WO2021222963A1 - Security element - Google Patents

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Marco Mayrhofer
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Hueck Folien Gesellschaft M.B.H.
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Abstract

The invention relates to a security element (1) for a value document, a security paper and the like, having at least one carrier film (2), wherein the security element has at least one image as a security feature, wherein the image preferably depicts at least one character, in particular at least one alphanumeric character and/or an icon and/or a geometric figure and/or a symbol and/or a portrait and/or a landscape and/or a building and/or an animal, wherein the security element has embossed structures (3), the embossed structures (3) having portions (4, 5, 6, 7, 8, 9) which are inclined differently relative to a surface of the carrier film (2) and at least one coating (10) which produces the image and has regions of differing opacity is applied to the structures (3), and a layer thickness (dl, d2, d3, d4) of the at least one coating (10) depends on an inclination of the portions (4, 5, 6, 7, 8, 9) of the embossed structures (3).

Description

SICHERHEITSELEMENT SECURITY ELEMENT
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und dergleichen mit zumindest einer Trägerfolie, wobei das Sicherheitselement zumindest ein Bild als Sicherheitsmerkmal aufweist, wobei das Bild bevorzugterweise zumindest ein Zei chen, insbesondere zumindest ein alphanumerisches Zeichen und/oder ein Ikon und/oder eine geometrische Figur und/oder ein Symbol und/oder ein Porträts und/oder eine Landschaft und/oder ein Gebäude und/oder ein Tier darstellt. The invention relates to a security element for a value document, a security paper and the like with at least one carrier film, the security element having at least one image as a security feature, the image preferably at least one character, in particular at least one alphanumeric character and / or an icon and / or represents a geometric figure and / or a symbol and / or a portrait and / or a landscape and / or a building and / or an animal.
Üblicherweise erfolgt die Herstellung von Bildern auf Sicherheitselementen mittels Auf- und teilweisen Abtragen von Schichten. Hierbei kommen an sich bekannte Verfahren, beispiels weise Waschverfahren zum Einsatz. Alternativ können Bilder auch mittels herkömmlicher Druckverfahren, beispielsweise mittels Tiefdruckverfahren, auf das Sicherheitselement aufge tragen werden. Nachteilig an den bekannten Verfahren ist es jedoch, dass das Erzeugen von sehr kleinen hochaufgelösten Bildern nur sehr schwierig oder nicht möglich ist, worunter die Fälschungssicherheit derartiger Bilder leidet. Usually, images are produced on security elements by applying and partially removing layers. Methods known per se, for example washing methods, are used here. Alternatively, images can also be applied to the security element using conventional printing processes, for example using gravure printing processes. The disadvantage of the known method, however, is that it is very difficult or impossible to generate very small, high-resolution images, which means that such images are not forgery-proof.
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung die oben genannten Nachteile des Stands der Technik zu überwinden und ein Sicherheitselement mit erhöhter Fälschungssicherheit zu schaffen.It is therefore an object of the invention to overcome the above-mentioned disadvantages of the prior art and to create a security element with increased security against forgery.
Diese Aufgabe wird mit einem Sicherheitselement der eingangs genannten Art erfindungsge mäß dadurch gelöst, dass das Sicherheitselement geprägte Strukturen aufweist, wobei die ge prägten Strukturen unterschiedlich zu einer Oberfläche der Trägerfolie geneigte Abschnitte aufweisen und auf die Strukturen zumindest eine das Bild erzeugende Beschichtung mit Be reichen unterschiedlicher Opazität aufgebracht ist und eine Schichtdicke der zumindest einen Beschichtung von einer Neigung der Abschnitte der geprägten Strukturen abhängt. This object is achieved with a security element of the type mentioned according to the invention in that the security element has embossed structures, the embossed structures having sections inclined differently to a surface of the carrier film and on the structures at least one image-generating coating with Be ranges different Opacity is applied and a layer thickness of the at least one coating depends on an inclination of the sections of the embossed structures.
Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht die Erzeugung von sehr kleinen hochaufgelösten Bildern allein durch Anpassung der Schichtdicke, wobei sich beispielsweise bei einem Auf dampfen oder Aufsprühen die unterschiedlichen Schichtdicken aufgrund der unterschiedli chen Neigungen sehr einfach realisieren lassen und durch die Wahl des Neigungswinkels die Opazität des Bildes eingestellt werden kann. Durch die erfindungsgemäße Lösung lassen sich das Bild und die Beschichtung hersteilen, ohne dass hierfür ein separater Druckvorgang erfor derlich ist. The solution according to the invention enables the generation of very small, high-resolution images simply by adapting the layer thickness, whereby the different layer thicknesses can be implemented very easily due to the different inclinations and the opacity of the image can be set by choosing the angle of inclination, for example in the case of vaporization or spraying can. The solution according to the invention can produce the image and coating without the need for a separate printing process.
Als besonders vorteilhaft hinsichtlich der Herstellung des Sicherheitselements hat sich eine Variante erweisen, bei welcher die Schichtdicke der Beschichtung mit Abnahme eines Be trags der Neigung der Abschnitte steigt und umgekehrt. A variant has proven to be particularly advantageous with regard to the production of the security element in which the layer thickness of the coating increases with a decrease in the inclination of the sections and vice versa.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass ein Färb- und/oder Helligkeitseindruck an einer Stelle der Beschichtung bei Tageslicht von der Schichtdicke der Beschichtung an dieser Stelle abhängig ist. According to a preferred embodiment of the invention, it can be provided that an impression of color and / or brightness at a point on the coating is dependent on the layer thickness of the coating at this point in daylight.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung besteht darin, dass die Beschichtung über eine Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet und die geprägten Strukturen vollflächig von der zumindest einen Beschichtung bedeckt sind oder dass die Beschichtung eine partielle Schicht ist. An advantageous development of the invention consists in the fact that the coating is formed uninterrupted over an area of the image and the embossed structures are completely covered by the at least one coating or that the coating is a partial layer.
Bei einer Variante der Erfindung, welche sich durch eine einfache Herstellbarkeit auszeichnet, kann es vorgesehen sein, dass die Strukturen in einer Prägelackschicht ausgebildet sind. In a variant of the invention, which is characterized by simple producibility, it can be provided that the structures are formed in an embossed lacquer layer.
Als besonders vorteilhaft hat sich eine Ausführungsform herausgestellt, bei welcher die zu mindest eine Beschichtung zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Va nadium, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Palladium oder Legierungen die ser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen umfasst oder daraus hergestellt ist und/oder zumindest ein Material ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisen oxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sm203), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentri- oxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3) umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist. Bei Verwendung eines metallischen Materials kann bei spielsweise ein durchgängiges, elektrisch leitendes Bild, insbesondere ein Graustufenbild, ohne Druckprozess hersteilen. Zur Herstellung farbiger hochauflösender Bilder hat es sich als besonders günstig erwiesen, dass die Beschichtung zumindest ein farbkippendes und/oder bei Tageslicht in Auf- und/oder Durchsicht einen Farbeindruck erzeugendes Dünn Schichtelement aufweist oder dadurch gebil det ist. An embodiment has proven to be particularly advantageous in which the at least one coating has at least one metallic material, in particular selected from the group of aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium , Cobalt, iron, tungsten, molybdenum, niobium, palladium or alloys these materials, in particular cobalt-nickel alloys, or is made therefrom and / or at least one material selected from the group of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O 2 ), carbon (C), indium oxide (ImOi), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (EU 2 O 3 ) Iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide id (Sb 2 0), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S1 3 N 4 ), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO 3 ) or at least one of these materials is made. When using a metallic material, for example, a continuous, electrically conductive image, in particular a grayscale image, can be produced without a printing process. For the production of colored high-resolution images, it has proven to be particularly favorable that the coating has at least one thin-layer element that changes color and / or creates a color impression in daylight when viewed from above and / or through, or is formed as a result.
Gemäß einer Variante der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass das Dünnschichtelement zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanzschicht aus zumindest einem die lektrischen Material aufweist. According to a variant of the invention, it can be provided that the thin-film element has at least one absorber layer and at least one spacer layer made of at least one electrical material.
Als besonders vorteilhaft hat sich herausgestellt, dass die zumindest eine Absorberschicht ei nen Transmissionskoeffizienten aufweist, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt. It has been found to be particularly advantageous that the at least one absorber layer has a transmission coefficient which is between 0.1 and 0.99, in particular between 0.5 and 0.99, particularly preferably between 0.7 and 0.99.
Bei einer Variante der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die zumindest eine Distanz schicht eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbesondere von weniger als 350 nm, be sonders bevorzugt von weniger als 300 nm aufweist. In a variant of the invention, it can be provided that the at least one spacer layer has a layer thickness of less than 450 nm, in particular less than 350 nm, particularly preferably less than 300 nm.
Bei einer Ausführungsform der Erfindung kann die zumindest eine Absorber Schicht zumin dest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vana dium, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Chrom, Aluminium, auch Silber, Kupfer oder Legierungen dieser Materialien umfassen und/oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein. In one embodiment of the invention, the at least one absorber layer can be at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of nickel, titanium, vanadium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, aluminum, also silver, copper or Include alloys of these materials and / or be made from at least one of these materials.
Entsprechend einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann die zumindest eine Dis tanzschicht zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisen oxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i ), Samariumoxid (Sm203), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentri- oxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere oder zumindest ein niederbrechendes die lektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (S1O2), Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluo ride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium- Aluminium- Fluoride (z.B. NasAlFö oder NasAbFw), Neodymfluorid (NdF3), Lan thanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende orga nische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.According to an advantageous development of the invention, the at least one spacer layer can contain at least one high-index dielectric material with a refractive index greater than or equal to 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C ), Indium oxide (ImOi), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd203), praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide (Sb 2 0), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium oxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ) , Tungsten trioxide (WO3), high refractive index organic monomers and / or high refractive index organic polymers or at least a low refractive index dielectric s material with a refractive index less than 1.65, in particular selected from the group silicon oxide (SIOx), silicon dioxide (S1O 2 ), aluminum oxide (AI 2 O 3 ), metal fluorides, for example magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AIF 3 ), cerium fluoride (CeF 3 ), sodium aluminum fluoride (e.g. NasAlFö or NasAbFw), neodymium fluoride (NdF 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), samarium fluoride (SmF 3 ), barium fluoride (BaF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium fluoride (LiF), breaking down organic monomers and / or breaking down organic polymers comprise or be made of at least one of these materials.
Weiters kann das Dünnschichtelement zumindest eine Reflektorschicht aufweisen, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht und der zu mindest einen Reflektorschicht angeordnet ist. Furthermore, the thin-film element can have at least one reflector layer, the at least one spacer layer being arranged between the at least one absorber layer and the at least one reflector layer.
Gemäß einer Variante der Erfindung kann die zumindest eine Reflektorschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen, oder aus zu mindest einem hochbrechenden dielektrischen Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandi oxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I Os), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcar- bid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (PröOii), Samariumoxid (Sr Os), Antimontrioxid (Sb203), Silizi- umcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinno xid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbre chende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien herge stellt sein. According to a variant of the invention, the at least one reflector layer can contain at least one metallic material, in particular selected from the group aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium or alloys of these Materials, in particular cobalt-nickel alloys, or of at least one high-index dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O 2 ), carbon (C), indium oxide (I Os), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 0 5 ), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (EU 2 O 3 ), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide ( MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (ProOii), samarium oxide (Sr Os), antimony trioxide (Sb 2 0 3 ), p silicon carbide (SiC), silicon nitride (S1 3 N 4 ), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO 3 ), high-refractive organic monomers and / or high-refractive organic Polymers comprise or be made from at least one of these materials.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass die Trägerfolie aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff, gefertigt ist, wobei die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Po lyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylen- naphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopo- lymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Flu- orterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist. An advantageous embodiment of the invention provides that the carrier film is made of plastic, in particular of a translucent plastic, the carrier layer preferably at least one of the materials from the group polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP) , biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone, (PEEK) polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN) , liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polyvinylchloride (PVC), ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF) and ethylene-tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene-fluororterpolymer (EFEP) and / or mixtures and / or copolymers of these materials or is made from at least one of these materials.
Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figur näher erläutert, welche ein nichteinschränkendes Ausführungsbeispiel darstellt. For a better understanding of the invention, it is explained in more detail with reference to the following figure, which represents a non-restrictive exemplary embodiment.
Es zeigt in stark vereinfachter, schematischer Darstellung: It shows in a very simplified, schematic representation:
Fig. 1 einen Querschnitt durch ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement. 1 shows a cross section through a security element according to the invention.
Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen wer den, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf glei che Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen wer den können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, un ten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind diese Lageangaben bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen. By way of introduction, it should be noted that in the differently described embodiments, the same parts are provided with the same reference numerals or the same component names, whereby the disclosures contained in the entire description can be applied accordingly to the same parts with the same reference numerals or the same component names. The position details chosen in the description, e.g. above, below, side, etc., refer to the figure immediately described and shown and these position details are to be transferred accordingly to the new position in the event of a change in position.
Gemäß Fig. 1 weist ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement 1 ein Bild als Sicherheits merkmal sowie eine Trägerfolie 2 auf. Die Trägerfolie 2 kann aus einem Kunststoff, insbeson dere einem lichtdurchlässigen Kunststoff, hergestellt sein. Als Materialien können beispiels weise, (transparente) Trägerfolien vorzugsweise flexible Kunststofffolien, beispielsweise aus Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial ori entierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetherether keton (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polya ryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Poly ester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Poly carbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien- styrol (ABS), Polyvinylchlorid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Poly vinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethy- len-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP), Mischungen oder Co-Polymere dieser Mate rialien zum Einsatz kommen. Die Trägerfolie 2 weist bevorzugt eine Dicke von ungefähr 5 pm bis ungefähr 1000 pm, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 pm - 50 pm, auf. According to FIG. 1, a security element 1 according to the invention has an image as a security feature and a carrier film 2. The carrier film 2 can be made of a plastic, in particular a translucent plastic. As materials, for example, (transparent) carrier films, preferably flexible plastic films, for example made of polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS) , Polyetherether ketone (PEEK), polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET) , Polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polyvinyl chloride (PVC), ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF) , Polyvinylidene fluoride (PVDF) and ethylene tetrafluoroethylene len-hexafluoropropylene fluoroterpolymer (EFEP), mixtures or copolymers of these materials are used. The carrier film 2 preferably has a thickness of approximately 5 μm to approximately 1000 μm, particularly preferably a thickness of 10 μm-50 μm.
Ferner weist das Sicherheitselement geprägte Strukturen 3 auf, wobei die geprägten Struktu ren 3 ihrerseits unterschiedlich zu einer Oberfläche der Trägerfolie 2 geneigte Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 aufweisen. Furthermore, the security element has embossed structures 3, the embossed structures 3 in turn having sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 inclined differently to a surface of the carrier film 2.
Als besonders vorteilhaft hat sich eine Ausführungsform der Erfindung erwiesen, bei welcher auf die Trägerfolie 2 mit oder ohne Anordnung einer oder mehrerer Zwischenschichten zu mindest eine Prägelackschicht aufgetragen wird, in welcher die Strukturen 3 erzeugt werden. An embodiment of the invention has proven to be particularly advantageous in which at least one embossing lacquer layer, in which the structures 3 are produced, is applied to the carrier film 2 with or without the arrangement of one or more intermediate layers.
Zur Erzeugung der Strukturen 3 kann es vorgesehen sein, Negativmuster der Strukturen 3 in die Oberfläche eines Prägewerkzeuges, insbesondere eines Pressbleches oder eine Präge walze, einzubringen, insbesondere einzugravieren und die Strukturen 3 durch Pressen des Prä gewerkzeuges gegen eine Oberfläche der Trägerfolie 2 oder gegen die Oberfläche zumindest einer auf der Trägerfolie 2 angeordneten Schicht, beispielsweise der Prägelackschicht, auf das Sicherheitselement 1 zu übertragen. To produce the structures 3, it can be provided that negative patterns of the structures 3 are introduced into the surface of an embossing tool, in particular a press plate or an embossing roller, in particular to engrave and the structures 3 by pressing the embossing tool against a surface of the carrier film 2 or against the The surface of at least one layer arranged on the carrier film 2, for example the embossing lacquer layer, is to be transferred to the security element 1.
Auf die Strukturen 3 ist eine das Bild erzeugende Beschichtung 10 mit Bereichen unterschied licher Opazität aufgebracht, wobei die Opazität der Beschichtung 10 von deren Schichtdicke dl, d2, d3, d4 bestimmt ist. Die Schichtdicke dl, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 hängt von einer Neigung der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 der geprägten Strukturen 3 ab. An image-generating coating 10 with areas of different opacity is applied to the structures 3, the opacity of the coating 10 being determined by its layer thickness d1, d2, d3, d4. The layer thickness d1, d2, d3, d4 of the coating 10 depends on an inclination of the sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 of the embossed structures 3.
Wie aus Fig. 1 weiters hervorgeht, steigt die Schichtdicke dl, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 mit Abnahme eines Betrags der Neigung der Abschnitte und umgekehrt. Die jeweiligen Nei gungen ki der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 hängen über die Beziehung ki = tan (a.i) mit den Win keln ai, (X2, (X3, 04, unter welchen die Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 gegen eine Oberfläche der Trä gerfolie 2 geneigt sind zusammen. Je nach Schichtdicke dl, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 entstehen unterschiedliche Färb- und/oder Helligkeitseindrücke. Ein Färb- und/oder Hellig keitseindruck an einer Stelle der Beschichtung 10 bei Tageslicht hängt somit von der Schicht dicke dl, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 an dieser Stelle ab. Zur Herstellung der Sicherheitselements können zuerst Helligkeits- und/oder Farbwerten für das Bild festgelegt werden. Hierauf können die Strukturen 3 erzeugt werden, wobei Neigun gen der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 gemäß einem Helligkeits- und/oder Farbwert eines zugehö rigen Bildabschnittes erzeugt werden. As can also be seen from FIG. 1, the layer thickness d1, d2, d3, d4 of the coating 10 increases as the amount of the inclination of the sections decreases and vice versa. The respective inclinations ki of sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 depend on the relationship ki = tan (ai) with the angles ai, (X2, (X3, 04, under which the sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 are inclined towards a surface of the carrier film 2. Depending on the layer thickness d1, d2, d3, d4 of the coating 10, different color and / or brightness impressions arise Place of the coating 10 in daylight thus depends on the layer thickness d1, d2, d3, d4 of the coating 10 at this point. To produce the security elements, brightness and / or color values can first be established for the image. The structures 3 can then be generated, inclinations of the sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 being generated according to a brightness and / or color value of an associated image section.
Das Bild kann dann durch Beschichten der Strukturen mit der Beschichtung 10 versehen wer den, beispielsweise durch Aufdampfen oder Aufsprühen der Beschichtung 10. Das Beschich ten der Strukturen 3 erfolgt in Abhängigkeit von einer Neigung der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9, sodass die Schichtdicke dl, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 gemäß einer Neigung der Ab schnitte variiert. The image can then be provided with the coating 10 by coating the structures, for example by vapor deposition or spraying of the coating 10. The structures 3 are coated as a function of an inclination of the sections 4, 5, 6, 7, 8, 9 so that the layer thickness dl, d2, d3, d4 of the coating 10 varies according to an inclination of the sections.
Die Beschichtung 10 kann über eine gesamte Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet. Hierbei sind die geprägten Strukturen 3 vollflächig von der Beschichtung 10 bedeckt. Weiters kann die Beschichtung 10 aber auch eine partielle Beschichtung sein. An dieser Stelle sei auch angemerkt, dass zwischen der Oberfläche der Strukturen 3 und der Beschichtung 10 eine oder mehrere Zwischenschichten, beispielsweise eine Haftvermittlerschicht, angeordnet sein können. Die Beschichtung 10 kann aber auch direkt auf die geprägten Strukturen 3 aufge bracht sein. The coating 10 can be formed continuously over an entire area of the image. In this case, the embossed structures 3 are completely covered by the coating 10. Furthermore, the coating 10 can also be a partial coating. At this point it should also be noted that one or more intermediate layers, for example an adhesion promoter layer, can be arranged between the surface of the structures 3 and the coating 10. The coating 10 can, however, also be applied directly to the embossed structures 3.
Die Beschichtung 10 kann ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Palladium oder Legierungen dieser Materi alien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen umfassen oder daraus hergestellt sein und/o der zumindest ein Material ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Ti tandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I CL), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpen- toxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe304) and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafni- umcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neody moxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sr Os), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3) umfassen oder aus einem oder mehreren dieser Ma terialien hergestellt sein. The coating 10 can be a metallic material, in particular selected from the group aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt, iron, tungsten, molybdenum, niobium, palladium or alloys these materi alien, in particular cobalt-nickel alloys comprise or be made therefrom and / o the at least one material selected from the group zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C), indium oxide (I. CL), indium tin oxide (ITO), tantalum toxide (TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (Fe 3 0 4 ) and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), Praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sr Os), antimony trioxide (Sb 2 0 3 ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), Tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3) or be made from one or more of these materials.
Die Beschichtung 10 kann aber auch ein farbkippendes und/oder bei Tageslicht in Auf- und/o der Durchsicht einen Farbeindruck erzeugendes Dünnschichtelement aufweisen oder dadurch gebildet sein. In diesem Fall kann das Dünnschichtelement zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanzschicht aus zumindest einem dielektrischen Material aufweisen. The coating 10 can, however, also have a color-shifting thin-layer element and / or a thin-layer element that produces a color impression in daylight when viewed from above and / or through it be educated. In this case, the thin-film element can have at least one absorber layer and at least one spacer layer made of at least one dielectric material.
Die Absorber Schicht ist bevorzugt aus einem Metall hergestellt, beispielsweise aus Nickel, Ti tan, Vanadium, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Chrom, Aluminium, Kupfer oder Silber oder aus Legierungen dieser Materialien. The absorber layer is preferably made from a metal, for example from nickel, titanium, vanadium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, aluminum, copper or silver or from alloys of these materials.
Die Absorber Schicht kann beispielsweise einen Transmissionskoeffizienten aufweisen, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt. The absorber layer can, for example, have a transmission coefficient which is between 0.1 and 0.99, in particular between 0.5 and 0.99, particularly preferably between 0.7 and 0.99.
Die Distanzschicht von einschlägigen Dünnschichtelementen ist üblicherweise aus einem die lektrischen Material gefertigt. Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht aus einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsin dex kleiner oder gleich 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem niedrigen Bre chungsindex sind beispielsweise Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (S1O2), Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium- Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlFf, oder NasAhFu), Neodymflu orid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calcium fluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), oder Kombinationen dieser Materialien. The spacer layer of relevant thin-film elements is usually made of a dielectric material. According to a variant of the invention, the spacer layer can be made from a material with a low refractive index, for example a refractive index less than or equal to 1.65. Suitable materials with a low refractive index are, for example, silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (S1O2), aluminum oxide (AI2O3), metal fluorides, for example magnesium fluoride (MgF2), aluminum fluoride (AIF3), cerium fluoride (CeF3), sodium aluminum fluoride (e.g. NasAlF f , or NasAhFu), neodymium fluoride (NdF3), lanthanum fluoride (LaF3), samarium fluoride (SmF3) barium fluoride (BaF2), calcium fluoride (CaF2), lithium fluoride (LiF), or combinations of these materials.
Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht auch aus einem Material mit ei nem hohen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsindex größer 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem hohen Brechungsindex sind beispielsweise Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I Os), Indium- Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europi umoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe304) and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samari umoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Silizi- ummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), oder Kom binationen dieser Materialien. According to a variant of the invention, the spacer layer can also be made from a material with a high refractive index, for example a refractive index greater than 1.65. Suitable materials with a high refractive index are, for example, zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C), indium oxide (I Os), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 0s), Cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (Fe 3 0 4 ) and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide ( Sb 2 0 3 ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3), or combinations of these materials.
Die Distanzschicht kann beispielsweise eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbeson dere von weniger als 350 nm, besonders bevorzugt von weniger als 300 nm aufweisen. Weiters kann das Dünnschichtelement eine Reflektorschicht aufweisen, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht und der zumindest einen Reflektorschicht angeordnet ist. The spacer layer can, for example, have a layer thickness of less than 450 nm, in particular less than 350 nm, particularly preferably less than 300 nm. Furthermore, the thin-film element can have a reflector layer, the at least one spacer layer being arranged between the at least one absorber layer and the at least one reflector layer.
Die Reflektorschicht kann beispielsweise aus Metallen, wie zum Beispiel Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Chrom, Vanadium, Kobalt und Pal ladium oder Kobalt-Nickel-Legierungen hergestellt sein. Alternativ zur Herstellung aus Me tallen kann die Reflexions Schicht aber auch aus einer hochbrechenden dielektrischen Schicht mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Eu ropiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samari umoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Silizi- ummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbre chende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein. The reflector layer can for example be made of metals such as aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or of nickel, titanium, chromium, vanadium, cobalt and palladium or cobalt-nickel alloys. As an alternative to the production of metals, the reflective layer can also consist of a high-index dielectric layer with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C ), Indium oxide (ImOi), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), eu ropium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide ( Rig, Oi i), Samari umoxid (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide (Sb 2 0 3 ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide ( Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3), high refractive organic monomers and / or high refractive index organic polymers comprise or be made of at least one of these materials.
Eine optische Dichte (OD) der Reflektorschicht ist bei Verwendung von Metallen größer als 0,5, bevorzugt größer als 1, besonders bevorzugt größer als 1,5. Beispielsweise kann die opti sche Dichte der Reflektorschicht zwischen 1 und 3 bevorzugt zwischen 1,5 und 2,5 liegen.When using metals, an optical density (OD) of the reflector layer is greater than 0.5, preferably greater than 1, particularly preferably greater than 1.5. For example, the optical density of the reflector layer can be between 1 and 3, preferably between 1.5 and 2.5.
Bei Verwendung von hochbrechenden dielektrischen Materialien kann die Reflektorschicht quasi transparent sein. So könnte sich ein Schichtaufbau ergeben, bei dem die Distanzschicht aus einem dielektrischen Material mit einem niedrigen Brechungsindex und die Reflexions schicht aus einem dielektrischen Material mit einem hohen Brechungsindex hergestellt ist. When using high-index dielectric materials, the reflector layer can be quasi-transparent. This could result in a layer structure in which the spacer layer is made of a dielectric material with a low refractive index and the reflective layer is made of a dielectric material with a high refractive index.
Als eine äußerste Schicht 11 des Sicherheitselements 1 kann eine Schutzschicht beispiels weise aus einem Klarlack, insbesondere aus einem UV -härtenden Klarlack oder einem Siegel lack, beispielsweise einem Heiß siegeilack, oder andere Lacksysteme, beispielsweise 2- oder Mehrkomponentensysteme, aufgebracht werden. Bevorzugt wird die Beschichtung 10 mit ei nem Klarlack versehen. Je nach Ausführungsform bzw. geplanter Anwendung des Sicherheitselements 1 kann dieses von unterschiedlichen Seiten bzw. von beiden Seiten betrachtet werden. So kann das Sicher heitselement 1 auf ein Wertdokument so aufgebracht werden, dass die Trägerfolie 2 zwischen Wertdokument und den Strukturen 3 zu liegen kommt, sodas s die Strukturen 3 dem Betrach ter zugewandt sind. Alternativ ist es jedoch auch möglich, das Sicherheitselement 1 so auf dem Wertdokument anzuordnen, dass die Trägerfolie 2 dem Betrachter zugewandt ist und die Strukturen 3 zwischen Trägerfolie 2 und Wertdokument angeordnet sind. Zudem sei darauf hingewiesen, dass, wenn das Sicherheitselement 1 in einem Fensterbereich des Wertdoku ments angeordnet ist, das Sicherheitselement 1 von beiden Seiten aus betrachtet werden kann. Der erfindungsgemäße Effekt kann von der jeweiligen Betrachtungsseite aus wahrgenommen werden. As an outermost layer 11 of the security element 1, a protective layer, for example made of a clear lacquer, in particular a UV-curing clear lacquer or a sealing lacquer, for example a hot sealing lacquer, or other lacquer systems, for example two or multi-component systems, can be applied. The coating 10 is preferably provided with a clear lacquer. Depending on the embodiment or the planned application of the security element 1, it can be viewed from different sides or from both sides. For example, the security element 1 can be applied to a value document in such a way that the carrier film 2 comes to lie between the value document and the structures 3, so that the structures 3 face the viewer. Alternatively, however, it is also possible to arrange the security element 1 on the document of value in such a way that the carrier film 2 faces the viewer and the structures 3 are arranged between the carrier film 2 and the document of value. It should also be pointed out that if the security element 1 is arranged in a window area of the value document, the security element 1 can be viewed from both sides. The effect according to the invention can be perceived from the respective viewing side.
Der Ordnung halber sei abschließend daraufhingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert darge stellt wurden. Ferner sei darauf hingewiesen, dass das Sicherheitselement auch weitere Schichten, Farblacke, Schutzlacke, Kleber, Primer und/oder Folien Magnetische Codierungen, leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe etc. umfassen kann. For the sake of order, it should finally be pointed out that, for a better understanding of the structure, some elements have been shown not to scale and / or enlarged and / or reduced. Furthermore, it should be pointed out that the security element can also comprise further layers, colored lacquers, protective lacquers, adhesives, primers and / or foils, magnetic codings, conductive layers, substances that absorb and / or re-emit electromagnetic waves, etc.
Bezugszeichenaufstellung Sicherheitselement Trägerfolie Strukturen Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Beschichtung Schicht List of reference symbols security element carrier film structures section section section section section section coating layer

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e Patent claims
1. Sicherheitselement (1) für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und derglei chen mit zumindest einer Trägerfolie (2), wobei das Sicherheitselement zumindest ein Bild als Sicherheitsmerkmal aufweist, wobei das Bild bevorzugterweise zumindest ein Zeichen, insbe sondere zumindest ein alphanumerisches Zeichen und/oder ein Ikon und/oder eine geometri sche Figur und/oder ein Symbol und/oder ein Porträts und/oder eine Landschaft und/oder ein Gebäude und/oder ein Tier darstellt, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement ge prägte Strukturen (3) aufweist, wobei die geprägten Strukturen (3) unterschiedlich zu einer Oberfläche der Trägerfolie (2) geneigte Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) aufweisen und auf die Strukturen (3) zumindest eine das Bild erzeugende Beschichtung (10) mit Bereichen unter schiedlicher Opazität aufgebracht ist und eine Schichtdicke (dl, d2, d3, d4) der zumindest ei nen Beschichtung (10) von einer Neigung der Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) der geprägten Strukturen (3) abhängt. 1. Security element (1) for a value document, a security paper and the like with at least one carrier film (2), the security element having at least one image as a security feature, the image preferably at least one character, in particular at least one alphanumeric character and / or represents an icon and / or a geometrical figure and / or a symbol and / or a portrait and / or a landscape and / or a building and / or an animal, characterized in that the security element has embossed structures (3), wherein the embossed structures (3) have sections (4, 5, 6, 7, 8, 9) inclined differently from a surface of the carrier film (2) and on the structures (3) at least one image-generating coating (10) with areas is applied under different opacity and a layer thickness (dl, d2, d3, d4) of the at least egg NEN coating (10) from an inclination of the sections (4, 5, 6, 7, 8, 9) of the embossed structure n (3) depends.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdi cke (dl, d2, d3, d4) der Beschichtung (10) mit Abnahme eines Betrags der Neigung der Ab schnitte steigt und umgekehrt. 2. Security element according to claim 1, characterized in that the layer thickness (dl, d2, d3, d4) of the coating (10) increases as the amount of the inclination of the sections decreases and vice versa.
3. Sicherheitselement nach einem Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Färb- und/oder Helligkeitseindruck an einer Stelle der Beschichtung (10) bei Tageslicht von der Schichtdicke (dl, d2, d3, d4) der Beschichtung (10) an dieser Stelle abhängig ist. 3. The security element according to claim 1 or 2, characterized in that a color and / or brightness impression at one point of the coating (10) in daylight depends on the layer thickness (dl, d2, d3, d4) of the coating (10) thereon Position is dependent.
4. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (10) über eine Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet und die geprägten Strukturen (3) vollflächig von der zumindest einen Beschichtung (10) bedeckt sind oder dass die Beschichtung (10) eine partielle Schicht ist. 4. Security element according to one of claims 1 to 3, characterized in that the coating (10) is formed continuously over an area of the image and the embossed structures (3) are completely covered by the at least one coating (10) or that the coating ( 10) is a partial layer.
5. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (2) in einer Prägelackschicht ausgebildet sind. 5. Security element according to one of claims 1 to 4, characterized in that the structures (2) are formed in an embossed lacquer layer.
6. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Beschichtung (10) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Ni ckel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Palladium oder Le gierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen umfasst oder daraus hergestellt ist und/oder zumindest ein Material ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sm203), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentri- oxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3) umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist. 6. Security element according to one of claims 1 to 5, characterized in that the at least one coating (10) is at least one metallic material, in particular selected from the group of aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt, iron, tungsten, molybdenum, niobium, palladium or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel -Alloys comprises or is made from them and / or at least one material selected from the group zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C), indium oxide (ImOi), indium tin oxide (ITO) , Tantalum pentoxide (TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), Hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sm 2 0 3 ), antimony oxide (Sb 2 0), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3) or at least one of these materials is made.
7. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (9) zumindest ein farbkippendes und/oder bei Tageslicht in Auf- und/o der Durchsicht einen Farbeindruck erzeugendes Dünnschichtelement aufweist oder dadurch gebildet ist. 7. Security element according to one of claims 1 to 6, characterized in that the coating (9) has or is formed by at least one color-shifting thin-film element and / or, in daylight, when viewed from above and / o when viewed through, producing a color impression.
8. Sicherheitselement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Dünn schichtelement zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanzschicht aus zu mindest einem dielektrischen Material aufweist. 8. The security element according to claim 7, characterized in that the thin-layer element has at least one absorber layer and at least one spacer layer made of at least one dielectric material.
9. Sicherheitselement nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorber Schicht einen Transmissionskoeffizienten aufweist, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt. 9. The security element according to claim 8, characterized in that the at least one absorber layer has a transmission coefficient which is between 0.1 and 0.99, in particular between 0.5 and 0.99, particularly preferably between 0.7 and 0.99 , lies.
10. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbeson dere von weniger als 350 nm, besonders bevorzugt von weniger als 300 nm aufweist. 10. Security element according to one of claims 8 or 9, characterized in that the at least one spacer layer has a layer thickness of less than 450 nm, in particular less than 350 nm, particularly preferably less than 300 nm.
11. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolf ram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist. 11. Security element according to one of claims 7 to 10, characterized in that the at least one absorber layer is at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, aluminum, silver, copper and / or alloys of these materials or is made from at least one of these materials.
12. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Mate rial mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (S1O2), Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Cerfluorid (CeF3), Nat rium- Aluminium- Fluoride (z.B. NasAlFö oder NasAFFu), Neodymfluorid (NdF3), Lanthan fluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithi umfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organi sche Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Bre chungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zin koxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I Os), Indium-Zinn-Oxid (GGO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe304) und Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sm203), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentri- oxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Ma terialien hergestellt ist. 12. Security element according to one of claims 7 to 11, characterized in that the at least one spacer layer has at least one low-refractive dielectric material with a refractive index less than or equal to 1.65, in particular selected from the group silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (S1O2) , Aluminum oxide (AI2O3), metal fluorides, e.g. magnesium fluoride (MgF2), aluminum fluoride (AIF3), cerium fluoride (CeF3), sodium aluminum fluoride (e.g. NasAlFö or NasAFFu), neodymium fluoride (NdF3), lanthanum fluoride (LaF3), samarium fluoride ( SmF3) barium fluoride (BaF2), calcium fluoride (CaF2), lithium fluoride (LiF), low-refractive organic monomers and / or low-refractive organic polymers or at least one high-refractive dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C), indium oxide (I Os), indium tin oxide (GGO), tantalum pentoxide (Ta 2 0s), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (Fe 3 0 4 ) and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC ), Hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (Rig, Oi i), samarium oxide (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide (Sb 2 0), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3), high refractive index organic monomers and / or high refractive index organic polymers or is made of at least one of these materials.
13. Sicherheitselement nach Anspruch 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnschichtelement zumindest eine Reflektorschicht aufweist, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht und der zumindest einen Re flektorschicht angeordnet ist. 13. The security element according to claim 7 to 12, characterized in that the thin-film element has at least one reflector layer, the at least one spacer layer being arranged between the at least one absorber layer and the at least one reflector layer.
14. Sicherheitselement nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die zumin dest eine Reflektorschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Va nadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder aus zumindest einem hochbrechenden dielektrischen Mate rial mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Eu ropiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (FesOO and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samari umoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Silizi- ummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbre chende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist. 14. The security element according to claim 13, characterized in that the at least one reflector layer is at least one metallic material, in particular selected from the group of aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or of nickel, titanium, Va nadium, chromium, cobalt and palladium or alloys of these materials, in particular cobalt-nickel alloys or of at least one high-index dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (T1O2), carbon (C), indium oxide (ImOi), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide ( TaiOs), cerium oxide (Ce0 2 ), yttrium oxide (Y2O3), europium oxide (EU2O3), iron oxides such as (II) iron (III) oxide (FesOO and iron oxide (Fe 2 0 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide ( HfC), hafnium oxide (Hf0 2 ), lanthanum oxide (La 2 0 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (Nd 2 0 3 ), praseodymium oxide (Rig, Oi i), Samari umoxide (Sm 2 0 3 ), antimony trioxide (Sb 2 0 3 ), silicon carbide (SiC), silicon nitride (S13N4), silicon monoxide (SiO), selenium trioxide (Se 2 0 3 ), tin oxide (Sn0 2 ), tungsten trioxide (WO3), high breaking e comprises organic monomers and / or high refractive index organic polymers or is made from at least one of these materials.
15. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 14 dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Trägerfolie (2) aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchläs sigen Kunststoff, gefertigt ist, wobei die Trägerfolie bevorzugt zumindest eines der Materia lien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysul- fon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Poly mere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Poly amid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Ac- rylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Po lytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Flu orterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materia lien hergestellt ist. 15. The security element according to one of claims 1 to 14, characterized in that the at least one carrier film (2) is made from plastic, in particular from a translucent plastic, the carrier film preferably from at least one of the materials from the group of polyimide (PI). , Polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone, (PEEK) polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU ), Polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM ), Acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), polyvinylcholride (PVC) ethylene tetrafluoroethylene (ETFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF) and ethylene tetrafluoride ethylene-hexafluoropropylene fluor orterpolymer (EFEP) and / or mixtures and / or copolymers of these materials comprises or is made from at least one of these materia lien.
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