WO2006011461A1

WO2006011461A1 - 衝撃吸収体、衝撃吸収積層構造体、液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ用衝撃吸収積層構造体及びディスプレイ装置

Info

Publication number: WO2006011461A1
Application number: PCT/JP2005/013606
Authority: WO
Inventors: Nobuyuki Toyoda; Masanori Suzuki; Hiroyuki Mizouchi; Akihiko Morikawa
Original assignee: Jsr Corporation
Priority date: 2004-07-27
Filing date: 2005-07-25
Publication date: 2006-02-02
Also published as: JPWO2006011461A1; TW200619028A

Abstract

　本発明の目的は、耐衝撃性に優れ、割れや気泡噛み等の損傷を抑制できる衝撃吸収体並びにこれを用いた衝撃吸収積層構造体及び液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ又は有機ＥＬディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を提供することにある。本発明の衝撃吸収体は、全体の厚さが０．４ｍｍであり、厚さ０．２ｍｍ、Ｍ３００（３００％モジュラス）が１２．７ＭＰａである高弾性フィルムからなる高弾性率層１２及び厚さ０．２ｍｍ、Ｍ３００が１．６ＭＰａである低弾性フィルムからなる低弾性率層１１とからなる２層構造の衝撃吸収層１からなる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体Ｂは、溶融成形アルミノケイ酸薄板ガラスである基層２と、該基層２の衝撃面側表面に本発明の衝撃吸収体からなる衝撃吸収層１を積層し、更に、該衝撃吸収層１の衝撃面側表面にアクリル樹脂からなる衝撃面層３を積層してなる。

Description

明細書

衝撃吸収体、衝撃吸収積層構造体、液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ用衝撃吸収積層構造体及びディスプレイ装置

技術分野

[0001] 本発明は、衝撃吸収体、該衝撃吸収体を備える衝撃吸収積層構造体及び液晶デイスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ用衝撃吸収積層構造体並びに各衝撃吸収積層構造体を備える液晶ディスプレイ (LCD)、プラズマディスプレイ及び有機エレクトロルミネセンス（有機 EL)ディスプレイ等のディスプレイ装置に関する。

背景技術

[0002] 液晶パネルに代表される平面状ディスプレイパネルを構成するガラス板等の基層は、薄く且つ無アルカリガラスを使用する必要があるため、あまり粘弾性がなぐ押さえ付けたり、ぶっけたりすることで容易に破損することが知られている。そのため、従来、携帯機器等で液晶パネルやプラズマディスプレイ及び ELパネル等の平面状ディスプレイパネルを用いる場合、そのディスプレイパネルを保護するために、ポリカーボネート製又はアクリル製の透明榭脂層を使用していた。また、下記特許文献 1及び 2 に示すように、榭脂フィルムの一方の面に粘着剤等を設け、ディスプレイパネルの表面に貼付するディスプレイパネル保護シートが知られている。

[0003] 一方、エラストマ一フィルムを構成するエラストマ一として、従来より、ォレフィン系熱可塑性エラストマ一が知られて、る。力かるォレフィン系熱可塑性エラストマ一としては、ォレフィン系榭脂とォレフィン系共重合ゴムとを混合してなる熱可塑性エラストマ一、ォレフィン系榭脂とォレフィン系共重合ゴムとを、架橋剤によって部分的に架橋させてなる熱可塑性エラストマ一等が知られている。例えば、下記特許文献 3には、ェチレン、炭素数が 3〜10の _α—ォレフイン、官能基を有する不飽和単量体、及び必要に応じて非共役ジェンが共重合されてなるォレフィン系ランダム共重合体と、このォレフィン系ランダム共重合体を架橋する金属イオンとよりなることを特徴とするォレフィン系熱可塑性エラストマ一が開示されて、る。力かるォレフィン系熱可塑性エラストマ一は、従来のォレフィン系熱可塑性エラストマ一と同様のゴム弾性、柔軟性及び成形加工性を有し、しかも、機械的特性及び耐摩耗性が良好で、特に耐傷付性に優れるという作用効果を有する。

[0004] また、下記特許文献 4には、特定の水添ブロック共重合体と、パラフィン系プロセスオイル等の液状添加剤とを特定の割合で含有する軟質組成物が開示されて、る。そして、カゝかる軟質組成物は、柔軟性、低分子保持性、力学的性質、ホットメルト粘'接着性及び液体保持性に優れていることが記載されている。更に、下記特許文献 5〖こは、特定の熱可塑性ブロック共重合体よりなる三次元連続網目骨格間に、パラフィン油等の低分子材料が保持されており、クッション材料等に用いられる高分子網状構造体が開示されている。更に、下記特許文献 6には、下記特許文献 5に開示されている高分子網状構造体と、ゴム材料とを混合してなるゴム組成物が開示されている。力かるゴム組成物は、低分子材料が均一に分散し、且つ該低分子材料を良好に保持して低分子材料のブリードが少ない低弾性のゴム組成物であることが開示されている。

[0005] 特許文献 1 :特開平 4 030120号公報

特許文献 2：特開 2000 - 56694号公報

特許文献 3：特開 2003— 82023号公報

特許文献 4：特開平 9— 263678号公報

特許文献 5：特開平 8— 127698号公報

特許文献 6：特開平 8— 127699号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] しかし、上記特許文献 1に示すようなディスプレイパネル保護シートは、梱包状態の輸送時の保護や、据置型ディスプレイの保護用が主な用途であり、携帯電話等用デイスプレイパネルの保護のために作られたものではない。また、上記特許文献 2のデイスプレイパネル用保護シートは、衝撃や引つ搔き等の保護をすることができるが、落下して床に衝突することによる衝撃、尻ポケットに該装置を入れて座ったり、押さえ付けられたり等の携帯時の負荷に対しては言及されて、な、。

[0007] 更に、ディスプレイパネルを保護するために、ポリカーボネート製又はアクリル製の透明榭脂層を使用する場合、カゝかる透明榭脂層を設けても、液晶パネルの基層との間に空隙を設けないと、透明榭脂層のゆがみが基層に伝わり、基層が破損してしまうことがあった。一方で、このような空隙を設けると、空隙と透明榭脂層との間や、空隙と基層との間で光が反射し二重映り等を起こし、見にくくなることがある。また、透明榭脂層と基層との空隙に破壊強度の低い衝撃吸収層を設けた場合、衝撃を受けた際に、基層の破損が生じなくても、ディスプレイパネルに気泡嚙み (衝撃が加わることにより、衝撃吸収層中又は層間に気泡が生じること。）が生じることがある。このような気泡嚙みが生じると、やはり視認性や商品性が低下することから、このような気泡嚙みの発生も防ぐ必要がある。しかも、携帯電話等、携行する製品用途では、ディスプレィパネルはできるだけ薄くできることが好ましい。

[0008] かかる観点から、単に基層の損傷を防ぐだけでなぐ気泡嚙みをも防止することができ、し力も、保護板自体の厚さを薄くすることができる手段が望まれている。かかる実情に鑑み、基層の押さえ付けや衝突等に由来する破損及び気泡嚙みを防ぐことができる衝撃吸収層を設けることが検討されている。そして、力かる衝撃吸収層として利用できる衝撃吸収体の開発が検討されている。

[0009] 本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、耐衝撃性に優れる衝撃吸収体を提供することを目的とする。また、本発明は、耐衝撃性に優れ、層間に空隙を設けなくても割れや気泡嚙み等の損傷を抑制することで、厚さをより薄くすることができる衝撃吸収積層構造体及び LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体並びに該衝撃吸収積層構造体を有するディスプレイ装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0010] 本発明は以下の通りである。

[l]n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側力 m番目（m; 2〜n)の層の 300%モジュラスが、対衝撃面側から（m— 1)番目の層の 3 00%モジュラスよりも大きい衝撃吸収層を有することを特徴とする衝撃吸収体。 [2] 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 90%以上である上記 [1]記載の衝撃吸収体。

[3]上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に剥離可能な保護フィルム層を有する上記 [ 1 ]記載の衝撃吸収体。

[4]n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側力 m番目（m; 2〜n)の層の貯蔵弾性率が、対衝撃面側から (m—1)番目の層の貯蔵弾性率よりも大きい衝撃吸収層を有することを特徴とする衝撃吸収体。

[5] 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 90%以上である上記 [4]記載の衝撃吸収体。

[6]上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に剥離可能な保護フィルム層を有する上記 [4]記載の衝撃吸収体。

[7]上記 [ 1 ]記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられてヽる衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。

[8]上記衝撃吸収層が、極性基変性ォレフィン系重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一層である上記 [7]記載の衝撃吸収積層構造体。

[9]上記衝撃層が榭脂層である上記 [7]記載の衝撃吸収積層構造体。

[10]上記基層がガラス層である上記 [7]記載の衝撃吸収積層構造体。

[11]更に他の層を有する上記 [7]記載の衝撃吸収積層構造体。

[ 12]上記 [4]記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられて、る衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。

[13]上記衝撃吸収層が、極性基変性ォレフィン系重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一層である上記 [12]記載の衝撃吸収積層構造体。

[14]上記衝撃層が榭脂層である上記 [ 12]記載の衝撃吸収積層構造体。

[15]上記基層がガラス層である上記 [ 12]記載の衝撃吸収積層構造体。

[16]更に他の層を有する上記 [12]記載の衝撃吸収積層構造体。

[17]上記 [1]記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側表面に設けられた衝撃層と、を有することを特徴とする液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体。

[18]上記 [4]記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側表面に設けられた衝撃層と、を有することを特徴とする液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体。

[ 19]上記 [ 17]記載の液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレィ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。

[20]上記 [ 18]記載の液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレィ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。

発明の効果

[0011] 本発明の衝撃吸収体は、上記構成を備えることにより、基層等の損傷を抑制すると共に、気泡嚙みを防止することができ、優れた耐衝撃性を奏する。

本発明の衝撃吸収積層構造体並びに LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体及び有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体は、上記構成を備えることにより、優れた耐衝撃性を奏する。よって、従来よりも薄い厚さで、衝撃等による基層の割れや気泡嚙み等を防止することができる。また、従来のように保護板パネルを設け、保護板パネルと基層との間に空隙を設ける必要がなくなるため、筐体等の設計の自由度を高めることができる。

本発明のディスプレイ装置は、上記構成を備えることにより、従来よりも薄い厚さで、衝撃等による基層の割れや気泡嚙み等を防止することができる。

図面の簡単な説明

[0012] [図 1]衝撃吸収層の深さと M300又は E'の変化を模式的に示したグラフである。

[図 2]本実施例の衝撃吸収体の模式断面図である。

[図 3]本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。 [図 4]本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。

[図 5]本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。

[図 6]本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。

[図 7]本発明の衝撃吸収積層構造体の一例を説明するための模式断面図である。

[図 8]本実施例の耐衝撃性試験を説明するための模式図である。

符号の説明

[0013] A；衝撃吸収体、 B ;衝撃吸収積層構造体、 1；衝撃吸収層、 1 '；衝撃面、 1 ' '；対衝撃面、 la;第 1衝撃吸収層、 lb ;第 2衝撃吸収層、 11 ;低弾性率層、 12 ;高弾性率層、 13 ;中弾性率層、 2 ;基層、 3 ;衝撃層、 4 ;機能層、 4a;第 2機能層、 5 ;他の層、 61 ; シリコーンゴム薄肉板、 62 ;基台、 7 ;鉄球。

発明を実施するための最良の形態

[0014] 以下、本発明を詳しく説明する。

1.衝撃吸収体

本発明の第 1の衝撃吸収体は、 n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側力 m番目（m; 2〜n)の層の 300%モジュラスカ対衝撃面側から (m— 1)番目の層の 300%モジュラスよりも大きい衝撃吸収層を有することを特徴とする。また、本発明の第 2の衝撃吸収体は、 n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側から m番目（m; 2〜n)の層の貯蔵弾性率が、対衝撃面側から (m— 1)番目の層の貯蔵弾性率よりも大き、衝撃吸収層を有することを特徴とする。

[0015] 本発明の衝撃吸収体及び上記衝撃吸収層にお、て、「衝撃面」とは、衝撃が加わる側の面であり、「対衝撃面」とは、上記「衝撃面」とは反対側の面をいう。図 2では、衝撃吸収層 1のうち、高弾性率層 12側の面が上記「衝撃面」 1 'であり、低弾性率層 1 1側の面が上記「対衝撃面」 1，，である。

[0016] 本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層は、 n個の層（n; 2以上の整数）を積層してなる多層構造である。上記 nは通常は 2以上であり、必要に応じて 3以上、あるいや 4以上とすることができる。例えば、上記衝撃吸収層は、図 2 (A)に示すように、高弾性フィルムで構成される高弾性率層 12と、該高弾性率層 12よりも 300%モジュラス（以下、「M300」という。）又は貯蔵弾性率 (以下、「E'」という。）が小さい低弾性フィルムで構成される低弾性率層 11とからなる 2層構造とすることができる。また、図 2 (B)に示すように、高弾性フィルムで構成される高弾性率層 12と、該高弾性率層 12よりも M300又は E'が小さい中弾性フィルムで構成される中弾性率層 13と、該中弾性率層 13よりも M300又は E'が小さ、低弾性フィルムで構成される低弾性率層 11とからなる 3層構造とすることができる。

[0017] 上記衝撃吸収層を構成する各層の上記 M300 (MPa)及び上記 E' (MPa)は、いずれも弾性率の指標である。本発明では、上記衝撃吸収層を構成する各層の E'が 1 X 10²MPa以下の場合は、 M300を弾性率の指標とし、 E，が 1 X 10²MPaより大きい場合は、 E'を弾性率の指標とする。また、材料の破断伸びが小さくて M300が測定できない場合に限り、 E'が 1 X 10²MPa以下の場合でも E'を弾性率の指標とする。更に、弾性率の大小は、上記 M300及び上記 E'の値の大小とする。

[0018] 上記 M300は、温度 25°C、引張速度 500mmZmin、JIS 3号ダンベル試験片での引張測定において、ひずみが 300%となるときの応力の値である。また、上記 E'は、温度 25°C、印加周波数 1Ηζ、印加ひずみ 0. 1%、引張モードでの動的粘弾性測定により測定される値である。上記 M300及び上記 E'は、金、ニッケル及び亜鉛等の金属並びにそれら金属の酸化物、ポリスチレンとジビュルベンゼンとの架橋体等のポリマー架橋粒子等、粒子径が 1〜： LOOnmの微粒子を添加することにより、あるいは、紫外線又は電子線照射若しくは架橋剤によって衝撃吸収層を構成する重合体の架橋の程度を調整することにより、調整することができる。例えば、紫外線又は電子線照射若しくは架橋剤によって架橋度を高めると、上記 M300及び上記 E'を高くすることがでさる。

[0019] また、上記衝撃吸収層を構成する各層の上記 M300及び上記 E'は、層中で均一であってもよいが、衝撃面側から対衝撃面側へ向かうに従い、上記 M300及び上記 E'を変化させてもよい。例えば、衝撃面側から対衝撃面側へ向かうに従い、層中の上記 M300及び上記 E'が連続的に減少する構成とすることができる。このような構成を有する層は、例えば、（1)照射面力の深度が浅い位置ほど架橋度が高くなる性質を利用して、衝撃吸収層に対して紫外線又は電子線照射を行い、衝撃面側の架橋度を高ぐ対衝撃面側の架橋度を低くしたり、あるいは（2)塗布面からの深度が浅いほど架橋剤の濃度が高くなる性質を利用して、衝撃吸収層の衝撃面側表面に適宜後述する架橋剤を塗布し、衝撃面側の架橋度を高ぐ対衝撃面側の架橋度を低くすること〖こより得ることができる。

[0020] 上記衝撃吸収層は、 n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側力も _m番目（_m; 2〜n)の層の M300又は E'が、対衝撃面側から（m— 1)番目の層の M300又は E'よりも大きい。また、上記衝撃吸収層は、 mが 2〜nのいずれであっても、上記要件を満たす。ここで、上記衝撃吸収層の構成と M300又は E 'の変化を図 1に模式的に示す。図 1は、図 2 (B)に示す 3層構造の衝撃吸収層の M 300又は E'の変化を表したグラフである。図 1に示すように、衝撃面側にある層の M 300又は E'は、対衝撃面側にある層の M300又は E'よりも大きぐ上記衝撃吸収層を構成する各層の M300又は E'は、衝撃面側力も対衝撃面側へ向力に従い減少している。尚、図 1では、 M300又は E'の変化が不連続的である力上記のように、上記衝撃吸収層を構成する各層の M300又は E'を変化させ、衝撃面側の M300又は E'が、対衝撃面側の方の M300又は E'よりも大きぐ且つ衝撃面側から対衝撃面側へ連続的に M300又は E'が減少する構成とすることもできる。

[0021] 本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層は、衝撃面側ほど弾性率が高ぐ対衝撃面側へ向かうにつれて連続的に弾性率が低下するとヽぅ特殊な物性を備える。通常、 M300や E'が高いほど、衝撃時の応力を拡散する能力及び破壊強度は高い。また、 M300や E，力、さいほど、衝撃吸収能力が高い。し力し、単に高 M300や高 E'の衝撃吸収層を設けるのみでは、衝撃時の応力集中による衝撃吸収層の材料破壊に起因する空隙発生 (気泡嚙み）が生じにくいが、衝撃吸収能力が低いために、衝撃時に衝撃を吸収しきれず、基層に衝撃を伝達してしまい、その結果、基層の破損が生じ易い。逆に、単に低 M300や低 E，の衝撃吸収層を設けるのみでは、衝撃時に衝撃を十分に吸収し、基層への衝撃伝達を抑制でき、基層の破損を防止することができる反面、衝撃時の応力を拡散する能力が低いために、衝撃時に応力が集中してしまい、また、破壊強度も低いために、衝撃吸収層の破壊による空隙が発生して気泡嚙みが生じ易いので好ましくない。これに対し、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層は、上記構成を有することにより、衝撃面側に衝撃が加わった場合に、衝撃面付近で応力を拡散させ、基層の破損等を防止することができる。また、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層は、衝撃面付近での衝撃吸収層の破壊強度が高いこと及び衝撃の応力を拡散させることにより、気泡嚙みを防ぐこと力 Sできる。尚、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層とは逆に、衝撃面側ほど弾性率が低ぐ対衝撃面側へ向力うにつれて連続的に弾性率が高くなる構成とすると、衝撃の応力が拡散できず、衝撃吸収層の破壊強度が低いため気泡嚙みが発生し易ぐ基層の破損が生じやすいため好ましくない。

[0022] 上記衝撃吸収層を構成する各層の上記 M300及び上記 E'の具体的な値にっ、ては特に限定はない。例えば、衝撃面側の最外層の M300は、通常 2MPa以上、好ましくは 5MPa以上、更に好ましくは lOMPa以上である。また、衝撃面側の最外層の E'は、通常 IMPa以上、好ましくは lOMPa以上、更に好ましくは lOOMPa以上である。一方、対衝撃面側の最外層の M300は、通常 5MPa未満、好ましくは 3MPa以下、更に好ましくは 2. 5MPa以下である。また、対衝撃面側の最外層の E'は、通常 30MPa以下、好ましくは 20MPa以下、更に好ましくは lOMPa以下である。

[0023] 更に、上記衝撃吸収層の衝撃面側の最外層の M300と対衝撃面側の最外層の M 300の比（衝撃面側の最外層の M300Z対衝撃面側の最外層の M300)は、通常 1 より大きぐ好ましくは 1. 5以上、更に好ましくは 2以上、より好ましくは 4以上、特に好ましくは 5以上、最も好ましくは 5〜 10である。また、上記衝撃吸収層の衝撃面側の最外層の E'と対衝撃面側の最外層の E'の比 (衝撃面側の最外層の E' Z対衝撃面側の最外層の Ε' )は、通常 1より大きぐ好ましくは 50以上、更に好ましくは 100以上、より好ましくは 400以上、特に好ましくは 500〜 1000である。

[0024] 上記衝撃吸収層を構成する各層の厚みについては特に限定はなぐ必要に応じて様々な厚みとすることができる。例えば、弾性率の大小に関わらず各層の厚みを同一としたり、弾性率の高い層ほど薄ぐ弾性率の低い層ほど厚くすることができるが、衝撃吸収の観点から、弾性率の低い層ほど厚くすることが好ましい。具体的には、低弾性である対衝撃面側の最外層の厚さと高弾性である衝撃面側の最外層の厚さの比（対衝撃面側の最外層の厚さ Ζ衝撃面側の最外層の厚さ）として、 1を超え 10以下、好ましくは 1. 5〜7、更に好ましくは 2〜5とすることができる。より具体的には、例えば、図 2 (A)に示す 2層構造の場合、低弾性率層 11と高弾性率層 12との厚さの比 (低弾性率層 11の厚さ Z高弾性率層 12の厚さ）を上記範囲とすることができる。

[0025] 上記衝撃吸収層の透明度についても特に限定はない。即ち、後述のように、本発明の衝撃吸収体は、ディスプレイパネル等の表示部材以外の用途にも適用できることから、不透明でもよいが、ディスプレイパネル等の表示部材に用いる場合には、透明であることが望ましい。具体的には、 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 9 0%以上、特に 91%以上、更には 92%以上であることが好ましい。また、上記衝撃吸収層は、広い温度範囲で優れた透明性を有するものとすることができる。具体的には、上記衝撃吸収層は、 100〜90°C、好ましくは 50〜90°C、更に好ましくは—40 〜90°Cで透明（肉厚 0. 5mmにおける全光線透過率が 90%以上、好ましくは 91% 以上、更に好ましくは 92%以上）を維持することができる。尚、上記全光線透過率は、実施例記載の方法により測定した値を示す。

[0026] 上記衝撃吸収層の材質、形状、物性及び構造につ！ヽては特に限定はな！ヽ。例えば、上記衝撃吸収層は、通常シート状、フィルム状等の固形状物である力その他、ゲル状物でもよぐあるいは封止した液状物でもよい。また、上記衝撃吸収層を構成する各層の弾性率以外の物性及び材質は同じでもよぐあるいは異なってもよい。例えば、上記衝撃吸収層を構成する各層の屈折率をほぼ同程度 (通常は ± 10%以内、好ましくは ±5%以内、更に好ましくは ±3%以内）とすると、ディスプレイパネルの視認性を向上させることができるので好まし、。

[0027] 上記衝撃吸収層の材質としては、例えば、エラストマ一（油展ゴムを含む)でもよく、榭脂でもよ、が、特にエラストマ一が好ま、。

[0028] 上記エラストマ一としては、例えば、共役ジェンのブロック（共)重合体、芳香族ビ- ル化合物と共役ジェンとのブロック共重合体、共役ジェンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビュル化合物と共役ジェンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン' a一才レフイン系共重合体、極性基変性ォレフィン系共重合体、極性基変性ォレフイン系共重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一、ァクロル-トリル.ブタジエン系ゴム等の-トリル系ゴム、ブチルゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフインエラストマ一（TPO)、熱可塑性ポリウレタンエラストマ一（TP U)、熱可塑性ポリエステルエラストマ一（TPEE)、ポリアミドエラストマ一（TPAE)、ジェン系エラストマ一（1, 2—ポリブタジエン等）などの熱可塑'性エラストマ一、シリコーン系エラストマ一、フッ素系エラストマ一等を挙げることができる。

[0029] まず、共役ジェンのブロック（共)重合体、及び芳香族ビニル化合物と共役ジェンとのブロック共重合体にっ、て説明する。

上記共役ジェンとしては、 1, 3—ブタジエン、イソプレン、 2, 3—ジメチルー 1, 3— ブタジエン、 1, 3—ペンタジェン、 2—メチルー 1, 3—ペンタジェン、 1, 3—へキサジェン、 4, 5—ジェチルー 1, 3—ォクタジェン、クロ口プレン等が挙げられる。これらのうち、 1, 3—ブタジエン、イソプレン及び 1, 3—ペンタジェンが好ましぐ特に 1, 3— ブタジエン及びイソプレンが好ましい。尚、上記例示した化合物は、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。この共役ジェンを用いてなるブロック (共）重合体としては、ブタジエンブロック共重合体、ブタジエン 'イソプレン'ブタジェンブロック共重合体等が挙げられる。

[0030] 上記芳香族ビュル化合物としては、スチレン、 tーブチルスチレン、 α—メチルスチレン、 a—クロロスチレン、 p—メチルスチレン、ジビュルベンゼン、 N, N—ジェチル —P—アミノスチレン等が挙げられる。上記例示したィ匕合物は、 1種単独であるいは 2 種以上を組み合わせて用いることができる。この芳香族ビニル化合物と共役ジェンとを用いてなるブロック共重合体としては、スチレン'ブタジエン 'スチレンブロック共重合体（SBS)、スチレン 'イソプレン'スチレンブロック共重合体等が挙げられる。

[0031] また、本発明においては、上記のように、共役ジェンのブロック（共)重合体の水素添加物、芳香族ビ-ルイ匕合物と共役ジェンとのブロック共重合体の水素添加物であつてもよい。前者の場合は、ブロック共重合体として、以下のブロック重合体の水素添加物を用いることが好ましい。即ち、この水素添加物とするためのブロック重合体としては、ビニル結合含量が 25%未満であるブタジエン重合体ブロック (I)と、共役ジェン単位 (al)及び他の単量体単位 (a2)の質量比が（al) / (a2) = (100〜50) / (0 〜50)であり、ビュル結合含量が 25〜95%である重合体ブロック（Π)とを、それぞれ分子中に少なくとも 1つ有するジェン系ブロック重合体 (以下、「重合体 (P)」という。 ) が好ましい。

[0032] 上記ブタジエン重合体ブロック（I)にお、て、ビュル結合（1, 2—結合）の含量は、好ましくは 25%未満、より好ましくは 5〜20%、更に好ましくは 7〜19%である。従つて、上記ブタジエン重合体ブロック (I)は、水素添カ卩によりエチレン'ブテン共重合体に類似した構造を示す結晶性のブロックとなる。ビニル結合含量を上記範囲とすることにより、成形体の力学的性質及び形状保持性を向上させることができる。

[0033] また、上記重合体ブロック (Π)は、共役ジェン単位のみ力なるブロックであってもょ、し、共役ジェン単位 (al)と他の単量体単位 (a2)とからなるブロックであってもよ V、。共役ジェン単位 (al)及び他の単量体単位 (a2)の質量比（al) / (a2)は、好ましくは（100〜50)Z(0〜50)であり、より好ましくは（100〜70)Z(0〜30)、更に好ましくは（100〜90)Z(0〜10)である。このような範囲とすることにより、粘弾性に優れた成形体を得ることができる。

尚、上記重合体ブロック (Π)において、ビニル結合（1, 2—結合及び 3, 4—結合）の含量は、好ましくは 25〜95%であり、より好ましくは 25〜90%、更に好ましくは 30 〜85%である。

[0034] 従って、上記重合体 (P)としては、ブタジエン重合体ブロック (I)を「八¹」、重合体ブロック (II)を「」とした場合、（A¹— B¹) 、（A¹— B¹) -A\ (B¹— A¹) — B¹等で

ml m2 m3

表されるものを用いることができる。各一般式において、 ml〜m3は 1以上の整数を示す。

また、上記重合体 (P)は、トリブロック以上のブロックを有する共重合体であると、水素添加物とした場合に、更に形状保持性及び力学的性質により優れる成形体を得ることができる。従って、上記一般式において、 mlは、 2以上の整数であることが好ましい。

[0035] 尚、上記重合体 (P)は、上記ブタジエン重合体ブロック (I)及び上記重合体ブロック

(II)をそれぞれ分子中に少なくとも 1つ有していればよぐこれら以外に、他のブロック、例えば、共役ジェン単位以外の他の単量体単位力なるブロックを有する重合体であってもよい。

[0036] 上記重合体 (P)を構成する上記ブタジエン重合体ブロック (I)及び上記重合体プロック (Π)の含有割合 (Ι) Ζ (Π)は、好ましくは（5〜60) 7 (95〜40)、ょり好ましくは（7 〜60) 7 (93〜40)、更に好ましくは（8〜50) 7 (92〜50)でぁる。上記各ブロックの含有割合を上記範囲とすることにより、水素添加物とした場合に、形状保持性及び力学的性質に特に優れた成形体を得ることができる。

[0037] 尚、上記重合体（Ρ)においても、（A¹— Β¹) X、（Β¹— Α¹) X、（A¹— Β¹— Α¹) X、 ( Β¹— Α¹— Β¹) X等のように、カップリング剤残基 Xを介して重合体分子鎖が延長又は分岐されたものでもよい。各一般式において、 ηは 2以上の整数を示す。また、上記各一般式において、 ηが 3以上のとき、水素添加物とした場合に、形状保持性、ホットメルト粘'接着性に優れた成形体を得ることができる。

上記カップリング剤としては、 1, 2—ジブロモェタン、メチルジクロロシラン、トリクロ口シラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、ジビニルベンゼン、アジピン酸ジェチル、アジピン酸ジォクチル、ベンゼン 1, 2, 4 トリイソシァナート、トリレンジイソシアナート、エポキシィ匕 1, 2—ポリブタジエン、エポキシィ匕アマ二油、テトラクロロゲノレマニウム、テトラクロロスズ、ブチルトリクロロスズ、ブチルトリクロロシラン、ジメチルクロロシラン、 1, 4 クロロメチルベンゼン、ビス（トリクロロシリル）ェタン等が挙げられる。

[0038] 上記重合体（Ρ)の水素添加は、ブロック中のォレフィン性不飽和結合に対して行い、水添率を、好ましくは 80%以上、より好ましくは 85%以上、特に好ましくは 90%以上と高くすることで、得られる水素添加物により成形体とした場合の形状保持性及び力学的性質を向上させることができる。尚、上記重合体 (Ρ)の水素化は、例えば、特開平 2— 133406号公報、特開平 3— 128957号公報、特開平 5— 170844号公報等に開示される方法等によって行うことができる。

[0039] 次に、エチレン' a—ォレフイン共重合体等について説明する。

上記エチレン' aーォレフイン共重合体としては、エチレンと、以下に例示する a ォレフインとの共重合体であれば特に限定されず、エチレン' aーォレフイン'非共役ジェン共重合体等であってもよい。但し、上記エチレン' a—ォレフイン共重合体及びエチレン. _aーォレフイン'非共役ジェン共重合体における α—ォレフインは、ェチレンを除く a—ォレフインであるものとする。この a—ォレフインとしては、プロピレン、 1—ブテン、 1—ペンテン、 3—メチル 1—ブテン、 1—へキセン、 3—メチル 1— ペンテン、 4ーメチルー 1 ペンテン、 3 ェチルー 1 ペンテン、 1—オタテン、 1 デセン、 1—ゥンデセン等が挙げられる。これらのうち、炭素数が 3〜12である α ォレフインが好ましぐ特に、プロピレン及び 1ーブテンが好ましい。尚、上記例示した α —ォレフインは、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0040] 上記エチレン' aーォレフイン共重合体としては、エチレン 'プロピレン共重合体、ェチレン · 1ーブテン共重合体、エチレン · 1 ペンテン共重合体、エチレン · 3 メチル 1ーブテン共重合体、エチレン · 1一へキセン共重合体、エチレン · 3—メチルー 1 ペンテン共重合体、エチレン ·4ーメチルー 1 ペンテン共重合体、エチレン · 3— ェチル 1 ペンテン共重合体、エチレン · 1 オタテン共重合体、エチレン · 1ーデセン共重合体、エチレン · 1 ゥンデセン共重合体等が挙げられる。これらのうち、ェチレン ·プロピレン共重合体及びエチレン · 1—ブテン共重合体が好ましい。尚、上記例示したエチレン' (Xーォレフイン共重合体は、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0041] また、エチレン' a一才レフイン'非共役ジェン共重合体とする場合の上記非共役ジェンとしては、 1 , 4 ペンタジェン、 1, 4一へキサジェン、 1, 5 へキサジェン、 1 , 7 ーォクタジェン、 1, 9ーデカジエン、 3, 6 ジメチルー 1, 7—ォクタジェン、4, 5— ジメチルー 1, 7—ォクタジェン、 5—メチルー 1, 8 ノナジェン、ジシクロペンタジェン、 5 ェチリデン— 2 ノルボルネン、 5 ビュル— 2 ノルボルネン、 2, 5 ノルボルナジェン等が挙げられる。これらは、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用!/、ることができる。

上記エチレン' aーォレフイン'非共役ジェン共重合体としては、エチレン 'プロピレン .ジシクロペンタジェン共重合体、エチレン ·プロピレン' 5 -ェチリデン 2 ノルボルネン共重合体、エチレン · 1ーブテン'ジシクロペンタジェン共重合体、エチレン · 1 ーブテン · 5 ェチリデンー2 ノルボルネン共重合体等が挙げられる。これらは、 1 種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0042] 上記例示したエチレン' aーォレフイン共重合体及びエチレン' aーォレフイン'非共役ジェン共重合体は、それぞれ 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることがでさる。

[0043] 尚、上記エチレン' aーォレフイン共重合体及び上記エチレン' aーォレフイン'非共役ジェン共重合体は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、ァルコキシシリル基、スルホン酸基、二トリル基等の極性基を有する極性基変性ォレフィン系共重合体であってもよい。即ち、この極性基変性ォレフィン系共重合体は、重合体中に、他の単量体 (a)からなる単量体単位を含有する重合体である。他の単量体（ a)としては、上記官能基を有する不飽和化合物が好ましい。このような不飽和化合物は、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記不飽和化合物の使用量は、極性基変性ォレフィン系共重合体中の単量体単位を 100モル％とした場合に、好ましくは 0. 01〜20モル⁰ /₀、より好ましくは 0. 1〜10モル％である。この不飽和化合物の使用割合を 0. 01モル％以上とすると、得られる成形体の架橋密度を高くすることができ、その結果、成形体の機械的強度及び耐熱性を向上させることができるので好ましい。一方、上記官能基を有する不飽和化合物の使用割合を 20モル％以下とすると、架橋密度が高くなり過ぎることにより、硬度が高すぎて脆 V、成形体となることを抑制することができるので好ま、。

[0044] カルボキシル基を有する不飽和化合物としては、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸、下記一般式（1)で表される環式ィ匕合物等を用いることができる。

[化 1]

(上記一般式（1)において、 R¹は、水素原子又は炭素数 1〜10の炭化水素基であり、 Υ²及び Υ³は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数 1〜10の炭化水素基又は COOHであり、

Υ²及び Υ³のうち少なくとも 1つは COOHであり、また、 Υ¹ 、 Υ²及び Υ³のうち 2つ以上が COOHである場合は、それらは互いに連結して形成された酸無水物（一 CO— (O) CO )であってもよい。 oは 0〜2の整数であり、 pは 0〜 5の整数である。 )

[0045] 上記環式化合物としては、 5, 6 ジメチルー 5, 6 ジカルボキシービシクロ [2. 2.

1]— 2 ヘプテン、 5, 6 ジェチルー 5, 6 ジカルボキシ一ビシクロ [2. 2. 1]— 2 ヘプテン、 5, 6 ジメチノレー 5, 6 ビス（カノレボキシ）ービシクロ [2. 2. 1] - 2- ヘプテン、 5, 6 ジェチノレー 5, 6 ビス（カノレボキシ）ービシクロ [2. 2. 1] 2 へプテン、 5—メチル 5—カルボキシ一ビシクロ [2. 2. 1]— 2 ヘプテン、 5 ェチル —5—カルボキシ一ビシクロ [2. 2. 1]— 2 ヘプテン、 5—カルボキシ一 5—カルボキシメチル一ビシクロ [2. 2. 1]— 2 ヘプテン、 5—メチル 5—カルボキシ一ビシク口 [2. 2. 1]— 2 ヘプテン、 5 ェチル—5—カルボキシ—ビシクロ [2. 2. 1]— 2— ヘプテン、 8, 9 ジメチルー 8, 9 ジカルボキシーテトラシクロ [4. 4. 0. I²' ⁵. I⁷' ¹⁰ ]—3 ドデセン、 8, 9 ジェチルー 8, 9 ジカルボキシ一テトラシクロ [4. 4. 0. I²' 5. I⁷' ¹⁰]— 3 ドデセン、 8—メチル 8—カルボキシ一テトラシクロ [4. 4. 0. I²' ⁵. 1 7' ¹⁰]— 3 ドデセン、 8 ェチル 8—カルボキシ一テトラシクロ [4. 4. 0. I²' ⁵. I⁷' ¹ ]一 3 ドデセン等が挙げられる。これらは、 1種単独であるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0046] 上記一般式（1)で表される化合物を用いる場合のその使用量は、全単量体に対して、好ましく ίま 0. 01〜5モノレ⁰ /₀、より好ましく ίま 0. 01〜4モノレ⁰ /₀である。

上記一般式（1)で表される化合物を共重合させたエチレン' a一才レフイン共重合体又はエチレン. _α—ォレフイン'非共役ジェン共重合体は、ランダム共重合体であることが好ましい。また、共重合により得られたランダム共重合体の、 GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量 Mwは、好ましくは 1, 000〜3, 000, 000、より好まし <は 3, 000〜1, 000, 000、更に好まし <は 5, 000〜700, 000である。

[0047] また、上記一般式（1)で表される環式化合物を用いて得られた共重合体に化学的架橋構造又はそれと類似した拘束点を有する構造を形成させる場合には、金属ィォン、金属化合物等を用いることができる。この金属イオンは、以下に例示する元素のイオン及びこの元素を含む金属化合物のイオンも意味する。この金属としては、リチゥム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、ノリウム、セシウム、ストロンチウム、ルビジウム、チタン、亜鉛、銅、鉄、錫、鉛、ジルコニウム等周期表第 1A〜5B族の元素等が挙げられる。これらの元素を含むイオンは、上記で得られたランダム共重合体中の官能基に対するイオン結合あるヽは静電的な結合により共重合体どうしの間に架橋構造を形成することもできる。尚、上記金属化合物のイオンとするための物質としては、各金属の酸化物、水酸化物、塩、錯体、金属元素を含む有機化合物等が挙げられる。

具体的には、例えば、 CuO、 MgO、 BaO、 ZnO、 Al O、 Fe O、 SnO、 CaO、 Ti

2 3 2 3

O等の金属酸化物、 LiOHゝ NaOHゝ KOH、 Cu (OH) 、 Cu O (OH) 、 Mg (OH)

2 2 2 2

、Mg O (OH) 、Ba (OH) 、Zn (OH) 、 Sn (OH) 、 Ca (OH)等の金属水酸化物

2 2 2 2 2 2 2

等が挙げられる。

[0048] また、金属元素を含む有機化合物は、有機基を有する金属化合物であればよぐ金属炭素結合を有する化合物の他、金属一有機基中のへテロ原子 (酸素等)結合を有する化合物、有機化合物の金属塩、錯体等も含む。上記金属元素を有する有機化合物として具体的には、例えば、金属アルコキシド、アルキルアルコキシ金属化合物 [アルキル（ェチル等）トリアルコキシ金属化合物、ジアルキル（ェチル等）ジアルコキシ金属化合物、トリアルキル (ェチル等）アルコキシ金属化合物]、金属カルボキシレート、金属ァセチルァセトナート等が挙げられる。上記金属アルコキシドを構成するアルコキシドの炭素数は、通常 1〜8、好ましくは 1〜6、更に好ましくは 1〜4であり、より具体的には、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等が挙げられる。更に、上記金属元素を有する有機化合物としてより具体的には、例えば、ジルコ -ゥムブトキシド〔Zr (OBu) 〕、チタンブトキシド〔Ti (OBu) 〕、アルミニウムブトキシ

4 4

ド〔A1 (OBu)〕、及び亜鉛ブトキシド〔Zn (OBu)〕等が挙げられる。

4 4

[0049] 上記イオンとするための物質の使用量は、上記一般式（1)で表される環式化合物を用いて得られた共重合体を構成する環式ィ匕合物より形成された単位の 1当量に対し、好ましくは 0. 01〜50当量、より好ましくは 0. 05〜10当量、特に好ましくは 0. 1 〜5当量である。上記イオンとするための物質の使用量が少なすぎると、得られる成形体は、架橋密度が低ぐ機械的強度及び耐熱性に劣る傾向がある。一方、使用量が多すぎると、得られる成形体は、架橋密度が高くなり、硬度が高すぎて脆いものとなることがある。 [0050] 更に、上記一般式（1)で表される環式ィ匕合物を用いて得られた共重合体に対する、上記イオンとするための物質の混和性及び得られる成形体の耐熱性を向上させるために、上記イオンとするための物質以外に、活性剤としてカルボン酸等の有機酸の金属塩を添カ卩してもよい。このカルボン酸の金属塩としては、炭素数 3〜23の 1価のカルボン酸の金属塩を用いることが好まし！/、。

また、活性剤として用いられる金属塩における金属元素としては、上記イオンとするための物質を構成する金属元素から選択すればよいが、上記イオンとするための物質を構成する金属元素と同種の元素を含む金属塩を用いることが好ましい。

[0051] 更に、ブチルゴムについて説明する。

ブチルゴムとしては、イソブチレンとイソプレンとの共重合体、イソブチレンとイソプレンと極性基含有単量体との共重合体、更にはこれらの部分架橋共重合体等を挙げることができる。

[0052] 極性基含有単量体 (極性基を有する共重合性単量体)としては、ヒドロキシル基、ェポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシシリル基及び-トリル基等のうちの少なくとも 1種を有する単量体を挙げることができる。

また、部分架橋共重合体は、これらの単量体に多官能性不飽和結合含有単量体を共重合して得られるが、この多官能性不飽和結合含有単量体としては、多価ァリル化合物、多価 (メタ）アタリレートイ匕合物、ジビニル化合物、ビスマレイミドィ匕合物、ジォキシム化合物などが挙げられる。

[0053] 即ち、具体的なブチルゴムとしては、イソブチレン'イソプレン共重合体を挙げることができる。また、この共重合体がハロゲンィ匕された塩素ィ匕イソブチレン'イソプレン共重合体、及び臭素ィ匕イソブチレン'イソプレン共重合体等であってもよ、。

[0054] また、アクリル系ゴムについて説明する。

アクリル系ゴムとしては、少なくともアクリル酸アルキルエステルを用いて重合又は共重合されたゴムである。共重合ゴムである場合は、アクリル酸アルキルエステル以外に、アルキルビニルエーテル、極性基を有する共重合性単量体及びその他の単量体を用いることができる力通常、アルキルビュルエーテルが用いられる。これらのうち 1種を用いてもよいし、 2種以上を併用してもよい。更にはこれらの部分架橋共重合ゴムであってもよい。

[0055] 上記アクリル酸アルキルエステルとしては、アクリル酸ェチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル等を挙げることができる。

また、アルキルビュルエーテルとしては、クロロメチルビ-ルエーテル及びクロロェチルビ-ルエーテル等を挙げることができる。

[0056] 更に、その他の単量体として、アクリル系ゴムの耐寒性を向上させることができるァクリル酸メトキシメチル、アクリル酸エトキシメチル、アクリル酸メトキシェチル及びアタリル酸エトキシェチル等のアクリル酸アルコキシアルキルや、エチレン等を用いることもできる。また、各単量体と共重合することで部分架橋共重合ゴムを得ることができる多官能性不飽和結合含有単量体を挙げることができる。この多官能性不飽和結合含有単量体は、前記ブチルゴムの説明における上記多官能性不飽和結合含有単量体を適用できる。

[0057] 上記エラストマ一のなかでも、共役ジェンのブロック（共)重合体、芳香族ビニルイ匕合物と共役ジェンとのブロック共重合体、これらの水素添加物、エチレン' aーォレフイン系共重合体、極性基変性ォレフィン系共重合体、極性基変性ォレフィン系共重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一、ブチルゴム及びァクリル系ゴム力なる群力選ばれる少なくとも 1種及び Z又はこれらの組成物（エラストマー組成物）が好ましい。特に、共役ジェンのブロック（共)重合体の水素添加物、極性基変性ォレフィン系共重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるェラストマーが好ましい。

[0058] また、本発明では、上記エラストマ一に液状材料を含有させてもよい。この場合、より柔軟性を有する衝撃吸収体とすることができる。

上記液状材料は、 25°Cにおいて液体又はペースト状であれば、その種類に特に限定はない。上記液状材料は、より詳細には、通常— 100〜50°C、好ましくは— 80〜 50°C、更に好ましくは— 50〜50°Cで不揮発性 (液状）の液状材料であり、その種類について特に限定はない。また、上記液状材料の 40°Cにおける動粘度は、通常 80 0mm²Zs ( = 800cSt)以下、好ましくは 700mm²Zs以下、更に好ましくは 600mm² Zs以下、より好ましくは 0. l〜500mm²Zsである。上記液状材料の 40°Cにおける動粘度を上記範囲とすると、広、温度領域で形状を保持することができるので好ましい。より具体的には、例えば、上記液状材料として、 40°Cにおける動粘度が 800mm 2Zs以下であり、— 100〜50°Cで不揮発性の液状材料が好ましい。更に、低温環境における使用の観点から、上記液状材料は、流動点が— 10°C以下、特には— 20°C 以下、更には— 40°C以下、水分が 500ppm以下、特には 200ppm以下、更には 10 Oppm以下であり、重金属等の不純物が少ないものが好ましい。尚、動粘度の単位として、 lcm²/s= lStである。

[0059] 上記液状材料として具体的には、例えば、プラスチック 'ゴム用の各種滑剤、可塑剤、軟化剤及び液状オリゴマー等の 1種又は 2種以上が挙げられる。上記滑剤としては、ノラフィン系滑剤、炭化水素系滑剤、金属セッケン等が挙げられる。また、上記可塑剤としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、セバシン酸誘導体、フマル酸誘導体、クェン酸誘導体等の各種脂肪酸誘導体等の 1種又は 2種以上が挙げられる。更に、上記軟化剤としては、パラフィン系プロセスオイル等の石油系軟化剤、エチレン' aーォレフイン系コオリゴマー及びギルソナイト等の鉱物油系軟化剤、ォレイン酸やリシノール酸等の脂肪酸等の 1 種又は 2種以上が挙げられる。また、上記液状オリゴマーとしては、ポリイソプチレンや各種液状ゴム（ポリブタジエンやスチレン 'ブタジエンゴム等）、シリコーンオイル等の 1種又は 2種以上が挙げられる。特に、携帯電話等、屋外で使用される液晶ディスプレイパネル等に使用される場合は、上記液状材料として、パラフィン系プロセスオイル、ノラフィン系合成油、水添パラフィン系オイル等のように、二重結合がないオイル又は二重結合を有する成分が少ない（具体的には 20質量％以下、更には 10質量％以下)オイルの 1種又は 2種以上を用いると、耐候性に優れた成形体とすることができるので好ましい。尚、上記液状材料は、 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。

[0060] 上記液状材料を用いる場合のその使用量は、上記エラストマ一に含有される重合体の全量を 100質量部とした場合、好ましくは 50〜5000質量部、より好ましくは 50 〜4000質量咅^更【こ好ましく ίま 50〜3000質量咅^特【こ好ましく ίま 50〜2000質量部、最も好ましくは 60〜1800質量部である。上記液状材料の配合量が 50質量部未満であると、所望の耐衝撃性を有する成形体が得られない場合がある。一方、上記液状材料の配合量が 5000質量部を超えると、成形体力も液状材料がにじみ出ることがあり、形状を維持することが困難になる場合がある。

[0061] 上記液状材料を含有する上記エラストマ一を得る方法は特に限定はない。通常は、上記エラストマ一成分と上記液状材料とを、必要の応じて他の成分を添加し、適宜の方法により混合すればよい。また、上記エラストマ一が三次元骨格を形成することができる条件で混合してもよい。更に、各成分の混合には、液状の材料を高速攪拌できる機器を用いるのが好ましい。より具体的には、例えば、上記エラストマ一と上記液状材料とを、必要の応じて他の成分を添加し、ホモミキサー等を用いて、温度 80 〜200°C、好ましくは 90〜190°Cの条件で、回転数 lOrpm以上、好ましくは 30rpm 以上の剪断下で攪拌することによって調製することができる。

[0062] 前述のように、架橋度を変化させること、構成成分及びその割合を変化させること等により、 M300及び E，の異なる層を形成することが好ましい。

架橋剤を用いて架橋させる場合、架橋剤の種類及び使用量を変化させることにより架橋度の異なる層を形成することができる。

また、架橋の有無によらず、液状材料の使用量を変化させることにより、 M300及び E'の異なる層を形成することもできる。

[0063] 極性基変性ォレフィン系共重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるェラストマーを用いる場合、液状材料の使用量により調整することもできるが、該重合体に対する、金属イオン及び Z又は金属化合物の使用量を変化させることで、 M300 及び E'の異なる層を形成することができる。

従って、上記極性基変性ォレフィン系共重合体が有する、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基、二トリル基等の極性基含有不飽和化合物 (上記一般式 (1)で表される環式化合物等)より形成された単位 1当量に対し、上記金属イオン及び Z又は金属化合物を好ましくは 0. 01〜50 当量、より好ましくは 0. 05〜10当量、更に好ましくは 0. 1〜5当量用いてなる層 L1 を備えた衝撃吸収層とし、更に、該層 L1に隣接する層 L2は、金属イオン及び Z又は金属化合物の使用量を、上記層 L1の場合の使用量の、好ましくは 10〜90%、より好ましくは 15〜85%、更に好ましくは 20〜80%として形成されたものとする。以下、更に隣接する場合も同様の割合とするものである。

[0064] また、共役ジェンのブロック（共)重合体の水素添加物を含むエラストマ一を用いる場合、該重合体に対する液状材料の含有割合を変化させることで、 M300及び E'の異なる層を形成することができる。

従って、上記水素添加物 100質量部に対し、上記液状材料を好ましくは 50〜500 0質量部を用いてなる層 L1 'を備えた衝撃吸収層とし、更に該層 L1 'に隣接する L2' は、液状材料の使用量が、上記層 L1 'の場合の使用量の、好ましくは 10〜90%、より好ましくは 15〜85%、更に好ましくは 20〜80%として形成されたものとする。以下、更に隣接する場合も同様の割合とするものである。

[0065] 上記衝撃吸収層の成形方法には特に限定はな、が、好ましくは、コーティング法、キャスト法 (無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法)、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。例えば、上記エラストマ一を構成する成分を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は上記エラストマ一を構成する成分の溶融液を調製し、次いで、該液状物又は溶融液を塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより成形することができる。

[0066] 上記衝撃吸収層がエラストマ一で構成されてヽる場合、上記衝撃吸収層は、架橋されてヽな、エラストマ一により構成されて、てもよ、し、少なくとも一部が架橋されたエラストマ一により構成されていてもよい。例えば、上記エラストマ一が上記極性基変性ォレフイン系共重合体を含むエラストマ一の場合、上記極性基を介した上記金属イオン及び Z又は金属化合物による架橋の他、上記極性基変性ォレフィン系共重合体の少なくとも一部に、その他の架橋を形成していてもよい。かかる架橋構造を有することにより、本発明の衝撃吸収体の耐熱性を向上させることができる。

[0067] 上記架橋する方法については特に限定はなぐ例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤 (例えば、有機過酸ィ匕物等)を用いる方法力選ばれる手段が挙げられる。

上記架橋を電子線照射により行う場合は、得られた衝撃吸収層について、電子線照射装置により電子線照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた衝撃吸収層について、紫外線照射装置により紫外線照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、架橋剤を用いる方法の場合は、得られた衝撃吸収層について、通常、窒素雰囲気等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより、必要に応じて配合された有機過酸化物等の架橋剤、更には架橋助剤の効果によって架橋を形成することができる。

[0068] 更に、榭脂について説明する。

上記榭脂として具体的には、例えば、 1, 2—ポリブタジエン榭脂、エチレン '酢酸ビ -ル共重合体 (EVA、通常、 3質量％以上の酢酸ビュル単位を含有する。）及びポリエチレン等のポリオレフイン榭脂、ポリ塩化ビュル榭脂、ポリスチレン榭脂、ポリアタリル榭脂 { (メタ)アタリレート榭脂等 }、ビニルエステル榭脂 (EVAを除く。）、飽和ポリェステル樹脂、ポリアミド榭脂、フッ素榭脂（ポリフッ化ビ-リデン等）、ポリカーボネート榭脂、ポリアセタール榭脂、ウレタン榭脂、エポキシ榭脂、（メタ)アクリル榭脂、不飽和ポリエステル榭脂及びケィ素榭脂等が挙げられる。これらの榭脂のうち、ポリエチレン榭脂、ポリ塩ィ匕ビュル榭脂等の軟質樹脂が好ま U、。

[0069] 上記衝撃吸収層を得る方法には特に限定はない。通常は、特定の M300や E'を有する衝撃吸収材の衝撃面側表面に、この衝撃吸収材よりも M300や E'が大きい衝撃吸収材を積層し、以下、必要に応じて同様の積層を繰り返す。勿論、これとは逆に、特定の M300や E'を有する衝撃吸収材の対衝撃面側表面に、この衝撃吸収材よりも M300や E'が小さい衝撃吸収材を積層し、以下、必要に応じて同様の積層を繰り返してもよい。ここで、上記「積層」とは、完全な固形状の層をある層の表面に積層する場合だけでなぐ溶媒に溶解した溶液及び加熱等により溶融した溶融液等の液状物や、加熱等によりゲル状又は半固形状となった半固形物を塗布等の手段により載置し、その後、冷却等により完全な固形状にする場合も含む。

[0070] 上記積層の方法としては、例えば、図 2 (A)に示す 2層構造の場合、高弾性率層 1 2を低弾性率層 11の衝撃面側表面に積層し、両者を接着剤又は粘着剤を用いて接合する方法が挙げられる。その他、上記高弾性率層 12を積層する方法として、コーティング法、キャスト法、プレス法、押出法、射出成形法又はインフレーション法等の方法等が挙げられる。更に、上記高弾性率層 12を構成する成分の溶融物及び上記低弾性率層 11を構成する成分の溶融物を用い、共押出法等の方法によって、上記高弾性率層 12及び上記低弾性率層 11を成形すると共に、両者を貼り合わせて積層する方法等が挙げられる。

尚、本記載は 2層構造の例であるが、本記載は図 2 (B)に示す 3層構造及び 4層以上の多層構造にも妥当する。また、本記載は高弾性率層 12を低弾性率層 11の衝撃面側表面に積層する例であるが、これと逆に、低弾性率層 11を高弾性率層 12の対衝撃面側表面に積層する場合にも妥当する。

[0071] 上記プレス法では、プレスロール等を用いてホットプレス及びコールドプレス（単に押しつけて接合する場合も含む。）等により加圧しながら直接接合する。勿論、この場合、接着剤又は粘着剤を用いて接合してもよぐこれらを用いずに、加圧のみで直接接合してもよい。より具体的には、例えば、上記低弾性率層を搬送しながら、加熱により半硬化状態である上記高弾性率層 12を押出し、又はドクターブレードで上記低弾性率層 11の表面に供給し、次いでローラー等で圧着し、その後冷却等することにより、積層することができる。上記低弾性率層が柔軟であると共に粘着性を有している場合、加熱せずに圧着してもよいが、加熱しながら圧着するのが好ましい。

[0072] 上記コーティング法及びキャスト法として具体的には、例えば、（1)上記高弾性率層 12を構成する成分を溶媒に溶解又は分散させることにより混合液を調製し、該混合液を任意の方法によって成形した上記低弾性率層 11の衝撃面側表面に塗布することにより、上記低弾性率層 11の少なくとも一方の表面に上記高弾性率層 12を形成したり、あるいは（2)加熱や溶媒等に溶解又は分散させる等により液状又は半固形状となった上記高弾性率層 12を、上記低弾性率層 11の衝撃面側表面に塗布することにより、上記低弾性率層 11の衝撃面側表面に、上記高弾性率層 12を形成する。上記塗布の方法については特に限定はない。上記塗布の方法としては、例えば、口一ルコーターにより塗布する他、溶媒キャスト法、スピンコート法等によって塗布することができる。

そして、上記塗布後、必要に応じて溶媒を除去したり、あるいは乾燥等を行うことにより、上記高弾性率層 12を積層することができる。上記溶媒の除去方法には特に限定はなぐ例えば、加熱、減圧、水蒸気蒸留等の周知の方法により除去することができる。

[0073] 上記押出法は、従来公知の押出法であればよぐその方法、条件について特に限定はない。具体的には、例えば、 Tダイ押出法により成形することができる。即ち、シリンダー内に上記高弾性率層 12を構成する成分を添加溶融し、溶融物を Tダイへ移送して、上記低弾性率層 11の衝撃面側表面に押出す押出法により成形することができる。また、上記 Tダイ押出法において、上記高弾性率層 12を構成する成分の含有液は、溶媒を含んでいてもよぐ含んでいなくてもよい。溶媒を含む場合は、上記シリンダ一内で加熱し、ベント口力も溶媒を留去することが好ま、。

[0074] 本発明の衝撃吸収体の形状及び厚さその他の物性については特に限定はない。

本発明の衝撃吸収体の形状としては、例えば、シート状及びフィルム状等が挙げられる。また、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層の各層の厚さの合計として通常 0. l〜2mm、好ましくは 0. 2〜0. 8mm、更に好ましくは 0. 3〜0. 5mmである。更に、本発明の衝撃吸収体は、不透明でもよいが、ディスプレイパネル等の表示面に用いる場合、ディスプレイパネルの表示内容の視認性の観点から、透明であることが好ましい。具体的には、 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 90%以上、好ましくは 91%以上、更に好ましくは 92%以上である。

[0075] 本発明の衝撃吸収体、特に上記衝撃吸収層は、本発明の作用効果を阻害しない限り、必要に応じて他の成分を含んでもよい。上記他の成分として、顔料、染料、滑剤、軟化剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤等の安定剤、耐候剤、金属不活性剤、紫外線吸収剤、光安定剤、銅害防止剤等の安定剤、防菌'防かび剤、分散剤、可塑剤、結晶核剤、難燃剤、粘着付与剤、発泡助剤、架橋剤、共架橋剤、加硫剤、加硫助剤、発泡剤、酸化チタン、カーボンブラック等の着色剤、フェライト等の金属粉末、ガラス繊維、金属繊維等の無機繊維、炭素繊維、ァラミド繊維等の有機繊維、複合繊維、チタン酸カリウムウイスカ一等の無機ウイスカー、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラスフレーク、アスベスト、マイ力、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、ケィ酸カルシウム、ハイド口タルサイト、カオリン、けい藻土、グラフアイト、軽石、ェボ粉、コットンフロック、コルク粉、硫酸バリウム、フッ素榭脂、ポリマービーズ等の充填剤又はこれらの混合物、ポリオレフインワックス、セルロースパウダー、ゴム粉、木粉等の充填剤、低分子量ポリマー、シランカップリング剤、並びにチタンカップリング剤等の 1 種又は 2種以上を用いることができる。

[0076] 本発明の衝撃吸収体は、上記衝撃吸収層を有していればよぐその他の構成には特に限定はない。例えば、本発明の衝撃吸収体は、上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に、剥離可能な保護フィルム層を設けることができる。力かる保護フィルム層を有することにより、使用前に本発明の衝撃吸収体の破損を防ぐことができ、使用時には上記保護フィルム層を剥がし、他の被着物表面に貼着することにより、容易に本発明の衝撃吸収体を備える構造体を得ることができる。

[0077] 上記保護フィルム層の材質 ·形状 '構造について特に限定はない。例えば、上記保護フィルム層の材質としては、ポリエチレンテレフタレート（PET)及びポリブチレンテレフタレート（PBT)等のポリエステル、ポリビュルアルコール、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフイン、ポリカーボネート、アクリル系榭脂、並びにフッ素榭脂等の榭脂、又は榭脂を紙に含浸させることにより得られる榭脂含浸紙等が挙げられる。尚、上記保護フィルム層は透明でもよぐ透明でなくてもよい。また、上記保護フィルム層の形状は、シート状でもよぐフィルム状でもよい。更に、上記保護フィルム層は単層構造でもよく、同一の材質又は異なる材質の 2層以上の積層体でもよい。例えば、積層体としては、上記特許文献 5に記載されて、るような基材フィルムの少なくとも片面にゴムフィルムを積層した積層体等が挙げられる。また、本発明の透明シートにおいて、上記保護フィルム層が 2以上ある場合、各保護フィルム層は同じ材質 ·形状 ·構造の保護フィルム層でもよぐ材質、形状又は構造が異なる保護フィルム層を併用してもよい。

[0078] 上記保護フィルム層は、上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に設けられていればよい。即ち、上記衝撃吸収層の一方の表面にのみ設けてもよぐあるいは、上記衝撃吸収層の両方の表面に設けてもよい。また、上記保護フィルム層の厚さについては特に限定はない。上記保護フィルム層の厚さは通常は 200 m以下、好ましくは 150 /z m以下、更に好ましくは 100 m以下、特に好ましくは 20〜： LOO /z mである。

[0079] 上記保護フィルム層を有する本発明の衝撃吸収体の製造方法にも特に限定はない。上記衝撃吸収層の表面に上記保護フィルム層を設ける方法としては、例えば、接着剤（又は粘着剤）を用いて接合したり、ホットプレス及びコールドプレス（単に押しつけて接合する場合も含む。）等を用いて直接接合すること等が挙げられる。その他、キャスティング法 (無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法)、押し出し法、プレス成形法、射出成形法、注型法等が挙げられる。

[0080] 上記保護フィルム層を有する本発明の衝撃吸収体は、例えば、上記衝撃吸収層の一方の表面又は両表面に、上記保護フィルム層を積層し、次いで、必要に応じて圧着することにより得ることができる。上記圧着の条件は特に限定はない。例えば、上記衝撃吸収層は通常、それ自体柔軟であると共に粘着性を有していることから、加熱せずに圧着してもよいが、加熱しながら圧着するのが好ましい。上記保護フィルム層を有する本発明の衝撃吸収体は、より具体的には、例えば、上記衝撃吸収層を搬送しながら、上記衝撃吸収層の表面に上記保護フィルム層を積層し、次いで積層物を口一ラー等で圧着すること〖こより得ることがでさる。

[0081] 尚、上記保護フィルム層を「積層」するとは、完全な固形状の保護フィルムを積層する場合だけでなぐ加熱等により液状又は半固形状となった保護フィルムを、上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に塗布等の手段により載置し、その後、冷却等により完全な固形状にする場合も含む。例えば、上記衝撃吸収層を搬送しながら、加熱により半硬化状態である上記保護フィルム層を押出し又はドクターブレードで上記透明軟質組成物層の表面に供給し、次いでローラー等で上記衝撃吸収層と上記保護フィルム層とを圧着し、その後冷却等することにより得ることができる。

[0082] 更に、上記保護フィルム層を有する本発明の衝撃吸収体は、例えば、上記保護フィルム層を構成する成分を溶媒に溶解、又は溶融することにより得られる含有液又は上記保護フィルム層を加熱等することにより得られる半固形状物を、上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に塗布することにより得ることができる。この場合、塗布の方法には限定はなぐ通常はロールコーターにより行われる。

[0083] また、上記保護フィルム層と上記衝撃吸収層との間には、上記保護フィルム層の剥離を容易にするために、剥離層を設けることができる。力かる剥離層を設ける方法は特に限定はない。例えば、上記剥離層は、上記保護フィルム層表面及び上記衝撃吸収層のうちの少なくともいずれかの表出面に剥離コート剤を塗布することにより設けることができる。該剥離コート剤の種類については特に限定はない。上記剥離コート剤として具体的には、例えば、シリコン系コート剤、無機系コート剤、フッ素コート剤、有機無機ノ、イブリツド系コート剤等が挙げられる。上記剥離層を備える透明シートは、通常は上記保護フィルム層表面に上記剥離層を設けた後、上記衝撃吸収層の表面〖こ積層すること〖こより得ることができる。この場合、上記剥離層は上記保護フィルム層表面ではなぐ上記衝撃吸収層の表面に設けてもよい。

[0084] 2.衝撃吸収積層構造体

本発明の衝撃吸収積層構造体は、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有することを特徴とする。

[0085] 上記基層は、ディスプレイパネルの表示内容の視認性を大きく阻害することがなければ、その材質 ·形状'構造について特に限定はない。また、上記基層は単層構造でもよく、同一又は異なる材質、物性を有する 2層以上の層からなる多層構造でもよい。更に、上記基層を構成する部材は、シート状でもよぐフィルム状でもよい。更に、上記基層の厚さについても特に限定はなぐ対象となる製品等に合わせて任意に選択することができる。

[0086] 上記基層を構成する部材としては、例えば、任意の材質のガラス板及びプラスチック板、並びに機能性部材 (紫外線カット板、偏光板〔偏光板を構成する各種フィルム等も含む〕、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレクションフイルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜及び位相差フィルム等)等が挙げられる。これらのうち、ガラス板が好ましい。該ガラス板を構成するガラスとしては、例えば、ホゥケィ酸ガラス、アルミノケィ酸ガラス、及びアルミノホウケィ酸ガラス、並びにこれらのガラスのアルカリ金属含有量を減少させた低アルカリガラス及び無アルカリガラス等が挙げられる。その他、シリカガラスやソーダ石灰ガラス等を用いることもできる。これらのうち、ホウケィ酸ガラス、アルミノケィ酸ガラス、及びアルミノホウケィ酸ガラス、並びにこれらの低アルカリガラスが好ましぐ更にはこれらの無アルカリガラスが好ましい

[0087] 上記衝撃層は、ディスプレイパネルの表示内容の視認性を大きく阻害することがなければ、その材質 ·形状 '構造については特に限定はない。例えば、上記衝撃層は単層構造でもよぐ同一又は異なる材質、物性を有する 2層以上の層からなる多層構造でもよい。また、上記衝撃層を構成する部材は、シート状でもよぐフィルム状でもよい。更に、上記衝撃層の厚さは、通常は特に限定されないが、通常は 3. Omm以下、好ましくは、 2. Omm以下、更に好ましくは 1. Omm以下、より好ましくは 0. 7mm以下とすることができる。

[0088] また、上記衝撃層を構成する部材の材質には特に限定はな、。本発明の衝撃吸収積層構造体は、電子'電気機器等のディスプレイパネル (例えば、 LCDパネル、ブラズマディスプレイパネル（PDP)、有機 ELディスプレイパネル等）に好適に使用できる力特に携帯電話等用ディスプレイパネル等では、尻ポケットに該装置を入れて座る等により、ディスプレイパネルへ負荷が力かるおそれもある。よって、上記衝撃層を構成する部材は、力かる負荷に耐え得る可とう性を有する部材であることが好まし、。

[0089] 上記衝撃層を構成する部材としては、例えば、各種榭脂 (特には透明榭脂）、ガラス板、及び機能性部材等が挙げられる。上記ガラス板及び上記機能性部材としては、上記基層の項で列挙した各種ガラス板及び機能性部材が使用できる。また、上記透明榭脂として具体的には、例えば、ポリカーボネート系榭脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系榭脂、 1, 2—ポリブタジエン榭脂、ポリ塩ィ匕ビュル榭脂、環状ォレフイン共重合体、変性ノルボルネン系榭脂、ノルボルネン系榭脂、脂環式アクリル榭脂、ポリシクロへキシルエチレン等の非晶性ポリオレフイン、非晶性フッ素榭脂、ポリスチレン系榭脂、透明 ABS榭脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、非晶性コポリエステル、ポリアリレート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、セルロースアセテート、ァリルジグリコールカーボネート榭脂、エチレン.酢酸ビュル共重合体 (EVA、通常、 3質量％以上の酢酸ビュル単位を含有する。 )、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフイン系榭脂、ビ- ルエステル系榭脂 (EVAを除く。）、非晶性ポリアミド系榭脂、ウレタン系榭脂、ェポキシ系榭脂、不飽和ポリエステル系榭脂並びにケィ素系榭脂等が挙げられる。これらのうち、ポリカーボネート系榭脂、アクリル系榭脂等の樹脂が好ましい。

[0090] 本発明の衝撃吸収積層構造体は、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有していればよぐ必要に応じて種々の構造体とすることができる。例えば、本発明の衝撃吸収積層構造体において、上記衝撃吸収層の数は特に限定はなぐ 1層であってもよいし、 2層以上の複数であってもよい（図 6 及び図 7参照)。本発明の衝撃吸収積層構造体中に上記衝撃吸収層を複数設けることにより、基層だけでなぐその他の層も衝撃等から防御することができる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体が粘着性を有する場合、耐衝撃性のみならず、各層同士を接着させる粘着層としても用いることができるので、各層の間に上記衝撃吸収層を 1層又は 2層以上設けることができる。

[0091] また、本発明の衝撃吸収積層構造体は、上記基層、上記衝撃吸収層及び上記衝撃層以外の他の層を有していてもよい。上記他の層としては、上述の各種榭脂（特には透明榭脂)で構成される榭脂層及び各種機能性材料で構成される機能層が挙げられる。該機能層としては、例えば、紫外線カット板、偏光板 (偏光板を構成する各種フィルム等も含む）、アレイ基板、カラーフィルタ、視野角拡大フィルム、アンチリフレタシヨンフィルム、アンチグレアフィルム、透明導電膜及び位相差フィルム等の 1種又は 2種以上が挙げられる。上記偏光板を構成する各種フィルム等としては、偏光フィルム、基板フィルム、保護フィルム及び粘着剤層等が挙げられる。尚、上記機能層の層数については特に限定はなぐ 1層でもよいし、 2層以上の複数でもよい。また、上記機能層を 2層以上設ける場合、各機能層は連続して配置されていてもよぐあるいは上記基層、上記衝撃吸収層又は上記衝撃層により分断して配置されて、てもよ、。

[0092] 上記機能層の配置パターンについても特に限定はない。上記機能層は上記衝撃層の衝撃面側表面に設けてられていてもよぐあるいは、上記基層の対衝撃面側表面に設けられていてもよい。また、上記機能層は、上記基層と上記衝撃層の間に設けられていてもよい。例えば、上記基層の上記衝撃面側表面に設けたり、あるいは、上記衝撃層の対衝撃面側表面に設けてもよい。尚、上記機能層は、上記基層及び上記衝撃層と接していてもよぐあるいは、間に上記衝撃吸収層が介在していてもよい。

[0093] 本発明の衝撃吸収積層構造体の形状、厚さについては特に限定はなぐ用途に応じて種々の形状、厚さとすることができる。例えば、本発明の衝撃吸収積層構造体を構成する全ての上記衝撃吸収層及び上記衝撃層との厚みの合計を、通常 2mm以下、好ましくは 1. 5mm以下、更に好ましくは 1. Omm以下とすることができる。また、本発明の衝撃吸収積層構造体は、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層を有することにより、保護板パネルと基層との間に空隙を設ける必要がなくなることから、従来よりも薄い厚さとすることができる。

[0094] 本発明の衝撃吸収積層構造体として、より具体的には、例えば、次のような構造が挙げられる。尚、以下のく 2〉〜く 5〉の衝撃吸収積層構造体では、機能層 4の代わりに榭脂層 (透明榭脂層等)等の他の層とすることができる。また、図 4〜図 7には明記していないが、以下のく 2〉〜く 5〉の衝撃吸収積層構造体を構成する衝撃吸収層 1、第 1衝撃吸収層 la及び第 2衝撃吸収層 lbは、以下のく 1〉の衝撃吸収積層構造体を構成する衝撃吸収層 1 (図 3参照)のように、上記基層側に配置された低弾性率層 11と、上記衝撃層側に配置された高弾性率層 12と、カゝらなる衝撃吸収層である。勿論、以下のく 1〉〜く 5〉の衝撃吸収層 1、第 1衝撃吸収層 la及び第 2衝撃吸収層 lbは、 M 300や E'の異なる少なくとも 2層を積層してなる衝撃吸収層であればよい。例えば、以下のく 1〉〜く 5〉の衝撃吸収層 1、第 1衝撃吸収層 la及び第 2衝撃吸収層 lbは、図 3のような 2層構造のみならず、 3層以上積層された衝撃吸収層でもよぐ 4層以上積層された衝撃吸収層でもよヽ。

[0095] く 1〉基層 2と、該基層 2の衝撃面側表面に設けられ、上記基層 2と接する低弾性率層 11と、上記衝撃層と接する高弾性率層 12と、からなる衝撃吸収層 1と、該衝撃吸収層 1の衝撃面側表面に設けられた衝撃層 3と、を有する衝撃吸収積層構造体（図 3

) o

く 2〉基層 2と、該基層 2の衝撃面側表面に設けられた衝撃吸収層 1と、該衝撃吸収層 1の衝撃面側表面に設けられた機能層 4と、該機能層 4の衝撃面側表面に設けられた衝撃層 3と、を有する衝撃吸収積層構造体 (図 4)。

く 3〉基層 2と、該基層 2の衝撃面側表面に設けられた機能層 4と、該機能層 4の衝撃面側表面に設けられた衝撃吸収層 1と、該衝撃吸収層 1の衝撃面側表面に設けられた衝撃層 3と、を有する衝撃吸収積層構造体 (図 5)。く 4〉基層 2が偏光板等の上記機能層であり、該基層の衝撃面側表面に設けられた第 1衝撃吸収層 laと、該第 1衝撃吸収層 laの衝撃面側表面に設けられた透明榭脂板又は LCDセル等である衝撃層 3と、該衝撃層 3の衝撃面側表面に設けられた第 2 衝撃吸収層 lbと、該第 2衝撃吸収層 lbの衝撃面側表面に設けられたアクリル板等の他の層 5と、を有する衝撃吸収積層構造体（図 6)。

く 5〉基層 2が偏光板等の上記機能層であり、該基層 2の衝撃面側表面に設けられた第 1衝撃吸収層 laと、該第 1衝撃吸収層 laの衝撃面側表面に設けられた透明榭脂板又は LCDセル等である衝撃層 3と、該衝撃層 3の衝撃面側表面に設けられた第 2衝撃吸収層 lbと、該第 2衝撃吸収層 lbの衝撃面側表面に設けられた偏光板等の第 2機能層 4aと、該第 2機能層 4aの衝撃面側に設けられたアクリル板等の他の層 5と、を有する衝撃吸収積層構造体 (図 7)。

[0096] 本発明の衝撃吸収積層構造体は、上記衝撃吸収層、上記基層、上記衝撃層及び必要に応じて設けることができる上記他の層とを配設し、接合することにより得ることができる。上記各層を接合する方法は、接合させる層同士を密着させることができる方法であれば特に限定されず、任意に選択することができる。この方法としては、例えば、所定の温度 (例えば、室温等）にて貼り合わせて接着したり、接着剤 (又は粘着剤）を用いて接着することができる。更には、ホットプレス及びコールドプレス等により所定の場所に直接形成してもよい。尚、上述の多層構造の衝撃吸収体の製造方法の項で説明した方法は、ここでも妥当する。

[0097] 3. LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体

本発明の LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体は、本発明の衝撃吸収体を構成する上記衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側表面に設けられた衝撃層と、を有することを特徴とする。本発明の LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体は、上記基層が液晶ユニット又はプラズマユニットとなることから、本発明の衝撃吸収積層構造体のうち、上記基層を有しない構成とすることができる。本発明の LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体及び有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体は、 LCDパネル、プラズマディスプレイパネル (PDP)、有機 ELディスプレイパネル等に好適に使用することができる。

本発明の LCD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体及び有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体は、上記基層の点を除けば、既に詳述した本発明の衝撃吸収積層構造体の説明をそのまま適用することができる

[0098] 4.ディスプレイ装置

本発明のディスプレイ装置は、本発明の衝撃吸収積層構造体あるいは本発明の L CD用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とする。本発明のディスプレイ装置としては、例えば電子 '電気機器等のディスプレイ装置が挙げられる。上記ディスプレイ装置の用途は特に限定されず、デスクトップ型コンピュータ用ディスプレィ等のディスプレイ機能単体の用途の他、携帯電話、携帯情報端末 (いわゆる PDA 、モパイル機器を含む）、ノート型コンピュータ、車載用コンピュータ、タツチパネル、テレビジョン、時計及び測定機器等に組み込む用途を例示することができる。更に、携行及び据置き等の形態を問わな!/、。

[0099] 上記ディスプレイ装置は、板状ディスプレイ装置であれば好ま、が、その形状は問わない。例えば、平坦でもよいし、湾曲していても構わない。上記ディスプレイ装置の種類の例として、 LCD、プラズマディスプレイ、有機 ELディスプレイ等が挙げられる。

実施例

[0100] 以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明する。尚、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。また、実施例中の「％」及び「部」は、特に断らない限り質量基準である。

[0101] 1.衝撃吸収体の調製

本実施例 1の衝撃吸収積層構造体を構成する衝撃吸収体 Aの構成を図 2に示す。上記衝撃吸収体 Aは、全体の厚さが 0. 4mmであり、厚さ 0. 2mmの高弾性率層 1 2及び厚さ 0. 2mmの低弾性率層 11とカゝらなる 2層構造の衝撃吸収層 1からなる。上記高弾性率層 12は、 M300が 12. 7MPaであるフィルム（i)で構成され、上記低弾性率層 11は、 M300が 2. 4MPaであるフィルム（ii)で構成される。上記フィルム（i )及び (ii)の M300は、引張試験機（島津製作所社製「AG10kNE」）を用い、温度 2 5°C、引張速度 500mmZminの条件で測定した。尚、上記フィルム（i)及び (ii)の E ，は、動的粘弾性測定装置（レオメトリック ·サイエンティフィック ·エフ 'イーネ土製「RSA II」）を用い、引張モード、温度 25°C、印加周波数 1Ηζ、ひずみ 0. 1%の条件で測し 7こ。

[0102] 上記フィルム (i)は、以下の方法により調製した。

上記極性基変性ォレフィン系共重合体として、エチレンに由来する単量体単位の含量が 86. 3モル⁰ /₀、プロピレンに由来する単量体単位の含量が 10. 6モル⁰ /₀、 5— ェチリデンー 2 ノルボルネンに由来する単量体単位の含量が 2. 6モル％、及び 8 —メチル一 8—カルボキシ一テトラシクロ [4. 4. 0. I²' ⁵. I⁷' ¹⁰]— 3 ドデセンに由来する単量体単位の含量が 0. 5モル％であり、且つ重量平均分子量（MW)が 16. 5 X 10⁴である共重合体 (A— 1)を用いた。また、金属化合物 (B— 1)としてテトラ n—ブトキシジルコニウム (和光純薬社製)を用いた。

[0103] 窒素雰囲気下で、上記共重合体 (A— 1) 100質量部及び上記金属化合物（B— 1) 3. 4質量部をそれぞれ 230°Cに加熱した 10L双腕型加圧-一ダー（モリヤマ社製）に投入し、 40rpmで 20分間混練りした (ずり速度 200s^_1)。その後、得られた溶融状態の塊状混練物を 180°C、 40rpmに設定したフィーダ一ルーダー（モリヤマ社製）によって造粒し、ペレツトイ匕したエラストマ一材料を得た。そして、得られたエラストマ一材料のペレットを、電熱加圧プレス成形機（関西ロール社製）によって、金型温度が 2 30°C、加圧加熱時間が 10分間、加圧冷却時間が 5分間の条件でプレス成形することにより、厚さ 0. 2mm、縦幅 120mm、横幅 120mmであるフィルム（i)を得た。

[0104] また、以下の表 1の配合に基づいて、上記フィルム（i)と同様の方法により、フィルム

(ii)及び (iii)を作製した。また、フィルム (i)〜（iii)について、プレス成形時の厚みを適宜変更することにより、厚みの異なるフィルムを作製した。更に、フィルム (iv)として、ポリエステルフィルム (東レネ土製、「ルミラー」）を用いた。 [0105] [表 1]

表 1

[0106] 上記衝撃吸収体 Aは以下の方法により作製した。

上記フィルム（ii)の一方表面に、上記フィルム（i)をラミネーター（大成ラミネーター社製、「VA— 700」）を用いて 80°Cにてラミネートすることにより、衝撃吸収体 Aを得た。また、表 2に示すように、上記フィルム (i)〜(iv)を用いて、実施例 1と同様の方法により、実施例 2〜5及び比較例 5の衝撃吸収積層構造体を構成する衝撃吸収体を作製した。

[0107] 2.衝撃吸収積層構造体の調製

本実施例 1の衝撃吸収積層構造体を図 4に示す。

本実施例 1の衝撃吸収積層構造体 Bは、図 4に示すように、基層 2と、該基層 2の衝撃面側表面に上記実施例の衝撃吸収体からなる衝撃吸収層 1を積層し、更に、該衝撃吸収層 1の衝撃面側表面に衝撃層 3を積層してなる。

上記衝撃吸収層 1は、上記基層 2と同じ大きさで、全体の厚さが 0. 4mmである。また、上記衝撃吸収層 1は、厚さ 0. 2mmで、上記衝撃層 3と接する高弾性率層 12と、厚さ 0. 2mmで、上記基層 2と接する低弾性率層 11とからなる 2層構造である。また、上記基層 2は、厚さ 0. 7mm、縦幅 60mm、横幅 80mmの溶融成形アルミノケィ酸薄板ガラス (コ一-ング社製、「corning 1737」）である。更に、上記衝撃層 3は、上記基層 2と同じ大きさで、厚さ 0. 5mmのアクリル榭脂（日東榭脂工業株式会社製、「クラレックス」）である。

[0108] 本実施例 1の衝撃吸収積層構造体 Bは、上記基層 2と上記低弾性率層 11とが接するように、上記基層 2に上記衝撃吸収層 1をラミネーターを用いて 80°Cにて積層し、更に、上記衝撃層 3と上記高弾性率層 12とが接するように上記衝撃吸収層 1に上記衝撃層 3をラミネーターを用いて 80°Cにて積層して作製した。また、上記衝撃吸収層 1として、表 2記載の高弾性率層 12及び低弾性率層 11からなる衝撃吸収層を用いる以外は、実施例 1と同様の方法により、実施例 2〜5及び比較例 5の衝撃吸収積層構造体を作製した。

[0109] 尚、本実施例 1の上記衝撃吸収層 1の代わりに、上記フィルム (i)力なる層（厚さ 0 . 4mm)を設けることにより、比較例 1の衝撃吸収積層構造体を作製した。また、上記実施例の本衝撃吸収層 1の代わりに、上記フィルム (ii)〜 (iv)を用い、比較例 1と同様の方法により、比較例 2〜4の衝撃吸収積層構造体を作製した。

[0110] 3.耐衝撃性の評価

上記の方法により得られた実施例 1〜5及び比較例 1〜5の衝撃吸収積層構造体を用い、下記に記載の方法により、耐衝撃性及び透明性を評価した。その結果を表 2 に示す。

[0111] 図 8に示すように、大理石等力もなる基台 62の上に厚さ lmmのアクリル板 61 (日東榭脂工業社製、「クラレックス」）を載せ、この上に基層 2がアクリル板 61に接するように、上記実施例 1〜5及び比較例 1〜5の衝撃吸収積層構造体 Bを載置した。次いで、鉄球 7 (直径 5cm、質量 550g)を、所定高さから上記実施例 1〜5及び比較例 1〜5 の衝撃吸収積層構造体 B上に自由落下させ、衝突させた。その後、基層 2のガラス割れの有無、衝撃層 3の割れ (アクリル割れ)の有無、並びに衝撃吸収層 1の気泡嚙みの有無を目視で確認した。そして、基層 2のガラス割れ、衝撃層 3のアクリル割れ、並びに衝撃吸収層 1の気泡嚙みが生じた時の高さの中で一番低、値を落球高度 (c m)として求めた。この落球高度の値が大きいほど耐衝撃性に優れていることを意味する。尚、表 2において、比較例 1、 2及び 4のアクリル割れ及び気泡嚙みの項の「一」は、アクリル割れや気泡嚙みが生じる前にガラス割れが生じたため、測定不能であつたことを意味する。

[0112] また、上記実施例 1〜5及び比較例 1〜5の衝撃吸収積層構造体を用いて、 BYK ガードナー Gmbh社製モデル（haze—gard plus)を使用して、 25°Cにおける全光線透過率(％)を求め、透明性を評価した。

[0113] [表 2]

.実施例の効果

表 2より、本発明の衝撃吸収積層構造体である実施例 1 5は、いずれも落球高度力 S40cm以上であり、耐衝撃性に優れるのに対し、本発明の衝撃吸収積層構造体ではない比較例 1〜5は、落球高度が 40cm未満であり、耐衝撃性に劣ることが分かる

[0115] また、表 2より、衝撃吸収層 1が高弾性率のフィルム (i)及び (iv)のみで構成されている比較例 1及び 4では、気泡嚙みや衝撃層であるアクリルの割れ (アクリル割れ)が生じる前に基層であるガラスの割れ (ガラス割れ)が生じている。し力も、ガラス割れは比較例 1が高さ 15cm、比較例 4が高さ 10cmと、力なり低い段階で生じている。また、衝撃吸収層 1が低弾性率のフィルム (ii)のみで構成されて!ヽる比較例 2では、ガラス割れが生じる高さが 30cmと、比較例 1及び 4より向上している力依然として低い段階でガラス割れが生じていることが分かる。衝撃吸収層 1が更に低弾性率のフィルム（ iii)のみで構成されている比較例 3は、ガラス割れ高さが 70cmと比較例 1及び 2より向上している力アクリル割れ高さが 50cm、気泡嚙み高さが 15cmであることから、まだ耐衝撃性が十分でな、ことが分かる。

[0116] 一方、表 2より、実施例 1では、ガラス割れが生じる高さが 60cmと、比較例 1、 2、 4 及び 5より優れているのに加え、アクリル割れ及び気泡嚙みが生じる高さがそれぞれ 60cm, 55cmであり、いずれも比較例 1〜5より優れていることが分かる。また、実施例 2では、ガラス割れが生じる高さが 130cmと、比較例 1〜5より優れているのに加え、アクリル割れ及び気泡嚙みが生じる高さが 60cmであり、いずれも比較例 1〜5より優れていることが分かる。実施例 3では、ガラス割れが生じる高さが 55cmと、比較例 1、 2、 4及び 5より優れているのに加え、アクリル割れ及び気泡嚙みが生じる高さがそれぞれ 55cm、 45cmであり、いずれも比較例 1〜5より優れていることが分かる。更に、実施例 4では、ガラス割れが生じる高さが 70cmと、比較例 3と同等であることに加え、アクリル割れ及び気泡嚙みが生じる高さがそれぞれ 50cm、 60cmであり、いずれも比較例 1〜5より優れていることが分かる。実施例 5では、ガラス割れが生じる高さが 6 Ocmと、比較例 1、 2、 4及び 5より優れているのに加え、アクリル割れ及び気泡嚙みが生じる高さがそれぞれ 60cm、 40cmであり、いずれも比較例 1〜5より優れていることが分かる。

[0117] これに対し、実施例とは逆に、衝撃面側を低弾性率層とし、対衝撃面側を高弾性率層とした比較例 5では、僅か 20cmの段階で既にガラス割れが発生しており、実施例 1〜5よりも著しく耐衝撃性に劣ることが分かる。

[0118] また、高弾性率層 12と低弾性率層 11の厚さと耐衝撃性との関係について、表 2の実施例 1〜3と比較例 1〜2の結果力も次のことが分かる。低弾性率層 11の厚さが高弾性率層 12よりも厚い実施例 2は、実施例 1及び 3と比べて、ガラス割れ高さが著しく高くなつている。このことから、低弾性率層 11の厚さを高弾性率層 12よりも厚くすることにより、耐衝撃性を向上させることができることが分かる。更に、衝撃吸収層が低弹性率層 11及び高弾性率層 12とからなる実施例 1〜3は、衝撃吸収層が低弾性率層 11又は高弾性率層 12のみ力もなる比較例 1〜2と比べて、衝撃吸収層の厚みの合計が同一にもかかわらず、ガラス割れ高さが大きぐ耐衝撃性に優れていることが分かる。

[0119] 以上より、本発明の衝撃吸収構造体である実施例は、上記の構成を有することにより、優れた耐衝撃性を奏することが分力る。

[0120] 尚、本発明においては、上記実施例に限らず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。例えば、上記基層、上記衝撃吸収層、上記衝撃層及び必要に応じて設けられる上記他の層中に、粒径 lOOnm以下の粒子を分散させることができる。この粒子は、例えば、コロイダルシリカなどを用いることができる。このような粒子を含めることによって、上記の層に加わる力を複数の粒子が受け止めて応力を分散させることができる。

産業上の利用可能性

[0121] 本発明の衝撃吸収体及び衝撃吸収積層構造体は、耐衝撃性が要求される各種用途に適用することができる。例えば、上述した電子'電気機器等のディスプレイ装置の他、自動車用ガラス、建材用ガラス、防弾ガラス等に適用することができる。

Claims

請求の範囲

[I] n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側から m 番目（m; 2〜n)の層の 300%モジュラスが、対衝撃面側から（m— 1)番目の層の 30 0%モジュラスよりも大きい衝撃吸収層を有することを特徴とする衝撃吸収体。

[2] 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 90%以上である請求項 1記載の衝撃吸収体。

[3] 上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に剥離可能な保護フィルム層を有する請求項 1記載の衝撃吸収体。

[4] n個の層（n; 2以上の整数)を積層してなる多層構造であり、且つ対衝撃面側から m 番目（m; 2〜！ 1)の層の貯蔵弾性率が、対衝撃面側から (m—1)番目の層の貯蔵弾性率よりも大きい衝撃吸収層を有することを特徴とする衝撃吸収体。

[5] 25°C、 0. 5mm厚の条件で全光線透過率が 90%以上である請求項 4記載の衝撃吸収体。

[6] 上記衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に剥離可能な保護フィルム層を有する請求項 4記載の衝撃吸収体。

[7] 請求項 1記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。

[8] 上記衝撃吸収層が、極性基変性ォレフィン系重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一層である請求項 7記載の衝撃吸収積層構造体。

[9] 上記衝撃層が榭脂層である請求項 7記載の衝撃吸収積層構造体。

[10] 上記基層がガラス層である請求項 7記載の衝撃吸収積層構造体。

[II] 更に他の層を有する請求項 7記載の衝撃吸収積層構造体。

[12] 請求項 4記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側に設けられている衝撃層と、上記衝撃吸収層の対衝撃面側に設けられている基層と、を有することを特徴とする衝撃吸収積層構造体。

[13] 上記衝撃吸収層が、極性基変性ォレフィン系重合体と金属イオン及び Z又は金属化合物とよりなるエラストマ一層である請求項 12記載の衝撃吸収積層構造体。

[14] 上記衝撃層が榭脂層である請求項 12記載の衝撃吸収積層構造体。

[15] 上記基層がガラス層である請求項 12記載の衝撃吸収積層構造体。

[16] 更に他の層を有する請求項 12記載の衝撃吸収積層構造体。

[17] 請求項 1記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側表面に設けられた衝撃層と、を有することを特徴とする液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体。

[18] 請求項 4記載の衝撃吸収層と、該衝撃吸収層の衝撃面側表面に設けられた衝撃層と、を有することを特徴とする液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体。

[19] 請求項 17記載の液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。

[20] 請求項 18記載の液晶ディスプレイ用衝撃吸収積層構造体、プラズマディスプレイ用衝撃吸収積層構造体又は有機 ELディスプレイ用衝撃吸収積層構造体を有することを特徴とするディスプレイ装置。