のみを使用してもよく、両方の種類の重合性液晶化合物を混合して用いてもよい。
また、光学積層体が、水平配向液晶硬化層と垂直配向液晶硬化層とを含む場合、これらを構成する重合性液晶化合物は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。光学積層体としての光学特性を向上させやすい観点から、本発明の一実施態様において、水平配向液晶硬化層は、いわゆる逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化層であることが好ましい。
　本発明において位相差層を形成する重合性液晶化合物が有する重合性基は、好ましくは光重合性基である。光重合性基とは、重合性基であって、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基としては、例えばビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、（メタ）アクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。
　重合性液晶化合物が示す液晶性はサーモトロピック性液晶であってもよいし、リオトロピック性液晶であってもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもディスコチック液晶でもよい。重合性液晶化合物は単独または二種以上組み合わせて使用できる。
　いわゆるＴ字型またはＨ型の分子構造を有する重合性液晶化合物は、重合して硬化させた際に逆波長分散性を発現しやすく、Ｔ字型の分子構造を有する重合性液晶化合物はより強い逆波長分散性を発現する傾向にある。
　逆波長分散性を示す重合性液晶化合物としては、下記（Ａ）～（Ｄ）の特徴を有する化合物であることが好ましい。
（Ａ）ネマチック相またはスメクチック相を形成し得る化合物である。
（Ｂ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（Ｃ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（Ｄ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
　Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）　　（ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
　Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）　　（ｉｉ）
とが、式（ｉｉｉ）
　０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕＜１　　　（ｉｉｉ）
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。上記記載のように長軸およびそれに対して交差方向上にπ電子を有する重合性液晶化合物は、一般にＴ字構造となりやすい。
　上記（Ａ）～（Ｄ）の特徴において、長軸方向（ａ）およびπ電子数Ｎは以下のように定義される。
・長軸方向（ａ）は、例えば棒状構造を有する化合物であれば、その棒状の長軸方向である。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、長軸上のπ電子およびこれと共役するπ電子の合計数であり、例えば長軸方向（ａ）上に存在する環であって、ヒュッケル則を満たす環に存在するπ電子の数が含まれる。
・交差方向（ｂ）に存在するπ電子数Ｎ（πｂ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
　上記を満たす重合性液晶化合物は、長軸方向にメソゲン構造を有している。このメソゲン構造によって、液晶相（ネマチック相、スメクチック相）を発現する。
　上記（Ａ）～（Ｄ）を満たす重合性液晶化合物を、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相やスメクチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相またはスメクチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相またはスメクチック相の配向方向となる。このような重合性液晶化合物を膜状とし、ネマチック相またはスメクチック相の状態で重合させると、長軸方向（ａ）に配向した状態で重合した重合体からなる重合体膜を形成することができる。この重合体膜は、長軸方向（ａ）上のπ電子と交差方向（ｂ）上のπ電子により紫外線を吸収する。ここで、交差方向（ｂ）上のπ電子により吸収される紫外線の吸収極大波長をλｂｍａｘとする。λｂｍａｘは通常３００ｎｍ～４００ｎｍである。π電子の密度は、上記式（ｉｉｉ）を満足していて、交差方向（ｂ）のπ電子密度が長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きいので、交差方向（ｂ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収が、長軸方向（ａ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収よりも大きな重合体膜となる。その比（直線偏光紫外線の交差方向（ｂ）の吸光度／長軸方向（ａ）の吸光度の比）は、例えば１．０超、好ましくは１．２以上、通常３０以下であり、例えば１０以下である。
　上記特徴を有する重合性液晶化合物は、一般に、一方向に配向した状態で重合させたときにその重合体の複屈折率が逆波長分散性を示すものであることが多い。具体的には、例えば、下記式（Ｘ）で表される化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ｘ）」ともいう）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（Ｘ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を有する二価の基を表す。ここでいう芳香族基とは、例えば後述する（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）で例示される基が挙げられる。またＡｒは芳香族基を２個以上有していてもよい。該芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれていてもよい。Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－などの二価の結合基で結合していてもよい。
　式（Ｘ）中、Ｇ１およびＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
　式（Ｘ）中、Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
　式（Ｘ）中、ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１およびＢ２、Ｇ１およびＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
　式（Ｘ）中、Ｅ１およびＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。また、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－で置換されていてもよい。
　式（Ｘ）中、Ｐ１およびＰ２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
　Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、または無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
　また、複数存在するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１またはＬ２に結合するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
　Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ１ＯＲａ２－、－Ｒａ３ＣＯＯＲａ４－、－Ｒａ５ＯＣＯＲａ６－、－Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲｃ＝ＣＲｄ－、または－Ｃ≡Ｃ－である。ここで、Ｒａ１～Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１～４のアルキレン基を表し、ＲｃおよびＲｄは炭素数１～４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ２－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ４－１－、または－ＯＣＯＲａ６－１－である。ここで、Ｒａ２－１、Ｒａ４－１、Ｒａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、または－ＯＣＯ－である。
　Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ９ＯＲａ１０－、－Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２－、－Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４－、または－Ｒａ１５ＯＣ＝ＯＯＲａ１６－である。ここで、Ｒａ９～Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ１０－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ１２－１－、または－ＯＣＯＲａ１４－１－である。ここで、Ｒａ１０－１、Ｒａ１２－１、Ｒａ１４－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－、または－ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２－である。
　ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。
　Ｐ１またはＰ２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、（メタ）アクリロイル基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基、ビニル基およびビニルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール環を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
　式（Ｘ）中、Ａｒで表される基が有するπ電子の合計数Ｎπは、通常６以上であり、８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３６以下であり、より好ましくは３２以下であり、さらに好ましくは２６以下であり、特に好ましくは２４以下である。
　Ａｒに含まれる芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基または炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。また、Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、重合性基を含んでいてもよい。
　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、－ＣＲ２’Ｒ３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ２’－、－ＣＯ－または－Ｏ－を表し、Ｒ２’およびＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。
　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｊ１およびＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。
　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｙ１、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。
　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。
　Ｙ１、Ｙ２およびＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
　Ｙ１、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。
　Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１およびＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。また、Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は重合性基を含んでいてもよい。
　Ｑ１およびＱ２は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。
　式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）および式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
　式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
　式（Ｘ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造し得る。
　本発明において位相差層を形成する重合性液晶化合物として、例えば、下記式（Ｙ）で表される基を含む化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ｙ）」ともいう）を用いてもよい。重合性液晶化合物（Ｙ）は一般に正波長分散性を示す傾向にある。これらの重合性液晶化合物は単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－　　　（Ｙ）
［式（Ｙ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
　Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。
　Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
　Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｈ、－Ｃ≡Ｎまたは単結合を表わす。
　Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
　Ａ１１の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１で表される２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、１，４－フェニレン基が好ましい。
　Ｅ１１としては、直鎖状の炭素数１～１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
　具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－および－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－等が挙げられる。
　Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
　Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。
　Ｐ１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 ［式（Ｐ－１１）～（Ｐ－１５）中、
　Ｒ１７～Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす。］
　式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ－１６）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　Ｐ１１は、式（Ｐ－１４）～式（Ｐ－２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
　Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
　重合性液晶化合物（Ｙ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｂ１４－Ａ１３－Ｂ１５－Ａ１４－Ｂ１６－Ｅ１２－Ｂ１７－Ｐ１２　（Ｉ）
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｂ１４－Ａ１３－Ｂ１５－Ａ１４－Ｆ１１　（ＩＩ）
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｂ１４－Ａ１３－Ｂ１５－Ｅ１２－Ｂ１７－Ｐ１２　（ＩＩＩ）
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｂ１４－Ａ１３－Ｆ１１　（ＩＶ）
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｂ１４－Ｅ１２－Ｂ１７－Ｐ１２　（Ｖ）
　Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－Ａ１２－Ｆ１１　（ＶＩ）
［式中、
　Ａ１１、Ｂ１１～Ｂ１３およびＰ１１は上記と同義であり、
　Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７はＢ１１と同義であり、Ｅ１２はＥ１１と同義であり、Ｐ１２はＰ１１と同義である。
　Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシル基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。］
　重合性液晶化合物（Ｙ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６　ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１　液晶材料　ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報および特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶が挙げられる。
　重合性液晶化合物（Ｘ）および重合性液晶化合物（Ｙ）は、いずれも、水平配向させて使用することも垂直配向して使用することもできる。また、重合性液晶化合物（Ｘ）および重合性液晶化合物（Ｙ）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよく、両者を組み合わせて用いてもよい。
　位相差層形成用組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、位相差層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８５～９８質量部であり、さらに好ましくは９０～９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差層の配向性の観点から有利である。なお、位相差層形成用組成物が２種以上の重合性液晶化合物を含む場合、位相差層形成用組成物に含まれる全ての液晶化合物の総量が上記含有量の範囲内であることが好ましい。
　位相差層形成用組成物は、重合性液晶化合物の重合反応を開始するための重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、当該分野で従来用いられているものから適宜選択して用いることができ、熱重合開始剤であっても、光重合開始剤であってもよいが、より低温条件下で重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。好適には、偏光層形成用組成物において使用し得る光重合開始剤として先に例示したものと同様のものが挙げられる。
　位相差層形成用組成物は、通常、溶剤に溶解した状態で基材フィルム等に塗布されるため、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。溶剤としては、偏光層形成用組成物において使用し得るものとして先に例示したものと同様のものが挙げられる。
　また、位相差層形成用組成物は、必要に応じて、光増感剤、レベリング剤および偏光層形成用組成物に含まれる添加剤として例示した添加剤等を含有してもよい。光増感剤およびレベリング剤としては、偏光層形成用組成物において使用し得るものとして先に例示したものと同様のものが挙げられる。
　位相差層形成用組成物は、例えば、重合性液晶化合物および必要に応じて重合開始剤、溶媒、添加剤等を混合および撹拌することにより調製できる。
　位相差層は、例えば、位相差層形成用組成物を、基材または配向膜上に塗布し、得られる塗膜を乾燥し、かつ、該位相差層形成用組成物中の重合性液晶化合物を配向させた後、配向状態を保持したまま光照射等により重合性液晶化合物を重合させることにより得ることができる。基材としては、本発明の光学積層体を構成する基材フィルムと同様のものが挙げられる。配向膜としては、本発明の偏光層を作製する際に用い得るものとして先に例示した光配向膜の他に、配向性ポリマーを含む配向膜、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜などが挙げられ、所望する配向規制力等に応じて適宜選択すればよい。
　配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは単独または２種以上を組み合わせて使用できる。
　配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ともいう）を基材フィルム等の配向膜を形成すべき表面に塗布し、溶剤を除去する、または、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。溶剤としては、偏光層形成用組成物に用い得る溶剤として先に例示した溶剤と同様のものが挙げられる。
　配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０％が好ましく、０．１～１０％程度がさらに好ましい。
　配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。
　配向性ポリマー組成物を基材等の配向膜を形成すべき表面に塗布する方法および塗膜中の溶剤を除去する方法としては、偏光層形成用組成物を基材フィルム等へ塗布する方法および塗膜中の溶剤を除去する方法と同様の方法を採用し得る。
　得られた配向性ポリマー組成物の乾燥塗膜に対してラビング処理を施すことによりラビング配向膜が得られる。ラビング処理方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ回転しているラビングロールに、前記配向性ポリマー組成物の乾燥塗膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。
　グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
　グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化性樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材等へ移してから硬化する方法、および、配向膜を形成すべき表面に形成した硬化前のＵＶ硬化性樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。
　位相差層を形成するための配向膜（配向性ポリマーを含む配向膜または光配向膜）の厚みは、通常１０～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０～２５００ｎｍの範囲であり、より好ましくは１０～１０００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０～５００ｎｍ、特に好ましい５０～２５０ｎｍの範囲である。
　本発明の光学積層体において、位相差層の厚みは適用される表示装置に応じて適宜選択できるが、薄膜化の観点から、好ましくは０．１～１０μｍ、より好ましくは０．５～５μｍ、さらに好ましくは１～３μｍである。本発明の光学積層体が複数の位相差層を含む場合、該位相差層に含まれる各位相差層の厚みは互いに同じであっても異なっていてもよいが、それぞれ上記範囲内にあることが好ましい。
　本発明の光学積層体が水平配向液晶硬化層からなる位相差層と垂直配向液晶硬化層からなる位相差層とを含む場合、垂直配向液晶硬化層は偏光層と第２応力緩和層との間に配置されることが好ましい。水平配向液晶硬化層からなる位相差層と垂直配向液晶硬化層からなる位相差層とを含む場合、偏光層、粘接着層、第１の位相差層、第２の位相差層および第２応力緩和層の順に積層されていることが好ましい。この場合、水平配向液晶硬化層である位相差層および垂直配向液晶硬化層である位相差層のいずれが偏光層側に配置（すなわち、第１位相差層）されてもよい。水平配向液晶硬化層からなる位相差層と垂直配向液晶硬化層からなる位相差層とは粘接着層を介して貼合されていてもよいし、水平配向液晶硬化層上に、垂直配向規制力を有する配向膜を介してまたは介さずに、垂直配向液晶硬化層が積層されている、または、垂直配向液晶硬化層上に、水平配向規制力を有する配向膜を介してまたは介さずに水平配向液晶硬化層が積層されていてもよい。
　〔粘接着層〕
　本発明において偏光層と位相差層との間に配置される粘接着層は、粘接着剤から形成される層である。該粘接着層は、偏光層と位相差層とを貼合する層として機能し得るものであれば公知の粘接着剤から形成することができる。粘着剤または接着剤は、特に限定されるものではなく、従来公知の粘着剤および接着剤を特に制限なく用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系などのベースポリマーを有する粘着剤が挙げられる。また、エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤などであってもよい。接着剤としては、活性エネルギー線硬化型接着剤、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、および無溶剤系接着剤を挙げることができる。
本発明の一実施態様において、該粘接着層は粘着剤から形成される。
　粘接着層の厚みは、通常１～４０μｍであり、好ましくは３～２５μｍである。
　偏光層と位相差層とを積層する場合、位相差層の遅相軸（光軸）と偏光層の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することが好ましい。位相差層の遅相軸（光軸）と偏光層の吸収軸とを実質的に４５°となるように積層することによって、円偏光板としての機能を得ることができる。なお、実質的に４５°とは通常４５±５°の範囲である。
　〔光学積層体〕
　本発明の光学積層体は、その用途等に応じて所望の構成になるよう、第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第２応力緩和層、および第２基材フィルム、並びに、必要に応じて配向膜、拡散防止層等を、各層について先に記載した製造方法等に従い、適切な順に形成、積層することにより製造できる。
　例えば、拡散防止層を有する場合、以下のような手順で製造し得る：基材フィルム上に形成された拡散防止層上に配向膜を形成し、該配向膜上に偏光層を形成後、さらに該偏光層上に拡散防止層を形成して、２つの拡散防止層の間に偏光層を設けた積層体を作製する；これとは別に、基材フィルム上に配向膜を介して位相差層を形成することにより、位相差層を有する積層体を作製し、該位相差層を有する積層体と前記偏光層を有する積層体とを粘接着剤により接着させることにより、基材フィルム／拡散防止層／配向膜／偏光層／拡散防止層／粘接着剤層／位相差層／配向膜／基材フィルムをこの順に含む積層体（Ａ）を作製する；さらに、第１基材フィルム上に第１応力緩和層を形成し、第１基材フィルム／第１応力緩和層／基材フィルムからなる積層体（Ｂ）と、第２基材フィルム上に第２応力緩和層を形成し、第２基材フィルム／第２応力緩和層／基材フィルムからなる積層体（Ｃ）とを作製する；積層体（Ａ）の基材フィルムと積層体（Ｂ）の基材フィルムとを剥離して、拡散防止層と第１応力緩和層とを貼合し、積層体（Ａ）の両外層の基材フィルム、積層体（Ｂ）の基材フィルムおよび積層体（Ｃ）の基材フィルムをそれぞれ剥離して、拡散防止層と第１応力緩和層、位相差層と第２応力緩和層とをそれぞれ貼合することにより、第１基材フィルム／第１応力緩和層／拡散防止層／配向膜／偏光層／拡散防止層／粘接着剤層／位相差層／配向膜／第２応力緩和層／第２基材フィルムをこの順に含む光学積層体が得られる。
　本発明の光学積層体において、第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みは２０μｍ以下である。本発明は、薄型の光学積層体において転写時に生じやすい貼合ズレやシワの発生を抑制するのに適した構成をしており、第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に配置される、偏光層および位相差層等からなる円偏光機能をもたらすための構造（積層体）の厚みが薄い積層体において、本発明のより顕著な効果が得られやすい。本発明において、第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みは、所望する層構成によっても異なるが、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１６μｍ以下である。第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みの下限は特に限定されるものではないが、通常５μｍ以上である。
　本発明の一実施態様において、光学積層体から第１基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ１）と、光学積層体から第２基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ２）とが、式（２）：
０．０２（Ｎ／２５ｍｍ）≦｜Ｆ１－Ｆ２｜　　　（２）
を満たすことが好ましい。
　剥離力Ｆ１と剥離力Ｆ２とが前記式（２）で表される関係を満たすと、光学積層体における第１基材フィルムの密着力と、光学積層体における第２基材フィルムの密着力との間に適度な強弱関係が生じる。このため、上記関係を満たす場合、光学積層体から第１基材および第２基材を所望する順に容易に剥離することができる。特に、光学積層体から先に剥離される基材フィルムの剥離力が、後に剥離される基材フィルムの剥離力よりも小さいと、基材フィルムが剥離しやすく、被転写体へ転写する際の貼合ズレやシワが発生し難くなる。これにより、転写に起因して生じる光学積層体の光学性能の低下を抑える効果が期待できる。かかる効果がより向上しやすくなる点から、本発明におけるＦ１－Ｆ２の絶対値は、好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上である。また、Ｆ１－Ｆ２の絶対値の上限値は、通常０．３Ｎ／２５ｍｍ以下であり、好ましくは０．２Ｎ／２５ｍｍ以下、より好ましくは０．０８Ｎ／２５ｍｍ以下である。Ｆ１－Ｆ２の値は、剥離力Ｆ１と剥離力Ｆ２とをそれぞれ調整することにより制御し得る。
通常、剥離力Ｆ１および剥離力Ｆ２は、先に剥離される基材側の剥離力が後で剥離される基材側の剥離力よりも小さくなるよう設計される。
　本発明において、剥離力Ｆ１は、好ましくは０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満、より好ましくは０．２５Ｎ／２５ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１５Ｎ／２５ｍｍ以下である。剥離力Ｆ１の上限が前記範囲内であると、光学積層体から第１基材フィルムを剥離しやすく、剥離力Ｆ２との関係において貼合ズレやシワの発生等の抑制に効果的な範囲に剥離力Ｆ１を制御しやすい。また、剥離力Ｆ１は、好ましくは０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは０．０６Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは０．０８Ｎ／２５ｍｍ以上である。
剥離力Ｆ１が前記下限以上であると、光学積層体から第１基材フィルムを剥離する際の易剥離性を確保しながら、積層体を表示装置等へ組み込む転写前の意図しない第１基材フィルムの剥離を抑制することができる。
　本発明において、剥離力Ｆ２は、好ましくは０．３０Ｎ／２５ｍｍ未満、より好ましくは０．２５Ｎ／２５ｍｍ以下、さらに好ましくは０．１５Ｎ／２５ｍｍ以下である。剥離力Ｆ２の上限が前記範囲内であると、光学積層体から第２基材フィルムを剥離しやすく、第２基材フィルムを剥離して基板に転写する際に生じ得るシワや、貼合ズレ、気泡の発生等の抑制効果が向上しやすい。また、剥離力Ｆ２は、好ましくは０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは０．０２Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍ以上である。剥離力Ｆ２が前記下限以上であると、光学積層体から第２基材フィルムを剥離する際の易剥離性を確保しながら、積層体を表示装置等へ組み込む転写前の意図しない第２基材フィルムの剥離を抑制することができる。
　剥離力Ｆ１およびＦ２は、それぞれ、測定対象とする光学積層体の、剥離力を測定する基材フィルムと反対側の基材フィルム（例えば、Ｆ１測定時は第２基材フィルム、Ｆ２測定時は第１基材フィルム）を剥離した面を、粘接着剤によりガラス板に貼合するなどして固定した試験片において、剥離力を測定する第１基材フィルムまたは第２基材フィルムを試験片の光学積層体から剥離するために必要となる剥離力として測定される値である。前記剥離力の測定は、ＪＩＳ　Ｋ　６８５４－１：１９９９に規定される９０°剥離試験法に準じて行うことができる。剥離力Ｆ１およびＦ２の詳細な測定方法は、後述する実施例に記載する。
　剥離力Ｆ１および剥離力Ｆ２は、例えば、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムとそれぞれ隣接する層の構成およびその厚み、第１基材フィルムおよび第２基材フィルムの種類やその厚み、第１基材フィルム、第２基材フィルムおよび／またはこれらの基材フィルムと隣接する層の表面処理等により調整し得る。例えば、第１基材フィルムおよび／または第２基材フィルム表面上に改質処理を施したり、第１基材フィルムまたは第２基材フィルムと隣接する層として剥離力調整層を設けたりすることにより、第１基材フィルムまたは第２基材フィルムの光学積層体からの剥離力を制御することができる。
　本発明の光学積層体において、該光学積層体を構成する剥離可能な第１基材フィルムおよび剥離可能な第２基材フィルムはいずれも剥離され、円偏光板機能を有する積層体構造のみを被転写体へ転写して利用するものである。本発明の光学積層体は、第１応力緩和層および第２応力緩和層を備えており、基材フィルムを剥離して基板へ転写する際の貼合ズレやシワの発生を抑制する効果に優れる。本発明の光学積層体は、光学フィルムや光学積層体等を製造するために当該分野で従来広く使用されている一般的な装置を用いて、第１基材または第２基材を所望する順に光学積層体から連続的に容易に剥離することができる。
　本発明の光学積層体は、薄型でありながら、基材フィルム剥離に起因する貼合ズレやシワが生じ難く、転写後の積層体における高い光学性能を期待し得る。このため、本発明の光学積層体は、様々な表示装置の製造に好適に用いることができる。
　表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。
　以下、実施例および比較例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例および比較例中の「％」および「部」は、特記しない限り、「質量％」および「質量部」である。
１．積層体Ａ１の作製
（１）水溶性ポリマー（１）の調製
　以下の合成スキームに従って、下記構造単位からなる水溶性ポリマー（１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　ジメチルスルホキシド４００ｇ中に、分子量１０００のポリビニルアルコール（和光純薬工業株式会社製）２０ｇと、求核剤としてＮ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジンを０．５５ｍｇ、トリエチルアミン４．６ｇを溶解し、撹拌しながら６０℃まで昇温した。その後、ジメチルスルホキシド５０ｇ中にメタクリル酸無水物１０．５ｇを溶解させた溶液を１時間かけて滴下し、６０℃で１４時間加熱撹拌することにより反応させた。得られた反応溶液を室温まで冷却後、反応溶液中にメタノール４８１ｇを加えて完全に混合するように撹拌することで、反応溶液とメタノールとの比率（質量）が１：１となるように調整した。この溶液中に１５００ｍＬのアセトンを徐々に加えることで、水溶性ポリマー（１）を晶析法により結晶化させた。得られた白色結晶を含む溶液を濾過し、アセトンでよく洗浄した後に真空乾燥することで、水溶性ポリマー（１）を２０．２ｇ得た。得られた水溶性ポリマー（１）を水に溶解させ、３質量％の水溶性ポリマー（１）水溶液を調製した。
（２）光配向膜形成用組成物の調製
　下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。
・光配向性ポリマー：特開２０１３－０３３２４９号公報に記載のポリマー（数平均分子量：約２８２００、Ｍｗ／Ｍｎ：１．８２）　　２部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
・溶剤：ｏ－キシレン　　９８部
（３）偏光層形成用組成物の調製
　以下の各成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することにより偏光層形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
・重合性液晶化合物：Ａ１　　７５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 ・重合性液晶化合物：Ａ２　　２５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 ・二色性色素：アゾ色素１　　２．５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 ・二色性色素：アゾ色素２　　２．５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 ・二色性色素：アゾ色素３　　２．５部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 ・重合開始剤：２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製）　　６部
・レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）　　１．２部
・溶剤：ｏ－キシレン　　２５０部
（４）位相差層形成用組成物の調製
　以下の各成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、位相差層形成用組成物を得た。
・重合性液晶化合物：Ｘ１　　１００部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 ・重合性液晶化合物：Ｘ２　　３３部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 ・重合開始剤：２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア（登録商標）３６９；ＢＡＳＦジャパン社製）　　８部
・レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）　　０．１部
・その他の添加剤：ＬＡＬＯＭＥＲ　ＬＲ９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）　　６．７部
・溶剤：シクロペンタノン　　５４６部
・溶剤：Ｎ－メチルピロリドン　　３６４部
（５）偏光板（１）の作製
　基材１として離型ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ユニチカ（株）製「ＦＦ－５０」、片面離型処理ＰＥＴフィルム、基材の厚さ：５０μｍ）の離型処理面に、上記で調製した３質量％の水溶性ポリマー（１）水溶液をバーコーターで塗布し、１００℃で２分間乾燥して水溶性ポリマー（１）の膜からなる２μｍの拡散防止層Ａを形成した。
　得られた拡散防止層Ａの表面にプラズマ処理を施した後、バーコーターを用いて上記光配向膜形成用組成物を塗布して塗布膜を形成した。この塗布膜を１００℃で２分間乾燥することにより溶剤を除去して乾燥被膜を形成した。該乾燥被膜に偏光ＵＶ光を２０ｍＪ/ｃｍ２（３１３ｎｍ基準）の強度となるように照射することで配向規制力を付与し、５０ｎｍの光配向膜Ａを形成した。
　得られた光配向膜Ａ上に、バーコーターを用いて上記偏光層形成用組成物を塗布し、塗布膜を形成した。さらに、１１０℃で２分間乾燥することにより溶剤を除去するとともに、重合性液晶化合物を液体相に相転移させた後、室温まで冷却して該重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態に相転移させた。その後、得られた乾燥被膜に高圧水銀灯を用いて紫外光を１０００ｍＪ/ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）で照射して、前記乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物のスメクチック液晶状態を保持したまま重合させることで３μｍの偏光層を形成した。
　次いで、形成した偏光層上にプラズマ処理を施した後、バーコーターを用いて３質量％の水溶性ポリマー（１）水溶液をバーコーターで塗布し、１００℃で２分間乾燥して水溶性ポリマー（１）の膜からなる２μｍの拡散防止層Ｂを形成し、基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂからなる偏光板（１）を得た。
（６）位相差フィルム（１）の作製
　基材２として離型ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（ユニチカ（株）製「ＦＦ－５０」、片面離型処理ＰＥＴフィルム、基材の厚さ：５０μｍ）の離型処理面とは反対側の表面にコロナ処理を施した後に、上記光配向膜形成用組成物をバーコーターにより塗布した。得られた塗布膜を１２０℃で２分間乾燥させた後、室温まで冷却して乾燥被膜を形成した。その後、偏光紫外光１００ｍＪ（３１３ｎｍ基準）を照射し、１００ｎｍの光配向膜Ｂを形成した。
　得られた光配向膜Ａ上に、上記位相差層形成用組成物をバーコーターにより塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を１２０℃で２分間加熱乾燥後、室温まで冷却して乾燥被膜を得た。次いで、紫外光照射装置を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外光を前記乾燥被膜に照射することにより、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した２μｍの位相差層を形成し、基材２／光配向膜Ｂ／位相差層（水平配向液晶硬化層）からなる位相差フィルム（１）を得た。
（７）積層体Ａ１の作製
　上記で作製した偏光板（１）の拡散防止層Ｂ面と、位相差フィルム（１）の位相差層面とを、粘着剤（リンテック社製、感圧式粘着剤５μｍ厚）を介して、偏光板（１）の吸収軸と位相差フィルム（１）の遅相軸とが成す角度が４５°となるように貼合し、基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／基材２からなる積層体Ａ１を得た。
２．積層体Ａ２の作製
（１）配向性ポリマー組成物（１）の調製
　表１に示す組成に従い、市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）に２－ブトキシエタノールを加えて配向性ポリマー組成物（１）を調製した。なお、表１における値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。ＳＥ－６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
（２）垂直配向液晶硬化層形成用組成物の調製
　垂直配向液晶硬化層形成用組成物の組成を表２に示す。各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、垂直配向液晶硬化層形成用組成物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　表２における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。
　表２中のＬＲ９０００は、ＢＡＳＦジャパン社製のＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００を、Ｉｒｇ９０７は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア（登録商標）９０７を、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、ＬＣ２４２は、下記式で示されるＢＡＳＦ社製の重合性液晶を、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタートを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
（３）垂直配向液晶硬化層を含む積層体の作製
　基材３として、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ－１４、日本ゼオン株式会社製）の表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向性ポリマー組成物（１）をバーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥して配向膜Ｃを得た。得られた配向膜Ｃの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ１μmであった。次いで、配向膜Ｃ上に垂直配向液晶硬化層形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、重合性液晶化合物が基材面内に対して垂直方向に配向した状態で硬化した厚み５００ｎｍの垂直配向液晶硬化層を形成し、基材３／配向膜C／垂直配向液晶硬化層からなる積層体を得た。
（４）接着層形成用硬化性組成物の調製
　下記に記載のカチオン重合性化合物およびカチオン重合開始剤を混合した後、脱泡して、カチオン重合型の接着層形成用硬化性組成物を調製した。
　なお、カチオン重合開始剤は、５０質量％プロピレンカーボネート溶液として配合し、その固形分量を示した。
・１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１２Ｌ、ナガセケムテックス（株）製）　　２５部
・４－ヒドロキシブチルビニルエーテル　　１０部
・ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（商品名：ＥＸＡ－８３０ＣＲＰ、ＤＩＣ（株）製）　　６５部
・カチオン重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００Ｐ、サンアプロ（株）製、５０質量％溶液）　　３部
（５）積層体Ａ２の作製
　上記で作製した基材３／配向膜C／垂直配向液晶硬化層からなる積層体の垂直配向液晶硬化層の表面にコロナ処理を施した後、積層体Ａ１の基材２を剥離して露出した面と、前記コロナ処理を施した垂直配向液晶硬化層の面とを、接着層形成用硬化性組成物を介して貼合し、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ　ＣＵＲＥ　ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射した。これにより、基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／接着層／垂直配向液晶硬化層／配向膜Ｃ／基材３からなる積層体Ａ２を得た。なお、接着層の厚みは２μｍであった。
３．応力緩和層を含む積層体の作製
（１）重合例１：アクリル樹脂溶液（１）の調製
　冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応器に、アセトン８１．８部、アクリル酸ブチル９８．４部、アクリル酸０．６部、およびアクリル酸２－ヒドロキシエチル１．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら、内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部をアセトン１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した１時間後に、単量体を除くアクリル系樹脂の濃度が３５％になるよう、添加速度１７．３部／ｈｒでアセトンを連続的に反応器に添加しながら、内温５４～５６℃で１２時間保温し、最後に酢酸エチルを添加して、アクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節した。このようにして、アクリル樹脂溶液（１）を得た。
（２）重合例２：アクリル樹脂溶液（２）の調製
　単量体の組成を、アクリル酸ブチル７８．０部、メタクリル酸メチル２０部、アクリル酸１．０部、およびアクリル酸２－ヒドロキシエチル１．０部に変更した以外は、重合例１と同様にしてアクリル樹脂溶液（２）を得た。
（３）重合例３：アクリル樹脂溶液（３）の調製
　冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル９１部、アクリル酸２－エチルヘキシル４３部、アクリル酸ブチル５５部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル２．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを反応容器内へ連続的に加え、（メタ）アクリル系樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１０時間経過するまでこの温度で保温した。
最後に酢酸エチルを加えて（メタ）アクリル系樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂溶液（３）を調製した。
（４）重合例４：アクリル樹脂溶液（４）の調製
　冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル８１.８部、アクリル酸ブチル９８．０部、アクリル酸２.０部を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら、内温を５５℃に上げた。その後、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル０.１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。
開始剤の添加後１時間この温度で保持し、次に内温を５４～５６℃に保ちながら、酢酸エチルを添加速度１７.３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えて、アクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂溶液（４）を調製した。
（５）剥離力調整層形成用組成物（１）の調製
　シランカップリング剤であるＫＢＭ－５１０３（信越シリコーン製）をｏ－キシレンに対して０．２５重量％となるよう溶解し、剥離力調整層形成用組成物（１）を調製した。
（６）剥離力調整層形成用組成物（２）の調製
　シランカップリング剤であるＫＢＥ－９０３（信越シリコーン製）をｏ－キシレンに対して０．２５重量％となるよう溶解し、剥離力調整層形成用組成物（２）を調製した。
（７）応力緩和層Ａを含む積層体Ａ３の作製
　（ｉ）応力緩和層形成用組成物（１）の調製
　下記組成に従って、応力緩和層形成用組成物（１）を調製した。
・重合例１で得られたアクリル樹脂（１）：１００部（不揮発分量）
・イソシアネート系化合物：コロネートＬ、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）（東ソー株式会社製）　　０．５部
・シラン系化合物：ＫＢＭ－４０３、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製）　　０．５部
を混合し、固形分濃度が１０％になるように酢酸エチルを添加して、応力緩和層形成用組成物（１）を得た。
　（ｉｉ）剥離力調整層付き基材（基材Ａ）
　片面が離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）の離型処理されていない側の面に、剥離力調整層形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、オーブンにて１２０℃で１分間乾燥し、剥離力調整層付き基材（基材Ａ）を得た。
　（ｉｉｉ）応力緩和層を含む積層体Ａ３の作製
　応力緩和層形成用組成物（１）を、基材Ａの剥離力調整層を有する面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが１５μｍになるように塗布した。塗布層を１００℃で１分間乾燥して、応力緩和層Ａを備えるフィルムを得た。その後、応力緩和層Ａ上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）（基材Ｂ）を貼合し、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させ、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ａを備える積層体Ａ３を得た。
（８）応力緩和層Ｂを含む積層体Ａ４の作製
　応力緩和層の厚みが２５μｍである以外は基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｂ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ｂを備える積層体Ａ４を作製した。
（９）応力緩和層Ｃを含む積層体Ａ５の作製
　応力緩和層の厚みが５０μｍである以外は基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｃ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ｃを備える積層体Ａ５を作製した。
（１０）応力緩和層Ｄを含む積層体Ａ６の作製
　（ｉ）応力緩和層形成用組成物（２）の調製
　下記組成に従って、応力緩和層形成用組成物（２）を調製した。
・重合例２で得られたアクリル樹脂：１００部（不揮発分量）
・コロネートＬ：３．０部
・ＫＢＭ－４０３：０．５部
を混合した。固形分濃度が１０％になるように酢酸エチルを添加して、応力緩和層形成用組成物（２）を得た。なお、コロネートＬおよびＫＢＭ－４０３は応力緩和層形成用組成物（１）の作製に用いたものと同様である。
　（ｉｉ）応力緩和層Ｄを含む積層体Ａ６の作製
　得られた応力緩和層形成用組成物（２）を用いて、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様にして、厚み１５μｍの応力緩和層Ｄを備える、基材Ａ／応力緩和層Ｄ／基材Ｂからなる積層体Ａ６を作製した。
（１１）応力緩和層Ｂを含む積層体Ａ７の作製
　応力緩和層形成用組成物（１）を離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）（基材Ｂ）の離型処理面に塗布した以外は、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様にして、基材Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ７を作製した。
（１２）応力緩和層Ａを含む積層体Ａ８の作製
　片面が離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）の離型処理されていない側の面に、剥離力調整層形成用組成物（２）をバーコート法により塗布し、オーブンにて１２０℃で１分間乾燥し、剥離力調整層付き基材（基材Ｃ）を得た。応力緩和層形成用組成物（１）を、基材Ｃの剥離力調整層を有する面に塗布した以外は、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様に、基材Ｃ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ８を作製した。
（１３）応力緩和層Ｅを含む積層体Ａ９の作製
　（ｉ）応力緩和層形成用組成物（３）の調製
　下記組成に従って、応力緩和層形成用組成物（３）を調製した。
・重合例３で得られたアクリル樹脂：１００部（不揮発分量）
・コロネートＬ：０．３部
・ＫＢＭ－４０３：０．２５部
を混合した。固形分濃度が１５％になるように酢酸エチルを添加して、応力緩和層形成用組成物（３）を得た。
　（ｉｉ）応力緩和層Ｅを含む積層体Ａ９の作製
　得られた応力緩和層形成用組成物（３）を用いて、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の作製と同様にして、厚み１５μｍの応力緩和層Ｅを備える、基材Ａ／応力緩和層Ｅ／基材Ｂからなる積層体Ａ９を作製した。
（１４）応力緩和層Ｆを含む積層体Ａ１０の作製
　（ｉ）応力緩和層形成用組成物（４）の調製
　下記組成に従って、応力緩和層形成用組成物（４）を調製した。
・重合例４で得られたアクリル樹脂：８０部（不揮発分量）
・新中村化学工業（株）から入手した二官能アクリレートであるＡ－ＤＯＧ：固形分２０部
・コロネートＬ：３．０部
・ＫＢＭ－４０３：０．５部
・光重合開始剤（イルガキュア５００）：１．５部
を混合した。固形分濃度が１３％になるように酢酸エチルを添加して、応力緩和層形成用組成物（４）を得た。
　なお、Ａ－ＤＯＧは、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物のジアクリレートであって、下式の構造を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000029
　（ｉｉ）応力緩和層Fを含む積層体Ａ１０の作製
　応力緩和層形成用組成物（４）を、基材Ａの剥離力調整層を有する面に、アプリケータを利用して乾燥後の厚みが１５μｍになるように塗布し、塗布層を１００℃で１分間乾燥した。その後、塗布層上に、離型処理された別のポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）（基材Ｂ）を貼合し、Ｆｕｓｉｏｎ　ＵＶランプシステム（フュージョンＵＶシステムズ社製）のＤバルブにより、紫外線を積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、塗布層を硬化させた。次いで、温度２３℃、相対湿度５０％ＲＨの条件で７日間養生させ、基材Ａ／応力緩和層Ｆ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ｆを備える積層体Ａ１０を得た。
（１５）応力緩和層Ｂを含む積層体Ａ１１の作製
　応力緩和層の厚みが２５μｍである以外は基材Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ７の作製と同様にして、基材Ｂ／応力緩和層Ｂ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ｂを備える積層体Ａ１１を作製した。
（１６）応力緩和層Ｃを含む積層体Ａ１２の作製
　応力緩和層の厚みが５０μｍである以外は基材Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ７の作製と同様にして、基材Ｂ／応力緩和層Ｃ／基材Ｂからなる、応力緩和層Ｃを備える積層体Ａ１２を作製した。
４．光学積層体の作製
（１）実施例１
　基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／基材２からなる積層体Ａ１の基材２を剥離して露出した面と、基材Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ７の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合し、基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体Ｂ１を作製した。さらに、上記光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合し、基材Ａ／応力緩和層Ａ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（１）を得た。
（２）実施例２
　積層体Ａ３に代えて積層体Ａ４を用い、光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、積層体Ａ４の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｂ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（２）を得た。
（３）実施例３
　積層体Ａ３に代えて積層体Ａ５を用い、光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、積層体Ａ５の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｃ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（３）を得た。
（４）実施例４
　積層体Ａ７代えて積層体Ａ８を用い、積層体Ａ１の基材２を剥離して露出した面と、積層体Ａ８の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ａ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｃからなる光学積層体（４）を得た。
（５）実施例５
　積層体Ａ３に代えて積層体Ａ６を用い、光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、積層体Ａ６の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｄ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（５）を得た。
（６）実施例６
　基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／接着層／垂直配向液晶硬化層／配向膜Ｃ／基材３からなる積層体Ａ２の基材３を剥離して露出した面と、基材Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ７の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合し、基材１／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／接着層／垂直配向液晶硬化層／配向膜Ｃ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体Ｂ２を作製した。さらに、上記光学積層体Ｂ２の基材１を剥離して露出した面と、基材Ａ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる積層体Ａ３の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合し、基材Ａ／応力緩和層Ａ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／接着層／垂直配向液晶硬化層／配向膜Ｃ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（６）を得た。
（７）実施例７
　積層体Ａ７に代えて積層体Ａ１１を用い、光学積層体Ａ１の基材２を剥離して露出した面と、積層体Ａ１１の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例２と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｂ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ｂ／基材Ｂからなる光学積層体（７）を得た。
（８）実施例８
　積層体Ａ７に代えて積層体Ａ１２を用い、光学積層体Ａ１の基材２を剥離して露出した面と、積層体Ａ１２の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例２と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｂ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ｃ／基材Ｂからなる光学積層体（８）を得た。
（９）実施例９
　積層体Ａ３に代えて積層体Ａ９を用い、光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、積層体Ａ９の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｅ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（９）を得た。
（１０）実施例１０
　積層体Ａ３に代えて積層体Ａ１０を用い、光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して露出した面と、積層体Ａ１０の基材Ｂを剥離して露出した面とを貼合した以外は実施例１と同様にして、基材Ａ／応力緩和層Ｆ／拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／光配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（１０）を得た。
（１１）比較例１
　実施例１における手順と同様にして作製した光学積層体Ｂ１の基材１を剥離して、拡散防止層Ａ／光配向膜Ａ／偏光層／拡散防止層Ｂ／粘着層／位相差層／配向膜Ｂ／応力緩和層Ａ／基材Ｂからなる光学積層体（１１）を得た。
５．光学積層体の物性／特性評価
（１）応力緩和層の貯蔵弾性率
　貯蔵弾性率は、厚さ３０μｍの粘着剤を積層し、８ｍｍφ×３ｍｍ厚の円柱状の試験片を作製し、ねじり剪断法により、下記の条件で測定した。
　測定装置： レオメトリック社製動的粘弾性測定装置「ＤＹＮＡＭＩＣ　ＡＮＡＬＹＺＥＲ　ＲＤＡ　II」
　周波数　：１Ｈｚ
　温度　　：２３℃
（２）第１基材フィルムおよび第２基材フィルムの剥離力
　実施例１～１０および比較例１で作製した光学積層体（１）～（１１）において、偏光層側の基材を第１基材フィルム、位相差側の基材を第２基材フィルムとして、第１基材フィルムを光学積層体から剥離する際の剥離力Ｆ１、および、第２基材フィルムを光学積層体から剥離する際の剥離力Ｆ２は、それぞれ、以下の方法により測定した。結果を表３に示す。
　引張り試験機を用いて、試験片（幅２５ｍｍ×長さ約１５０ｍｍ）の長さ方向の一端をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、ＪＩＳ　Ｋ　６８５４－１:１９９９「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第１部：９０度はく離」に準拠した９０°剥離試験を行い測定した。
（３）第１基材フィルムの弾性率（２３℃）
　基材フィルムからＭＤ長さ１００ｍｍ×ＴＤ長さ２５ｍｍの試験片を切り出した。次いで、引張試験機〔（株）島津製作所製　ＡＵＴＯＧＲＡＰＨ　ＡＧ－１Ｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように上記試験片の長辺方向両端を挟み、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下、引張速度１ｍｍ／分で試験片を長辺方向に引張り、得られる応力－ひずみ曲線における初期の直線の傾きから、２３℃でのＭＤにおける引張弾性率〔ＭＰａ〕を算出した。実施例１～１０における第１基材フィルム（基材Ａ）の弾性率（２３℃）は、４８００ＭＰａであった。
（４）貼合試験
　実施例および比較例で作製した各光学積層体（１）～（１１）を、それぞれ、１６０ｍｍ×８０ｍｍのシートに切り出し、ハルテック（三共社製“ハルテックＨＡＬ６５０”）を用いて、第１基材フィルムの面を吸着させた状態で第２基材フィルムを剥離し、露出した第２応力緩和層の面をガラスに貼合した。その後、外観を検査して外観不良（貼合気泡、シワ、第１基材の浮き、破れ）が確認された場合は貼合失敗、外観不良が確認されなかった場合を貼合成功とし、試験を２０回実施した。成功率から試験結果を分類した。結果を表３に示す。
　＜評価基準＞
〇：成功率９０％以上
△：成功率６０％以上９０％未満
×：成功率６０％未満
（５）屈曲試験
　実施例および比較例で作製した各光学積層体（１）～（１１）を、それぞれ、２５ｍｍ×２００ｍｍ角に切り取り、円筒型マンドレル法耐屈曲性試験機タイプＩＩ型（ＴＰ技研株式会社製）を用いて、切り取ったフィルムを温度２５℃、相対湿度５５％ＲＨの条件下で、直径が２ｍｍ（屈曲半径Ｒ＝１ｍｍ）のマンドレル棒に、第１樹脂層形成用組成物の硬化層を外側にして巻きつけて屈曲性試験行った。試験後のフィルムを用いて、暗室環境下にて照明透過光で目視確認し、クラックの発生状況を観察し、観察結果を分類した。
　＜評価基準＞
〇：割れが視認されなかった。
△：割れがほとんど見られなかった。
×：割れが顕著に認められた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
　表３中、第１応力緩和層と剤２応力緩和層との間の層の厚みには、第１応力緩和層および第２応力緩和層の厚みはいずれも含まれない（表中の厚みは小数点第一位を四捨五入した値である）。
１：第１基材フィルム
２：第１応力緩和層
３：偏光層
４：粘接着層
５：位相差層
６：第２応力緩和層
７：第２基材フィルム
８、９：拡散防止層
１１：光学積層体
１２、１３：積層体構造

Claims (10)

  1. 　第１基材フィルム、第１応力緩和層、偏光層、粘接着層、位相差層、第２応力緩和層、および第２基材フィルムをこの順に含む光学積層体であって、
    　第１応力緩和層と第２応力緩和層との間に位置する層の合計厚みが２０μm以下であり、
    　第１応力緩和層の貯蔵弾性率が１．５ＭＰａ以下であり、
    　第１基材フィルムおよび第２基材フィルムがいずれも剥離可能な基材フィルムである、光学積層体。
  2. 　第１応力緩和層と偏光層との間にさらに拡散防止層を含む、請求項１に記載の光学積層体。
  3. 　偏光層が、スメクチック液晶相を示す重合性液晶化合物と二色性色素とを含む重合性液晶組成物の液晶硬化層である、請求項１または２に記載の光学積層体。
  4. 　位相差層が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した水平配向液晶硬化層、請求項１～３のいずれかに記載の光学積層体。
  5. 　第１基材フィルムの２３℃における弾性率が２，５００～６，０００ＭＰａである、請求項１～４のいずれかに記載の光学積層体
  6. 　第１応力緩和層の厚みが１０～８０μｍである、請求項１～５のいずれかに記載の光学積層体。
  7. 　第１応力緩和層の厚み（Ｔ１）と第２応力緩和層の厚み（Ｔ２）とが式（１）：
    Ｔ１／Ｔ２　≧　１．０　　　　　（１）
    を満たす、請求項１～６のいずれかに記載の光学積層体。
  8. 　光学積層体から第１基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ１）と、光学積層体から第２基材フィルムを剥離する際の剥離力（Ｆ２）とが式（２）：
    ０．０２（Ｎ／２５ｍｍ）≦｜Ｆ１－Ｆ２｜　　　　　（２）
    を満たす、請求項１～７のいずれかに記載の光学積層体。
  9. 　拡散防止層の厚みが５μｍ以下である、請求項２～８のいずれかに記載の光学積層体。
  10. 　重合性液晶化合物が基材面内に対して垂直方向に配向した状態で硬化した垂直配向液晶硬化層を、偏光層と第２応力緩和層との間にさらに含む、請求項１～９のいずれかに記載の光学積層体。
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