WO2020013192A1

WO2020013192A1 - 架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料

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Publication number: WO2020013192A1
Application number: PCT/JP2019/027183
Authority: WO
Inventors: 拓矢安部; 将幸小西; 早川　知宏
Original assignee: 信越化学工業株式会社
Priority date: 2018-07-11
Filing date: 2019-07-09
Publication date: 2020-01-16
Also published as: EP3822303A4; CN112352010B; EP3822303A1; US20210277187A1; KR20210030360A; JP6994438B2; CN112352010A; US20240166823A1; JP2020007486A; US11912828B2

Abstract

[要約] [課題]　両末端にアルケニル基を有するシリコーン又は炭化水素とヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂とが反応して架橋構造を形成している架橋型有機ケイ素樹脂であって、室温で液状の油剤で溶解可能であり、油剤を揮発することで皮膜を形成可能な架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法を提供すること、ならびに該架橋型有機ケイ素樹脂を含有する化粧料を提供することを目的とする。 [解決手段] 下記平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、任意的にＲ^１の一部は水酸基であってもよく、Ｒ^２は、互いに独立に、ポリオキシアルキレン含有基、ポリグリセリン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１のＲ^２はポリオキシアルキレン含有基又はポリグリセリン含有基であり、Ｒ^３は、互いに独立に、オルガノポリシロキサン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１のＲ^３はオルガノポリシロキサン含有基であり、Ｘは、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される２価の基であり、（式（２）中、Ｒ^４は、互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基であり、ｅは０≦ｅ≦５００、ｌは０≦ｌ≦５の整数である）（式（３）中、ｆは０≦ｆ≦２０の整数である）ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、０≦ａ２≦２００、０≦ａ３≦４００、０＜ａ４≦５０、０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、ｐは１≦ｐ≦３の整数である］。

Description

架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料

　本発明は架橋型有機ケイ素樹脂に関し、特に新規な架橋型有機ケイ素樹脂及びそれを含有してなる化粧料に関する。

　有機ケイ素樹脂は、Ｑ単位（ＳｉＯ_４／２）やＴ単位（ＲＳｉＯ_３／２）（Ｒは、例えば一価の有機基である）のケイ素を必須成分とした三次元構造体である。従来、耐候性・耐熱性・撥水性・電気絶縁性といった特徴を示すことから、感圧接着剤・ゴムパウンド・離型剤・コーティング剤などの中間原料として応用されてきた。近年では、一部の有機ケイ素樹脂に皮膜形成性があることから、ファンデーション、口紅、アイシャドウ、クリーム、乳液、頭髪用化粧品等の化粧品用原料としての需要が増加している。また、粘度増強剤として、乳化物や口紅の形状安定性を改善するために利用することも可能である。例えば特許文献１及び特許文献２では、環状シリコーンに溶解した有機ケイ素樹脂を化粧料に配合することで、皮膚から分泌される汗や皮脂による化粧崩れや二次付着による色移りを抑制する効果が得られた。

　上記に挙げたように、有機ケイ素樹脂は化粧料に配合することで、化粧持ちの改善が可能であった。しかし、有機ケイ素樹脂を化粧料に配合する上で２つの課題が挙げられる。１つ目の課題は形成した皮膜が脆い点である。有機ケイ素樹脂を含んだ化粧料を、毛髪・顔・手などに塗布することで形成した皮膜は、僅かな動作で割れたり剥がれたりするため、追随性に欠ける。特にＭ単位（Ｒ_３ＳｉＯ_１／２）とＱ単位（ＳｉＯ_４／２）から形成されたＭＱ樹脂は、非常に強固であるため機械的強度は良好であるが、皮膜が脆いため自立膜の形成が困難である。一方、Ｔ単位やＤ単位を導入したＭＴＱ，ＭＤＱ，ＭＤＴＱ，ＤＴレジンなどはＭＱ樹脂と比較して、皮膜の柔軟性が向上し、追随性を有した強固な自立膜の形成が可能である。しかし、樹脂由来の強固性は残り、耐摩耗性に課題がある。特許文献３では、可塑化ＭＱ樹脂を含んだエマルジョンを毛髪に適用することで、ひび割れのない皮膜の形成が可能だが、シリコーンガムを可塑剤として配合した場合、皮膜強度は低下し、粘着性が増大することでべたつき感などの不快感を与え使用感を悪くする。

　２つ目の課題は耐油性である。化粧料として肌に塗布する場合、皮脂への耐油性が要求される。皮脂の構成成分は主に炭化水素油、エステル油、トリグリセライドなどから構成されるが、皮膜形成剤として有機ケイ素樹脂を使用した場合、有機ケイ素樹脂とこれらの油との相溶性が高いため、化粧塗布後、経時で皮膜が膨潤し、化粧膜の物理的強度が低下し、化粧持ちが悪くなるという課題もあった。一方、シリコーン変性アクリルポリマーは有機ケイ素樹脂と比較して耐油性が高いことから、有機ケイ素樹脂とシリコーン変性アクリルポリマーを併用した組成物が提案されている（特許文献４：特開平７－１９６４４９号公報）。シリコーン変性アクリルポリマーは軟らかい皮膜を形成することから、この組成物においては、幾らかの柔軟性と追随性を付与することができたが、十分に満足のいく耐油性が得られず、化粧持ちの向上には効果的ではなかった。

　近年、有機ケイ素樹脂をシリコーンで架橋した架橋型有機ケイ素樹脂が報告されており、感圧接着剤、粘着剤、コーティング剤、パーソナルケア用途など様々な用途で使用されている。特許文献５ではビニル基含有有機ケイ素樹脂とヒドロシリル基含有シリコーンを加熱硬化により架橋することで、架橋型有機ケイ素樹脂を作成しており、屈曲性が高い硬化物を得られたことを報告している。しかし、揮発性油剤への溶解性はないことから、皮膜形成剤としての使用は難しい。特許文献６，７でも同様な架橋型有機ケイ素樹脂の報告がされているが、形状がゲルであるため皮膜形成能はない。特許文献８では、ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂とビニル基含有シリコーンを反応させることで架橋型有機ケイ素樹脂を作成している。しかし、得られた硬化物は、べたつきがあり揮発性油剤への溶解性は低い。

特開平９－１４３０２９号公報特開平９－１７５９４０号公報特表平２７－５１５９８１号公報特開平７－１９６４４９号公報特開平２１－０５２０３８号公報特開平２２－５４０７２１号公報特開平２７－５１９４２６号公報特開平２７－５０５８７８号公報

　本発明は上記事情に鑑みなされたもので、両末端にアルケニル基を有するシリコーン又は炭化水素とヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂とが反応して架橋構造を形成している架橋型有機ケイ素樹脂であって、室温で液状の油剤で溶解可能であり、油剤を揮発することで皮膜を形成可能な架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法を提供すること、ならびに該架橋型有機ケイ素樹脂を含有する化粧料を提供することを目的とする。

　本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、架橋型有機ケイ素樹脂の原料であるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂のヒドロシリル基量を特定し、且つ、架橋剤である両末端にアルケニル基を有するシリコーン及び炭化水素の鎖長を特定することで、得られる架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形となり、室温で液状の油剤に溶解可能となり溶解品としての提供が可能であることを見出した。また、油剤が揮発性油剤の場合、油剤に上記架橋型有機ケイ素樹脂を溶解した後に油剤が揮発することで皮膜を形成可能であり、皮膜形成剤としての利用が可能であること、架橋前である有機ケイ素樹脂は脆性のある強固な皮膜を形成する一方、架橋後の架橋型有機ケイ素樹脂はその脆性が改善し、べたつきがなく柔軟な皮膜が得られる事を見出し、本発明を成すに至った。

　即ち、本発明は、下記平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法を提供する。

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ^２は、互いに独立に、ポリオキシアルキレン含有基、ポリグリセリン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１つはポリオキシアルキレン含有基又はポリグリセリン含有基であり、Ｒ^３は、互いに独立に、オルガノポリシロキサン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１つはオルガノポリシロキサン含有基であり、Ｘは、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される２価の基であり、任意的にＲ^２、Ｒ^３、及びＸの一部は水酸基であってもよく、

（式中、Ｒ^４は、互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基であり、ｅは０≦ｅ≦５００、ｋは０≦ｋ≦５の整数である）

（式中、ｆは０≦ｆ≦２０の整数である）
ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、０≦ａ２≦２００、０≦ａ３≦４００、０＜ａ４≦５０、０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、ｐは１≦ｐ≦３の整数である］。

　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、強固で柔らかい皮膜形成能を有する。該有機ケイ素樹脂が配合された化粧料は、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れた化粧料となる。

　特に、一般的に硬い皮膜は屈曲性が低く、屈曲性が高い皮膜は軟らかい傾向にあるため、皮膜の強度と屈曲性は二律背反の関係にあるとされてきたが、本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、強固な皮膜を形成するにも関わらず、屈曲性が高いため追随性に優れている。さらに皮脂などの油剤に対する耐油性が変性前と比較して大きく向上する。有機ケイ素樹脂は、分子量増加に伴い耐油性が向上する傾向にあるが、有機ケイ素樹脂の分子量は増加させることに限りがあることから、耐油性も限界点がある。架橋剤による有機ケイ素樹脂の架橋は、擬似的に有機ケイ素樹脂の分子量を増加させることに繋がることから、その限界点を高める効果がある。そのため、従来の有機ケイ素樹脂では達成不能な耐油性を架橋型有機ケイ素樹脂は有している。また、皮膜形成剤として化粧料に配合することで、塗布時べたつくことがなく、使用感が良好で、耐水性・耐油性に優れ、皮膚への密着性が良いことから化粧持ち（持続性）が良く、伸びや仕上がりが良く、二次付着防止効果等の耐擦過性に優れた化粧料が得られる。

以下、本発明について詳細に説明する。
下記平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂

　上記式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０、好ましくは炭素数１～１０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基である。例えば、炭素数１～３０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、又はこれらの基の炭素原子に結合する水素原子がハロゲン原子、アミノ基もしくはカルボキシル基に置換された基である。中でも、炭素数１～１０のアルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基、クロロ置換アルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基が好ましい。より詳細には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基等、トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、クロロプロピル基、クロロフェニル基等を挙げることができる。特には、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基又はトリフルオロプロピル基が好ましい。

　Ｒ^２は、互いに独立に、ポリオキシアルキレン含有基、ポリグリセリン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１つのＲ^２はポリオキシアルキレン含有基又はポリグリセリン含有基である。Ｒ^１は上記の通りである。なお、Ｒ^２及びＲ^３の一部は水酸基であってもよい。

　ポリオキシアルキレン含有基は好ましくは下記一般式（４）で表される。

（式中、Ｒ^５は、非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ、ｇ１及びｇ２は、０≦ｍ≦１５、０≦ｇ１＜２００、０≦ｇ２＜２００、０＜ｇ１＋ｇ２≦２００を満たす整数である）。

また、ポリグリセリン含有基は好ましくは下記一般式（５）で表される。

（式中、Ｒ^５は、非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ及びｈは、０≦ｍ≦１５、０＜ｈ≦５を満たす整数である）。

　上記Ｒ^５は、互いに独立に、非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子である。好ましくは炭素数１～１０、更には炭素数１～５のアルキル基又は水素原子である。該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、及びペンチル基等が挙げられる。又は、これらの基の炭素原子に結合する水素原子がハロゲン原子、アミノ基もしくはカルボキシル基に置換された基、例えば、フッ素置換アルキル基、クロロ置換アルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基であってもよい。

　上記式（４）及び（５）において、ｍは０≦ｍ≦１５であり、０≦ｍ≦２が好ましい。ｇ１は０≦ｇ１＜２００であり、０≦ｇ１≦１００が好ましく、０≦ｇ１≦５０がさらに好ましい。ｇ１が２００より大きいと樹脂の融点が低くなるため、皮膜形成性に欠ける。ｇ２は０≦ｇ２＜２００であり、０≦ｇ２≦１００が好ましく、０≦ｇ２≦５０がさらに好ましい。ｇ２が２００より大きいと樹脂の融点が低くなるため、皮膜形成性に欠ける。ｇ１＋ｇ２は０≦ｇ１＋ｇ２＜２００であり、０≦ｇ１＋ｇ２≦１００が好ましく、０≦ｇ１＋ｇ２≦５０がさらに好ましい。ｇ１＋ｇ２が５０より大きいと、樹脂の融点が低くなるため、皮膜形成性に欠ける。ポリオキシアルキレン部分がエチレンオキサイド単位とプロピレンオキサイド単位の両方からなる場合には、これら両単位のブロック共重合体あるいはランダム共重合体のいずれでもよい。ｈは０＜ｈ≦５であり、０＜ｈ≦４が好ましく、０＜ｈ≦３がより好ましい。ｈが５より大きいと樹脂の融点が低くなるため、皮膜形成性に欠ける。

　上記Ｒ^３において、オルガノポリシロキサン含有基は、下記一般式（６）、一般式（７）、一般式（８）、又は一般式（９）で表される基である。Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位の各々において少なくとも１つのＲ^３は下記一般式（６）、一般式（７）、一般式（８）又は一般式（９）で表される基である。

（式中、Ｒ^６は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ｎ及びｉは、０≦ｎ≦５、０≦ｉ≦５００を満たす整数であり、ｊ_１～ｊ_３は各々０以上２以下の整数である）。

　Ｒ^６は、互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の、好ましくは炭素数１～１０の一価炭化水素基であり、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はこれらの基の炭素原子に結合する水素原子がハロゲン原子、アミノ基もしくはカルボキシル基に置換された基である。詳細には、アルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基、クロロ置換アルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基が好ましい。より詳細には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基等、トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、クロロプロピル基、クロロフェニル基等を挙げることができる。中でも、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基又はトリフルオロプロピル基がさらに好ましい。

　ｎは０≦ｎ≦５であり、０≦ｎ≦２が好ましく、ｉは０≦ｉ≦５００であり、１≦ｉ≦１００が好ましく、１≦ｉ≦５０がより好ましい。ｉが５００より大きいと樹脂の融点が低くなるため、皮膜形成性に欠ける。ｊ_１～ｊ_３は各々、０≦ｊ_１～３≦２を満たす整数である。

　Ｘは、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される２価の基である。

（式中、Ｒ^４は互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基であり、ｅは０≦ｅ≦５００、ｋは０≦ｋ≦５の整数である）

（式中、ｆは０≦ｆ≦２０の整数である）
但し、任意的にＸの一部は水酸基であってもよく、この場合のＸは一価である。

　上記式（２）中、Ｒ^４は互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の、好ましくは炭素数１～１０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基である。例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又はこれらの基の炭素原子に結合する水素原子の一以上がハロゲン原子、アミノ基もしくはカルボキシル基に置き換わっている基である。詳細には、アルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基、クロロ置換アルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基が好ましい。さらに詳細には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基等、トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、クロロプロピル基、クロロフェニル基等を挙げることができる。中でも、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基又はトリフルオロプロピル基がさらに好ましい。

　上記式（２）中、ｅは０≦ｅ≦５００であり、好ましくは０≦ｅ≦１００、さらに好ましくは０≦ｅ≦５０である。ｅが上記上限値より大きいと樹脂の融点が下がり皮膜性に欠けるため好ましくない。ｋは０≦ｋ≦５であり、好ましくは０≦ｋ≦３、さらに好ましくは０≦ｋ≦１である。

　上記式（３）中、ｆは０≦ｆ≦２０であり、好ましくは２≦ｆ≦１８、さらに好ましくは４≦ｆ≦１６である。ｆが上記上限値より大きいと樹脂が脆くなるため好ましくない。

　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、上記式（２）で表される基及び式（３）で表される基のうち少なくとも一つを必ず有する。式（２）で表される基は柔軟な骨格であることから有機ケイ素樹脂に柔軟性を付与することができる。式（３）で表される基は剛直な骨格であることから有機ケイ素樹脂に強固性を付与することができる。そのため、式（２）で表される基と式（３）で表される基の割合を変えることで、皮膜の物性の制御が可能である。自立膜を形成可能な柔軟な被膜を形成するためには式（２）を一つ以上含むことが好ましい。

　また式（２）で表される基及び式（３）で表される基のうちいずれか一方から２種以上を有してもよい。式（２）で表される基は鎖長が長くなるにつれて、有機ケイ素樹脂に柔軟性を付与する効果があり、式（３）で表される基は鎖長が長くなるにつれて、強固性を付与する効果がある。そのため、例えば鎖長の異なる２種類の式（２）で表される基又は式（３）で表される基を含むことで皮膜の物性の制御が可能である。

　上記式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂において、ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、好ましくは１≦ａ１≦１００、さらに好ましくは１≦ａ１≦５０である。０≦ａ２≦２００、好ましくは０≦ａ２≦１００、さらに好ましくは０≦ａ２≦５０である。０≦ａ３≦４００、好ましくは０≦ａ３≦１００、さらに好ましくは０≦ａ３≦５０である。ａ３が２００より大きいと樹脂の融点が低くなるため皮膜性に欠ける。０＜ａ４≦５０、好ましくは０＜ａ４≦３０、さらに好ましくは０＜ａ４≦１０である。ａ４が５０より大きいと架橋度が上がり分子量が大きくなるため、ゲル化する可能性が高くなる。０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、好ましくは０．７≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．２を満たす数である。（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄの値が上記下限値未満では、架橋度が上がり分子量が大きくなるためゲル状になる。上記上限値超えでは分子量が小さくなり皮膜形成性に欠ける。ｐは１≦ｐ≦３の整数であり、好ましくはｐは１または２であり、特にはｐは１である。

　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、重量平均分子量１，０００～１，０００，０００を有するのが好ましく、さらに好ましくは１，０００～５００，０００、より好ましくは３，０００～３００，０００であるのがよい。上記範囲内にあることにより、性能及びろ過等の作業性の点でより好ましい。なお、本発明において重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算の重量平均分子量として求めることができる（以下、同様）。

　上記平均組成式（１）において、Ｘの少なくとも一つが一般式（２）で表される基であり、上記平均組成式（１）のａ４が、０＜ａ４≦５であり、上記一般式（２）のｅが、０＜ｅ＜４０を満たす整数である架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形状であり、皮膜形成性に優れた架橋型有機ケイ素樹脂を得ることができる。ａ４が５より大きく、ｅが４０より大きいと、希釈溶剤を除去したときにゲル状になる可能性が高くなる恐れがある。この場合、皮膜形成性はあるが、ゲル由来の感触になる。

　特には、Ｘの少なくとも一つが一般式（２）で表される基であり、上記平均組成式（１）のａ４が、０＜ａ４≦３であり、上記一般式（２）のｅが、０＜ｅ≦２０を満たす整数である架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形状であり、皮膜形成性により優れた架橋型有機ケイ素樹脂となる。得られた皮膜は、優れた耐屈曲性、耐油性を示す。

［製造方法］
　架橋型有機ケイ素樹脂は、当技術分野で既知として知られる様々な処方によって合成可能である。例えば、有機ケイ素樹脂の表面シラノール基に対して、両末端にヒドロキシル基を有するオルガノポリシロキサンを反応させることで架橋が可能である。しかし、有機ケイ素樹脂表面のシラノール基量の完全な制御が困難であることから、架橋するオルガノポリシロキサンの量を精度よく制御するのが難しいという問題点がある。また、不飽和基を有する有機ケイ素樹脂と両末端にヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサンの付加反応により合成が可能である。しかし、架橋型有機ケイ素樹脂に他の官能基を導入する際に導入可能な官能基の種類が限定されるため、好ましくない。そのため、ヒドロシリル基を有する有機ケイ素樹脂と両末端に不飽和基を有するオルガノポリシロキサンの付加反応による合成法が好ましい。

詳細には、上記平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂は、下記平均組成式（１３）で表され２５℃で固形又は液体であるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂と、下記一般式（１１）、（１２）、（１４）、（１５）、（１６）、（１７）、（１８）又は（１９）で表される末端アルケニル基含有化合物の１種以上（但し、下記式（１１）で表される基を少なくとも１種含む）とをヒドロシリル化反応させることにより得ることができる。該ヒドロシリル化反応も、白金触媒又はロジウム触媒の存在下で行えばよい。

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、上記Ｒ^１にて例示した一価炭化水素基が挙げられる。ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、０≦ａ２≦２００、０≦ａ３≦４００、０＜ａ４≦５０、０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、ｐは１≦ｐ≦３の整数である]

（式中、Ｒ^４、ｅ、及びｋは上記の通りである）

（式中、ｆは上記の通りである）

（式中、Ｒ^５、ｍ、ｇ１及びｇ２は、上記の通りである）

（式中、Ｒ^５、ｍ及びｈは、上記の通りである）

（式中、Ｒ^６、ｎ、ｉ及びｊ_１～３は、上記の通りである）。

　上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂は、Ｑ単位（ＳｉＯ_４／２），Ｍ単位（（Ｒ^１ _３ＳｉＯ_１／２）及び（Ｈ_ｎＲ^１ _３－ｎＳｉＯ_１／２））を必須成分とし、Ｄ単位（Ｒ^１ _２ＳｉＯ_２／２），Ｔ単位（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）を任意成分とする構成成分からなる。２５℃で固形状であっても、液状であってもよいが、皮膜形成性の点から固形状が好ましい。例えば、ＭＱレジン、ＭＴＱレジン、ＭＤＱレジン、ＭＤＴＱレジンが挙げられる。その重量平均分子量は、２，０００～３０，０００の範囲が好ましく、３，０００～１５，０００の範囲が性能及びろ過等の作業性の点でより好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算の重量平均分子量として求めることができる。

　上記ヒドロシリル化反応による架橋型有機ケイ素樹脂の製造方法について、以下により詳細に説明する。
上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂と、上記一般式（１１）、（１２）、（１４）、（１５）、（１６）、（１７）、（１８）又は（１９）で表される末端不飽和基含有化合物とのヒドロシリル化反応工程において、ヒドロシリル基／末端不飽和基のモル比は０．５～２．０が好ましく、０．８～１．２がより好ましい。

　該ヒドロシリル化反応は、白金触媒又はロジウム触媒の存在下で行うことが好ましい。例えば、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸－ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、触媒の使用量は過剰に含むと試料が着色することから、白金又はロジウム量で５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、特に２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。

　さらに、上記付加反応は、必要に応じて有機溶媒の存在下で行ってもよい。有機溶媒としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン，デカメチルシクロペンタシロキサン，ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン；トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン，メチルエチルケトン，ジエチルケトン，メチルイソブチルケトン等のケトン系有機溶剤；ヘキサン，ヘプタン，オクタン，シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－ブタノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－メチルブタノール、２－ペンタノール、１－ヘキサノール、２－メチルペンタノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、１－ノナノール、１－デカノール、フェノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール等の脂肪族アルコールが挙げられる。特に反応性の観点からエタノール、１－プロパノール、２－プロパノールが好ましい。

　用いる溶媒の使用量は、反応液（系）全体の１～８０％が好ましく、５～５０％がより好ましい。上記範囲内にすると、反応系中が均一に保持され、反応が効率よく進行する。

　付加反応条件は特に限定されるものではないが、還流下において温度５０～１５０℃、より好ましくは８０～１２０℃で１～１０時間程度加熱することが好ましい。

　付加反応後、用いたロジウム触媒又は白金触媒を活性炭により除去する工程を含むことも可能である。活性炭の使用量は、系全体の０．００１～５．０％、特に０．０１～１．０％とすることが好ましい。上記範囲内にすると、試料への着色をより抑制可能である。

　付加反応後、必要に応じて残存するヒドロシリル基を除去する工程を含むことが可能である。特に化粧料等の用途で利用する場合、経時でヒドロシリル基が脱水素反応により失活する可能性があり、安全性という観点で問題なため、ヒドロシリル基を除去する工程を含むことが好ましい。

　ヒドロシリル基を除去する工程としては、アルカリ金属炭酸塩，アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属水酸化物等の塩基性触媒を添加して未反応のヒドロシリル基を加水分解した後、塩基触媒のモル当量と等量の酸性触媒を添加して中和するという処方が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、強塩基触媒の例として、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、弱塩基触媒の例として、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。脱水素反応を促すという点で、特に強塩基触媒を用いることが好ましく、具体的には水酸化ナトリウムが好ましい。酸性触媒の具体例として、塩酸、硫酸、亜硫酸、発煙硫酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、燐酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、クエン酸等が挙げられる。また一般には、酸や塩基を単独で使用するより、水と併用して、水の沸点以下の温度で加熱することが好ましい。当該工程により、ヒドロシリル基（ＳｉＨ基）はヒドロキシシリル基（ＳｉＯＨ基）となる。

　付加反応後、必要に応じて臭いを低減する脱臭処理工程を含むことが可能である。特に化粧料等の用途で利用する場合、経時によって着臭することから脱臭処理工程を含むことが好ましい。一般的なポリエーテル変性シリコーンの着臭機構は次のように説明される。アリルエーテル化ポリエーテルとハイドロジェンポリオルガノシロキサンと白金触媒存在下で付加反応を行う際、副反応としてアリル基が内部転移することでプロぺニルエーテル化ポリエーテルを生ずる。このプロぺニルエーテル化ポリエーテルはハイドロジェンポリオルガノシロキサンに対する反応性はないことから不純物として系中に残存することになる。このプロぺニルエーテル化ポリエーテルに対して水が作用すると、プロぺニルエーテルが加水分解されることで、悪臭の原因であるプロピオンアルデヒドを発生すると考えられる。また上記の加水分解反応は酸触媒の存在化でより促進されることが知られており、水系の化粧料にポリエーテル変性シリコーンを用いた場合、ポリエーテルの酸化劣化により経時で液性が酸性に傾くことから、上記に挙げた加水分解反応が促進し異臭化の原因となる。

　脱臭処理工程の代表例として、２通りの処方が挙げられる。１つ目の処方は、付加反応後の溶液に対して酸性触媒を添加することで、系中に残存するプロぺニルエーテルをすべて加水分解し、生成したプロピオンアルデヒドをストリップ精製により除去するという処方である（特許第２１３７０６２号公報）。

　１つ目の処方に用いる酸性触媒の具体例として、塩酸、硫酸、亜硫酸、発煙硫酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、燐酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、クエン酸等が挙げられる。これらの酸は、水との併用系で使用されるが、使用した酸を除去する必要があるときは、塩酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のような沸点が低いものを使用することが好ましい。また、処理効率の観点から強酸である塩酸やトリフルオロ酢酸等を用いることが好ましい。

　処理温度は、親水性基が酸化することを防ぐために８０℃以下とすることが好ましい。酸性水溶液の添加量は有機基変性有機ケイ素樹脂に対して０．１～１００％とすることが好ましく、５～３０％使用することがより好ましい。

　生産性の観点からは、反応後の溶液にｐＨ７以下になるように水溶液を添加し、加熱攪拌後にストリップ精製する方法が好ましい。上記のストリップ精製は常温下で行っても減圧下で行ってもよいが、温度条件は１２０℃以下とすることが好ましく、この温度条件で効率よくストリップ精製するためには、減圧で行う、もしくは常圧の場合には窒素やアルゴン等のような不活性ガスの通気下で行うことが好ましい。

　２つ目の処方は、付加反応後の溶液に対して、水素を添加することで不飽和二重結合をアルキル化し（いわゆる水素添加反応）、プロピオンアルデヒドの経時での発生を安定に制御するという処方である（米国特許第５２２５５０９号明細書，特開平７－３３０９０７号公報）。

　水素添加反応は、水素による方法と金属水素化物による方法とがあり、さらに均一反応と不均一反応が挙げられる。これらは単独で行うことも出来るが、それらを組み合わせることも可能である。しかし、使用した触媒が製品に残存しないという利点を考慮すると、固体触媒を用いた不均一接触水素添加反応が最も好ましい。

　固体触媒としては、例えば、ニッケル・パラジウム・白金・ロジウム・コバルト・クロム・銅・鉄等の単体又は化合物がある。この場合、触媒担体はなくても良いが、用いる場合には、活性炭・シリカ・シリカアルミナ・アルミナ・ゼオライト等が用いられる。これらの触媒は単独で用いることもできるが、それらを組み合わせて用いることも可能である。最も好ましい触媒は、経済的に優位であるラネーニッケルである。ラネーニッケルは通常アルカリにて展開して用いるので、特に、反応溶液のｐＨを注意深く測定する必要がある。また、反応系内が弱アルカリ性になるので、特に酸性水溶液による加水分解反応が脱臭に対して有効となる。

　水素添加反応は、一般的に１～１００ＭＰａ、５０～２００℃で行うことが好ましい。水素添加反応は回文式でも連続式でもよい。回文式の場合、反応時間は触媒量及び温度等依存するが、概ね３～１２時間である。水素圧は適宜一定圧力に調製することが出来るが、水素添加反応の終点は水素圧が変化しなくなった点であるため、圧力ゲージを注意深く観測することによって判断できる。

　このような酸処理や水素添加反応による処理により精製された有機基変性有機ケイ素樹脂に含まれるアルデヒド量は、７０ｐｐｍ以下、２０ｐｐｍ以下、さらに１０ｐｐｍ以下とすることができる。

　さらに上記に挙げた２種類の脱臭処理工程を組み合わせることも可能である。酸処理による処方は、アルデヒド化合物の分解除去は可能だが、不飽和二重結合を完全に除去することは限界があるため、それに起因する臭気の原因であるアルデヒドの発生を完全に抑制することはできない。また、水素添加反応による処方は、不飽和二重結合をなくすことで、それに起因して発生するアルデヒド化合物量の減少が可能だが、アルデヒドの一部が縮合して生成するアルデヒド縮合物は上記処理を施しても系内に残留し、ストリップ精製による除去も難しい。そのため、付加反応後の溶液に水素添加反応を施して残存する不飽和二重結合をアルキル化した後に、酸触媒を添加することで系中のアルデヒド縮合物を分解することで、完全な無臭化が可能である（国際公開第２００２／０５５８８号）。

［原料のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法］
　上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂は、２５℃で形状が固形状であっても、液状であってもよいが、皮膜形成性の点から固形状が好ましい。使用性の観点から有機溶剤により希釈することが好ましい。また、加水分解時の還流温度よりも高い沸点を有する溶剤の使用が好ましい。

　希釈に用いる有機溶剤の例としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系有機溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－ブタノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－メチルブタノール、２－ペンタノール、１－ヘキサノール、２－メチルペンタノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、１－ノナノール、１－デカノール、フェノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール等の脂肪族アルコールが挙げられる。特に保存安定性、不揮発性の観点からオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンが好ましい。

　上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造は公知の方法に従えばよい。例えば、特開２０１７－７５２８３号に記載の方法に従い製造することができる。
　より詳細には、下記一般式（２０）又は下記一般式（２１）で表される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、下記一般式（２２）又は（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、下記一般式（２４）で表される加水分解性シラン、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物及び前記加水分解性シランの金属塩から選ばれる１種又は２種以上との混合物を、酸触媒下で加水分解後、前記酸触媒のモル当量より多い塩基触媒を添加することで中和し、その後塩基触媒存在下で縮合することにより得られる。
　　Ｒ^１ _３ＳｉＯＳｉＲ^１ _３　　　　　　　　　　　　　（２０）
　　Ｒ^１ _３ＳｉＸ^１　　　　　　　　　　　　　　　　　（２１）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＯＳｉＲ^１ _{（３－ｐ）}Ｈ_ｐ　（２２）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＸ^２　　　　　　　　　　　（２３）
　　ＳｉＸ^３ _４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２４）
（式中、Ｒ^１は上記の通りであり、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は互いに独立に、加水分解性を有する官能基であり、１≦ｐ≦３である）。

　一般式（２１）、（２３）、及び（２４）において、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、互いに独立に、ケイ素原子に直接結合した加水分解性を有する官能基であり、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アルケノキシ基；アシロキシ基；アミド基；オキシム基等が挙げられる。その中でも、入手の容易さ、加水分解速度の観点から特にメトキシ基、エトキシ基及び塩素原子が好ましい。

　上記一般式（２０）で表される有機ケイ素化合物の例としては、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，３－ヘキサフェニルジシロキサン、１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ジビニルジシロキサン、１，１，１，３，３，３－ヘキサエチルジシロキサン、１，１，１，３，３，３－ヘキサビニルジシロキサン、１，１，１，３，３－ペンタビニルメチルジシロキサン、１，１，１，３，３－ｎ－オクチルペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３－クロロメチルペンタメチルジシロキサン、１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ジアリルジシロキサン、１，３－ジメチル－１，１，３，３－テトラビニルジシロキサン等が挙げられる。特に１，１，１，３，３，３－ヘキサメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，３－ヘキサフェニルジシロキサン等が好ましい。

　上記一般式（２１）で表される有機ケイ素化合物の例としては、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、トリビニルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン等が挙げられる。特にトリメチルクロロシラン、トリメチルエトキシシラン等が好ましい。

　上記一般式（２２）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物の例としては、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，１，１，３，３－ペンタメチルジシロキサン等が挙げられる。特に１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンが好ましい。尚、一般式（２２）、（２３）中、ｐは１≦ｐ≦３であるが、一般式（２２）中においては、１つのシリコン原子に結合するＨ、Ｒ^１に係るｐは、もう片方のシリコン原子に結合するＨ、Ｒ^１に係るｐと、同一でも異なっていてもよい。

　上記一般式（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物の例としては、ジメチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン等が挙げられる。特にジメチルクロロシラン、ジメチルメトキシシランが好ましい。

　上記一般式（２４）で表される加水分解性シランの例としては、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が挙げられる。また、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物としては、テトラメトキシシラン縮合物、テトラエトキシシラン縮合物等が挙げられる。また、該加水分解性シランの金属塩としては、水ガラス、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等が挙げられる。特にテトラエトキシシラン、テトラエトキシシラン縮合物が好ましい。

　また、上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造工程において、上記一般式（２０）～（２４）で表される化合物から選ばれる１種又は２種以上の混合物を酸触媒下で加水分解前、又は該加水分解後であり後述する再度の加水分解前に、下記一般式（２５）又は（２６）で示される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上の混合物をさらに添加することもできる。
Ｒ^１ＳｉＸ^４ _３　　　　　　　　　　　　　　　　（２５）
Ｒ^１ _２ＳｉＸ^５ _２　　　　　　　　　　　　　　　　（２６）
（式中、Ｒ^１は上記の通りである）

　一般式（２５）及び（２６）において、Ｘ^４及びＸ^５は、互いに独立に、ケイ素原子に直接結合した加水分解性を有する官能基であり、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；アルケノキシ基；アシロキシ基；アミド基；オキシム基等が挙げられる。その中でも、入手の容易さ、加水分解速度の観点から特にメトキシ基、エトキシ基及び塩素原子が好ましい。

　一般式（２５）で表されるケイ素化合物の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、クロロプロピルトリエトキシシラン、ブロモプロピルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。特に、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリクロロシランが好ましい。

　一般式（２６）で表されるケイ素化合物の例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジペンチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジベンジルジエトキシシラン、ジクロロプロピルジエトキシシラン、ジブロモプロピルジエトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジフルオロプロピルジメトキシシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。特に、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシランが好ましい。

　上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法として、さらに詳細な一例を以下に記載する。
　溶剤（特には、有機溶剤）及び加水分解原料（即ち、上記一般式（２０）又は（２１）で表される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、上記一般式（２２）又は（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、上記一般式（２４）で表される加水分解性シラン、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物及び前記加水分解性シランの金属塩から選ばれる１種又は２種以上との混合物）を反応器に仕込み、触媒である酸を添加し、撹拌しつつ水を滴下する。この場合、有機溶剤は水の滴下終了後に加えるようにしてもよい。なお、加水分解は酸性条件で行うことが好ましいことから、酸触媒の添加が必須である。

　水を滴下するときの温度は０～８０℃、特に０～５０℃が好ましく、上記温度範囲内に収めることにより、系中の加水分解原料の加水分解反応に由来する反応熱を抑制できる。滴下する水の量は、加水分解性を有する官能基（アルコキシ基等）に対してモル比で０．６～２、好ましくは１．０～１．８の範囲である。上記範囲内に収めることにより、さらにヒドロシリル基の失活を抑制することが可能となる。

　加水分解反応に用いる溶媒としては、加水分解反応中の均一な反応系の保持・粘性増加による反応速度の低下の抑制のために、有機溶剤の使用が好ましい。また、加水分解時の還流温度よりも高い沸点を有する溶剤の使用が望ましい。

　有機溶剤の例としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン，デカメチルシクロペンタシロキサン，ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン；トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン，メチルエチルケトン，ジエチルケトン，メチルイソブチルケトン等のケトン系有機溶剤；ヘキサン，ヘプタン，オクタン，シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素等が挙げられる。

　また、場合により炭素数１～１０のアルコール溶媒を併用することもできる。例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－ブタノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－メチルブタノール、２－ペンタノール、１－ヘキサノール、２－メチルペンタノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、１－ノナノール、１－デカノール、フェノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール等が挙げられる。アルコール溶媒は、アルコキシ基のような加水分解基とアルコール交換反応をするため、長鎖アルコール溶媒の利用は加水分解反応の律速に繋がる。そのため、特にメタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノールが好ましい。

　用いる溶媒の使用量は、反応液（系）全体の１～８０％（質量％、以下同じ）、特に５～５０％とすることが好ましい。上記範囲内にすると、反応系中が均一に保持され、反応が効率よく進行する。

　酸触媒の例としては、塩酸、硫酸、亜硫酸、発煙硫酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、燐酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、クエン酸等が挙げられる。酸触媒の使用量は少量でよく、反応液（系）全体の０．００１～１０％の範囲であることが好ましい。

　上記のように水を滴下した後は、例えば温度５０～１５０℃、より好ましくは８０～１２０℃で２～８時間程度加熱して、加水分解反応を行う。この際、使用するヒドロシリル基含有有機化合物の沸点未満で行うことで、ヒドロシリル基の失活をさらに抑制することができる。

　このようにして、上記加水分解原料を酸触媒下で加水分解を行った後は、１０～１００℃、好ましくは１０～６０℃、より好ましくは１０～３０℃で、さらに好ましくは２５℃まで冷却する。

　上記の加水分解後は、１０～４０℃でアルカリ金属炭酸塩，アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属水酸化物等の塩基触媒により中和する。このとき、強塩基触媒と弱塩基触媒を併用すると、ヒドロシリル基の失活抑制及び、有機ケイ素樹脂の縮合反応がさらに促進される。この強塩基触媒の例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等が挙げられる。また、弱塩基触媒の例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。特に強塩基触媒と弱塩基触媒の組み合わせとして、高分子量化のしやすさから水酸化ナトリウムと炭酸カルシウムの組み合わせが望ましく、この組み合わせだと、分子量が十分に増加し、より確実に高分子量のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂を得ることが可能となる。

　塩基触媒の使用量は、酸触媒のモル当量よりも多い量が必要であり、酸触媒の当量より多い塩基触媒で中和することで、有機ケイ素樹脂の縮合反応が優先し、その結果として分子量が上がり、高分子量であるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂を得ることができる。塩基触媒の使用量が、酸触媒の１．１～３．０モル当量の範囲であることが好ましい。添加量を上記範囲内にすることで、ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の縮合反応が優先し、その結果として目的の分子量の樹脂を得ることができる。

　中和後、生成したアルコール類、溶媒と過剰の水を常圧又は減圧下、９５～１２０℃で加熱して除去してもよい。そして、生成したアルコール類、溶媒と過剰の水の除去を確認後、例えば、１２０～１５０℃で２～５時間程度加熱することにより、縮合反応を行う。これより、ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂が得られる。

　また、上記に示すヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法においては、上記一般式（２０）、（２１）、（２２）及び（２３）の化合物の総物質量と一般式（２４）の化合物のＳｉＯ_４／２単位の物質量との使用割合は、モル比（（（２０）、（２１）、（２２）＋（２３））：（２４））として０．３：１～２：１が好ましく、０．６：１～１．３：１がより好ましい。さらに、式（２０），（２１）の化合物の総物質量と式（２２），（２３）の化合物の総物質量の使用割合は、モル比（（（２０）＋（２１））：（（２２）＋（２３）））として０．３：１．０～２．０：１．０が好ましく、０．６：１．０～１．３：１．０がより好ましい。上記範囲内とすることで、ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂中に含まれるヒドロシリル基量を、より正確に定量的に変化させることができる。このように、本発明は、一般式（２２）及び式（２３）で表される化合物の仕込み量を変えることで、有機ケイ素樹脂中に含まれるヒドロシリル基量を定量的に変化させることができる。

　ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法において、下記反応式に示すように、一部のヒドロシリル基が失活する反応が起こる可能性がある。

ＳｉＯ_１／２Ｈ_ｐ’Ｒ_３－ｐ’（Ｍ単位）＋　　～Ｓｉ－ＯＨ
　　　　　　→　　　～Ｓｉ－Ｏ－ＳｉＯ_１／２Ｈ_ｐ’－１Ｒ_３－ｐ’（Ｄ単位）

（式中、Ｒは炭素数１～１０の１価炭化水素基、ｐ’は１～３の整数である）

　そこで、上記に示すヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法において、上記一般式（２０）及び（２１）で表される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、上記一般式（２２）で表される加水分解性シラン、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物及び前記加水分解性シランの金属塩から選ばれる１種又は２種以上との混合物を、酸触媒下で加水分解を行った後に、上記一般式（２２）及び（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上を徐々に滴下して添加して、再度加水分解を行うことにより、上記ヒドロシリル基の失活を抑制することができる。

　また、該再度の加水分解反応は、反応に付するヒドロシリル基含有有機化合物の沸点未満、例えば、温度４０～１５０℃、より好ましくは４０～１２０℃で２～８時間程度加熱して行うことが好ましい。上記温度範囲内で反応を行うことにより、ヒドロシリル基の失活をさらに抑制することができる。また、原料の添加量、触媒の種類を工夫することにより、ヒドロシリル基の失活をさらに抑えることができる。

　上記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂は、ヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物の仕込み量を変えることで、有機ケイ素樹脂中に含有されたヒドロシリル基量が容易に調整可能であり、多量な導入も可能となる。さらに、加水分解原料の配合量、酸触媒の種類、添加量、反応温度、反応時間、溶媒の添加量、添加方法を変化させることにより、有機ケイ素樹脂の分子量分布や形状等を調整することができ、使用用途に応じたヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂を製造することができる。

［架橋型有機ケイ素樹脂の物性］
　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、重量平均分子量１，０００～１００，０００を有し、好ましくは３，０００～５００，０００を有する。該範囲内にあることにより、性能及びろ過等の作業性の点でより好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析におけるポリスチレン換算の重量平均分子量として求めることができる（以下、同様）。

　架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形状であっても、ゲル状であっても、液状であってもよいが、皮膜形成性の点から固形状またゲル状が好ましく、特に固形状が好ましい。特に、上記平均組成式（１）のａ４が０＜a４≦５を満たす整数であり、上記一般式（２）のｅが０＜ｅ≦２０を満たす整数である架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形状であり、重量平均分子量１，０００～１００，００００の範囲を有するため好ましく、特には重量平均分子量３，０００～５００，０００を有するのが性能及びろ過等の作業性の点でより好ましい。

　上記一般式（２）又は（３）で示される基を少なくとも１つ有する架橋型有機ケイ素樹脂は、２５℃で固形状であるため、皮膜形成剤としてより好適に使用できる。架橋前の有機ケイ素樹脂は脆性のある強固な皮膜を形成する一方、架橋後の架橋型有機ケイ素樹脂はその脆性が改善し、べたつきがなく柔軟な皮膜を形成する。これは架橋前の有機ケイ素樹脂は強固な皮膜を形成するが、柔軟な鎖で架橋することで、皮膜に柔軟性を付与するためである。一般的に硬い皮膜は屈曲性が低く、屈曲性が高い皮膜は軟らかい傾向にあるため、皮膜の強度と屈曲性は二律背反の関係にあるとされてきた。しかし本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、強固な皮膜を形成するにも関わらず、屈曲性が高いため追随性に優れているという特徴を有する。

また、架橋型有機ケイ素樹脂で形成した皮膜は、架橋前の有機ケイ素樹脂で形成した皮膜と比較して、皮脂等の油剤に対する耐油性が大幅に向上する。有機ケイ素樹脂は、分子量増加に伴い耐油性が向上する傾向にあるが、有機ケイ素樹脂の分子量は増加させることに限りがあることから、耐油性も限界点がある。架橋剤による有機ケイ素樹脂の架橋は、擬似的に有機ケイ素樹脂の分子量を増加させることに繋がることから、その限界点を高める効果がある。そのため、従来の有機ケイ素樹脂では達成不能な耐油性を架橋型有機ケイ素樹脂は有している。

　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は２５℃での性状が固形であることが好ましく、皮膜を形成する。皮膜を形成するかはＰＴＦＥ（フッ素樹脂）上にイソドデカン、又は、デカメチルシクロペンタシロキサンにて６０％で希釈された溶解品を１．５ｇ滴下し、１０５℃で３時間乾燥させ、自立膜を形成したかどうかで判定が出来る。皮膜を形成しない場合、皮膜のヒビ割れ等から油が浸みだして耐油性が著しく低下し、皮膚との追随性が低いため、不自然な仕上がりとなってしまう。

　さらに、皮膜形成剤として化粧料に配合することで、塗布時べたつくことがなく、使用感触に優れ、耐水性・耐油性が良好で、皮膚への密着性が良いことから化粧持ち（持続性）に優れる化粧料が得られる。

　本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は水系や乳化系組成物への配合の利便性の点で、Ｏ／Ｗ型エマルジョンを作製し、中間体組成物としてもよい。即ち、本発明の架橋型有機ケイ素樹脂の任意油剤の溶解品を分散相として、連続相である水相に分散させたＯ／Ｗ型エマルジョンを中間体組成物として一旦調整し、これを配合した化粧料を調整することが出来る。中間体組成物となるＯ／Ｗ型エマルジョン作製方法は特に限定されず公知の方法で作製でき、例えば、ＨＬＢが１０以上の活性剤を１種、又は、２種以上を用いて乳化する方法が挙げられ、安定化剤としてＨＬＢが１０未満の活性剤や高級アルコールなどを用いてもよい。また、水相にカルボマーなどを用いて増粘してもよい。

［化粧料］
本発明の架橋型有機ケイ素樹脂（Ａ）は、各種用途に使用することができるが、特に皮膚や毛髪に外用されるすべての化粧料の原料として適用可能である。この場合、上記架橋型有機ケイ素樹脂（Ａ）の配合量は、化粧料全体の０．１～４０質量％の範囲が好ましく、０．１～１０質量％の範囲が更に好ましい。０．１質量％未満であると十分な耐油性が得られず、４０質量％より多いと使用感が悪くなる場合がある。

本発明の架橋型有機ケイ素樹脂（Ａ）は任意の油剤に溶解し、溶解品としての提供も可能である。油剤が揮発性油剤の場合、当該油剤が揮発することで、皮膜の形成が可能であり、皮膜形成剤としての効果を発現する。
（Ｂ）揮発性油剤
揮発性油剤としては、化粧料塗布後早期に皮膜を形成し、その効果を発現することが好ましく、この点から沸点が２４０℃以下である揮発性油剤を配合することが好ましい。これらの中でも特に、シリコーン油、イソドデカン、エタノールが好ましく、化粧料のベース基剤の種類によって、適宜に選定し、組み合わせることが出来る。例えば、ベース基剤がシリコーン系の場合、シリコーン油を選定することが化粧料組成全体の相溶性を向上させ、適当である。シリコーン油であれば、良好な感触が得られるため好ましく、市販品としては信越化学工業（株）製：ＴＭＦ－１．５、ＫＦ－９９５、ＫＦ－９６Ｌ－１ｃｓ、ＫＦ－９６Ｌ－１．５ｃｓ、ＫＦ－９６Ｌ－２ｃｓが挙げられる。

［その他の成分］
本発明の化粧料には、その他の成分として、通常の化粧料に使用される種々の成分を配合することができる。その他の成分としては、例えば、（Ｃ）（Ｂ）成分以外の油剤、（Ｄ）粉体、（Ｅ）界面活性剤、（Ｆ）架橋型オルガノポリシロキサン、（Ｇ）（Ａ）以外の皮膜剤、（Ｈ）水性成分、（Ｉ）その他の添加剤を含んでよい。これらは１種単独で又は２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。これらの成分は、化粧料の種類等に応じて適宜選択使用され、またその配合量も化粧料の種類等に応じた公知の配合量とすることができる。

（Ｃ）油剤
本発明の化粧料には、（Ｂ）成分以外の油剤（Ｃ）を配合してもよい。油剤は、沸点が２４０℃より高ければ、室温で固体、半固体、液状、いずれであってもよく、例えば、シリコーンオイル、天然動植物油脂類及び半合成油脂、炭化水素油、高級アルコール、脂肪酸、エステル油、フッ素系油剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。油剤を配合する場合、油剤の配合量は、特に限定されないが、化粧料全体の１～９５質量％が好ましく、１５～４０質量％がより好ましい。

・シリコーンオイル
シリコーンオイルとしては、通常化粧料に配合できる原料であれば特に限定されないが、具体的には、ジメチルポリシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、カプリリルメチコン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルヘキシルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等の低粘度から高粘度の直鎖又は分岐状のオルガノポリシロキサン、アミノ変性オルガノポリシロキサン等が挙げられる。これらの中でも特に、さっぱりした使用感が得られる低粘度シリコーン〔市販品としては信越化学工業（株）製：ＫＦ－９６Ａ－６ｃｓ等〕や、他の油剤との相溶性向上や艶出しの目的で使われるフェニルシリコーン〔市販品としては信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ、５４ＨＶ等〕、艶出しや使用感調整の目的で使われるシリコーンワックス〔市販品としては信越化学工業（株）製：ＫＰ－５６１Ｐ，５６２Ｐ，ＫＦ－７０２０Ｓ等〕が好ましく利用される。これらのシリコーンオイルは１種又は２種以上を用いることができる。

天然動植物油脂類及び半合成油脂としては、アボガド油、アマニ油、アーモンド油、イボタロウ、エノ油、オリーブ油、カカオ脂、カポックロウ、カヤ油、カルナウバロウ、肝油、キャンデリラロウ、牛脂、牛脚脂、牛骨脂、硬化牛脂、キョウニン油、鯨ロウ、硬化油、小麦胚芽油、ゴマ油、コメ胚芽油、コメヌカ油、サトウキビロウ、サザンカ油、サフラワー油、シアバター、シナギリ油、シナモン油、ジョジョバロウ、スクワレン、セラックロウ、タートル油、大豆油、茶実油、ツバキ油、月見草油、トウモロコシ油、豚脂、ナタネ油、日本キリ油、ヌカロウ、胚芽油、馬脂、パーシック油、パーム油、パーム核油、ヒマシ油、硬化ヒマシ油、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、ヒマワリ油、ブドウ油、ベイベリーロウ、ホホバ油、マカデミアナッツ油、ミツロウ、ミンク油、綿実油、綿ロウ、モクロウ、モクロウ核油、モンタンロウ、ヤシ油、硬化ヤシ油、トリヤシ油脂肪酸グリセライド、羊脂、落花生油、ラノリン、液状ラノリン、還元ラノリン、ラノリンアルコール、硬質ラノリン、酢酸ラノリン、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ＰＯＥラノリンアルコールエーテル、ＰＯＥラノリンアルコールアセテート、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール、ＰＯＥ水素添加ラノリンアルコールエーテル、卵黄油等が挙げられる。但し、ＰＯＥはポリオキシエチレンを意味する。

炭化水素油としては、イソヘキサデカン、オゾケライト、スクワラン、スクワレン、セレシン、パラフィン、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、ポリエチレン・ポリピロピレンワックス、流動パラフィン、プリスタン、ポリイソブチレン、マイクロクリスタリンワックス、ワセリン等；高級脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）、イソステアリン酸、１２－ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。

高級アルコール油としては、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オレイルアルコール、イソステアリルアルコール、ヘキシルドデカノール、オクチルドデカノール、セトステアリルアルコール、２－デシルテトラデシノール、コレステロール、フィトステロール、ＰＯＥコレステロールエーテル、モノステアリルグリセリンエーテル（バチルアルコール）、モノオレイルグリセリルエーテル（セラキルアルコール）等が挙げられる。

エステル油としては、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸２－ヘキシルデシル、アジピン酸ジ－２－ヘプチルウンデシル、イソノナン酸イソノニル、モノイソステアリン酸Ｎ－アルキルグリコール、イソステアリン酸イソセチル、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、ジ－２－エチルヘキサン酸エチレングリコール、２－エチルヘキサン酸セチル、トリ－２－エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、テトラ－２－エチルヘキサン酸ペンタエリスリトール、オクタン酸セチル、オクチルドデシルガムエステル、オレイン酸オレイル、オレイン酸オクチルドデシル、オレイン酸デシル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、クエン酸トリエチル、コハク酸２－エチルヘキシル、酢酸アミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸ブチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジ－２－エチルヘキシル、乳酸セチル、乳酸ミリスチル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸２－エチルヘキシル、パルミチン酸２－ヘキシルデシル、パルミチン酸２－ヘプチルウンデシル、１２－ヒドロキシステアリル酸コレステリル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸２－ヘキシルデシル、ミリスチン酸ミリスチル、ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ヘキシル、Ｎ－ラウロイル－Ｌ－グルタミン酸－２－オクチルドデシルエステル、リンゴ酸ジイソステアリル等；グリセライド油としては、アセトグリセリル、トリイソオクタン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、トリイソパルミチン酸グリセリル、モノステアリン酸グリセリル、ジ－２－ヘプチルウンデカン酸グリセリル、トリミリスチン酸グリセリル、ミリスチン酸イソステアリン酸ジグリセリル等が挙げられる。

フッ素系油剤としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロデカリン、パーフルオロオクタン等が挙げられる。

　紫外線吸収剤としては、サリチル酸ホモメンチル、オクトクリレン、４－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、４－（２－β－グルコピラノシロキシ）プロポキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、サリチル酸オクチル、２－［４－（ジエチルアミノ）－２－ヒドロキシベンゾイル］安息香酸ヘキシルエステル、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸ナトリウム、ジヒドロキシベンゾフェノン、ジメチコジエチルベンザルマロネート、１－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，４－ジメチル－１，３－ペンタンジオン、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸２－エチルヘキシル、テトラヒドロキシベンゾフェノン、テレフタリリデンジカンフルスルホン酸、２，４，６－トリス［４－（２－エチルヘキシルオキシカルボニル）アニリノ］－１，３，５－トリアジン、トリメトキシケイ皮酸メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルイソペンチル、ドロメトリゾールトリシロキサン、パラジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、パラメトキシケイ皮酸イソプロピル、パラメトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２，４－ビス－［｛４－（２－エチルヘキシルオキシ）－２－ヒドロキシ｝－フェニル］－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、２，２’－メチレンビス（６－（２Ｈベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール）が挙げられる。また、ＵＶＡ吸収剤（例えば、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル等）と、ＵＶＢ吸収剤（例えば、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル等）を併用することが可能であり、それぞれを任意に組み合わせることも可能である。

なお、油剤（Ｃ）については、本発明の（Ａ）成分を化粧料中、簡易に配合させる目的から、本発明の（Ａ）成分と相溶性の高い成分を選定する事が好ましいが、一方では、相溶性の悪い油剤についても、限定的な配合や使途に依って、本発明の（Ａ）成分の皮膜性能を著しく発現させることができ、配合が好ましい場合もある。つまり、本発明の（Ａ）成分は相溶性の悪い油剤を用いて化粧料塗布後に相分離をさせ、皮膜効果を発現させることも出来る。具体的な方法としては、化粧料の完成される形態において、着色剤を含む相溶性の悪い油剤が含まれる相（あ）に、上記（Ｂ）揮発性油剤を相溶化剤として（Ａ）成分を分散させる。当該化粧料塗布後、分散相中の（Ｂ）揮発性油剤が揮発することで、相（あ）と（Ａ）成分が、肌（あるいは唇）上で分離させられ、（Ａ）成分を含む皮膜相と着色剤を含む相（あ）に分離し、二次付着を防止することが可能となる。相溶性の悪い油剤としては高分子量の水添ポリイソブテンや高重合のフェニルシリコーン等が挙げられる。あるいは、その他の例として、ワックスを配合する化粧料において、化粧料組成物の高温加熱時には（Ａ）成分や任意成分とを溶解させておき、冷却時（；化粧料固化時）に相溶性を低下させる事に依って、ワックスを含む相（い）中に（Ａ）成分を含む任意組成の相が分散する状態を作り出す。化粧料を塗布する事で、（Ａ）成分を含む任意組成の相が化粧料塗布膜の表面に同様に現れ、皮膜性能を発現させることも可能である。

（Ｄ）粉体
　粉体は通常化粧料に配合できる原料であれば、特に限定されないが、例えば、顔料、シリコーン球状粉体等が挙げられる。粉体を配合する場合、粉体の配合量は特に限定されないが、化粧料全体の０．１～９０質量％配合することが望ましく、１～３５質量％がさらに好ましい。

　顔料としては、一般にメーキャップ化粧料に用いられるものであれば特に制限されない。例えばタルク、マイカ、セリサイト、合成金雲母、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、カオリン、シリカ、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、赤酸化鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、群青、紺青、カーボンブラック、低次酸化チタン、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト、オキシ塩化ビスマス、チタン－マイカ系パール顔料等の無機顔料；赤色２０１号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色２２８号、赤色４０５号、橙色２０３号、黄色２０５号、黄色４号、黄色５号、青色１号、青色４０４号、緑色３号等のジルコニウム、バリウム又はアルミニウムレーキ等の有機顔料；クロロフィル、β－カロチン等の天然色素；染料等が挙げられる。

なお、上述の粉体は、粒子表面を処理したものも使用できる。また、その表面処理剤は、製剤の耐水性を損なわない目的から疎水性を付与できるものが好ましく、疎水性を付与できれば特に限定されず、シリコーン処理剤、ワックス類、パラフィン類、ペルフルオロアルキルとリン酸塩等の有機フッ素化合物、界面活性剤、Ｎ－アシルグルタミン酸等のアミノ酸、ステアリン酸アルミニウム、ミリスチン酸マグネシウム等の金属石鹸等の処理剤が挙げられる。より好ましくはシリコーン処理剤で、カプリルシラン（信越化学工業（株）製：ＡＥＳ－３０８３）、又は、トリメトキシシリルジメチコン等のシラン類又はシリル化剤、ジメチルシリコーン（信越化学工業（株）製：ＫＦ－９６Ａシリーズ）、メチルハイドロジェン型ポリシロキサン（信越化学工業（株）製：ＫＦ－９９Ｐ，ＫＦ－９９０１等）、シリコーン分岐型シリコーン処理剤（信越化学工業（株）製：ＫＦ－９９０８，ＫＦ－９９０９等）等のシリコーンオイル、アクリルシリコーン（信越化学工業（株）製：ＫＰ－５７４、ＫＰ－５４１）等が挙げられる。さらに、上記の表面疎水化処理剤は、単独、あるいは、２種以上を組合せ使用してもよい。表面処理を施した着色顔料の具体例としては、信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９シリーズ、特に、ＫＴＰ－０９Ｗ、０９Ｒ、０９Ｙ、０９Ｂ等が挙げられる。疎水化処理微粒子酸化チタンあるいは疎水化処理微粒子酸化亜鉛を含有する分散体の具体例としては、信越化学工業（株）製：ＳＰＤ－Ｔ５、Ｔ６、Ｔ７、Ｔ５Ｌ、Ｚ５、Ｚ６、Ｚ５Ｌ等が挙げられる。この成分を配合する場合は化粧料中の０．０１～９５質量％が好ましい。

　シリコーン球状粉体としては架橋型シリコーン粉末（即ち、ジオルガノシロキサン単位の繰返し連鎖が架橋した構造を有するオルガノポリシロキサンからなる、いわゆるシリコーンゴムパウダー）、シリコーン樹脂粒子（三次元網状構造のポリオルガノシルセスキオキサン樹脂粒子）、シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉末等が挙げられる。架橋型シリコーン粉末、シリコーン樹脂粒子の具体例としては、（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマー、ポリメチルシルセスキオキサン等の名称で知られている。これらは粉体として、或いは、シリコーンオイルを含む膨潤物として市販され、例えば、ＫＭＰ－５９８，５９０，５９１，ＫＳＧ－０１６Ｆ等（何れも信越化学工業（株）製）の商品名で市販されている。これらの粉体は、球状粉体特有のローリング効果により、化粧料のすべり性を付与し、使用感を改善する。これらは１種又は２種以上を用いることができる。

　シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉末は、特に、べたつきの防止等の感触の向上効果や、しわ・毛穴等の凹凸補正効果等の点で好ましい。シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉末の具体例としては、化粧品表示名称で定義される、（ビニルジメチコン／メチコンシルセスキオキサン）クロスポリマー、（ジフェニルジメチコン／ビニルジフェニルジメチコン／シルセスキオキサン）クロスポリマー、ポリシリコーン－２２、ポリシリコーン－１クロスポリマー等の名称で知られている。これらは、ＫＳＰ－１００，１０１，１０２，１０５，３００，４１１，４４１等（何れも信越化学工業（株）製）の商品名で市販されている。これらの粉体は１種又は２種以上を用いることができる。この成分を配合する場合は化粧料中の０．０１～９５質量％が好ましい。

（Ｅ）界面活性剤
　界面活性剤としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性及び両性の活性剤があるが、特に制限されるものではなく、通常の化粧料に使用されるものであれば、いずれのものも使用することができ、１種単独で又は２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。これらの界面活性剤の中でも、架橋型ポリエーテル変性シリコーン、架橋型ポリグリセリン変性シリコーン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン・アルキル共変性オルガノポリシロキサンであることが（Ａ）成分を含む油剤との相溶性の点で好ましい。これらの界面活性剤において、親水性のポリオキシエチレン基、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン基又はポリグリセリン残基の含有量が、分子中の１０～７０％を占めることが好ましい。具体例としては、信越化学工業（株）製のＫＳＧ－２１０，２４０，３１０，３２０，３３０，３４０，３２０Ｚ，３５０Ｚ，７１０，８１０，８２０，８３０，８４０，８２０Ｚ，８５０Ｚ、ＫＦ－６０１１，６０１３，６０１７，６０４３，６０２８，６０３８，６０４８，６１００，６１０４，６１０５，６１０６等が挙げられる。この成分を配合する場合の配合量は、化粧料中０．０１～１５質量％が好ましい。

（Ｆ）架橋型オルガノポリシロキサン
　架橋型オルガノポリシロキサンとしては、通常化粧品に使用されるものであれば特に限定されず、１種単独で又は２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。この架橋型オルガノポリシロキサンは、上記の（Ｄ）で説明したシリコーン粉体と異なり、球状形状を有していない。また、上記の（Ｅ）界面活性剤とは異なり、分子構造中、ポリエーテル又はポリグリセリン構造を有しない化合物である。油剤で膨潤することにより、構造粘性を有するエラストマーである。具体例としては、化粧品表示名称で定義される、（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマー、（ジメチコン／フェニルビニルジメチコン）クロスポリマー、（ビニルジメチコン／ラウリルジメチコン）クロスポリマー、（ラウリルポリジメチルシロキシエチルジメチコン／ビスビニルジメチコン）クロスポリマー等が挙げられる。これらは室温で液状のオイルを含む膨潤物として市販され、具体例としては、信越化学工業（株）製のＫＳＧ－１５，１５１０，１６，１６１０，１８Ａ，１９，４１Ａ，４２Ａ，４３，４４，０４２Ｚ，０４５Ｚ，０４８Ｚ等が挙げられる。この成分を配合する場合の配合量は、固形分として化粧料中０．０１～３０質量％が好ましい。

（Ｇ）（Ａ）以外の皮膜剤
　本発明の効果を発現する限り、既存の皮膜形成剤を併用することができる。既存の皮膜剤としては、通常化粧料に配合できる原料であれば特に限定されないが、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸アルキル等のラテックス類、デキストリン、アルキルセルロースやニトロセルロース等のセルロース誘導体、トリ（トリメチルシロキシ）シリルプロピルカルバミド酸プルラン等のシリコーン化多糖化合物、（アクリル酸アルキル／ジメチコン）コポリマー等のアクリル－シリコーン系グラフト共重合体、トリメチルシロキシケイ酸等のシリコーン樹脂、シリコーン変性ポリノルボルネン、フッ素変性シリコーン樹脂等のシリコーン系樹脂、フッ素樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、ポリマーエマルジョン樹脂、テルペン系樹脂、ポリブテン、ポリイソプレン、アルキド樹脂、ポリビニルピロリドン変性ポリマー、ロジン変性樹脂、ポリウレタン等が用いられる。

　これらの中でも特に、シリコーン系の皮膜剤が好ましく、中でもトリ（トリメチルシロキシ）シリルプロピルカルバミド酸プルラン〔市販品としては、溶剤に溶解したものとして、信越化学工業（株）製：ＴＳＰＬ－３０－Ｄ５，ＩＤ〕や、（アクリル酸アルキル／ジメチコン）コポリマー〔市販品としては、溶剤に溶解したものとして、信越化学工業（株）製：ＫＰ－５４３，５４５，５４９，５５０，５４５Ｌ等〕や、トリメチルシロキシケイ酸〔市販品としては、溶剤に溶解したものとして、信越化学工業（株）製：ＫＦ－７３１２Ｊ，Ｘ－２１－５２５０等〕やシリコーン変性ポリノルボルネン〔市販品としては、溶剤に溶解したものとして、信越化学工業（株）製：ＮＢＮ－３０－ＩＤ等〕、オルガノシロキサングラフトポリビニルアルコール系重合体を用いることができるが、これらに限定されるものではない。特に、トリ（トリメチルシロキシ）シリルプロピルカルバミド酸プルランと（Ａ）成分を組み合わせた場合、曳糸性や増粘性を付与したり、より強固な皮膜が得られ、（アクリル酸アルキル／ジメチコン）コポリマーと（Ａ）成分を組み合わせた場合、より柔軟な皮膜が得られ、トリメチルシロキシケイ酸と（Ａ）成分を組み合わせた場合、より強固な皮膜が得られる。（Ａ）成分以外の既存の皮膜剤としては１種又は２種以上を用いることができる。この成分を配合する場合の配合量は、化粧料中０．１～２０質量％が好ましい。

（Ｈ）水性成分
　水性成分は、通常化粧料に配合できる水性成分であれば、特に限定されない。具体的には、水、低級アルコール、エリスリトール、マルチトール、キシリトール、ソルビトール等の糖アルコール、１，３－ＢＧ、グリセリン、ＰＧ、ＤＰＧ等の多価アルコール等の保湿剤等が挙げられ、１種単独で又は２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。この成分を配合する場合の配合量は、化粧料中０．１～９０質量％が好ましい。

（Ｉ）その他の添加剤
　その他の添加剤としては、油溶性ゲル化剤、水溶性増粘剤、制汗剤、防腐剤・殺菌剤、香料、塩類、酸化防止剤、ｐＨ調整剤、キレート剤、清涼剤、抗炎症剤、美肌用成分（美白剤、細胞賦活剤、肌荒れ改善剤、血行促進剤、皮膚収斂剤、抗脂漏剤等）、ビタミン類、アミノ酸類、水溶性高分子化合物、繊維、包接化合物等が挙げられる。

・油溶性ゲル化剤
　油溶性ゲル化剤としては、アルミニウムステアレート、マグネシウムステアレート、ジンクミリステート等の金属セッケン；Ｎ－ラウロイル－Ｌ－グルタミン酸、α，γ－ジ－ｎ－ブチルアミン等のアミノ酸誘導体；デキストリンパルミチン酸エステル、デキストリンステアリン酸エステル、デキストリン２－エチルヘキサン酸パルミチン酸エステル等のデキストリン脂肪酸エステル；ショ糖パルミチン酸エステル、ショ糖ステアリン酸エステル等のショ糖脂肪酸エステル；フラクトオリゴ糖ステアリン酸エステル、フラクトオリゴ糖２－エチルヘキサン酸エステル等のフラクトオリゴ糖脂肪酸エステル；モノベンジリデンソルビトール、ジベンジリデンソルビトール等のソルビトールのベンジリデン誘導体；ジステアルジモニウムヘクトライト、ステアラルコニウムクトライト、ヘクトライトの有機変性粘土鉱物等が挙げられる。

・水溶性増粘剤
　水溶性増粘剤として、アラビアゴム、トラガカント、ガラクタン、キャロブガム、グアーガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、寒天、クインスシード（マルメロ）、デンプン（コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ等）、アルゲコロイド、トラントガム、ローカストビーンガム等の植物系高分子、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、プルラン等の微生物系高分子、コラーゲン、カゼイン、アルブミン、ゼラチン等の動物系高分子、カルボキシメチルデンプン、メチルヒドロキシプロピルデンプン等のデンプン系高分子、メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、カチオン化セルロース、セルロース末のセルロース系高分子、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル等のアルギン酸系高分子、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子、ポリオキシエチレン系高分子、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体系高分子、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポリアクリルアミド、アクリロイルジメチルタウリン塩コポリマー等のアクリル系高分子、ポリエチレンイミン、カチオンポリマー等他の合成水溶性高分子、ベントナイト、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、無水ケイ酸等の無機系水溶性高分子等がある。

　中でも、植物系高分子、微生物系高分子、動物系高分子、デンプン系高分子、セルロース系高分子、アルギン酸系高分子、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体系高分子、アクリル系高分子、及び無機系水溶性高分子から選ばれる１種又は２種以上の水溶性増粘剤が好ましく使用される。

・制汗剤
　制汗剤として、クロルヒドロキシアルミニウム、アラントインクロルヒドロキシアルミニウム等のヒドロキシハロゲン化アルミニウム、塩化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、アラントインアルミニウム塩、タンニン酸、カキタンニン、硫酸アルミニウムカリウム、酸化亜鉛、パラフェノールスルホン酸亜鉛、焼きミョウバン、テトラクロロ（Ａｌ／ジルコニウム）水和物、トリクロロハイドレックスグリシン（Ａｌ／ジルコニウム）等が挙げられる。特に、高い効果を発現する成分として、ヒドロキシハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、ならびにこれらのオキシハロゲン化ジルコニル及びヒドロキシハロゲン化ジルコニルとの錯体又は混合物（例えば、テトラクロロ（Ａｌ／ジルコニウム）水和物、トリクロロハイドレックスグリシン（Ａｌ／ジルコニウム））等が好ましい。

・防腐剤・殺菌剤
　防腐剤・殺菌剤としては、パラオキシ安息香酸アルキルエステル、安息香酸、安息香酸ナトリウム、ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、フェノキシエタノール、イミダゾリジニルウレア、サリチル酸、イソプロピルメチルフェノール、石炭酸、パラクロルメタクレゾール、ヘキサクロロフェン、塩化ベンザルコニウム、塩化クロルヘキシジン、トリクロロカルバニリド、ブチルカルバミン酸ヨウ化プロピニル、ポリリジン、感光素、銀、植物エキス等が挙げられる。

・香料
　香料としては、天然香料及び合成香料がある。天然香料としては花、葉、材、果皮等から分離した植物性香料、ムスク、シベット等の動物性香料がある。合成香料としてはモノテルペン等の炭化水素類、脂肪族アルコール、芳香族アルコール等のアルコール類、テルペンアルデヒド、芳香族アルデヒド等のアルデヒド類、脂環式ケトン等のケトン類、テルペン系エステル等のエステル類、ラクトン類、フェノール類、オキサイド類、含チッソ化合物類、アセタール類等が挙げられる。

・塩類
　塩類としては、無機塩、有機酸塩、アミン塩及びアミノ酸塩が挙げられる。無機塩としては、例えば、塩酸、硫酸、炭酸、硝酸等の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、アルミニウム塩、ジルコニウム塩、亜鉛塩等が挙げられる。有機酸塩としては、例えば、酢酸、デヒドロ酢酸、クエン酸、りんご酸、コハク酸、アスコルビン酸、ステアリン酸等の有機酸類の塩が挙げられる。アミン塩及びアミノ酸塩としては、例えば、トリエタノールアミン等のアミン類の塩、グルタミン酸等のアミノ酸類の塩等が挙げられる。また、その他、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸等の塩等や、さらには、製剤処方の中で使用される酸－アルカリの中和塩等も使用することができる。

・酸化防止剤
　酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えば、カロチノイド、アスコルビン酸及びその塩、ステアリン酸アスコルビル、トコフェノール、酢酸トコフェノール、トコフェロール、ｐ－ｔ－ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、ジブチルヒドロキシトルエン、フィチン酸、フェルラ酸、チオタウリン、ヒポタウリン、亜硫酸塩、エリソルビン酸及びその塩、クロロゲン酸、エピカテキン、エピガロカテキン、エピガロカテキンガレート、アピゲニン、カンフェロール、ミリセチン、ケルセチン等が挙げられる。

・ｐＨ調整剤
　ｐＨ調整剤としては、乳酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、酒石酸、ｄｌ－リンゴ酸、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム等が挙げられる。

・キレート剤
キレート剤としては、アラニン、エデト酸ナトリウム塩、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、リン酸等が挙げられる。

・清涼剤
清涼剤としては、Ｌ－メントール、カンフル、乳酸メンチル等が挙げられる。

・抗炎症剤
抗炎症剤としては、アラントイン、グリチルリチン酸及びその塩、グリチルレチン酸及びグリチルレチン酸ステアリル、トラネキサム酸、アズレン等が挙げられる。

・美肌用成分
　美肌用成分としては、胎盤抽出液、アルブチン、グルタチオン、ユキノシタ抽出物等の美白剤、ロイヤルゼリー、感光素、コレステロール誘導体、幼牛血液抽出液等の細胞賦活剤、肌荒れ改善剤、ノニル酸ワレニルアミド、ニコチン酸ベンジルエステル、ニコチン酸β－ブトキシエチルエステル、カプサイシン、ジンゲロン、カンタリスチンキ、イクタモール、カフェイン、タンニン酸、α－ボルネオール、ニコチン酸トコフェロール、イノシトールヘキサニコチネート、シクランデレート、シンナリジン、トラゾリン、アセチルコリン、ベラパミル、セファランチン、γ－オリザノール等の血行促進剤、皮膚収斂剤、イオウ、チアントロール等の抗脂漏剤等が挙げられる。

・ビタミン類
　ビタミン類としては、ビタミンＡ油、レチノール、酢酸レチノール、パルミチン酸レチノール等のビタミンＡ類、リボフラビン、酪酸リボフラビン、フラビンアデニンヌクレオチド等のビタミンＢ_２類、ピリドキシン塩酸塩、ピリドキシンジオクタノエート、ピリドキシントリパルミテート等のビタミンＢ_６類、ビタミンＢ_１２及びその誘導体、ビタミンＢ_１５及びその誘導体等のビタミンＢ類、Ｌ－アスコルビン酸、Ｌ－アスコルビン酸ジパルミチン酸エステル、Ｌ－アスコルビン酸－２－硫酸ナトリウム、Ｌ－アスコルビン酸リン酸ジエステルジカリウム等のビタミンＣ類、エルゴカルシフェロール、コレカルシフェロール等のビタミンＤ類、α－トコフェロール、β－トコフェロール、γ－トコフェロール、酢酸ｄｌ－α－トコフェロール、ニコチン酸ｄｌ－α－トコフェロール、コハク酸ｄｌ－α－トコフェロール等のビタミンＥ類；ニコチン酸、ニコチン酸ベンジル、ニコチン酸アミド等のニコチン酸類、ビタミンＨ、ビタミンＰ、パントテン酸カルシウム、Ｄ－パントテニルアルコール、パントテニルエチルエーテル、アセチルパントテニルエチルエーテル等のパントテン酸類、ビオチン等が挙げられる。

・アミノ酸類
　アミノ酸類としては、グリシン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、アルギニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン酸、シスチン、システイン、メチオニン、トリプトファン等が挙げられる。

・核酸
　核酸としては、デオキシリボ核酸等が挙げられる。

・ホルモン
　ホルモンとしては、エストラジオール、エテニルエストラジオール等が挙げられる。

・包接化合物
　包接化合物としては、シクロデキストリン等が挙げられる。

　上記した化粧料の形態は、乳化系、非水系のどちらでもよい。みずみずしい使用感を付与したいときは乳化形態を選択し、乳化形態としては、Ｏ／Ｗ型エマルジョン、Ｗ／Ｏ型エマルジョン、Ｏ／Ｗ／Ｏ型エマルジョン、Ｗ／Ｏ／Ｗ型エマルジョンのいずれの形態でもよく、油性感や耐水性を得たいときは非水系組成物、又は、粉体組成物を選択でき、いずれの場合でも良好な化粧料が得られる。なお、本発明において「非水系組成物」とは、水を意図的に配合しない組成物をいう。これらの中でも特に高い耐油性が期待できる非水系組成物が好ましい。

本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は種々の方法で化粧料に配合することが出来る。例えば、（Ｂ）成分に予め溶解した溶液としてもよく、スプレイドライヤーなどでドライアップして固形分を再溶解しやすい状態にしてもよく、Ｏ／Ｗ型エマルジョンにして化粧料に配合してもよい。

　本発明における化粧料は、特に限定されるものではないが、例えば、美容液、乳液、クリーム、ヘアケア、ファンデーション、化粧下地、日焼け止め、コンシーラー、チークカラー、口紅、グロス、バーム、マスカラ、アイシャドウ、アイライナー、ボディーメーキャップ、デオドラント剤、爪用化粧料等、種々の製品に応用することが可能である。これらの中でも特に、ファンデーション、口紅、マスカラ、アイライナー等のメイクアップ化粧料や日焼け止め効果を付与した化粧料が好ましい。本発明の化粧料の性状としては、液状、クリーム状、固形状、ペースト状、ゲル状、ムース状、スフレ状、粘土状、パウダー状、スティック状等の種々の性状を選択することができる。

　以下、実施例及び比較例により本発明をより詳細にに説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。組成の「％」は特に説明がない場合は質量％である。また、下記において原料であるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂は、特開２０１７－７５２８３号に記載の製造方法に従い合成されたものである。

［実施例１］
　架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
下記平均組成式（Ｅ１）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量４，４３０，水素ガス発生量：９．１ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液１，０００ｇ、下記式（Ｅ２）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン９８．６ｇ、２－プロパノール１，０００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．６ｇを反応器に仕込み、８０℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２５０ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．６３ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記式（Ｅ３）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった(重量平均分子量１５６,０００)。

式（Ｅ１）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２６．５（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．８（ＳｉＯ_２）_３６．０
　
式（Ｅ２）：

式（Ｅ３）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２６．５（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．８（ＳｉＯ_２）_３６

（Ｍｅはメチル基を示す。以下同様。上記式（Ｅ３）においてＸの一部は水酸基であってよい）

［実施例２］
　架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ４）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量４，４８０，水素ガス発生量：８．０ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液１，３００ｇ、下記式（Ｅ５）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン８０．６ｇ、２－プロパノール１，３００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．７ｇを反応器に仕込み、１００℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、下記式（Ｅ６）で表されるポリオキシアルキレンを２２３．０ｇ添加して、１００℃で６時間加熱することで反応を継続した後、さらに減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを３２５ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液６．５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．８ｇを添加し中和を行った。中和後、０．０１Ｎ塩酸水溶液を１９５ｇ添加して未反応ポリオキシアルキレンのアリルエーテル基を加水分解し、５％重槽水３．３ｇで中和した。さらに反応液をオートクレープに移した後、ラネーニッケル５０ｇを添加して、１ＭＰａの水素圧で水素を流しながら１００℃で３時間反応を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、平均組成式（Ｅ７）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった(重量平均分子量４５,６００)。

式（Ｅ４）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３３．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_５．６（ＳｉＯ_２）_４８．０

式（Ｅ５）：

式（Ｅ６）：　ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９－Ｈ

式（Ｅ７）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３３．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（Ｒ^２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_４．５（ＳｉＯ_２）_４８．０

Ｒ^２＝　－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９－Ｈ
上記式（Ｅ７）においてＲ^２及びＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例３］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ８）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量５，０３０，水素ガス発生量：１５．１ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液９００ｇ、下記式（Ｅ９）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン５９．８ｇ、２－プロパノール９００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．６ｇを反応器に仕込み、９５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、下記式（Ｅ１０）で表されるオルガノポリシロキサンを１００．０ｇ添加して、１００℃で６時間加熱することで反応を継続した後、さらに減圧下で加熱することで溶剤を留去した。その後、エタノールを２２５ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液４．５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．６ｇを添加し中和を行った。その後、反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記平均組成式（Ｅ１１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった(重量平均分子量３２,４００)。

式（Ｅ８）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２５．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_３．４（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_１０．０（ＳｉＯ_２）_３４．０

式（Ｅ９）：

式（Ｅ１０）：ＣＨ_２＝ＣＨ－（ＳｉＯ（ＣＨ_３）_２）_５－Ｓｉ（ＣＨ_３）_３

式（Ｅ１１）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２５．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．０（Ｒ^３Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．４（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_１０．０（ＳｉＯ_２）_３４．０

Ｒ^３＝－ＣＨ_２－ＣＨ_２－（ＳｉＯ（ＣＨ_３）_２）_５－Ｓｉ（ＣＨ_３）_３
上記式（Ｅ１１）においてＲ^３及びＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例４］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ１２）で表される固形状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量９，８６０，水素ガス発生量：２４．５ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液１，１００ｇ、下記式（Ｅ１３）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン１０１．４ｇ、２－プロパノール１，１００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．８ｇを反応器に仕込み、８５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、下記式（Ｅ１４）で表されるポリグリセリンを１３５．０ｇ添加して、１００℃で６時間加熱することで反応を継続した後、さらに減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２７５ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液５．５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．７ｇを添加し中和を行った。中和後、０．０１Ｎ塩酸水溶液を１６５ｇ添加して未反応ポリグリセリンのアリルエーテル基を加水分解し、５％重槽水２．８ｇで中和した。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行い、架橋型有機ケイ素樹脂の重量比率が６０％になるようにデカメチルシクロペンタシロキサンで希釈することで、下記均組成式（Ｅ１５）で表される架橋型有機ケイ素樹脂の６０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた生成物は固形状の粉末であった(重量平均分子量２６７,０００)。

式（Ｅ１２）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_５２．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１０．８（ＳｉＯ_２）_８２．０

式（Ｅ１３）：

式（Ｅ１４）：ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ）_３－Ｈ

式（Ｅ１５）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_５２．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（Ｒ^２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_８．６（ＳｉＯ_２）_８２．０

Ｒ^２＝－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ）_３－Ｈ
上記式（Ｅ１５）においてＲ^２及びＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例５］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ１５）で表される固形状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量５，９４０，水素ガス発生量：８．３ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液８００ｇ、下記式（Ｅ１６）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン２３４．１ｇ、２－プロパノール８００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．６ｇを反応器に仕込み、１０５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２００ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液４．０ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．５ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記平均組成式（Ｅ１７）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた生成物はゲル状であった(重量平均分子量３３５,０００)。

式（Ｅ１５）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０

式（Ｅ１６）：

式（Ｅ１７）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０
　

上記式（Ｅ１７）においてＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例６］
　架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　平均組成式（Ｅ１８）で表される固形状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量５，９４０，水素ガス発生量：８．３ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液８００ｇ、式（Ｅ１９）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン３４３．７ｇ、２－プロパノール８００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．７ｇを反応器に仕込み、１０５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２００ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液４．０ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．５ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、平均組成式（Ｅ２０）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた生成物はゲル状であった(重量平均分子量４８８,０００)。

式（Ｅ１８）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０

式（Ｅ１９）：

式（Ｅ２０）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０

上記式（Ｅ２０）においてＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例７］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ２１）で表される固形状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量５，９４０，水素ガス発生量：８．３ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液８００ｇ、下記式（Ｅ２２）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン６７．９ｇ、下記式（Ｅ２３）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン２２１．３ｇ、２－プロパノール８００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．７ｇを反応器に仕込み、１０５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２００ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液４．０ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．５ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記平均組成式（Ｅ２４）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた生成物は固形状であった(重量平均分子量２２１,０００)。

式（Ｅ２１）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０

式（Ｅ２２）：

式（Ｅ２３）：
　　

平均組成式（Ｅ２４）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（Ｒ^４ _１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（ＳｉＯ_２）_４８．０

上記式（Ｅ２４）においてＲ^４及びＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例８］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ２５）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量８，５５０，水素ガス発生量：１０．０ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロテトラシロキサン溶液１，３００ｇ、下記式（Ｅ２６）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン４０．８ｇ、２－プロパノール１，３００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．８ｇを反応器に仕込み、１００℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、下記式（Ｅ２７）で表されるポリオキシアルキレンを８２．７ｇ添加して、１００℃で６時間加熱することで反応を継続した後、さらに減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを３２５ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液６．５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．８ｇを添加し中和を行った。中和後、０．０１Ｎ塩酸水溶液を１９５ｇ添加して未反応ポリオキシアルキレンのアリルエーテル基を加水分解し、５％重槽水３．３ｇで中和した。さらに反応液をオートクレープに移した後、ラネーニッケル５０ｇを添加して、１ＭＰａの水素圧で水素を流しながら１００℃で３時間反応を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記平均組成式（Ｅ２８）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった(重量平均分子量６３,８００)。

式（Ｅ２５）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_５２．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_３．８（ＳｉＯ_２）_６８．０

式（Ｅ２６）：

式（Ｅ２７）：
ＣＨ_２＝ＣＨ－ＣＨ_２－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_５（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_２－ＣＨ_３

式（Ｅ２８）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_５２．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（Ｒ^２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．７（ＳｉＯ_２）_６８．０

Ｒ^２＝－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_５（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_２－ＣＨ_３

上記式（Ｅ２８）においてＲ^２及びＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例９］
架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ２９）で表される固形状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量５，９４０，水素ガス発生量：８．３ｍＬ／ｇ）の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液８００ｇ、下記式（Ｅ３０）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン６７．９ｇ、下記式（Ｅ３１）で表される両末端にビニル基を有する炭化水素７．５ｇ、２－プロパノール８００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．７ｇを反応器に仕込み、１０５℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２００ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液４．０ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．５ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、下記平均組成式（Ｅ３２）で表される架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を得た。
　得られた架橋型有機ケイ素樹脂のデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた生成物は固形状であった(重量平均分子量２２１,０００)。

式（Ｅ２９）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_２．２（ＳｉＯ_２）_４８．０

式（Ｅ３０）：

式（Ｅ３１）：ＣＨ_２＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_４－ＣＨ＝ＣＨ_２

式（Ｅ３２）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３６．０（Ｘ_１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（Ｒ^４ _１／２Ｍｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．１（ＳｉＯ_２）_４８．０
　

Ｒ^４＝－ＣＨ_２－ＣＨ_２－（ＣＨ_２）_４－ＣＨ_２－ＣＨ_２－

上記式（Ｅ３２）においてＲ^４及びＸの一部は水酸基であってよい。

［比較例１］
非架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
ヘキサメチルジシロキサン８０ｇ（０．４９ｍｏｌ）、ＳｉＯ_２分を４０質量％含むエチルポリシリケート１８０ｇ（エチルポリシリケート中、ＳｉＯ_２分が１．２ｍｏｌ※）、イソプロパノール８０ｇを反応容器に仕込み、メタンスルホン酸を１．２ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）添加して１０～２０℃に冷却し、攪拌しながら水４２．６ｇ（２．３６ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、７０～９０℃で６時間加熱して加水分解を行う。加水分解終了後、室温まで冷却し、２５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液１．９２ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）と炭酸カルシウム０．２５ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を加えることで酸を中和した後、デカメチルシクロペンタシロキサン１４０ｇを添加して１２０℃まで加熱することで加水分解により生成したエタノール、イソプロパノール、過剰の水を除去した。完全な溶媒の留去を確認後、１５０℃で５時間加熱した。更にデカメチルシクロペンタシロキサンで希釈した後、濾過することにより、非架橋型有機ケイ素樹脂の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液３２０ｇを得た(重量平均分子量６,３００)。

［比較例２］
非架橋型有機ケイ素樹脂／デカメチルシクロペンタシロキサン６０％溶液の製造方法
ヘキサメチルジシロキサン１５１．３４ｇ（０．６８ｍｏｌ）、メチルトリエトキシシラン３３３．８ｇ（１．８７ｍｏｌ）、ＳｉＯ_２分を４０質量％含むエチルポリシリケート２４５．７ｇ（エチルポリシリケート中、ＳｉＯ_２分が１．６４ｍｏｌ※）、イソプロパノール２５０ｇを反応容器に仕込み、メタンスルホン酸を６．０ｇ（６２．４ｍｍｏｌ）添加して１０～２０℃に冷却し、攪拌しながら水１９４．７ｇ（１０．８ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、７０～９０℃で６時間加熱して加水分解を行う。加水分解終了後、室温まで冷却し、２５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液９．６ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）と炭酸カルシウム１．２５ｇ（１２．４ｍｍｏｌ）を加えることで酸を中和した後、デカメチルシクロペンタシロキサン１４０ｇを添加して１２０℃まで加熱することで加水分解により生成したエタノール、イソプロパノール、過剰の水を除去した。完全な溶媒の留去を確認後、１５０℃で５時間加熱した。更にデカメチルシクロペンタシロキサンで希釈した後、濾過することにより、非架橋型有機ケイ素樹脂の５０％デカメチルシクロペンタシロキサン溶液６５０ｇを得た(重量平均分子量８,２００)。

※上記比較例１及び２において、エチルポリシリケート中にあるＳｉＯ_２ｍｏｌ量は、エチルポリシリケートの総質量から算出したものである。
例えば、ＳｉＯ_２分（Ｍｗ＝６０）を４０質量％含むエチルポリシリケート１８０ｇの場合、Ｑ単位量＝１８０×０．４／６０＝１．２（ｍｏｌ）である。

　上記実施例及び比較例で得た各有機ケイ素樹脂の２５℃における形状、皮膜形成能、皮膜の物性（連続性、硬さ、屈曲性）について下記に従い評価した。結果を下記表１に示す。

　１）上記実施例及び比較例にて得たデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、デカメチルシクロペンタシロキサンを除去して得られた有機ケイ素樹脂の２５℃における形状を観察した。
　２）皮膜形成能は、ＰＴＦＥ（フッ素樹脂）容器に溶剤６０％で希釈された溶解品を１．５ｇ滴下した後、１０５℃、３時間乾燥させ、自立膜を形成したかどうかを評価した。
　３）皮膜の連続性は、上記２）にて作成した皮膜が連続な膜であるかどうか（即ち、ひび割れがないかどうか）を評価した。ひび割れがないものを「連続性あり」と評価した。
　４）皮膜の硬さは、上記２）にて作成した皮膜中に爪が浸入可能かどうかを評価した。爪が浸入可能な場合は「軟らかい」と記載した。
　５）屈曲性は、アルミシャーレ上に上記２）の方法にて形成された皮膜を曲げたときに曲げられるかどうかを評価した。皮膜が割れる場合は屈曲性「なし」と記載した。

　実施例１～８はいずれも均一な連続膜が得られ、べたつきがなく、脆さもない皮膜であった。また折り曲げたときに屈曲性が高い皮膜であった。比較例１は、Ｍ単位とＱ単位からなる非架橋型有機ケイ素樹脂から成る皮膜であり、べたつきはないがクラックのある硬い皮膜であり、折り曲げることで簡単に皮膜が割れてしまった。比較例２は、Ｍ単位とＴ単位とＱ単位からなる非架橋型有機ケイ素樹脂から成る皮膜であり、べたつきはなく、均一な連続膜であるが、折り曲げると割れてしまうことから屈曲性は低い皮膜であった。Ｔ単位を有機ケイ素樹脂の骨格に導入することで、脆さの改善は可能であるが、屈曲に対する性能の向上は見られない。一方、本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、従来の非架橋型有機ケイ素樹脂と比較して、屈曲に対する性能が大きく向上した。

　上記実施例１～８及び比較例１及び２で得た各皮膜に対して、スクワラン、オレイン酸、トリエチルヘキサノインをそれぞれ３μＬ滴下して接触角を測定した。結果を下記表に示す。

　実施例１乃至８では、スクワラン、オレイン酸、トリエチルヘキサノイン、いずれの油に対しても接触角が大きく、高い耐油性を示した。一方、比較例１及び２では、いずれの油に対しても接触角が低く、低い耐油性を示した。非架橋型有機ケイ素樹脂は、分子量増加に伴い耐油性が向上する傾向にあるが、非架橋型有機ケイ素樹脂の分子量は増加させることに限りがあることから、耐油性も限界点がある。架橋剤による有機ケイ素樹脂の架橋は、擬似的に有機ケイ素樹脂の分子量を増加させることに繋がることから、その限界点を高める効果がある。そのため、本発明の架橋型有機ケイ素樹脂は、従来の非架橋型有機ケイ素樹脂では達成不能な耐油性を有することができる。

［実施例１０］
架橋型有機ケイ素樹脂／イソドデカン溶解品６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ１）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量４，４３０，水素ガス発生量：９．１ｍＬ／ｇ）の５０％イソドデカン溶液１，０００ｇ、下記式（Ｅ２）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン９８．６ｇ、２－プロパノール１，０００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．６ｇを反応器に仕込み、８０℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２５０ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．６３ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、架橋型有機ケイ素樹脂のイソドデカン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のイソドデカン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、イソドデカンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった。

式（Ｅ１）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２６．５（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．８（ＳｉＯ_２）_３６．０

式（Ｅ２）：

上記式（Ｅ３）においてＸの一部は水酸基であってよい。

［実施例１１］
架橋型有機ケイ素樹脂／メチルトリメチコン溶解品６０％溶液の製造方法
　下記平均組成式（Ｅ１）で表される粉末状のヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂（重量平均分子量４，４３０，水素ガス発生量：９．１ｍＬ／ｇ）の５０％メチルトリメチコン溶液１，０００ｇ、下記式（Ｅ２）で表される両末端にビニル基を有するオルガノポリシロキサン９８．６ｇ、２－プロパノール１，０００ｇ、塩化白金酸０．５％の２－プロパノール溶液０．６ｇを反応器に仕込み、８０℃で６時間加熱することで反応を行った。その後、減圧下で加熱することで溶剤を留去した。さらに、エタノールを２５０ｇ添加した後、５％水酸化ナトリウム水溶液５ｇを添加することで、未反応のヒドロシリル基を加水分解し、さらに濃塩酸０．６３ｇを添加し中和を行った。反応物を減圧下で加熱して溶剤を留去し、濾過を行うことで、架橋型有機ケイ素樹脂のメチルトリメチコン溶液を得た。
　また、得られた架橋型有機ケイ素樹脂のメチルトリメチコン溶液を減圧下で１２０～１３０℃に加熱し、メチルトリメチコンを除去することで得られた生成物は固形状の粉末であった。

式（Ｅ１）：
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_２６．５（ＨＭｅ_２ＳｉＯ_１／２）_１．８（ＳｉＯ_２）_３６．０
式（Ｅ２）：

上記式（Ｅ３）においてＸの一部は水酸基であってよい。

　なお、得られた重合体は、Ｄ５、イソドデカン、メチルトリメチコン以外にも、ジメチコン（２ｃｓや６ｃｓ）等の化粧品に用いられるシリコーンやトリエチルヘキサノインやイソノナン酸イソトリデシル等のエステル油にも溶解させることができる。また、これらの溶液の粘度は、重合体の組成や分子量によって変化させることができる。

＜実施例１２，１３、比較例３，４＞
下記表３に示す組成の乳化型クリームファンデーションを調製した。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１５
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１７
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－９６Ａ－６ｃｓ
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＭＰ－５９０
（注６）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｗ，Ｒ，Ｙ，Ｂ

＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～５、７～８、１６～２０を均一に混合した。
Ｂ：成分６及び１２～１５を３本ロールにて分散し、Ａに加えて均一に混合した。
Ｃ：成分９～１１、２１を均一に混合した。
Ｄ：ＢにＣを加えて乳化し、成分２２を加えて、乳化型クリームファンデーションを得た。
得られた乳化型クリームファンデーションについて、以下の評価を行った。

［使用性評価］
　得られた乳化型クリームファンデーションについて、１０名の女性の専門パネラーに、塗布時の延び（展延性）、べたつき感、仕上がりの色むら、化粧もち（持続性（塗布後８時間後評価））を、下記基準により評価し、評価結果の平均を取った。

［２次付着防止効果］
　専門パネルの額部に、乳化型クリームファンデーションを同様な操作によりそれぞれ塗布し、塗布後２０分間経過した時点で、塗布部にティッシュペーパーを押し当て、化粧料の二次付着防止効果を下記基準により評価した。評価結果の平均を取った。

得られた評価結果の平均点に基づき、結果を下記に基づいて表５に示す。
◎　：平均点が４．０点以上
○　：平均点が３．０点以上４．０点未満
△　：平均点が２．０点以上３．０点未満
×　：平均点が２．０点未満

　上記表５に記載の通り、本発明の化粧料は、比較例３，４に比べ、延び、化粧もち、及び２次付着防止性の点で顕著に優れていた。

〔実施例１４，１５、比較例５〕
下記表６に示す組成のリップスティックを調製した。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５６１Ｐ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５４
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６１０５

＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～１２を９５℃で加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分１３及び１５，１６を３本ロールにて分散した。
Ｃ：８５℃でＡにＢを加えて均一に混合し１４を加え、気密性の高い所定の容器に充填して、リップスティックを得た。
得られたリップスティックについて、以下の評価を行った。

［使用性評価］
　得られたリップスティックについて、１０名の女性の専門パネラーに、塗布時の延び（展延性）、べたつき感、仕上がりの色むら、化粧もち（持続性（塗布後８時間後評価））を、上記実施例と同様に評価し、評価結果の平均を取った。

以下、化粧料の実施例を示す。以下において上記と同様の基準で評価した。

［実施例１６］
油性マスカラ
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～９を９５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分１０～１４をディスパーにて均一に混合した。
Ｃ：ＡにＢを加え９０℃で均一に混合し、徐冷して油性マスカラを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：Ｘ－２１－５５９５
（注２）千葉製粉（株）製：レオパールＫＬ２
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－９９０９処理
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＭＰ－５９０
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０２８
得られた油性マスカラは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。また、トリメチルシロキシケイ酸のような固くてもろい皮膜を併用することにより、各皮膜性能や仕上がりなどの使用感を調整することが可能である。

［実施例１７］
Ｗ／Ｏマスカラ
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～７を９５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分１１～１４をディスパーにて均一に混合しＡに加え９０℃まで加熱した。
Ｃ：Ｂに成分８～１０を加え８５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｄ：成分１５～１７を８５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｅ：ＣにＤを添加して乳化後徐冷し、Ｗ／Ｏ油性マスカラを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５５０
（注２）千葉製粉（株）製：レオパールＴＴ２
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５６２Ｐ
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＦ－９９０１処理
（注６）日本アエロジル（株）製：ＡＥＲＯＳＩＬ９７２
（注７）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１７
得られたＷ／Ｏマスカラは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。また、シリコーン変性アクリルポリマーのような柔軟性のある皮膜を併用することにより、各皮膜性能や仕上がりなどの使用感を調整することが可能である。

［実施例１８］
リップスティック
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分９～１６を三本ロールミルにて分散した。
Ｂ：成分１～８を９５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：Ａ、Ｂ、成分１７～１８を均一に混合し、８５℃まで加熱した。
Ｄ：Ｃをスティック容器に充填しリップスティックを得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　合成ワックス　　　　　　　　　　　　　　　　　７
2.　パラフィンワックス　　　　　　　　　　　　　　３
3.　シリコーンワックス（注１）　　　　　　　　　　１０．５
4.　トリエチルヘキサノイン　　　　　　　　　　　　１５．５
5.　ジエチルヘキサンン酸ネオペンチルグリコール　　１４
6.　ジカプリン酸ネオペンチルグリコール　　　　　　７
7.　水添ポリイソブテン　　　　　　　　　　　　　　２０
8.　ジフェニルジメチコン（注２）　　　　　　　　　７．５
9.　タルク　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．７
10.　赤色２０１号　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
11.　赤色２０２号　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
12.　黄色４号ＡＬ　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
13.　シリコーン処理酸化チタン（注３）　　　　　　　３
14.　シリコーン処理黒酸化鉄（注３）　　　　　　　　適量
15.　シリコーン処理赤酸化鉄（注３）　　　　　　　　適量
16.　トリイソステアリン酸ジグリセリル　　　　　　　４
17.　シリコーン処理マイカ（注３）　　　　　　　　　５．５
18.　実施例２の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　１
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５６１Ｐ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５４ＨＶ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５７４処理

得られたリップスティックは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。

［実施例１９］
Ｗ／Ｏサンスクリーンミルク
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～１２を均一に混合した。
Ｂ：成分１５～２１を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、１３、１４を加え均一に混合し、Ｗ／Ｏサンスクリーンミルクを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１８Ａ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０３８
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１０５
（注５）信越化学工業（株）製：ＳＰＤ－Ｔ７
（注６）信越化学工業（株）製：ＳＰＤ－Ｚ５

得られたＷ／Ｏサンスクリーンミルクは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びが優れていることが確認された。

［実施例２０］
Ｗ／Ｏサンスクリーンミルク
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～７を均一に混合した。
Ｂ：成分１０～１３を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、８、９を添加して均一に混合し、Ｗ／Ｏサンスクリーンミルクを得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　実施例５の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　　　　２
2.　架橋型ポリエーテル変性シリコーン組成物（注１）　　　　３
3.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注２）　　　　　　２
4.　シリコーン分岐型ポリエーテル変性シリコーン（注３）　　１
5.　ジメチルポリシロキサン（６ｃｓ）　　　　　　　　　　　５
6.　デカメチルシクロペンタシロキサン　　　　　　　　　　　３
7.　イソノナン酸イソトリデシル　　　　　　　　　　　　　　４
8.　微粒子酸化チタン分散体（注４）　　　　　　　　　　　　２５
9.　微粒子酸化亜鉛分散体（注５）　　　　　　　　　　　　　３５
10.　ジプロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　２
11.　クエン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２
12.　塩化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
13.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１９
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０２８
（注４）信越化学工業（株）製：ＳＰＤ－Ｔ５
（注５）信越化学工業（株）製：ＳＰＤ－Ｚ５
得られたＷ／Ｏサンスクリーンミルクは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びがに優れていることが確認された。

［実施例２１］
Ｗ／Ｏクリームファンデーション
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分９～１２を三本ロールミルにて分散した。
Ｂ：成分３～５を均一に混合し、成分１，２，６～８を加えて均一に混合した。
Ｃ：成分１３～１７を均一に混合した。
Ｄ：ＣをＢに添加して乳化し、Ａを添加して、Ｗ／Ｏクリームファンデーションを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－３３０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－４１Ａ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０４８
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－３００
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５７８
（注６）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｗ
（注７）信越化学工業（株）製：；ＫＴＰ－０９Ｙ、Ｒ，Ｂ
得られた使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。

［実施例２２］
Ｗ／Ｏリキッドファンデーション
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分７～１３をディスパーにて分散した。
Ｂ：成分４～６を均一に加温混合し、成分１～３を加えて均一に混合した。
Ｃ：成分１４～１９を均一に混合した。
Ｄ：ＣをＢに添加して乳化し、Ａを添加して、Ｗ／Ｏリキッドファンデーションを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１８Ａ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０２８
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注５）信越化学工業（株）製：ＡＥＳ－３０８３処理

得られたＷ／Ｏリキッドファンデーションは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。

［実施例２３］
Ｗ／Ｏスティックファンデーション
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１０～１４を三本ロールミルにて分散した。
Ｂ：成分１～９を９５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：Ａ、成分１５～１６を均一に混合し、８５℃まで加熱した。
Ｄ：ＣをＢに添加して８５℃で乳化し、スティック容器に充填後、徐冷し、Ｗ／Ｏスティックファンデーションを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－７１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０３８
（注３）千葉製粉（株）製：レオパールＩＳＫ２
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＭＰ－５９０
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｗ
（注６）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｒ，Ｙ，Ｂ
（注７）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１１
（注８）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１３

得られたＷ／Ｏスティックファンデーションは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。

［実施例２４］
流し込みファンデーション

＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１０～１４をロールミルにて分散した。
Ｂ：成分１～７をディスパーにて分散し、８，９を加えて９５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：ＢにＡを加えて均一に混合し、８５℃まで加熱した。
Ｄ：Ｃを容器に充填し流し込みファンデーションを得た。

（注０）製造例１をスプレイドライヤ―を用いてドライアップし、固形物を得た。
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１０１
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１０５
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１６
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６１０５
（注６）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６１０６
（注７）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｗ
（注８）信越化学工業（株）製：ＫＴＰ－０９Ｒ，Ｙ，Ｂ

得られた流し込みファンデーションは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていることが確認された。

［実施例２５］
アイクリーム
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～４を均一に混合した。
Ｂ：成分８～１２を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、５～７を加えて均一に混合し、アイクリームを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　シリコーン・アルキル変性・架橋型
ポリエーテル変性シリコーン組成物（注１）　　　　４
2.　シリコーン・アルキル変性・架橋型
ジメチルポリシロキサン組成物（注２）　　　　　　６
3.　シリコーン・アルキル分岐型
ポリエーテル変性シリコーン（注３）　　　　　　　０．５
4.　ジメチコン（６ｃｓ）　　　　　　　　　　　１２
5.　ワセリン　　　　　　　　　　　　　　　　　４．５
6.　実施例１０の溶解品（６０％溶液）　　　　　２．５
7.　アルキル変性シリコーン複合粉体（注４）　　２
8.　１，３－ブチレングリコール　　　　　　　　７
9.　フェノキシエタノール　　　　　　　　　　　０．２５
10.　クエン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　０．２
11.　塩化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　０．５
12.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－３５０Ｚ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－０４５Ｚ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０３８
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－４４１
得られたアイクリームは、使用感が良好で、重ね付したファンデーションの化粧持ちや仕上がりが良く、伸びが優れていることが確認された。

［実施例２６］
リンクルコンシーラー
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～７を均一に混合した。
Ｂ：成分８をＡに添加して混合し、リンクルコンシーラーを得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　架橋型ポリエーテル変性シリコーン組成物（注１）　　　　５
2.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注２）　　　　　　５５
3.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注３）　　　　　　１５
4.　デカメチルシクロペンタシロキサン　　　　　　　　　　　残量
5.　高重合ジメチルポリシロキサン／Ｄ５混合溶液（注４）　　５
6.　実施例８の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　　　　１
7.　シリコーン変性多糖化合物溶液（注６）　　　　　　　　　１
8.　シリコーン複合粉体（注５）　　　　　　　　　　　　　　１２
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１５
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－０１６Ｆ
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－９０２８
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－４１１
（注６）信越化学工業（株）製：ＴＳＰＬ－３０－Ｄ５

得られたリンクルコンシーラーは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びが優れていることが確認された。

［実施例２７］
Ｗ／Ｏサンスクリーンクリーム
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～８を均一に混合した。
Ｂ：成分９～１５を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、サンスクリーンを得た。

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－８４０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－４３
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６１０５
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１００

得られたＷ／Ｏサンスクリーンクリームは、使用感が良好で、化粧持ちに優れていた。

［実施例２８］
Ｏ／Ｗサンスクリーンクリーム
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～６を８５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分７～１５を８５℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して８５℃で乳化後、攪拌しながら徐冷しサンスクリーンを得た。

（注１）ＳＥＰＰＩＣ社製：ＳＩＭＵＬＧＥＬ　ＥＧ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－０１６Ｆ
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１１

得られたＯ／Ｗサンスクリーンクリームは、使用感が良好で、伸びが優れていた。

［実施例２９］
ムースチーク
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～６を８０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分７～１２をヘンシェルにて均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して８０℃で均一に混合した後徐冷し、ムースチークを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注１）　　　３２
2.　デカメチルシクロペンタシロキサン　　　　　　　３０
3.　ジイソステアリン酸ネオペンチルグリコール　　　　７
4.　ステアリン酸イヌリン（注２）　　　　　　　　　　８
5.　不定形無水珪酸（注３）　　　　　　　　　　　　　０．５
6.　実施例５の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　１．５
7.　シリコーン処理酸化チタン（注４）　　　　　　　　０．２
8.　赤色２０２号　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
9.　シリコーン処理黄酸化鉄（注４）　　　　　　　　　適量
10.　シリコーン処理黒酸化鉄（注４）　　　　　　　　　適量
11.　シリコーン処理マイカ（注４）　　　　　　　　　　５．４
12.　シリコーン処理セリサイト（注４）　　　　　　　　１０
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１６
（注２）千葉製粉（株）製：レオパールＩＳＫ２
（注３）日本アエロジル（株）製：ＡＥＲＯＳＩＬ２００
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５７４処理

得られたムースチークは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていた。

［実施例３０］
ジェルアイカラー
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～５を８０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：Ａに成分６～９を添加して９０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：容器に流し込んで、ジェルアイカラーを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注１）　　１０．５
2.　スクワラン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１７
3.　パルミチン酸デキストリン（注２）　　　　　　　８．５
4.　イソノナン酸イソトリデシル　　　　　　　　　　残量
5.　実施例６の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　３
6.　不定形無水珪酸（注３）　　　　　　　　　　　　０．１
7.　シリコーン複合粉体（注４）　　　　　　　　　　５
8.　硫酸Ｂａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９
9.　シリコーン処理雲母チタン（注５）　　　　　　　３２．５
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１６
（注２）千葉製粉（株）製：レオパールＫＬ２
（注３）日本アエロジル（株）製：ＡＥＲＯＳＩＬ９７２
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１００
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５７４処理

得られたジェルアイカラーは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりが良く、耐擦過性に優れていた。

［実施例３１］
パウダーファンデーション
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～４を５０℃まで加熱して均一に混合し、室温まで冷却した。
Ｂ：成分５～１４を均一に混合した。
Ｃ：ＡをＢに添加し、ヘンシェルミキサーにて均一に混合した。得られた粉末を、メッシュを通した後、金型を用いて金皿に打型してパウダーファンデーションを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　パラメトキシケイ皮酸２―エチルヘキシル　　　　　４
2.　ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン（注１）　４．５
3.　トリエチルヘキサノイン　　　　　　　　　　　　　１．５
4.　シリコーンワックス（注２）　　　　　　　　　　　１
5.　実施例８の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　１
6.　シリコーン処理マイカ（注３）　　　　　　　　　　３０
7.　硫酸Ｂａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
8.　フェニル変性シリコーン複合粉体（注４）　　　　　５
9.　シリコーン複合粉体（注５）　　　　　　　　　　　４
10.　シリコーン処理タルク（注３）　　　　　　　　　　残量
11.　シリコーン処理酸化チタン（注３）　　　　　　　　６
12.　シリコーン処理黄酸化鉄（注３）　　　　　　　　　適量
13.　シリコーン処理赤酸化鉄（注３）　　　　　　　　　適量
14.　シリコーン処理黒酸化鉄（注３）　　　　　　　　　適量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＰ－５６１Ｐ
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－９９０９処理
（注４）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－３００
（注５）信越化学工業（株）製：ＫＳＰ－１００

得られたパウダーファンデーションは、使用感が良好で、化粧持ちが良く、伸びや仕上がりに優れていた。

［実施例３２］
アウトバスヘアトリートメント
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～４を均一に混合した。
Ｂ：成分７～１２を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、成分５、６を添加してアウトバストリートメントを得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　架橋型ポリグリセリン変性シリコーン組成物（注１）　　　３
2.　架橋型ジメチルポリシロキサン組成物（注２）　　　　　　１
3.　ポリエーテル変性シリコーン（注３）　　　　　　　　　　０．２
4.　ジメチルポリシロキサン（６ＣＳ）　　　　　　　　　　　８
5.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
6.　実施例１０の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　　　１
7.　ジプロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　８
8.　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５
9.　パラオキシ安息香酸メチル　　　　　　　　　　　　　　　０．１
9.クエン酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２
10.　塩化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５
11.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－１９
（注３）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１７

得られたアウトバスヘアトリートメントは、のび広がりが軽く、毛髪に光沢感を付与し、滑らかさに優れていた。

［実施例３３］
ヘアトリートメント
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分６～９を７０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分１～５を７０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、徐冷後成分１０、１１を添加してトリートメントを得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　実施例９の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　０．５
2.　セタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
3.　オクタン酸セチル　　　　　　　　　　　　　　　３
4.　パラオキシ安息香酸ブチル　　　　　　　　　　　０．１
5.　ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン（注１）１
6.　ベヘントリモニウムクロリド　　　　　　　　　　１
7.　プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　５
8.　ヒドロキシエチルセルロース　　　　　　　　　　０．１
9.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　残量
10.　アミノ変性シリコーンエマルジョン（注２）　　　４
11.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注２）信越化学工業（株）製：Ｘ－５２－２３２８

得られたヘアトリートメントは、のび広がりが軽く、毛髪に光沢感を付与し、滑らかさに優れていた。

［実施例３４］
ヘアオイル
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～７を均一に混合し、ヘアオイルを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　実施例１０の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　３
2.　ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン（注１）　７
3.　コハク酸ジエチルヘキシル　　　　　　　　　　　　１０
4.　高重合ジメチコノール混合溶液（注２）　　　　　　１．５
5.　トコフェロール　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１
6.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１
7.　軽質流動イソパラフィン　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＦ－５６Ａ
（注２）信越化学工業（株）製：Ｘ－２１－５６１３

得られたヘアオイルは、のび広がりが軽く、毛髪に光沢感を付与し、滑らかさに優れていた。

［実施例３５］
ヘアワックス
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～９を８０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｂ：成分１０～１６を９０℃まで加熱し、均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して８０℃で乳化し、その後室温まで冷却した。
Ｄ：成分１７～１９をＣに添加して均一に混合し、ヘアワックスを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　実施例１０の溶解品（６０％溶液）　　　　１
2.　メチルトリメチコン（注１）　　　　　　　１０
3.　キャンデリラロウ　　　　　　　　　　　　１４
4.　ミツロウ　　　　　　　　　　　　　　　　６
5.　イソステアリン酸ＰＯＥグリセリル　　　　２
6.　モノステアリン酸グリセリン　　　　　　　３
7.　ポリエーテル変性シリコーン（注２）　　　２
8.　ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　２
9.　パラメトキシケイ皮酸２―エチルヘキシル　０．１
10.　プロピレングリコール　　　　　　　　　　６
11.　１，３－ブチレングリコール　　　　　　　６
12.　パラオキシ安息香酸メチル　　　　　　　　０．２
13.　フェノキシエタノール　　　　　　　　　　０．３
14.　エデト酸３ナトリウム　　　　　　　　　　適量
15.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　３１
16.　水酸化カリウム（１０％溶液）　　　　　　適量
17.　カルボキシビニルポリマー　（２％溶液）　１５
18.　水酸化カリウム（１０％溶液）　　　　　　適量
19.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００

（注１）信越化学工業（株）製：ＴＭＦ－１．５
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０１１
得られたヘアワックスは、べたつきが少なく、保持力、耐汗効果に優れていた。

［実施例３６］
シャンプー
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～１０を７０℃で均一に混合し、徐冷してシャンプーを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　実施例１０の溶解品（６０％溶液）　　０．５
2.　ポリオキシエチレンラウリルエーテル　０．５
3.　ジステアリン酸グリコール　　　　　　２
4.　ココイルメチルタウリンＮａ　　　　　８
5.　コカミドプロピルベタイン　　　　　　８
6.　ラウリル硫酸Ｎａ　　　　　　　　　　１０
7.　カチオン化セルロース　　　　　　　　０．５
8.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　０．１
9.　メチルパラベン　　　　　　　　　　　０．１
10.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
得られたシャンプーは、指通りが良く、毛髪に光沢感を付与し、滑らかさに優れていた。

［実施例３７］
ロールオン制汗剤
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分１～４を均一に混合した。
Ｂ：成分５～１１を均一に混合した。
Ｃ：ＢをＡに添加して乳化し、ロールオン制汗剤を得た。
　　成分　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　質量％
1.　架橋型ポリエーテル変性シリコーン組成物（　注１　）　　５
2.　シリコーン分岐型ポリエーテル変性シリコーン（注２）　　０．８
3.　実施例５の溶解品（６０％溶液）　　　　　　　　　　　　５
4.　デカメチルシクロペンタシロキサン　　　　　　　　　　　９
5.　１，３－ブチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　５
6.　クロルヒドロキシアルミニウム　　　　　　　　　　　　　１０
7.　塩化ベンザルコニウム　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２
8.　メントール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０５
9.　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５
10.　香料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適量
11.　精製水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
（注１）信越化学工業（株）製：ＫＳＧ－２１０
（注２）信越化学工業（株）製：ＫＦ－６０２８
得られたロールオン制汗剤は、のび広がりが軽く、皮膚を白くせず、制汗効果の持ちに優れていた。

［実施例３８］
ネイルエナメルオーバーコート
＜化粧料の調製＞
Ａ：成分５～９を混合し、成分４を添加して均一に混合した。
Ｂ：Ａに成分１～３を添加して混合して、ネイルエナメルオーバーコートを得た。

　　成分　　　　　　　　　　　　　　質量（％）
1.　実施例９の溶解品（６０％溶液）　５
2.　ニトロセルロース　　　　　　　　１７
3.　アルキッド樹脂　　　　　　　　　４
4.　クエン酸アセチルトリエチル　　　５
5.　酢酸ブチル　　　　　　　　　　　２９
6.　酢酸エチル　　　　　　　　　　　２５
7.　イソプロピルアルコール　　　　　３
8.　ｎ－ブチルアルコール　　　　　　１
9.　トルエン　　　　　　　　　　　　残量
合計　　　　　　　　　　　　　　　　１００
得られたエナメルオーバーコートは、のび広がりが軽く、エナメルの光沢を増し、持ちに優れていた。

Claims

下記平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、Ｒ^２は、互いに独立に、ポリオキシアルキレン含有基、ポリグリセリン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、各Ｒ^２ _３ＳｉＯ_１／２単位にある少なくとも１のＲ^２はポリオキシアルキレン含有基又はポリグリセリン含有基であり、Ｒ^３は、互いに独立に、オルガノポリシロキサン含有基、又はＲ^１の選択肢から選ばれる基であり、各Ｒ^３ _３ＳｉＯ_１／２単位にある少なくとも１のＲ^３はオルガノポリシロキサン含有基であり、Ｘは、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される２価の基であり、任意的にＲ^２、Ｒ^３、及びＸの一部は水酸基であってもよく、

（式中、Ｒ^４は、互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基であり、ｅは０≦ｅ≦５００、ｋは０≦ｋ≦５の整数である）

（式中、ｆは０≦ｆ≦２０の整数である）
ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、０≦ａ２≦２００、０≦ａ３≦４００、０＜ａ４≦５０、０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、ｐは１≦ｐ≦３の整数である］。
上記Ｒ^２において、ポリオキシアルキレン含有基が下記一般式（４）で表される、請求項１に記載の架橋型有機ケイ素樹脂。

（式中、Ｒ^５は、非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ、ｇ１及びｇ２は、０≦ｍ≦１５、０≦ｇ１＜２００、０≦ｇ２＜２００、０＜ｇ１＋ｇ２≦２００を満たす整数である）。
上記Ｒ^２において、ポリグリセリン含有基が下記一般式（５）で表される、請求項１又は２に記載の架橋型有機ケイ素樹脂。

（式中、Ｒ^５は、非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ及びｈは、０≦ｍ≦１５、０＜ｈ≦５を満たす整数である）。
上記Ｒ^３において、オルガノポリシロキサン含有基が下記一般式（６）、一般式（７）、一般式（８）、又は一般式（９）で表される基である、請求項１～３のいずれか１項記載の架橋型有機ケイ素樹脂

（式中、Ｒ^６は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ｎ及びｉは、０≦ｎ≦５、０≦ｉ≦５００を満たす整数であり、ｊ_１～ｊ_３は各々０以上２以下の整数である）。
重量平均分子量１，０００～１，０００，０００を有する、請求項１～４のいずれか１項記載の架橋型有機ケイ素樹脂。
　上記平均組成式（１）におけるＸの少なくとも一つが上記一般式（２）で表される基であり、上記平均組成式（１）において０＜ａ４≦５であり、上記一般式（２）において０＜ｅ＜４０であり、２５℃で固形である、請求項１～５のいずれか１項に記載の架橋型有機ケイ素樹脂。
　上記平均組成式（１）におけるＸの少なくとも一つが上記一般式（２）で表される基であり、上記平均組成式（１）において０＜ａ４≦３であり、上記一般式（２）において０＜ｅ≦２０であり、２５℃で固形である、請求項１～５のいずれか１項に記載の架橋型有機ケイ素樹脂。
請求項１～７のいずれか１項記載の架橋型有機ケイ素樹脂を含有する化粧料。
　請求項１～７のいずれか１項記載の架橋型有機ケイ素樹脂を０．１～４０質量％含有する、請求項８記載の化粧料。
沸点２４０℃以下である揮発性油剤をさらに含む、請求項８又は９記載の化粧料。
　上記揮発性油剤がシリコーン油、イソドデカン、及びエタノールから選ばれる１種以上である請求項１０記載の化粧料。
日焼け止め化粧料又はメイクアップ化粧料である、請求項８～１１のいずれか１項記載の化粧料。
非水系組成物である請求項８～１１のいずれか１項記載の化粧料。
　請求項１～７のいずれか１項記載の架橋型有機ケイ素樹脂の製造方法であって、下記平均組成式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂と、下記一般式（１１）、（１２）、（１４）、（１５）、（１６）、（１７）、（１８）又は（１９）で表される末端アルケニル基含有化合物の１種以上（但し、下記式（１１）で表される基を少なくとも１種含む）とをヒドロシリル化反応させることにより、請求項１記載の平均組成式（１）で表される架橋型有機ケイ素樹脂を得る工程を含む、前記製造方法

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ａ１、ａ２、ａ３、ａ４、ｂ、ｃ、及びｄは、０＜ａ１≦４００、０≦ａ２≦２００、０≦ａ３≦４００、０＜ａ４≦５０、０≦ｂ≦３２０、０≦ｃ≦３２０、０＜ｄ≦１，０００、０．５≦（ａ１＋ａ２＋ａ３＋ａ４）／ｄ≦１．５を満たす数であり、ｐは１≦ｐ≦３の整数である]

（式中、Ｒ^４は、互いに独立に、置換又は非置換の、炭素数１～３０の脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基であり、ｅは０≦ｅ≦５００、ｋは０≦ｋ≦５の整数である）

（式中、ｆは０≦ｆ≦２０の整数である）

（式中、Ｒ^５は非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ、ｇ１及びｇ２は、０≦ｍ≦１５、０≦ｇ１＜２００、０≦ｇ２＜２００、０＜ｇ１＋ｇ２≦２００を満たす整数である）

（式中、Ｒ^５は非置換もしくは置換の、炭素数１～３０の１価炭化水素基又は水素原子であり、ｍ及びｈは、０≦ｍ≦１５、０＜ｈ≦５を満たす整数である）

（式中、Ｒ^６は、互いに独立に、炭素数１～３０の、脂肪族不飽和結合を有しない、置換又は非置換の一価炭化水素基であり、ｎ、ｉ及びｊ_１～ｊ_３は、０≦ｎ≦５、０≦ｉ≦５００、０≦ｊ_１～３≦２を満たす整数である）。
下記一般式（２０）又は下記一般式（２１）で表される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、下記一般式（２２）又は（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、下記一般式（２４）で表される加水分解性シラン、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物及び該加水分解性シランの金属塩から選ばれる１種又は２種以上との混合物を酸触媒下で加水分解後、前記酸触媒のモル当量より多い塩基触媒を添加することで中和し、その後、該塩基触媒存在下で縮合することにより、上記式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂を得る工程を更に含む、請求項１４記載の製造方法
　　Ｒ^１ _３ＳｉＯＳｉＲ^１ _３　　　　　　　　　　　　（２０）
　　Ｒ^１ _３ＳｉＸ^１　　　　　　　　　　　　　　　　（２１）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＯＳｉＲ^１ _{（３－ｐ）}Ｈ_ｐ　（２２）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＸ^２　　　　　　　　　　　（２３）
　　ＳｉＸ^３ _４　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２４）
（式中、Ｒ^１は上記の通りであり、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は互いに独立に、加水分解性を有する官能基であり、１≦ｐ≦３である）。
　上記一般式（２０）又は（２１）で表される有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上と、上記一般式（２４）で表される加水分解性シラン、該加水分解性シランの部分加水分解縮合物及び前記加水分解性シランの金属塩から選ばれる１種又は２種以上との混合物を、酸触媒下で加水分解を行った後に、上記一般式（２２）又は（２３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素化合物から選ばれる１種又は２種以上を徐々に滴下して添加することにより上記式（１３）で表されるヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂を得る工程を更に含む、請求項１４記載の製造方法
　　Ｒ^１ _３ＳｉＯＳｉＲ^１ _３　　　　　　　　　　　　（２０）
　　Ｒ^１ _３ＳｉＸ^１　　　　　　　　　　　　　　　　（２１）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＯＳｉＲ^１ _{（３－ｐ）}Ｈ_ｐ　（２２）
　　Ｈ_ｐＲ^１ _{（３－ｐ）}ＳｉＸ^２　　　　　　　　　　　（２３）
　　ＳｉＸ^３ _４　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２４）
（式中、Ｒ^１は上記の通りであり、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は互いに独立に、加水分解性を有する官能基であり、１≦ｐ≦３である）。