WO2022153999A1 - 反応処理容器、及び反応処理装置 - Google Patents

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WO2022153999A1
WO2022153999A1 PCT/JP2022/000669 JP2022000669W WO2022153999A1 WO 2022153999 A1 WO2022153999 A1 WO 2022153999A1 JP 2022000669 W JP2022000669 W JP 2022000669W WO 2022153999 A1 WO2022153999 A1 WO 2022153999A1
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WO
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reaction processing
processing container
temperature
heated
reaction
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/000669
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English (en)
French (fr)
Inventor
圭佑 合田
陽一 古川
Original Assignee
杏林製薬株式会社
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M1/00Apparatus for enzymology or microbiology
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M1/00Apparatus for enzymology or microbiology
    • C12M1/34Measuring or testing with condition measuring or sensing means, e.g. colony counters

Definitions

  • the present disclosure relates to a reaction processing container and a reaction processing apparatus.
  • Genetic testing is widely used for testing in various medical fields, identification of agricultural products and pathogenic microorganisms, food safety evaluation, and testing for pathogenic viruses and various infectious diseases.
  • a method of amplifying a part of DNA and analyzing the obtained one is known.
  • the PCR method (PCR: Polymerase Chain Reaction) is a remarkable technique for selectively amplifying a part of a very small amount of DNA collected from a living body or the like.
  • a predetermined thermal cycle is given to a sample solution in which a biological sample containing DNA and a PCR reagent composed of primers and enzymes are mixed, and reactions such as denaturation, annealing and elongation are repeatedly caused to identify DNA.
  • the part of is selectively amplified.
  • the present disclosure has been made to solve such a problem, and a reaction processing container that can be smoothly inserted into a reaction processing apparatus and an appropriate temperature adjustment while enabling appropriate temperature adjustment are provided. At the same time, it is an object of the present invention to provide a reaction processing apparatus capable of smoothly inserting a reaction processing container.
  • the reaction processing container is a reaction processing container having at least one microchannel, and the microchannel corresponds to a first heated portion corresponding to a modification temperature zone and an extension / annealing temperature zone.
  • the second heated portion, the first heated portion, the intermediate portion connecting the second heated portion, and the first heated portion and the liquid feeding mechanism can be directly or indirectly connected to each other.
  • a first connecting portion and a second connecting portion capable of directly or indirectly connecting the second heated portion and the liquid feeding mechanism are provided, and the sample solution in the microchannel in the intermediate portion can be measured. Therefore, a guide surface is formed at the end of the reaction processing container on the traveling side in the insertion direction when the reaction processing device is inserted into the insertion port, so that the thickness becomes thinner toward the tip.
  • the reaction processing container has a microchannel having a first heated portion, a second heated portion, an intermediate portion, a first connecting portion, and a second connecting portion. Therefore, by attaching the reaction treatment container to the reaction treatment apparatus, the nucleic acid can be amplified by reciprocating the sample solution between the denaturation temperature zone and the extension / annealing temperature zone by using the liquid feeding mechanism. In addition, it is possible to measure the absorbance, fluorescence intensity, etc. of the sample solution in the intermediate portion.
  • a guide surface is formed at the end of the reaction processing container on the advancing side in the insertion direction when the reaction processing container is inserted into the insertion port of the reaction processing apparatus so that the thickness becomes thinner toward the tip.
  • the reaction processing container when the reaction processing container is inserted into the insertion port of the reaction processing device, the reaction processing container moves toward the traveling side in the insertion direction, starting from the end having the guide surface.
  • the member of the temperature adjusting unit may protrude into the space inside the reaction processing device.
  • the reaction processing container can be smoothly moved to the advancing side in the insertion direction by suppressing the catching by coming into contact with the protruding portion on the guide surface. Therefore, it is possible to appropriately adjust the temperature by improving the contact between the reaction processing container and the member of the temperature adjusting unit while enabling the smooth insertion of the reaction processing container. From the above, it is possible to provide a reaction processing container that can be smoothly inserted into the reaction processing apparatus while enabling appropriate temperature adjustment.
  • the microchannel may include a third heated portion between the second heated portion and the second connecting portion.
  • a third heated portion may be provided between the first heated portion and the first connecting portion.
  • the reaction processing container may be formed with a notch for fixing by the reaction processing device when it is inserted into the reaction processing device.
  • the reaction processing container can be sufficiently fixed to the reaction processing apparatus. As a result, the positioning between the detection unit and the intermediate portion of the reaction processing container can be accurately performed, so that the measurement accuracy can be improved.
  • the reaction processing apparatus is a reaction processing apparatus having an insertion port for inserting the above-mentioned reaction processing container, and is a first heated portion and a second heated portion of the inserted reaction processing container.
  • a temperature adjusting unit for adjusting the temperature by contacting the position corresponding to the above is provided, and the temperature adjusting unit can be brought into contact with the reaction processing vessel while being pressed by the elastic mechanism.
  • the temperature adjusting unit can be brought into contact with the reaction processing container while being pressed by the elastic mechanism. This makes it possible to appropriately adjust the temperature by improving the contact between the reaction processing container and the temperature adjusting unit. Further, by providing such an elastic mechanism, the member of the temperature adjusting unit may protrude into the space inside the reaction processing apparatus, but since the reaction processing container has the guide surface as described above, the reaction occurs. It can be smoothly inserted into the processing device. From the above, it is possible to provide a reaction processing apparatus capable of smoothly inserting a reaction processing container while adjusting the temperature appropriately.
  • the reaction processing apparatus may have a protruding portion that fits into the notch formed in the reaction processing container.
  • the reaction processing container can be sufficiently fixed to the reaction processing apparatus. As a result, the positioning between the detection unit and the intermediate portion of the reaction processing container can be accurately performed, so that the measurement accuracy can be improved.
  • the reaction processing apparatus is a reaction processing apparatus having an insertion port for inserting the above-mentioned reaction processing container, and is a first heated portion and a second heated portion of the inserted reaction processing container.
  • a temperature adjusting unit for adjusting the temperature by contacting the position corresponding to the third heated portion is provided, and the temperature adjusting portion can be brought into contact with the reaction processing vessel while being pressed by the elastic mechanism. .. Reaction processing equipment.
  • a reaction processing vessel capable of smoothly inserting into a reaction processing apparatus while enabling appropriate temperature adjustment, and a reaction processing apparatus capable of smoothly inserting a reaction processing vessel while appropriately adjusting the temperature. Can be provided.
  • FIG. 1 is a perspective view of the reaction processing apparatus 1 into which the reaction processing container 50 according to the embodiment of the present disclosure is inserted.
  • FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the reaction processing apparatus 1.
  • FIG. 3 is a plan view showing the reaction processing container 50.
  • the microchannel 60 shown in the drawing is formed on the lower surface 50f, but is shown by a solid line in order to clearly show the structure of the microchannel 60.
  • the reaction processing apparatus 1 inserts the reaction processing container 50 through the insertion port 30 so that the reaction processing container 50 can be mounted.
  • the insertion port 30 is formed on the side surface of the reaction processing device 1 and includes a slide-in mechanism for inserting the reaction processing container 50 by sliding it in the horizontal direction.
  • the reaction processing container 50 has a rectangular plate shape.
  • the reaction processing container 50 is inserted into the reaction processing apparatus 1 with the main surface horizontal and the longitudinal direction and the insertion direction parallel to each other.
  • the XY coordinate system may be set for the reaction processing device 1 for explanation.
  • the insertion direction of the reaction processing vessel 50 is the Y-axis direction.
  • the advancing side of the insertion direction Y is the positive side
  • the backward side of the insertion direction Y is the negative side.
  • the width direction perpendicular to the insertion direction Y is defined as the X-axis direction.
  • One side of the width direction X is the positive side
  • the other side of the width direction X is the negative side.
  • the posture of the reaction processing container 50 can be freely changed with respect to the reaction processing device 1. However, when the configuration of the reaction processing container 50 is described, the posture in the state of being inserted into the reaction processing apparatus 1 or the state immediately before the insertion is used as a reference. Therefore, even when the configuration of the reaction processing container 50 is described, it may be described using XY coordinates.
  • the reaction processing apparatus 1 performs a PCR method (polymerase chain reaction) in which thermal cycling is performed by reciprocating a sample solution between two temperature zones in a microchannel of the mounted reaction processing container 50. It is a device using.
  • the reaction processing apparatus 1 amplifies the nucleic acid by utilizing denaturation, annealing of the primer pair to the target strand, and extension of the primer resulting in an exponential increase in the number of copies of the target nucleic acid sequence.
  • the nucleic acid amplification method using the reaction processing apparatus 1 according to the present embodiment may use DNA as a template or RNA as a template. When RNA is used as a template, it is preferable to use reverse transcriptase in combination.
  • the reaction processing apparatus 1 includes a reaction processing container mounting unit 2, temperature adjusting units 3A, 3B, 3C, a liquid feeding mechanism 4A, 4B, a detection unit 5, and a control unit 10. Be prepared.
  • the reaction processing container mounting portion 2 is a portion for mounting the reaction processing container 50.
  • the reaction processing container 50 mounted on the reaction processing container mounting unit 2 is positioned with various components of the reaction processing device 1. The detailed structure of the reaction processing container mounting portion 2 will be described later.
  • the reaction processing container 50 is configured by forming a microchannel 60 in the plate-shaped container body 51.
  • the container body 51 for forming the microchannel 60 is (i) small in autofluorescence, (ii) stable in the temperature range required for PCR, (iii) resistant to erosion by electrolyte solutions and organic solvents, (ii). iv) It is preferable that the material is composed of a material that satisfies some or all of the requirements such as low adsorptivity of nucleic acids and proteins.
  • the material of the container body 51 includes, but is not limited to, various plastics such as glass, quartz, silicon, and cycloolefin polymer (COP).
  • the microchannel 60 is configured by forming a groove on the surface of the container body 51 and sealing the groove with a seal (preferably, a transparent seal made of, for example, polyolefin). Grooves are formed by, for example, machining such as cutting by NC machining, injection molding, nanoimprinting, soft lithography, and the like. Alternatively, the microchannel 60 can be formed in the container body 51 by three-dimensional printing.
  • the shape of the cross section of the microchannel 60 is not particularly limited, and may be a semicircular shape, a circular shape, a rectangular shape, a trapezoidal shape, or the like. Further, the cross section of the microchannel 60 can be, for example, a width of about 10 to 1000 ⁇ m and a depth of about 10 to 1000 ⁇ m. Further, the width and depth of the microchannel 60 can be changed constantly or partially.
  • the microchannel 60 has heated portions 61A, 61B, 61C, intermediate portions 62A, 62B, and connecting portions 63A, 63B.
  • the parts to be heated 61A, 61B, 61C are parts where the temperature of the passing sample solution is adjusted by being heated by the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C (see FIG. 2).
  • the heated portion 61A is formed at a position corresponding to the temperature zone 66A heated by the temperature adjusting portion 3A in the container main body 51.
  • the heated portion 61B is formed at a position corresponding to the temperature zone 66B heated by the temperature adjusting portion 3B in the container main body 51.
  • the heated portion 61C is formed at a position corresponding to the temperature zone 66C heated by the temperature adjusting portion 3C in the container main body 51.
  • the shape of the heated portions 61A, 61B, 61C is a curved flow path such as a loop-shaped meandering shape or a spiral shape in order to secure a flow path length, that is, a staying region of the sample solution in each temperature zone 66A, 66B, 66C. Can be.
  • a sample solution introduction port 54 is formed in the heated portion 61C.
  • the introduction port 54 can be sealed by a seal, a valve, or the like, if necessary.
  • the introduction port 54 is closed with the seal 64.
  • the position of the introduction port 54 can be changed as appropriate, and is not limited to the shape shown in FIG.
  • the communication port 52A is opened and the communication port 52B is closed with a seal.
  • the intermediate portion 62A is a portion that connects the heated portion 61A and the heated portion 61B. That is, the heated portion 61A and the heated portion 61B are arranged so as to be separated from each other in a direction parallel to the surface of the container body 51. Therefore, the intermediate portion 62A is arranged between the heated portion 61A and the heated portion 61B.
  • the intermediate portion 62B is a portion that connects the heated portion 61B and the heated portion 61C. That is, the heated portion 61B and the heated portion 61C are arranged so as to be separated from each other in a direction parallel to the surface of the container body 51. Therefore, the intermediate portion 62B is arranged between the heated portion 61B and the heated portion 61C.
  • the intermediate portions 62A and 62B have a shape extending linearly or substantially linearly, but may have a shape extending linearly.
  • the connecting points between the heated portions 61A and 61B and the intermediate portion 62A are configured as entrances and exits of the respective temperature zones 66A and 66B. Further, the connecting points between the heated portions 61B and 61C and the intermediate portion 62B are configured as entrances and exits of the respective temperature zones 66B and 66C.
  • the connecting portions 63A and 63B are portions that connect the communication ports 52A and 52B for the liquid feeding mechanisms 4A and 4B (see FIG. 2) and the heated portions 61A and 61C.
  • the connecting portion 63B can be said to be a portion that indirectly connects the heated portion 61B and the liquid feeding mechanism 4B via the heated portion 61C and the intermediate portion 62B.
  • a configuration in which the heated portion 61C is omitted may be adopted.
  • the connecting portion 63B connects the heated portion 61B and the liquid feeding mechanism 4B (without passing through the heated portion 61C and the intermediate portion 62B).
  • connection portion 63B can be said to be a portion that directly connects the heated portion 61B and the liquid feeding mechanism 4B.
  • Filters 53A and 53B are provided on the connection portions 63A and 63B.
  • the filters 53A and 53B are members for preventing the evaporated sample solution (aerosol) from contaminating the liquid feeding mechanisms 4A and 4B.
  • the connecting points between the heated portions 61A and 61C and the connecting portions 63A and 63B are configured as entrances and exits of the respective temperature zones 66A and 66C.
  • the reaction processing container 50 has a rectangular plate-like shape.
  • the reaction processing vessel 50 includes an end surface 50a on the positive side (advancing side) of the insertion direction Y, an end surface 50b on the negative side (retract side) of the insertion direction Y, a side surface 50c on the positive side in the width direction X, and the width direction X. It has a negative side surface 50d, an upper surface 50e forming an upper main surface, and a lower surface 50f forming a lower main surface.
  • the heated portion 61A, the intermediate portion 62A, the heated portion 61B, the intermediate portion 62B, and the heated portion 61C are arranged in this order from the positive side to the negative side in the insertion direction Y at positions closer to the side surface 50c. ..
  • the communication ports 52A and 52B are arranged at positions closer to the side surface 50d.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C form temperature zones 66A, 66B, and 66C, respectively. It is preferable that the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C maintain the temperature zones 66A, 66B, and 66C at a constant temperature. In order to maintain such a temperature, the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C are preferably configured by a heat source such as a cartridge heater or a plate heater. However, the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C are not particularly limited as long as they are temperature-adjustable devices.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C maintain the temperatures of the temperature zones 66A, 66B, and 66C at a constant level, so that the heated portions 61A, of the microchannels 60 formed in the temperature zones 66A, 66B, 66C, respectively. 61B and 61C can also be maintained at the corresponding temperatures. Therefore, the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C can change the temperature of the sample solution that has moved to each of the temperature zones 66A, 66B, 66C to a desired temperature in each of the temperature zones 66A, 66B, 66C.
  • the temperature adjusting unit 3A may maintain the temperature zone 66A as the denaturation temperature zone at the temperature required for the DNA denaturation reaction in PCR.
  • the temperature in the denaturation temperature range is preferably about 90 to 100 ° C, more preferably about 95 ° C.
  • the temperature adjusting unit 3B may maintain the temperature zone 66B as the elongation / annealing temperature zone at the temperature required for the DNA annealing reaction and the elongation reaction in PCR.
  • the temperature in the elongation / annealing temperature range is preferably about 40 to 75 ° C, more preferably about 55 to 65 ° C.
  • the temperature adjusting unit 3C may maintain the temperature zone 66C as the reverse transcription reaction temperature zone at a temperature required for the reverse transcription reaction.
  • the temperature in the reverse transfer reaction temperature range is preferably about 37 to 60 ° C, more preferably about 42 to 55 ° C.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C are connected to the drivers 21A, 21B, 21C and the temperature monitoring units 22A, 22B, 22C.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C generate heat for maintaining the respective temperature zones 66A, 66B, 66C at a desired temperature based on the control signal from the control unit 10.
  • the temperature monitoring units 22A, 22B, and 22C are devices that monitor the temperatures of the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C and transmit the monitoring results to the control unit 10.
  • the liquid feeding mechanisms 4A and 4B are mechanisms for moving the sample solution in the microchannel 60 so as to reciprocate between the temperature zone 66A and the temperature zone 66B. As a result, the sample solution can move back and forth between the denaturation temperature zone and the elongation / annealing temperature zone.
  • a mechanism is used in which the air pressures of the air suction part and the air discharge part become equal when the liquid feeding is stopped. Examples of the liquid feeding mechanisms 4A and 4B in which the air pressures of the air suction portion and the air discharging portion become equal when the liquid feeding is stopped include a micro blower and a fan.
  • the liquid feeding mechanisms 4A and 4B are connected to the communication ports 52A and 52B (see FIG. 3) of the reaction processing container 50 via the air supply flow paths 23A and 23B, respectively.
  • the liquid feeding mechanisms 4A and 4B are connected to the drivers 24A and 24B.
  • the drivers 24A and 24B are devices that control the liquid feeding mechanisms 4A and 4B so that the liquid feeding mechanisms 4A and 4B supply air at a desired timing based on the control signal from the control unit 10.
  • the detection unit 5 is a device for detecting the sample solution in the reaction processing container 50.
  • the detection unit 5 detects the sample solution and transmits the detection result to the control unit 10.
  • the detection unit 5 detects the sample solution between the temperature zone 66A and the temperature zone 66B in the reaction processing container 50. Specifically, the detection unit 5 detects the sample solution in the detection region 67 near the center of the intermediate portion 62A of the microchannel 60 (see FIG. 3).
  • the flow path width of the minute flow path 60 in the detection region 67 may be larger than the flow path width of the minute flow path 60 in other places. By increasing the flow path width, the detection accuracy by the detection unit 5 is improved.
  • the detection unit 5 is composed of, for example, a fluorescence detector.
  • the control unit 10 includes a heating control unit 11, a signal detection unit 12, and a liquid feeding mechanism control unit 13.
  • the heating control unit 11 controls the temperature adjustment units 3A, 3B, 3C so that the temperatures in the temperature zones 66A, 66B, 66C are constant at a desired temperature.
  • the signal detection unit 12 receives the detection result from the detection unit 5.
  • the liquid feeding mechanism control unit 13 may control the liquid feeding mechanisms 4A and 4B based on the received signal of the signal detection unit 12 so that the sample solution in the microchannel 60 makes a desired movement.
  • FIG. 4 is a plan view showing a state in which the reaction processing container 50 is mounted on the reaction processing container mounting portion 2.
  • FIG. 4 shows a state in which the upper wall of the reaction processing container mounting portion 2 is omitted.
  • FIG. 4 shows a state in which the upper wall of the reaction processing container mounting portion 2 is omitted.
  • FIG. 4 shows a state in which the upper wall of the reaction processing container mounting portion 2 is omitted.
  • FIG. 4 shows a state in which the upper wall of the reaction processing container mounting portion 2 is omitted.
  • some structures such as the microchannel 60 are omitted.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the reaction processing container 50 is mounted on the reaction processing container mounting portion 2.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a state when the reaction processing container 50 is inserted into the reaction processing container mounting portion 2.
  • FIG. 7 is a schematic view showing the structure of the pressing mechanism 71.
  • the end portion 55 of the reaction processing container 50 on the positive side (advancing side) in the insertion direction Y when the reaction processing apparatus 1 is inserted into the insertion port 30 has a tip (end face 50a).
  • the guide surface 31 is formed so that the thickness becomes thinner toward the direction.
  • the guide surface 31 is composed of an inclined surface formed between the lower surface 50f and the end surface 50a.
  • the guide surface 31 is inclined so as to extend upward from the lower surface 50f toward the positive side in the insertion direction Y.
  • the vertical dimension of the end face 50a is smaller than the thickness dimension of the reaction processing container 50 at other locations.
  • a notch 32 is formed on the side surface 50d on the negative side of the width direction X of the reaction processing device 1 at a position closer to the negative side in the insertion direction Y.
  • the cutout portion 32 has a structure for fixing the reaction processing container 50 in the reaction processing device 1 when the reaction processing container 50 is inserted into the reaction processing device 1.
  • the cutout portion 32 is formed by a groove shape that is recessed from the side surface 50d to the positive side in the width direction X when viewed from the vertical direction.
  • the cutout portion 32 is formed with a tapered surface 32a (see FIG. 3) that widens toward the negative side in the width direction X so that the protruding portion described later can be easily fitted and released. There is.
  • the introduction port 54 is closed with the seal 64.
  • a tapered surface 33 is formed by chamfering the corner portion between the end surface 50a and the side surface 50c of the reaction processing device 1.
  • a non-slip portion 34 is formed on the side surfaces 50c and 50d at the end portion 56 on the negative side in the insertion direction Y. Since the non-slip portion 34 has a plurality of uneven shapes, it is a portion that does not slip easily when the user pinches it with a finger.
  • the reaction processing container mounting unit 2 guides the slide to the positive side in the insertion direction Y and suppresses rattling after the insertion.
  • the reaction processing container mounting portion 2 includes side wall portions 41 and 42, a lower wall portion 44, and an upper wall portion 46 (see FIG. 5).
  • the side wall portion 41 is arranged so as to face the side surface 50d of the reaction processing container 50 from the negative side in the width direction X, and extends in the insertion direction Y.
  • the side wall portion 41 guides the side surface 50d in the insertion direction Y at the time of insertion, and restricts the movement of the side surface 50d in the width direction X to the negative side.
  • the side wall portion 42 is arranged so as to face the side surface 50c of the reaction processing container 50 from the positive side in the width direction X, and extends in the insertion direction Y. As a result, the side wall portion 42 guides the side surface 50c in the insertion direction Y at the time of insertion, and restricts the movement of the side surface 50c in the width direction X to the positive side.
  • the lower wall portion 44 is arranged so as to face the lower surface 50f of the reaction processing container 50 from the lower side, and extends in the insertion direction Y. As a result, the lower wall portion 44 guides the lower surface 50f in the insertion direction Y at the time of insertion, and restricts the downward movement of the lower surface 50f.
  • the upper wall portion 46 is arranged so as to face the upper surface 50e of the reaction processing container 50 from above, and extends in the insertion direction Y. As a result, the upper wall portion 46 guides the upper surface 50e in the insertion direction Y at the time of insertion and restricts the upward movement of the upper surface 50e.
  • the side wall portions 41, 42, the lower wall portion 44, and the upper wall portion 46 may have one or more openings or recesses as long as they can exert the above functions.
  • the side wall portion 41 has a protruding portion 43 that fits into the notch portion 32 formed in the reaction processing container 50 at a position closer to the negative side in the insertion direction Y.
  • the protruding portion 43 can be formed of an elastic member such as a leaf spring or a kick spring having a mountain-shaped shape so as to be inserted into the cutout portion 32.
  • the protruding portion 43 may have a structure in which the latch portion is coupled to the elastic member and the latch portion is fitted to the notch portion 32.
  • the side wall portion 41 has an opening 41a for projecting the protruding portion 43 toward the cutout portion 32 side. Further, the side wall portion 41 has a support wall portion 41b for supporting the protruding portion 43 from the negative side in the width direction X.
  • the protruding portion 43 is in a state of being pressed by the side surface 50d, and is pressed against the support wall portion 41b to the negative side in the width direction X.
  • the elastic force of the protruding portion 43 is released, and the reaction processing container 50 is inserted into the notch portion 32 and fitted.
  • the reaction processing container 50 is fixed to the reaction processing container mounting portion 2 by the notch portion 32 and the protruding portion 43.
  • a slide member 70 is provided at the positive end of the reaction processing container mounting portion 2 in the insertion direction Y.
  • the slide member 70 is pushed by the end face 50a and slides to the positive side in the insertion direction Y (see FIG. 6).
  • the slide member 70 projects to the outside of the reaction processing container mounting portion 2. Therefore, the user can push the reaction processing container 50 out of the insertion port 30 by pushing the slide member 70 to the negative side in the insertion direction Y.
  • the communication ports 52A and 52B are joined with nozzles 47A and 47B communicating with the liquid feeding mechanisms 4A and 4B (see FIG. 2).
  • the nozzles 47A and 47B are made of a material capable of ensuring airtightness between the nozzles 47A and 47B and the upper surface 50e.
  • the detection unit 5 is arranged above the detection area 67.
  • the temperature adjusting portions 3A, 3B, 3C correspond to the heated portions 61A, 61B, 61C of the lower surface 50f.
  • the temperature can be adjusted by contacting the position where the container is used.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C include a contact member 3a and an elastic mechanism 3b. These contact members 3a and elastic mechanism 3b are provided so as to be housed in a recess formed in the lower wall portion 44.
  • the contact member 3a is a block-shaped member that comes into direct contact with the lower surface 50f.
  • the contact member 3a is made of a material having high thermal conductivity such as aluminum, aluminum alloy, and copper alloy.
  • the elastic mechanism 3b is a member or mechanism that generates an elastic force, and any material having heat resistance may be adopted, and a spring member, an elastomer, a rubber material, or the like may be arranged.
  • the elastic mechanism 3b supports the contact member 3a so that the contact member 3a protrudes from the upper surface of the lower wall portion 44 in the state before insertion (see FIG. 6A).
  • the elastic mechanism 3b generates an elastic force when the contact member 3a is lowered downward (see FIG. 6C). As a result, the contact member 3a can come into contact with the lower surface 50f while being pressed by the reaction processing container 50.
  • the heater may be integrated with the contact member 3a, or may be placed between the contact member 3a and the elastic mechanism 3b.
  • the operations of the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C and the nozzles 47A, 47B when the reaction processing container 50 is inserted will be described.
  • the contact member 3a of the temperature adjusting portions 3A, 3B, 3C is the lower wall portion 44. It is in a state of slightly protruding from the upper surface.
  • the contact members 3a of the temperature adjusting portions 3B and 3C come into contact with the lower surface 50f.
  • the upper surface of the contact member 3a is pushed downward by the lower surface 50f, and has the same height as the upper surface of the lower wall portion 44. Therefore, the contact member 3a is in a state of being pressed against the lower surface 50f by the elastic force of the elastic mechanism 3b. Therefore, the contact member 3a can be brought into close contact with the lower surface f.
  • the protruding portion of the contact member 3a comes into contact with the guide surface 31 when it comes into contact with the end portion 55 on the positive side of the reaction processing container 50 in the insertion direction Y. Therefore, the contact member 3a can be guided by the guide surface 31 and smoothly sink downward. Therefore, the end portion 55 of the reaction processing container 50 can smoothly move to the positive side in the insertion direction Y without being caught by the protruding portion of the contact member 3a.
  • the contact members 3a of all the temperature adjusting portions 3A, 3B, and 3C sink and come into close contact with the lower surface 50f.
  • the end portion 55 of the reaction processing container 50 pushes the slide member 70 toward the positive side in the insertion direction Y.
  • the nozzles 47A and 47B come into close contact with the upper surface 50e of the reaction processing container 50 at the positions of the communication ports 52A and 52B (see FIG. 4).
  • the nozzles 47A and 47B can communicate with the communication ports 52A and 52B in a state of ensuring airtightness, and the reaction processing container 50 can be pressed against the lower wall portion 44 to be fixed.
  • the reaction processing apparatus 1 has a pressing mechanism 71 as shown in FIG. 7A.
  • the pressing mechanism 71 includes an arm portion 72 fixed to the slide member 70, a base portion 73 that supports the nozzles 47A and 47B from above, and a fixed guide portion 74 that guides the base portion 73.
  • the arm portion 72 is arranged at a position above the slide member 70 and extends to the positive side in the insertion direction Y.
  • a groove portion 76 extending in the vertical direction is formed on the side surface of the arm portion 72 on the positive side in the width direction X.
  • the base portion 73 is arranged at a position adjacent to the arm portion 72 on the positive side in the width direction X.
  • a protrusion 77 that is inserted into the groove 76 is formed on the negative side surface of the base portion 73 in the width direction X.
  • the protrusion 77 can move relative to the groove 76 in the vertical direction.
  • the base portion 73 has a guide surface 73a at a position of an end portion on the positive side in the insertion direction Y.
  • the guide surface 73a inclines toward the lower side as it extends toward the positive side in the insertion direction Y.
  • the fixed guide portion 74 has a guide surface 74a that comes into contact with the guide surface 73a of the base portion 73 so as to slide in a fixed state so that the position does not change.
  • the reaction processing vessel 50 includes a first heated portion 61A, a second heated portion 61B, a third heated portion 61C (in this embodiment), an intermediate portion 62A, a first connecting portion 63A, and a second. It has a microchannel 60 including a connection portion 63B of the above. Therefore, by mounting the reaction processing container 50 on the reaction processing apparatus 1, the sample solution is reciprocated between the denaturation temperature zone and the extension / annealing temperature zone using the liquid feeding mechanisms 4A and 4B to amplify the nucleic acid. It can be carried out. Further, the absorbance, fluorescence intensity, etc. of the sample solution can be measured in the intermediate portion 62A.
  • the end portion 55 of the reaction processing container 50 on the advancing side (positive side) in the insertion direction Y when the reaction processing container 50 is inserted into the insertion port 30 of the reaction processing apparatus 1 becomes thinner toward the tip.
  • the guide surface 31 is formed.
  • the reaction processing container 50 moves to the advancing side in the insertion direction Y with the end portion 55 having the guide surface 31 as the head (FIG. 6). reference).
  • the contact member 3a of the temperature adjusting portions 3A, 3B, 3C projects into the space inside the reaction processing apparatus 1 (projects from the upper surface of the lower wall portion 44) in order to improve the contact with the reaction processing container 50. There is.
  • the reaction processing container 50 can be smoothly moved to the advancing side in the insertion direction Y by suppressing the catching by coming into contact with the protruding portion of the contact member 3a on the guide surface 31. Therefore, it is possible to appropriately adjust the temperature by improving the contact property between the reaction processing container 50 and the contact members 3a of the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C while enabling the smooth insertion of the reaction processing container 50. Can be done. From the above, it is possible to provide a reaction processing container 50 that can be smoothly inserted into the reaction processing apparatus 1 while enabling appropriate temperature adjustment.
  • the microchannel 60 may include a heated portion 61C between the heated portion 61B and the second connecting portion 63B.
  • another temperature zone in the present embodiment, the reverse transfer reaction temperature zone
  • the reverse transfer reaction temperature zone can be formed in addition to the denaturation temperature zone and the extension / annealing temperature zone.
  • the reaction processing container 50 may be formed with a notch 32 for fixing by the reaction processing device 1 when it is inserted into the reaction processing device 1. In this case, the reaction processing container 50 can be sufficiently fixed to the reaction processing apparatus 1. As a result, the detection unit 5 and the intermediate portion 62A of the reaction processing container 50 can be accurately positioned, so that the measurement accuracy can be improved.
  • the reaction processing device 1 is a reaction processing device 1 having an insertion port 30 for inserting the above-mentioned reaction processing container 50, and is a first heated portion 61A of the inserted reaction processing container 50.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C for adjusting the temperature by contacting the positions corresponding to the second heated portion 61B and the third heated portion 61C are provided, and the temperature adjusting portions 3A, 3B, 3C are provided.
  • the reaction processing container 50 can be contacted in a pressed state.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C can be brought into contact with the reaction processing container 50 in a state of being pressed by the elastic mechanism 3b.
  • the temperature can be adjusted appropriately by improving the contact between the reaction processing container 50 and the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C.
  • the contact members 3a of the temperature adjusting portions 3A, 3B, and 3C may protrude into the space inside the reaction processing apparatus 1, but the reaction processing container 50 is as described above. Since it has a guide surface 31, it can be smoothly inserted into the reaction processing device 1. From the above, it is possible to provide the reaction processing apparatus 1 capable of smoothly inserting the reaction processing container 50 while adjusting the temperature appropriately.
  • the reaction processing apparatus 1 may have a protruding portion 43 that fits into the notch portion 32 formed in the reaction processing container 50.
  • the reaction processing container 50 can be sufficiently fixed to the reaction processing apparatus 1.
  • the detection unit 5 and the intermediate portion 62A of the reaction processing container 50 can be accurately positioned, so that the measurement accuracy can be improved.
  • reaction processing container mounting portion 2 of the reaction processing apparatus 1 is only an example, and may be appropriately changed as long as it does not deviate from the gist of the present disclosure.
  • reaction processing container 50 is only an example, and may be appropriately changed as long as it does not deviate from the gist of the present disclosure.
  • the flow path configuration of the minute flow path 60 may be changed as appropriate.
  • the third heated portion 61C may be omitted.
  • the heated portion 61C may be provided between the heated portion 61A and the first connecting portion 63A.
  • the reaction processing container 50 may have a flat flat plate shape, or the thickness may be changed depending on the location.
  • the reaction processing container 50 as shown in FIGS. 8 to 10 may be adopted.
  • the container main body 51 of the reaction processing container 50 shown in FIG. 8 has a main body 51A.
  • the container body 51 has thick portions 51B at the edges on the long side where the communication ports 52A and 52B and the filters 53A and 53B are formed.
  • 8 (a) is a plan view
  • FIG. 8 (b) is a left side view
  • FIG. 8 (c) is a right side view
  • FIG. 8 (d) is a front view. The same applies to FIGS. 9 and 10.
  • the container body 51 of the reaction processing container 50 shown in FIG. 9 has a thick portion 51C at the edge on the short side where the introduction port 54 is formed, in addition to the thick portion 51B in FIG.
  • a shallow groove 51a is formed at the position of the introduction port 54 in the thick portion 51C.
  • the groove 51a can accommodate a seal 64 that closes the introduction port 54.
  • the container body 51 of the reaction processing container 50 shown in FIG. 10 has a thick portion 51D partially at a portion where the introduction port 54 is formed, in addition to the thick portion 51B of FIG. A shallow groove 51a is formed at the position of the introduction port 54 in the thick portion 51D.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C individually had the elastic mechanism 3b.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, 3C as shown in FIG. 11 may be adopted.
  • an elastic mechanism 103b extending in the insertion direction Y is provided so as to approach the contact members 3a of the temperature adjusting portions 3A, 3B, and 3C.
  • the temperature adjusting units 3A, 3B, and 3C can share the long elastic mechanism 103b.
  • Reaction processing device 3A, 3B, 3C ... Temperature control unit, 3a ... Contact member, 3b, 103b ... Elastic mechanism, 50 ... Reaction processing container, 30 ... Insert port, 31 ... Guide surface, 32 ... Notch, 43 ... projecting portion, 50 ... reaction processing container, 55 ... end portion, 60 ... microchannel, 61A ... first heated portion, 61B ... second heated portion, 61C ... third heated portion, 62A ... intermediate part, 63A ... first connection part, 63B ... second connection part.

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Abstract

反応処理容器は、少なくとも一つの微小流路を有する反応処理容器であって、微小流路は、変性温度帯に対応する第1の被加熱部、及び伸長・アニーリング温度帯に対応する第2の被加熱部と、第1の被加熱部、及び第2の被加熱部を接続する中間部と、第1の被加熱部と送液機構とを接続可能な第1の接続部、及び第2の被加熱部と送液機構とを直接又は間接的に接続可能な第2の接続部と、を備え、中間部における微小流路内の試料溶液を計測可能であり、反応処理装置の挿入口へ挿入するときの挿入方向における進行側の反応処理容器の端部には、先端へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面が形成される。

Description

反応処理容器、及び反応処理装置
本開示は、反応処理容器、及び反応処理装置に関する。
 遺伝子検査は、各種医学分野における検査、農作物や病原性微生物の同定、食品の安全性評価、さらには病原性ウィルスや各種感染症の検査にも広く活用されている。遺伝子である微小量のDNAを高感度に検出するために、DNAの一部を増幅して得られたものを分析する方法が知られている。中でもPCR法(PCR:Polymerase Chain Reaction)は、生体等から採取されたごく微量のDNAのある部分を選択的に増幅する注目の技術である。PCR法は、DNAを含む生体サンプルと、プライマーや酵素などからなるPCR試薬とを混合した試料溶液に、所定のサーマルサイクルを与え、変性、アニーリング及び伸長といった反応を繰り返し起こさせて、DNAの特定の部分を選択的に増幅させるものである。
 PCR法においては、対象の試料溶液をPCRチューブ又は複数の穴が形成されたマイクロプレート(マイクロウェル)などの反応処理容器に所定量入れて行うことが一般的である。これに対し、近年、基板に形成された微細な流路を備える反応処理容器(チップとも呼ばれる)を用いて行うことが実用化されてきている(例えば特許文献1、2)。
特開2009-232700号公報 特許第6226284号
 ここで、反応処理容器を反応処理装置に装着する際には、操作の簡便性の目的から、反応処理容器を挿入口にスライドさせて挿入するスライドイン機構が採用される場合がある。これに対し、反応処理容器の各温度帯における適切な温度調整のためには、反応処理容器の対応箇所に温度調整部を密着させることが必要となる。しかし、上述のスライドイン機構を採用する場合、反応処理容器を反応処理装置に挿入する際に、温度調整部において挿入空間に出張った部分が、反応処理容器に引っ掛かることで、滑らかな挿入が阻害されるという問題がある。
 本開示は、このような課題を解決するためになされたものであり、適切な温度調整を可能としつつ、反応処理装置に滑らかに挿入することができる反応処理容器、及び適切な温度調整をしつつ、反応処理容器を滑らかに挿入できる反応処理装置を提供することを目的とする。
 本開示に係る反応処理容器は、少なくとも一つの微小流路を有する反応処理容器であって、微小流路は、変性温度帯に対応する第1の被加熱部、及び伸長・アニーリング温度帯に対応する第2の被加熱部と、第1の被加熱部、及び第2の被加熱部を接続する中間部と、第1の被加熱部と送液機構とを直接又は間接的に接続可能な第1の接続部、及び第2の被加熱部と送液機構とを直接又は間接的に接続可能な第2の接続部と、を備え、中間部における微小流路内の試料溶液を計測可能であり、反応処理装置の挿入口へ挿入するときの挿入方向における進行側の反応処理容器の端部には、先端へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面が形成される。
 反応処理容器は、第1の被加熱部、第2の被加熱部、中間部、第1の接続部、及び第2の接続部を備える微小流路を有する。従って、反応処理容器を反応処理装置に装着することで、送液機構を用いて、試料溶液を変性温度帯と伸長・アニーリング温度帯との間で往復させて核酸の増幅を行うことができる。また、中間部において試料溶液の吸光度や蛍光強度等の計測も可能となる。ここで、反応処理容器を反応処理装置の挿入口へ挿入するときの挿入方向における進行側の反応処理容器の端部には、先端へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面が形成される。この場合、反応処理容器を反応処理装置の挿入口へ挿入すると、反応処理容器は、ガイド面を有する端部を先頭として、挿入方向の進行側へ移動する。例えば、反応処理容器との接触性を高めるために、温度調整部の部材が、反応処理装置内の空間に突出する場合がある。この場合、反応処理容器は、ガイド面にて当該突出部と接触することで、引っ掛かりを抑制してスムーズに挿入方向の進行側へ移動することができる。従って、反応処理容器のスムーズな挿入を可能としつつ、反応処理容器と温度調整部の部材との接触性を高めることで、適切な温度調整を可能とすることができる。以上より、適切な温度調整を可能としつつ、反応処理装置に滑らかに挿入することができる反応処理容器を提供できる。
 微小流路は、第2の被加熱部と第2の接続部との間に第3の被加熱部を備えてよい。これにより、変性温度帯と伸長・アニーリング温度帯に追加して、他の温度帯を形成することができる。また、第1の被加熱部と第1の接続部との間に第3の被加熱部を備えることもできる。
 反応処理容器には、反応処理装置に挿入した際に、当該反応処理装置にて固定するための切り欠き部が形成されてよい。この場合、反応処理容器を反応処理装置に対して十分に固定することができる。これにより、検出部と反応処理容器の中間部との位置決めを正確に行うことができるため、計測精度を向上できる。
 本開示に係る反応処理装置は、上述の反応処理容器を挿入するための挿入口を有する反応処理装置であって、挿入された反応処理容器の第1の被加熱部及び第2の被加熱部に対応する位置に接触することで、温度を調整する温度調整部を備え、温度調整部は、弾性機構によって、反応処理容器に押圧された状態で接触可能である。
 この反応処理装置において、温度調整部は、弾性機構によって、反応処理容器に押圧された状態で接触可能である。これにより、反応処理容器と温度調整部との接触性を高めることで、適切な温度調整が可能となる。また、このような弾性機構を設けることで、温度調整部の部材が反応処理装置内の空間に突出する場合があるが、反応処理容器が上述のようなガイド面を有しているため、反応処理装置内にスムーズに挿入することができる。以上より、適切な温度調整をしつつ、反応処理容器を滑らかに挿入できる反応処理装置を提供できる。
 反応処理装置は、反応処理容器に形成された切り欠き部に嵌合する突出部を有してよい。この場合、反応処理容器を反応処理装置に対して十分に固定することができる。これにより、検出部と反応処理容器の中間部との位置決めを正確に行うことができるため、計測精度を向上できる。
 本開示に係る反応処理装置は、上述の反応処理容器を挿入するための挿入口を有する反応処理装置であって、挿入された反応処理容器の第1の被加熱部、第2の被加熱部及び第3の被加熱部に対応する位置に接触することで、温度を調整する温度調整部を備え、温度調整部は、弾性機構によって、前記反応処理容器に押圧された状態で接触可能である。反応処理装置。
 本開示によれば、適切な温度調整を可能としつつ、反応処理装置に滑らかに挿入することができる反応処理容器、及び適切な温度調整をしつつ、反応処理容器を滑らかに挿入できる反応処理装置を提供することができる。
本開示の実施形態に係る反応処理容器が挿入される反応処理装置の斜視図である。 反応処理装置の概略構成図である。 反応処理容器を示す平面図である(なお、図中に示される微小流路60は、下面50fに形成されている)。 反応処理容器装着部に反応処理容器を装着した様子を示す平面図である。 反応処理容器装着部に反応処理容器を装着した様子を示す概略断面図である。 反応処理容器を反応処理容器装着部に挿入するときの様子を示す概略断面図である。 押圧機構の構造を示す概略図である。 変形例に係る反応処理容器を示す概略構成図である。 変形例に係る反応処理容器を示す概略構成図である。 変形例に係る反応処理容器を示す概略構成図である。 反応処理容器装着部に反応処理容器を装着した様子を示す別態様の概略断面図である。
 以下、添付図面を参照しながら本開示の一実施形態に係る反応処理容器、及び反応処理装置について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
 図1は、本開示の実施形態に係る反応処理容器50が挿入される反応処理装置1の斜視図である。図2は、反応処理装置1の概略構成図である。図3は、反応処理容器50を示す平面図である。なお、図中に示される微小流路60は、下面50fに形成されるものであるが、微小流路60の構造を明確に示すために実線で示している。反応処理装置1は、反応処理容器50を挿入口30から挿入させて、当該反応処理容器50を装着可能とする。本実施形態では、挿入口30は、反応処理装置1の側面に形成されており、反応処理容器50を水平方向にスライドさせて挿入させるスライドイン機構を備えている。反応処理容器50は長方形板状の形状を有している。挿入時において、反応処理容器50は、主面が水平な状態で、長手方向と挿入方向とを平行として反応処理装置1に挿入される。ここで、本明細書では、反応処理装置1に対してXY座標系を設定して説明を行う場合がある。反応処理容器50の挿入方向をY軸方向とする。このとき挿入方向Yの進行側を正側とし、挿入方向Yの後退側を負側とする。挿入方向Yと垂直な幅方向をX軸方向とする。幅方向Xの一方側を正側とし、幅方向Xの他方側を負側とする。なお、反応処理容器50は、反応処理装置1に対して自由に姿勢を変更することができる。ただし、反応処理容器50の構成について説明するときは、反応処理装置1に挿入した状態、または挿入直前の状態における姿勢を基準とする。従って、反応処理容器50の構成を説明する場合も、XY座標を用いて説明する場合がある。
 また、反応処理装置1は、装着した反応処理容器50の微小流路内で試料溶液を二つの温度帯間を往復移動させることにより、サーマルサイクリングを行うPCR法(ポリメラーゼ連鎖反応:Polymerase Chain Reaction)を用いた装置である。反応処理装置1は、変性、プライマー対の標的鎖へのアニーリング、ターゲット核酸配列のコピー数の指数関数的な増加をもたらすプライマーの伸長を利用し、核酸の増幅を行う。本実施形態に係る反応処理装置1を用いた核酸増幅方法は、DNAを鋳型とするものであっても、RNAを鋳型とするものであってもよい。RNAを鋳型とする場合には、逆転写酵素を併用することが好ましい。
 図2に示すように、反応処理装置1は、反応処理容器装着部2と、温度調整部3A,3B,3Cと、送液機構4A,4Bと、検出部5と、制御部10と、を備える。
 反応処理容器装着部2は、反応処理容器50を装着する部分である。反応処理容器装着部2に装着された反応処理容器50は、反応処理装置1の各種構成要素との位置決めがなされる。反応処理容器装着部2の詳細な構造については後述する。
 ここで、図3を参照して、反応処理容器50の構成について説明する。図3に示すように、反応処理容器50は、板状の容器本体51に微小流路60を形成することによって、構成される。
 微小流路60を形成するための容器本体51は、(i)自家蛍光が小さい、(ii)PCRに必要な温度範囲において安定である、(iii)電解質溶液や有機溶媒に侵食されにくい、(iv)核酸やタンパク質の吸着性が低いなどの要件の一部又は全部を満たす材料から構成されることが好ましい。具体的には、容器本体51の材料は、ガラス、石英、シリコン、シクロオレフィンポリマー(COP)などの各種プラスチックが例示されるが、これらに限定されるものではない。
 微小流路60は、溝を容器本体51の表面に形成し、当該溝をシール(好ましくは、例えばポリオレフィン製などの透明シール)により密閉することによって構成される。溝は、例えば、NC加工による切削などの機械加工、射出成形、ナノインプリンティング、ソフトリソグラフィーなどの方法により形成される。あるいは、三次元プリンティングにより容器本体51中に微小流路60を形成することもできる。微小流路60の断面の形状は、特に限定されず、半円形状、円形状、直方形状、台形形状などとすることができる。また、微小流路60の断面は、例えば、幅10~1000μm程度、深さ10~1000μm程度とすることができる。また、微小流路60の幅及び深さのそれぞれは、一定、または、部分的に幅若しくは深さが変化するものとすることができる。
 図3に示す例においては、微小流路60は、被加熱部61A,61B,61Cと、中間部62A,62Bと、接続部63A,63Bと、を有する。
 被加熱部61A,61B,61Cは、温度調整部3A,3B,3C(図2参照)によって加熱されることで、通過する試料溶液の温度調整がなされる部分である。被加熱部61Aは、容器本体51のうち、温度調整部3Aで加熱される温度帯66Aに対応する位置に形成される。被加熱部61Bは、容器本体51のうち、温度調整部3Bで加熱される温度帯66Bに対応する位置に形成される。被加熱部61Cは、容器本体51のうち、温度調整部3Cで加熱される温度帯66Cに対応する位置に形成される。被加熱部61A,61B,61Cの形状は、流路長、すなわち各温度帯66A,66B,66Cにおける試料溶液の滞在領域を確保するために、ループ状の蛇行形状、渦巻き形状などの曲線流路とすることができる。
 なお、被加熱部61Cには、試料溶液の導入口54が形成される。導入口54は、必要に応じてシールや弁等により密閉可能とすることができる。本実施形態では、試料溶液の注入後に、導入口54がシール64で塞がれる。なお、導入口54の位置は適宜変更可能であり、図3に示される形状に限定されるものではない。例えば、被加熱部61Cに分岐点を設け、一端が分岐点に接続する分岐流路を形成し、分岐流路の他端に導入口を設けることも可能である。導入口54から試料溶液を導入する際は、連通口52Aが開放され、連通口52Bがシールで塞がれていることが好ましい。
 中間部62Aは、被加熱部61Aと被加熱部61Bとを接続する部分である。すなわち、被加熱部61Aと、被加熱部61Bとは、容器本体51の表面と平行な方向において互いに離間するように配置されている。従って、中間部62Aは、被加熱部61Aと被加熱部61Bとの間に配置される。中間部62Bは、被加熱部61Bと被加熱部61Cとを接続する部分である。すなわち、被加熱部61Bと、被加熱部61Cとは、容器本体51の表面と平行な方向において互いに離間するように配置されている。従って、中間部62Bは、被加熱部61Bと被加熱部61Cとの間に配置される。図3に示す例では、中間部62A,62Bは、直線状、又は略直線状に延びる形状を有するが、曲線状に延びる形状を有してもよい。なお、被加熱部61A,61Bと中間部62Aとの連結点は、各温度帯66A,66Bの出入口として構成される。また、被加熱部61B,61Cと中間部62Bとの連結点は、各温度帯66B,66Cの出入口として構成される。
 接続部63A,63Bは、送液機構4A,4B(図2参照)に対する連通口52A,52Bと、被加熱部61A,61Cと、を接続する部分である。なお、接続部63Bは、被加熱部61C及び中間部62Bを介して、被加熱部61Bと送液機構4Bとを間接的に接続する部分とも言える。なお、被加熱部61Cが省略された構成が採用されてもよい。この場合、接続部63Bは、被加熱部61Bと送液機構4Bとを(被加熱部61C及び中間部62Bを介することなく)接続する。このような接続関係では、接続部63Bは、被加熱部61Bと送液機構4Bとを直接的に接続する部分と言える。接続部63A,63Bには、フィルタ53A,53Bが設けられる。フィルタ53A,53Bは、蒸発した試料溶液(エアロゾル)が送液機構4A,4Bを汚染することを防止するための部材である。なお、被加熱部61A,61Cと接続部63A,63Bとの連結点は、各温度帯66A,66Cの出入口として構成される。
 上述のように、反応処理容器50は、長方形板状の形状を有している。反応処理容器50は、挿入方向Yの正側(進行側)の端面50aと、挿入方向Yの負側(後退側)の端面50bと、幅方向Xの正側の側面50cと、幅方向Xの負側の側面50dと、上側の主面を構成する上面50eと、下側の主面を構成する下面50fと、を有する。被加熱部61A、中間部62A、被加熱部61B、中間部62B、及び被加熱部61Cは、側面50c寄りの位置において、挿入方向Yにおける正側から負側へ向かってこの順序で配置される。連通口52A,52Bは、側面50d寄りの位置に配置される。
 図2に戻り、温度調整部3A,3B,3Cは、温度帯66A,66B,66Cをそれぞれ形成する。温度調整部3A,3B,3Cは、温度帯66A,66B,66Cのそれぞれを一定の温度に維持することが好ましい。このような温度維持を行うために、温度調整部3A,3B,3Cは、カートリッジヒーター、プレートヒーター等の熱源によって構成されることが好ましい。ただし、温度調整部3A,3B,3Cは、温度調整可能な機器であれば特に限定されない。
 温度調整部3A,3B,3Cは、温度帯66A,66B,66Cの温度をそれぞれ一定に維持することで、各温度帯66A,66B,66Cに形成される微小流路60の被加熱部61A,61B,61Cも、対応する温度に維持することができる。従って、温度調整部3A,3B,3Cは、各温度帯66A,66B,66Cに移動してきた試料溶液の温度を、各温度帯66A,66B,66Cにおける所望の温度に変化させることができる。
 例えば、温度調整部3Aは、温度帯66Aを変性温度帯として、PCRにおけるDNA変性反応に必要な温度に維持してよい。変性温度帯の温度は90~100℃程度が好ましく、95℃程度がより好ましい。温度調整部3Bは、温度帯66Bを伸長・アニーリング温度帯として、PCRにおけるDNAのアニーリング反応及び伸長反応のために必要な温度に維持してよい。伸長・アニーリング温度帯の温度は40~75℃程度が好ましく、55~65℃程度がより好ましい。温度調整部3Cは、温度帯66Cを逆転写反応温度帯として、逆転写反応のために必要な温度に維持してよい。逆転写反応温度帯の温度は37~60℃程度が好ましく、42~55℃程度がより好ましい。
 なお、温度調整部3A,3B,3Cは、ドライバ21A,21B,21C、及び温度監視部22A,22B,22Cと接続される。ドライバ21A,21B,21Cは、制御部10からの制御信号に基づいて温度調整部3A,3B,3Cが各温度帯66A,66B,66Cを所望の温度に維持するための熱を発生するように、温度調整部3A,3B,3Cを制御する機器である。温度監視部22A,22B,22Cは、温度調整部3A,3B,3Cの温度を監視して、制御部10へ監視結果を送信する機器である。
 送液機構4A,4Bは、温度帯66Aと温度帯66Bとを往復するように、試料溶液を微小流路60内で移動させる機構である。これにより、試料溶液は、変性温度帯と伸長・アニーリング温度帯との間を往復するように移動できる。送液機構4A,4Bとして、送液停止時に空気吸入部と空気吐出部の気圧が等しくなる機構が使用される。送液停止時に空気吸入部と空気吐出部の気圧が等しくなる送液機構4A,4Bの例としては、マイクロブロア、ファンを挙げることができる。
 送液機構4A,4Bは、空気供給流路23A,23Bを介して、反応処理容器50の連通口52A,52B(図3参照)にそれぞれ接続される。送液機構4A,4Bは、ドライバ24A,24Bと接続されている。ドライバ24A,24Bは、制御部10からの制御信号に基づいて、送液機構4A,4Bが所望のタイミングで空気を供給するように、送液機構4A,4Bを制御する機器である。送液機構4Aが空気を供給すると、微小流路60(図3参照)内の試料溶液は、温度帯66A側から温度帯66B側へ向かう方向へ送液される。送液機構4Bが空気を供給すると、微小流路60(図3参照)内の試料溶液は、温度帯66B側から温度帯66A側へ向かう方向へ送液される。
 検出部5は、反応処理容器50内の試料溶液を検出するための機器である。検出部5は、試料溶液を検出して、当該検出結果を制御部10へ送信する。検出部5は、反応処理容器50のうち、温度帯66Aと温度帯66Bとの間において、試料溶液を検出する。具体的には、検出部5は、微小流路60の中間部62Aの中央付近における検出領域67において、試料溶液を検出する(図3参照)。なお、検出領域67における微小流路60の流路幅は、他の箇所における微小流路60の流路幅に比べて大きくてもよい。流路幅を大きくすることにより、検出部5による検出精度が向上する。検出部5は、例えば、蛍光検出器によって構成される。
 制御部10は、加熱制御部11と、信号検出部12と、送液機構制御部13と、を備える。加熱制御部11は、温度帯66A,66B,66Cの温度が所望の温度にて一定となるように温度調整部3A,3B,3Cを制御する。信号検出部12は、検出部5からの検出結果を受信する。送液機構制御部13は、微小流路60内の試料溶液が所望の移動を行うように、信号検出部12の受信信号に基づいて送液機構4A,4Bを制御してもよい。
 次に、図4~図7を参照して、本実施形態に係る反応処理容器50及び反応処理装置1の特徴部分について詳細に説明する。図4は、反応処理容器装着部2に反応処理容器50を装着した様子を示す平面図である。図4では、反応処理容器装着部2の上壁を省略した状態が示されている。また、図4では、特徴を明確にするために、微小流路60などの一部の構造を省略している。図5は、反応処理容器装着部2に反応処理容器50を装着した様子を示す概略断面図である。図6は、反応処理容器50を反応処理容器装着部2に挿入するときの様子を示す概略断面図である。図7は、押圧機構71の構造を示す概略図である。
 図4及び図5に示すように、反応処理装置1の挿入口30へ挿入するときの挿入方向Yにおける正側(進行側)の反応処理容器50の端部55には、先端(端面50a)へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面31が形成される。ガイド面31は、下面50fと端面50aとの間に形成された傾斜面によって構成される。ガイド面31は、下面50fから挿入方向Yの正側へ延びるに従って上側へ向かうように傾斜している。これにより、端面50aの上下方向の寸法は、他の箇所の反応処理容器50の厚さ寸法に比べて小さくなっている。
 図4に示すように、反応処理装置1の幅方向Xの負側の側面50dには、挿入方向Yの負側寄りの位置に、切り欠き部32が形成される。この切り欠き部32は、反応処理容器50を反応処理装置1に挿入した際に、当該反応処理装置1にて固定するための構造である。切り欠き部32は、上下方向から見て、側面50dから幅方向Xの正側へ窪むような溝形状によって構成される。なお、切り欠き部32には、後述の突出部が嵌合、及び嵌合解除し易いように、幅方向Xの負側へ向かって広がるようなテーパー面32a(図3参照)が形成されている。なお、挿入時には、導入口54は、シール64で塞がれている。
 また、図4に示すように、反応処理装置1の端面50aと側面50cとの間の角部には、面取りがなされることでテーパー面33が形成されている。また、挿入方向Yの負側における端部56には、側面50c,50dに滑り止め部34が形成されている。滑り止め部34は、複数の凹凸形状を有することで、使用者が指でつまんだときに、滑りにくい箇所となっている。
 反応処理容器装着部2は、上述のような反応処理容器50が挿入口30から挿入されたときに、挿入方向Yの正側へのスライドを案内すると共に、挿入後にがたつきを抑制するような構造を有している。具体的に、反応処理容器装着部2は、側壁部41,42と、下壁部44及び上壁部46(図5参照)と、を備える。側壁部41は、反応処理容器50の側面50dに対して幅方向Xの負側から対向するように配置され、挿入方向Yに延びている。これにより、側壁部41は、挿入時に側面50dを挿入方向Yへガイドすると共に、側面50dの幅方向Xの負側への移動を規制する。側壁部42は、反応処理容器50の側面50cに対して幅方向Xの正側から対向するように配置され、挿入方向Yに延びている。これにより、側壁部42は、挿入時に側面50cを挿入方向Yへガイドすると共に、側面50cの幅方向Xの正側への移動を規制する。図5に示すように、下壁部44は、反応処理容器50の下面50fに対して下側から対向するように配置され、挿入方向Yに延びている。これにより、下壁部44は、挿入時に下面50fを挿入方向Yへガイドすると共に、下面50fの下方向への移動を規制する。上壁部46は、反応処理容器50の上面50eに対して上側から対向するように配置され、挿入方向Yに延びている。これにより、上壁部46は、挿入時に上面50eを挿入方向Yへガイドすると共に、上面50eの上方向への移動を規制する。側壁部41、42と下壁部44及び上壁部46は、上記機能を発揮できる範囲であれば、1個又は複数個の開口部あるいは凹部を有していてもよい。
 側壁部41は、挿入方向Yの負側寄りの位置に、反応処理容器50に形成された切り欠き部32に嵌合する突出部43を有する。突出部43は、切り欠き部32に挿入されるような山型の形状を有する板バネ、キックバネ等の弾性部材によって構成することができる。突出部43は、弾性部材にラッチ部が結合し、ラッチ部が切り欠き部32に嵌合する構造であってもよい。側壁部41は、突出部43を切り欠き部32側へ突出させるための開口部41aを有する。また、側壁部41は、突出部43を幅方向Xの負側から支持するための支持壁部41bを有する。これにより、反応処理容器50の挿入途中の段階では、突出部43は、側面50dに押さえられた状態となり、支持壁部41bに対して幅方向Xの負側へ押圧される。反応処理容器50の挿入が完了すると(図4に示す状態)、突出部43の弾性力が開放されて、切り欠き部32へ入り込んで嵌合する。これにより、反応処理容器50が切り欠き部32及び突出部43によって、反応処理容器装着部2に固定される。
 反応処理容器装着部2の挿入方向Yの正側の端部には、スライド部材70が設けられる。スライド部材70は、反応処理容器50が奥側まで挿入されたら、端面50aに押されることで、挿入方向Yの正側へスライドする(図6参照)。スライド部材70は、反応処理容器50の挿入が完了したら、反応処理容器装着部2の外部へ突出する。従って、使用者は、スライド部材70を挿入方向Yの負側へ押すことで、反応処理容器50を挿入口30から押し出すことができる。
 反応処理容器50が反応処理容器装着部2に装着された状態では、連通口52A,52Bには、送液機構4A,4B(図2参照)に連通されるノズル47A,47Bが接合される。ノズル47A,47Bは、上面50eとの間の気密性を確保することができる材料によって構成される。また、検出領域67の上側に検出部5が配置される。
 図5に示すように、反応処理容器50が反応処理容器装着部2に装着された状態では、温度調整部3A,3B,3Cは、下面50fのうち、被加熱部61A,61B,61Cに対応する位置に接触することで、温度調整が可能となる。ここで、温度調整部3A、3B,3Cは、接触部材3aと、弾性機構3bと、を備える。これらの接触部材3a及び弾性機構3bは、下壁部44に形成された凹部に収容されるように設けられる。接触部材3aは、下面50fと直接接触するブロック状の部材である。接触部材3aは、例えばアルミニウム、アルミ合金、銅合金などの熱伝導率の高い材料で構成される。弾性機構3bは弾性力を発生する部材や機構であり、耐熱性を有するものであればどのようなものを採用してもよく、ばね部材や、エラストマー、ゴム材料などを配置してよい。弾性機構3bは、挿入前の状態においては、接触部材3aが下壁部44の上面よりも突出するように、接触部材3aを支持する(図6(a)参照)。弾性機構3bは、接触部材3aが下方へ下がることによって(図6(c)参照)、弾性力を発生する。これにより、接触部材3aは、反応処理容器50に押圧された状態で、下面50fに接触可能である。なお、ヒーターは、接触部材3aと一体になっていてもよく、接触部材3aと弾性機構3bの間に置かれてもよい。
 図6を参照して、反応処理容器50の挿入時における温度調整部3A,3B,3C及びノズル47A,47Bの動作について説明する。図6(a)に示すように、反応処理容器50の端部55が挿入口30に挿入された直後の状態では、温度調整部3A,3B,3Cの接触部材3aは、下壁部44の上面よりも僅かに突出した状態となっている。図6(b)に示すように、反応処理容器50を更に挿入すると、温度調整部3B,3Cの接触部材3aが下面50fと接触する。このとき、接触部材3aの上面は、下面50fによって下側に押され、下壁部44の上面と同じ高さとなる。従って、接触部材3aは、弾性機構3bの弾性力によって、下面50fに押圧された状態となる。そのため、接触部材3aは、下面fに密着することができる。
 ここで、接触部材3aの突出部分は、反応処理容器50の挿入方向Yの正側の端部55と接触するときには、ガイド面31と接触する。そのため、接触部材3aは、ガイド面31にガイドされて、下側へスムーズに沈み込むことができる。そのため、反応処理容器50の端部55は、接触部材3aの突出部分と引っ掛かることなく、スムーズに挿入方向Yの正側へ移動することができる。
 図6(c)に示すように、反応処理容器50の挿入が完了すると、全ての温度調整部3A,3B,3Cの接触部材3aが沈み込んで、下面50fと密着する状態となる。このとき、反応処理容器50の端部55は、スライド部材70を挿入方向Yの正側へ押し出す。また、ノズル47A,47Bは、下方へ移動することにより、連通口52A,52B(図4参照)の位置にて、反応処理容器50の上面50eと密着する。これにより、ノズル47A,47Bは、連通口52A,52Bと気密性を確保した状態で連通すると共に、反応処理容器50を下壁部44へ押し付けて固定することができる。
 ここで、ノズル47A,47Bは、スライド部材70がスライドするときの力を利用して、下側へ移動してよい。反応処理装置1は、図7(a)に示すような、押圧機構71を有している。押圧機構71は、スライド部材70に固定されたアーム部72と、ノズル47A,47Bを上側から支持するベース部73と、ベース部73をガイドする固定ガイド部74と、を備える。アーム部72は、スライド部材70よりも上側の位置に配置され、挿入方向Yの正側へ延びる。アーム部72の幅方向Xの正側の側面には、上下方向へ延びる溝部76が形成されている。ベース部73は、アーム部72に対して幅方向Xの正側に隣り合う位置に配置される。ベース部73の幅方向Xの負側の側面には、溝部76に挿入されるような突起部77が形成されている。突起部77は、溝部76内で上下方向に相対移動できる。また、ベース部73は、挿入方向Yの正側の端部の位置に、ガイド面73aを有する。ガイド面73aは、挿入方向Yの正側へ延びるに従って、下側へ向かうように傾斜する。固定ガイド部74は、位置が変動しないように固定された状態で、ベース部73のガイド面73aを摺動させるように接触するガイド面74aを有する。
 図7(b)に示すように、スライド部材70が挿入方向Yの正側へ移動すると、アーム部72も移動する。このとき、溝部76によって突起部77が引っ張られることで、ベース部73が挿入方向Yの正側へ移動する。このとき、ベース部73は、ガイド面73aが固定ガイド部74のガイド面74aに対して摺動することで、斜め下側へ向かうように移動する。このとき、溝部76内では、突起部77の下側への相対移動が許容されている。このような動作により、ノズル47A,47Bは、ベース部73と共に、斜め下方へ移動して、反応処理容器50と接触する。
 次に、本実施形態に係る反応処理容器50、及び反応処理装置1の作用・効果について説明する。
 反応処理容器50は、第1の被加熱部61A、第2の被加熱部61B、(本実施形態では)第3の被加熱部61C、中間部62A、第1の接続部63A、及び第2の接続部63Bを備える微小流路60を有する。従って、反応処理容器50を反応処理装置1に装着することで、送液機構4A,4Bを用いて、試料溶液を変性温度帯と伸長・アニーリング温度帯との間で往復させて核酸の増幅を行うことができる。また、中間部62Aにおいて試料溶液の吸光度や蛍光強度等の計測も可能となる。ここで、反応処理容器50を反応処理装置1の挿入口30へ挿入するときの挿入方向Yにおける進行側(正側)の反応処理容器50の端部55には、先端へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面31が形成される。この場合、反応処理容器50を反応処理装置1の挿入口30へ挿入すると、反応処理容器50は、ガイド面31を有する端部55を先頭として、挿入方向Yの進行側へ移動する(図6参照)。例えば、反応処理容器50との接触性を高めるために、温度調整部3A,3B,3Cの接触部材3aが、反応処理装置1内の空間に突出(下壁部44の上面から突出)する場合がある。この場合、反応処理容器50は、ガイド面31にて接触部材3aの当該突出部と接触することで、引っ掛かりを抑制してスムーズに挿入方向Yの進行側へ移動することができる。従って、反応処理容器50のスムーズな挿入を可能としつつ、反応処理容器50と温度調整部3A,3B,3Cの接触部材3aとの接触性を高めることで、適切な温度調整を可能とすることができる。以上より、適切な温度調整を可能としつつ、反応処理装置1に滑らかに挿入することができる反応処理容器50を提供できる。
 微小流路60は、被加熱部61Bと第2の接続部63Bとの間に被加熱部61Cを備えてよい。これにより、変性温度帯と伸長・アニーリング温度帯に追加して、他の温度帯(本実施形態では逆転写反応温度帯)を形成することができる。
 反応処理容器50には、反応処理装置1に挿入した際に、当該反応処理装置1にて固定するための切り欠き部32が形成されてよい。この場合、反応処理容器50を反応処理装置1に対して十分に固定することができる。これにより、検出部5と反応処理容器50の中間部62Aとの位置決めを正確に行うことができるため、計測精度を向上できる。
 本実施形態に係る反応処理装置1は、上述の反応処理容器50を挿入するための挿入口30を有する反応処理装置1であって、挿入された反応処理容器50の第1の被加熱部61A、第2の被加熱部61B及び第3の被加熱部61Cに対応する位置に接触することで、温度を調整する温度調整部3A,3B,3Cを備え、温度調整部3A,3B,3Cは、弾性機構3bによって、反応処理容器50に押圧された状態で接触可能である。
 この反応処理装置1において、温度調整部3A,3B,3Cは、弾性機構3bによって、反応処理容器50に押圧された状態で接触可能である。これにより、反応処理容器50と温度調整部3A,3B,3Cとの接触性を高めることで、適切な温度調整が可能となる。また、このような弾性機構3bを設けることで、温度調整部3A、3B,3Cの接触部材3aが反応処理装置1内の空間に突出する場合があるが、反応処理容器50が上述のようなガイド面31を有しているため、反応処理装置1内にスムーズに挿入することができる。以上より、適切な温度調整をしつつ、反応処理容器50を滑らかに挿入できる反応処理装置1を提供できる。
 反応処理装置1は、反応処理容器50に形成された切り欠き部32に嵌合する突出部43を有してよい。この場合、反応処理容器50を反応処理装置1に対して十分に固定することができる。これにより、検出部5と反応処理容器50の中間部62Aとの位置決めを正確に行うことができるため、計測精度を向上できる。
 本開示は上述の実施形態に限定されるものではない。
 例えば、上述の反応処理装置1の反応処理容器装着部2の構成は一例に過ぎず、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更してよい。
 また、上述の反応処理容器50の構造は一例に過ぎず、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更してよい。例えば、微小流路60の流路構成は適宜変更してよい。また、第3の被加熱部61Cを省略してよい。また、被加熱部61Aと第1の接続部63Aとの間に被加熱部61Cを備えてもよい。
 また、反応処理容器50は、平面平板状であってもよいし、厚みを場所によって変更してよい。例えば、図8~図10に示すような反応処理容器50を採用してよい。例えば、図8に示す反応処理容器50の容器本体51は、本体部51Aを有している。また、容器本体51は、連通口52A,52B、及びフィルタ53A,53Bが形成されている長辺側の縁部に厚肉部51Bを有している。なお、図8(a)は平面図、図8(b)は左側面図、図8(c)は右側面図、図8(d)は正面図である。図9及び図10についても同様である。
 図9に示す反応処理容器50の容器本体51は、図8の厚肉部51Bに加えて、導入口54が形成されている短辺側の縁部に厚肉部51Cを有している。なお、厚肉部51Cのうち、導入口54の位置には浅い溝部51aが形成されている。この溝部51aは、導入口54を塞ぐシール64を収容することができる。これにより、反応処理容器50を挿入口30に挿入したときに、シール64の厚みの出っ張りを押さえて、シール64の剥がれを抑制できる。なお、シール64のはがれを抑制するために、反応処理容器装着部2の他の空間に比べて、挿入口30付近の空間だけ部分的に広くしてもよい。
 図10に示す反応処理容器50の容器本体51は、図8の厚肉部51Bに加えて、導入口54が形成されている箇所に部分的に厚肉部51Dを有している。なお、厚肉部51Dのうち、導入口54の位置には浅い溝部51aが形成されている。
 図5に示す例においては、温度調整部3A,3B,3Cが個別に弾性機構3bを有していた。これに代えて、図11に示すような温度調整部3A,3B,3Cを採用してもよい。図11に示す例においては、温度調整部3A,3B,3Cのそれぞれの接触部材3aに差し掛かるように、挿入方向Yに延びる弾性機構103bが設けられている。この場合、温度調整部3A,3B,3Cは、長尺な弾性機構103bを共有することができる。
 1…反応処理装置、3A,3B,3C…温度調整部、3a…接触部材、3b,103b…弾性機構、50…反応処理容器、30…挿入口、31…ガイド面、32…切り欠き部、43…突出部、50…反応処理容器、55…端部、60…微小流路、61A…第1の被加熱部、61B…第2の被加熱部、61C…第3の被加熱部、62A…中間部、63A…第1の接続部、63B…第2の接続部。

Claims (6)

  1.  少なくとも一つの微小流路を有する反応処理容器であって、
     前記微小流路は、
      変性温度帯に対応する第1の被加熱部、及び伸長・アニーリング温度帯に対応する第2の被加熱部と、
      前記第1の被加熱部、及び前記第2の被加熱部を接続する中間部と、
      前記第1の被加熱部と送液機構とを直接又は間接的に接続可能な第1の接続部、及び前記第2の被加熱部と送液機構とを直接又は間接的に接続可能な第2の接続部と、を備え、
     前記中間部における前記微小流路内の試料溶液を計測可能であり、
     反応処理装置の挿入口へ挿入するときの挿入方向における進行側の前記反応処理容器の端部には、先端へ向かうに従って厚みが薄くなるようなガイド面が形成される、反応処理容器。
  2.  前記微小流路は、前記第2の被加熱部と前記第2の接続部との間に第3の被加熱部を備える、請求項1記載の反応処理容器。
  3.  前記反応処理装置に挿入した際に、当該反応処理装置にて固定するための切り欠き部が形成される、請求項1又は2に記載の反応処理容器。
  4.  請求項1~3のいずれか一項に記載の反応処理容器を挿入するための挿入口を有する反応処理装置であって、
     挿入された前記反応処理容器の前記第1の被加熱部及び前記第2の被加熱部に対応する位置に接触することで、温度を調整する温度調整部を備え、
     前記温度調整部は、弾性機構によって、前記反応処理容器に押圧された状態で接触可能である、反応処理装置。
  5.  前記反応処理容器に形成された切り欠き部に嵌合する突出部を有する、請求項4に記載の反応処理装置。
  6.  請求項2又は3に記載の反応処理容器を挿入するための挿入口を有する反応処理装置であって、
     挿入された前記反応処理容器の前記第1の被加熱部、前記第2の被加熱部及び第3の被加熱部に対応する位置に接触することで、温度を調整する温度調整部を備え、
     前記温度調整部は、弾性機構によって、前記反応処理容器に押圧された状態で接触可能である、反応処理装置。
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