WO2022154001A1 - 金属顔料、その用途、及び金属顔料の製造方法 - Google Patents
金属顔料、その用途、及び金属顔料の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2022154001A1 WO2022154001A1 PCT/JP2022/000677 JP2022000677W WO2022154001A1 WO 2022154001 A1 WO2022154001 A1 WO 2022154001A1 JP 2022000677 W JP2022000677 W JP 2022000677W WO 2022154001 A1 WO2022154001 A1 WO 2022154001A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- metal
- particles
- metal pigment
- layer
- composite particles
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 466
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 462
- 239000000049 pigment Substances 0.000 title claims abstract description 395
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 116
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 claims abstract description 383
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 300
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 232
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 186
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 301
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 250
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 244
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 195
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 179
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 179
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 172
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 171
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 158
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 144
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 113
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 111
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 108
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 101
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 77
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 69
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 54
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 54
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 46
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 46
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 41
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 41
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 34
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 31
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 15
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 11
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 9
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 claims description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 155
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 78
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 77
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 57
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 48
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 47
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 45
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 44
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 40
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 38
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 38
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 35
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 33
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 32
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 32
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 28
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 26
- 239000005078 molybdenum compound Substances 0.000 description 24
- 150000002752 molybdenum compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 24
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 22
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 22
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 20
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 20
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 20
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 18
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 17
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 17
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 16
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 15
- 239000002585 base Substances 0.000 description 15
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 15
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 15
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 15
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 13
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 13
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 11
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 11
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 11
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 10
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 9
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 9
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 9
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 8
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 8
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 8
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 7
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 7
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 6
- 238000000349 field-emission scanning electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 6
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 6
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 5
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 5
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 5
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 4
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 4
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 4
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N m-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1 GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLBXCKSMESLGTJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-1-ol Chemical compound CCOC(O)CC JLBXCKSMESLGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 3
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000539 dimer Chemical class 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 3
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 3
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 3
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)C DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 2
- RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylpiperazine Chemical compound CN1CCN(C)CC1 RXYPXQSKLGGKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-(4-cyanophenyl)propanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=C(C#N)C=C1 KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanamine Chemical compound CC(C)CN KDSNLYIMUZNERS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N Bis(2-ethylhexyl) amine Chemical compound CCCCC(CC)CNCC(CC)CCCC SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010020880 Hypertrophy Diseases 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229940090948 ammonium benzoate Drugs 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N ammonium formate Chemical compound [NH4+].[O-]C=O VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJMWHXZUIGHOBA-UHFFFAOYSA-N azane;propanoic acid Chemical compound N.CCC(O)=O XJMWHXZUIGHOBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid monoamide Natural products NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- RESSOZOGQXKCKT-UHFFFAOYSA-N ethene;propane-1,2-diol Chemical compound C=C.CC(O)CO RESSOZOGQXKCKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- BPMFZUMJYQTVII-UHFFFAOYSA-N guanidinoacetic acid Chemical compound NC(=N)NCC(O)=O BPMFZUMJYQTVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 229910001389 inorganic alkali salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 2
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDSGXRQXKTWBOS-UHFFFAOYSA-N n,n-di(tridecyl)tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN(CCCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCCC GDSGXRQXKTWBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HKUFIYBZNQSHQS-UHFFFAOYSA-N n-octadecyloctadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCNCCCCCCCCCCCCCCCCCC HKUFIYBZNQSHQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZFYOFFTIYJCEW-UHFFFAOYSA-N n-tridecyltridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCNCCCCCCCCCCCCC PZFYOFFTIYJCEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N octylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCP(O)(O)=O NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000002912 oxalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWWDDFFHABKNMQ-UHFFFAOYSA-N oxosilicon;hydrate Chemical compound O.[Si]=O TWWDDFFHABKNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- FHSWXOCOMAVQKE-UHFFFAOYSA-N phenylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.[NH3+]C1=CC=CC=C1 FHSWXOCOMAVQKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSLISSGEILAIOU-UHFFFAOYSA-N (4-chloro-2-iodophenyl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC=C(Cl)C=C1I JSLISSGEILAIOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMTSWYPNXFHGEP-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)methanamine Chemical compound CC1=CC=C(CN)C=C1 HMTSWYPNXFHGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F KKYDYRWEUFJLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,7,8,9-octahydropyrido[1,2-b]diazepine Chemical compound C1CCCNN2CCCC=C21 SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diazabicyclo[2.2.2]octane Chemical compound C1CC2CCN1NC2 QVCUKHQDEZNNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropan-2-yl formate Chemical compound OCC(CO)OC=O LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQJDMSYHNQTRH-UHFFFAOYSA-N 1-[benzyl(propyl)amino]ethanol Chemical compound CCCN(C(C)O)CC1=CC=CC=C1 IEQJDMSYHNQTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXZJWUAQWOSZFP-UHFFFAOYSA-N 1-[cyclohexyl(methyl)amino]ethanol Chemical compound CC(O)N(C)C1CCCCC1 HXZJWUAQWOSZFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYHXEAQSSGBPIE-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-phenylpiperazine Chemical compound CON1CCNCC1C1=CC=CC=C1 UYHXEAQSSGBPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 1-oleoylglycerol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(O)CO RZRNAYUHWVFMIP-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 2-(butylamino)ethanol Chemical compound CCCCNCCO LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)ethanol Chemical compound CCNCCO MIJDSYMOBYNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 2-(morpholin-4-yl)ethanol Chemical compound OCCN1CCOCC1 KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RILLZYSZSDGYGV-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-ylamino)ethanol Chemical compound CC(C)NCCO RILLZYSZSDGYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLSJHWBDUYDTR-UHFFFAOYSA-N 2-(propylamino)ethanol Chemical compound CCCNCCO BCLSJHWBDUYDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyethylphosphonic acid Chemical compound OC(=O)CCP(O)(O)=O NLBSQHGCGGFVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVBOBXOCJSYURK-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-n-(2-methylpropyl)hexan-1-amine Chemical compound CCCCC(CC)CNCC(C)C NVBOBXOCJSYURK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCC(CC)CN LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUHFRORXWCGZGE-KTKRTIGZSA-N 2-hydroxyethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCO MUHFRORXWCGZGE-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCO RFVNOJDQRGSOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBYIEMCWKLROFO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoic acid;pyridine Chemical compound CC(O)C(O)=O.C1=CC=NC=C1 XBYIEMCWKLROFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIFFFBSAXDNJHX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-bis(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CN(CC(C)C)CC(C)C IIFFFBSAXDNJHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CNCC(C)C NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEUISMYEFPANSS-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1CCCCC1N FEUISMYEFPANSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylethanol Chemical compound OCCN1CCNCC1 WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPUBRQWGZPPVBS-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-amine Chemical compound CCCCOCCCN LPUBRQWGZPPVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWXCJZHSMRBNGO-UHFFFAOYSA-N 3-decoxypropan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCN TWXCJZHSMRBNGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRJOUVOXPWNFOF-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxypropan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCN ZRJOUVOXPWNFOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOYBEXQHNURCGE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropan-1-amine Chemical compound CCOCCCN SOYBEXQHNURCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-amine Chemical compound COCCCN FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLFRQYKZFKYQLO-UHFFFAOYSA-N 4-aminobutan-1-ol Chemical compound NCCCCO BLFRQYKZFKYQLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYAUYHAHPSOKH-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybutoxy(dioctyl)silane Chemical compound C(CCCCCCC)[SiH](OCCCCOCC)CCCCCCCC IAYAUYHAHPSOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIFHMKCDDVTICL-UHFFFAOYSA-N 6-(chloromethyl)phenanthridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=NC3=CC=CC=C3C2=C1 LIFHMKCDDVTICL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004251 Ammonium lactate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N Dibenzylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNCC1=CC=CC=C1 BWLUMTFWVZZZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N N-ethylpiperidine Chemical compound CCN1CCCCC1 HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCOGKXLOEWLIDC-UHFFFAOYSA-N N-methylbutylamine Chemical compound CCCCNC QCOGKXLOEWLIDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 1
- VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M Stearyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- BVCZEBOGSOYJJT-UHFFFAOYSA-N ammonium carbamate Chemical compound [NH4+].NC([O-])=O BVCZEBOGSOYJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCHCKMAQPJXBM-UHFFFAOYSA-N ammonium isovalerate Chemical compound N.CC(C)CC(O)=O RKCHCKMAQPJXBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940059265 ammonium lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000019286 ammonium lactate Nutrition 0.000 description 1
- BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N ammonium lauryl sulfate Chemical compound [NH4+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940063953 ammonium lauryl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229940039409 ammonium valerate Drugs 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- MMUXNBFHGXFTHN-UHFFFAOYSA-N azane;2-methylbenzoic acid Chemical compound [NH4+].CC1=CC=CC=C1C([O-])=O MMUXNBFHGXFTHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQILKFQDIYPBKI-UHFFFAOYSA-N azane;2-phenylacetic acid Chemical compound [NH4+].[O-]C(=O)CC1=CC=CC=C1 PQILKFQDIYPBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEKVDZFCDPZCLP-UHFFFAOYSA-N azane;4-methylbenzoic acid Chemical compound [NH4+].CC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 QEKVDZFCDPZCLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N azane;prop-2-enoic acid Chemical compound N.OC(=O)C=C WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N azanium;(2r)-2-hydroxypropanoate Chemical compound [NH4+].C[C@@H](O)C([O-])=O RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N 0.000 description 1
- KNWIDSLTUVLFSP-UHFFFAOYSA-N azanium;2,2-dimethylpropanoate Chemical compound [NH4+].CC(C)(C)C([O-])=O KNWIDSLTUVLFSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDUBPQGQPBQGGN-UHFFFAOYSA-N azanium;2-methylpropanoate Chemical compound [NH4+].CC(C)C([O-])=O MDUBPQGQPBQGGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNTQKXBRXYIAHM-UHFFFAOYSA-N azanium;butanoate Chemical compound [NH4+].CCCC([O-])=O YNTQKXBRXYIAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N beta-monoglyceryl stearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- CVXBEEMKQHEXEN-UHFFFAOYSA-N carbaryl Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)NC)=CC=CC2=C1 CVXBEEMKQHEXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005286 carbaryl Drugs 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- DBKNGKYVNBJWHL-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(C)Cl DBKNGKYVNBJWHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N decyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC BAAAEEDPKUHLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)CCCC DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOWSAZZGDGKEQC-UHFFFAOYSA-N didecyl(diethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCC SOWSAZZGDGKEQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWPSMOUROSROLX-UHFFFAOYSA-N didecyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCC TWPSMOUROSROLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N dihexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCC CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- NAPSCFZYZVSQHF-UHFFFAOYSA-N dimantine Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)C NAPSCFZYZVSQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGIHUTKDVFZAMO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dioctadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCCCCCCCC IGIHUTKDVFZAMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCC TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHNXEVRKFKHMRL-UHFFFAOYSA-N dimethylazanium;acetate Chemical compound CNC.CC(O)=O QHNXEVRKFKHMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBRDBODLCHKXHI-UHFFFAOYSA-N epolamine Chemical compound OCCN1CCCC1 XBRDBODLCHKXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- BAONHUZQTANSBI-UHFFFAOYSA-N formic acid;methanamine Chemical compound [NH3+]C.[O-]C=O BAONHUZQTANSBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- BUHXFUSLEBPCEB-UHFFFAOYSA-N icosan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN BUHXFUSLEBPCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- RZRNAYUHWVFMIP-UHFFFAOYSA-N monoelaidin Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO RZRNAYUHWVFMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N n'-cyclohexylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCCCNC1CCCCC1 ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHKWCXVXPHXBAC-UHFFFAOYSA-N n'-decylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCN FHKWCXVXPHXBAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFIGICHILYTCJF-UHFFFAOYSA-N n'-methylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCN KFIGICHILYTCJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCNC KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N n,n-dicyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)C1CCCCC1 FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical group CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyloctan-1-amine Chemical group CCCCCCCCN(C)C UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBCKRQRXNXQQPW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-en-1-amine Chemical compound CN(C)CC=C GBCKRQRXNXQQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMDRBYANXGFGR-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethylhexyl)cyclohexanamine Chemical compound CCCCC(CC)CNC1CCCCC1 AYMDRBYANXGFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3-aminopropoxy(dimethoxy)silyl]propyl]-1-phenylprop-2-en-1-amine Chemical compound NCCCO[Si](OC)(OC)CCCNC(C=C)C1=CC=CC=C1 HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYWYMFZAZUYNLC-UHFFFAOYSA-N n-benzylcyclohexanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNC1CCCCC1 IYWYMFZAZUYNLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OALZJIBCZVVPBY-UHFFFAOYSA-N n-benzyloctadecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCNCC1=CC=CC=C1 OALZJIBCZVVPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJCJUDJQDGGKOX-UHFFFAOYSA-N n-dodecyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCNCCCCCCCCCCCC MJCJUDJQDGGKOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHCCDDQKNUYGNC-UHFFFAOYSA-N n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCNCC QHCCDDQKNUYGNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSTNFGAKGUERTC-UHFFFAOYSA-N n-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCC WSTNFGAKGUERTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CNCCC[Si](OC)(OC)OC DVYVMJLSUSGYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXGYFSUEXFAPHG-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-yloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCNC(C)C FXGYFSUEXFAPHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010483 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000249 polyoxyethylene sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 239000001818 polyoxyethylene sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000010989 polyoxyethylene sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229940116985 potassium lauryl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229940100515 sorbitan Drugs 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJAMZCVTJDTESW-UHFFFAOYSA-N tiracizine Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2N(C(=O)CN(C)C)C2=CC(NC(=O)OCC)=CC=C21 KJAMZCVTJDTESW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N triallylamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CC=C VPYJNCGUESNPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOPKJVYUAXPGHS-UHFFFAOYSA-N tributoxy(3-chloropropyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCCCl)(OCCCC)OCCCC OOPKJVYUAXPGHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEKZKCDJQLBBRA-UHFFFAOYSA-N tributoxy(butyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCCC)(OCCCC)OCCCC DEKZKCDJQLBBRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N tributoxy(propyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCC)(OCCCC)OCCCC WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWZDQOUHBYYPJD-UHFFFAOYSA-N tridodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(CCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCC SWZDQOUHBYYPJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
- C09D11/037—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the pigment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/62—Metallic pigments or fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/62—Metallic pigments or fillers
- C09C1/64—Aluminium
- C09C1/642—Aluminium treated with inorganic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/62—Metallic pigments or fillers
- C09C1/64—Aluminium
- C09C1/648—Aluminium treated with inorganic and organic, e.g. polymeric, compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/006—Combinations of treatments provided for in groups C09C3/04 - C09C3/12
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/06—Treatment with inorganic compounds
- C09C3/063—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/85—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by XPS, EDX or EDAX data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/20—Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
- C01P2004/24—Nanoplates, i.e. plate-like particles with a thickness from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/54—Particles characterised by their aspect ratio, i.e. the ratio of sizes in the longest to the shortest dimension
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
Definitions
- the second invention of the present application relates to a metal pigment composed of composite particles in which metal particles are coated with a layer of polysiloxane.
- the second invention of the present application further comprises a metal pigment suitable for an aqueous coating material, which contains composite particles coated with a polysiloxane layer, has a high degree of condensation of polysiloxane, is excellent in mechanical stability, and has high designability.
- the present invention also relates to a metal pigment composition containing the metal pigment, a water-based paint composition, a water-based ink composition, and a coating film.
- the third invention of the present application relates to a method for producing a metal pigment. More specifically, the third invention of the present application relates to a method for producing a metal pigment containing composite particles having small cohesiveness of individual particles and excellent hiding power, color tone and the like.
- An object of the first invention of the present application is to provide a metal pigment containing novel composite particles (hereinafter, also referred to as "metal pigment composition”), which is not found in the prior art, in the first aspect thereof.
- a further object of the first invention of the present application is that, in the first aspect thereof, the inconvenience of the prior art has been eliminated, that is, the storage stability is excellent, the cohesiveness of individual particles is small, and the hiding power and color tone are excellent. It is an object of the present invention to provide a metal pigment composition containing a novel composite particle having the above.
- an object of the first invention of the present application is to effectively suppress aggregation and deformation of composite particles in the second aspect thereof, and to obtain excellent design, gloss and lumpiness in a coating film.
- An object of the present invention is to provide a metal pigment (hereinafter, also referred to as “composite metal pigment”) in which suppression and stability in a water-based paint are balanced at a high level.
- the metal pigment of the first invention of the present application is preferably used in an aqueous coating composition containing the metal pigment.
- the metal pigment of the first invention of the present application is particularly preferably used in a water-based metallic paint, and 200 g of a water-based metallic paint containing the metal pigment and containing 5% by mass or more of water is collected in a flask and a constant temperature water bath at 60 ° C. When the cumulative amount of hydrogen gas generated is measured for up to 24 hours, the amount of gas generated is preferably 10 ml or less.
- the metal pigment of the first invention of the present application is preferably used in an aqueous ink composition containing the metal pigment.
- the metal pigment of the first invention of the present application is preferably used in a coating film containing the metal pigment.
- the layer composed of the compound containing the Si—O bond may be a layer formed by using an organosilicon compound (including a silane coupling agent) as a starting material.
- the silicon compound-containing layer may contain an organosilicon compound or a component derived from the organosilicon compound within a range that does not interfere with the effect of the first aspect of the first invention of the present application.
- a layer composed of a compound containing Si—O bonds can be formed by hydrolyzing an organosilicon compound.
- R 4 is a group containing a reactive group capable of chemically bonding to another functional group
- R 5 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms and optionally containing a halogen group
- R 6 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. If there are two or more R 4 , R 5 , or R 6 , they may be all the same or some of them may be the same. , All may be different.
- Examples of the hydrocarbon group in R6 of the formula ( 3 ) include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl and the like, which may be branched or linear.
- these hydrocarbon groups methyl, ethyl, propyl, and butyl are particularly preferable. Further, when there are two or more R6s , they may be all the same, partly the same, or all different.
- the second coating layer it is possible to improve the corrosion resistance of the metal particles and promote the formation of the metal oxide film layer, preferably the silicon compound-containing layer.
- the second coating layer is preferably formed (if formed) particularly between the metal particles and the metal oxide film layer, preferably a silicon compound-containing layer. Therefore, for example, a layer structure of "metal particles / second coating layer / metal oxide film layer, preferably a silicon compound-containing layer" can be preferably adopted.
- examples of the molybdenum-containing coating include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-147226, International Publication No. 2004/096921, Japanese Patent No. 5979788, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-151678. Can be done.
- the phosphoric acid compound coating examples include those disclosed in Japanese Patent No. 46333239.
- a preferred example of the molybdenum-containing substance constituting the molybdenum-containing film is a mixed-coordination heteropolyanion compound disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-151678.
- the second coating layer can be formed on the outside of the metal particles and the metal oxide film layer, preferably the silicon compound containing layer.
- the components of the second coating layer are included in the metal oxide film layer, preferably the silicon compound-containing layer, together with the metal oxide, preferably the silicon compound. Can be done.
- the heteropolyanion when expressed by a chemical formula, when the mixed coordination type heteropolyanion is expressed as [XpMqNrOs] t , the heteropolyanion is [ XpMqOs ] t , and further, the isopolyanion [ MqOs ] . ] It is also distinguished from t .
- X which is a heteroatom, represents an element of Group IIIB, IVB, VB such as B, Si, Ge, P, As, and among them, B, Si, and P are preferable.
- the poly atoms M and N represent transition metals such as Ti, Zr, V, Nb, Ta, Mo and W, and Ti, Zr, V, Nb, Mo and W are preferable.
- H 3 PW x Mo 12-x O 40 ⁇ nH 2 O (lintangustomolyric acid / n hydrate), H 3 + x PV x Mo 12-x O 40 ⁇ nH Mixed coordination type heteropolyacid of 2 O (limbanado molybdic acid / n hydrate), H 4 SiW x Mo 12-x O 40 / nH 2 O (keitangst molybdic acid / n hydrate), or these
- the organic amine salt of mixed coordination type heteropolyacid is most preferable.
- the "composite particle” in this physical property requirement refers to an individual composite particle even when a plurality of composite particles are agglomerated / fixed, unlike the physical property requirements of (1) to (3) and (5) above.
- the "aggregate” in this physical property requirement refers to a state in which a plurality of composite particles are aggregated and fixed. The number ratio of aggregates in which four or more composite particles are fixed to each other in the metal pigment composition can be measured in detail according to the method described in Examples described later.
- the metal oxide coating layer preferably the silicon compound-containing layer.
- the step of forming the second coating layer the step of forming the metal oxide coating layer, preferably the silicon compound-containing layer (until the time when all the layers to be formed on the surface of the metal particles are completely formed).
- the speed of the stirring blade is preferably 0.5 to 50 m / s at the tip, more preferably 1 to 20 m / s, and further preferably 2 to 10 m / s.
- the speed of the tip of the stirring blade is in the range of 0.5 to 50 m / s, the dispersibility of the composite particles in the produced metal pigment composition can be enhanced, and thus the cohesiveness of the individual particles becomes high. It becomes easier to obtain a metal pigment composition that is small, has excellent hiding power and color tone, and generates less gas.
- the metal pigment composition may optionally contain any component other than the above.
- the optional component include at least one of a non-hydrophilic organic solvent, a grinding aid, an antioxidant, a light stabilizer, a polymerization inhibitor, and a surfactant.
- the coating film formed by the water-based paint or the like may be formed on the undercoat layer or the intermediate coat layer by electrodeposition coating or the like. Further, if necessary, a top coat layer or the like may be formed on the coating film formed by the water-based paint or the like.
- composite particles constituting the composite metal pigment The composite metal pigment according to the first aspect of the first invention and the second aspect of the present application includes metal particles and composite particles having a metal oxide coating formed on the surface thereof. That is, in the description of the second aspect in the present specification, the term "composite metal pigment” includes metal particles and composite particles having a metal oxide coating formed on the surface thereof as essential components, and other components. For example, it may contain an organic treatment agent, a solvent containing water and / or a hydrophilic solvent.
- the metal oxide coating of the composite particles contained in the composite metal pigment according to the second aspect of the first invention of the present application is particularly preferably hydrophilic.
- the composite particles usually form a composite metal pigment in a form dispersed in an aqueous solvent (water or a mixed solvent containing water and an organic solvent), but when the metal oxide coating has a hydrophilic surface, the composite particles Can be highly dispersed in such aqueous solvents.
- the metal oxide such as silicon oxide (amorphous silica, etc.) is very stable in an aqueous solvent, it is possible to provide a composite metal pigment containing composite particles that are highly stable in an aqueous solvent. ..
- the average particle thickness of the composite particles is 15 to 160 nm
- the average thickness of the composite particles contained in the composite metal pigment according to the second aspect of the first invention of the present application is 15 to 160 nm.
- the average thickness of the composite particles is preferably 20 to 130 nm, more preferably 25 to 110 nm, and even more preferably 30 to 90 m.
- the ratio of non-aggregated primary particles in the composite particles is 35% or more on the basis of the number of particles.
- the proportion of primary particles without a particle is 35% or more on a number basis.
- the ratio of the primary particles is 35% or more, it means that the cohesiveness of the individual particles is suppressed, and the degree of cohesion is smaller not only in the primary particles but also in the agglomerated particles.
- the coating film formed by using the composite metal pigment exhibits excellent designability, gloss, and suppression of lumps, and can improve stability in water-based paints and the like.
- the stirring for dispersion can be mild, so that the deformation of the particles due to the stirring can be significantly reduced.
- the proportion of primary particles without agglomeration can be significantly increased.
- the solvent is replaced with the same solvent used for the coating treatment, and then a heating treatment for a certain period of time is further performed as desired.
- Composite particles The composite particles contained in the metal pigment of the second invention of the present application have a structure in which the metal particles are mainly coated with polysiloxane.
- the amount of polysiloxane in the composite particles may be as described above, and is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 parts by mass in total with respect to 100 parts by mass of the metal particles. It is more preferably 1 to 40 parts by mass.
- the composite particles of the second invention of the present application preferably have a volume-based D50 of 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less when the particle size distribution of the composite particles is measured with a laser diffraction type particle size distribution meter.
- the coating film formed by using the metal pigment exhibits high light brightness, high flip-flop feeling, high hiding property, etc., and the aggregation of individual particles constituting the metal pigment is suppressed and the aggregation thereof is suppressed.
- the sex can be small.
- This volume-based D50 is also commonly referred to as the median diameter.
- paste-like aluminum flakes obtained through such pulverization, sieving and filtration can be used.
- the paste-like aluminum flakes may be used as they are, or may be used after removing surface fatty acids and the like with an organic solvent or the like in advance.
- the metal particles can be used, and in particular, aluminum or aluminum alloy particles can be preferably used. Further, as for the particle shape, as described above, it is preferable to use scaly metal particles. Known or commercially available metal particles (typically paste-like aluminum flakes) can be used.
- the solvent in the mixed solution that is, the solvent for the hydrolysis reaction and / or the condensation reaction of the organic silicon compound may be appropriately selected depending on the type of the silicon-containing raw material used, etc., but is usually water or hydrophilic.
- An organic solvent or a mixed solvent thereof can be used. By using these solvents, the uniformity of the reaction and the uniformity of the obtained hydrolyzate and / or condensed reaction product can be enhanced.
- the solvent of the mixed solution contains a hydrophilic organic solvent from the viewpoint of avoiding the rapid progress of the reaction between the metal particles and water. ..
- a mixed solvent of water and a hydrophilic organic solvent can be preferably used.
- Preferred examples of compounds composed of these weak acid / weak base pairs are ammonium benzoate, ammonium p-tolurate, ammonium m-tolurate, ammonium o-tolurate, ammonium phenylacetate, ammonium citrate, and oxalic acid.
- Examples thereof include ammonium, ammonium acetate, ammonium propionate, ammonium acrylate, ammonium butyrate, ammonium isobutyrate, ammonium valerate, ammonium isovalerate, ammonium pivalate, ammonium carbonate, ammonium hydrogencarbonate, ammonium carbamate and ammonium lactate.
- the hydrolyzate of the silane coupling agent represented by (and at least one selected from the partial condensates thereof) and / or the silicon compound which is the condensate thereof hydrolyzes / condenses with respect to 100 parts by mass of the metal particles. There may be 0.02 to 50 parts by mass in terms of the state in which the reaction is completed.
- the stirring speed is preferably such that the stirring blade is not exposed by the vortex generated by the stirring. Further, in order to suppress the vortex generated by stirring, a cylindrical tank, a square tank, a tank provided with a baffle plate, or the like can be preferably used.
- the stirring Reynolds number (hereinafter abbreviated as "stirring Re number”) is used as an index indicating the stirring state.
- the number of stirring Res does not reflect the size other than the shape and diameter of the reaction tank and stirring blade. Therefore, the number of stirring Res is merely a guide and is not particularly limited, but is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
- the upper limit of the number of stirring Res may differ depending on the type and scale of the stirring device.
- the upper limit of the number of stirring Res may be about 100,000 on a normal laboratory scale, but when a large scaled-up device is used, it may exceed 100,000 as long as the desired effect of the third invention of the present application is not hindered. .. This upper limit may be, for example, about 1 million.
- the material of the metal particles is not particularly limited, and is known or known as, for example, aluminum, aluminum alloy, zinc, iron, magnesium, nickel, copper, silver, tin, chromium, stainless steel and the like. It may be any of the metals used as commercially available metal pigments.
- the metal of the metal particles contained in the metal pigment composition includes not only a simple substance of a metal but also an alloy and an intermetallic compound. Only one type of metal particles may be used alone, or two or more types may be used in combination.
- the average particle size of the metal particles is not particularly limited, but may be an average particle size that can bring about D 50 in the particle size distribution of the composite particles. That is, the volume average particle size (D 50 ) of the metal particles may be set so that the D 50 when the volume distribution of the composite particles is measured by the laser diffraction type particle size distribution meter is 0.1 to 30 ⁇ m.
- the volume-based D 50 when the particle size distribution of the composite particle is measured by the laser diffraction type particle size distribution meter indicates the particle size having a cumulative degree of 50% in the volume cumulative particle size distribution.
- the laser diffraction type particle size distribution meter is not particularly limited, but "LA-300" (manufactured by HORIBA, Ltd.) or the like can be used.
- inorganic phosphoric acids and salts thereof, and acidic organic (sub) phosphoric acid esters and as a separate layer in the silicon compound-containing layer and / or the second coating layer of the composite particles. It may contain at least one selected from the group consisting of the salts.
- these compounds are not particularly limited, but for example, those disclosed in JP-A-2019-151678 can be used.
- the hydrophilic organic solvent is not particularly limited, and for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, isopropanol, and octanol; ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Ether alcohols such as propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether and their esters; ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyoxyethylene glycol , Polyoxypropylene glycol, glycols of ethylene propylene glycol; ethyl cellosolve, butyl cellosolve, acetone, methoxypropanol, ethoxypropanol, other alkoxy alcohols and the like. These can be
- Such pre-dispersion of metal particles can be usually carried out at 10 to 80 ° C., preferably 15 to 60 ° C., most preferably around room temperature (about 20 to 30 ° C.). Further, the pre-dispersion of the metal particles can be performed for 5 minutes to 2 hours (including the case where ultrasonic treatment is performed), preferably 10 minutes to 1 hour.
- organosilicon compound can be used as the silicon-containing raw material.
- the organosilicon compound is not limited, but is preferably an organosilicon compound represented by the following formula (1) (typically tetraalkoxysilane) and / or a condensate thereof, and the following formulas (2) to (2) to ( At least one of the silane coupling agents represented by any of 4) can be preferably used. Details such as preferable forms of these organosilicon compounds are the same as those described above in relation to the first aspect of the first invention of the present application.
- step (2) preferably a part of the mixed solution (for example, 0.5 to 30% by mass, preferably 1 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass of the whole mixed solution per minute).
- the unevenness of the reaction treatment can be reduced by performing an external circulation in which the liquid is once taken out of the reaction tank and then returned to the inside of the reaction tank.
- step (3) is performed promptly after the step (2) is completed (that is, after the stirring is completed). If the reaction solution is left to stand after the stirring is completed, the composite particles in the reaction solution will settle and aggregate, so that the steps (2) and (3) are preferably performed continuously.
- “continuous” includes the case where the mixed solution obtained in the step (2) is once transferred to a tank or the like, but the time until the next step (3) is preferably performed within 24 hours. Within 6 hours is more preferred, and within 3 hours is even more preferred.
- the metal pigment composition produced by the third invention of the present application can be used for organic solvent-based paints, inks and the like. Further, this metal pigment composition is a resin composition by adding it to a water-based paint or water-based ink in which resins that are coating film-forming components (binders) are dissolved or dispersed in a medium mainly containing water. It can be a metallic water-based paint or a metallic water-based ink. The metal pigment composition can also be kneaded with a resin or the like and used as a water-resistant binder or filler.
- a metal pigment composition wherein the ratio of the number of aggregates in which four or more of the composite particles are fixed to each other is 35% or less with respect to the total number of the composite particles.
- [1b-1] A composite metal pigment containing metal particles and composite particles having a metal oxide coating formed on the surface thereof.
- the volume-based average particle size D 50 is 3 to 20 ⁇ m.
- the average particle thickness of the composite particles is 15 to 160 nm.
- the ratio of non-aggregated primary particles to the composite particles is 35% or more on the basis of the number of particles.
- the composite metal pigment in which the ratio of bent composite particles to the composite particles is 10% or less on a number basis.
- [1b-2] The composite metal pigment according to [1b-1], wherein the average particle thickness of the metal particles is 10 to 110 nm.
- step (2) after the silicon-containing raw material and the catalyst are charged, the inner wall of the reaction vessel near the wetted portion of the reaction vessel and the mixed solution is washed with the reaction solution or a solvent to reduce deposits or residues [3].
- [3-5] The production method according to any one of [3-1] to [3-4], wherein the step (2) is carried out over 2 hours or more.
- [3-6] A metal pigment composition obtained by the production method according to any one of [3-1] to [3-5].
- [3-7] A stirring tank type reactor used in the production method according to any one of [3-1] to [3-5].
- compositions and production conditions of each of the above Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1. Further, using the aluminum pigment compositions obtained in each of the above Examples and Comparative Examples, a water-based metallic paint was prepared with the following composition, and evaluated as a paint by the following method. The results are shown in Table 1. A water-based metallic paint having the following components was prepared.
- ⁇ A345 (DIC, acrylic clear resin) 420g -L-117-60 (Melamine resin manufactured by DIC Corporation) 165 g ⁇ Solbesso 100 (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd., aromatic solvent) 228 g Luminance
- Alcorp LMR-200 manufactured by Kansai Paint Co., Ltd. As optical conditions, it has a laser light source with an incident angle of 45 degrees and a receiver at light receiving angles of 0 degrees and ⁇ 35 degrees.
- Example 12 A composite metal pigment was obtained in the same manner as in Example 6 except that an aluminum paste having an average particle size D50 of 9 ⁇ m and a particle thickness of 110 nm was used.
- Example 18 After adding 10 g of tetraethoxysilane as a silicon-containing compound, 2 g of 25% ammonia water and 150 g of purified water were added over 3 hours, then the temperature was raised to 50 ° C., and 10 g of tetraethoxysilane was added. After that, the same operation as in Example 17 was carried out except that 8 g of 25% aqueous ammonia and 100 g of purified water were added over 2 hours for treatment to obtain a metal pigment as an aluminum pigment composition having a non-volatile content of 60%. ..
- Example 22 After the temperature was set to 50 ° C., 10 g of tetraethoxysilane was added as a silicon-containing compound, 2 g of 25% ammonia water and 150 g of purified water were added over 3 hours, and then the temperature was raised to 60 ° C. After that, the same operation as in Example 17 was carried out except that 8 g of 25% aqueous ammonia and 100 g of purified water were added over 2 hours for treatment to obtain a metal pigment as an aluminum pigment composition having a non-volatile content of 60%. ..
- ⁇ The amount of decrease from the standard (Comparative Example 1) was less than 20.
- ⁇ The amount of decrease from the standard (Comparative Example 1) was 20 or more and less than 40.
- ⁇ The amount of decrease from the standard (Comparative Example 1) was 40 or more.
- the composite particle when the composite particle is large, it is not always necessary to measure the area of the entire polysiloxane layer, and the area of the polysiloxane layer in a region of about 1 ⁇ m along the particle surface is measured and divided by the particle surface length. As a result, the thickness of the polysiloxane layer can be obtained with sufficient accuracy. Further, since the thickness of the polysiloxane layer does not differ greatly from particle to particle and is almost uniform, the average thickness of 50 composite particles was determined as the average thickness of the polysiloxane layer.
- Example 29 Commercially available for a reactor (minimum distance between the inner surface of the reaction tank and the tip of the stirring blade: 0.1 m) having a reaction tank with a diameter of 0.5 m and a volume of 200 L and a paddle blade with a blade diameter (maximum diameter) of 0.3 m.
- Add 27 kg of aluminum paste manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name "GX-3100 (average particle size D 50 11.3 ⁇ m, non-volatile content 74%)
- PM methoxypropanol
- Example 35 The same procedure as in Example 30 was carried out except that the paste was changed to an aluminum paste (manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name "GX40A (average particle size 19.8 ⁇ m, volatile content 74%)"), and an aluminum pigment composition having a non-volatile content of 60% was prepared. Obtained.
- an aluminum paste manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name "GX40A (average particle size 19.8 ⁇ m, volatile content 74%)
- GX40A average particle size 19.8 ⁇ m, volatile content 74%)
- Example 44 The same procedure as in Example 42 was carried out except that the paste was changed to an aluminum paste (manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name "FD5090 (average particle size 9 ⁇ m, non-volatile content 75%)") to obtain an aluminum pigment composition having a non-volatile content of 60%. ..
- Evaluation 1 Evaluation of paint stability The change in the state of the water-based metallic paint prepared by the above formulation after being left at 23 ° C. for 24 hours was visually evaluated. ⁇ : No particular change was observed. ⁇ : Some agglomeration of aluminum pigment is observed. X: Aggregation of aluminum pigment is observed.
- the brightness of the coating film was evaluated using a laser type metallic feeling measuring device "Alcorp LMR-200" manufactured by Kansai Paint Co., Ltd. As optical conditions, it has a laser light source with an incident angle of 45 degrees and a receiver at light receiving angles of 0 degrees and ⁇ 35 degrees. As the measured value, the IV value was determined at a light receiving angle of ⁇ 35 degrees at which the maximum light intensity can be obtained excluding the light in the specular reflection region reflected on the surface of the coating film among the reflected light of the laser. The IV value is a parameter proportional to the intensity of specularly reflected light from the coating film, and represents the magnitude of the light brightness. The determination method is as follows with reference to Comparative Example 1.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
本願第1発明は、その第2態様において、金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を有する複合粒子を含んでなる(複合)金属顔料に関し、より具体的には、複合粒子の凝集、変形を効果的に抑制し、塗膜における優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等が高いレベルでバランスした(複合)金属顔料に関する。
本願第2発明は金属粒子がポリシロキサンの層で被覆されている複合粒子から成る金属顔料に関する。本願第2発明は更には、ポリシロキサン層で被覆された複合粒子を含み、ポリシロキサンの縮合度が高く機械的安定性に優れ、且つ、高い意匠性を有した水系塗料に適した金属顔料、ならびに当該金属顔料を含む金属顔料組成物、水性塗料組成物、水性インキ組成物、及び、塗膜に関する。
本願第3発明は、金属顔料の製造方法に関する。さらに具体的には、本願第3発明は、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠蔽力、色調等を有する複合粒子を含む金属顔料の製造方法に関する。
近年、塗料分野においては、省資源、無公害化対策として、有機溶剤の使用量の少ない水性塗料への転換の必要性が高まっているが、金属顔料を含むメタリック塗料においては、未だ、実用可能な水性塗料の種類は十分ではない。この理由として、金属顔料は水性塗料中で腐食し易いことが挙げられる。水性塗料中に金属粉末が存在する場合には、各種金属の性質に基づいて、酸性、中性、塩基性のいずれか、あるいは複数の領域において水による腐食が起こり、水素ガスが発生する。これは塗料メーカーやインキメーカーにおける塗料やインキの製造工程や、自動車、家電メーカー、印刷メーカー等における塗装工程や印刷工程において、安全上極めて重大な問題である。また、腐食によって金属表面の平滑性が失われるために色調低下は避けられない。なお、水や水性塗料若しくは水性インキ中における金属顔料の耐腐食性は「貯蔵安定性」と換言され得る。
しかしながら、これらの特許文献に記載のいずれの方法(アルミニウム顔料の製造方法等)も、金属顔料の色調低下は避けられず、また工程が煩雑であった。
しかし、特許文献3には、攪拌レイノルズ数を所定範囲に調整することが好ましいこと以外に、目的とする凝集体が少ない被覆顔料をいかにして得ることができるのか具体的な教示を見出すことができない。また、特許文献3に規定された特性パラメーターの範囲を充足してもなお、それだけでは十分に満足な貯蔵安定性、低凝集性、隠ぺい力、色調を得ることは困難であることが分かっている。
また、これらの凝集粒子は、実質的な粒子厚みが凝集のない1次粒子の2~3倍となり得るため、膜厚の薄い塗装塗膜においては粒子が塗膜内に収まらず、粒子の頭出しがブツや光沢低下の原因となる場合があり、塗膜の膜厚を薄くするにあたって障害となっていた。
更に、特許文献4記載の技術では、複合粒子どうしの固着を防ぐために、被覆処理反応の撹拌時に大きな力を加える必要があるため、特に厚みの薄い粒子では撹拌による粒子変形が著しく、これにより被覆後の金属粒子の意匠性が低下する場合があり、その解決が求められていた。
金属顔料の中でも特にアルミフレーク顔料は、両性金属であるために、水系塗料においてアルミニウムが水と反応してガス発生するという問題があり、これの対策としてアルミフレーク顔料表面にポリシロキサン等の金属や半金属の酸化物にて被覆を行うことが有効である。
本願第1発明の更なる目的は、その第1態様において、従来技術の不都合が解消された、すなわち、貯蔵安定性に優れ、且つ、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠ぺい力、色調などを有する新規な複合粒子を含む金属顔料組成物を提供することである。
また、本願第2発明は、上記従来技術に鑑み、複合粒子の被覆層を構成するポリシロキサンの反応率が高く、機械的安定性に優れた、且つ、高い意匠性を有した水系塗料に適した金属顔料を提供することを目的とする。
更には、本願第2発明は、当該金属顔料を含有する金属顔料組成物又は水性塗料組成物や水性インキ組成物を提供することを目的とする。
なお、本明細書では、金属顔料に含有される複合粒子の水や水性塗料もしくは水性インキ中における耐腐食性を「貯蔵安定性」とも記載する。
本願第3発明の更なる目的は、従来技術の不都合が解消された、すなわち、貯蔵安定性に優れ、かつ、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠蔽力、色調等を有する複合粒子を含む金属顔料組成物を提供することである。
また、本願第3発明のより更なる目的は、凝集の少ない金属顔料組成物の製造装置を提供することである。
より具体的には、本発明者は、鋭意研究した結果、複合粒子において、4個以上の粒子が互い固着した集合体の割合が小さいこと、および粒度分布におけるD50を所定範囲内に制御することに加え、複合粒子の平均厚み、折れ曲がった複合粒子(すなわち破損した複合粒子)の割合等を所定範囲に制御することによって、上記本願第1第1態様の課題が達成され得ることを見出した。
[1]
金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を有する複合粒子を含む金属顔料であって、
(1)前記複合粒子の形状が鱗片状であり、
(2)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであり、
(3)前記複合粒子の平均厚みが15~300nmであることを特徴とする金属顔料。
[2]
折れ曲がった前記複合粒子の割合が10%以下である、[1]に記載の金属顔料。
[3]
前記複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、前記複合粒子全体の個数に対して35%以下である、[1]又は[2]に記載の金属顔料。
[4]
前記金属粒子がアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、[1]~[3]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[5]
前記一層以上の被覆層が酸化金属被覆層を含む、[1]~[4]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[6]
前記一層以上の被覆層がケイ素化合物含有層を含む、[1]~[5]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[7]
前記被覆層の少なくとも1層がポリシロキサンの層である、[1]~[6]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[8]
前記複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmである、[1]~[7]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[9]
前記複合粒子の平均アスペクト比が20~400である、[1]~[8]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[10]
前記ポリシロキサンの層を構成するポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%である、[7]に記載の金属顔料。
[11]
前記複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、[1]~[10]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[12]
前記ポリシロキサン層の平均厚みが5~100nmである、[7]又は[10]に記載の金属顔料。
[13]
(Si原子が1つの-O-Si-結合を有するQ1構造体比率×3)+(Si原子が2つの-O-Si-結合を有するQ2構造体比率×2)+(Si原子が3つの-O-Si-結合を有するQ3構造体比率)の合計で定義される親水度Aが10~80%である、[1]~[12]のいずれか一項に記載の金属顔料。
[14]
前記複合粒子が、金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂の少なくとも1種を含んでなる被覆層をさらに含む、[1]~[13]のいずれか1項に記載の金属顔料。
[15]
金属粒子がポリシロキサンの層で被覆されている複合粒子から成る金属顔料であって、
1)ポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であり、及び
2)複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、
前記金属顔料。
[16]
[1]~[15]のいずれか一項に記載の金属顔料であって、該金属顔料を不揮発分として12g、メトキシプロパノール18g、水性アクリル樹脂110g、メラミン樹脂18g、及び水12gを含有する水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下である、金属顔料。
[17]
[1]~[15]のいずれか一項に記載の金属顔料を含有し、且つ、水を5質量%以上含有する水性メタリック塗料であって、該水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下である、水性メタリック塗料。
[18]
[1]~[16]のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する金属顔料組成物。
[19]
[1]~[16]のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する水性塗料組成物。
[20]
[1]~[16]のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する水性インキ組成物。
[21]
[1]~[16]のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する塗膜。
[22]
金属顔料の製造方法であって、前記製造方法が、攪拌槽型反応機を用いて、下記工程(1)~(3)を含み、
(1)金属粒子を溶媒に分散させる工程、
(2)金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程、及び
(3)ろ過・洗浄する工程、
前記攪拌槽型反応機が、
反応槽の容積が100L以上であり、
反応槽の直径と攪拌翼の最大直径との比が0.2~1.0の範囲であり、かつ、前記反応槽の内面と前記攪拌翼の先端との最短距離が10mm以上であり、及び
前記攪拌翼の攪拌時の先端速度が1~20m/秒である、
前記製造方法。
[23]
[22]に記載の製造方法であって、
工程(1)において、分散液中の金属粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.2倍以下であって、前記分散液中の金属粒子が溶媒に均一に分散され、
工程(2)において、表層及び底部に滞留部を作らないように攪拌し、
工程(3)の後に得られる金属顔料に含まれる複合粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.3倍以下である、
前記製造方法。
[24]
工程(1)及び/又は(2)において、反応槽底部近傍より抜き出した処理液を反応槽上部より反応槽に戻して循環させる、[22]又は[23]に記載の製造方法。
[25]
工程(2)において、ケイ素含有原料及び触媒を投入した後に、反応槽と混合液の接液部近傍の反応槽内壁を、反応液又は溶媒で洗浄して付着物又は滞留物を減らす、[22]~24]のいずれか一項に記載の製造方法。
[26]
工程(2)を2時間以上かけて行う、[22]~[25]のいずれか一項に記載の製造方法。
[27]
[1]~16]のいずれか一項に記載の金属顔料が製造される、[22]~[26]のいずれか一項に記載の製造方法。
[28]
[22]~[27]のいずれか一項に記載の製造方法で得られた金属顔料。
[29]
[22]~[27]のいずれか一項に記載の製造方法に用いる攪拌槽型反応機。
本願第1発明第1態様の好ましい一態様によれば、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠ぺい力、色調(光輝感など)を有し、ガスの発生が少ない金属顔料組成物を得ることができる。
また、本願第1発明第1態様の更に好ましい一態様によれば、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠ぺい力、色調を有し、ガスの発生が少なく、かつ良好な貯蔵安定性を有する金属顔料組成物を得ることができる。
本願第1発明第2態様の複合金属顔料は、複合金属顔料を構成する複合粒子の凝集や変形を効果的に抑制することができるので、メタリック塗膜等の塗膜における優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を、従来技術の限界を超えて高いレベルでバランスさせることができる。
また本願第2発明によれば、複合粒子の被覆層を構成するポリシロキサンの反応率が高く、機械的安定性、貯蔵安定性(ガス発生)、及び、色調の優れた金属顔料を提供することができる。
本願第1発明は、
金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を有する複合粒子を含む金属顔料であって、
(1)前記複合粒子の形状が鱗片状であり、
(2)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであり、
(3)前記複合粒子の平均厚みが15~300nmであることを特徴とする金属顔料、である。
本願第1発明においては、前記複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、前記複合粒子全体の個数に対して35%以下であることが好ましい。
本願第1発明においては、前記金属粒子がアルミニウム又はアルミニウム合金を含有することが好ましい。
本願第1発明においては、前記一層以上の被覆層が酸化金属被覆層を含むことが好ましい。
本願第1発明においては、前記被覆層の少なくとも1層がケイ素化合物含有層であることが好ましい。
本願第1発明においては、前記被覆層の少なくとも1層がポリシロキサンの層であることが好ましい。ここで、前記ポリシロキサンの層を構成するポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であることが、より好ましい。また、前記ポリシロキサン層の平均厚みが5~100nmであることがより好ましい。
本願第1発明においては、前記複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmであることが好ましい。
本願第1発明においては、前記複合粒子の平均アスペクト比が20~400であることが好ましい。
本願第1発明においては、前記複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下であることが好ましい。
本願第1発明においては、(Si原子が1つの-O-Si-結合を有するQ1構造体比率×3)+(Si原子が2つの-O-Si-結合を有するQ2構造体比率×2)+(Si原子が3つの-O-Si-結合を有するQ3構造体比率)の合計で定義される親水度Aが10~80%であることが好ましい。
本願第1発明においては、前記複合粒子が、金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂の少なくとも1種を含んでなる被覆層をさらに含むことが好ましい。
本願第1発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する金属顔料組成物において好ましく用いられる。
本願第1発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する水性塗料組成物において好ましく用いられる。本願第1発明の金属顔料は、水性メタリック塗料において特に好ましく用いられ、該金属顔料を含有し、且つ、水を5質量%以上含有する水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生は、10ml以下であることが好ましい。
本願第1発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する水性インキ組成物において好ましく用いられる。
本願第1発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する塗膜において好ましく用いられる。
本願第1発明中の複合粒子を構成する1層以上の被覆層は、酸化金属被覆層を含むことが好ましい。
酸化金属被覆層を構成する酸化金属被覆は、金属粒子表面の全面に形成されていてもよく、表面の一部にのみ形成されていてもよい。
酸化金属被覆は、その全てが酸化金属で構成されていてもよく、その一部のみが酸化金属で構成され、酸化金属以外の成分を含有していてもよい。
酸化金属被覆層及びそれを構成する酸化金属被覆の好ましい形態等の詳細は、本願第1発明第1態様及び第2態様に関連して後述するものと同様である。
複合粒子を構成する1層以上の被覆層は、酸化金属被覆層以外に、他の被覆層(第2被覆層)を有していてもよい。このような第2被覆層は、本願第1発明第1態様及び第2態様に関連して後述するものと同様である。
上記酸化金属被覆層としては、ケイ素化合物含有層が特に好ましく用いられる。
すなわち本願第1発明の金属顔料において、複合粒子のコアとなる金属粒子の表面に形成された1層以上の被覆層のうちの少なくとも1層は、ケイ素化合物含有層であることが好ましい。被覆層のうちの少なくとも1層をケイ素化合物含有層とすることによって、水性塗料中でのガス発生を抑制することができ、良好な貯蔵安定性が得られ、また塗膜にしたときの耐水性に優れる。
ケイ素含有化合物層の好ましい形態等の詳細は、本願第1発明第1態様及び第2態様に関連して後述するものと同様である。
上記ケイ素化合物含有層としては、ポリシロキサンの層が特に好ましく用いられる。
したがって、本願第1発明の金属顔料に含まれる複合粒子は、金属粒子を中心とし、金属粒子をポリシロキサンで被覆した構造をとることが特に好ましい。
ポリシロキサンはケイ素原子(Si)と酸素原子(O)からなるシロキサン結合(Si-O-Si)を含む化合物から構成される。これらの化合物は、結晶質又は非晶質のいずれでもよいが、特に非晶質であることが好ましい。
また、ポリシロキサンは、有機ケイ素化合物(シランカップリング剤を含む)を出発原料として形成されてもよい。この場合、本願第1発明の効果を妨げない範囲内において、有機ケイ素化合物又はその由来成分を含んでいてもよい。典型例では、ポリシロキサンは、有機ケイ素化合物を加水分解することによって形成され得る。
ポリシロキサンの層は、本願第1発明の特性を損なわない範囲において、ケイ素化合物以外の添加物、不純物等を含んでいてもよい。
ポリシロキサンの層の好ましい形態等の詳細は、本願第2発明に関連して後述するものと同様である。
第1発明第1態様
本願第1発明第1態様は、
金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を有する複合粒子を含む金属顔料(組成物)であって、
(1)前記複合粒子の形状が鱗片状であり、
(2)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであり、
(3)前記複合粒子の平均厚みが20~300nmであり、
(4)前記被覆層の少なくとも1層が酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層であり、
(5)折れ曲がった前記複合粒子の割合が10%以下であり、
(6)前記複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、前記複合粒子全体の個数に対して35%以下であることを特徴とする金属顔料(組成物)、である。
以下、第1態様の金属顔料(組成物)の各成分をはじめその詳細について説明する。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物は、金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を含む複合粒子を含む。
すなわち、本明細書中上記第1態様の説明において、用語「金属顔料組成物」は、金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を含む複合粒子が水および/もしくは親水性溶媒を含む溶媒に分散され、または複合粒子が水および/もしくは親水性溶媒を含む溶媒を同伴しており、任意選択でその他の成分を含み得る組成物を指す。
また、本明細書中上記第1態様の説明において、金属顔料組成物に対して樹脂を添加した組成物を、用語「金属顔料組成物」と区別して「樹脂組成物」または「金属顔料組成物を含む樹脂組成物」と称することがある。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物に含まれる複合粒子は、金属粒子及びその表面に形成されている1層以上の被覆層を含む。すなわち、複合粒子のコアとなる金属粒子の表面に1層以上の被覆層が形成されている。
金属粒子は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
金属粒子の平均粒径は、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料(組成物)は、以下の物性要件を満たすことを特徴とする。
(1)複合粒子の形状が鱗片状であること。
(2)レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであること。
(3)複合粒子の平均厚みが20~300nmであること。
(4)被覆層の少なくとも1層が酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層であること。
(5)折れ曲がった複合粒子の割合が10%以下であること。
(6)複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、複合粒子全体の個数に対して35%以下であること。
以下、これらの物性要件の各々について説明する。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物の複合粒子の形状は、鱗片状(フレーク状)である。これにより、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、高い隠ぺい力および光輝感等を発揮することができる。本明細書において、複合粒子の形状が「鱗片状」(フレーク状)であるとは、複合粒子の平均アスペクト比(平均粒径を平均厚みで割った形状係数)が5以上であることを指すものとする。高い隠ぺい力および光輝感を得る観点から、鱗片状の複合粒子の平均アスペクト比は、5~1000であることが好ましく、特に15~500であることがより好ましい。平均アスペクト比が5以上であることによって、十分な光輝感を奏することができる一方、平均アスペクト比が1000以下であることによって、フレークの機械的強度が維持され安定した色調を得ることができる。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここで、複合粒子の平均アスペクト比を算出するための平均粒径は、メディアン径と称される体積基準D50であり、要件(2)について後述する。また、複合粒子の平均アスペクト比を算出するための平均厚みは、要件(3)について後述する。
レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、0.1~30μmである。これにより、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、高い隠ぺい力および光輝感等を発揮すると共に、個々の粒子の凝集性が小さく抑制され得る。この体積基準のD50は、一般にメディアン径とも称される。
高い隠ぺい力および光輝感ならびに小さい凝集性を得る観点から、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、好ましくは0.1~25μm、より好ましくは0.1~20μm、さらに好ましくは0.1~15μm、特に好ましくは0.1~10μmであってよい。あるいは、同様の観点から、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、0.2~25μmであり、より好ましくは0.5~20μm、さらに好ましくは1~20μmであり、さらにより好ましくは3~20μmであってよい。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここで、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、体積累積粒度分布における累積度50%の粒子径を指す。レーザー回折式粒度分布計としては、特に限定されないが、「LA-300」(株式会社堀場製作所製)などを使用することができる。測定溶剤としてはイソプロピルアルコールやミネラルスピリットが使用され得る。例えば、試料の複合粒子を含む金属顔料組成物に対し、前処理として2分間の超音波分散を行った後、分散槽の中に投入し適当に分散されたことを確認後、D50を測定することができる。
後述する樹脂組成物中の複合粒子の粒子径は、この方法では測定できない。そのため、この場合の代替法として、例えば光学顕微鏡、レーザー顕微鏡等で樹脂組成物中の複合粒子を塗膜表面から撮影し、市販の画像解析ソフトを使用して、円相当径の分布を得ることにより粒子径を求めるという方法を採用することができる。
金属顔料組成物に含まれる複合粒子の体積基準のD50は、後述する金属顔料組成物の製造方法において、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、ならびに、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、用いる有機ケイ素化合物の種類、被覆工程(有機ケイ素化合物を加水分解させて用いる場合は、その工程も含む)でのpH、濃度、攪拌温度、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物に含まれる複合粒子の平均厚みは、20~300nmである。これにより、上記要件(2)の充足と相俟って、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、さらに高い隠ぺい力および光輝感等を発揮すると共に、個々の粒子の凝集性がより小さく抑制され得る。
複合粒子の平均厚みは、上記観点から、好ましくは20~300nmであり、より好ましくは20~250nmであり、さらに好ましくは20~200nmであり、さらに隠ぺい性や高輝度が望まれる場合は、より好ましくは30~150nmである。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここでの複合粒子の平均厚みは、複合粒子の水面拡散面積および密度から算出することができる。水面拡散面積は、リーフィング現象を利用して乾燥した複合粒子を水面上に均一に拡散し、すきまのない状態に被覆したとき、単位質量当たりの乾燥複合粒子が占める面積を指す。水面拡散面積の計測は、JIS K5906:1998の規定に従って行うことができる。
但し、本願第1発明第1態様の複合粒子では、表面の親水性が強い場合は上記水面拡散面積を求めることが困難な場合がある。この場合は、後述する実施例にて説明された方法に従って複合粒子の平均厚みを測定することができる。すなわち、複合粒子をメトキシプロパノール等のアルコール系溶媒及び水の混合物に分散させた金属顔料組成物を用いて被膜(薄膜)を形成し、走査電子顕微鏡(SEM)にて複合粒子(30個以上、好ましくは50個以上、特に好ましくは500個以上)の厚みを観察することで複合粒子の平均厚みを求めることができる。
金属顔料組成物に含まれる複合粒子の平均厚みは、体積基準D50と同様に、後述する金属顔料組成物の製造方法において、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、ならびに、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、用いる有機ケイ素化合物の種類、被覆工程(有機ケイ素化合物を加水分解させて用いる場合は、その工程も含む)でのpH、濃度、攪拌温度、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物において、複合粒子のコアとなる金属粒子の表面に形成された1層以上の被覆層のうちの少なくとも1層は、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層である。
被覆層のうちの少なくとも1層を酸化金属被膜層、好ましくはケイ素化合物含有層とすることによって、水性塗料中でのガス発生を抑制することができ、良好な貯蔵安定性が得られ、また塗膜にしたときの耐水性に優れる。
複合粒子の被覆層は、酸化金属皮膜層以外に、他の被覆層(第2被覆層)を有していてもよい。このような第2被覆層については、更に後述する。
酸化金属被覆は、酸化金属を含む層により構成される皮膜であり、金属粒子表面の全面に形成されていてもよく、表面の一部にのみ形成されていてもよい。
酸化金属被覆は、その全てが酸化金属で構成されていてもよく、その一部のみが酸化金属で構成され、酸化金属以外の成分を含有していてもよい。
酸化金属被覆を構成する酸化金属は、酸素と少なくとも1種の金属元素とをその構成元素に含む化合物である。
したがって、酸化金属は、酸素と少なくとも1種の金属元素のみをその構成元素とする狭義の酸化金属であってもよいが、酸素と少なくとも1種の金属元素とをその構成元素に含む限りにおいて、当該酸素及び金属元素以外の元素をその構成元素に含んでいてもよく、例えば金属の水酸化物、酸化物水和物、酸窒化物等であってもよい。また有機基を含む化合物であってもよい。
また酸化金属は、構成元素としての金属元素が1種類のみであるいわゆる単独酸化物であってもよく、また2種以上の金属元素を構成元素とする複合酸化物であってもよい。
酸化金属の構成元素はである少なくとも1種の金属元素は、典型金属であってもよく、遷移金属であってもよい。さらにはいわゆる半金属元素であってもよい。中でもケイ素を構成元素とする酸化金属は、酸化金属被覆層(この場合、ケイ素化合物含有層にも該当する。)を構成する酸化金属として特に好適である。
酸化金属被覆を構成する酸化金属として好適なものの具体例して、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化クロム、酸化スズ、酸化モリブデン、酸化バナジウム、それらの酸化物水和物、それらの水 酸化物、およびそれらの混合物等を挙げることができる。中でも、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、およびそれらの混合物、並びにそれらの酸化物水和物および水酸化物が好ましく用いられる。特に好ましくは、(ケイ素化合物にも該当する)酸化ケイ素、水酸化ケイ素、および/または酸化ケイ素水和物などのケイ素酸化物を使用することができる。
有機ケイ素化合物は、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の少なくとも一種と、下記一般式(2)、(3)及び(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤、並びにそれらの部分縮合物から選ばれる少なくとも一種とを含有してよい。
(式中、R1は水素原子、又は炭素原子数1から8の炭化水素基であり、R1は全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。)
R2 mSi(OR3)4-m ・・・ (2)
(式中、R2は水素原子、又は炭素原子数1から30の、任意にハロゲン基を含んでもよい炭化水素基であり、R3は水素原子、又は炭素原子数1から8の炭化水素基である。R2とR3は同一でも異なっていてもよく、R2、又はR3が2つ以上ある場合は、全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。1≦m≦3である。)
R4 pR5 qSi(OR6)4-p-q ・・・ (3)
(式中、R4は他の官能基と化学結合し得る反応基を含む基であり、R5は水素原子、又は炭素原子数1から30の、任意にハロゲン基を含んでもよい炭化水素基であり、R6は水素原子、又は炭素原子数1から8の炭化水素基である。R4、R5、又はR6が2つ以上ある場合は、全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。1≦p≦3であり、0≦q≦2であり、1≦p+q≦3である。)
R7 rSiCl4-r ・・・ (4)
(式中、R7は水素原子、又は炭素原子数1から30の、任意にハロゲン基を含んでもよい炭化水素基であり、R7が2つ以上ある場合は、全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。0≦r≦3である。)
このような式(1)の有機ケイ素化合物の好ましい例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。この中でも特に、テトラエトキシシランが好ましい。
式(2)のR3における炭化水素基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等が挙げられ、これらは分岐していても直鎖状であってもよい。これらの炭化水素基の中でも、特にメチル、エチル、プロピル、及びブチルが好ましい。また、R3が2つ以上ある場合には、それらは全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。
このような式(2)の有機ケイ素化合物(シランカップリング剤)の好ましい例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-プロピルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジブトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ジヘキシルジメトキシシラン、ジヘキシルジエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ジオクチルジメトキシシラン、ジオクチルジエトキシシラン、ジオクチルエトキシブトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ジデシルジメトキシシラン、ジデシルジエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、ジオクタデシルジメトキシシラン、ジオクタデシルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリブトキシシラン等が挙げられる。
また、R4が2つ以上ある場合には、それらは全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。分子中のR4の数は、式(3)において、p=1から3、すなわち1から3個であるが、p=1であることがより好ましい。
式(3)のR5の炭化水素基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オレイル、ステアリル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、ナフチル等が挙げられ、これらは分岐していても直鎖状であっても、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン基を含んでいてもよい。これらの中でも、とくに炭素数が1から18の炭化水素基が好ましい。また、R5が2つ以上ある場合には、それらは全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。
式(3)のR6における炭化水素基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等が挙げられ、これらは分岐していても直鎖状であってもよい。これらの炭化水素基の中でも、とくにメチル、エチル、プロピル、及びブチルが好ましい。また、R6が2つ以上ある場合には、それらは全てが同一でも、一部が同一でも、全てが異なっていてもよい。
このような式(4)の有機ケイ素化合物(シランカップリング剤)の好ましい例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、オクチルジメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、テトラクロロシラン等が挙げられる。
有機ケイ素化合物の加水分解物の縮合反応は、有機ケイ素化合物の加水分解反応と同時に行ってもよいし、工程を分けて、かつ必要であれば触媒を替えて行ってもよい。その際、必要に応じて加温してもよい。
第2被覆層は、例えば、金属(アルカリ金属;アルカリ土類金属;マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀などの金属等)、金属酸化物(酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄等)、金属水和物、及び樹脂(アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース樹脂、フッ素樹脂などの合成樹脂等)の少なくとも1種を含んでなるものであってよい。第2被覆層として、例えば、モリブデン含有被膜、リン酸化合物被膜等を形成することができる。第2被覆層を設けることによって、金属粒子の耐食性を向上させると共に、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成を促進することができる。
第2被覆層は、(形成される場合には)特に金属粒子と酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層との間に形成されることが好ましい。従って、例えば「金属粒子/第2被覆層/酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層」という層構成を好適に採用することができる。特に限定されないが、モリブデン含有被膜の例としては、特開2003-147226号公報、国際公開第2004/096921号パンフレット、特許第5979788号、特開2019-151678号公報に開示されたものを挙げることができる。リン酸化合物被膜の例としては、特許第4633239号に開示されたものを挙げることができる。モリブデン含有被膜を構成するモリブデン含有物の好ましい例としては、特開2019-151678号公報に開示された混合配位型ヘテロポリアニオン化合物が挙げられる。
別の変形形態では、第2被覆層は、金属粒子および酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層の外側に形成され得る。また更なる別の変形形態では、第2被覆層の構成成分(モリブデン含有化合物やリン酸化合物など)は、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層中に酸化金属、好ましくはケイ素化合物と共に包含され得る。
また、p、q、r、sは原子の数を表し、tは酸化数を表す。
ヘテロポリアニオン化合物は数多くの構造を持つため、混合配位型ヘテロポリアニオン化合物は更に数多くの構造を持ち得るが、代表的かつ好ましい混合配位型ヘテロポリアニオン化合物としては、以下の混合配位型へテロポリ酸:H3PWxMo12-xO40・nH2O(リンタングストモリブデン酸・n水和物)、H3+xPVxMo12-xO40・nH2O(リンバナドモリブデン酸・n水和物)、H4SiWxMo12-xO40・nH2O(ケイタングストモリブデン酸・n水和物)、H4+xSiVxMo12-xO40・nH2O(ケイバナドモリブデン酸・n水和物)等が例示される。(但し、1≦x≦11、n≧0)
混合配位型ヘテロポリアニオン化合物は、酸(いわゆる、混合配位型へテロポリ酸)の形で用いてもよいし、特定のカチオンを対イオンとする(部分若しくは完全な)塩の形で用いてもよい。
更にこれらアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニアから選ばれる少なくとも一種を対カチオン源とする場合、H3PWxMo12-xO40・nH2O(リンタングストモリブデン酸・n水和物)、H3+xPVxMo12-xO40・nH2O(リンバナドモリブデン酸・n水和物)、H4SiWxMo12-xO40・nH2O(ケイタングストモリブデン酸・n水和物)、H4+xSiVxMo12-xO40・nH2O(ケイバナドモリブデン酸・n水和物)から選ばれる少なくとも一種との塩の形で用いるのがより好ましい。
(式中、R8、R9及びR10は同じでも異なってもよく、水素原子、又は炭素原子数1から30の、任意にエーテル結合、エステル結合、水酸基、カルボニル基、チオール基を含んでもよい1価若しくは2価の炭化水素基であり、任意にR8とR9は一緒になって5員若しくは6員のシクロアルキル基を形成するか、又は架橋員として付加的に窒素若しくは酸素原子を含むことができる5員若しくは6員環を形成してもよく、又は任意にR8、R9及びR10は一緒になって、1個以上の付加的な窒素原子及び/又は酸素原子を架橋員として含むことができる多員の多重環を形成してもよい。R8、R9及びR10は同時に水素原子にはならない。nは1から2の整数を表す。)
これら一般式(5)で示されるアミン化合物から選ばれる少なくとも一種と、H3PWxMo12-xO40・nH2O(リンタングストモリブデン酸・n水和物)、H3+xPVxMo12-xO40・nH2O(リンバナドモリブデン酸・n水和物)、H4SiWxMo12-xO40・nH2O(ケイタングストモリブデン酸・n水和物)、H4+xSiVxMo12-xO40・nH2O(ケイバナドモリブデン酸・n水和物)から選ばれる少なくとも一種との塩の形で用いるのがより好ましい。
上記の混合配位型ヘテロポリアニオン化合物の中でも、H3PWxMo12-xO40・nH2O(リンタングストモリブデン酸・n水和物)、H3+xPVxMo12-xO40・nH2O(リンバナドモリブデン酸・n水和物)、H4SiWxMo12-xO40・nH2O(ケイタングストモリブデン酸・n水和物)の混合配位型へテロポリ酸、若しくはこれら混合配位型へテロポリ酸の有機アミン塩が最も好ましい。
また、複合粒子の酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層および/または第2被覆層中に、あるいは別途の層として、貯蔵安定性の観点から、無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含有してもよい。
これらの化合物は、特に限定されないが、例えば特開2019-151678号公報に開示されているものを用いることができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物において、折れ曲がった複合粒子の割合が10%以下である。これにより、上記の諸要件の充足と相俟って、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、さらに高い隠ぺい力および光輝感等を発揮する。折れ曲がった複合粒子の割合は、複合粒子の変形あるいは破損の程度に関連する指標であると理解される。折れ曲がった複合粒子の割合が10%以下であれば、複合粒子の変形あるいは破損の程度が小さく、それによって、塗膜とした際の粒子の投影面積が大きくなるとともに、塗膜表面と平行に配向しやすくなることで、高い隠ぺい力および優れた光輝感等を発揮することができる。また、さらに、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜表面での未処理表面の割合が小さくなることで塗膜の耐水性の向上も見込める。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
金属顔料組成物における折れ曲がった複合粒子の割合は、少なければ少ないほど良い。この割合は、好ましくは9%以下であり、より好ましくは8%以下であり、さらにより好ましくは7%以下、最も好ましくは6%以下である。
金属顔料組成物における折れ曲がった複合粒子の割合は、詳細には、後述する実施例にて説明された方法に従って測定することができる。すなわち、複合粒子をメトキシプロパノール等のアルコール系溶媒(親水性溶媒)及び水の混合物に分散させた金属顔料組成物を用いて被膜(薄膜)を形成し、走査電子顕微鏡(SEM)にて粒子断面の変形の度合を観察することができる。その際、それぞれの複合粒子について、粒子両端との最短距離が粒子の長さに対して0.8倍以下の場合を変形ありと判断し、300個以上、好ましくは500個以上の粒子を観察して変形ありの割合を算出し、これを折れ曲がった複合粒子の割合とすることができる。なお、観察にあたっては、粒径分布を測定した際の中心から90%の範囲の粒子径の粒子を対象にする。
金属顔料組成物における折れ曲がった複合粒子の割合は、主に、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物において、複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、複合粒子全体の個数に対して35%以下である。これにより、上記の諸要件の充足と相俟って、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、さらに高い隠ぺい力および光輝感等を発揮すると共に、個々の粒子の凝集性がより小さく抑制され得る。複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、複合粒子の重なりの程度、すなわち凝集性の程度であると理解される。複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が複合粒子全体の個数に対して35%以下であれば、塗膜中での複合粒子の配向が整頓されており、塗膜表面に対して平行に並ぶ複合粒子の割合が高くなる。その結果、金属顔料組成物を用いて形成された塗膜での複合粒子の投影面積が大きくなって隠ぺい力および光輝感が高められ、さらには個々の粒子に均一かつ十分な被覆を形成するのが容易になることで個々の粒子の凝集性がより一層小さくなると考えられる。さらには、複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が少ないことにより、水性塗料中でいったん形成された複合粒子の凝集物が崩れることで未処理表面が露出し、水性塗料の溶媒である水と反応して水素ガスを発生する事態を効果的に防止することができる。
金属顔料組成物における複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、好ましくは30%以下であり、より好ましくは20%以下であり、さらにより好ましくは15%以下、より一層好ましくは10%以下、最も好ましくは5%以下である。この割合は少なければ少ないほど良いが、完全にゼロにするのは容易ではない。
この物性要件における「複合粒子」は、上記(1)~(3)および(5)の物性要件とは異なり、複数の複合粒子が凝集・固着している場合でも個々の複合粒子を指す。また、この物性要件における「集合体」は、複数の複合粒子が凝集・固着している状態を指す。
金属顔料組成物における複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、詳細には、後述する実施例にて説明された方法に従って測定することができる。すなわち、複合粒子をメトキシプロパノール等のアルコール系溶媒及び水の混合物に分散させた金属顔料組成物を用いて被膜(薄膜)を形成し、走査電子顕微鏡(SEM)にて複合粒子の重なりの度合を観察することができる。その際、それぞれの複合粒子について、a)対象となる複合粒子の基材金属(金属粒子)の表面どうしの最小距離dが被覆層平均厚みtの2倍以上の場合は凝集していない;あるいはb)対象となる複合粒子の基材金属(金属粒子)表面どうしの最小距離dが被覆層平均厚みtの倍よりも小さい場合は凝集しているとの基準に従って凝集の有無を判断し、300個以上、好ましくは500個以上の複合粒子を観察して4個以上が互いに固着(凝集)している複合粒子の割合を算出し、これを複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合とすることができる。なお、ここでの被覆層平均厚みは、任意の粒子50個、好ましくは100個の任意箇所における平均被覆層厚みとする。
金属顔料組成物における複合粒子全体の個数に対する複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、主に、酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第1態様による金属顔料組成物は、例えば、顔料業界で常用されている方法を用いて鱗片状の金属粒子とし、この工程後、篩分(分級)、ろ過、洗浄、混合等の工程を経て金属粒子を製造し、次いで、水および/親水性溶媒を含む溶媒を用いた攪拌下において、金属粒子に酸化金属皮膜層、好ましくはケイ素化合物含有層を被覆する工程を含む製造方法によって好適に製造することができる。より具体的には、以下の方法が挙げられるが、これに限定されるわけではない。
ここでは、金属粒子としてアルミニウム粉末を用いる場合を例に挙げて説明する。
アルミニウム粉末は、一般的には、アトマイズドアルミニウム粉および/またはアルミニウム箔を乾式ボールミル法、湿式ボールミル法、アトライター法、スタンプミル法等の顔料業界で常用されている方法を用い、粉砕助剤や不活性溶剤の存在下で粉砕して、いわゆる鱗片状にし、さらにこの工程後、篩分(分級)、ろ過、洗浄、混合等の必要とする工程を経て得られる。
ここでの粉砕助剤の例としては、脂肪酸、脂肪族アミン、脂肪族アミド、脂肪族アルコール等が挙げられる。一般には、オレイン酸、ステアリン酸、ステアリルアミン等が好ましい。また、不活性溶剤の例としては、ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、LAWS、HAWS、トルエン、キシレン等の疎水性を示すものが挙げられ、これらを単独または混合して使用することができる。粉砕助剤および不活性溶剤は、これらに限定されるものではない。
粉砕工程としては、粉塵爆発を防止し安全性を確保する観点から、湿式ボールミル法による粉砕が好ましい。
また、本願第1発明第1態様の金属顔料組成物の製造における金属粒子として、物理蒸着(PVD)によって樹脂フィルム等の担体材料上に蒸着させた金属層を担体材料から剥離し、粉砕して製造された、いわゆる蒸着アルミ顔料を用いることもできる。
ケイ素化合物含有層の形成工程
上述の(a)金属粒子、(b)有機ケイ素化合物の少なくとも1種を含むケイ素含有原料、および(c)溶媒、並びに必要に応じて他の任意成分を含む混合液は、これらの成分を混合することにより調製することができる。混合の順序は特に限定されない。
上記式(1)で表される有機ケイ素化合物(典型例としてはテトラアルコキシシラン)および/またはその縮合物、ならびに上記式(2)~(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤の少なくとも1種を好適に用いることができる。
以降では、上記式(1)で表される有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシランを用いる場合を例に挙げて説明する。なお、以下では、テトラアルコキシシランおよび/またはその縮合物を単に「テトラアルコキシシラン」とまとめて称する場合がある。
また、加水分解触媒としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ類;炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機アルカリ塩類;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、アニリン、コリン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、グアニジン等のアミン類;蟻酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、蟻酸モノメチルアミン、酢酸ジメチルアミン、乳酸ピリジン、グアニジノ酢酸、酢酸アニリン等の有機酸の塩類を用いることもできる。これらの加水分解触媒は、1種又は2種以上で用いることができる。
本願第1発明第1態様であってケイ素化合物含有層を有する態様による金属顔料組成物の製造は、上記混合液の調製は適度な強度の攪拌下で行うことが好ましい。
例えば、一般式(1)で表される有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシラン(TEOS)を使用した場合には、以下の加水分解及び縮合反応前後の質量比を用いて、有機ケイ素化合物の加水分解物及び/又はその縮合物の添加量を算出することができる。
(加水分解)
Si(OC2H5)4 (分子量:208) + 4H2O
→ Si(OH)4 (分子量:96) + (C2H5OH)4
(縮合)
Si(OH)4 (分子量:96)+ Si(OH)4 (分子量:96)
→ (SiO2)2 (分子量:60×2) + 4H2O
以上の加水分解及び縮合反応前後で、質量は60/208=0.288倍となるので、例えば金属粒子(固形分)100質量部に対して、TEOSを10質量部使用した場合には、その加水分解物及び/又はその縮合物の添加量は、その0.288倍、すなわち2.88質量部になる。
例えば、一般式(2)で表されるシランカップリング剤としてメチルトリメトキシシシランを使用した場合には、以下の加水分解及び縮合反応前後の質量比を用いて、シランカップリング剤の加水分解物及び/又はその縮合物の添加量を算出することができる。
(加水分解)
CH3Si(OCH3)3(分子量:136) + 3H2O
→ CH3Si(OH)3(分子量:94) + (CH3OH)3
(縮合)
CH3Si(OH)3(分子量:94) + CH3Si(OH)3(分子量:94)
→ (SiCH3O1.5)2(分子量:67×2) + 3H2O
以上の加水分解/縮合反応の前後で、質量は67/136=0.49倍となるので、例えば金属粒子(固形分)100質量部に対して、メチルトリメトキシシシランを1.23質量部使用した場合には、その加水分解物及び/又はその縮合物の添加量は、その0.49倍、すなわち0.60質量部になる。
超音波処理は、特に限定されないが、通常10~1000W,好ましくは50~800Wで、通常20秒~10分、好ましくは30秒~5分程度行うことができる。また、この事前分散のための溶媒の使用量は、攪拌の強度を適切に調節して十分な分散を得る観点から、金属粒子(固形分)100質量部に対して通常100~10000質量部程度であってよく、200~5000質量部であることが好ましい、300~1000質量部であることがより好ましい。
このような金属粒子の事前分散は、通常は10~80℃、好ましくは15~60℃、最も好ましくは室温前後(20~30℃程度)にて行うことができる。また、金属粒子の事前分散は、(超音波処理を行う場合はそれも含めて)5分~2時間の間、好ましくは10分~1時間の間行うことができる。
本願第1発明第1態様の複合金属顔料を構成する複合粒子は、酸化金属被覆層に加えて、それ以外の被覆層(第2被覆層)、好ましくは金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂から選ばれる少なくとも1種を含んでなる被覆層、をさらに有することが好ましい。
第2被覆層は、(形成される場合には)特に金属粒子と酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層との間に形成されることが好ましい。従って、「金属粒子/第2被覆層/酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層」という層構成を好適に採用することができる。
第2被覆層は、特に限定されないが、モリブデン含有被膜、リン酸化合物被膜等であってよい。モリブデン含有被膜を構成するモリブデン含有物の好ましい例としては、特開2019-151678号公報に開示された混合配位型ヘテロポリアニオン化合物が挙げられる。混合配位型ヘテロポリアニオン化合物を含め、第2被覆層の構成成分の例については上述したとおりである。
以降では、金属粒子と酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層との間に第2被覆層としてモリブデン含有被膜を形成する態様を例に挙げて説明する。
本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物の製造においては、少なくとも酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成工程を攪拌下で実施することが必要である。また、本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物の製造においては、酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成工程だけでなく、第2被覆層の形成工程も、攪拌下で実施することが好ましい。上述の金属粒子の事前分散を行う態様においては、これも攪拌下で実施することがより好ましい。また、本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物の製造においては、金属粒子の事前分散、第2被覆層の形成工程、酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成工程を含めて全行程を攪拌下で実施することが更に好ましい。
本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物の製造において少なくとも酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成工程を適切に制御された攪拌下で実施することによって、酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層を介して複合粒子どうしが付着したり、あるいは金属粒子からなる凝集粒子ごと酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層で被覆される現象を効果的に抑制ないしは防止することが可能である。また、金属粒子の事前分散、第2被覆層の形成工程、酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層の形成工程を含めて(金属粒子表面に形成すべき層がすべて形成され終わる時点まで)、全行程を攪拌下で実施することによって、上記(1)~(6)の物性要件の全てを満たす本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物をより容易に得ることが可能になる。
以下に述べる攪拌条件の説明は、本願第1発明第1態様に係る金属顔料組成物の製造におけるいずれの工程にも当てはまり得る。
攪拌翼の速度は、先端が0.5~50m/sであることが好ましく、1~20m/sであることがより好ましく、2~10m/sであることがさらに好ましい。攪拌翼先端の速度が0.5~50m/sの範囲内であることによって、生成される金属顔料組成物中の複合粒子の分散性を高めることができ、ひいては、個々の粒子の凝集性が小さく、優れた隠ぺい力、色調を有し、ガスの発生が少ない金属顔料組成物を得ることがより容易になる。また、攪拌の線速が上記範囲内であることによって、金属粒子(例えば鱗片状のアルミニウム粉)の破損が防止されると共に、加水分解/縮合反応の速度が適度に制御され、複合粒子の凝集が効果的に抑制され得る。
攪拌状態を表す指標としては攪拌レイノルズ数(以下「攪拌Re数」と略記)がある。攪拌Re数は攪拌槽や攪拌翼の形状、直径以外のサイズを反映しない。そのため、攪拌Re数は、あくまでも目安にしかならず特に制限されないが、3000以上であることが好ましく、5000以上であることがより好ましい。攪拌Re数の上限は、攪拌装置の種類、規模等により異なり得る。攪拌Re数の上限は、通常のラボスケールでは100000程度であってよいが、スケールアップした大型の装置を用いる場合は、本願第1発明第1態様の所望の効果が妨げられない限り100000を超えても良い。この上限は、例えば100万程度となる場合も許容される。
攪拌Re数=(ρ×n×d2)/μ
(式中、ρは25℃における攪拌対象の混合液の密度(kg/m3)、nは攪拌回転数(rps)、dは攪拌翼直径(m)、μは25℃における攪拌対象の混合液の粘度(Pa・s)をそれぞれ示す。)
金属粒子に酸化金属被覆層、好ましくはケイ素化合物含有層(及び任意選択で第2被覆層)を形成する工程が終了した後は、得られた複合粒子を回収することができる。回収にあたり、必要に応じて、洗浄、固液分離等の公知の処理を実施することもできる。例えば、有機溶剤を用いて分散液を洗浄した後にフィルターを用いて濾過し、複合粒子を含有するケーキから水と未反応物を除去することが好ましい。また、その後、必要に応じて、複合粒子を含有するケーキを例えば100~500℃の範囲の温度で加熱処理しても良い。このように回収された複合粒子は、後述のとおり、通常、製造過程で用いられた少量の水/親水性溶媒を含む溶媒が残存し同伴した金属顔料組成物を構成し得る。
上述のようにして得られた本願第1発明第1態様の金属顔料組成物は、金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を含む複合粒子を含み、また、固形分(不揮発分)の残分として、製造過程で用いられた水/親水性溶媒などの溶媒を含む金属顔料組成物を成していると捉えられる。
金属顔料組成物には、金属粒子がケイ素化合物層を有する場合、通常、有機ケイ素化合物(例えば、上記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の少なくとも一種と、上記一般式(2)、(3)及び(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤、並びにそれらの部分縮合物から選ばれる少なくとも一種)の加水分解物及び/又はその縮合物であるケイ素化合物が、金属粒子100質量部に対して、加水分解/縮合反応が完了した状態換算で0.02から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の第2被覆層を形成する化合物(第2被覆層としてモリブデン含有被膜を形成する任意選択の態様にあってはモリブデン含有化合物、例えば混合配位型ヘテロポリアニオン化合物)が、金属粒子100質量部に対して、0.01から10質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の有機オリゴマーまたはポリマーが、金属粒子100質量部に対して、0.01から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種が、金属粒子100質量部に対して、0.01から20質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、上記成分(不揮発分)の残分として、製造過程で用いられた水/親水性溶媒、及び/又は組成物の組成を調整するために新たに加えられた親水性有機溶媒が存在し得る。水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、例えば、金属顔料組成物の0.5~95質量%であってよい。あるいは、水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、金属顔料組成物の1~90質量%、または2~80質量%、または5~70質量%であってよい。
酸化防止剤としては、フェノール系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物に代表されるものを使用することができる。
このような金属顔料組成物は、有機溶剤系の塗料、インキ等に用いることができる。また、この金属顔料組成物は、水を主とする媒体中に塗膜形成成分(バインダー)である樹脂類が溶解又は分散している水性塗料若しくは水性インキに加えることにより、樹脂組成物であるメタリック水性塗料若しくはメタリック水性インキとすることができる。また、金属顔料組成物は、樹脂等と混練して耐水性のバインダー、フィラーとして用いることもできる。酸化防止剤、光安定剤、重合禁止剤、界面活性剤は、金属顔料組成物を水性塗料若しくは水性インキ、又は樹脂等に配合する際に添加してもよい。変形形態としては、金属顔料組成物と樹脂等との混練物から成形体を得ることも可能である。
これらの樹脂類は水に乳化、分散あるいは溶解することが好ましい。そのために、樹脂類に含まれるカルボキシル基、スルホン基などを中和することができる。
必要に応じて、メラミン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ウレタンディスパージョンなどの樹脂を併用することができる。更には一般的に塗料に加えられる無機顔料、有機顔料、体質顔料等の着色顔料、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、分散剤、沈降防止剤、レべリング剤、増粘剤、消泡剤と組み合わせてもよい。塗料への分散性を良くするために、更に界面活性剤を添加してもよいし、塗料の保存安定性を良くするために、更に酸化防止剤、光安定剤、及び重合禁止剤を添加してもよい。
各塗膜層における塗料組成物の硬化方法は、熱硬化であっても良いし、常温硬化であっても良い。また、各塗膜層の塗料組成物の乾燥方法は、例えば熱風を用いても良いし、常温における自然乾燥であっても良い。
本願第1発明第2態様は、
金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を有する複合粒子を含んでなる(複合)金属顔料であって、
(1)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準の平均粒子径D50が3~20μmであり、
(2)前記複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmであり、
(3)前記複合粒子に占める凝集の無い一次粒子の割合が個数基準で35%以上であり、
(4)前記複合粒子に占める折れ曲がった複合粒子の割合が個数基準で10%以下である、上記(複合)金属顔料、である。
以下、第2態様の(複合)金属顔料の各成分等の詳細について説明する。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料は、金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を有する複合粒子を含んでなる。
すなわち、本明細書中上記第2態様の説明において、用語「複合金属顔料」は、金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を有する複合粒子を必須成分として含み、それ以外の成分、例えば有機処理剤、水および/もしくは親水性溶媒を含む溶媒、を含有してもよい。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料を構成する複合粒子は、金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を含む。すなわち、複合粒子のコアとなる金属粒子の表面に1層以上の酸化金属被覆が形成されている。酸化金属被覆は、通常層状の構造を有する。
金属粒子は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本願第1発明第2態様における金属粒子は、アルミニウム又はアルミニウム合金を含有することが好ましい。
金属粒子の平均粒径は、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)等を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉等の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、制御することができる。
金属粒子の平均厚みは、後述する複合粒子の平均厚みをもたらすことができるような厚みであることが好ましく、具体的には10-110nmであることが好ましい。これにより、複合粒子の凝集や変形が効果的に抑制され、塗膜における優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を実現することが容易となる。金属粒子の平均厚みは、上記観点から、好ましくは15~100nmであり、より好ましくは20~80nmである。
金属粒子の平均厚みは、体積基準D50と同様に、後述する複合金属顔料の製造方法において、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第1発明第2態様の複合金属顔料を構成する複合粒子は、金属粒子の表面上に形成された酸化金属被覆を有する。
酸化金属被覆は、酸化金属を含む層により構成される皮膜であり、金属粒子表面の全面に形成されていてもよく、表面の一部にのみ形成されていてもよい。
酸化金属被覆は、その全てが酸化金属で構成されていてもよく、その一部のみが酸化金属で構成され、酸化金属以外の成分を含有していてもよい。
したがって、酸化金属は、酸素と少なくとも1種の金属元素のみをその構成元素とする狭義の酸化金属であってもよいが、酸素と少なくとも1種の金属元素とをその構成元素に含む限りにおいて、当該酸素及び金属元素以外の元素をその構成元素に含んでいてもよく、例えば金属の水酸化物、酸化物水和物、酸窒化物等であってもよい。また有機基を含む化合物であってもよい。
また酸化金属は、構成元素としての金属元素が1種類のみであるいわゆる単独酸化物であってもよく、また2種以上の金属元素を構成元素とする複合酸化物であってもよい。
酸化金属の構成元素はである少なくとも1種の金属元素は、典型金属であってもよく、遷移金属であってもよい。さらにはいわゆる半金属元素であってもよい。中でもケイ素を構成元素とする酸化金属は、酸化金属被覆を構成する酸化金属として特に好適である。
酸化金属被覆にケイ素酸化物を使用することで、酸化金属被覆は通常、Si-O-結合(シロキサン結合)を含む化合物から構成される層となる。このような層としては、例えばシラン系化合物及びケイ素酸化物の少なくとも1種を含む層を挙げることができる。このような化合物としては、シラン系化合物[H3SiO(H2SiO)nSiH3](但し、nは任意の正の整数を示す。)のほか、SiO2、SiO2・nH2O(但し、nは任意の正の整数を示す。)等で示されるケイ素酸化物が例示される。これらのシラン系化合物及びケイ素酸化物は、結晶質又は非晶質のいずれでも良いが、特に非晶質であることが好ましい。従って、ケイ素酸化物(シリカ等)を含む層として、例えば非晶質シリカを含む層も好適に採用することができる。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料は、これを構成する金属粒子及び複合粒子が以下の物性要件を満たすことを特徴とする。
(1)レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準の平均粒子径D50が3~20μmであること。
(2)複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmであること。
(3)複合粒子に占める凝集の無い一次粒子の割合が個数基準で35%以上であること。
(4)複合粒子に占める折れ曲がった複合粒子の割合が個数基準で10%以下であること。
以下、これらの物性要件の各々について説明する。
レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準の平均粒子径D50は、3~20μmである。これにより、粒子の凝集や変形が効果的に抑制されるとともに、複合金属顔料又はそれを含有する金属顔料組成物を用いて形成された塗膜が、優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を実現し得る。この体積基準のD50は、一般にメディアン径とも称される。
優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を得る観点から、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、好ましくは4~15μm、より好ましくは5~12μmである。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここで、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、体積累積粒度分布における累積度50%の粒子径を指す。レーザー回折式粒度分布計としては、特に限定されないが、「LA-300」(株式会社堀場製作所製)などを使用することができる。測定溶剤としては水、イソプロパノール、メトキシプロパノール等の親水性溶剤が使用され得る。例えば、試料の複合粒子を含む複合金属顔料に対し、前処理として2分間程度の超音波分散を行った後、分散槽の中に投入し適当に分散されたことを確認後、D50を測定することができる。
複合金属顔料を構成する複合粒子の体積基準のD50は、後述する複合金属顔料の製造方法において、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径および仕込み量、ミネラルスピリット等の摩砕溶剤量、摩砕助剤の種類及び量、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量および投入量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、ならびに、酸化金属被覆(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、有機ケイ素化合物等の原料の加水分解時のpH、濃度、攪拌温度、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
また酸化金属被覆処理時の凝集によって粒子径が肥大する傾向があるが、粒子肥大は色調低下、隠蔽性低下、塗膜外観の低下を招くため、特に処理に用いる原料アルミペーストの前処理により粒子肥大を防ぐことが効果的である。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料に含まれる複合粒子の平均厚みは、15~160nmである。これにより、上記要件(1)及び(2)の充足と相俟って、複合粒子の凝集や変形が効果的に抑制され、塗膜における優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を実現することができる。
複合粒子の平均厚みは、上記観点から、好ましくは20~130nmであり、より好ましくは25~110nmであり、さらにより好ましくは30~90mである。
この物性要件における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここでの複合粒子の平均厚みは、金属粒子の平均粒子厚み及び酸化金属被覆の厚みをそれぞれ測定し、これらから下式に従い計算することができる。
複合粒子の平均粒子厚み = 金属粒子の平均粒子厚み+酸化金属被覆の厚み×2
金属粒子の平均粒子厚みは、上記(2)にて説明した方法で測定することができる。
酸化金属被覆の厚みは、当業界において公知の方法で測定することができ、例えばSTEM(走査型透過電子顕微鏡)により測定することができる。より具体的には本願実施例に記載の方法で測定することができる。
複合金属顔料に含まれる複合粒子の平均厚みは、体積基準D50と同様に、後述する複合金属顔料の製造方法において、ならびに、ケイ素化合物含有層等の酸化金属被覆(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、原料アルミペーストの前処理、および有機ケイ素化合物等の原料の加水分解時のpH、濃度、攪拌温度、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。また酸化金属被覆処理時の凝集によって粒子径が肥大する傾向があるが、粒子肥大は色調低下、隠蔽性低下、塗膜外観の低下を招くため、特に処理に用いる原料アルミペーストの前処理により粒子肥大を防ぐことが効果的である。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料に含まれる複合粒子は、アスペクト比(平均粒径を平均厚みで割った形状係数)が30~700であることが好ましい。複合粒子のアスペクト比が30以上であることによって、より高い光輝感を得やすくなる。また、複合粒子のアスペクト比が700以下であることによって、複合粒子の機械的強度が維持され、安定した色調を得ることが容易になる。アスペクト比は50~600であることが好ましく、80~500であることがより好ましい。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料においては、複合金属顔料が含有する複合粒子全体に占める凝集の無い一次粒子の割合は、個数基準で35%以上である。一次粒子の割合が35%以上であることは、個々の粒子の凝集性が抑制されたことを意味し、一次粒子のみならず、凝集した粒子においてもその凝集の度合いがより小さなものとなる。これにより、複合金属顔料を用いて形成された塗膜が優れた意匠性、光沢、ブツの抑制を示すとともに、水性塗料における安定性等を向上することができる。
また、この様に個々の粒子の凝集性が抑制されることで、分散のための攪拌はマイルドなもので足るので、攪拌による粒子の変形を大幅に低減することができる。
複合粒子の集合体に占める凝集の無い一次粒子の割合は通常高いほど好ましく、特に上限は存在せず、100%となることが理想的である。
複合粒子の集合体に占める凝集の無い一次粒子の割合は、当業界において公知の方法で測定することができ、例えば金属粒子及びその表面上にある酸化金属被覆を有する複合粒子の集合体からなる金属顔料を用いて塗膜を形成し、その断面のFE-SEM像(電界放出型走査電子顕微鏡像)を取得して画像解析することにより、あるいは評価者が当該FE-SEM像中の一次粒子と凝集粒子の個数を数えることにより、測定することができる。より具体的には、本願実施例に記載の方法で測定することができる。
一方で、金属粒子上に酸化金属による被覆処理を行う前に、金属粒子に分散性向上のための前処理を行うことで、被覆処理時の粒子の凝集を抑制することが可能であり、これにより凝集の無い一次粒子の割合を大幅に増加させることができる。
例えば、原料となる金属粒子が溶剤に分散されて供給される場合には、当該溶剤を被覆処理に用いられる溶剤と同じ物に置換することにより、更に所望により一定時間の加温処理を行って溶剤を金属粒子表面に十分に馴染ませることにより、被覆処理時に発生する凝集を大幅に抑制することができる。更に、この際に少量の界面活性剤を添加することも、凝集の抑制に有効である。
複合金属顔料における複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合は、好ましくは10%以下であり、より好ましくは6%以下であり、さらにより好ましくは3%以下である。この割合は少なければ少ないほど良いが、完全にゼロにするのは容易ではない。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料においては、複合金属顔料が含有する複合粒子全体に占める折れ曲がった複合粒子の割合が10%以下である。これにより、上記の要件(1)から(3)の充足と相俟って、複合金属顔料を用いて形成された塗膜が優れた意匠性、光沢、ブツの抑制を示すとともに、水性塗料における安定性等を向上することができる。
複合粒子の集合体に占める折れ曲がった複合粒子の割合は、少なければ少ないほど良い。この割合は、好ましくは6%以下であり、より好ましくは3%以下である。折れ曲がった複合粒子の割合は低いほど好ましいので、特にその下限は存在しないが、理想的には0%である。
複合金属顔料における折れ曲がった複合粒子の割合は、主に、酸化金属被覆(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、原料アルミペーストの分散性向上のための前処理、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無等)などを適宜調整することによって、制御することができる。
さらには原料アルミペーストの前処理により、反応時の粒子自体の分散性を向上させることにより、分散のための攪拌はマイルドなもので足るので、攪拌による粒子の変形を大幅に低減することができる。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料に含まれる複合粒子の被覆層については、少なくとも1層の酸化金属被覆を有すること以外は特に限定されないが、当該酸化金属被覆以外の被覆層(以下「第2被覆層」という)を必要に応じて形成することもできる。
第2被覆層は、例えば、金属(アルカリ金属;アルカリ土類金属;マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀などの金属等)、金属酸化物(酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄等)、金属水和物、及び樹脂(アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース樹脂、フッ素樹脂などの合成樹脂等)の少なくとも1種を含んでなるものであることが好ましい。第2被覆層として、例えば、モリブデン含有被膜、リン酸化合物被膜等を形成することができる。第2被覆層を設けることによって、金属粒子の耐食性を向上させると共に、ケイ素化合物含有層等の酸化金属被覆の形成を促進することができる。
別の変形形態では、第2被覆層は、金属粒子およびケイ素化合物含有層等の酸化金属被覆の外側に形成され得る。また更なる別の変形形態では、第2被覆層の構成成分(モリブデン含有化合物やリン酸化合物など)は、ケイ素化合物含有層等の酸化金属被覆中にケイ素化合物等と共に包含され得る。
また、複合粒子の酸化金属被覆および/または第2被覆層中に、あるいは別途の層として、貯蔵安定性の観点から、無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含有してもよい。
これらの化合物は、特に限定されないが、例えば特開2019-151678号公報に開示されているものを用いることができる。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料は、例えば、水および/親水性溶媒を含む溶媒を用いた攪拌下において、金属粒子に酸化金属被覆を形成する工程を含む製造方法によって好適に製造することができる。
以下に、酸化金属被覆がケイ素化合物含有層である場合を例に具体的な方法について説明するが、本願第1発明第2態様による複合金属顔料を製造する方法は、これに限定されるわけではない。当業者は、以下の記載を参考に、ケイ素化合物含有層以外の酸化金属被覆も適切に形成することが可能である。
なお、本願第1発明第2態様による複合金属顔料を製造するにあたっては、後述する前処理を行うことが好ましい。
ここでは、(a)金属粒子としてアルミニウム粉末を用いる場合を例に挙げて説明する。
アルミニウム粉末は、一般的には、アトマイズドアルミニウム粉および/またはアルミニウム箔を乾式ボールミル法、湿式ボールミル法、アトライター法、スタンプミル法等の顔料業界で常用されている方法を用い、粉砕助剤や不活性溶剤の存在下で粉砕して、いわゆる鱗片状にし、さらにこの工程後、篩分(分級)、ろ過、洗浄、混合等の必要とする工程を経て得られる。
ここでの粉砕助剤の例としては、脂肪酸、脂肪族アミン、脂肪族アミド、脂肪族アルコール等が挙げられる。一般には、オレイン酸、ステアリン酸、ステアリルアミン等が好ましい。また、不活性溶剤の例としては、ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、トルエン、キシレン等の疎水性を示すものが挙げられ、これらを単独または混合して使用することができる。粉砕助剤および不活性溶剤は、これらに限定されるものではない。
粉砕工程としては、粉塵爆発を防止し安全性を確保する観点から、湿式ボールミル法による粉砕が好ましい。
本願第1発明第2態様による複合金属顔料は、上述の様に金属粒子に酸化金属被覆を形成する工程を含む製造方法によって好適に製造することができるが、酸化金属被覆を形成する工程に先立ち、当該工程における粒子の分散性を向上させるために前処理を行うことが好ましい。
これにより被覆処理時の粒子の凝集を抑制することが可能であり、その結果得られる複合粒子の分散性も良好なものとなり、凝集の無い一次粒子の割合を大幅に増加させることができる。
より具体的な前処理としては、原料となる金属粒子が不活性溶剤に分散されて供給される場合には、当該溶剤を被覆処理に用いられる溶剤と同じ物に置換することができる。更に所望により一定時間の加温処理を行って溶剤を金属粒子表面に十分に馴染ませることにより、被覆処理時に発生する凝集を大幅に抑制することができる。加熱処理温度は30~60℃程度が好ましく、処理時間は3時間~7日間の間で最適化するのが好ましい。被覆処理を行う工程ではエタノール、イソプロパノール、メトキシプロパノール等の親水性溶剤が好ましく用いられるので、前処理においても反応に用いられるのと同じ親水性溶剤が好ましく用いられる。
更に、この際に少量の界面活性剤を添加することも、前処理による凝集の抑制に有効である。界面活性剤としては、特に制限されるものではないが、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が好ましく、ノニオン系界面活性剤を用いることが特に好ましい。
超音波処理は、特に限定されないが、通常10~1000W,好ましくは50~800Wで、通常20秒~10分、好ましくは30秒~5分程度行うことができる。
このような金属粒子の事前分散は、通常は10~80℃、好ましくは15~60℃、最も好ましくは室温前後(20~40℃程度)にて行うことができる。また、金属粒子の事前分散は、(超音波処理を行う場合はそれも含めて)5分~2時間の間、好ましくは10分~1時間の間行うことができる。
続いて、ケイ素化合物含有層を形成する工程を実施することができる。ケイ素化合物含有層の形成工程の好ましい形態等の詳細は、第1態様と関連して上記にて説明したものと同様である。
本願第1発明第2態様の複合金属顔料を構成する複合粒子は、酸化金属被覆、好ましくはケイ素化合物含有層、に加えて、それ以外の被覆層(第2被覆層)、好ましくは金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂から選ばれる少なくとも1種を含んでなる被覆層、をさらに有することが好ましい。第2被覆層の形成工程等の好ましい形態等の詳細は、第1態様に関連して上記にて説明したとおりである。
金属粒子にケイ素化合物含有層等の酸化金属被覆(及び任意選択で第2被覆層)を形成する工程が終了した後は、得られた複合粒子を回収することができる。回収にあたり、必要に応じて、洗浄、固液分離等の公知の処理を実施することもできる。例えば、有機溶剤を用いて分散液を洗浄した後にフィルターを用いて濾過し、複合粒子を含有するケーキから水と未反応物を除去することが好ましい。また、その後、必要に応じて、複合粒子を含有するケーキを例えば100~500℃の範囲の温度で加熱処理しても良い。このように回収された複合粒子は、後述のとおり、通常、製造過程で用いられた少量の水/親水性溶媒を含む溶媒が残存し同伴した複合金属顔料(以下、「金属顔料組成物」ともいう。)を構成し得る。
上述のようにして得られた複合金属顔料は、金属粒子及びその表面上にある1層以上の酸化金属被覆を含む複合粒子を含み、また、固形分(不揮発分)の残分として、未反応の有機ケイ素化合物、第2被覆層を形成する化合物、これら由来のオリゴマーまたはポリマー等を含む場合があり、さらに製造過程で用いられた水/親水性溶媒などの溶媒を通常含む、金属顔料組成物を成していると捉えられる。
金属顔料組成物には、通常、有機ケイ素化合物(例えば、上記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の少なくとも一種と、上記一般式(2)、(3)及び(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤、並びにそれらの部分縮合物から選ばれる少なくとも一種)の加水分解物及び/又はその縮合物であるケイ素化合物が、金属粒子100質量部に対して、加水分解/縮合反応が完了した状態換算で0.02から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の第2被覆層を形成する化合物(第2被覆層としてモリブデン含有被膜を形成する任意選択の態様にあってはモリブデン含有化合物、例えば混合配位型ヘテロポリアニオン化合物)が、金属粒子100質量部に対して、0.01から10質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の有機オリゴマーまたはポリマーが、金属粒子100質量部に対して、0.01から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種が、金属粒子100質量部に対して、0.01から20質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、製造過程で用いられた水/親水性溶媒を含む溶媒が存在し得る。水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、例えば、金属顔料組成物の0.5~95質量%であってよい。あるいは、水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、金属顔料組成物の1~90質量%、または2~80質量%、または5~70質量%であってよい。
本願第1発明第2態様の複合金属顔料は、有機溶剤系の塗料、インキ等に用いることができる。また、この複合金属顔料は、水を主とする媒体中に塗膜形成成分(バインダー)である樹脂類が溶解又は分散している水性塗料若しくは水性インキに加えることにより、メタリック水性塗料若しくはメタリック水性インキとすることができる。また、複合金属顔料は、樹脂等と混練して耐水性のバインダー、フィラーとして用いることもできる。酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤は、複合金属顔料を水性塗料若しくは水性インキ、又は樹脂等に配合する際に添加してもよい。
これらの樹脂類は水に乳化、分散あるいは溶解することが好ましい。そのために、樹脂類に含まれるカルボキシル基、スルホン基などを中和することができる。
必要に応じて、メラミン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ウレタンディスパージョンなどの樹脂を併用することができる。更には一般的に塗料に加えられる無機顔料、有機顔料、体質顔料等の着色顔料、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、分散剤、沈降防止剤、レベリング剤、増粘剤、消泡剤と組み合わせてもよい。塗料への分散性を良くするために、更に界面活性剤を添加してもよいし、塗料の保存安定性を良くするために、更に酸化防止剤、光安定剤、及び重合禁止剤を添加してもよい。
各塗膜層における塗料組成物の硬化方法は、熱硬化であっても良いし、常温硬化であっても良い。また、各塗膜層の塗料組成物の乾燥方法は、例えば熱風を用いても良いし、常温における自然乾燥であっても良い。
本願第2発明は、金属粒子がポリシロキサンの層で被覆されている複合粒子から成る(複合)金属顔料であって、
1)ポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であり、及び
2)複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、
前記(複合)金属顔料、である。
本願第2発明の金属顔料は、該金属顔料を不揮発分として12g、メトキシプロパノール18g、水性アクリル樹脂110g、メラミン樹脂18g、及び水12gを含有する水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下であることが好ましい。
本願第2発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する金属顔料組成物において好ましく用いられる。
本願第2発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する水性塗料組成物において好ましく用いられる。本願第2発明の金属顔料は、水性メタリック塗料において特に好ましく用いられ、該金属顔料を含有する水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生は、10ml以下であることが好ましい。
本願第2発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する水性インキ組成物において好ましく用いられる。
本願第2発明の金属顔料は、該金属顔料を含有する塗膜において好ましく用いられる。
以下、第2発明の詳細について説明する。
1)ポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であること。
2)複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下であること。
本願第2発明の金属顔料を構成する複合粒子は、金属粒子及びその表面上に形成されたポリシロキサン層を含む。
金属粒子は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本願第2発明における金属粒子は、アルミニウム又はアルミニウム合金を含有することが好ましく、95質量%以上がアルミニウム元素で構成されるものがより好ましい。
金属粒子の平均粒径は、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)等を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉等の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、制御することができる。
金属粒子の厚みや形状も特に制限されないが、その平均粒子厚みが10-400nm、より好ましくは10-300nm、の鱗片状(フレーク状)であることが望ましい。これにより、本願第2発明による複合金属顔料を構成する複合粒子も鱗片状の形状を容易に有することができる結果、高い隠ぺい力等をより確実に得ることができる。
金属粒子の平均厚みは、後述する複合粒子の平均厚みをもたらすことができるような厚みであることが好ましく、具体的には20-400nmであることが好ましい。これにより、複合粒子の凝集や変形が効果的に抑制され、塗膜における優れた意匠性、光沢、ブツの抑制、水性塗料における安定性等を実現することが容易となる。金属粒子の平均厚みは、上記観点から、好ましくは25~350nmであり、より好ましくは30~300nmである。
金属粒子のアスペクト比(平均粒径を平均厚みで割った形状係数)は、20~400であることが好ましく、30~350であることがより好ましく、40~300であることが特に好ましい。金属粒子のアスペクト比が20以上であることによって、より高い光輝感を得ることができる。また、金属粒子のアスペクト比が400以下であることによって、フレークの機械的強度が維持され、安定した色調を得ることができる。
金属粒子の平均厚みは、体積基準D50と同様に、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度などを適宜調整することによって、制御することができる。
本願第2発明の金属顔料に含まれる複合粒子は、金属粒子を中心とし、金属粒子をポリシロキサンで被覆した構造をとる。
また、ポリシロキサンは、有機ケイ素化合物(シランカップリング剤を含む)を出発原料として形成されてもよい。この場合、本願第2発明の効果を妨げない範囲内において、有機ケイ素化合物又はその由来成分を含んでいてもよい。典型例では、ポリシロキサンは、有機ケイ素化合物を加水分解することによって形成され得る。
ポリシロキサンの層は、本願第2発明の特性を損なわない範囲において、ケイ素化合物以外の添加物、不純物等を含んでいてもよい。
本願第2発明のポリシロキサンの好ましい例等の詳細は、第1発明第1態様における「有機ケイ素化合物」の好ましい形態として説明したシロキサン結合を有する化合物と同様である。
従来技術では、複合粒子の被覆層を構成するポリシロキサン層におけるポリシロキサンの構造までは制御されておらず、Si原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体、3つの結合を有するQ3構造体、2つの結合を有するQ2構造体、1つの結合を有するQ1構造体がランダムに存在すると想定される。このため、金属顔料に含まれる複合粒子の機械的安定性が十分ではない。
本願第2発明の金属顔料に含まれる複合粒子の組成のXPSによる確認方法について、金属粒子としてアルミニウムを用いた場合を例としてその方法を述べる。金属粒子としてアルミニウムを用いた場合、本願第2発明の複合金属粉粒子の表面上あるいは表面から数nm近傍には、ポリシロキサンを構成するケイ素及びアルミニウム(含む酸化物などのアルミニウム化合物)が存在する。これら2種の元素の割合は、XPSにより相対元素濃度を測定することにより確認することができる。
・測定装置:アルバックファイ Versa probeII
・励起源:mono.AlKα 20kV×5mA 100W
・分析サイズ:100μmφ×1.4mm 100μmφのX線ビームを1.4mm幅で振動
・光電子取り出し角:45°
・取り込み領域
Survey scan:0~1100eV
Narrow scan:Al 2p、Si 2p、O 1s、C 1s
・パスエネルギー
Survey scan:117.4eV
Narrow scan:46.95eV
本願第2発明における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここで、複合粒子の平均アスペクト比を算出するための平均粒径は、メディアン径と称される体積基準D50であり、この点について、及び、複合粒子の平均アスペクト比を算出するための平均厚みに関する説明は後述する。
このような高い光輝度、高いフリップフロップ感、高い隠蔽性および個々の粒子の小さい凝集性を得る観点から、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、このましくは下限値としては1μm以上で、より好ましくは2μm以上、更に好ましくは3μm以上あり、上限値としては30μm以下が好ましく、より好ましくは25μm以下、更に好ましくは20μm以下である。
本願第2発明における「複合粒子」は、複数の複合粒子が凝集・固着している場合にはその凝集物(集合体)を指す。
ここで、レーザー回折式粒度分布計にて複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50は、体積累積粒度分布における累積度50%の粒径を指す。レーザー回折式粒度分布計としては、特に限定されないが、例えば「LA-300」(株式会社堀場製作所製)を使用することができる。測定溶剤としてはイソプロパノールやミネラルスピリットが使用され得る。例えば、試料の複合粒子を含む金属顔料に対し、前処理として2分間の超音波分散を行った後、分散槽の中に投入し適当に分散されたことを確認後、D50を測定することができる。
ここでの複合粒子の平均厚みは、複合粒子の水面拡散面積および密度から算出することができる。水面拡散面積は、リーフィング現象を利用して乾燥した複合粒子を水面上に均一に拡散し、すきまのない状態に被覆したとき、単位質量当たりの乾燥複合粒子が占める面積を指す。水面拡散面積の計測は、JIS K5906:1998の規定に従って行うことができる。
但し、本願第2発明の複合粒子では、表面の親水性が強い場合は上記水面拡散面積を求めることが困難な場合がある。この場合は、後述する実施例にて説明された方法に従って複合粒子の平均厚みを測定することができる。すなわち、複合粒子をメトキシプロパノール等のアルコール系溶媒及び水の混合物に分散させた金属顔料を用いて被膜(薄膜)を形成し、走査電子顕微鏡(SEM)にて複合粒子(50個以上、好ましくは100個以上)の厚みを観察することで複合粒子の平均厚みを求めることができる。
金属顔料に含まれる複合粒子の平均厚みは、体積基準D50と同様に、後述する金属顔料の製造方法において、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えばアルミニウム粉)を磨砕および篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの質量、磨砕装置の回転数、篩分およびフィルタープレスの程度等を適宜調整することによって、ならびに、ポリシロキサンの層(および必要に応じてその他の被覆層)を被覆する工程で、用いる有機ケイ素化合物の種類、被覆工程(有機ケイ素化合物を加水分解させて用いる場合は、その工程も含む)でのpH、濃度、攪拌温度、攪拌時間、攪拌装置の種類、攪拌の動力/程度(例えば、攪拌翼の種類および直径、回転数、外部攪拌の有無)等を適宜調整することによって、制御することができる。
その他の被覆層としては、例えば、金属(アルカリ金属;アルカリ土類金属;マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀等の金属)、金属酸化物(酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄等)、金属水和物、及び樹脂(アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース樹脂、フッ素樹脂等の合成樹脂)の少なくとも1種を含んでなるものであってよい。その他の被覆層として、例えば、モリブデン含有被膜、リン酸化合物被膜等を形成することができる。その他の被覆層を設けることによって、金属粒子の耐食性を向上させられる。
その他の被覆層は、金属粒子とポリシロキサンの層との間に形成されることが好ましい。従って、例えば「金属粒子/その他の被覆層/ポリシロキサンの層」という層構成を好適に採用することができる。特に限定されないが、モリブデン含有被膜の例としては、特開2003-147226号公報、国際公開第2004/096921号パンフレット、特許第5979788号、特開2019-151678号公報に開示されたものを挙げることができる。リン酸化合物被膜の例としては、特許第4633239号に開示されたものを挙げることができる。モリブデン含有被膜を構成するモリブデン含有物の好ましい例としては、特開2019-151678号公報に開示された混合配位型ヘテロポリアニオン化合物が挙げられる。
別の変形形態では、その他の被覆層は、金属粒子およびポリシロキサンの層の外側に形成され得る。また更なる別の変形形態では、ポリシロキサンの層の構成成分(モリブデン含有化合物やリン酸化合物等)は、ポリシロキサンの層中にケイ素化合物と共に包含され得る。
また、複合粒子のポリシロキサンの層および/またはその他の被覆層中に、あるいは別途の層として、貯蔵安定性の観点から、無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含有してもよい。
これらの化合物は、特に限定されないが、例えば特開2019-151678号公報に開示されているものを用いることができる。
本願第2発明による金属顔料は、例えば、顔料業界で常用されている方法を用いて鱗片状の金属粒子とし、この工程後、篩分(分級)、ろ過、洗浄、混合等の工程を経て金属粒子を製造し、次いで、水および/親水性溶媒を含む溶媒を用いた攪拌下において、被覆層を形成する工程を含む製造方法によって好適に製造することができる。より具体的には、以下の方法が挙げられるが、これに限定されるわけではない。
本願第2発明による金属顔料は、例えば、(a)金属粒子、(b)有機ケイ素化合物の少なくとも1種を含むケイ素含有原料、(c)溶媒(水および/または親水性溶媒)、並びに必要に応じて他の任意成分を含む混合液において、有機ケイ素化合物を加水分解/(部分)縮合反応させることによって金属粒子の表面にポリシロキサン層を形成する工程(ポリシロキサン層形成工程)を含む方法によって好適に製造することができる。この工程は、通常攪拌下で実施され得る。
ここでは、金属粒子としてアルミニウム粉末を用いる場合を例に挙げて説明する。
アルミニウム粉末は、一般的には、アトマイズドアルミニウム粉および/またはアルミニウム箔を乾式ボールミル法、湿式ボールミル法、アトライター法、スタンプミル法等の顔料業界で常用されている方法を用い、粉砕助剤や不活性溶剤の存在下で粉砕して、いわゆる鱗片状にし、さらにこの工程後、篩分(分級)、ろ過、洗浄、混合等の必要とする工程を経て得られる。
ここでの粉砕助剤の例としては、脂肪酸、脂肪族アミン、脂肪族アミド、脂肪族アルコール等が挙げられる。一般には、オレイン酸、ステアリン酸、ステアリルアミン等が好ましい。また、不活性溶剤の例としては、ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、LAWS、HAWS、トルエン、キシレン等の疎水性を示すものが挙げられ、これらを単独または混合して使用することができる。粉砕助剤および不活性溶剤は、これらに限定されるものではない。
粉砕工程としては、粉塵爆発を防止し安全性を確保する観点から、湿式ボールミル法による粉砕が好ましい。
上述の(a)金属粒子、(b)有機ケイ素化合物の少なくとも1種を含むケイ素含有原料、および(c)溶媒、並びに必要に応じて他の任意成分を含む混合液は、これらの成分を混合することにより調製することができる。混合の順序は特に限定されない。
上記式(1)で表される有機ケイ素化合物(典型例としてはテトラアルコキシシラン)および/またはその縮合物、ならびに上記式(2)~(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤の少なくとも1種を好適に用いることができる。
以降では、上記式(1)で表される有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシランを用いる場合を例に挙げて説明する。なお、以下では、テトラアルコキシシランおよび/またはその縮合物を単に「テトラアルコキシシラン」とまとめて称する場合がある。
反応温度は10~55℃の範囲で行うことが好ましく、15~50℃の範囲がより好ましく、20~45℃の範囲が更に好ましい。
上記したような条件の中でも金属粒子の種類によって腐食が生じず、適切な被覆状態となるように、触媒量や温度に加えて反応時間を適宜調整することが望ましい。
上述のとおり、その他の被覆層は、(形成される場合には)特に金属粒子とポリシロキサンの層との間に形成されることが好ましい。従って、「金属粒子/その他の覆層/ポリシロキサンの層」という層構成を好適に採用することができる。
その他の被覆層は、特に限定されないが、モリブデン含有被膜、リン酸化合物被膜等であってよい。モリブデン含有被膜を構成するモリブデン含有物の好ましい例としては、特開2019-151678号公報に開示された混合配位型ヘテロポリアニオン化合物が挙げられる。混合配位型ヘテロポリアニオン化合物を含め、その他の被覆層の構成成分の例については上述したとおりである。
以降では、金属粒子とポリシロキサンの層との間にその他の被覆層としてモリブデン含有被膜を形成する態様を例に挙げて説明する。
金属粒子表面にモリブデン含有被膜を形成する方法としては、特に限定されず、水系溶媒中に金属粒子とモリブデン化合物とを含む混合液を均一に撹拌することのできる方法であれば良い。例えば、金属粒子とモリブデン化合物を含む混合液をスラリー状態又はペースト状態で撹拌又は混練することにより、金属粒子表面にモリブデン含有被膜を形成することができる。混合液中においては、モリブデン化合物は溶解していても、あるいは分散していても良い。
本願第2発明に係る金属顔料の製造においては、少なくとも複合粒子の被覆層、典型的にはポリシロキサン層の形成工程を攪拌下で実施することが望ましい。また、本願第2発明に係る金属顔料の製造においては、ポリシロキサン層の形成工程だけでなく、その他の被覆層の形成工程も、攪拌下で実施することが好ましい。上述の金属粒子の事前分散を行う態様においては、これも攪拌下で実施することがより好ましい。また、本願第2発明に係る金属顔料の製造においては、金属粒子の事前分散、その他の被覆層の形成工程、ポリシロキサン層の形成工程を含めて全行程を攪拌下で実施することが更に好ましい。
以下に述べる攪拌条件の説明は、本願第2発明に係る金属顔料の製造におけるいずれの工程にも当てはまり得る。
これらの攪拌機の中でも、攪拌翼(インペラ)によって攪拌する攪拌槽型の装置を用いることが好ましい。攪拌翼によって、液相を含む反応系全体を流動させる循環作用と共に、圧力剪断作用を発揮する結果、複合粒子の凝集の生成をより効果的に抑制することができる。
攪拌速度は、攪拌によって生じる渦(ボルテックス)により攪拌翼が露出しない程度で攪拌されることが好ましい。また、攪拌により生じる渦を抑えるために、円筒型槽、角型槽又は邪魔板を設置した槽等を好適に用いることができる。
ポリシロキサンによる表面被覆工程が終了した後は、複合粒子を回収することができる。回収にあたり、必要に応じて、洗浄、固液分離等の公知の処理を実施することもできる。例えば、得られたスラリーを水/有機溶媒(好ましくは親水性溶媒)によって洗浄した後にフィルターを用いて濾過し、被覆済みの複合粒子を含有するスラリーから水と未反応物を除去することが好ましい。また、その後、必要に応じて、濾過済みのスラリーを例えば100~500℃の範囲の温度で加熱処理してもよい。このように回収された複合粒子は、後述のとおり、通常、製造過程で用いられた水/有機溶媒を含む溶媒が残存・同伴した金属顔料を構成し得る。
上述のようにして得られた本願第2発明の金属顔料は、金属粒子(及び存在する場合には表面改質剤)ならびにその表面上にあるポリシロキサンの被覆を含む複合粒子を含み、また、固形分(不揮発分)の残分として、製造過程で用いられた水/有機溶媒(好ましくは親水性溶媒)等の溶媒を含む金属顔料組成物の形態で得られる。
金属顔料組成物には、通常、有機ケイ素化合物(例えば、上記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の少なくとも一種と、上記一般式(2)、(3)及び(4)のいずれかで表されるシランカップリング剤、並びにそれらの部分縮合物から選ばれる少なくとも一種)の加水分解物及び/又はその縮合物であるケイ素化合物が、金属粒子100質量部に対して、加水分解/縮合反応が完了した状態換算で0.02から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の有機オリゴマーまたはポリマーが、金属粒子100質量部に対して、0.01から50質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、任意選択の無機リン酸類及びその塩類、並びに酸性有機(亜)リン酸エステル類及びその塩類よりなる群から選ばれる少なくとも1種が、金属粒子100質量部に対して、0.01から20質量部存在し得る。
金属顔料組成物には、上記成分(不揮発分)の残分として、製造過程で用いられた水/親水性溶媒を含む溶媒が存在し得る。水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、例えば、金属顔料組成物の0.5~95質量%であってよい。あるいは、水/親水性溶媒を含む溶媒の量は、金属顔料組成物の1~90質量%、または2~80質量%、または5~70質量%であってよい。
酸化防止剤としては、フェノール系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物に代表されるものを使用することができる。
光安定剤としては、先述した酸化防止剤として使用されるものも使用可能であるが、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリチレート系化合物、シアノアクリレート系、蓚酸誘導体、ヒンダードアミン系化合物(HALS)、ヒンダードフェノール系化合物に代表されるものを使用することができる。
本願第2発明の金属顔料組成物の水分率は、質量基準で金属顔料組成物に対して0ppm以上、2000ppm以下であることが望ましい。このような水分率とすることで、金属顔料組成物を金属容器に入れて封をしたような梱包体の中の金属顔料組成物の複合粒子の凝集や色調変化の進行をより一層抑制することができる。水分率は1000ppm以下であることがより好ましく、500ppm以下であることが更に好ましく、300ppm以下であることが特に好ましい。水分率の下限値はなく、低ければ低いほど良い。
これらの洗浄や固形分調整に用いる有機溶剤の水分率は2000ppm以下が好ましいが、より好ましくは1000ppm以下であり、更に好ましくは500ppm以下であり、300ppm以下であることが特に好ましい。
本願第2発明の金属顔料組成物はpHが5~9の範囲であることが好ましい。この範囲のpHとすることで、梱包体中の金属顔料組成物の複合粒子の凝集や色調変化の進行を抑制することができる。金属顔料組成物のpHは6~8の範囲であることがより好ましく、6.5~7.5の範囲であることが更に好ましい。
このような金属顔料組成物のpHとするためには、金属粒子にポリシロキサンの層(及び/又は、任意選択でその他の被覆層)を形成する工程が終了した後に、十分量の有機溶剤にて洗浄、固液分離等の公知の処理を繰り返し行い、被覆層を形成させる際に用いた触媒等の極性化合物を十分洗浄・除去することが望ましい。
本願第3発明は、
金属顔料(組成物)の製造方法であって、前記製造方法が、攪拌槽型反応機を用いて、下記工程(1)~(3)を含み、
(1)金属粒子を溶媒に分散させる工程、
(2)金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程、及び
(3)ろ過・洗浄する工程、
前記攪拌槽型反応機が、
反応槽の容積が100L以上であり、
反応槽の直径と攪拌翼の最大直径との比が0.2~1.0の範囲であり、かつ、前記反応槽の内面と前記攪拌翼の先端との最短距離が10mm以上であり、及び
前記攪拌翼の攪拌時の先端速度が1~20m/秒である、
前記製造方法、である。
以下、本願第3発明の詳細について説明する。
本願第3発明の金属顔料(「金属顔料組成物」ともいう。)の製造方法においては、攪拌槽型反応機を用いる。攪拌槽型反応機は、攪拌翼(インペラ)によって攪拌する攪拌槽型の装置である。攪拌翼によって、液相を含む反応系全体を流動させる循環作用と共に、圧力剪断作用を発揮する結果、複合粒子の凝集の生成をより効果的に抑制することができる。
攪拌Re数=(ρ×n×d2)/μ
(式中、ρは25℃における攪拌対象の混合液の密度(kg/m3)、nは攪拌回転数(rps)、dは攪拌翼直径(m)、μは25℃における攪拌対象の混合液の粘度(Pa・s)をそれぞれ示す。)
本願第3発明により製造される金属顔料組成物には複合粒子が含まれ、前記複合粒子は、金属粒子及びその表面に形成されている1層以上の被覆層を含む。すなわち、コアとなる金属粒子の表面に1層以上の被覆層が形成されている。
前記金属粒子(コア粒子)の材質は、特に限定されず、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、亜鉛、鉄、マグネシウム、ニッケル、銅、銀、錫、クロム、ステンレス鋼等のように、公知又は市販の金属顔料として使用されている金属のいずれであってもよい。本明細書において、金属顔料組成物に含まれる金属粒子の金属には、金属単体だけでなく、合金、金属間化合物も包含される。金属粒子は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
金属粒子の平均粒径は、ボールミル等を用いて原料アトマイズド金属粉(例えば、アルミニウム粉)を磨砕及び篩分・ろ過する工程で、原料アトマイズド金属粉の粒子径、ボールミルを用いる場合の磨砕ボールの1個あたりの比重、質量、磨砕装置の回転数、篩分及びフィルタープレスの程度等を適宜調整することによって、制御することができる。
本願第3発明により製造される金属顔料組成物に含まれる複合粒子は、複合粒子のコアとなる金属粒子の表面に形成された1層以上の被覆層を有する。前記被覆層のうちの少なくとも1層は、ケイ素化合物含有層である。被覆層のうちの少なくとも1層をケイ素化合物含有層とすることによって、水性塗料中でのガス発生を抑制することができ、良好な貯蔵安定性が得られ、また塗膜にしたときの耐水性に優れる。複合粒子の被覆層は、ケイ素化合物含有層以外に、他の被覆層(以下、「第2被覆層」と称する)を有していてもよい。このような第2被覆層については、更に後述する。
ケイ素化合物含有層は、特にSi-O-結合(シロキサン結合)を含む化合物から構成される層であることが望ましい。このような層としては、例えば、シラン系化合物及びケイ素酸化物の少なくとも1種を含む層を挙げることができる。このような化合物としては、シラン系化合物[H3SiO(H2SiO)nSiH3](但し、nは任意の正の整数を示す)のほか、SiO2、SiO2・nH2O(但し、nは任意の正の整数を示す)等で示されるケイ素酸化物が例示される。これらのシラン系化合物及びケイ素酸化物は、結晶質又は非晶質のいずれでも良いが、特に非晶質であることが好ましい。従って、ケイ素酸化物(シリカ等)を含む層として、例えば、非晶質シリカを含む層も好適に採用することができる。
本願第3発明により製造される金属顔料組成物に含まれる複合粒子の被覆層は、少なくとも1層がケイ素化合物含有層である以外は特に限定されないが、前記のケイ素化合物含有層以外の被覆層を必要に応じて形成することもできる。
本願第3発明の金属顔料組成物の製造方法は、以下の工程(1)~(3)を含む。
(1)金属粒子を溶媒に分散させる工程、
(2)金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程、及び
(3)ろ過・洗浄する工程。
工程(1)は、金属粒子を溶媒に分散させる工程である。凝集の少ない金属顔料組成物を得るために、本工程にて金属粒子及び溶媒を攪拌して、金属粒子を溶媒に十分に分散させる。また、後述する超音波処理を行ってもよい。
工程(2)は、攪拌下で、工程(1)の分散液に、有機ケイ素化合物の少なくとも1種を含むケイ素含有原料、及び必要に応じて他の任意成分を加えた混合液において、有機ケイ素化合物を加水分解/(部分)縮合反応させることによって金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程である。
工程(3)は、工程(2)で形成された複合粒子をろ過・洗浄を行い、回収する工程である。
ろ過には公知の方法を用いることができ、例えば、通常、工業的に用いられるロータリープレス、フィルタープレス等の加圧ろ過によるろ過装置や、ヌッチェ、ムーアフィルター等の真空ろ過装置等を用いることができる。洗浄はろ過の際に、溶剤や水をろ過物に加えて洗浄しても良いし、得られたろ過物を再度溶剤に分散させてろ過する作業を繰り返すことによって行ってもよい。
また、その後、必要に応じて、複合粒子を含有するケーキを例えば、100~500℃の範囲の温度で加熱処理しても良い。このように回収された複合粒子は、通常、製造過程で用いられた少量の水/親水性溶媒を含む溶媒が残存し同伴した金属顔料組成物を構成し得る。
[1a-1]
金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を有する複合粒子を含む金属顔料組成物であって、
(1)前記複合粒子の形状が鱗片状であり、
(2)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであり、
(3)前記複合粒子の平均厚みが20~300nmであり、
(4)前記被覆層の少なくとも1層がケイ素化合物含有層であり、
(5)折れ曲がった前記複合粒子の割合が10%以下であり、
(6)前記複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、前記複合粒子全体の個数に対して35%以下であることを特徴とする金属顔料組成物。
[1a-2]
レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~15μmであることを特徴とする[1a-1]記載の金属顔料組成物。
[1a-3]
前記金属粒子がアルミニウム又はアルミニウム合金である、[1a-1]または[1a-2]に記載の金属顔料組成物。
[1a-4]
金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂の少なくとも1種を含んでなる被覆層をさらに含む、[1a-1]~[1a-3]のいずれか1項に記載の金属顔料組成物。
[1a-5]
前記の少なくともケイ素化合物含有層が最外層として配置されている、[1a-1]~[1a-4]のいずれか1項に記載の金属顔料組成物。
金属粒子及びその表面上に形成された酸化金属被覆を有する複合粒子を含んでなる複合金属顔料であって、
(1)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準の平均粒子径D50が3~20μmであり、
(2)前記複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmであり、
(3)前記複合粒子に占める凝集の無い一次粒子の割合が個数基準で35%以上であり、
(4)前記複合粒子に占める折れ曲がった複合粒子の割合が個数基準で10%以下である、上記複合金属顔料。
[1b-2]
前記金属粒子の平均粒子厚みが10~110nmである、[1b-1]に記載の複合金属顔料。
[1b-3]
前記金属粒子がアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、[1b-1]又は[1b-2]に記載の複合金属顔料。
[1b-4]
前記複合粒子が金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂から選ばれる少なくとも1種を含んでなる被覆層をさらに有する、[1b-1]から[1b-3]のいずれか一項に記載の複合金属顔料。
[1b-5]
[1b-1]から[1b-4]のいずれか一項に記載の複合金属顔料を含有する、金属顔料組成物。
金属粒子がポリシロキサンの層で被覆されている複合粒子から成る複合金属顔料であって、
1)ポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であり、及び
2)複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、
前記複合金属顔料。
[2-2]
前記ポリシロキサン層の平均厚みが5~100nmである、[2-1]に記載の複合金属顔料。
[2-3]
(Si原子が1つの-O-Si-結合を有するQ1構造体比率×3)+(Si原子が2つの-O-Si-結合を有するQ2構造体比率×2)+(Si原子が3つの-O-Si-結合を有するQ3構造体比率)の合計で定義される親水度Aが10~80%である、[2-1]又は[2-2]に記載の複合金属顔料。
[2-4]
前記複合粒子の平均アスペクト比が20~400である、[2-1]~[2-3]のいずれか一項に記載の複合金属顔料。
[2-5]
水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下である、[2-1]~[2-4]のいずれか一項に記載の複合金属顔料。
[2-6]
[2-1]~[2-5]のいずれか一項に記載の複合金属顔料を含有する金属顔料組成物。
[2-7]
[2-1]~[2-5]のいずれか一項に記載の複合金属顔料を含有する水性塗料組成物。
[2-8]
[2-1]~[2-5]のいずれか一項に記載の複合金属顔料を含有する水性インキ組成物。
[2-9]
[2-1]~[2-5]のいずれか一項に記載の複合金属顔料を含有する塗膜。
金属顔料組成物の製造方法であって、前記製造方法が、攪拌槽型反応機を用いて、下記工程(1)~(3)を含み、
(1)金属粒子を溶媒に分散させる工程、
(2)金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程、及び
(3)ろ過・洗浄する工程、
前記攪拌槽型反応機が、
反応槽の容積が100L以上であり、
反応槽の直径と攪拌翼の最大直径との比が0.2~1.0の範囲であり、かつ、前記反応槽の内面と前記攪拌翼の先端との最短距離が10mm以上であり、及び
前記攪拌翼の攪拌時の先端速度が1~20m/秒である、
前記製造方法。
[3-2]
[3-1]に記載の製造方法であって、
工程(1)において、分散液中の金属粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.2倍以下であって、前記分散液中の金属粒子が溶媒に均一に分散され、
工程(2)において、表層及び底部に滞留部を作らないように攪拌し、
工程(3)の後に得られる金属顔料組成物に含まれる複合粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.3倍以下である、
前記製造方法。
[3-3]
工程(1)及び/又は(2)において、反応槽底部近傍より抜き出した処理液を反応槽上部より反応槽に戻して循環させる、[3-1]又は[3-2]に記載の製造方法。
[3-4]
工程(2)において、ケイ素含有原料及び触媒を投入した後に、反応槽と混合液の接液部近傍の反応槽内壁を、反応液又は溶媒で洗浄して付着物又は滞留物を減らす、[3-1]~[3-3]のいずれか一項に記載の製造方法。
[3-5]
工程(2)を2時間以上かけて行う、[3-1]~[3-4]のいずれか一項に記載の製造方法。
[3-6]
[3-1]~[3-5]のいずれか一項に記載の製造方法で得られた金属顔料組成物。
[3-7]
[3-1]~[3-5]のいずれか一項に記載の製造方法に用いる攪拌槽型反応機。
翼径0.5mの傾斜パドル型攪拌翼を2本、底面からそれぞれ0.3m、0.6mの位置に有する、直径1m、内容積が1m2の反応槽中で、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100」:平均粒径11μm、不揮発分74%)135kgに465kgのメトキシプロパノール(以下、「PM」と略す)を加え、混合物を100rpmで攪拌翼にて攪拌し、且つ、底部から抜き出した40L/分の分散液を反応槽上部から反応槽に戻す外部循環を行いながら、アルミペーストをPM中に均一に分散させた。外部循環では流路の途中にて500Wの超音波を1分間照射し、粒子の分散性を向上させた。
但し、表面の親水性が強く上記水面拡散面積を求めることが困難な場合は、後述する、複合粒子の凝集と変形の評価にて説明された方法と同様に、複合粒子をメトキシプロパノール及び水の混合物に分散させた金属顔料組成物を用いて被膜(薄膜)を形成し、走査電子顕微鏡(SEM)にて複合粒子(500個以上)の厚みを観察し、複合粒子の平均厚みを求めた。
上記アルミニウムペーストに代えてアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-4100」:平均粒径10μm、不揮発分74%)を用いた以外は実施例1と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
上記アルミニウムペーストに代えてアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「FD-5090」:平均粒径9μm、不揮発分75%)を用いた以外は実施例1と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
実施例1と同様の装置を用いて、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100」:平均粒径11μm、不揮発分74%)135kgに465kgのPMを加えて分散したスラリーを攪拌しながら、リンタングストモリブデン酸(H3PW6Mo6O40)水和物1kgをPM5kgに溶解した液を徐々に加え、スラリー温度を40℃に保ちながら1時間攪拌した。その後、冷却してからスラリーを濾過し、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼の直径を0.25mとし、回転数を100rpmとし、アルミニウムフレークの事前分散(初期分散)から反応終了まで、超音波を照射しながらの外部循環をしないこと以外は実施例1と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼の直径を0.25mとし、回転数を800rpmとし、アルミニウムフレークの事前分散(初期分散)から反応終了まで、超音波を照射しながらの外部循環をしないこと以外は実施例1と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
また、上記各実施例及び比較例で得られたアルミニウム顔料組成物を用いて、下記の組成で水性メタリック塗料を調製し、下記の方法で塗料としての評価を行った。なお、それらの結果を表1に示した。
以下の成分を有する水性メタリック塗料を調製した。
・アルミニウム顔料組成物:不揮発分として12.0g
・メトキシプロパノール:18.0g
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル(非イオン性界面活性剤、松本油脂製薬株式会社製、商品名「アクチノールL5」):6.0g
・精製水:12.0g
・水溶性アクリル樹脂(※1):110.0g
・メラミン樹脂(※2):18.0g
※1:三井化学(株)製、アルマテックスWA911
※2:日本サイテックインダストリーズ(株)製、サイメル350
上記成分を混合後、ジメチルエタノールアミンでpHを7.7から7.8に調整し、カルボン酸系増粘剤と精製水で粘度を650から750mPa・s(B型粘度計、No.3ロー、60回転、25℃にて測定)に調整した。
上記処方で調製された水性メタリック塗料を23℃で24時間放置後の状態の変化を目視で評価した。
○:特に変化が認められなかった。
△:アルミニウム顔料(複合粒子)の凝集が若干認められた。
×:アルミニウム顔料(複合粒子)の凝集が認められた。
上記処方で調製された水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を観察した。ガスの発生量に応じて下記のように評価し、塗料中の貯蔵安定性の指標とした。
○: 5ml未満
△: 5ml以上20ml未満
×: 20ml以上
上記処方で調製された水性メタリック塗料を、中塗り塗装がなされた12cm×6cmの鋼板に乾燥膜厚4μmとなるようにエアスプレー塗装し、90℃で10分間予備乾燥した後、有機溶剤型トップコート用塗料を、乾燥膜厚20μmとなるようにエアスプレー塗装し、140℃で30分間乾燥させて塗装版を作製し、輝度および隠蔽性の評価を行った。
有機溶剤型トップコート用塗料は、下記成分を混合しスパチュラで3~4分分散した後、フォードカップNo.4にて20.0秒に塗料粘度を調整して作成した。
・A345(DIC社製、アクリルクリヤー樹脂)420g
・L-117-60(DIC社製、メラミン樹脂)165g
・ソルベッソ100(エクソン化学(株)製、芳香族系溶剤)228g
輝度
関西ペイント株式会社製のレーザー式メタリック感測定装置アルコープLMR-200を用いて塗膜の輝度を評価した。光学的条件として、入射角45度のレーザー光源および受光角0度と-35度に受光器を有する。測定値としては、レーザーの反射光のうち、塗膜表面で反射する鏡面反射領域の光を除いて最大光強度が得られる受光角-35度でIV値を求めた。IV値は塗膜からの正反射光強度に比例するパラメーターであり、光輝度の大小を表す。判定方法は以下の通りである。
〇:比較例1からの低下幅が20未満であった。
△:比較例1からの低下幅が20以上40未満であった。
×:比較例1からの低下幅が40以上であった。
隠蔽性
PETシートに塗布した塗膜を目視で判定した。
○:基準(比較例1)と同等からやや低めであった。
△:基準(比較例1)より低めであった。
×:基準(比較例1)より大幅に低かった。
観察用の試験片作成のためには、まず、上記処方で調製された水性メタリック塗料をポリエチレンテレフタレート製フィルム(PETフィルム)上に9ミルアプリケーターで塗布し、室温にて20分静置後、140℃で20分の焼付けを行い塗板を作成した。この装板をハサミで2cm四方の大きさに分断した後、大型回転式ミクロトーム(大和光機工業製/RV-240)を使用して、塗膜の断面を繰り返し切削して塗膜断面を出し、次いでイオンミリング装置(日本電子製/IB-09010CP)を使用して、塗膜断面から20μm離れた部分までイオンビーム照射が可能なよう設定してイオンミリング処理を行い断面観察用の試験片を作成した。試験片は、FE-SEM(HITACHI製/S-4700)で観察することで、粒子どうしの重なり度合(凝集または固着の有無)と粒子の変形度合(折れ曲がりの有無)を観察した。なお、観察にあたっては、粒径分布を測定した際の中心から90%の範囲の粒子径の粒子を対象とした。
なお、上記のような観察方法でも集合体(凝集状態)の判別が困難な場合は、以下の基準a)~b)に従って凝集の有無を分類した。
a)対象となる粒子の基材金属(金属粒子)表面どうしの最小距離dが被覆層平均厚みtの2倍以上の場合は凝集していないと分類した。
b)対象となる粒子の基材金属(金属粒子)表面どうしの最小距離dが被覆層平均厚みtの2倍よりも小さい場合は凝集していないと分類した。
なお、被覆層平均厚みは、任意の粒子100個の任意箇所における平均被覆層厚みとした。
前処理として、平均粒径D50が9μm、粒子厚みが90nm、揮発分としてミネラルスピリット25%を含有するアルミペースト(不揮発分75%)135gに、イソプロパノール1000gとノニオン分散剤マーポンL-5(松本油脂製薬株式会社製)1.0gを加え、よく撹拌分散した後にヌッチェでろ過を行い、固形分75%のアルミペースト135gを得た。次にこれを300ccの密閉缶に封入し、60℃の乾燥炉で8時間加熱養生をおこなった。
これにより、酸化ケイ素被覆アルミニウム粒子を複合粒子として含有する、不揮発分60%の複合金属顔料を得た。
本例及び以下の各例において、得られた複合金属顔料中の複合粒子(酸化ケイ素被覆アルミニウム粒子)の平均粒子径(D50)を、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(LA-300/株式会社堀場製作所製)を用いて測定した。
測定溶剤としては、イソプロパノールを使用した。
測定は機器取扱説明書に従い実施したが、留意事項として、試料となる複合金属顔料に対して前処理として2分間の超音波分散を行った後、分散槽の中に投入し適正濃度に分散されたのを確認後、測定を開始した。
測定終了後、D50は機器のソフトウェアにより計算され、自動表示された。
アルミペーストとして、平均粒径D50が10μm、粒子厚みが40nmであるものを用いた以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
アルミペーストとして、平均粒径D50が10μm、粒子厚みが60nmであるものを用いた以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
有機珪素化合物としてのテトラエトキシシランの使用量を25gに変更した以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
前処理で用いるイソプロパノールの使用量を400gに変更した以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
被覆処理におけるスラリーの攪拌速度を230rpmに変更した以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
アルミペーストとして、平均粒径D50が9μm、粒子厚みが110nmであるものを用いた以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
前処理を行わなかったこと以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
被覆処理におけるスラリーの攪拌速度を350rpmに変更した以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
アルミペーストとして、平均粒径D50が10μm、粒子厚みが170nmであるものを用いた以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料物を得た。
有機珪素化合物としてのテトラエトキシシランの使用量を30gに変更した以外は実施例6と同様にして、複合金属顔料を得た。
上記実施例6から16で得られた複合金属顔料を用いて、下記の組成で水性メタリック塗料を調製し、下記の方法で塗料及びそれから得られた塗膜の評価を行った。なお、それらの結果を表2に示した。
以下の成分を有する水性メタリック塗料を調製した。
・複合金属顔料:不揮発分として36g
・イソプロパノール:180g
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル(非イオン性界面活性剤、松本油脂製薬株式会社製、商品名「マーポンL5」):6.0g
・精製水:120g
・水溶性アクリル樹脂(※1):110.0g
・メラミン樹脂(※2):18.0g
※1:三井化学株式会社製、アルマテックスWA911
※2:日本サイテックインダストリーズ株式会社製、サイメル350
上記成分を混合後、ジメチルエタノールアミンでpHを7.7から7.8に調整し、カルボン酸系増粘剤と精製水とで粘度を650から750mPa・s(B型粘度計、No.3ロー、60回転、25℃にて測定)に調整した。
・評価1(貯蔵安定性(ガス発生))
上記処方で調製された水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した。
上記処方で調製された水性メタリック塗料を、中塗り塗装がなされた12cm×6cmの鋼板(三木コーティング株式会社製)に乾燥膜厚6μmとなるようにエアスプレー塗装し、90℃で10分間予備乾燥した後、下記組成の有機溶剤型トップコート用塗料を、スパチェラで3分間分散後、フォードカップNo4にて20.0秒になるように塗料粘度を調整し、乾燥膜厚20μmとなるようにエアスプレー塗装し、140℃で30分間乾燥させて塗装板を作製した。
得られた塗装板を用いて、スガ試験機株式会社製の変角測色計を用いて輝度を測定した。光源は塗装板に対して45度の角度で入射するが、輝度の指標として塗膜クリアー表面で反射する光沢光の影響を除去するため、正反射光から5度ずらした50度の反射光明度(L5)を用いた。
(有機溶剤型トップコート用塗料の組成)
・アクリディック44-179(DIC社製、アクリルクリヤー樹脂)141g
・スーパーベッカミン J-820(DIC社製、メラミン樹脂)35.3g
・トルエン123.5g
評価2で作製した塗装板上の塗膜について、スガ試験機株式会社製のデジタル変角光沢計UGV-5Dを用いて60度光沢を測定した。
評価2で作製した塗装板のトップコート表面全面のブツの数を計測し、下記の指標で評価した。
◎ : ブツが視認できない
〇 : ブツが3個以下
△ : ブツが10個以下
× : ブツが10個より多い
(1)塗装板の作製
粒子の凝集状態等の判定を容易にするため、評価2での塗装板の作製に使用した塗料の配合におけるアルミペーストの量を1/10にした以外は同一の条件で塗料を作製し、評価2の条件で塗装板を作製した
(2)塗装板の断面研磨
上記の塗装板を、シャーリング機を用いて1cm四方に切断した。
得られた塗膜断面を、イオンミリング装置(日本電子製/IB-09010CP)を使用して、塗膜断面から20μm離れた部分までイオンビーム照射が可能なよう設定し、イオンミリング処理により、精密研磨断面試料を作製した。
(3)FE-SEM画像の取得
前記((2)塗膜の断面作製)で得られた塗膜断面(塗装板)を、SEM試料台に平行になるように接着し、電界放出型のFE-SEM(HITACHI製/S-4700)を使用して、前記塗膜断面のFE-SEM像を取得した。
FE-SEM観察・取得の条件は、加速電圧の設定を5.0kVで調整し、像倍率は1万倍及び5千倍とした。粒子の厚みは高倍率の1万倍で測定を行った。
また、FE-SEM像を取得(キャプチャー)する前に、電子工学軸アライメント処理を行い、FE-SEM像のアルミニウム粒子とアクリル樹脂の境界線に歪みがでないようにした。
上記((1)-(3))の粒子断面(FE-SEM像)の取得手順で得たFE-SEM像(1万倍)、及び画像解析ソフトWin Roof version 5.5(MITANI CORPORATION製)を用いて、アルミニウム粒子断面における粒子の厚みの計測、及び平均厚みの算出を実施した。
アルミニウム粒子の断面における粒子の厚み計測を実施するFE-SEM像を画像表示し、ROIラインを選択して画像の5μmスケールにROIラインを合わせ、登録・変更から長さ・単位を入力して設定した。
次に、アルミニウム粒子の断面の厚み計測を実施すべき画像を表示させ、長方形ROIを選択して、粒子の断面に長方形ROIを合わせて2値処理を実施した。
次に、計測の垂直弦長の測定項目を選択させた後、計測実行をさせ、画像解析ソフトによる自動計測値(垂直弦長値)を画像に表示した。
このように、前記の画像解析ソフトWin Roof version 5.5を用いて、300個の粒子を選択し、アルミニウム粒子の断面における厚みと長径の自動計測を実施した。次に300個の粒子について厚み算術平均値を算出し、粒子の平均厚みtを求めた。なお、アルミニウム粒子の厚み均一性は高く、粒子の切断部位による厚みの差異は小さい。よって粒子の切断部位の違いが、平均粒子厚み測定に与える影響は無視できる。
上記評価5のFE-SEM像取得に使用した塗装板について、STEM(走査型透過電子顕微鏡)を用いて、倍率20万倍で粒子被覆層の平均厚みを計測した。被覆層表面に凹凸がある場合は、画像解析ソフトWin Roof version 5.5を用いて、被覆層の面積を計測し、これを被覆されている粒子の周囲長で除することにより、被覆層の平均厚みとした。また粒子が大きい場合には必ずしも被覆層全ての面積を計測する必要はなく、粒子表面に沿って1μm程度の領域の被覆層の面積を計測し、これを粒子表面長で除することにより、十分な精度で被覆層の平均厚みが得られる。また被覆層の平均厚みは粒子に依らずほぼ均一であるので、10個の粒子について平均値を求めた。また、この粒子被覆層の厚みと上記で得られた金属粒子の平均粒子厚みとから、下記の計算式に従い複合粒子の平均厚みを求めた。
複合粒子の平均粒子厚み = 金属粒子の平均粒子厚み+被覆層の厚み×2
上記評価5で得られた塗装板断面写真(FE-SEM画像、5千倍)を用いて、凝集のない一次粒子の割合と4個以上の凝集粒子の割合(個数基準)を計測した。測定は、視野内の全粒子数のうち、凝集の無い一次粒子と 4個以上の凝集粒子の割合を求めた。この時に、粒子の作為的な選別を避けるために、視野内の視野端部で途切れた粒子以外のすべての粒子を計測し、また計測数が300個未満である場合には、別の視野の全粒子を計測し、300個以上になるまで計測を行った。尚、粒子が近接して凝集の判定が難しい場合、粒子同士の接触部位長さが、より小さい粒子(長径が短い方)の粒子径の1/4以下である場合は凝集なしと判定し、1/4より大きい場合は凝集ありと判定した。
上記評価5で得られた塗装板断面写真(FE-SEM画像、5千倍)、および画像解析ソフトを用いて、アルミニウム粒子の折れ曲がりの測定を実施した。
具体的には、前記画像解析ソフトWin Roof version 5.5の直線ツールと曲線ツールを選択し、直線ツールでアルミニウム粒子の断面の両先端を直線で結んだ計測値を最短長さ、曲線ツールで両先端をアルミニウム粒子の断面に沿って結んだ線の計測値を粒子断面長さとし、(粒子断面長さ/粒子最短長さ)の値を粒子折れ曲がりの指標とし、この値が1.2以上のものを折れ曲がり粒子と定義した。300個の粒子について計測し、折れ曲がり粒子の割合を求めた。
翼径7cmの傾斜パドル型攪拌翼を底面から3cmの位置に有する、直径10cm、内容積が2Lの反応槽中で、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100」:平均粒径D5011μm、不揮発分74%)135gに465gのメトキシプロパノール(以下、「PM」と略す)を加え、混合物を150rpmで攪拌翼にて攪拌しながら、アルミペーストをPM中に均一に分散させた。
分散したスラリーを150rpmで攪拌しながら、リンタングストモリブデン酸(H3PW6Mo6O40)の水和物1.0gをイソプロパノール5gに溶解した液を徐々に加え、スラリー温度を40℃に保ちながら1時間攪拌した。
次いで、ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加した。
その後、50℃に温度を上げ、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加した。
次いで、シランカップリング剤として1.23gのメチルトリメトキシシランを添加し、2時間攪拌した。反応終了後、冷却してからスラリーを洗浄・濾過した。不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、50℃に温度を上げ、10gのテトラエトキシシランを添加した後、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物として6gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、50℃に温度を上げ、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
上記アルミペーストに代えて、別のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「FD-5090」:平均粒径D509μm、不揮発分75%)を用い、ケイ素含有化合物として15gのテトラエトキシシランを、シランカップリング剤として1.5gのメチルトリメトキシシランを用いた以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、50℃に温度を上げ、20gのテトラエトキシシランを添加した後、15gの25%アンモニア水と200gの精製水を4時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
温度を50℃とした後に、ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、60℃に温度を上げた後、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物として6gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
温度を40℃のままで、ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、70℃に温度を上げた後、8gの25%アンモニア水と100gの精製水を2時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
実施例17と同様の装置を用いて、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100」:平均粒径D5011μm、不揮発分74%)135gに、465gのPMを加えて分散したスラリーに、リンタングストモリブデン酸(H3PW6Mo6O40)水和物1gをPM5gに溶解した液を攪拌しながら、徐々に加え、スラリー温度を40℃に保ちながら1時間攪拌した。その後、冷却してからスラリーを洗浄・濾過し、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物を用いた処理として、35℃にて、10gのテトラエトキシシランを添加した後、10gの25%アンモニア水と200gの精製水とを4時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物を用いた処理として、70℃にて、10gのテトラエトキシシランを添加した後、10gの25%アンモニア水と200gの精製水とを4時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物として10gのテトラエトキシシランを添加した後、2gの25%アンモニア水と150gの精製水を3時間かけて添加し、その後、60℃に温度を上げ、40gのテトラエトキシシランを添加した後、30gの25%アンモニア水と400gの精製水を4時間かけて添加して処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
ケイ素含有化合物を用いた処理として、78℃にて、33gのテトラエトキシシランを添加した後、54gの精製水に2.2gのシュウ酸を溶かした溶液を3時間かけて添加した後に2時間攪拌し、更に、を続けた後に、14.4gのイソプロパノール中に1.1gのエチレンジアミンを溶かした溶液を1時間ごとに添加して3時間処理した以外は実施例17と同様に操作を行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物として金属顔料を得た。
上記各実施例及び比較例において得られたアルミニウム顔料中の複合粒子(ポリシロキサン被覆アルミニウム粒子)の平均粒子径(D50)を、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(LA-300/株式会社堀場製作所製)を用いて測定した。測定溶剤としては、イソプロパノールを使用した。測定は機器取扱説明書に従い実施したが、留意事項として、試料となるアルミニウム顔料に対して前処理として2分間の超音波分散を行った後、分散槽の中に投入し適正濃度に分散されたのを確認後、測定を開始した。測定終了後、D50は機器のソフトウェアにより計算され、自動表示された。
ポリシロキサン層の構造(Q1~Q4構造体のそれぞれの割合)は、Si-NMRによって求めた。Si-NMRは、上記各実施例及び比較例において得られたアルミニウム顔料をアセトン洗浄及び風乾して試料とし、以下の条件で測定した。
・測定装置:Bruker Biospin Avance500
・観測核:29Si
・周波数:99.35MHz
・測定方法:DD/MAS法
・待ち時間:30sec
・NMR試料管:7mmφ
・積算回数:5,600回(約47Hr)
・MAS:5,000Hz
ケイ素濃度、アルミニウム濃度は、上記各実施例及び比較例において得られたアルミニウム顔料をアセトン洗浄及び風乾して試料とし、XPS(X線光電子分光)によって、以下の条件で測定し求めた。なお、アルミニウムは酸化物由来と金属由来のピークより求めた量の合計値を元素の量として計算した。
・測定装置:アルバックファイ Versa probeII
・励起源:mono.AlKα 20kV×5mA 100W
・分析サイズ:100μmφ×1.4mm 100μmφのX線ビームを1.4mm幅で振動
・光電子取り出し角:45°
・取り込み領域
Survey scan:0~1100eV
Narrow scan:Al 2p、Si 2p、O 1s、C 1s
パスエネルギー
Survey scan:117.4eV
Narrow scan:46.95eV
上記各実施例及び比較例で得られたアルミニウム顔料組成物を用いて、下記の組成で水性メタリック塗料を調製し、下記の方法で塗料及びそれから得られた塗膜の評価を行った。
(水性メタリック塗料の組成)
・アルミニウム顔料組成物:不揮発分として12.0g
・メトキシプロパノール:18.0g
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル(非イオン性界面活性剤)(※1):6.0g
・精製水:12.0g
・水溶性アクリル樹脂(※2):110.0g
・メラミン樹脂(※3):18.0g
※1:松本油脂製薬株式会社製、商品名「マーポンL5」
※2:三井化学株式会社製、アルマテックスWA911
※3:日本サイテックインダストリーズ株式会社製、サイメル350
上記処方で調製された水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定し、塗料中の貯蔵安定性の指標とした。
○: 5ml未満
△: 5ml以上20ml未満
×: 20ml以上
水分散性として、上記処方で調製された水性メタリック塗料を23℃で24時間放置後の状態の変化を目視で評価した。
○ : 特に変化が認められない。
△ : アルミニウム顔料の凝集が若干認められる。
× : アルミニウム顔料の凝集が認められる。
上記の通り作製した水性メタリック塗料300ccを500mlのビーカーに入れ、手裏剣型ディスパーを用いて室温にて、200rpmで24時間攪拌を行った。撹拌後の塗料について評価1と同様のガス発生試験を行った。
また、撹拌後の塗料について下記のとおり評価3の意匠性評価を行った。
上記処方で調製された水性メタリック塗料を、中塗り塗装がなされた12cm×6cmの鋼板(三木コーティング株式会社製)に乾燥膜厚6μmとなるようにエアスプレー塗装し、90℃で10分間予備乾燥した後、下記組成の有機溶剤型トップコート用塗料を、スパチェラで3分間分散後、フォードカップNo4にて20.0秒になるように塗料粘度を調整し、乾燥膜厚20μmとなるようにエアスプレー塗装し、140℃で30分間乾燥させて塗装板を作製し、以下の評価に供した。
(有機溶剤型トップコート用塗料の組成)
・アクリディック44-179(DIC社製、アクリルクリヤー樹脂):141g
・スーパーベッカミン J-820(DIC社製、メラミン樹脂):35.3g
・トルエン:123.5g
得られた塗装板について、関西ペイント株式会社製のレーザー式メタリック感測定装置アルコープLMR-200を用いて評価した。光学的条件は、入射角45度のレーザー光源と受光角0度と-35度に受光器をもつ。測定値としては、レーザーの反射光のうち、塗膜表面で反射する鏡面反射領域の光を除いて最大光強度が得られる受光角-35度でIV値を求めた。IV値は塗膜からの正反射光強度に比例するパラメーターであり、光輝度の大小を表す。
得られたIV値から、以下の基準に基づいて評価した。
〇:基準(比較例1)からの低下幅が20未満であった。
△:基準(比較例1)からの低下幅が20以上40未満であった
×:基準(比較例1)からの低下幅が40以上であった。
調製された水性メタリック塗料をポリエチレンテレフタレート製シート(PETシート)上に、乾燥膜厚15μmとなるように2ミルのアプリケーターで塗布し、140℃で30分間乾燥させた塗膜を目視で判定した。
○:基準(比較例1)と同等からやや低めであった。
△:基準(比較例1)より低めであった。
×:基準(比較例1)より大幅に低かった。
複合粒子の厚み等の測定を容易にするため、評価1、2に使用した水性メタリック塗料の配合における金属顔料の量を1/10にした以外は同一の条件で塗料を作製し、評価3の条件で塗装板を作製した。上記の塗装板を、シャーリング機を用いて1cm四方に切断した。
FE-SEM画像の観察・取得の条件は、加速電圧の設定を5.0kVで調整し、像倍率は1万倍で測定を行った。また、FE-SEM画像を取得(キャプチャー)する前に、電子工学軸アライメント処理を行い、FE-SEM画像の複合粒子と樹脂の境界線に歪みがでないようにした。
前記手順で得たFE-SEM画像(1万倍)、及び画像解析ソフトWin Roof version 5.5(MITANI CORPORATION製)を用いて、複合粒子断面における粒子の厚みを計測し、平均厚みを算出した。
まず、複合粒子の断面厚みを計測する対象のFE-SEM画像を表示し、ROIラインを選択して画像の5μmスケールにROIラインを合わせ、登録・変更から長さ・単位を入力して設定した。
次に、複合粒子の断面厚みを計測すべき画像を表示させ、長方形ROIを選択して、複合粒子の断面に長方形ROIを合わせて2値処理した。
次に、計測の垂直弦長の測定項目を選択させた後、計測させ、画像解析ソフトによる自動計測値(垂直弦長値)を表示した。
このように、前記の画像解析ソフトWin Roof version 5.5を用いて、300個の複合粒子を選択し、複合粒子断面における厚みと長径を自動計測した。次に300個の複合粒子について厚み算術平均値を算出し、粒子の平均厚みを求めた。なお、複合粒子の厚み均一性は高く、複合粒子の切断部位による厚みの差異は小さい。よって複合粒子の切断部位の違いが、平均粒子厚み測定に与える影響は無視できる。
上記のFE-SEM画像取得に使用した塗装板について、HR-STEM(高分解能走査型透過電子顕微鏡、HITACHI製/S-5500)を使用して、加速電圧の設定を30kVで調整し、倍率20万倍で断面画像を得て、ポリシロキサン層(被覆層)の厚みを計測した。ポリシロキサン層表面に凹凸がある場合は、画像解析ソフトWin Roof version 5.5を用いて、ポリシロキサン層の断面面積を計測し、これを複合粒子の表面長で除することにより、ポリシロキサン層の厚みとした。また、複合粒子が大きい場合には必ずしもポリシロキサン層全ての面積を計測する必要はなく、粒子表面に沿って1μm程度の領域のポリシロキサン層の面積を計測し、これを粒子表面長で除することにより、十分な精度でポリシロキサン層の厚みが得られる。またポリシロキサン層の厚みは粒子ごとに大きく異なることはなくほぼ均一であるので、ポリシロキサン層の平均厚みとして50個の複合粒子について厚みの平均値を求めた。
直径0.5m、容積200Lの反応槽と翼径(最大直径)0.3mのパドル翼を有する反応機(反応槽内面と攪拌翼の先端との最短距離:0.1m)に、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100(平均粒径D5011.3μm、不揮発分74%)」)27kg、及びメトキシプロパノール(以下、「PM」と略す。)93kgを加え、攪拌翼の回転数を100rpm、先端速度を1.6m/秒として混合物を攪拌し、1時間かけてアルミペーストをPM中に均一に分散させた。この時の分散液中の金属粒子の平均粒径D50は13.8μmであった。
直径0.5m、容積200Lの反応槽と翼径(最大直径)0.3mのパドル翼を有する反応機(反応槽内面と攪拌翼の先端との最短距離:0.1m)に、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100(平均粒径11.3μm、不揮発分74%)」)27kg、及びメトキシプロパノール(以下、「PM」と略す。)93kgを加え、攪拌翼の回転数を100rpm、先端速度1.6m/秒として混合物を攪拌し、且つ、底部から抜き出した2L/分の分散液を反応槽上部から反応槽に戻す外部循環をしながら、アルミペーストをPM中に均一に5時間かけて分散させた。この時の分散液中の金属粒子の平均粒径は11.8μmであった。
25%アンモニア水と精製水の添加時間を30分とし、その後の攪拌時間を1時間に変更した以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
外部循環の流路の途中にて500Wの超音波を滞留時間1分間相当照射した以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼を直径0.12mのものに変更し、攪拌翼の回転数を500rpm、先端速度3.1m/秒として混合物を攪拌した以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
反応槽の接液部へのPMのシャワー、及び、同時に起こる液面上昇をさせないで反応を行う以外は、実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
アルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX40A(平均粒径19.8μm、揮発分74%)」)に変更した以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
アルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「FD5090(平均粒径9μm、揮発分75%)」)に変更した以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
直径1.2m、容積3000Lの反応槽と翼系0.6mのパドル翼を有す反応器を用い、原料等をそれぞれ15倍にし、攪拌翼の回転数を100rpm、先端速度3.1m/秒とした以外は実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
有機ケイ素化合物とシランカップリング剤を添加した反応を行わない以外は、実施例30と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼を最大直径0.09mのものに変更し、攪拌翼の回転数を200rpm、先端速度0.9m/秒として混合物を攪拌した以外は実施例29と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼の回転数を1500rpm、先端速度24m/秒として混合物を攪拌した以外は実施例29と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼を最大直径0.49mのものに変更して(すなわち反応槽の内面と攪拌翼の先端との最短距離を5mmに変更して)先端速度を2.6m/秒とした以外は実施例29と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
攪拌翼の回転数を25rpm、先端速度0.4m/秒として混合物を攪拌した以外は実施例29と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
直径0.5m、容積200Lの反応槽と翼径(最大直径)0.3mのパドル翼を有する反応機(反応槽内面と攪拌翼の先端との最短距離:0.1m)に、市販のアルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「GX-3100(平均粒径11.3μm、不揮発分74%)」)27kg、及びメトキシプロパノール(以下、「PM」と略す。)93kgを加え、攪拌翼の回転数を100rpm、先端速度1.6m/秒として混合物を攪拌し、且つ、底部から抜き出した2L/分の分散液を反応槽上部から反応槽に戻す外部循環をしながら、アルミペーストをPM中に均一に5時間かけて分散させた。この時の分散液中の金属粒子の平均粒径は11.8μmであった。
次いで、リンタングストモリブデン酸(H3PW6Mo6O40)水和物0.2kgをメトキシプロパノール1kgに溶解した液を徐々に加え、スラリー温度を40℃に保ちながら1時間攪拌した。
その後、有機ケイ素化合物としてテトラエトキシシラン2kgを添加した後、25%アンモニア水0.1kgと精製水30kgを1時間かけて添加した後、更に2時間攪拌した。その後、50℃に温度を上げ、25%アンモニア水0.4kgと精製水20kgを2時間かけて添加した。これら計5時間の間には、PM10kgを、反応槽の接液部にシャワーしながら添加し、同時に液面も上昇させることで接液部を洗浄しながら、反応を行った。
その後更に、シランカップリング剤としてメチルトリメトキシシラン0.25kgを添加し、2時間攪拌した。反応終了後、粒子が沈降や凝集する前に冷却し、スラリーを洗浄・ろ過し、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。反応中、外部循環は継続した。
これらの反応に際しては、異常滞留部を作らないように底面にテーパーをつけるとともに、底部の抜き出し配管より液を抜き出して、反応槽上部から反応槽に戻す外部循環をしながら循環させた。循環配管も異常滞留が起こらないように内面の突起を無くし、径の急激が変化ないようにした。
直径1.2m、容積3000Lの反応槽と翼系0.6mのパドル翼を有す反応器を用い、原料等をそれぞれ15倍にし、攪拌翼の回転数を100rpm、先端速度3.1m/秒とした以外は実施例42と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
アルミペースト(旭化成株式会社製、商品名「FD5090(平均粒径9μm、不揮発分75%)」)に変更した以外は実施例42と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
アルミペーストとして、平均粒径D50が10μm、粒子厚みが60nm、不揮発分75%であるものを用いた以外は実施例42と同様に行い、不揮発分60%のアルミニウム顔料組成物を得た。
レーザー回折式粒度分布計「LA-300」(株式会社堀場製作所製)を用いて、分散液中の金属粒子及び得られたアルミニウム顔料組成物に含まれる複合粒子の体積基準の平均粒径D50を測定した。測定溶剤としてイソプロパノールを使用し、試料の複合粒子を含む金属顔料組成物に対し、前処理として2分間の超音波分散を行った後、反応槽の中に投入し適正濃度になったのを確認後、平均粒径D50を測定した。
以下の成分を混合後、ジメチルエタノールアミンでpHを7.7から7.8に調整し、カルボン酸系増粘剤と精製水で粘度を650から750mPa・s(B型粘度計、No.3ロー、60回転、25℃にて測定)に調整し、水性メタリック塗料を調製した。
・アルミニウム顔料組成物:不揮発分として12.0g
・メトキシプロパノール:18.0g
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル(非イオン性界面活性剤)(松本油脂製薬(株)製、アクチノールL5):6.0g
・精製水:12.0g
・水溶性アクリル樹脂(三井化学(株)製、アルマテックスWA911):110.0g
・メラミン樹脂(日本サイテックインダストリーズ(株)製、サイメル350):18.0g
上記処方で調製された水性メタリック塗料を23℃で24時間放置後の状態の変化を目視で評価した。
○:特に変化が認められない。
△:アルミニウム顔料の凝集が若干認められる。
×:アルミニウム顔料の凝集が認められる。
調製された水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を観察した。ガスの発生量に応じて下記のように評価し、塗料中の貯蔵安定性の指標とした。
◎: 2mL未満
○: 2mL以上5mL未満
△: 5mL以上20mL未満
×: 20mL以上
調製された水性メタリック塗料を、中塗り塗装がなされた12cm×6cmの鋼板に乾燥膜厚4μmとなるようにエアスプレー塗装し、90℃で10分間予備乾燥した後、有機溶剤型トップコート用塗料を、乾燥膜厚20μmとなるようにエアスプレー塗装し、140℃で30分間乾燥させて塗装版を作製し、輝度の評価を行った。
有機溶剤型トップコート用塗料は、下記成分を混合しスパチュラで3~4分分散した後、フォードカップNo.4にて20.0秒に塗料粘度を調整して作成した。
・アクリルクリヤー樹脂(DIC社製、A345):420g
・メラミン樹脂(DIC社製、L-117-60):165g
・芳香族系溶剤(エクソン化学(株)製、ソルベッソ100):228g
◎:基準(比較例1)からの低下幅が20未満であった。
〇:基準(比較例1)からの低下幅が20以上40未満であった。
△:基準(比較例1)からの低下幅が40以上であった。
×:基準(比較例1)からの低下幅が40以上であった。
調製された水性メタリック塗料をポリエチレンテレフタレート製シート(PETシート)上に、乾燥膜厚15μmとなるように2ミルのアプリケーターで塗布し、140℃で30分間乾燥させた塗膜を目視で確認し、隠蔽性について、比較例1を基準として以下のように判定した。
◎:基準(比較例1)と同等であった。
○:基準(比較例1)と同等からやや低めであった。
△:基準(比較例1)より低めであった。
×:基準(比較例1)より大幅に低かった。
調製された水性メタリック塗料をポリエチレンテレフタレート製フィルム(PETフィルム)上に9ミルアプリケーターで塗布し、室温にて20分静置後、140℃で20分の焼付けを行い、塗板を作成した。この塗板をハサミで2cm四方の大きさに分断した後、大型回転式ミクロトーム(大和光機工業製/RV-240)を使用して、塗膜の断面を繰り返し切削して塗膜断面を出し、次いでイオンミリング装置(日本電子製/IB-09010CP)を使用して、塗膜断面から20μm離れた部分までイオンビーム照射が可能なよう設定してイオンミリング処理を行い断面観察用の試験片を作成した。試験片は、FE-SEM(HITACHI製/S-4700)で観察することで、粒子どうしの重なり度合(凝集又は固着の有無)と粒子の変形度合(折れ曲がりの有無)を観察した。なお、観察にあたっては、粒径分布を測定した際の中心から90%の範囲の粒子径の粒子を対象とした。
重なり度合(凝集又は固着の有無)は、約1000~3000倍程度の倍率で観察し、評価した。この倍率で重なり度合が判別できない場合は、適宜倍率を変えることで重なり度合を評価した。この観察方法においては最大で30000倍の倍率で観察した。観察した粒子の個数が500個以上となるように同一試験片の断面から複数の視野を観察した。評価は、比較例1を基準として、凝集した粒子の個数割合により以下のように判定した。
○:凝集粒子が5%以上、10%未満であった。
△:凝集粒子が5%以上、10%未満であった。
×:凝集粒子が20%以上であった。
評価5-1と同様に、変形度合(折れ曲がりの有無)は、約1000~3000倍程度の倍率で観察し、評価した。この倍率で変形度合が判別できない場合は、適宜倍率を変えることで変形度合を評価した。この観察方法においては最大で30000倍の倍率で観察した。観察した粒子の個数が500個以上となるように同一試験片の断面から複数の視野を観察した。変形の有無は、粒子両端と最短距離が粒子の長さに対して0.8倍以下の場合を変形あり(折れ曲がりあり)と判断し、比較例1を基準として、変形した粒子の個数割合により以下のように評価した。
○:変形粒子が10%未満であった。
△:変形粒子が10%以上、35%未満であった。
×:変形粒子が35%以上であった。
Claims (29)
- 金属粒子及びその表面上にある1層以上の被覆層を有する複合粒子を含む金属顔料であって、
(1)前記複合粒子の形状が鱗片状であり、
(2)レーザー回折式粒度分布計にて前記複合粒子の粒度分布を測定した場合の体積基準のD50が0.1~30μmであり、
(3)前記複合粒子の平均厚みが15~300nmであることを特徴とする金属顔料。 - 折れ曲がった前記複合粒子の割合が10%以下である、請求項1に記載の金属顔料。
- 前記複合粒子の4個以上が互いに固着している集合体の個数割合が、前記複合粒子全体の個数に対して35%以下である、請求項1又は2に記載の金属顔料。
- 前記金属粒子がアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記一層以上の被覆層が酸化金属被覆層を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記一層以上の被覆層がケイ素化合物含有層を含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記被覆層の少なくとも1層がポリシロキサンの層である、請求項1~6のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記複合粒子の平均粒子厚みが15~160nmである、請求項1~7のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記複合粒子の平均アスペクト比が20~400である、請求項1~8のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記ポリシロキサンの層を構成するポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%である、請求項7に記載の金属顔料。
- 前記複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、請求項1~10のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記ポリシロキサン層の平均厚みが5~100nmである、請求項7又は10に記載の金属顔料。
- (Si原子が1つの-O-Si-結合を有するQ1構造体比率×3)+(Si原子が2つの-O-Si-結合を有するQ2構造体比率×2)+(Si原子が3つの-O-Si-結合を有するQ3構造体比率)の合計で定義される親水度Aが10~80%である、請求項1~12のいずれか一項に記載の金属顔料。
- 前記複合粒子が、金属、金属酸化物、金属水和物及び樹脂の少なくとも1種を含んでなる被覆層をさらに含む、請求項1~13のいずれか1項に記載の金属顔料。
- 金属粒子がポリシロキサンの層で被覆されている複合粒子から成る金属顔料であって、
1)ポリシロキサンの構造におけるSi原子が4つの-O-Si-結合を有するQ4構造体の割合が40~90%であり、及び
2)複合粒子の表面をXPSで評価した際の金属の元素濃度AとSiの元素濃度Bとの相対元素濃度((A/B)×100)が10モル%以下である、
前記金属顔料。 - 請求項1~15のいずれか一項に記載の金属顔料であって、該金属顔料を不揮発分として12g、メトキシプロパノール18g、水性アクリル樹脂110g、メラミン樹脂18g、及び水12gを含有する水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下である、金属顔料。
- 請求項1~15のいずれか一項に記載の金属顔料を含有し、且つ、水を5質量%以上含有する水性メタリック塗料であって、該水性メタリック塗料200gをフラスコに採取し、60℃の恒温水槽で24時間まで水素ガス累積発生量を測定した際のガス発生が10ml以下である、水性メタリック塗料。
- 請求項1~16のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する金属顔料組成物。
- 請求項1~16のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する水性塗料組成物。
- 請求項1~16のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する水性インキ組成物。
- 請求項1~16のいずれか一項に記載の金属顔料を含有する塗膜。
- 金属顔料の製造方法であって、前記製造方法が、攪拌槽型反応機を用いて、下記工程(1)~(3)を含み、
(1)金属粒子を溶媒に分散させる工程、
(2)金属粒子をケイ素化合物でコーティングする工程、及び
(3)ろ過・洗浄する工程、
前記攪拌槽型反応機が、
反応槽の容積が100L以上であり、
反応槽の直径と攪拌翼の最大直径との比が0.2~1.0の範囲であり、かつ、前記反応槽の内面と前記攪拌翼の先端との最短距離が10mm以上であり、及び
前記攪拌翼の攪拌時の先端速度が1~20m/秒である、
前記製造方法。 - 請求項22に記載の製造方法であって、
工程(1)において、分散液中の金属粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.2倍以下であって、前記分散液中の金属粒子が溶媒に均一に分散され、
工程(2)において、表層及び底部に滞留部を作らないように攪拌し、
工程(3)の後に得られる金属顔料に含まれる複合粒子の平均粒径が、原料である金属粒子の平均粒径の1.3倍以下である、
前記製造方法。 - 工程(1)及び/又は(2)において、反応槽底部近傍より抜き出した処理液を反応槽上部より反応槽に戻して循環させる、請求項22又は23に記載の製造方法。
- 工程(2)において、ケイ素含有原料及び触媒を投入した後に、反応槽と混合液の接液部近傍の反応槽内壁を、反応液又は溶媒で洗浄して付着物又は滞留物を減らす、請求項22~24のいずれか一項に記載の製造方法。
- 工程(2)を2時間以上かけて行う、請求項22~25のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項1~16のいずれか一項に記載の金属顔料が製造される、請求項22~26のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項22~27のいずれか一項に記載の製造方法で得られた金属顔料。
- 請求項22~27のいずれか一項に記載の製造方法に用いる攪拌槽型反応機。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022575599A JPWO2022154001A1 (ja) | 2021-01-12 | 2022-01-12 | |
EP22739407.9A EP4279267A1 (en) | 2021-01-12 | 2022-01-12 | Metal pigment, application of metal pigment, and method for manufacturing metal pigment |
US18/271,124 US20240059900A1 (en) | 2021-01-12 | 2022-01-12 | Metal pigment, application of metal pigment, and method for manufacturing metal pigment |
CN202280009890.5A CN116669959A (zh) | 2021-01-12 | 2022-01-12 | 金属颜料、其用途和金属颜料的制造方法 |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021003098 | 2021-01-12 | ||
JP2021-003098 | 2021-01-12 | ||
JP2021032830 | 2021-03-02 | ||
JP2021-032830 | 2021-03-02 | ||
JP2021048562 | 2021-03-23 | ||
JP2021-048562 | 2021-03-23 | ||
JP2021111401 | 2021-07-05 | ||
JP2021-111401 | 2021-07-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2022154001A1 true WO2022154001A1 (ja) | 2022-07-21 |
Family
ID=82446279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2022/000677 WO2022154001A1 (ja) | 2021-01-12 | 2022-01-12 | 金属顔料、その用途、及び金属顔料の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240059900A1 (ja) |
EP (1) | EP4279267A1 (ja) |
JP (1) | JPWO2022154001A1 (ja) |
WO (1) | WO2022154001A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024162367A1 (ja) * | 2023-02-01 | 2024-08-08 | 関西ペイント株式会社 | 光輝性顔料分散液、光輝性塗料組成物及び複層塗膜形成方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003147226A (ja) | 2001-11-08 | 2003-05-21 | Toyo Aluminium Kk | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 |
WO2004096921A1 (ja) | 2003-04-28 | 2004-11-11 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 |
WO2007043453A1 (ja) * | 2005-10-13 | 2007-04-19 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | 被覆金属顔料およびその製造方法、ならびにそれを含む塗料組成物 |
JP4633239B2 (ja) | 2000-09-12 | 2011-02-16 | 昭和アルミパウダー株式会社 | シリカ被覆アルミニウム顔料およびその製造方法 |
JP2012162733A (ja) * | 2012-04-24 | 2012-08-30 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 樹脂被覆金属顔料、およびその製造方法 |
JP2013518948A (ja) * | 2010-02-05 | 2013-05-23 | エッカルト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | SiO2を用いてコーティングされた金属効果顔料、前記メタリック効果顔料を製造するための方法、および使用 |
JP5979788B2 (ja) | 2010-03-30 | 2016-08-31 | 旭化成株式会社 | 金属顔料組成物 |
JP2018135455A (ja) * | 2017-02-22 | 2018-08-30 | 旭化成株式会社 | 樹脂付着アルミニウム顔料、塗料組成物、塗膜、塗膜を有する物品、インキ組成物、及び印刷物 |
WO2018180936A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 東洋アルミニウム株式会社 | 被覆顔料 |
JP2019151678A (ja) | 2018-02-28 | 2019-09-12 | 旭化成株式会社 | 金属顔料組成物 |
JP2019210483A (ja) * | 2015-08-14 | 2019-12-12 | 旭化成株式会社 | アルミニウム顔料、アルミニウム顔料の製造方法、アルミニウム顔料を含む塗料組成物、塗膜、当該塗膜を有する物品、インキ組成物、及び印刷物 |
-
2022
- 2022-01-12 US US18/271,124 patent/US20240059900A1/en active Pending
- 2022-01-12 JP JP2022575599A patent/JPWO2022154001A1/ja active Pending
- 2022-01-12 WO PCT/JP2022/000677 patent/WO2022154001A1/ja active Application Filing
- 2022-01-12 EP EP22739407.9A patent/EP4279267A1/en active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4633239B2 (ja) | 2000-09-12 | 2011-02-16 | 昭和アルミパウダー株式会社 | シリカ被覆アルミニウム顔料およびその製造方法 |
JP2003147226A (ja) | 2001-11-08 | 2003-05-21 | Toyo Aluminium Kk | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 |
WO2004096921A1 (ja) | 2003-04-28 | 2004-11-11 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 |
WO2007043453A1 (ja) * | 2005-10-13 | 2007-04-19 | Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha | 被覆金属顔料およびその製造方法、ならびにそれを含む塗料組成物 |
JP2013518948A (ja) * | 2010-02-05 | 2013-05-23 | エッカルト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | SiO2を用いてコーティングされた金属効果顔料、前記メタリック効果顔料を製造するための方法、および使用 |
JP5979788B2 (ja) | 2010-03-30 | 2016-08-31 | 旭化成株式会社 | 金属顔料組成物 |
JP2012162733A (ja) * | 2012-04-24 | 2012-08-30 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 樹脂被覆金属顔料、およびその製造方法 |
JP2019210483A (ja) * | 2015-08-14 | 2019-12-12 | 旭化成株式会社 | アルミニウム顔料、アルミニウム顔料の製造方法、アルミニウム顔料を含む塗料組成物、塗膜、当該塗膜を有する物品、インキ組成物、及び印刷物 |
JP2018135455A (ja) * | 2017-02-22 | 2018-08-30 | 旭化成株式会社 | 樹脂付着アルミニウム顔料、塗料組成物、塗膜、塗膜を有する物品、インキ組成物、及び印刷物 |
WO2018180936A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 東洋アルミニウム株式会社 | 被覆顔料 |
JP2019151678A (ja) | 2018-02-28 | 2019-09-12 | 旭化成株式会社 | 金属顔料組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024162367A1 (ja) * | 2023-02-01 | 2024-08-08 | 関西ペイント株式会社 | 光輝性顔料分散液、光輝性塗料組成物及び複層塗膜形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP4279267A1 (en) | 2023-11-22 |
JPWO2022154001A1 (ja) | 2022-07-21 |
US20240059900A1 (en) | 2024-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101765642B (zh) | 金属涂料,其生产方法,及其用途 | |
JP4749007B2 (ja) | 光輝性顔料水性媒体分散液および光輝性塗料 | |
US20210189143A1 (en) | Coated pigment | |
JPWO2004096921A1 (ja) | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 | |
JP3948934B2 (ja) | アルミニウム顔料、その製造方法および樹脂組成物 | |
JP2018510228A (ja) | コーティングされた顔料、その製造および使用、コーティング剤および物品 | |
JP6007257B2 (ja) | 着色メタリック顔料および着色物 | |
KR102282812B1 (ko) | 염기성 시아누르산 아연 분말의 제조 방법 및 방청 안료 조성물의 제조 방법 | |
WO2022154001A1 (ja) | 金属顔料、その用途、及び金属顔料の製造方法 | |
KR101019359B1 (ko) | 티탄산막 코팅 수지 기판의 제조 방법 | |
JP7518483B2 (ja) | 無機酸化物粒子とシアヌル酸亜鉛粒子とを含む分散液、及び塗料組成物 | |
CN115216182B (zh) | 复合金属颜料组合物及其制造方法 | |
JP2019151678A (ja) | 金属顔料組成物 | |
JP6473657B2 (ja) | 複層塗膜形成方法 | |
CN116669959A (zh) | 金属颜料、其用途和金属颜料的制造方法 | |
JP2024081131A (ja) | 複合金属顔料組成物及びその製造方法 | |
CN115594996B (zh) | 金属颜料组合物的包装体 | |
JP2022150635A (ja) | 金属顔料組成物 | |
WO2023127687A1 (ja) | 金属顔料組成物 | |
JP2023004748A (ja) | 金属顔料組成物の梱包体 | |
KR102702522B1 (ko) | 금속 안료 조성물의 곤포체 | |
JP2023004752A (ja) | 金属顔料組成物の梱包体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 22739407 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2022575599 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 18271124 Country of ref document: US |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 202280009890.5 Country of ref document: CN |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2022739407 Country of ref document: EP Effective date: 20230814 |