WO2002029867A1 - Procede de correction de faisceau electronique et systeme d'exposition a faisceaux electroniques - Google Patents
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Abstract
La présente invention concerne un procédé permettant de corriger la position d'irradiation d'une pluralité de faisceaux électroniques utilisant une pluralité de repères. Ce procédé consiste à détecter la position d'une pluralité de repères par rapport à la position d'irradiation d'un faisceau électronique par l'irradiation de la pluralité des repères avec un des faisceaux de la pluralité de faisceaux électroniques, à détecter les positions d'irradiation d'une pluralité de faisceaux électroniques par rapport à un repère par l'irradiation d'un des repères de la pluralité de repères avec la pluralité de faisceaux électroniques, et à calculer des valeurs de façon à corriger les positions d'irradiation de la pluralité de faisceaux électroniques à partir des positions détectées de la pluralité de repères et des positions d'irradiation détectées de la pluralité de repères.
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JPH0282515A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-23 | Matsushita Electron Corp | 電子ビーム描画方法 |
JPH08191042A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-23 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置およびその調整方法 |
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