WO2022190466A1 - 元素分析装置、元素分析装置の操作方法及び元素分析装置の動作プログラム - Google Patents

元素分析装置、元素分析装置の操作方法及び元素分析装置の動作プログラム Download PDF

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purge gas
flow path
heating furnace
resistance
sample
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貴仁 井上
博 内原
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株式会社堀場製作所
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N31/00Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods
    • G01N31/12Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods using combustion
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/44Sample treatment involving radiation, e.g. heat

Definitions

  • the present invention relates to an elemental analyzer that analyzes elements contained in a sample based on sample gas generated by heating the sample.
  • a sample is placed in a graphite crucible installed in a heating furnace, and an electric current is passed through the graphite crucible to generate heat, thereby heating the sample.
  • the heating furnace is opened and the graphite crucible is replaced for each analysis. Before that, it is necessary to perform a degassing (purging) to exhaust the residual gas in the heating furnace.
  • conventional elemental analyzers are provided with a pumping channel for pumping a purge gas, which is an inert gas such as He or Ar, from a cylinder to a heating furnace, and a discharge channel for discharging the purge gas pumped to the heating furnace.
  • a purge gas is circulated in the heating furnace, and the residual gas is discharged together with the purge gas.
  • Patent Document 1 Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-33057
  • a configuration has been conceived in which an ejector pump is connected to the rear end of the discharge passage, and the remaining gas is discharged from the heating furnace by suction in a short period of time. rice field.
  • the present invention provides an elemental analyzer that can shorten the time required for degassing without sacrificing analysis accuracy, and can also moderate the consumption of purge gas at that time. It is intended as much as possible.
  • an elemental analysis apparatus includes a heating furnace for heating a sample to generate a sample gas, an analysis section for analyzing elements contained in the sample based on the sample gas, and a purge gas circulated to a degassing mechanism for discharging residual gas in the heating furnace, wherein the degassing mechanism communicates a pumping passage for pumping a purge gas to the heating furnace with the outside air, and the heating furnace It is characterized by comprising a discharge passage for discharging the purge gas pressure-fed inside to the outside air, and a purge gas flow rate adjustment mechanism for changing the passage resistance of the discharge passage in a plurality of stages or continuously. .
  • the flow path resistance of the discharge flow path is first reduced and the purge gas is flowed, so that the degassing is almost completed in a short time, and then the gas is discharged.
  • the internal pressure of the heating furnace can be raised by the boosting action of the flow path resistance while degassing, and immediately after degassing, a state in which stable analysis can be performed can be achieved. can.
  • the discharge passage has a first exhaust passage and a second exhaust passage provided parallel to each other, and the purge gas flow rate adjustment mechanism
  • the purge gas flow rate adjustment mechanism may include an on-off valve that changes the flow path resistance of the discharge flow path in two stages by opening and closing the second exhaust path.
  • the heating furnace communicates with the outside air through the second exhaust passage, and the purge gas flows while being maintained at substantially atmospheric pressure. Even if the flow rate is smaller than before, the same degassing effect can be obtained in the same time. This was discovered by the inventors for the first time. According to that knowledge, when the same flow rate of purge gas is flowed through the heating furnace, the pressure is in the atmospheric pressure state when the heating furnace is in an atmospheric pressure state and when it is in a pressurized state with a higher pressure than that. It has been found that the degassing effect is greater in the case of
  • the flow path resistance of the discharge flow path is maintained at a low state for a certain period of time and then changed to a high state, the flow path resistance of the discharge flow path will be high at the end of degassing, and heating will occur. Since the pressure in the furnace is in a high state, it is possible to proceed smoothly to the next analysis step.
  • the purge gas flow path restricting mechanism is configured to be switchable between an operating state in which the flow rate is restricted and a non-operating state in which the flow rate is not restricted.
  • the purge gas flow path limiting mechanism when the flow path resistance of the discharge flow path is low, the purge gas flow path limiting mechanism is in an operating state, and when the flow path resistance of the discharge flow path is high, the purge gas flow path limiting mechanism is in a non-operating state.
  • Such a configuration is conceivable.
  • the purge gas flow control mechanism when the purge gas is discharged, the purge gas flow control mechanism is operated to maintain the flow resistance of the discharge flow passage in a low state for a certain period of time, and then change the flow resistance to a high state.
  • a method for operating an elemental analyzer characterized by Further, in the present invention, when the purge gas is discharged, the purge gas flow rate adjusting mechanism is operated to keep the flow path resistance of the discharge flow path low for a certain period of time, and then change the flow path resistance to a high state. It may be an operation program of an elemental analyzer characterized in that it causes a computer to exhibit the function of performing the analysis.
  • FIG. 4 is an operation explanatory view showing the flow of purge gas during the degassing operation of the elemental analyzer in the same embodiment
  • FIG. 4 is an operation explanatory view showing the flow of purge gas during the degassing operation of the elemental analyzer in the same embodiment
  • FIG. 4 is an operation explanatory view showing the flow of purge gas during the degassing operation of the elemental analyzer in the same embodiment
  • FIG. 4 is an operation explanatory view showing the flow of purge gas during the degassing operation of the elemental analyzer in the same embodiment
  • FIG. 4 is an operation explanatory diagram showing the flow of carrier gas and sample gas during analysis of the elemental analyzer in the same embodiment. Experimental result data showing the effect of the same embodiment.
  • an elemental analysis apparatus 100 heats a metal sample, a ceramic sample, or the like (hereinafter simply referred to as a sample), and generates a gas (hereinafter referred to as a sample gas) at that time.
  • a sample gas a gas
  • the type, amount, ratio, etc. of the elements contained in the sample can be quantified, and roughly includes the following parts.
  • a heating furnace 1 for heating the sample.
  • an analysis unit 2 for analyzing the sample gas generated in the heating furnace 1;
  • a sample gas delivery mechanism 3 for introducing a carrier gas, which is an inert gas such as He or Ar, into the heating furnace 1 and delivering the sample gas to the analysis section 2 together with the carrier gas.
  • the heating furnace 1 heats a sample, for example, by heating a graphite crucible 11 containing the sample.
  • the heating furnace 1 is opened so that it is divided into upper and lower parts, and in this open state, the graphite crucible 11 can be inserted therein. Further, the graphite crucible 11 is sandwiched between a pair of electrodes, and configured to heat the crucible 11 by applying current to the crucible 11 from these electrodes.
  • the analysis unit 2 measures, for example, the concentrations (amounts) of O, H and N contained in the sample by measuring CO, N2 and H2 in the sample gas, Although not shown, it includes a plurality of NDIRs (non-dispersive infrared gas analyzers), TCDs (thermal conductivity detectors), an oxidizer, a gas remover, and the like. For details of these, the description in JP-A-2013-250061 and the like is used.
  • the sample gas delivery mechanism 3 includes a carrier gas introduction path 31 for delivering the carrier gas to the heating furnace 1 and a sample gas delivery path for delivering the sample gas generated in the heating furnace 1 to the analysis unit 2 together with the carrier gas. 32.
  • the carrier gas introduction path 31 is mainly composed of a piping member, and its starting end is connected to a high-pressure gas cylinder (not shown), which is a carrier gas supply source, and its terminal end is provided in the heating furnace 1. connected to the inlet.
  • a pressure regulating valve (not shown) is provided upstream of the carrier gas introduction passage 31.
  • the sample gas delivery path 32 is mainly composed of a piping member, and its starting end is connected to the gas outlet provided in the heating furnace 1, and its terminal end is connected to the analysis section 2.
  • a dust filter (not shown) is provided on the sample gas delivery path 32 to filter out soot and the like contained in the sample gas.
  • this elemental analysis apparatus 100 pumps the carrier gas, which is also a purge gas, into the heating furnace 1, and discharges unnecessary substances such as residual gas in the heating furnace 1 to the outside air together with the carrier gas.
  • a degassing mechanism 4 is further provided. Although the degassing mechanism 4 will be described in detail below, the carrier gas may also be referred to as a purge gas for ease of understanding.
  • the degassing mechanism 4 communicates the pressure-feeding passage 41 for pressure-feeding the purge gas to the heating furnace 1 with the heating furnace 1 and the outside air so that the purge gas pressure-fed into the heating furnace 1 is removed by the outside air. and a purge gas flow control mechanism 43 that changes the flow resistance of the discharge flow path 42 in two steps.
  • the carrier gas introduction path 31 also functions as the pressure-feed flow path 41 , but the pressure-feed flow path 41 may be provided separately from the carrier gas introduction path 31 .
  • the discharge channel 42 is mainly composed of a piping member, and its starting end is connected to a predetermined point in the middle of the sample gas delivery channel 32, and its terminal end is open to the outside air.
  • a switching valve V4 which is a three-way valve, is provided at this connection point, and the gas in the heating furnace 1 is discharged to the outside air through the discharge passage 42, or is analyzed through the sample gas delivery passage 32. It is configured so that it can be selected either to be introduced into the mechanism.
  • the discharge channel 42 is branched into a first exhaust channel 421 and a second exhaust channel 422 from the middle.
  • the flow path resistance of the first exhaust path 421 is configured to be higher than the flow path resistance of the second exhaust path 422 .
  • the purge gas flow rate adjusting mechanism 43 is provided on the second exhaust path 422 and has an on-off valve V1 that changes the flow path resistance of the discharge path 42 in two stages. That is, when the opening/closing valve V1 is opened, the passage resistance of the discharge passage 42 decreases and a large flow of purge gas flows, and when the opening/closing valve V1 is closed, the passage resistance increases and a small flow of purge gas flows. is configured to flow.
  • a purge gas flow rate limiting mechanism 44 that regulates the maximum flow rate of the purge gas that flows during degassing, and a resistance adding mechanism 7 that operates during depressurization, which will be described later, are provided in series on the pressure feed passage 41. There is.
  • the purge gas flow rate limiting mechanism 44 includes a capillary C3 that is a resistance flow path provided on the pressure-feed flow path 41 .
  • a bypass is provided in parallel with the capillary C3, and the bypass is provided with an on-off valve V3.
  • the on-off valve V3 When the on-off valve V3 is closed, the purge gas passes only through the capillary C3 and is flow controlled by its resistance, that is, the purge gas flow rate limiting mechanism 44 is in operation.
  • the on-off valve V3 is open, the purge gas mainly passes through the bypass passage with almost no resistance, and the flow rate is not controlled.
  • the resistance adding mechanism 7 increases the flow path resistance of the pressure-feeding flow path 41, and specifically, includes a capillary C2 which is a resistance flow path provided on the pressure-feeding flow path 41.
  • a bypass is provided in parallel with the capillary C2, and the bypass is provided with an on-off valve V2.
  • the on-off valve V2 When the on-off valve V2 is closed, the purge gas passes only through the capillary C2 and the flow path resistance is added, that is, the additional resistance adjusting mechanism 7 is in operation.
  • the on-off valve V2 is open, the purge gas passes through the bypass path with almost no resistance, and flow path resistance is not applied, that is, the resistance adding mechanism 7 is in a non-operating state.
  • a command device for electrically controlling the on-off valve.
  • This command device comprises, for example, a so-called computer having a CPU, memory, A/D converter, D/A converter, various input/output means, etc., and the CPU and its peripheral devices cooperate according to the program stored in the memory. By operating, a command signal is sent to each of the valves described above to control their operation.
  • the switching valve V5 is operated to purge the analysis section 2 at the same time.
  • the degassing operation includes an initial pressurization operation to pressurize the heating furnace 1, a depressurization operation to release the pressure of the heating furnace, and a high-speed degassing operation in which a purge gas is supplied while the pressure furnace 1 is maintained at a low pressure (here, atmospheric pressure).
  • An operation and a pre-analysis degassing operation in which a purge gas is flowed while the heating furnace 1 is at a high pressure required for analysis are performed in this order before analysis.
  • each valve is automatically controlled by a command signal from the command device.
  • an empty graphite crucible 11 is set in the heating furnace 1 before the degassing operation starts.
  • an initial pressurization operation is performed for a short time (for example, 2 seconds).
  • the purge gas flow rate limiting mechanism 44 and the resistance adding mechanism 7 are put into a non-operating state by opening the on-off valves V3 and V2, respectively. Further, the purge gas flow rate control mechanism 43 is brought into a state in which the on-off valve V1 is closed and the purge gas flows only through the capillary C1, that is, the flow resistance of the exhaust flow channel 42 is large.
  • an on-off valve (not shown) provided at the base of the pressure-feeding channel 41 is opened, and the purge gas flows into the heating furnace 1 from the pressure-feeding channel 41 and is discharged from the exhaust channel 42 .
  • an on-off valve (not shown) provided at the base of the pressure-feeding channel 41 is opened, and the purge gas flows into the heating furnace 1 from the pressure-feeding channel 41 and is discharged from the exhaust channel 42 .
  • High pressure eg, 80 kPa
  • the purge gas flow rate is substantially determined only by the flow resistance of the capillary C ⁇ b>1 of the purge gas flow rate adjusting mechanism 4 .
  • the channel resistance of the capillary C1 in this embodiment is set lower than those of the other capillaries C2 and C3 (the specific magnitude relationship of the channel resistance in this embodiment is C2>C3>C1 ), the purge gas flow rate is greater than during the depressurization operation and high-speed degassing operation, which will be described later.
  • a depressurization operation is performed for a short time (for example, 1 second).
  • the purge gas flow rate limiting mechanism 44 and the resistance adding mechanism 7 are in an operating state with their open/close valves V3 and V2 closed, respectively.
  • the purge gas flow rate control mechanism 43 is brought into a state in which the on-off valve V1 is opened and is not affected by the flow resistance of the capillary C1, that is, the flow resistance of the exhaust flow passage 42 is low.
  • the pressurizing furnace 1 is in a state of almost zero flow resistance, while the pressure feed flow path 41 side has high flow resistance due to the series connection of the capillaries C2 and C3, while the exhaust flow path 42 side has almost no flow resistance. From the high pressure state during pressure operation, the atmospheric pressure at the connection destination of the exhaust passage 42 is reached.
  • the purge gas flow rate is substantially determined by the series flow resistance of the capillaries C2 and C3, but since the series flow resistance is considerably larger than the flow resistance of the capillary C1, the purge gas flow rate is considerably higher than that during the initial pressurization operation. Few.
  • a high speed degassing operation is performed for a predetermined time (for example, 30 seconds).
  • the on-off valve V2 of the resistance adding mechanism 7 is opened and becomes non-operating.
  • flow path resistance is generated by the capillary C3 of the purge gas flow rate limiting mechanism 44, while on the side of the exhaust flow path 42, there is almost no flow path resistance. It is maintained at atmospheric pressure as it is during operation.
  • the purge gas flow rate is determined by the flow resistance of the capillary C3, which is set to be greater than the flow resistance of the capillary C1. more than during operation.
  • the pre-analysis degassing operation is performed for a predetermined time (for example, 5 seconds).
  • a predetermined time for example, 5 seconds.
  • the on-off valve V3 of the purge gas flow rate limiting mechanism 44 is opened to be in a non-operating state, and the on-off valve V1 of the purge gas flow rate adjusting mechanism 43 is closed.
  • the purge gas flows only through the capillary C1, that is, the flow path resistance of the exhaust flow path 42 is large. This state is the same state as the initial pressure operation.
  • the pressurization furnace 1 is brought to a high pressure (for example, 80 kPa) based on the pressure regulating valve (not shown) at the base of the pumping passage 41, as in the initial pressurization operation.
  • the purge gas flow rate is the same as that during the initial pressurization operation.
  • the graphite crucible 11 is heated while it is empty.
  • the reason for heating in this way is to detach hydrogen (H), oxygen (O), and nitrogen (N) adsorbed on the inner wall of the graphite crucible 11 and the heating furnace 1, so that they can be reliably discharged by the purge gas.
  • the predetermined time for each operation may be changed by an operator or the like by inputting it into the command device each time analysis is performed.
  • the switching valve V4 is switched to open to the sample gas delivery path 32 side.
  • the degassing operation is completed, and as shown in FIG. 6, the carrier gas passes through the heating furnace and is introduced into the analysis section 2, thereby enabling analysis.
  • the analysis operation starts.
  • the pressure of the heating furnace 1 is brought close to the atmospheric pressure (actually, almost atmospheric pressure), and the purge gas is flowed at a high speed degassing operation.
  • the flow path resistance of the discharge flow path 42 is increased to maintain the degassing action, and the internal pressure of the heating furnace 1 is increased by the boosting action due to the flow path resistance.
  • the reason why the purge can be performed in a short time during the above-described high-speed degassing operation is that the heating furnace 1 is at atmospheric pressure.
  • the present inventors have found that even if the flow rate is the same, the closer the heating furnace is to the atmospheric pressure, the higher the degassing effect.
  • the experimental data are shown in FIG. In the graph of FIG. 7, the more the peak is located on the left, the greater the degassing effect. is leaning to the left. This tendency was the same for nitrogen gas.
  • the flow rate of the purge gas is made smaller than in the conventional art, thereby reducing the amount of consumption and shortening the purge time.
  • the purge gas flow rate control mechanism 43 may be provided with two or more capillaries in parallel so that the flow rate of the purge gas can be switched in three or more stages, or a variable valve may be used in the resistance flow path.
  • the resistance may be changed continuously, and the flow rate of the purge gas may be adjusted steplessly and continuously. In this case, the flow rate of the purge gas is reduced at the end of degassing, and the heating furnace 1 is brought into a constant pressurized state at the end of degassing.
  • the resistance flow path is not limited to a capillary, and may be an orifice or the like.
  • the discharge channel 42 is connected directly to the heating furnace 1 at its beginning, or the carrier gas introduction channel 31 and the pumping channel 41 are provided separately, so that the channel system of the carrier gas used during analysis and the degassing It may be separated from the passage system of the purge gas which is sometimes used. In that case, different gases may be used for the carrier gas and the purge gas.
  • Various on-off valves, switching valves, and piping configurations related thereto may be changed by using other types of valves, etc., as long as they have equivalent functions.
  • the purge gas flow rate limiting mechanism 44 is not necessarily required.
  • the resistance channel is not limited to a capillary, and may be configured by an orifice or the like.
  • the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified in various ways without departing from the scope of the invention.
  • a heating furnace for heating a sample to generate a sample gas
  • an analysis unit for analyzing elements contained in the sample based on the sample gas
  • a purge gas circulating in the heating furnace
  • the time required for degassing can be shortened without sacrificing analysis accuracy.

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Abstract

前記脱ガス機構4が、前記加熱炉1にパージガスを圧送する圧送流路41と、前記加熱炉1と外気とを連通させ、該加熱炉1内に圧送されたパージガスを外気に排出する排出流路42と、前記排出流路42の流路抵抗を複数段階又は連続的に変化させてパージガスの流量を調節するパージガス流量調節機構43とを備えるようにした。

Description

元素分析装置、元素分析装置の操作方法及び元素分析装置の動作プログラム
 本発明は、試料を加熱して生成される試料ガスに基づいて、当該試料中に含まれる元素を分析する元素分析装置に関するものである。
 この種の元素分析装置では、例えば、加熱炉内に設置された黒鉛るつぼに試料を入れ、この黒鉛るつぼに電流を流して発熱させることにより試料を加熱するようにしている。
 この元素分析装置においては、分析ごとに加熱炉を開けて黒鉛るつぼを交換するが、その際に加熱炉に大気成分が入り込んだり、前の分析で発生した試料ガスが残っていたりするため、分析前には、加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス(パージ)を行う必要がある。
 そのために従来の元素分析装置では、HeやArなどの不活性ガスであるパージガスをボンベから加熱炉に圧送する圧送流路と、加熱炉に圧送されたパージガスを排出する排出流路が設けられており、加熱炉内にパージガスを流通させて、このパージガスとともに前記残存ガスを排出するようにしてある。
 ところで、前記排出流路には、キャピラリが設けられていて、パージガスの流量が過大にならないように制限しているため、脱ガスにはある程度の時間が必要である。
 そこで、特許文献1(実開平5-33057号公報)に示すように、排出流路の後端にエジェクターポンプを接続し、吸引によって加熱炉から短時間で残存ガスを排出するという構成が考えられた。
実開平5-33057号公報
 しかしながら、このような構成であると、脱ガス後すぐに分析を開始した場合に、加熱炉内が負圧状態なので、分析を行うべく、加熱炉の接続先をNDIRなどを有する分析装置本体に切り替えたときに圧力変動が発生するなどして、安定した分析精度を得られないという不具合が発生する。かといって、加熱炉内を分析に必要な正圧にまで戻そうとすると、負圧からのスタートであるため、そのための相応の時間が必要となって、結局のところ、大幅な時間短縮を図れない。
 さらに、エジェクターポンプで無制限に吸引するため、脱ガス時にパージガスを大量に消費する恐れもある。
 本発明は、以上の課題に鑑み、分析精度を犠牲にすることなく脱ガスにかかる時間を短縮でき、さらにその際のパージガスの消費量も適度なものにすることができる元素分析装置を提供すべく図ったものである。
 すなわち、本発明に係る元素分析装置は、試料を加熱して試料ガスを発生させる加熱炉と、前記試料ガスに基づいて当該試料に含まれる元素を分析する分析部と、パージガスを流通させて前記加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス機構とを備えており、前記脱ガス機構が、前記加熱炉にパージガスを圧送する圧送流路と、前記加熱炉と外気とを連通させ、該加熱炉内に圧送されたパージガスを外気に排出する排出流路と、前記排出流路の流路抵抗を複数段階又は連続的に変化させるパージガス流量調節機構とを備えていることを特徴とするものである。
 このようなものであれば、分析開始前に脱ガスを行う際、まずは排出流路の流路抵抗を小さくしてパージガスを流すことにより、短時間で脱ガスをほぼ終了させるとともに、その後、排出流路の流路抵抗を上げることにより、脱ガスを行いつつ、流路抵抗による昇圧作用で加熱炉の内圧を上昇させ、脱ガス後、即座に、安定した分析が可能な状態にすることができる。また流路抵抗の調節により、パージガスの消費量を最適化することも可能である。
 したがって、本発明によれば、分析精度を維持しつつ脱ガスにかかる時間を短縮でき、しかもさらにその際のパージガスの消費量も適度なものにすることができる。
 簡単な構成で十分な効果をあげることのできる具体的な実施態様としては、前記排出流路が、互いに平行に設けられた第1排気路及び第2排気路を有し、前記パージガス流量調節機構が、前記第2排気路を開閉することにより、前記排出流路の流路抵抗を2段階に変化させる開閉弁を備えたものを挙げることができる。
 前記第1排気路がキャピラリ等の抵抗流路を備えており、前記第2排気路が実質的に配管部材のみによって構成されているものであれば、前記開閉弁を開けたときに、加熱炉は、前記第2排気路によって外気と連通し、ほぼ大気圧に維持されながらパージガスが流れることとなるが、このことにより、より短時間での脱ガスが可能となるし、逆にいえばパージガス流量を従来よりも小さくしても、同じ時間で同等の脱ガス効果を得ることができる。これは、本発明者らが初めて見出したことである。その知見によれば、加熱炉に同じ流量のパージガスを流した場合に、加熱炉が大気圧状態にあるときと、それよりも圧力が高い加圧状態にあるときとでは、大気圧状態にある場合の方が、脱ガス効果が大きいことが判明している。
 前記排出流路の流路抵抗が小さい状態を一定期間保った後、大きい状態に変化させるように設定されているものであれば、脱ガス終了時には、排出流路の流路抵抗が高く、加熱炉内の圧力が高い状態となるので、次の分析工程に円滑に移行することができる。
 前記圧送流路に設けられてパージガスの最大流量を制限するパージガス流量制限機構をさらに備えているものであれば、脱ガス時に過大なパージガスが流れることを防止でき、パージガスの無駄遣いを抑えて費用の削減を図れる。
 種々の状態に対応できるようにするためには、前記パージガス流路制限機構を、流量制限動作を行う動作状態と流量制限を行わない非動作状態とに切り替え可能に構成しておくことが好ましい。
 例えば、前記排出流路の流路抵抗が低い状態では、前記パージガス流路制限機構が動作状態となり、前記排出流路の流路抵抗が大きい状態では、前記パージガス流路制限機構が非動作状態となるような構成が考えられる。
 本発明は、前記パージガスの排出時において、前記パージガス流量調節機構を操作して、前記排出流路の流路抵抗を低い状態で一定期間保った後、該流路抵抗を大きい状態に変化させることを特徴とする元素分析装置の操作方法でもよい。
 また、本発明は、前記パージガスの排出時において、前記パージガス流量調節機構を操作して、前記排出流路の流路抵抗が小さい状態を一定期間保った後、該流路抵抗を大きい状態に変化させる機能をコンピュータに発揮させることを特徴とする元素分析装置の動作プログラムでもよい。
 このように本発明に係る元素分析装置によれば、分析精度を犠牲にすることなく脱ガス効率を向上させることができるようになる。
本発明の一実施形態に係る元素分析装置の全体構成図。 同実施形態における元素分析装置の脱ガス動作時のパージガスの流れを示す動作説明図。 同実施形態における元素分析装置の脱ガス動作時のパージガスの流れを示す動作説明図。 同実施形態における元素分析装置の脱ガス動作時のパージガスの流れを示す動作説明図。 同実施形態における元素分析装置の脱ガス動作時のパージガスの流れを示す動作説明図。 同実施形態における元素分析装置の分析時のキャリアガス及び試料ガスの流れを示す動作説明図。 同実施形態における効果を示す実験結果データ。
100・・・元素分析装置
1・・・加熱炉
2・・・分析部
4・・・脱ガス機構
41・・・圧送流路
42・・・排出流路
421・・・第1排気路
422・・・第2排気路
43・・・パージガス流量調節機構
V1・・・開閉弁
 以下、本発明の一実施形態を、図面を参照して説明する。
 本実施形態における元素分析装置100は、図1に示すように、例えば金属試料やセラミックス試料等(以下、単に試料という。)を加熱し、その際に発生するガス(以下、試料ガスという。)を分析することによって、当該試料に含まれている元素の種類や量、あるいは比率等を定量するものであり、大まかには以下の各部を備えている。
(1)前記試料を加熱する加熱炉1。
(2)前記加熱炉1で発生した試料ガスを分析する分析部2。
(3)HeやAr等の不活性ガスであるキャリアガスを前記加熱炉1に導入し、このキャリアガスとともに前記試料ガスを分析部2に送り込む試料ガス送出機構3。
 次に、前記各部を説明する。
 前記加熱炉1は、例えば前記試料が入れられた黒鉛るつぼ11を加熱することにより試料を加熱するものである。この加熱炉1は、上下に分かれるように開成し、この開成状態で前記黒鉛るつぼ11を内部に挿入できるように構成されている。また、前記黒鉛るつぼ11は、一対の電極により挟持されており、これら電極から当該るつぼ11に電流を流して該るつぼ11を加熱するように構成されている。
 前記分析部2は、例えば、試料ガス中のCO、N及びHを測定することにより、試料中に含まれているO、H及びNの濃度(量)等を測定するものであり、図示しないが、複数のNDIR(非分散型赤外線ガス分析計)、TCD(熱伝導度検出器)、酸化器、ガス除去剤等を備えている。なお、これらの詳細については、特開2013-250061号公報等の記載を援用する。
 前記試料ガス送出機構3は、前記加熱炉1に前記キャリアガスを送り込むキャリアガス導入路31と、前記加熱炉1で発生した試料ガスを、前記キャリアガスとともに前記分析部2に送り込む試料ガス送出路32とを備えたものである。
 前記キャリアガス導入路31は、主として配管部材で構成されたものであり、その始端はキャリアガスの供給源である高圧ガスボンベ(図示しない)に、また、その終端は加熱炉1に設けてあるガス導入口に接続されている。なお、このキャリアガス導入路31の上流部には、図示しない調圧弁が設けられており、該調圧弁によって、試料の加熱時には、前記加熱炉1内の圧力が大気圧を超える例えば80kPa(絶対圧では180kPa)等の圧力に調節できるようにしてある。
 前記試料ガス送出路32は、主として配管部材によって構成されており、その始端が前記加熱炉1に設けてあるガス導出口に接続され、その終端が前記分析部2に接続されている。なお、この試料ガス送出路32上には、試料ガスに含まれているすすなどを濾し取り、除塵するダストフィルタ(図示しない)が設けられている。
 以上の構成に加え、この元素分析装置100は、前記加熱炉1内にパージガスでもある前記キャリアガスを圧送し、該加熱炉1内にある残存ガス等の不要物をキャリアガスとともに外気へ排出する脱ガス機構4をさらに備えている。以下にこの脱ガス機構4について詳述するが、その際、理解の容易のため、キャリアガスをパージガスと称する場合もある。
 この脱ガス機構4は、具体的には、前記加熱炉1にパージガスを圧送する圧送流路41と、前記加熱炉1と外気とを連通させ、該加熱炉1内に圧送されたパージガスを外気に排出する排出流路42と、前記排出流路42の流路抵抗を2段階に変化させるパージガス流量調節機構43とを備えている。
 前記圧送流路41は、この実施形態では前記キャリアガス導入路31がその機能を兼ねているが、該圧送流路41をキャリアガス導入路31とは別に設けても構わない。
 前記排出流路42は、主として配管部材で構成されたものであり、その始端が前記試料ガス送出路32の途中の所定箇所に接続され、その終端が外気に開放されている。なお、この接続箇所には、三方弁である切替弁V4が設けてあり、加熱炉1内のガスが排出流路42を通って外気に排出されるか、試料ガス送出路32を通って分析機構に導入されるかのいずれかを選択できるように構成してある。
 また、この排出流路42は、途中から第1排気路421と第2排気路422とに2分岐しており、前記第1排気路421には抵抗流路であるキャピラリC1を設けて、第1排気路421の流路抵抗が第2排気路422の流路抵抗よりも高くなるように構成してある。
 前記パージガス流量調節機構43は、前記第2排気路422上に設けられ、前記排出流路42の流路抵抗を2段階に変化させる開閉弁V1を備えたものである。すなわち、この開閉弁V1を開けると、該排出流路42の流路抵抗が小さくなって大流量のパージガスが流れ、前記開閉弁V1を閉じると、前記流路抵抗が大きくなって小流量のパージガスが流れるように構成してある。
 さらにこの実施形態では、脱ガス時に流れるパージガスの最大流量を規定するパージガス流量制限機構44と、後述する圧抜きの際に動作する抵抗付加機構7とが、前記圧送流路41上に直列に設けてある。
 前記パージガス流量制限機構44は、具体的には、前記圧送流路41上に設けられた抵抗流路であるキャピラリC3を備えたものである。この実施形態では、このキャピラリC3と並列にバイパス路が設けてあり、このバイパス路には開閉弁V3が設けてある。そして、該開閉弁V3を閉じた状態では、パージガスが前記キャピラリC3のみを通過して、その抵抗による流量制御を受ける状態、すなわち、該パージガス流量制限機構44が動作している動作状態となる一方、前記開閉弁V3を開けた状態では、パージガスが抵抗のほとんどない前記バイパス路を主として通り、流量が制御されない状態、すなわち該パージガス流量制限機構44が動作していない非動作状態となる。
 前記抵抗付加機構7は、圧送流路41の流路抵抗を増大させるものであり、具体的には、前記圧送流路41上に設けられた抵抗流路であるキャピラリC2を備えている。この実施形態では、このキャピラリC2と並列にバイパス路が設けてあり、このバイパス路には開閉弁V2が設けてある。そして、該開閉弁V2を閉じた状態では、パージガスが前記キャピラリC2のみを通過して、その流路抵抗が付加された状態、すなわち、該付加抵抗調整機構7が動作している動作状態となる一方、前記開閉弁V2を開けた状態では、パージガスが抵抗のほとんどない前記バイパス路を通り、流路抵抗が付加されない状態、すなわち該抵抗付加機構7が動作していない非動作状態となる。
 なお、この実施形態では、前記開閉弁を電気的に制御する図示しない指令装置が設けられている。この司令装置は、例えばCPU、メモリ、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、各種入出力手段等を有するいわゆるコンピュータを備えていて、メモリに格納されているプログラムにしたがってCPUやその周辺機器が協働することにより、前述した各弁に指令信号を送り、それらの動作を制御するものである。
 また、図1において、流路6及び切替弁V5は、分析部2にパージガスを送り込むためのものである。この実施形態では、脱ガス時に、切替弁V5を操作して、分析部2も同時にパージするようにしている。
 次に、この元素分析装置100の脱ガス動作について説明する。
 該脱ガス動作においては、加熱炉1を加圧する初期加圧動作、該加熱炉の圧力を抜く圧抜き動作、加圧炉1を低圧(ここでは大気圧)に保ちながらパージガスを流す高速脱ガス動作、及び加熱炉1を分析に必要な高圧にしながらパージガスを流す分析前脱ガス動作がこの順で分析前に行われる。
 なお、この一連の脱ガス動作において、各弁の制御は前記指令装置からの指令信号により自動的に行われる。
 まず、脱ガス動作が始まる前に、加熱炉1内に空の黒鉛るつぼ11がセットされる。
 次に、初期加圧動作が短時間(例えば2秒)行われる。
 この初期加圧動作においては、図2に示すように、前記切替弁V4は、排出流路42側に開成した状態とされる。また、前記パージガス流量制限機構44及び前記抵抗付加機構7は、それぞれの開閉弁V3及びV2が開かれて、いずれも非動作状態とされる。さらに、前記パージガス流量調節機構43は、その開閉弁V1が閉じられて、キャピラリC1のみにパージガスが流れる状態、すなわち排気流路42の流路抵抗が大きい状態とされる。
 そして、圧送流路41の根元に設けられた図示しない開閉弁が開かれ、圧送流路41からパージガスが加熱炉1に流れ込み、排気流路42から排出される。この初期加圧動作状態では、圧送流路41側は、流路抵抗がほとんどない一方、排気流路42側はキャピラリC1による流路抵抗があるので、加圧炉1は、圧送流路41の根元にある調圧弁(図示しない)に基づく高い圧力(例えば80kPa)になる。また、パージガス流量は、パージガス流量調節機構4のキャピラリC1の流路抵抗のみで実質的に定まる。なお、この実施形態でのキャピラリC1の流路抵抗は、他のキャピラリC2及びC3よりも低く設定してある(本実施形態での流路抵抗の具体的な大小関係は、C2>C3>C1である。)ので、パージガス流量は後述する圧抜き動作時及び高速脱ガス動作時よりも多い。
 引き続いて、圧抜き動作が短時間(例えば1秒)行われる。
 この圧抜き動作時には、図3に示すように、前記パージガス流量制限機構44及び前記抵抗付加機構7は、その開閉弁V3、V2がそれぞれ閉じられて、いずれも動作状態となる。他方、前記パージガス流量調節機構43は、その開閉弁V1が開かれて、キャピラリC1の流路抵抗の影響を受けない状態、すなわち排気流路42の流路抵抗が低い状態とされる。
 このことにより、圧送流路41側は、キャピラリC2及びC3に直列によって流路抵抗が大きい一方、排気流路42側はほとんど流路抵抗がない状態となるので、加圧炉1は、初期加圧動作時における前記高圧状態から、排気流路42の接続先の大気圧になる。パージガス流量は、キャピラリC2及びC3の直列流路抵抗により実質的に定まるが、その直列流路抵抗はキャピラリC1の流路抵抗よりもかなり大きいので、パージガス流量は前記初期加圧動作時よりはかなり少ない。
 引き続いて、高速脱ガス動作が所定時間(例えば30秒)行われる。
 この高速脱ガス動作時には、図4に示すように、前記抵抗付加機構7の開閉弁V2が開かれてこれが非動作状態となる。
 このことにより、圧送流路41側は、パージガス流量制限機構44のキャピラリC3による流路抵抗が生じる一方、排気流路42側はほとんど流路抵抗がない状態なので、加圧炉1は、圧抜き動作時と同様に大気圧に維持される。パージガス流量は、キャピラリC3の流路抵抗により定まるが、この流路抵抗は、キャピラリC1の流路抵抗よりも大きく設定してあるので、パージガス流量は、初期加圧動作時よりも少なく、圧抜き動作時よりも多くなる。
 その後、引き続いて、分析前脱ガス動作が所定時間(例えば5秒)行われる。
 この分析前脱ガス動作時には、図5に示すように、パージガス流量制限機構44の開閉弁V3が開かれてこれが非動作状態となるとともに、前記パージガス流量調節機構43の開閉弁V1が閉じられて、キャピラリC1のみにパージガスが流れる状態、すなわち排気流路42の流路抵抗が大きい状態とされる。この状態は前記初期加圧動作時と同じ状態である。
 このことにより、前記初期加圧動作時と同様、加圧炉1は、圧送流路41の根元にある調圧弁(図示しない)に基づく高い圧力(例えば80kPa)になる。また、パージガス流量は、記初期加圧動作時と同じである。
 なお、上述した脱ガス動作中、高速脱ガス動作時及び分析前脱ガス動作時において、黒鉛るつぼ11は空のまま加熱される。このように加熱するのは、黒鉛るつぼ11や加熱炉1の内壁に吸着している水素(H)、酸素(O)、窒素(N)を離脱させて、前記パージガスによって確実に排出できるようにするためである。
 また、前記各動作の所定時間は、オペレータ等が分析の都度、前記指令装置に入力するなどして変えられるようにしてもかまわない。
 その後、切替弁V4が、試料ガス送出路32側に開成するように切り替わる。
 このことにより、脱ガス動作は終了し、図6に示すように、キャリアガスが加熱炉を通って分析部2に導入される分析可能状態となる。この後、加熱炉1内の黒鉛るつぼ11に試料が投入されると分析動作が始まる。
 しかして、このような構成であれば、分析開始前に脱ガスを行う際、まずは加熱炉1の圧力を大気圧に近づけて(実際にはほぼ大気圧にして)パージガスを流す高速脱ガス動作を行うことにより、短時間で脱ガスをほぼ終了させるとともに、その後、排出流路42の流路抵抗を上げ、脱ガス作用を維持しながら、流路抵抗による昇圧作用で加熱炉1の内圧を上昇させる分析前脱ガス動作を行うことにより、次に分析を行うべく、加熱炉1を分析部2に連通させても、即座に、安定した分析が可能な状態、すなわち、加熱炉1内が高圧の状態でほとんど変動しないようにすることができる。
 したがって、分析精度を維持しつつ、脱ガス時間を従来よりも短縮できるようになる。また、脱ガス時間を従来と同じにすれば、パージガスの消費量を従来よりも低減させることができるようになる。
 ところで、前述した高速脱ガス動作時において、短時間でのパージが可能な理由は、加熱炉1が大気圧になっているからである。同じ流量でも加熱炉が大気圧に近いほど脱ガス効果が上がるのは、本発明者が見出したことであり、その実験データを図7に示す。この図7のグラフ中、ピークが左にあるほど、脱ガス効果が大きくなることを示しており、同グラフから明らかなように、酸素の場合、圧力が低くなって大気圧に近づくほど、ピークが左に寄っている。この傾向は、窒素ガスでも同様であった。
 この実施形態では、キャピラリC3の流路抵抗値を調整することにより、パージガス流量を、従来よりも小さくしてその消費量を低減しながら、パージ時間の短時間化をも実現している。
 なお、本発明は前記実施形態に限られない。
 例えば、パージガス流量調節機構43は、キャピラリを並列に2以上設けるなどして、パージガスの流量を3段階以上に切り替えることができるようにしてもよいし、抵抗流路に可変バルブを用いるなどしてその抵抗を連続的に変えられるようにし、パージガスの流量を無段階連続的に調節できるようにしてもよい。その場合、脱ガス終期には、パージガスの流量を絞り、脱ガス終了時には、加熱炉1を一定の加圧状態にする。
 抵抗流路はキャピラリに限られずオリフィスなどでもよい。
 排出流路42は、その始端を加熱炉1に直接接続するとか、キャリアガス導入路31と圧送流路41とを別々に設けるなどして、分析時に用いるキャリアガスの流路系統と、脱ガス時に用いるパージガスの流路系統とを別々にしてもかまわない。その場合、キャリアガスとパージガスとで別種のガスを用いてもよい。
 各種開閉弁や切替弁、あるいはそれに係る配管構成などは、同等の機能を奏するのであれば、他種の弁を用いるなどして変更して構わない。
 前記パージガス流量制限機構44は、必ずしも必要ない。
 抵抗流路はキャピラリに限られず、オリフィスなどで構成してもよい。
 その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲において種々変形可能である。
 上記した本発明によれば、試料を加熱して試料ガスを発生させる加熱炉と、前記試料ガスに基づいて当該試料に含まれる元素を分析する分析部と、パージガスを流通させて前記加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス機構4とを備えた元素分析装置において、分析精度を犠牲にすることなく脱ガスにかかる時間を短縮することができる。

 

Claims (9)

  1.  試料を加熱して試料ガスを発生させる加熱炉と、前記試料ガスに基づいて当該試料に含まれる元素を分析する分析部と、パージガスを流通させて前記加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス機構とを備えた元素分析装置であって、
     前記脱ガス機構が、
     前記加熱炉にパージガスを圧送する圧送流路と、
     前記加熱炉と外気とを連通させ、該加熱炉内に圧送されたパージガスを外気に排出する排出流路と、
     前記排出流路の流路抵抗を複数段階又は連続的に変化させてパージガスの流量を調節するパージガス流量調節機構とを備えていることを特徴とする元素分析装置。
  2.  前記排出流路が、互いに並行に設けられた第1排気路及び第2排気路を有したものであり、
     前記パージガス流量調節機構が、前記第2排気路を開閉することにより、前記排出流路の流路抵抗を2段階に変化させる開閉弁を備えたものであることを特徴とする請求項1記載の元素分析装置。
  3.  前記第1排気路が抵抗流路を備えており、該第1排気路の流路抵抗が前記第2排気路の流路抵抗よりも高くなるように構成されていることを特徴とする請求項2記載の元素分析装置。
  4.  前記第2排気路が配管部材のみによって構成されていることを特徴とする請求項3記載の元素分析装置。
  5.  前記パージガス流量調節機構は、前記排出流路の流路抵抗が小さい状態を一定期間保った後、該流路抵抗を大きい状態に変化させることを特徴とする請求項1乃至4いずれか記載の元素分析装置。
  6.  前記圧送流路に設けられてパージガスの最大流量を制限するパージガス流量制限機構をさらに備えており、
     該パージガス流路制限機構が、流量制限動作を行う動作状態と流量制限を行わない非動作状態とに切り替え可能に構成されていることを特徴とする請求項1乃至5いずれか記載の元素分析装置。
  7.  前記排出流路が、互いに並行に設けられた第1排気路及び第2排気路を有したものであり、前記パージガス流量調節機構が、前記第2排気路を開閉することにより、前記排出流路の流路抵抗を2段階に変化させる開閉弁を備えているものであって、
     前記第2排気路が開状態においては前記パージガス流路制限機構が動作状態となり、前記第2排気路が閉状態においては前記パージガス流路制限機構が非動作状態となることを特徴とする請求項6記載の元素分析装置。
  8.  試料を加熱して試料ガスを発生させる加熱炉と、前記試料ガスを検出して当該試料に含まれる元素を分析する分析部と、パージガスを流通させて前記加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス機構とを備え、
     前記脱ガス機構が、前記加熱炉にパージガスを圧送する圧送流路と、前記加熱炉と外気とを連通させ、該加熱炉内に圧送された前記パージガスを外気に排出する排出流路と、前記排出流路の流路抵抗を複数段階又は連続的に変化させるパージガス流量調節機構とを備えている元素分析装置の操作方法であって、
     前記パージガスの排出時において、前記パージガス流量調節機構を操作して、前記排出流路の流路抵抗が小さい状態を一定期間保った後、該流路抵抗を大きい状態に変化させることを特徴とする元素分析装置の操作方法。
  9.  試料を加熱して試料ガスを発生させる加熱炉と、前記試料ガスを検出して当該試料に含まれる元素を分析する分析部と、パージガスを流通させて前記加熱炉内の残存ガスを排出する脱ガス機構とを備え、
     前記脱ガス機構が、前記加熱炉にパージガスを圧送する圧送流路と、前記加熱炉と外気とを連通させ、該加熱炉内に圧送された前記パージガスを外気に排出する排出流路と、前記排出流路の流路抵抗を複数段階又は連続的に変化させるパージガス流量調節機構とを備えている元素分析装置の動作プログラムであって、
     前記パージガスの排出時において、前記パージガス流量調節機構を操作して、前記排出流路の流路抵抗が小さい状態を一定期間保った後、該流路抵抗を大きい状態に変化させる機能をコンピュータに発揮させることを特徴とする元素分析装置の動作プログラム。

     
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