WO2015083941A1 - Metal ion sterilizing device - Google Patents

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WO2015083941A1
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ionization
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negative electrode
sterilization
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송철기
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주식회사 씨엔엘
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    • C02F1/461Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C02F2303/04Disinfection
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/22Eliminating or preventing deposits, scale removal, scale prevention

Definitions

  • the present invention relates to a metal ion sterilization apparatus.
  • the metal ion sterilization apparatus refers to an apparatus for forming sterilizing water used in various fields such as agriculture, commercial, animal husbandry, household, restaurant, etc. by adding metal ions such as silver, copper, or silver copper alloy to sterilized water.
  • Patent No. 10-1295507 Registration Date: 2013.08.05, Name of the invention: Silver ion sterilization apparatus equipped with an automatic control washing unit), Patent No. 10-0768095 (Registration Date: October 11, 2007, Title of Invention: Metal ion sterilizer with automatic control of ionization).
  • the electrode gradually wears out, and as time passes, the durability of the removing member such as a scrubber to remove debris, such as scales, stuck on the electrode decreases.
  • the debris removal is not properly performed, and thus, in the end, continuous ionization is not performed in the metal ion sterilization device, so that the continuous sterilization of the sterilization target water is not properly performed.
  • the contact point for energizing the ionization plate is also exposed to the water to be sterilized together with the ionization plate, and thus the contact point is also ionized and worn together with the ionization plate, so that even before all the ionization plates are consumed.
  • Metal ion sterilization apparatus is a sterilization case through which the sterilization target water flows; An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case; A negative electrode plate connected to a negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate; A partition for inducing the sterilization target water while partitioning the inside of the sterilization case such that the sterilization target water flowing inside the sterilization case flows between the ionization plate and the negative electrode plate; And an ultrasonic vibrator for cleaning by applying ultrasonic waves to at least one of the ionization plate and the negative electrode plate.
  • Metal ion sterilization apparatus is a sterilization case through which the sterilization target water flows; An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case; And a negative electrode plate connected to the negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate.
  • the ionization plate includes an ionization plate body and ionization plate contact protrusions formed on both sides of the ionization plate body,
  • the sterilization case includes an ionization plate support on which the ionization plate is placed, and a plurality of ionization plate fixing portions for fixing the ionization plate,
  • the ionization plate fixing portion is characterized in that the ionization plate contact projections are coupled while being covered to prevent wear.
  • the metal ion sterilization apparatus includes a sterilization case, an ionizing plate, a negative electrode plate, a partition, and an ultrasonic vibrator
  • the ultrasonic vibrator is removed while the residue such as scale is well removed by the ultrasonic vibrator.
  • Such debris removal performance of the device does not deteriorate over time so that the formation of debris on the components of the metal ion sterilization apparatus can be prevented even after prolonged use, and the amount of current applied according to the wear of the ionizing plate can be controlled to increase.
  • the sterilization power may not be degraded even after long time use, the ionization is smoothly performed even after continuous operation, so that the sterilization of the water to be sterilized can be continuously performed, and pure ionized water is produced since the contact point of the ionization plate is not directly exposed. This has a possible effect.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a top view of an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing an exploded view of the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention from below.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an exploded view of the metal ion sterilizing apparatus according to the first embodiment of the present invention from above.
  • FIG. 4 is a perspective view showing a sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a perspective view showing a partition constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a perspective view showing an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a perspective view showing an anode plate and an ultrasonic vibrator constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a perspective view showing a sterilization case and an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG 9 is an enlarged view of a part of the sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state in which the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention is cut out.
  • FIG. 11 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state of a metal ion sterilization apparatus according to a third embodiment of the present invention.
  • Figure 13 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a view showing a negative electrode plate coupled to the base member constituting the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention from above
  • FIG. 2 is an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • Figure 3 is a perspective view showing a look from below
  • Figure 3 is a cross-sectional view showing a top down view of an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a perspective view showing a partition constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a perspective view showing an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the embodiment
  • FIG. 7 is a negative electrode plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention
  • the metal ion sterilization apparatus 100 includes a sterilization case 110, an ionization plate 130, a cathode plate 140, a partition 120, and ultrasonic waves. It includes a vibrator 145, it is a device that can be sterilized by applying a metal ion to the sterilized water.
  • the sterilization case 110 is a sterilization target water flows, the sterilization case body 111 is formed therein a space for the sterilization target water flow, and the inlet for the sterilization target water flows into the sterilization case body 111 ( 112 and an outlet 113 through which the sterilized object water sterilized in the sterilization case body 111 flows out.
  • the inlet 112 is below one side of the sterilization case 110, the outlet 113 is the other side of the sterilization case 110 so that the sterilization target water is filled in the sterilization case 110. It can be formed on top.
  • Reference numeral 114 is a through hole formed in the sterilization case 110, the through hole 114 formed in the sterilization case 110 through the coupling member (not shown) such as bolts, the partition that the coupling member will be described later
  • the sterilization case 110, the partition ( 120 and the ionization plate 130 may be integrally coupled.
  • the ionization plate 130 is connected to the positive electrode so that the metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case 110, made of gold, copper, gold alloys, copper alloys, gold and copper alloys, etc.
  • the negative electrode plate 140 is connected to the negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate 130, the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is constant so as to face each other inside the sterilization case 110 Spaced apart.
  • a pulse current for promoting ionization may be applied to the ionization plate 130.
  • a pulse current is applied to the ionization plate 130, ionization of metal ions in the ionization plate 130 may be promoted.
  • Numeral 101 is a circuit board, which can control the operation of the metal ion sterilization apparatus 100, such as controlling the amount of current supplied to the ionization plate 130.
  • the circuit board 101 continuously detects a current value flowing between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 while flowing a constant current between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140.
  • the circuit The substrate 101 automatically compensates for the reduced current value between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 through a voltage increase, such that the gap between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is changed. It is possible to control the flow of the constant current required again between, so that the use time flows, the performance can be maintained even if the ionization plate 130 wear occurs.
  • the discharge PPM of the sterilized target water sterilized while passing through the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is measured through a PPM measuring instrument (not shown), and the measured discharge PPM is measured at the required PPM reference value.
  • the discharge PPM may be automatically adjusted to the PPM reference value by automatically changing at least one of an applied current value and an applied voltage value in the circuit board 101 according to an inflow rate.
  • the inflow flow rate may be automatically detected by an electromagnetic flow meter (not shown) and transferred to the circuit board 101.
  • the partition 120 partitions the sterilization case 110 inside the sterilization case 110 so that the sterilization target water flowing in the sterilization case 110 flows between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140.
  • the sterilization case 110 includes a partition body 121 which protrudes downward from the inner top surface of the sterilization case 110 and the through hole 122 formed in the partition body 121.
  • the ionization plate 130 is coupled to the bottom of the partition 120.
  • the sterilization target water flowing into the sterilization case 110 through the inlet 112 is blocked by the partition 120 is guided between the ionizing plate 130 and the negative electrode plate 140. Accordingly, the sterilization target water may be sterilized while passing between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140.
  • the ultrasonic vibrator 145 is to apply cleaning to at least one of the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 to perform the cleaning, in this embodiment the ultrasonic vibrator 145 is the negative plate 140 It is connected to the bottom of the vibrating the negative plate 140, and thus the sterilization object 110 inside the sterilization case 110 is vibrated and the ionization plate 130 and the inner wall of the sterilization case 110 is also washed together.
  • the partition 120 and the ionization plate 130 are installed in the form of hanging in the sterilization case 110, and the lower end of the sterilization case 110 is coupled to the negative electrode plate 140 while blocking the sterilization case 110. Between the 110 and the negative electrode plate 140 is formed a space for accommodating the sterilization target water.
  • the ultrasonic vibrator 145 is installed at the lower end of the negative electrode plate 140, so that not only the negative electrode plate 140 but also the ionization plate 130, the partition 120, and the inner wall of the sterilization case 110 may be washed. Can be.
  • Reference numeral 150 is an ultrasonic vibrator protective case for wrapping and protecting the ultrasonic vibrator 145.
  • Reference numeral 160 is a control member that can control the amount of current applied to the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140, the control member 160 is a current to the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 The application may be turned on or off and the amount of current may be controlled.
  • control member 160 is the ionization plate 130 from the input area of the ionization plate 130, the amount of current applied to the ionization plate 130 and the time when the current is applied to the ionization plate 130
  • the wear rate of the ionizer is calculated, and the amount of current applied to the ionization plate 130 is increased from a previously input table value according to the calculated wear degree of the ionization plate 130 to a current value corresponding to the corresponding operation wear degree. Then, even if the operation time of the metal ion sterilization apparatus 100 is accumulated, the amount of metal ions ionized in the ionization plate 130 may be increased, so that the metal ion sterilization apparatus 100 may be used for the sterilization target water. Constant constant sterilization can be achieved.
  • Reference numeral 170 is a remote control capable of transmitting a command to the control member 160 at a remote location where the metal ion sterilization apparatus 100 is installed, and a user at the remote location via the remote control 170. Various commands may be passed to 160.
  • the sterilization target water is introduced into the sterilization case 110 through the inlet 112
  • the sterilization target water is guided between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 by the partition 120. And flow.
  • the sterilized water to be sterilized is discharged through the outlet 113 and supplied to the required place.
  • the metal ion sterilization apparatus 100 includes a sterilization case 110, an ionization plate 130, a negative electrode plate 140, a partition 120, and an ultrasonic vibrator 145, ultrasonic waves Although the debris such as scale is removed by the vibrator 145 well, such debris removal performance of the ultrasonic vibrator 145 is not deteriorated with time, so that debris is formed on the components of the metal ion sterilization apparatus 100 even for a long time use.
  • FIG. 8 is a perspective view showing a sterilization case and an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to a second embodiment of the present invention
  • Figure 9 is a sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to a second embodiment of the present invention
  • 10 is an enlarged enlarged view illustrating a part of the metal ion sterilization device according to the second embodiment of the present invention
  • FIG. 11 is a metal ion sterilization device according to the second embodiment of the present invention.
  • the metal ion sterilization apparatus 200 includes a sterilization case 210, an ionization plate 230, and a negative electrode plate 240.
  • Reference numeral 201 denotes a circuit board
  • reference numeral 245 denotes an ultrasonic vibrator positioned on a bottom surface of the negative electrode plate 240.
  • the sterilization case 210 is formed on one side of the sterilization case body 211 and the sterilization case body 211, the primary sterilization target water flowing through the inlet 215 is first received
  • the sterilization target water which is formed at the other side of the accommodating hole 212 and the sterilization case body 211, is accommodated in the primary accommodating hole 212 and sterilized while passing through the ionization plate 230, is accommodated secondly.
  • a plurality of ionization plate fixing part 205 for fixing the plate 230.
  • the ionization plate 230 is formed on the ionization plate support 213, for example, a plate-shaped ionization plate body 231 and a plurality of each formed on each lower end of both sides of the ionization plate body 231 And an ionization plate contact protrusion 232.
  • Each of the ionization plate contact protrusions 232 is formed at positions facing each other on both sides of the ionization plate body 231.
  • the ionization plate contact protrusions 232 may be electrically energized with the outside through an electrical contact formed in the contact protrusion fixing hole 208.
  • the ionization plate fixing part 205 is formed at positions facing each other with the ionization plate 230 interposed therebetween, so that each of the ionization plate contact protrusions 232 is fixed.
  • the ionization plate fixing portion 205 is coupled while being covered with the ionization plate contact protrusion 232 to prevent wear.
  • the ionization plate fixing part 205 penetrates through the sterilization case body 211 in the up and down direction, and the contact protrusion lowering hole 206 which can be inserted while the ionization plate contact protrusion 232 is lowered, and the contact point.
  • the contact protrusion fixing hole 208 communicated with the protrusion lowering hole 206 and is bent in the contact protrusion lowering hole 206, for example, a vertically bent shape, and the contact protrusion lowering hole 206.
  • a hole forming protrusion 207 protruding in a bent shape such as an 'L' shape to form the contact protrusion fixing hole 208.
  • each of the ionization plate contact protrusions 232 is provided in the respective contact protrusion lowering holes of the respective ionization plate fixing parts 205.
  • the ionization plate 230 slides in a state in which the ionization plate 230 is in close contact with the ionization plate support part 213 in a state in which the lowering is completed, the respective ionization plate contact protrusions 232 are fixed to the respective contact protrusions. It is fixed while sliding in the hole 208.
  • the contacts passing through the respective ionization plate contact protrusions 232 as well as the respective ionization plate contact protrusions 232 are covered by the hole forming protrusions 207, so that the ionization plate 230 is ionized. Wear of the ionization plate contact protrusions 232 and the contacts may be prevented, and thus the ionization plate 230 may be formed until the ionization degree of the ionization plate 230 reaches its end of life. It can be in a state capable of stably energizing with the outside, there is an advantage that can be produced pure ion water because the contact portion of the ionization plate 230 is not directly exposed.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state of the metal ion sterilization apparatus according to the third embodiment of the present invention.
  • the metal ion sterilization apparatus 300 has a miniaturized shape so that the metal ion sterilization apparatus 300 may be directly connected to a pipe through which sterilization target water flows.
  • the sterilization case 310 may include a primary accommodating hole forming part 311 in which sterilization target water is primarily received, and the primary accommodating hole forming part 311 in a narrower width than the primary accommodating hole forming part 311.
  • the plate holding portion 312 extending from the, the secondary receiving hole forming portion 313 to receive the secondary sterilized water via the plate fixing portion 312 and the fixed surface on the outer surface of the plate fixing portion 312
  • circuit board support protrusions 314 and 315 that protrude to length to support the circuit board 380.
  • an ionization plate 330 and a negative electrode plate 340 are installed to face each other, and sterilization is performed while the water to be sterilized flows between the ionization plate 330 and the negative electrode plate 340.
  • Two divided circuit boards 380 are placed on the circuit board support protrusions 314 and 315, and a conductive metal such as copper is embedded in the circuit board support protrusions 314 and 315 so that the circuit board support protrusions are embedded.
  • the circuit board 380, the ionization plate 330, and the negative electrode plate 340 are electrically connected to each other through 314 and 315.
  • the primary connecting member 390 and the secondary connecting member 395 are connected to the primary receiving hole forming part 311 and the secondary receiving hole forming part 313, respectively.
  • the primary connection member 390 is a primary connector 391 connected to the primary accommodating hole forming portion 311 by thread coupling, etc., and protrudes from the primary connector 391 to be sterilized, such as a water pipe. And a primary pipe connection 392 connected to the pipe to which the water is supplied.
  • the secondary connection member 395 includes a secondary connector 396 connected to the secondary accommodating hole forming portion 313 by thread coupling, and a pipe protruding from the secondary connector 396 to the demand destination. And a second pipe connection part 397 connected to the pipe through which the sterilized target water flows.
  • a pipe through which water to be sterilized such as a water pipe, is supplied directly to the primary pipe connection part 392, and a pipe that is directed to a demand destination may be directly connected to the secondary pipe connection part 397. Since the metal ion sterilization apparatus 300 for water sterilization can be miniaturized and applied, it can be utilized for home use.
  • FIG. 13 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention
  • FIG. 14 is a base member constituting the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. The negative electrode plate is combined.
  • the base member 402 is coupled to the side where the ionization plate of the sterilization case 410 is installed to cover the sterilization case 410.
  • a negative plate mounting hole 403 is recessed in a surface of the base member 402 facing the ionization plate, and a negative plate 440 is installed on the negative plate mounting hole 403.
  • the sterilization case 410 and the base member 402 are coupled to each other to form a space in which the sterilization target water can flow for sterilization, and each of the sterilization case 410 and the base member 402 is mutually different.
  • the ionization plate and the negative electrode plate 440 are installed to face each other.
  • the negative electrode plate contact projections and the negative electrode plate fixing part 404 are formed on both sides of the negative electrode plate 440 and inside the negative plate mounting hole 403 of the base member 402, respectively.
  • the negative plate fixing part 404 is formed at positions facing each other with the negative plate 440 interposed therebetween, and each of the negative plate contact protrusions is fixed.
  • the negative electrode plate fixing portion 404 is coupled while covering the negative electrode plate contact projection to prevent wear.
  • the negative electrode plate fixing part 404 and the negative electrode plate contact protrusion may be formed in the same shape as the ionization plate fixing part 205 and the ionizing plate contact protrusion 232 in the above-described second embodiment.
  • the cathode plate fixing part 404 is in contact with the contact projection lowering hole which can penetrate the base member in the vertical direction and can be inserted while the cathode plate contact projection lowers, and communicates with the contact projection lowering hole in the contact projection lowering hole.
  • a contact protrusion fixing hole formed in a bent form, for example, a vertically bent form, and a hole projecting in an 'L' shape or the like to form the contact protrusion lowering hole and the contact protrusion fixing hole. It may include forming protrusions.
  • the metal ion sterilization apparatus According to the metal ion sterilization apparatus according to an aspect of the present invention, even if the continuous operation is made, since the ionization can be made smoothly, since the sterilization of the sterilization target water can be made continuously, its industrial applicability is high.

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Abstract

A metal ion sterilizing device is disclosed. The disclosed metal ion sterilizing device comprises: a sterilizing case; an ionizing plate; a negative plate; a divider; and an ultrasonic oscillator for applying ultrasonic waves to at least one from among the ionizer plate and the negative plate so as to perform cleaning. The disclosed metal ion sterilizing device has the following advantages: the formation of residue on components of the metal ion sterilizing device can be prevented even over prolonged use; ionization is smoothly implemented despite continuous operation so as to enable the continuous sterilization of water that needs to be sterilized; and portions of the ionizing plate that are points of contact are not directly exposed so that the production of pure ionized water is possible.

Description

금속 이온 살균 장치Metal ion sterilization device
본 발명은 금속 이온 살균 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a metal ion sterilization apparatus.
금속 이온 살균 장치는 살균 대상수에 은, 동 또는 은동 합금 등의 금속 이온을 가하여 농업용, 상업용, 축산용, 가정용, 식당 등 업소용 등 다양한 분야에서 사용되는 살균수를 형성하는 장치를 말한다.The metal ion sterilization apparatus refers to an apparatus for forming sterilizing water used in various fields such as agriculture, commercial, animal husbandry, household, restaurant, etc. by adding metal ions such as silver, copper, or silver copper alloy to sterilized water.
이러한 금속 이온 살균 장치의 예로 제시될 수 있는 것이 등록특허 제 10-1295507호(등록일자: 2013.08.05, 발명의 명칭: 자동조절 세척부가 장착된 은이온 살균장치), 등록특허 제 10-0768095호(등록일자: 2007.10.11, 발명의 명칭: 이온화의 자동조절기능을 가진 금속이온 살균장치)의 살균 장치이다.Examples of such a metal ion sterilization apparatus may be registered Patent No. 10-1295507 (Registration Date: 2013.08.05, Name of the invention: Silver ion sterilization apparatus equipped with an automatic control washing unit), Patent No. 10-0768095 (Registration Date: October 11, 2007, Title of Invention: Metal ion sterilizer with automatic control of ionization).
그러나, 종래의 금속 이온 살균 장치에 의하면, 장치의 작동 시간이 누적됨에 따라 전극이 점점 마모되고, 전극에 끼게 되는 스케일 등의 찌꺼기를 제거하는 수세미 등의 제거 부재의 내구성이 떨어져 시간이 지남에 따라 찌꺼지 제거가 제대로 이루어지지 못하고, 결국 금속 이온 살균 장치에서 지속적인 이온화가 이루어지지 못하여 살균 대상수에 대한 지속적인 살균이 제대로 수행되지 못하는 문제가 있었다.However, according to the conventional metal ion sterilization apparatus, as the operating time of the apparatus accumulates, the electrode gradually wears out, and as time passes, the durability of the removing member such as a scrubber to remove debris, such as scales, stuck on the electrode decreases. There was a problem that the debris removal is not properly performed, and thus, in the end, continuous ionization is not performed in the metal ion sterilization device, so that the continuous sterilization of the sterilization target water is not properly performed.
또한, 종래의 금속 이온 살균 장치에 의하면, 이온화판의 통전을 위한 접점도 이온화판과 함께 살균 대상수에 노출되고, 그에 따라 접점도 이온화판과 함께 이온화되어 마모됨으로써, 이온화판이 모두 소비되기도 전에 접점에서 접점 불량이 발생되어 안정적 작동이 제대로 이루어질 수 없음은 물론, 그 접점 마모로 인해 전극과 접점 연결을 위한 볼트 등이 노출되어 그 볼트 등의 금속이 살균 대상수에 불순물로 녹아들 수 있는 문제가 있었다.In addition, according to the conventional metal ion sterilization apparatus, the contact point for energizing the ionization plate is also exposed to the water to be sterilized together with the ionization plate, and thus the contact point is also ionized and worn together with the ionization plate, so that even before all the ionization plates are consumed. In addition, there is a problem in that contact failure occurs and stable operation cannot be performed properly, and the contact wear exposes bolts for connecting electrodes and contacts, and the metals such as bolts can be dissolved as impurities in the water to be sterilized. there was.
본 발명은 지속적인 작동이 이루어지더라도 이온화가 원활하게 이루어져서 살균 대상수에 대한 살균이 지속적으로 이루어질 수 있는 금속 이온 살균 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a metal ion sterilization apparatus capable of continuously sterilizing the water to be sterilized by making ionization smooth even though continuous operation is performed.
본 발명의 일 측면에 따른 금속 이온 살균 장치는 살균 대상수가 유동되는 살균 케이스; 상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수에 금속 이온이 인가되도록 양전극이 연결되는 이온화판; 상기 이온화판에 연결되는 양전극에 대응되는 음전극이 연결되는 음극판; 상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수가 상기 이온화판과 상기 음극판 사이로 유동되도록, 상기 살균 케이스 내부를 구획하면서 상기 살균 대상수를 유도하는 칸막이; 및 상기 이온화판과 상기 음극판 중 적어도 하나에 초음파를 인가하여 세척이 이루어지도록 하는 초음파 진동자;를 포함한다.Metal ion sterilization apparatus according to an aspect of the present invention is a sterilization case through which the sterilization target water flows; An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case; A negative electrode plate connected to a negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate; A partition for inducing the sterilization target water while partitioning the inside of the sterilization case such that the sterilization target water flowing inside the sterilization case flows between the ionization plate and the negative electrode plate; And an ultrasonic vibrator for cleaning by applying ultrasonic waves to at least one of the ionization plate and the negative electrode plate.
본 발명의 다른 측면에 따른 금속 이온 살균 장치는 살균 대상수가 유동되는 살균 케이스; 상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수에 금속 이온이 인가되도록 양전극이 연결되는 이온화판; 및 상기 이온화판에 연결되는 양전극에 대응되는 음전극이 연결되는 음극판;을 포함하고,Metal ion sterilization apparatus according to another aspect of the present invention is a sterilization case through which the sterilization target water flows; An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case; And a negative electrode plate connected to the negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate.
상기 이온화판은 이온화판 몸체와, 상기 이온화판 몸체의 양 측면에 각각 형성되는 이온화판 접점 돌기를 포함하며,The ionization plate includes an ionization plate body and ionization plate contact protrusions formed on both sides of the ionization plate body,
상기 살균 케이스는 상기 이온화판이 놓이는 이온화판 지지부와, 상기 이온화판 고정을 위한 복수 개의 이온화판 고정부를 포함하고,The sterilization case includes an ionization plate support on which the ionization plate is placed, and a plurality of ionization plate fixing portions for fixing the ionization plate,
상기 이온화판 고정부에는 상기 이온화판 접점 돌기가 마모 방지를 위해 가려지면서 결합되는 것을 특징으로 한다.The ionization plate fixing portion is characterized in that the ionization plate contact projections are coupled while being covered to prevent wear.
본 발명의 일 측면에 따른 금속 이온 살균 장치에 의하면, 금속 이온 살균 장치가 살균 케이스, 이온화판, 음극판, 칸막이 및 초음파 진동자를 포함함에 따라, 초음파 진동자에 의해 스케일 등의 찌꺼기가 잘 제거되면서도 초음파 진동자의 그러한 찌꺼기 제거 성능이 시간 경과에 따라 저하되지도 않아서 장시간의 사용에도 금속 이온 살균 장치의 구성 요소에 찌꺼기 형성이 방지될 수 있고, 이온화판의 마모에 따라 인가되는 전류량이 증대되도록 제어될 수 있어서 장시간의 사용에도 살균력이 저하되지 아니할 수 있으므로, 지속적인 작동이 이루어지더라도 이온화가 원활하게 이루어져서 살균 대상수에 대한 살균이 지속적으로 이루어질 수 있게 되고, 이온화판의 접점 부위가 직접 노출되지 않아서 순수 이온수 생산이 가능한 효과가 있다.According to the metal ion sterilization apparatus according to an aspect of the present invention, as the metal ion sterilization apparatus includes a sterilization case, an ionizing plate, a negative electrode plate, a partition, and an ultrasonic vibrator, the ultrasonic vibrator is removed while the residue such as scale is well removed by the ultrasonic vibrator. Such debris removal performance of the device does not deteriorate over time so that the formation of debris on the components of the metal ion sterilization apparatus can be prevented even after prolonged use, and the amount of current applied according to the wear of the ionizing plate can be controlled to increase. Since the sterilization power may not be degraded even after long time use, the ionization is smoothly performed even after continuous operation, so that the sterilization of the water to be sterilized can be continuously performed, and pure ionized water is produced since the contact point of the ionization plate is not directly exposed. This has a possible effect.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 위에서 내려다본 모습을 보이는 사시도.1 is a perspective view showing a top view of an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 아래에서 올려다본 모습을 보이는 사시도.2 is a perspective view showing an exploded view of the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention from below.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 위에서 내려다본 모습을 보이는 단면도.3 is a cross-sectional view showing an exploded view of the metal ion sterilizing apparatus according to the first embodiment of the present invention from above.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스를 보이는 사시도.4 is a perspective view showing a sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 칸막이를 보이는 사시도.5 is a perspective view showing a partition constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 이온화판을 보이는 사시도.6 is a perspective view showing an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 음극판과 초음파 진동자를 보이는 사시도.7 is a perspective view showing an anode plate and an ultrasonic vibrator constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스와 이온화판을 보이는 사시도.8 is a perspective view showing a sterilization case and an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스의 일부를 확대한 확대도.9 is an enlarged view of a part of the sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 절개한 모습을 보이는 단면도.10 is a cross-sectional view showing a state in which the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention is cut out.
도 11은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 일부 구성이 결합된 모습을 보이는 사시도.11 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention.
도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 모습을 보이는 단면도.12 is a cross-sectional view showing a state of a metal ion sterilization apparatus according to a third embodiment of the present invention.
도 13은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 일부 구성이 결합된 모습을 보이는 사시도.Figure 13 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
도 14는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 베이스 부재에 음극판이 결합된 모습을 보이는 도면.14 is a view showing a negative electrode plate coupled to the base member constituting the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 위에서 내려다본 모습을 보이는 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 아래에서 올려다본 모습을 보이는 사시도이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 분해된 모습을 위에서 내려다본 모습을 보이는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스를 보이는 사시도이고, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 칸막이를 보이는 사시도이고, 도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 이온화판을 보이는 사시도이고, 도 7은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 음극판과 초음파 진동자를 보이는 사시도이다.1 is a perspective view showing an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention from above, and FIG. 2 is an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention. Figure 3 is a perspective view showing a look from below, Figure 3 is a cross-sectional view showing a top down view of an exploded view of a metal ion sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention, Figure 4 is a first embodiment of the present invention 5 is a perspective view showing a sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to an example, FIG. 5 is a perspective view showing a partition constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a perspective view showing an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the embodiment, and FIG. 7 is a negative electrode plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention; A perspective view showing the acoustic transducer.
도 1 내지 도 7을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치(100)는 살균 케이스(110)와, 이온화판(130)과, 음극판(140)과, 칸막이(120)와, 초음파 진동자(145)를 포함하고, 살균 대상수에 금속 이온을 인가하여 살균할 수 있는 장치이다.1 to 7, the metal ion sterilization apparatus 100 according to the present embodiment includes a sterilization case 110, an ionization plate 130, a cathode plate 140, a partition 120, and ultrasonic waves. It includes a vibrator 145, it is a device that can be sterilized by applying a metal ion to the sterilized water.
상기 살균 케이스(110)는 살균 대상수가 유동되는 것으로, 내부에 상기 살균 대상수가 유동될 공간이 형성되는 살균 케이스 몸체(111)와, 상기 살균 케이스 몸체(111)로 상기 살균 대상수가 유입되는 유입구(112)와, 상기 살균 케이스 몸체(111) 내에서 살균된 상기 살균 대상수가 유출되는 유출구(113)를 포함한다.The sterilization case 110 is a sterilization target water flows, the sterilization case body 111 is formed therein a space for the sterilization target water flow, and the inlet for the sterilization target water flows into the sterilization case body 111 ( 112 and an outlet 113 through which the sterilized object water sterilized in the sterilization case body 111 flows out.
상기 살균 케이스(110) 내부에 상기 살균 대상수가 차오를 수 있도록, 상기 유입구(112)는 상기 살균 케이스(110)의 일 측면 하부에, 상기 유출구(113)는 상기 살균 케이스(110)의 다른 측면 상부에 형성될 수 있다.The inlet 112 is below one side of the sterilization case 110, the outlet 113 is the other side of the sterilization case 110 so that the sterilization target water is filled in the sterilization case 110. It can be formed on top.
도면 번호 114는 상기 살균 케이스(110)에 형성된 관통 홀로, 상기 살균 케이스(110)에 형성된 관통 홀(114)에는 볼트 등의 결합 부재(미도시)가 관통되고, 상기 결합 부재가 후술되는 상기 칸막이(120)에 형성되는 관통 홀(122) 및 상기 이온화판(130)에 형성되는 관통 홀(132)을 순차적으로 함께 관통함으로써, 단수 개의 상기 결합 부재에 의해 상기 살균 케이스(110), 상기 칸막이(120) 및 상기 이온화판(130)이 일체로 결합될 수 있다. Reference numeral 114 is a through hole formed in the sterilization case 110, the through hole 114 formed in the sterilization case 110 through the coupling member (not shown) such as bolts, the partition that the coupling member will be described later By sequentially passing through the through-hole 122 formed in the 120 and the through-hole 132 formed in the ionizing plate 130 together, the sterilization case 110, the partition ( 120 and the ionization plate 130 may be integrally coupled.
상기 이온화판(130)은 상기 살균 케이스(110) 내부를 유동하는 상기 살균 대상수에 금속 이온이 인가되도록 양전극이 연결되는 것으로, 금, 동, 금 합금, 동 합금, 금과 동의 합금 등으로 이루어지는 이온화판 몸체(131)와, 상기 이온화판 몸체(131)에 형성되는 상기 관통 홀(132)을 포함한다.The ionization plate 130 is connected to the positive electrode so that the metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case 110, made of gold, copper, gold alloys, copper alloys, gold and copper alloys, etc. An ionization plate body 131 and the through hole 132 formed in the ionization plate body 131.
상기 음극판(140)은 상기 이온화판(130)에 연결되는 양전극에 대응되는 음전극이 연결되는 것으로, 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140)은 상기 살균 케이스(110) 내부에 서로 대면되도록 일정 간격으로 이격 배치된다.The negative electrode plate 140 is connected to the negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate 130, the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is constant so as to face each other inside the sterilization case 110 Spaced apart.
상기 이온화판(130)에 양극이 걸리고, 상기 음극판(140)에 음극이 걸린 상태에서 전류가 인가되면, 상기 이온화판(130)에서 금속 이온이 방사되고, 상기 금속 이온은 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이를 유동하는 상기 살균 대상수에 녹아 상기 살균 대상수를 살균시키게 된다.When an anode is applied to the ionization plate 130 and a current is applied while a cathode is applied to the cathode plate 140, metal ions are emitted from the ionization plate 130, and the metal ions are ionized on the ionization plate 130. And disinfect the sterilized water by dissolving in the sterilized water flowing between the negative electrode plate 140.
상기 이온화판(130)에는 이온화 촉진을 위한 펄스 전류가 인가될 수 있다. 이러한 펄스 전류가 상기 이온화판(130)에 인가되면, 상기 이온화판(130)에서 금속 이온의 이온화가 촉진될 수 있다.A pulse current for promoting ionization may be applied to the ionization plate 130. When such a pulse current is applied to the ionization plate 130, ionization of metal ions in the ionization plate 130 may be promoted.
도면 번호 101은 회로 기판으로, 상기 이온화판(130)에 공급되는 전류량 제어 등 상기 금속 이온 살균 장치(100)의 작동을 제어할 수 있는 것이다. Numeral 101 is a circuit board, which can control the operation of the metal ion sterilization apparatus 100, such as controlling the amount of current supplied to the ionization plate 130.
상기 회로 기판(101)에서 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이에 일정한 정전류를 흘려주면서 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이에 흐르는 전류값을 지속적으로 감지하고 있다가, 상기 이온화판(130)의 마모로 인해 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이가 벌어져서 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이에서 감지되는 전류값이 저하되면, 상기 회로 기판(101)이 전압 상승 등을 통해 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이의 저하된 전류값만큼 자동으로 보상하여 줌으로써, 간격이 달라진 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이에 다시 요구되는 정전류가 흐르도록 제어할 수 있고, 그에 따라 사용 시간이 흘러 상기 이온화판(130) 마모가 발생되더라도 성능이 유지될 수 있게 된다.The circuit board 101 continuously detects a current value flowing between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 while flowing a constant current between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140. When the current value detected between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 decreases due to the wear of the ionization plate 130, the circuit The substrate 101 automatically compensates for the reduced current value between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 through a voltage increase, such that the gap between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is changed. It is possible to control the flow of the constant current required again between, so that the use time flows, the performance can be maintained even if the ionization plate 130 wear occurs.
또한, 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140)을 경유하면서 살균된 살균 대상수의 토출 피피엠(ppm)을 피피엠 측정기(미도시)를 통해 측정하여 그 측정된 토출 피피엠이 요구되는 피피엠 기준값에 맞도록, 유입 유량에 따라 상기 회로 기판(101)에서 자동으로 인가 전류값과 인가 전압값 중 적어도 하나를 변화시켜 자동으로 상기 토출 피피엠을 상기 피피엠 기준값에 맞추어줄 수 있다. 여기서, 상기 유입 유량은 전자 유량계(미도시)에 의해 자동 감지되어 상기 회로 기판(101)으로 전달될 수 있다.In addition, the discharge PPM of the sterilized target water sterilized while passing through the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 is measured through a PPM measuring instrument (not shown), and the measured discharge PPM is measured at the required PPM reference value. The discharge PPM may be automatically adjusted to the PPM reference value by automatically changing at least one of an applied current value and an applied voltage value in the circuit board 101 according to an inflow rate. Here, the inflow flow rate may be automatically detected by an electromagnetic flow meter (not shown) and transferred to the circuit board 101.
상기 칸막이(120)는 상기 살균 케이스(110) 내부를 유동하는 상기 살균 대상수가 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이로 유동되도록, 상기 살균 케이스(110) 내부를 구획하면서 상기 살균 대상수를 유도하는 것으로, 상기 살균 케이스(110) 내부 상단면에서 하방으로 돌출된 형태를 이루는 칸막이 몸체(121)와, 상기 칸막이 몸체(121)에 형성되는 상기 관통 홀(122)을 포함한다.The partition 120 partitions the sterilization case 110 inside the sterilization case 110 so that the sterilization target water flowing in the sterilization case 110 flows between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140. By inducing, the sterilization case 110 includes a partition body 121 which protrudes downward from the inner top surface of the sterilization case 110 and the through hole 122 formed in the partition body 121.
상기 칸막이(120)의 하단에 상기 이온화판(130)이 결합된다.The ionization plate 130 is coupled to the bottom of the partition 120.
상기와 같이 구성되면, 상기 유입구(112)를 통해 상기 살균 케이스(110) 내부로 유입되는 상기 살균 대상수가 상기 칸막이(120)에 의해 막혀 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이로 유도되고, 그에 따라 상기 살균 대상수가 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이를 지나면서 살균될 수 있게 된다.When configured as above, the sterilization target water flowing into the sterilization case 110 through the inlet 112 is blocked by the partition 120 is guided between the ionizing plate 130 and the negative electrode plate 140. Accordingly, the sterilization target water may be sterilized while passing between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140.
상기 초음파 진동자(145)는 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 중 적어도 하나에 초음파를 인가하여 세척이 이루어지도록 하는 것으로, 본 실시예에서는 상기 초음파 진동자(145)가 상기 음극판(140)의 저면에 연결되어 상기 음극판(140)을 진동시키고, 그에 따라 상기 살균 케이스(110) 내부의 상기 살균 대상수가 진동되면서 상기 이온화판(130)과 상기 살균 케이스(110) 내벽도 함께 세척된다. The ultrasonic vibrator 145 is to apply cleaning to at least one of the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 to perform the cleaning, in this embodiment the ultrasonic vibrator 145 is the negative plate 140 It is connected to the bottom of the vibrating the negative plate 140, and thus the sterilization object 110 inside the sterilization case 110 is vibrated and the ionization plate 130 and the inner wall of the sterilization case 110 is also washed together.
상기 초음파 진동자(145) 자체는 이미 널리 알려진 것이므로, 상기 초음파 진동자(145)의 구체적인 구조에 대한 설명은 생략한다.Since the ultrasonic vibrator 145 itself is well known, a description of a specific structure of the ultrasonic vibrator 145 is omitted.
상기 살균 케이스(110) 내부에 매달리는 형태로 상기 칸막이(120)와 상기 이온화판(130)이 설치되고, 상기 살균 케이스(110) 하단을 상기 음극판(140)이 막으면서 결합됨으로써, 상기 살균 케이스(110)와 상기 음극판(140) 사이에 상기 살균 대상수가 수용될 수 있는 공간이 형성된다. 그리고, 상기 음극판(140) 하단에 상기 초음파 진동자(145)가 설치됨으로써, 상기 음극판(140)은 물론, 상기 이온화판(130), 상기 칸막이(120) 및 상기 살균 케이스(110) 내벽이 세척될 수 있다.The partition 120 and the ionization plate 130 are installed in the form of hanging in the sterilization case 110, and the lower end of the sterilization case 110 is coupled to the negative electrode plate 140 while blocking the sterilization case 110. Between the 110 and the negative electrode plate 140 is formed a space for accommodating the sterilization target water. In addition, the ultrasonic vibrator 145 is installed at the lower end of the negative electrode plate 140, so that not only the negative electrode plate 140 but also the ionization plate 130, the partition 120, and the inner wall of the sterilization case 110 may be washed. Can be.
도면 번호 150은 상기 초음파 진동자(145)를 감싸서 보호하는 초음파 진동자 보호 케이스이다. Reference numeral 150 is an ultrasonic vibrator protective case for wrapping and protecting the ultrasonic vibrator 145.
도면 번호 160은 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140)에 인가되는 전류량을 제어할 수 있는 제어 부재로, 상기 제어 부재(160)는 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140)에 전류 인가를 온오프시킬 수도 있고, 그 전류량을 제어할 수도 있다. Reference numeral 160 is a control member that can control the amount of current applied to the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140, the control member 160 is a current to the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 The application may be turned on or off and the amount of current may be controlled.
즉, 상기 제어 부재(160)는 미리 입력된 상기 이온화판(130)의 면적, 상기 이온화판(130)에 가해진 전류량 및 상기 이온화판(130)에 전류가 인가된 시간으로부터 상기 이온화판(130)의 마모도를 연산하고, 상기 이온화판(130)의 연산된 마모도에 따라 미리 입력된 테이블값에서 해당 연산 마모도에 대응되는 전류값으로 상기 이온화판(130)에 인가되는 전류량을 증가시키게 된다. 그러면, 상기 금속 이온 살균 장치(100)의 작동 시간이 누적되더라도, 상기 이온화판(130)에서 이온화되는 금속 이온의 양이 증대될 수 있어서 상기 금속 이온 살균 장치(100)에서 상기 살균 대상수에 대한 지속적인 일정한 살균이 이루어질 수 있게 된다.That is, the control member 160 is the ionization plate 130 from the input area of the ionization plate 130, the amount of current applied to the ionization plate 130 and the time when the current is applied to the ionization plate 130 The wear rate of the ionizer is calculated, and the amount of current applied to the ionization plate 130 is increased from a previously input table value according to the calculated wear degree of the ionization plate 130 to a current value corresponding to the corresponding operation wear degree. Then, even if the operation time of the metal ion sterilization apparatus 100 is accumulated, the amount of metal ions ionized in the ionization plate 130 may be increased, so that the metal ion sterilization apparatus 100 may be used for the sterilization target water. Constant constant sterilization can be achieved.
도면 번호 170은 상기 금속 이온 살균 장치(100)가 설치된 장소의 원격지에서 상기 제어 부재(160)에 대한 명령을 전달할 수 있는 리모트 컨트롤로, 원격지에서 사용자가 상기 리모트 컨트롤(170)을 통해 상기 제어 부재(160)에 각종 명령을 전달할 수 있다. Reference numeral 170 is a remote control capable of transmitting a command to the control member 160 at a remote location where the metal ion sterilization apparatus 100 is installed, and a user at the remote location via the remote control 170. Various commands may be passed to 160.
이하에서는 도면을 참조하여 상기 금속 이온 살균 장치(100)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the metal ion sterilization apparatus 100 will be described with reference to the drawings.
먼저, 상기 유입구(112)를 통해 상기 살균 대상수가 상기 살균 케이스(110) 내부로 유입되면, 상기 살균 대상수는 상기 칸막이(120)에 의해 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140) 사이로 유도되어 유동된다.First, when the sterilization target water is introduced into the sterilization case 110 through the inlet 112, the sterilization target water is guided between the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140 by the partition 120. And flow.
이 때, 상기 이온화판(130)과 상기 음극판(140)에 전기가 공급된 상태여서, 상기 이온화판(130)에서 금속 이온이 방사되어 상기 살균 대상수에 녹게 되고, 그에 따라 상기 살균 대상수가 살균된다.At this time, since the electricity is supplied to the ionization plate 130 and the negative electrode plate 140, metal ions are radiated from the ionization plate 130 to be dissolved in the water to be sterilized, thus sterilizing the water to be sterilized. do.
살균된 상기 살균 대상수는 상기 유출구(113)를 통해 유출되어 필요한 곳으로 공급된다.The sterilized water to be sterilized is discharged through the outlet 113 and supplied to the required place.
상기와 같이, 본 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치(100)가 살균 케이스(110), 이온화판(130), 음극판(140), 칸막이(120) 및 초음파 진동자(145)를 포함함에 따라, 초음파 진동자(145)에 의해 스케일 등의 찌꺼기가 잘 제거되면서도 초음파 진동자(145)의 그러한 찌꺼기 제거 성능이 시간 경과에 따라 저하되지도 않아서 장시간의 사용에도 금속 이온 살균 장치(100)의 구성 요소에 찌꺼기 형성이 방지될 수 있고, 이온화판(130)의 마모에 따라 인가되는 전류량이 증대되도록 제어될 수 있어서 장시간의 사용에도 살균력이 저하되지 아니할 수 있으므로, 지속적인 작동이 이루어지더라도 이온화가 원활하게 이루어져서 살균 대상수에 대한 살균이 지속적으로 이루어질 수 있게 된다.As described above, as the metal ion sterilization apparatus 100 according to the present embodiment includes a sterilization case 110, an ionization plate 130, a negative electrode plate 140, a partition 120, and an ultrasonic vibrator 145, ultrasonic waves Although the debris such as scale is removed by the vibrator 145 well, such debris removal performance of the ultrasonic vibrator 145 is not deteriorated with time, so that debris is formed on the components of the metal ion sterilization apparatus 100 even for a long time use. This can be prevented, and the amount of current applied according to the wear of the ionization plate 130 can be controlled to increase the sterilization power may not be reduced even after a long time use, even if the continuous operation is made to smoothly ionize the target Sterilization of water can be continued.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예들에 따른 금속 이온 살균 장치에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서 상기된 본 발명의 제 1 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고 여기서는 생략하기로 한다.Hereinafter, a metal ion sterilization apparatus according to other embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In carrying out this description, the description overlapping with the contents already described in the above-described first embodiment of the present invention will be replaced with the description thereof.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스와 이온화판을 보이는 사시도이고, 도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 살균 케이스의 일부를 확대한 확대도이고, 도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 절개한 모습을 보이는 단면도이고, 도 11은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 일부 구성이 결합된 모습을 보이는 사시도이다.8 is a perspective view showing a sterilization case and an ionization plate constituting the metal ion sterilization apparatus according to a second embodiment of the present invention, Figure 9 is a sterilization case constituting the metal ion sterilization apparatus according to a second embodiment of the present invention 10 is an enlarged enlarged view illustrating a part of the metal ion sterilization device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a metal ion sterilization device according to the second embodiment of the present invention. Some perspective view of the combined configuration.
도 8 내지 도 11을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치(200)는 살균 케이스(210)와, 이온화판(230)과, 음극판(240)을 포함한다.8 to 11, the metal ion sterilization apparatus 200 according to the present embodiment includes a sterilization case 210, an ionization plate 230, and a negative electrode plate 240.
도면 번호 201은 회로 기판이고, 도면 번호 245는 상기 음극판(240) 저면에 위치되는 초음파 진동자이다. Reference numeral 201 denotes a circuit board, and reference numeral 245 denotes an ultrasonic vibrator positioned on a bottom surface of the negative electrode plate 240.
본 실시예에서는, 상기 살균 케이스(210)가 살균 케이스 몸체(211)와, 상기 살균 케이스 몸체(211)의 일 측에 형성되어 유입구(215)를 통해 유입되는 살균 대상수가 1차 수용되는 1차 수용 홀(212)과, 상기 살균 케이스 몸체(211)의 타 측에 형성되어 상기 1차 수용 홀(212)에 수용되었다가 상기 이온화판(230)을 경유하면서 살균된 살균 대상수가 2차 수용되는 2차 수용 홀(214)과, 상기 1차 수용 홀(212)과 상기 2차 수용 홀(214)을 연통시키면서 상기 이온화판(230)이 상단면에 놓이는 이온화판 지지부(213)와, 상기 이온화판(230) 고정을 위한 복수 개의 이온화판 고정부(205)를 포함한다.In this embodiment, the sterilization case 210 is formed on one side of the sterilization case body 211 and the sterilization case body 211, the primary sterilization target water flowing through the inlet 215 is first received The sterilization target water, which is formed at the other side of the accommodating hole 212 and the sterilization case body 211, is accommodated in the primary accommodating hole 212 and sterilized while passing through the ionization plate 230, is accommodated secondly. An ionization plate support 213 on which the ionization plate 230 is placed on an upper surface of the secondary accommodation hole 214, and the primary accommodation hole 212 and the secondary accommodation hole 214 communicate with each other; A plurality of ionization plate fixing part 205 for fixing the plate 230.
상기 이온화판(230)은 상기 이온화판 지지부(213)에 놓이는 형태, 예를 들어 판형의 이온화판 몸체(231)와, 상기 이온화판 몸체(231)의 양 측면의 각 하단에 각각 복수 개 형성되는 이온화판 접점 돌기(232)를 포함한다. 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)는 상기 이온화판 몸체(231)의 양 측면에서 서로 마주보는 위치에 형성된다. 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)는 상기 접점 돌기 고정 홀(208)에 슬라이딩되어 고정되면, 상기 접점 돌기 고정 홀(208)에 형성된 전기 접점을 통해 외부와 전기적으로 통전 가능하게 된다.The ionization plate 230 is formed on the ionization plate support 213, for example, a plate-shaped ionization plate body 231 and a plurality of each formed on each lower end of both sides of the ionization plate body 231 And an ionization plate contact protrusion 232. Each of the ionization plate contact protrusions 232 is formed at positions facing each other on both sides of the ionization plate body 231. When each of the ionization plate contact protrusions 232 is slid and fixed to the contact protrusion fixing hole 208, the ionization plate contact protrusions 232 may be electrically energized with the outside through an electrical contact formed in the contact protrusion fixing hole 208.
상기 이온화판 고정부(205)는 상기 이온화판(230)을 사이에 두고 서로 마주보는 위치에 형성되어, 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)가 각각 고정되는 것이다. 상기 이온화판 고정부(205)에는 상기 이온화판 접점 돌기(232)가 마모 방지를 위해 가려지면서 결합된다.The ionization plate fixing part 205 is formed at positions facing each other with the ionization plate 230 interposed therebetween, so that each of the ionization plate contact protrusions 232 is fixed. The ionization plate fixing portion 205 is coupled while being covered with the ionization plate contact protrusion 232 to prevent wear.
상세히, 상기 이온화판 고정부(205)는 상기 살균 케이스 몸체(211)를 상하 방향으로 관통하여 상기 이온화판 접점 돌기(232)가 하강되면서 삽입될 수 있는 접점 돌기 하강 홀(206)과, 상기 접점 돌기 하강 홀(206)과 연통되되 상기 접점 돌기 하강 홀(206)에서 굽혀진 형태, 예를 들어 수직으로 굽혀진 형태로 형성되는 접점 돌기 고정 홀(208)과, 상기 접점 돌기 하강 홀(206) 및 상기 접점 돌기 고정 홀(208)을 형성하기 위하여 'L'자 형태 등으로 굽혀진 형태로 돌출되는 홀 형성 돌기(207)를 포함한다.In detail, the ionization plate fixing part 205 penetrates through the sterilization case body 211 in the up and down direction, and the contact protrusion lowering hole 206 which can be inserted while the ionization plate contact protrusion 232 is lowered, and the contact point. The contact protrusion fixing hole 208 communicated with the protrusion lowering hole 206 and is bent in the contact protrusion lowering hole 206, for example, a vertically bent shape, and the contact protrusion lowering hole 206. And a hole forming protrusion 207 protruding in a bent shape such as an 'L' shape to form the contact protrusion fixing hole 208.
상기와 같이 구성되면, 상기 이온화판(230)이 상기 이온화판 지지부(213)에 놓일 때, 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)가 상기 각 이온화판 고정부(205)의 상기 각 접점 돌기 하강 홀(206)을 통해 하강되고, 그러한 하강이 완료된 상태에서 상기 이온화판(230)이 상기 이온화판 지지부(213)에 밀착된 상태로 슬라이딩되면 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)가 상기 각 접점 돌기 고정 홀(208)에 슬라이딩되면서 고정된다. 그러면, 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)는 물론 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)와 통전되는 접점이 상기 홀 형성 돌기(207)에 의해 가려지게 됨으로써, 상기 이온화판(230)이 이온화될 때 상기 각 이온화판 접점 돌기(232)와 상기 접점의 이온화에 따른 마모가 방지될 수 있게 되고, 그에 따라 상기 이온화판(230)의 이온화도가 진행되어 그 수명이 다할 때까지 상기 이온화판(230)이 외부와 안정적으로 통전 가능한 상태가 될 수 있고, 상기 이온화판(230)의 접점 부위가 직접 노출되지 않아서 순수 이온수 생산이 가능한 장점이 있다.When the ionizer 230 is configured as described above, when the ionization plate 230 is placed on the ionization plate support part 213, each of the ionization plate contact protrusions 232 is provided in the respective contact protrusion lowering holes of the respective ionization plate fixing parts 205. When the ionization plate 230 slides in a state in which the ionization plate 230 is in close contact with the ionization plate support part 213 in a state in which the lowering is completed, the respective ionization plate contact protrusions 232 are fixed to the respective contact protrusions. It is fixed while sliding in the hole 208. Then, the contacts passing through the respective ionization plate contact protrusions 232 as well as the respective ionization plate contact protrusions 232 are covered by the hole forming protrusions 207, so that the ionization plate 230 is ionized. Wear of the ionization plate contact protrusions 232 and the contacts may be prevented, and thus the ionization plate 230 may be formed until the ionization degree of the ionization plate 230 reaches its end of life. It can be in a state capable of stably energizing with the outside, there is an advantage that can be produced pure ion water because the contact portion of the ionization plate 230 is not directly exposed.
도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 모습을 보이는 단면도이다.12 is a cross-sectional view showing a state of the metal ion sterilization apparatus according to the third embodiment of the present invention.
도 12를 참조하면, 본 실시예에서는, 금속 이온 살균 장치(300)가 수도관 등 살균 대상수가 유동되는 배관에 직결될 수 있도록 소형화된 형태를 이룬다.Referring to FIG. 12, in the present embodiment, the metal ion sterilization apparatus 300 has a miniaturized shape so that the metal ion sterilization apparatus 300 may be directly connected to a pipe through which sterilization target water flows.
상세히, 살균 케이스(310)는 살균 대상수가 1차 수용되는 1차 수용 홀 형성부(311)와, 상기 1차 수용 홀 형성부(311)보다 좁은 폭으로 상기 1차 수용 홀 형성부(311)에서 연장되는 판 고정부(312)와, 상기 판 고정부(312)를 경유한 살균 대상수가 2차 수용되는 2차 수용 홀 형성부(313)와, 상기 판 고정부(312)의 외면에서 일정 길이로 돌출되어 회로 기판(380)을 지지하는 회로 기판 지지 돌기(314, 315)를 포함한다.In detail, the sterilization case 310 may include a primary accommodating hole forming part 311 in which sterilization target water is primarily received, and the primary accommodating hole forming part 311 in a narrower width than the primary accommodating hole forming part 311. The plate holding portion 312 extending from the, the secondary receiving hole forming portion 313 to receive the secondary sterilized water via the plate fixing portion 312 and the fixed surface on the outer surface of the plate fixing portion 312 And circuit board support protrusions 314 and 315 that protrude to length to support the circuit board 380.
상기 판 고정부(312) 내면에는 서로 대면되도록 이온화판(330)과 음극판(340)이 각각 설치되어, 상기 이온화판(330)과 상기 음극판(340) 사이를 살균 대상수가 유동되면서 살균된다.On the inner surface of the plate fixing part 312, an ionization plate 330 and a negative electrode plate 340 are installed to face each other, and sterilization is performed while the water to be sterilized flows between the ionization plate 330 and the negative electrode plate 340.
상기 회로 기판 지지 돌기(314, 315) 상에는 두 개로 분할된 회로 기판(380)이 얹히고, 상기 회로 기판 지지 돌기(314, 315) 내부에 구리 등의 통전 금속이 매설되어 있어서 상기 회로 기판 지지 돌기(314, 315)를 통해 상기 회로 기판(380)과 상기 이온화판(330) 및 상기 음극판(340)이 통전 연결된다.Two divided circuit boards 380 are placed on the circuit board support protrusions 314 and 315, and a conductive metal such as copper is embedded in the circuit board support protrusions 314 and 315 so that the circuit board support protrusions are embedded. The circuit board 380, the ionization plate 330, and the negative electrode plate 340 are electrically connected to each other through 314 and 315.
본 실시예에서는, 상기 1차 수용 홀 형성부(311)와 상기 2차 수용 홀 형성부(313)에 각각 1차 연결 부재(390)와 2차 연결 부재(395)가 연결된다.In this embodiment, the primary connecting member 390 and the secondary connecting member 395 are connected to the primary receiving hole forming part 311 and the secondary receiving hole forming part 313, respectively.
상기 1차 연결 부재(390)는 상기 1차 수용 홀 형성부(311)와 나사산 결합 등에 의해 연결되는 1차 연결체(391)와, 상기 1차 연결체(391)에서 돌출되어 수도관 등 살균 대상수가 공급되는 배관과 연결되는 1차 배관 연결부(392)를 포함한다.The primary connection member 390 is a primary connector 391 connected to the primary accommodating hole forming portion 311 by thread coupling, etc., and protrudes from the primary connector 391 to be sterilized, such as a water pipe. And a primary pipe connection 392 connected to the pipe to which the water is supplied.
상기 2차 연결 부재(395)는 상기 2차 수용 홀 형성부(313)와 나사산 결합 등에 의해 연결되는 2차 연결체(396)와, 상기 2차 연결체(396)에서 돌출되어 수요처로 향하는 배관 등 살균된 살균 대상수가 유동되는 배관과 연결되는 2차 배관 연결부(397)를 포함한다.The secondary connection member 395 includes a secondary connector 396 connected to the secondary accommodating hole forming portion 313 by thread coupling, and a pipe protruding from the secondary connector 396 to the demand destination. And a second pipe connection part 397 connected to the pipe through which the sterilized target water flows.
상기와 같이 구성되면, 상기 1차 배관 연결부(392)에 수도관 등 살균 대상수가 공급되는 배관이 직결되고, 상기 2차 배관 연결부(397)에 수요처로 향하는 배관이 직결될 수 있고, 그에 따라 살균 대상수 살균을 위한 상기 금속 이온 살균 장치(300)가 소형화되어 적용될 수 있어서, 가정용 등으로 활용될 수 있다.When the configuration is configured as described above, a pipe through which water to be sterilized, such as a water pipe, is supplied directly to the primary pipe connection part 392, and a pipe that is directed to a demand destination may be directly connected to the secondary pipe connection part 397. Since the metal ion sterilization apparatus 300 for water sterilization can be miniaturized and applied, it can be utilized for home use.
도 13은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치의 일부 구성이 결합된 모습을 보이는 사시도이고, 도 14는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 금속 이온 살균 장치를 구성하는 베이스 부재에 음극판이 결합된 모습을 보이는 도면이다.FIG. 13 is a perspective view showing a combination of some components of the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a base member constituting the metal ion sterilization apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. The negative electrode plate is combined.
도 13 및 도 14를 함께 참조하면, 본 실시예에서는, 살균 케이스(410)의 이온화판이 설치된 쪽에 베이스 부재(402)가 결합되어 상기 살균 케이스(410)를 덮는다.13 and 14 together, in the present embodiment, the base member 402 is coupled to the side where the ionization plate of the sterilization case 410 is installed to cover the sterilization case 410.
상기 베이스 부재(402)에서 상기 이온화판과 대면되는 면에는 음극판 설치 홀(403)이 함몰 형성되고, 상기 음극판 설치 홀(403) 상에 음극판(440)이 설치된다.A negative plate mounting hole 403 is recessed in a surface of the base member 402 facing the ionization plate, and a negative plate 440 is installed on the negative plate mounting hole 403.
즉, 상기 살균 케이스(410)와 상기 베이스 부재(402)가 서로 결합되어 살균 대상수가 살균을 위해 유동될 수 있는 공간을 형성하고, 상기 살균 케이스(410) 및 상기 베이스 부재(402)에 각각 서로 대면되도록 상기 이온화판과 상기 음극판(440)이 설치된다.That is, the sterilization case 410 and the base member 402 are coupled to each other to form a space in which the sterilization target water can flow for sterilization, and each of the sterilization case 410 and the base member 402 is mutually different. The ionization plate and the negative electrode plate 440 are installed to face each other.
상기와 같이 구성되면, 상기 음극판(440)이 마모되어 교체가 요구되는 경우, 상기 살균 케이스(410)를 덮는 전체 부분이 교체될 필요없이, 상기 베이스 부재(402)에서 상기 음극판(440)만 분리 교체하면 되는 장점이 있다.When configured as described above, when the negative plate 440 is worn and needs replacement, only the negative plate 440 is separated from the base member 402 without having to replace the entire portion covering the sterilization case 410. There is an advantage to replace.
한편, 상기 음극판(440)의 양 측 외곽과 상기 베이스 부재(402)의 상기 음극판 설치 홀(403) 내곽에는 각각 음극판 접점 돌기와 음극판 고정부(404)가 형성된다.On the other hand, the negative electrode plate contact projections and the negative electrode plate fixing part 404 are formed on both sides of the negative electrode plate 440 and inside the negative plate mounting hole 403 of the base member 402, respectively.
상기 음극판 고정부(404)는 상기 음극판(440)을 사이에 두고 서로 마주보는 위치에 형성되어, 상기 각 음극판 접점 돌기가 각각 고정되는 것이다. 상기 음극판 고정부(404)에는 상기 음극판 접점 돌기가 마모 방지를 위해 가려지면서 결합된다.The negative plate fixing part 404 is formed at positions facing each other with the negative plate 440 interposed therebetween, and each of the negative plate contact protrusions is fixed. The negative electrode plate fixing portion 404 is coupled while covering the negative electrode plate contact projection to prevent wear.
여기서, 상기 음극판 고정부(404)와 상기 음극판 접점 돌기는 상기된 제 2 실시예에서의 이온화판 고정부(205)와 이온화판 접점 돌기(232)와 동일 형태로 형성될 수 있다.Here, the negative electrode plate fixing part 404 and the negative electrode plate contact protrusion may be formed in the same shape as the ionization plate fixing part 205 and the ionizing plate contact protrusion 232 in the above-described second embodiment.
즉, 상기 음극판 고정부(404)는 상기 베이스 부재를 상하 방향으로 관통하여 상기 음극판 접점 돌기가 하강되면서 삽입될 수 있는 접점 돌기 하강 홀과, 상기 접점 돌기 하강 홀과 연통되되 상기 접점 돌기 하강 홀에서 굽혀진 형태, 예를 들어 수직으로 굽혀진 형태로 형성되는 접점 돌기 고정 홀과, 상기 접점 돌기 하강 홀 및 상기 접점 돌기 고정 홀을 형성하기 위하여 'L'자 형태 등으로 굽혀진 형태로 돌출되는 홀 형성 돌기를 포함할 수 있다.That is, the cathode plate fixing part 404 is in contact with the contact projection lowering hole which can penetrate the base member in the vertical direction and can be inserted while the cathode plate contact projection lowers, and communicates with the contact projection lowering hole in the contact projection lowering hole. A contact protrusion fixing hole formed in a bent form, for example, a vertically bent form, and a hole projecting in an 'L' shape or the like to form the contact protrusion lowering hole and the contact protrusion fixing hole. It may include forming protrusions.
상기와 같이 구성되면, 상기 음극판(440)의 교체가 용이하면서도, 상기 음극판(440)의 접점 부분의 마모가 방지될 수 있다.When configured as described above, while the replacement of the negative electrode plate 440 is easy, wear of the contact portion of the negative electrode plate 440 can be prevented.
상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.While the invention has been shown and described with respect to specific embodiments thereof, those skilled in the art can variously modify the invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. And that it can be changed. Nevertheless, it will be clearly understood that all such modifications and variations are included within the scope of the present invention.
본 발명의 일 측면에 따른 금속 이온 살균 장치에 의하면, 지속적인 작동이 이루어지더라도 이온화가 원활하게 이루어져서 살균 대상수에 대한 살균이 지속적으로 이루어질 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to the metal ion sterilization apparatus according to an aspect of the present invention, even if the continuous operation is made, since the ionization can be made smoothly, since the sterilization of the sterilization target water can be made continuously, its industrial applicability is high.

Claims (13)

  1. 살균 대상수가 유동되는 살균 케이스;A sterilization case through which sterilization target water flows;
    상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수에 금속 이온이 인가되도록 양전극이 연결되는 이온화판;An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case;
    상기 이온화판에 연결되는 양전극에 대응되는 음전극이 연결되는 음극판;A negative electrode plate connected to a negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate;
    상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수가 상기 이온화판과 상기 음극판 사이로 유동되도록, 상기 살균 케이스 내부를 구획하면서 상기 살균 대상수를 유도하는 칸막이; 및A partition for inducing the sterilization target water while partitioning the inside of the sterilization case such that the sterilization target water flowing inside the sterilization case flows between the ionization plate and the negative electrode plate; And
    상기 이온화판과 상기 음극판 중 적어도 하나에 초음파를 인가하여 세척이 이루어지도록 하는 초음파 진동자;를 포함하는 금속 이온 살균 장치.And an ultrasonic vibrator for cleaning by applying ultrasonic waves to at least one of the ionization plate and the negative electrode plate.
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 초음파 진동자는 상기 음극판에 연결되어 상기 음극판을 진동시키고, 그에 따라 상기 살균 케이스 내부의 상기 살균 대상수가 진동되면서 상기 이온화판과 상기 살균 케이스 내벽도 세척되는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.And the ultrasonic vibrator is connected to the negative electrode plate to vibrate the negative electrode plate, thereby washing the ionization plate and the inner wall of the sterilization case while vibrating the water to be sterilized in the sterilization case.
  3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 이온화판과 상기 음극판에 인가되는 전류량을 제어할 수 있는 제어 부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.And a control member capable of controlling the amount of current applied to the ionization plate and the negative electrode plate.
  4. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein
    상기 제어 부재는The control member
    상기 이온화판의 면적, 상기 이온화판에 가해진 전류량 및 상기 이온화판에 전류가 인가된 시간으로부터 상기 이온화판의 마모도를 연산하고,The wear degree of the ionization plate is calculated from the area of the ionization plate, the amount of current applied to the ionization plate, and the time when the current is applied to the ionization plate,
    상기 이온화판의 연산된 마모도에 따라 상기 이온화판에 인가되는 전류량을 증가시키는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.Metal ion sterilization apparatus, characterized in that for increasing the amount of current applied to the ionization plate in accordance with the calculated wear degree of the ionization plate.
  5. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 금속 이온 살균 장치가 설치된 장소의 원격지에서 상기 제어 부재에 대한 명령을 전달할 수 있는 리모트 컨트롤;을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.And a remote control capable of transmitting a command to the control member at a remote location where the metal ion sterilization device is installed.
  6. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 이온화판에는 이온화 촉진을 위한 펄스 전류가 인가되는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.Metal ion sterilization apparatus, characterized in that the ionization plate is applied with a pulse current for promoting the ionization.
  7. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 금속 이온 살균 장치의 작동을 제어하는 회로 기판;을 포함하고,And a circuit board for controlling the operation of the metal ion sterilization apparatus.
    상기 회로 기판에서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 일정한 정전류를 흘려주면서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 흐르는 전류값을 지속적으로 감지하고 있다가, 상기 이온화판의 마모로 인해 상기 이온화판과 상기 음극판 사이가 벌어져서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에서 감지되는 전류값이 저하되면, 상기 회로 기판이 상기 이온화판과 상기 음극판 사이의 저하된 전류값만큼 자동으로 보상하여 줌으로써, 간격이 달라진 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 다시 요구되는 정전류가 흐르도록 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.The circuit board continuously detects a current value flowing between the ionization plate and the negative electrode plate while flowing a constant current between the ionization plate and the negative electrode plate, and between the ionization plate and the negative electrode plate due to wear of the ionization plate. When the current value detected between the ionization plate and the negative electrode plate is lowered, the circuit board automatically compensates for the reduced current value between the ionizing plate and the negative electrode plate, whereby the gap between the ionized plate and the negative electrode plate is changed. The metal ion sterilization apparatus which can control so that constant current required again may flow in between.
  8. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 금속 이온 살균 장치의 작동을 제어하는 회로 기판;을 포함하고,And a circuit board for controlling the operation of the metal ion sterilization apparatus.
    상기 이온화판과 상기 음극판을 경유하면서 살균된 살균 대상수의 토출 피피엠이 요구되는 피피엠 기준값에 맞도록, 유입 유량에 따라 상기 회로 기판에서 자동으로 인가 전류값과 인가 전압값 중 적어도 하나를 변화시켜 자동으로 상기 토출 피피엠을 상기 피피엠 기준값에 맞추어줄 수 있는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.The circuit board is automatically changed by changing at least one of an applied current value and an applied voltage value according to the inflow flow rate so that the discharge PPM of the sterilized water to be sterilized while passing through the ionizing plate and the negative electrode plate meets the required PPM reference value. And the discharge PPM can be adjusted to the PPM reference value.
  9. 살균 대상수가 유동되는 살균 케이스;A sterilization case through which sterilization target water flows;
    상기 살균 케이스 내부를 유동하는 상기 살균 대상수에 금속 이온이 인가되도록 양전극이 연결되는 이온화판; 및An ionization plate connected to a positive electrode such that metal ions are applied to the sterilization target water flowing in the sterilization case; And
    상기 이온화판에 연결되는 양전극에 대응되는 음전극이 연결되는 음극판;을 포함하고,And a cathode plate to which a negative electrode corresponding to the positive electrode connected to the ionization plate is connected.
    상기 이온화판은The ionization plate is
    이온화판 몸체와,Ion plate body,
    상기 이온화판 몸체의 양 측면에 각각 형성되는 이온화판 접점 돌기를 포함하며,It includes an ionization plate contact protrusions formed on both sides of the ionization plate body,
    상기 살균 케이스는The sterilization case
    상기 이온화판이 놓이는 이온화판 지지부와,An ionization plate support on which the ionization plate is placed;
    상기 이온화판 고정을 위한 복수 개의 이온화판 고정부를 포함하고,It includes a plurality of ionization plate fixing for fixing the ionization plate,
    상기 이온화판 고정부에는 상기 이온화판 접점 돌기가 마모 방지를 위해 가려지면서 결합되는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.The ionization plate fixing portion is metal ion sterilization apparatus, characterized in that coupled to the ionization plate contact projections to prevent wear.
  10. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 이온화판 고정부는The ionization plate fixing part
    상기 이온화판 접점 돌기가 하강되면서 삽입될 수 있는 접점 돌기 하강 홀과,A contact projection falling hole which can be inserted while the ionization plate contact projection is lowered,
    상기 접점 돌기 하강 홀과 연통되되 상기 접점 돌기 하강 홀에서 굽혀진 형태로 형성되는 접점 돌기 고정 홀과,A contact projection fixing hole communicating with the contact projection lowering hole and formed in a bent shape in the contact projection lowering hole;
    상기 접점 돌기 하강 홀 및 상기 접점 돌기 고정 홀을 형성하기 위하여 굽혀진 형태로 돌출되는 홀 형성 돌기를 포함하고,And a hole forming protrusion protruding in a bent form to form the contact protrusion falling hole and the contact protrusion fixing hole.
    상기 이온화판이 상기 이온화판 지지부에 놓일 때, 상기 이온화판 접점 돌기가 상기 접점 돌기 하강 홀을 통해 하강되고, 그러한 하강이 완료된 상태에서 상기 이온화판이 상기 이온화판 지지부에 밀착된 상태로 슬라이딩되면 상기 이온화판 접점 돌기가 상기 접점 돌기 고정 홀에 슬라이딩되면서 고정되어, 상기 이온화판 접점 돌기 및 상기 이온화판 접점 돌기와 통전되는 접점이 상기 홀 형성 돌기에 의해 가려지게 됨으로써, 상기 이온화판이 이온화될 때 상기 이온화판 접점 돌기와 상기 접점의 이온화에 따른 마모가 방지될 수 있게 되는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.When the ionizing plate is placed on the ionizing plate support, the ionizing plate contact protrusion is lowered through the contact protrusion lowering hole, and the ionizing plate slides in a state in which the ionizing plate is in close contact with the ionizing plate support when the lowering is completed. The contact protrusion is fixed while sliding in the contact protrusion fixing hole, and the contacting current passing through the ionization plate contact protrusion and the ionization plate contact protrusion is covered by the hole forming protrusion, so that the ionization plate contact protrusion when the ionization plate is ionized. Metal ion sterilization apparatus, characterized in that wear due to the ionization of the contact can be prevented.
  11. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 이온화판에는 이온화 촉진을 위한 펄스 전류가 인가되는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.Metal ion sterilization apparatus, characterized in that the ionization plate is applied with a pulse current for promoting the ionization.
  12. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 금속 이온 살균 장치의 작동을 제어하는 회로 기판;을 포함하고,And a circuit board for controlling the operation of the metal ion sterilization apparatus.
    상기 회로 기판에서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 일정한 정전류를 흘려주면서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 흐르는 전류값을 지속적으로 감지하고 있다가, 상기 이온화판의 마모로 인해 상기 이온화판과 상기 음극판 사이가 벌어져서 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에서 감지되는 전류값이 저하되면, 상기 회로 기판이 상기 이온화판과 상기 음극판 사이의 저하된 전류값만큼 자동으로 보상하여 줌으로써, 간격이 달라진 상기 이온화판과 상기 음극판 사이에 다시 요구되는 정전류가 흐르도록 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.The circuit board continuously detects a current value flowing between the ionization plate and the negative electrode plate while flowing a constant current between the ionization plate and the negative electrode plate, and between the ionization plate and the negative electrode plate due to wear of the ionization plate. When the current value detected between the ionization plate and the negative electrode plate is lowered, the circuit board automatically compensates for the reduced current value between the ionizing plate and the negative electrode plate, whereby the gap between the ionized plate and the negative electrode plate is changed. The metal ion sterilization apparatus which can control so that constant current required again may flow in between.
  13. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 금속 이온 살균 장치는The metal ion sterilization device
    상기 금속 이온 살균 장치의 작동을 제어하는 회로 기판;을 포함하고,And a circuit board for controlling the operation of the metal ion sterilization apparatus.
    상기 이온화판과 상기 음극판을 경유하면서 살균된 살균 대상수의 토출 피피엠이 요구되는 피피엠 기준값에 맞도록, 유입 유량에 따라 상기 회로 기판에서 자동으로 인가 전류값과 인가 전압값 중 적어도 하나를 변화시켜 자동으로 상기 토출 피피엠을 상기 피피엠 기준값에 맞추어줄 수 있는 것을 특징으로 하는 금속 이온 살균 장치.The circuit board is automatically changed by changing at least one of an applied current value and an applied voltage value according to the inflow flow rate so that the discharge PPM of the sterilized water to be sterilized while passing through the ionizing plate and the negative electrode plate meets the required PPM reference value. And the discharge PPM can be adjusted to the PPM reference value.
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