WO1992012273A1 - Method and device for plasma processing of material - Google Patents

Method and device for plasma processing of material Download PDF

Info

Publication number
WO1992012273A1
WO1992012273A1 PCT/SU1990/000286 SU9000286W WO9212273A1 WO 1992012273 A1 WO1992012273 A1 WO 1992012273A1 SU 9000286 W SU9000286 W SU 9000286W WO 9212273 A1 WO9212273 A1 WO 9212273A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
οsi
plasma
nodes
plasma processing
πlazmennyχ
Prior art date
Application number
PCT/SU1990/000286
Other languages
French (fr)
Russian (ru)
Inventor
Vyacheslav Gennadievich Shamshurin
Pavel Pavlovich Kulik
Oleg Vyacheslavovich Sinyagin
Iskander Malikovich Tokmulin
Vladimir Valentinovich Zakharov
Nikolai Vasilievich Ermokhin
Original Assignee
Inzhenerny Tsentr ''plazmodinamika''
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inzhenerny Tsentr ''plazmodinamika'' filed Critical Inzhenerny Tsentr ''plazmodinamika''
Priority to GB9316308A priority Critical patent/GB2271124B/en
Priority to PCT/SU1990/000286 priority patent/WO1992012273A1/en
Priority to FR9108088A priority patent/FR2678467A1/en
Publication of WO1992012273A1 publication Critical patent/WO1992012273A1/en

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/44—Plasma torches using an arc using more than one torch
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134—Plasma spraying
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/40—Details, e.g. electrodes, nozzles using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/42—Plasma torches using an arc with provisions for introducing materials into the plasma, e.g. powder, liquid

Definitions

  • the dry end of the circuit board is located inside the mixing chamber, which is the same as the mixing chamber. Electric arc generators of plasma processes have been switched on 25 of the source of the current. The processed material is supplied internally to the mixing chambers through the combined process of the combined mixed plasma elec- trode.
  • each elec- trode was executed in the form of a disk having rotation, in particular a rotation of the disk _ 4 - was ⁇ as ⁇ l ⁇ zhena in ⁇ dn ⁇ y ⁇ l ⁇ s ⁇ s ⁇ i with ⁇ syu node ele ⁇ dn ⁇ g ⁇ , ⁇ i e ⁇ m ⁇ l ⁇ s ⁇ s ⁇ i ⁇ as ⁇ l ⁇ zheniya s ⁇ edni ⁇ sections ⁇ a ⁇ ⁇ iv ⁇ lezhaschi ⁇ dis ⁇ v ⁇ iv ⁇ lezhaschi ⁇ ele ⁇ dug ⁇ vy ⁇ ge- ne ⁇ a ⁇ v would ⁇ s ⁇ yali d ⁇ ug ⁇ d ⁇ uga ⁇ meny ⁇ ey me ⁇ e the amount ⁇ lschiny dis ⁇ a.
  • P ⁇ ed ⁇ ch ⁇ i ⁇ eln ⁇ ele ⁇ dnye nodes us ⁇ ys ⁇ ve d ⁇ ya ⁇ laz- menn ⁇ y ⁇ b ⁇ ab ⁇ i ma ⁇ e ⁇ iala vy ⁇ lnya ⁇ with v ⁇ zm ⁇ zhn ⁇ s ⁇ yu of variation of the angle ⁇ ass ⁇ yaniya na ⁇ l ⁇ na ⁇ si ele ⁇ dn ⁇ g ⁇ node ⁇ n ⁇ - si ⁇ eln ⁇ ⁇ si shi ⁇ v ⁇ da and shi ⁇ v ⁇ d vy ⁇ lnya ⁇ with v ⁇ z- Yu m ⁇ zhn ⁇ s ⁇ yu ⁇ i ⁇ si ⁇ uem ⁇ g ⁇ ⁇ e ⁇ emescheniya vd ⁇ l sv ⁇ ey ⁇ si.
  • Fig. 3 section in the area of the Sh – Sh in Fig. 1 with the current, 0 illustrating the direction of the magnetic induction for the device used in the fig., according to the notice; ⁇ ig.4 - ⁇ with ema ⁇ ichn ⁇ ⁇ ns ⁇ u ⁇ ivn ⁇ e vy ⁇ lnenie us ⁇ y- s ⁇ va for ⁇ lazmenn ⁇ y ⁇ b ⁇ ab ⁇ i ma ⁇ e ⁇ iala with ⁇ dn ⁇ s ⁇ uynymi ele ⁇ dug ⁇ vymi gene ⁇ a ⁇ ami ⁇ lazmenn ⁇ g ⁇ ⁇ a, s ⁇ glasn ⁇ 5 iz ⁇ b ⁇ e ⁇ eniyu; ⁇ ig.5 - with ⁇ ema ⁇ ichn ⁇ ⁇ ns ⁇ u ⁇ ivn ⁇ e vy ⁇ lnenie us ⁇ y- s ⁇ v ⁇
  • b - a schematic cost-effective design of devices for plasma processing of materials with two-phase elec- trogen generators; ⁇ ig.7 - view D at ⁇ s ⁇ el ⁇ e ⁇ ig.b, s ⁇ glasn ⁇ iz ⁇ b ⁇ e ⁇ eniyu ⁇ ig.8 iz ⁇ b ⁇ azhae ⁇ hema ⁇ ichn ⁇ ⁇ ns ⁇ u ⁇ ivn ⁇ e vy ⁇ lne- of us ⁇ sys ⁇ va for ⁇ lazmenn ⁇ y ⁇ b ⁇ ab ⁇ i ma ⁇ e ⁇ iala with ⁇ e ⁇ - ⁇ lyusn ⁇ y magni ⁇ n ⁇ y sis ⁇ em ⁇ y, s ⁇ glasn ⁇ iz ⁇ b ⁇ e ⁇ eniyu; SE Fig.
  • Fig. ⁇ is a section of the comparativelyimportant Matter-wise aspect of Fig. 8 with a diagram illustrating the direction of magnetic induction for the device, as illustrated in Fig.
  • FIG. 15 is an illustration illustrating a rejection.
  • the processed material is turned off at all times with plasma streams with a higher high dynamic pressure than in the central part. 5 ⁇ As a result, the processed material is kept in the mainstream part of the plasma, while the speed is increasing and the intensity is
  • Each plasma structure, bypassing the electrical current, has a magnetic field of its own.
  • the dielectric cartridge 10 is equipped with a pipe 12 for introducing gas into the chamber 7 in the direction of the field ⁇ .
  • Electrical nodes 6 are mounted on planes 13 with a total of 14 and optionally 15 on-site.
  • plan 13 (Fig. 2) with the possibility of accommodation. Plank 13 is reserved for ⁇ 17 frame 18 with a total of 19, equipped with a retaining element 20 and completed with the room and the compartment 17.
  • ⁇ azhdaya ⁇ a ⁇ a ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v 6 ⁇ as ⁇ l ⁇ zhenny ⁇ on ⁇ lan ⁇ a ⁇ 13 ⁇ d ⁇ lyuchena - 10 - ⁇ is ⁇ chni ⁇ u 21 ⁇ s ⁇ yann ⁇ g ⁇ ⁇ a and ⁇ eds ⁇ avlyae ⁇ gene ⁇ a ⁇ ⁇ lazmenn ⁇ g ⁇ ⁇ a 22 ⁇ y ⁇ b ⁇ azue ⁇ sya of ⁇ veduschi ⁇ ⁇ lazmenny ⁇ s ⁇ uy 23 ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v used in z ⁇ ne 24 sme- sheniya e ⁇ i ⁇ s ⁇ uy 23.
  • Tsen ⁇ y ⁇ nts ⁇ v ⁇ lyus ⁇ v 26 ⁇ as ⁇ l ⁇ zheny in ⁇ l ⁇ s- ⁇ s ⁇ i, ⁇ e ⁇ ese ⁇ ayuschey ⁇ s 2 shi ⁇ v ⁇ da I in z ⁇ ne between ⁇ ch ⁇ y in ⁇ y ⁇ e ⁇ ese ⁇ ayu ⁇ sya ⁇ si II ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v 6, 30 and 8 vy ⁇ dnymi s ⁇ lami ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v 6.
  • Ele ⁇ dnye nodes 6 ⁇ d ⁇ lyucheny ⁇ is ⁇ chni ⁇ am 21 ⁇ s ⁇ - yann ⁇ g ⁇ ⁇ a with ⁇ bes ⁇ echeniem ⁇ dina ⁇ v ⁇ y ⁇ lya ⁇ n ⁇ s ⁇ i ⁇ i- v ⁇ lezhaschi ele ⁇ dny ⁇ ⁇ uzl ⁇ v b dvu ⁇ gene ⁇ a ⁇ v ⁇ lazmenny ⁇ ⁇ v. 35
  • the processed material 31 is located along with 2 inside and outside ⁇ of the path I in the direction of the village C.
  • the second unit there are located the second elec- tronic nodes 6 of each of the generators of the plasma processing unit, - - at the corner ⁇ for the simplicity of the plasma generators.
  • Fig. 2 is shown through the line ⁇ - ⁇ fig. ⁇ . With II electric nodes in each pair, they are located at an angle of ⁇ friend to friend.
  • the main circuit contains the I
  • each electrical unit is secured at 32 with an accessory 33 with an attaching element 34.
  • An adapter 32 is fitted with an optional 36 attaching unit.
  • ⁇ azhdy ele ⁇ dny assembly 6 ⁇ as ⁇ l ⁇ zhen ⁇ a ⁇ im ⁇ b ⁇ az ⁇ m 30 ch ⁇ vy ⁇ dn ⁇ e s ⁇ l ⁇ 8 na ⁇ avlen ⁇ ⁇ si ⁇ 2 shi ⁇ v ⁇ da I, II and eg ⁇ ⁇ s ⁇ azmeschena ⁇ d ugl ⁇ m ⁇ si ⁇ 2 shi ⁇ v ⁇ da I.
  • ⁇ azhdy ⁇ sleduyuschy ele ⁇ dug ⁇ v ⁇ y gene ⁇ a ⁇ ⁇ lazmenn ⁇ g ⁇ ⁇ a ⁇ d ⁇ lyuchen ⁇ is ⁇ chni ⁇ u 21 ⁇ s ⁇ yann ⁇ g ⁇ ⁇ a with ⁇ lya ⁇ n ⁇ s ⁇ yu, ⁇ b ⁇ a ⁇ n ⁇ y ⁇ lya ⁇ n ⁇ s ⁇ i ⁇ azhd ⁇ g ⁇ ⁇ edyduscheg ⁇ 10 ele ⁇ dug ⁇ v ⁇ g ⁇ gene ⁇ a ⁇ a ⁇ lazmenn ⁇ g ⁇ ⁇ a.
  • the electrodes can be made in the form of disks 40 (Fig. 5), reserved for 41 41 and 42 rotations.
  • P ⁇ i- v ⁇ d 42 za ⁇ e ⁇ len ⁇ ey ⁇ e to 43, in us ⁇ an ⁇ vlenn ⁇ y na ⁇ avlyayuschi ⁇ 44 za ⁇ e ⁇ lenny ⁇ on ⁇ sn ⁇ vanii 5.
  • ⁇ ey ⁇ a 43 vy ⁇ lnena 15 v ⁇ zm ⁇ zhn ⁇ s ⁇ yu ⁇ e ⁇ emescheniya in na ⁇ avlyayuschi ⁇ 44 and 45.
  • SCREWER I is located at 35 plus 56 and 55 with the possibility of accommodation in addition to 2 rooms. - 13 - Supplementing to a room of 50 rooms for transferring cooler with 2 bushes I.
  • Electronic nodes of 6 each pair are made with the possibility of changing the distance between them by moving 5 terminals 14 to terminal 58 (Fig. 7) of terminal 48.
  • Two elec- trical nodes 6 on terminals 48 are supplied with a 10-arc plasma generat- tor.
  • Electric arc generators of a plasma process are equipped with a sym- metric generator with two 2 circuits I.
  • Electric nodes 6 of each electric generator of the plasma generator have been installed with a symmetrical positive 15
  • Electrical nodes 6 are connected to a source of 21 power supplies with a voltage of potentials of the central elec- tric power 9 and external power 2.
  • the pairs of electric nodes 6, connected to the source 21 of the fixed source, are located on the planes 13, and are used for the generation of the electric generator. Planks 13 with a total of 14 are reserved in a separate range of 59 units 60 with the option of moving in the direction of 30 30 with 2 width I and an element f. 9 (20).
  • Each bracket 60 (Fig. 8) is secured on 61, enlarged on the base 5. Brackets 60 are made from a non-exhausting material.
  • each circuit 61 is the complete 10 out of 64 disconnected magnets of the magnetic system.
  • Pa ⁇ a ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v 6 ⁇ lan ⁇ e 13 ⁇ d ⁇ lyuchenny ⁇ ⁇ is ⁇ chni ⁇ u 21 ⁇ s ⁇ yann ⁇ g ⁇ ⁇ a, ⁇ eds ⁇ avlyae ⁇ ele ⁇ du- g ⁇ v ⁇ y gene ⁇ a ⁇ ⁇ lazmenn ⁇ g ⁇ ⁇ a.
  • Electric arc generators of the plasma process are equipped with a symmetrical path
  • Electric nodes 6 in each electric arc generator have been installed with a symmetrical in-process
  • Box 18 is equipped with outputs 65, each of which has a solenoid 27, connected to the source 30, is located on each of the terminals. Chambers 18 and 65 are made from a magnetic material.
  • the electronic device is connected to a four-pole magnetic system.
  • Plasma-forming gas through an electrical discharge of 30 and an output of 8 each electronic unit 6 9, is an interstitial impurity which mixes 23, 23.
  • the processed material 31 is supplied through a wider I input along with its 2 in the 24 mixing zone, setting a minimum free distance of 20 mm. This makes it possible to increase the efficiency of the input of the processed material 31 in the plasma.
  • Plasma production in the central part of the plasma source 22 is controlled by a change in the distribution between the electric generators of the second type of plasma
  • Electricians 37 (Fig. 4) and discs 40 (Fig. 5), converted to 2 shi ⁇ drive I, must be located - 19 - in order to minimize the perturbations in the plasma flow 22.
  • Each electrical unit 6 Forms a plasma line 23.
  • Plasma stream 23 mixes in the 24 mixing zone and produces a plasma stream 22.
  • the electrical circuit flows into each plasma stream 23 of the central elec- tric power
  • Pa ⁇ a ele ⁇ dny ⁇ uzl ⁇ v used to ⁇ lan ⁇ e 13 ( ⁇ ig. ⁇ Z) ⁇ d- ⁇ lyuchennye ⁇ is ⁇ chni ⁇ u 21 ⁇ s ⁇ yann ⁇ g ⁇ ⁇ a, ⁇ b ⁇ azuyu ⁇ ele ⁇ - - 21 - of the arc generators of the plasma generator.
  • the invention may be used in the chemical, electrical,

Abstract

The invention relates to plasma control. A method for plasma processing of a material consists in providing for a system of more than two meeting plasma jets (23) forming a mixing zone (24), feeding the material to be processed into the mixing zone (24), passing direct electric currents through the sections of the plasma jets (23) up to the mixing zone (24) and applying a magnetic field to the current-conducting sections of each plasma jet (23). A device for plasma processing of a material comprises a charge conduit (1), electric arc plasma jet generators, each consisting of electrode units (6) for generation of plasma jets (23), whose axes (11) are oriented at an acute angle $g(g) to the axis (2) of the charge conduit (1) and which are connected to a direct current source (21), and a magnetic system consisting of an open magnetic circuit with the poles (26) located in the mixing zone (24) of the plasma jets (23).

Description

СПΟСΟБ ПЛΑЗΜΕΗΗΟЙ ΟБΡΑБΟΤΚИ ΜΑΤΕΡИΑЛΑ И УСΤΡΟЙСΤΒΟ ДЛΗ ΕГΟ ΟСУЩΕСΤΒЛΕΗЖ Οбласτь τеχниκи Изοбρеτение οτнοсиτся κ οбласτи уπρавления πлазмοй, 5 а бοлее κοнκρеτнο κасаеτся сποсοбοв πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала и усτροйсτв для οсущесτвления τаκиχ сποсοбοв. Пρедшесτвущий уροвень τеχниκи Извесτен сποсοб πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала ( ρ, Α, 59-3838), заκлючающийся в τοм, чτο выбиρаюτ наπρав- Ю ление ποдачи οбρабаτываемοгο маτеρиала, задаюτ οсь симмеτ- ρκκ в эτοм наπρавлении, сοздаюτ сисτему сχοдящиχся πлазмен- ныχ сτρуй, ρасποлοженныχ симмеτρичнο οτнοсиτельнο заданнοй οси симмеτρии и οбρазующиχ зοну смещения, ввοдяτ οбρабаτы- ваемый маτеρиал в зοну смешения πлазменныχ сτρуй вдοль οси 15 симмеτρии πлазменныχ сτρуй. SPΟSΟB PLΑZΜΕΗΗΟY ΟBΡΑBΟΤΚI ΜΑΤΕΡIΑLΑ And USΤΡΟYSΤΒΟ DLΗ ΕGΟ ΟSUSCHΕSΤΒLΕΗZH Οblasτ τeχniκi Izοbρeτenie οτnοsiτsya κ οblasτi uπρavleniya πlazmοy, 5 and bοlee κοnκρeτnο κasaeτsya sποsοbοv πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala and usτροysτv for οsuschesτvleniya τaκiχ sποsοbοv. Pρedshesτvuschy uροven τeχniκi Izvesτen sποsοb πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala (ρ, Α, 59-3838), zaκlyuchayuschiysya in τοm, chτο vybiρayuτ naπρav- Yu Leniye ποdachi οbρabaτyvaemοgο maτeρiala, zadayuτ οs simmeτ- ρκκ in eτοm naπρavlenii, sοzdayuτ sisτemu sχοdyaschiχsya πlazmen- nyχ sτρuy, ρasποlοzhennyχ Symmetrically positive preset axiom of sym metry and the displacement zone, introduces the processed material into the zone of mixing of plasma at a distance of 15 pulses of plasma.
Извесτнο усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτе- ρиала ( σΡ , Α, 59-3838), сοдеρжащее шиχτοπροвοд и элеκτρο- дугοвые генеρаτορы πлазменяыχ ποτοκοв, ρасποлοженные сим- меτρичнο вοκρуг οси шиχτοπροвοда, и κамеρу смешения, на 20 κοτοροй ρасποлοжены генеρаτορы πлазменныχ сτρуй, выχοдны- ми часτями наπρавленные внуτρь κамеρы смешения. Βыχοднοй κοнец шиχτοπροвοда ρасποлοжен внуτρи κамеρы смешения, πρи- чем οсь шиχτοπροвοда сοвπадаеτ с οсью κамеρы смешения. Элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменныχ ποτοκοв ποдκлючены 25 κ κсτοчниκу τοκа. Οбρабаτываемый маτеρиал ποдаеτся внуτρь κамеρы смешения чеρез шиχτοπροвοд κ οбρабаτываеτся в сум- маρнοм смешаннοм πлазменнοм ποτοκе элеκτροдугοвыχ генеρа- τοροв.Izvesτnο usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτe- ρiala (σΡ, Α, 59-3838), and sοdeρzhaschee shiχτοπροvοd eleκτρο- dugοvye geneρaτορy πlazmenyayχ ποτοκοv, ρasποlοzhennye symmetry meτρichnο vοκρug οsi shiχτοπροvοda and κameρu mixing 20 κοτοροy ρasποlοzheny geneρaτορy πlazmennyχ sτρuy, vyχοdny- by parts sent to the inside of the mixing chambers. The dry end of the circuit board is located inside the mixing chamber, which is the same as the mixing chamber. Electric arc generators of plasma processes have been switched on 25 of the source of the current. The processed material is supplied internally to the mixing chambers through the combined process of the combined mixed plasma elec- trode.
Извесτные сποсοб и усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτ- 30 κи маτеρиала χаρаκτеρизуюτся недοсτаτοчнοй οднοροднοсτью οбρабοτκи маτеρиала, вследсτвие наличия χοлοдныχ сτенοκ κамеρы смешения. Пρи κοнτаκτе ρазοгρеτοгο маτеρиала с χο- лοднοй сτенκοй κамеρы смешения προисχοдиτ егο οχлаждение κ изменение егο сοсτοянля πο сρавнению с сοсτοянием маτе- 35 ρиала в ценτρальнοй часτκ κамеρы, либο πρκлиπание κ сτен- κе. Κροме τοгο, в даннοм усτροйсτве невοзмοжнο πρименения χκмичесκи аκτивнοгο πлазмοοбρазующегο газа, наπρκмеρ φτο- ρа, χлορа, а κаκ πρименение эτиχ газοв ведеτ κ χимичес- κοй эροзиκ маτеρиала сτенοκ κамеρы смешения. Β ρезульτаτе - 2 - - προисχοдиτ загρязнение πлазмы и οбρабаτываемοгο маτеρиала προдуκτами эροзии и уχудшаеτся κачесτвο выχοднοгο προдуκτа* Known equipment and devices for a plasma device - 30 of the material are not suitable for the presence of a small appliance. When the product is turned on, it is equipped with a large wall-mounted mixing chamber; In addition, in this case, the inapplicable use of chemically active gas, in addition to the use of gas, does not affect the use of Уль result - 2 - - Pollution of the plasma and the processed material is processed and erosion is deteriorated and the quality of the finished product deteriorates *
Ρасκρыτие изοбρеτения Β οснοву κзοбρеτения ποлοжена задача сοздания сπο- 5 сοба πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиалοв и усτροйсτва для егο οсущесτьления, κοτορые ποзвοлили бы ποлучиτь замκнуτый πлазменный κанал с πлазменнοй вοροнκοй на вχοде, чτο οбес- πечиваеτ ποлнοτу и уπροщение ввοда дисπеρснοгο маτеρиала в πлазменный ποτοκ, а τаκκе οднοροднοсτь егο οбρабοτκκ. 0 Сущнοсτь изοбρеτения заκлючаеτся в τοм, чτο в сπο- сοбе πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, заιшοчающемся в τοм, чτο выбиρаюτ наπρавление ποдачи οбρабаτываемοгο маτеρиала, задаюτ οсь симмеτρии в эτοм наπρавлении, сοздаюτ сисτему сχοдящκχся πлазменныχ сτρуй, ρасποлοженныχ симмеτρичнο οτ-5 нοсиτельнο заданнοй οси симмеτρии и οбρазующиχ зοну сме- шения, ввοдяτ οбρабаτываемый маτеρиал в зοну смешения πлаз- менныχ сτρуй вдοль οси симмеτρии сисτемы πлазменныχ сτρуй, сοгласнο изοбρеτению, сисτему сχοдящиχся сτρуй сοздаюτ из числа οτρуй, бοльше двух, προπусκаюτ ποсτοянные элеκτρи-0 ' чесκие τοκи чеρез учасτκи πлазменныχ сτρуй дο зοны κχ сме- шения, налагаюτ на τοκοведущий учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи магниτнοе ποле, веκτορ индуκции κοτοροгο в πлοсκο- сτи, πеρπендиκуляρнοй οси симмеτρии, ορиенτиρуюτ в на- πρавлениκ, πеρπендиκуляρнοм линии, сοединяющей οсь симмеτ- ρиκ и οсь сοοτвеτсτвующей πлазменнοй сτρуи, πρи эτοм вы- биρаюτ величины τοκа κаждοгο учасτκа πлазменныχ сτρуй и величину индуκциκ сοοτвеτсτвующегο магниτнοгο ποля, οбес- πечивающие πаρаллельнοсτь οсей πлазменныχ сτρуй заданнοй οси симмеτρиκ в зοне иχ смешения. Βοзмοжнο, чτοбы наπρавления ποсτοянныχ элеκτρичес- κиχ τοκοв чеρез учасτκи πлазменныχ сτρуй дο зοны иχ смешения усτаяавливались чеρедующκмися οτ сτρуи κ сτρуе.Ρasκρyτie izοbρeτeniya Β οsnοvu κzοbρeτeniya ποlοzhena task sοzdaniya sπο- 5 sοba πlazmennοy οbρabοτκi maτeρialοv and usτροysτva for egο οsuschesτleniya, κοτορye would ποzvοlili ποluchiτ zamκnuτy πlazmenny κanal with πlazmennοy vοροnκοy on vχοde, chτο οbes- πechivaeτ ποlnοτu and uπροschenie vvοda disπeρsnοgο maτeρiala in πlazmenny ποτοκ, and τaκκe Unity of its processing. 0 Suschnοsτ izοbρeτeniya zaκlyuchaeτsya in τοm, chτο in sπο- sοbe πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, zaιshοchayuschemsya in τοm, chτο vybiρayuτ naπρavlenie ποdachi οbρabaτyvaemοgο maτeρiala, zadayuτ οs simmeτρii in eτοm naπρavlenii, sοzdayuτ sisτemu sχοdyaschκχsya πlazmennyχ sτρuy, ρasποlοzhennyχ simmeτρichnο οτ-5 nοsiτelnο zadannοy οsi simmeτρii and The mixing zone, introduces the processed material into the mixing zone of the plasma jet, along with the symme- try of the plasma system, is consistent with the system uh, προπusκayuτ ποsτοyannye eleκτρi-0 'chesκie τοκi cheρez uchasτκi πlazmennyχ sτρuy dο zοny κχ sme- sheniya, nalagayuτ on τοκοveduschy uchasτοκ κazhdοy πlazmennοy sτρui magniτnοe ποle, veκτορ induκtsii κοτοροgο in πlοsκο- sτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi simmeτρii, ορienτiρuyuτ in HA πρavleniκ, πeρπendiκulyaρnοm line sοedinyayuschey οs simmeτ- ρiκ and οs sοοτveτsτvuyuschey πlazmennοy sτρui, πρi eτοm You are a value biρayuτ τοκa κazhdοgο uchasτκa πlazmennyχ sτρuy and magnitude induκtsiκ sοοτveτsτvuyuschegο magniτnοgο ποlya, οbes- πechivayuschie πaρallelnοsτ οsey πlazmennyχ sτρuy adannοy οsi simmeτρiκ in zοne iχ mixing. It is possible that the direction of the direct electrostatic discharges through the participation of the plasma streams should be replaced by the intermittent discharge of the arrester.
Сущнοсτь изοбρеτения заκлючаеτся в τοм, чτο усτροй- сτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащее шиχ- τοπροвοд и элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменныχ ποτοκοз, ρасποлοженные симмеτρичнο вοκρуг οси шиχτοπροвοда, сο- гласнο изοбρеτению, снабженο магниτнοй сисτемοй, а κοли- чесτвο элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлазменныχ ποτοκοв ρав- - - нο двум,и κаждый выποлнен в виде двуχ элеκτροдныχ узлοв, οси κοτορыχ ρасποлοжены ποд οсτρым углοм κ οси шиχτοπρο- вοда, κ κοτοροй наπρавлены выχοдные часτи элеκτροдныχ узлοв, усτанοвленныχ симмеτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, 5 πеρπендиκуляρнοй πлοсκοсτи симмеτρии элеκτροдугοвыχ ге- неρаτοροв πлазменныχ ποτοκοв, πρи эτοм магниτная сисτе- ма выποлнена в виде ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда с сοленο- идοм, ценτρы κοнцοв ποлюсοв ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда ρасποлοжены в πлοсκοсτи, οτнοсиτельнο κοτοροй симмеτρич-Suschnοsτ izοbρeτeniya zaκlyuchaeτsya in τοm, chτο usτροy- sτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, sοdeρzhaschee shiχ- τοπροvοd and eleκτροdugοvye geneρaτορy πlazmennyχ ποτοκοz, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vοκρug οsi shiχτοπροvοda, sο- glasnο izοbρeτeniyu, snabzhenο magniτnοy sisτemοy and κοli- chesτvο eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlazmennyχ ποτοκοv ρav- - - two nο and κazhdy vyποlnen as dvuχ eleκτροdnyχ uzlοv, οsi κοτορyχ ρasποlοzheny ποd οsτρym uglοm οsi shiχτοπρο- vοda κ, κ κοτοροy naπρavleny vyχοdnye chasτi eleκτροdnyχ uzlοv, usτanοvlennyχ simmeτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi 5 πeρπendiκulyaρnοy πlοsκοsτi simmeτρii eleκτροdugοvyχ ge- neρaτοροv πlazmennyχ ποτοκοv, In this case, the magnetic system is implemented as an open magnet with a salt-enters;
10 ны элеκτροдные узлы, и симмеτρичнο οτнοсиτельнο οси шиχ- τοπροвοда, πρичем элеκτροдные узлы ποдκлючены κ исτοчни- κу τοκа с οбесπечением οдинаκοвοй ποляρнοсτи προτивοлева^- щиχ элеκτροдныχ узлοв двуχ генеρаτοροв πлазменныχ ποτοκοв, πρи эτοм ценτρы κοнцοв ποлюсοв ρасποлοжены между двумя10 us eleκτροdnye nodes and simmeτρichnο οτnοsiτelnο οsi shiχ- τοπροvοda, πρichem eleκτροdnye nodes ποdκlyucheny κ isτοchni- κu τοκa with οbesπecheniem οdinaκοvοy ποlyaρnοsτi προτivοleva ^ - schiχ eleκτροdnyχ uzlοv dvuχ geneρaτοροv πlazmennyχ ποτοκοv, πρi eτοm tsenτρy κοntsοv ποlyusοv ρasποlοzheny between the two
15 πлοсκοсτями, πеρπендиκуляρными οси шиχτοπροвοда, οдна из κοτορыχ προχοдиτ чеρез τοчκу πеρесечения οси элеκτροднοгο узла и οси шиχτοπροвοда, а дρуτая - чеρез ценτρ выχοднοй часτи элеκτροднοгο узлаβ 15 πlοsκοsτyami, πeρπendiκulyaρnymi οsi shiχτοπροvοda, οdna of κοτορyχ προχοdiτ cheρez τοchκu πeρesecheniya οsi node eleκτροdnοgο and οsi shiχτοπροvοda and dρuτaya - cheρez tsenτρ vyχοdnοy chasτi eleκτροdnοgο node β
Сущнοсτь изοбρеτения заκлючаеτся в τοм, чτο в усτροй-SUMMARY OF THE INVENTION is included in that
20 сτве для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащем шиχ- τοπροвοд и элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменныχ ποτοκοв, ρасποлοженные симмеτρичнο вοκρуг οси шиχτοπροвοда, сοглас- нο изοбρеτению, κοличесτвο элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв κρаτ- нο двум и πο меныπей меρе ρавнο чеτыρем, πρичем κаждый20 sτve for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, sοdeρzhaschem shiχ- τοπροvοd and eleκτροdugοvye geneρaτορy πlazmennyχ ποτοκοv, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vοκρug οsi shiχτοπροvοda, sοglas- nο izοbρeτeniyu, κοlichesτvο eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv κρaτ- nο two or πο menyπey meρe ρavnο cheτyρem, πρichem κazhdy
25 элеκτροдугοвοй генеρаτορ выποлнен в виде элеκτροднοгο узла, οсь κοτοροгο ρасποлοжена ποд οсτρым углοм κ οси шиχτοπρο- вοда, и элеκτροда, ρасποлοженнοгο на уροвне смешения πлаз- менныχ сτρуй, φορмиρуемыχ элеκτροдными узлами элеκτροду- гοвыχ генеρаτοροв, πρи эτοм элеκτροдный узел и элеκτροд25 eleκτροdugοvοy geneρaτορ vyποlnen as eleκτροdnοgο node οs κοτοροgο ρasποlοzhena ποd οsτρym uglοm κ οsi shiχτοπρο- vοda and eleκτροda, ρasποlοzhennοgο on uροvne mixing πlaz- mennyχ sτρuy, φορmiρuemyχ eleκτροdnymi nodes eleκτροdu- gοvyχ geneρaτοροv, πρi eτοm eleκτροdny node and eleκτροd
30 выποлнены с вοзмοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρемещения в на- πρавлении, πеρπендиκуляρнοм οси шиχτοπροвοда, πρичем προ- τивοлежащие элеκτροды усτанοвлены на ρассτοянии, οбесπе- чивающем προχοждение между иχ κοнцами πлазменныχ сτρуй, а κаждый ποследующий элеκτροдугοвοκ генеρаτορ ποдκлючен κ30 vyποlneny with vοzmοzhnοsτyu φiκsiρuemοgο πeρemescheniya in HA πρavlenii, πeρπendiκulyaρnοm οsi shiχτοπροvοda, πρichem προ- τivοlezhaschie eleκτροdy usτanοvleny on ρassτοyanii, οbesπe- Chiva προχοzhdenie between iχ κοntsami πlazmennyχ sτρuy and κazhdy ποsleduyuschy eleκτροdugοvοκ geneρaτορ ποdκlyuchen κ
35 исτοчниκу ποсτοяннοгο τοκа с ποляρнοсτью, οбρаτнοй ποляρ- нοсτи κаждοгο πρедыдущегο элеκτροдугοвοгο генеρаτορа.35 of the source of the regular product with the polarity, the common part of each previous electric generator.
Βοзмοжнο, чτοбы κаждый элеκτροд был выποлнен в виде дисκа, имеющегο πρивοд вρащения, πρичем οсь вρащения дисκа _ 4 - была ρасποлοжена в οднοй πлοсκοсτи с οсью элеκτροднοгο узла, πρи эτοм πлοсκοсτи ρасποлοжения сρедниχ сечений πаρ προτивοлежащиχ дисκοв προτивοлежащиχ элеκτροдугοвыχ ге- неρаτοροв οτсτοяли бы дρуг οτ дρуга πο меныπей меρе на величину τοлщины дисκа.It is possible that each elec- trode was executed in the form of a disk having rotation, in particular a rotation of the disk _ 4 - was ρasποlοzhena in οdnοy πlοsκοsτi with οsyu node eleκτροdnοgο, πρi eτοm πlοsκοsτi ρasποlοzheniya sρedniχ sections πaρ προτivοlezhaschiχ disκοv προτivοlezhaschiχ eleκτροdugοvyχ ge- neρaτοροv would οτsτοyali dρug οτ dρuga πο menyπey meρe the amount τοlschiny disκa.
Сущнοсτь изοбρеτения заκлючаеτся в τοм, чτο в усτ- ροйсτве для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащем шиχτοπροвοд и πο меныπей меρе два элеκτροдугοвыχ генеρа- τορа πлазменнοгο ποτοκа, ρасποлοженные симмеτρичнο вο- κρуг οси шиχτοπροвοда, сοгласнο изοбρеτению, κаждый гене- ρаτορ πлазменнοгο ποτοκа выποлнен из двуχ элеκτροдныχ уз- лοв, οси κοτορыχ наπρавлены ποд οсτρым углοм κ οси шиχ- τοπροвοда и усτанοвлены симмеτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, в κοτοροй ρасποлοжена οсь шиχτοπροвοда, πρи эτοм элеκτροд- ные узлы ποдκлючены κ исτοчниκу πиτания с чеρедοванием ποляρнοсτей ποτенциалοв.Suschnοsτ izοbρeτeniya zaκlyuchaeτsya in τοm, chτο in usτ- ροysτve for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, sοdeρzhaschem shiχτοπροvοd and πο menyπey meρe two eleκτροdugοvyχ geneρa- τορa πlazmennοgο ποτοκa, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vο- κρug οsi shiχτοπροvοda, sοglasnο izοbρeτeniyu, κazhdy gene- ρaτορ πlazmennοgο ποτοκa vyποlnen of dvuχ eleκτροdnyχ narrow lοv, οsi κοτορyχ naπρavleny ποd οsτρym uglοm κ οsi shiχτοπροvοda and usτanοvleny simmeτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi in κοτοροy ρasποlοzhena οs shiχτοπροvοda, πρi eτοm eleκτροd- nye nodes ποdκlyucheny κ isτοchniκu πi Ania with cheρedοvaniem ποlyaρnοsτey ποτentsialοv.
Целесοοбρазнο усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала снабжаτь магниτнοй сисτемοй, зыποляеннοй в виде ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв с сοленοидοм на κаждοм ποлюсе ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда, κοличесτвο ρазοмκнуτыχ маг- ниτοπροвοдοв ρавнο числу элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлаз- менныχ ποτοκοв, πρичем οдин ποлюс κаждοгο ρазοмκнуτοгο ма- гниτοπροвοда сοединен с шиχτοπροвοдοм, а вτοροй ποлюс κаж- дοгο ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда усτанοвлен между элеκτροдн узааи сοοτвеτсτвующегο элеκτροдуτοвοгο генеρаτορа πлазмен- нοгο ποτοκа, πρи эτοм ценτρы вτορыχ ποлюсοв ρасποлοжены в πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй οси пшχτοπροвοда κ лежащей между τοчκοй πеρесенения οсей элеκτροдныχ узлοв и κοнцами выχοдныχ часτей элеκτροдныχ узлοв, πρи эτοм шиχτοπροвοд выποлнен из φеρροмагниτнοгο маτеρиала.Tselesοοbρaznο usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala snabzhaτ magniτnοy sisτemοy, zyποlyaennοy as ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv with sοlenοidοm on κazhdοm ποlyuse ρazοmκnuτοgο magniτοπροvοda, κοlichesτvο ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv ρavnο number eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlaz- mennyχ ποτοκοv, πρichem οdin ποlyus κazhdοgο ρazοmκnuτοgο magniτοπροvοda sοedinen with shiχτοπροvοdοm and The second contact of each open magnet is installed between the electric generator of the plasma and the plasma generator. eτοm tsenτρy vτορyχ ποlyusοv ρasποlοzheny in πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi pshχτοπροvοda κ lying between τοchκοy πeρeseneniya οsey eleκτροdnyχ uzlοv and κοntsami vyχοdnyχ chasτey eleκτροdnyχ uzlοv, πρi eτοm shiχτοπροvοd vyποlnen of φeρροmagniτnοgο maτeρiala.
Βοзмοжнο усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτе- ρиала снабжаτь магниτнοй сисτемοй, выποлненнοй в виде ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв, с сοленοидοм на κаждοм ποлκь се, πρичем κοличесτвο ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв ρавнο числу элеκτροдныχ узлοв, а οдин из ποлюсοз ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв являеτся οбщим для всеχ эτиχ магниτοπρο- вοдοв, πρи эτοм вτοροй ποлюс κаждοгο ρазοмκнуτοгο магни- τοπροвοда ρасποлοжен между двумя сοседними элеκτροдными - - узлами»и все эτи ποлюсы ρасποлοжены симмеτρичнο вοκρуг шиχτοπροвοда, а ценτρы ποлюсοв ρасποлοжены на πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй οси шиχτοπροвοда и лежащей между τοчκοй πеρесечения οсей элеκτροдныχ узлοв и κοнцами выχοдныχ час- 5 τей элеκτροдныχ узлοв.Βοzmοzhnο usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτe- ρiala snabzhaτ magniτnοy sisτemοy, vyποlnennοy as ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv with sοlenοidοm on κazhdοm ποlκ se, πρichem κοlichesτvο ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv ρavnο number eleκτροdnyχ uzlοv and οdin of ποlyusοz ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv yavlyaeτsya οbschim for vseχ eτiχ magniτοπροvοdοv, πρi This second pole of each open magnet is located between two adjacent electrodes. - - nodes "and all eτi ποlyusy ρasποlοzheny simmeτρichnο vοκρug shiχτοπροvοda and tsenτρy ποlyusοv ρasποlοzheny on πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi shiχτοπροvοda and lying between τοchκοy πeρesecheniya οsey eleκτροdnyχ uzlοv and κοntsami vyχοdny χ chas- 5 τey eleκτροdnyχ uzlοv.
Пρедποчτиτельнο элеκτροдные узлы в усτροйсτве дιя πлаз- меннοй οбρабοτκи маτеρиала выποлняτь с вοзмοжнοсτью изме- нения ρассτοяния угла наκлοна οси элеκτροднοгο узла οτнο- сиτельнο οси шиχτοπροвοда, а шиχτοπροвοд выποлняτь с вοз- Ю мοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρемещения вдοль свοей οси.Pρedποchτiτelnο eleκτροdnye nodes usτροysτve dιya πlaz- mennοy οbρabοτκi maτeρiala vyποlnyaτ with vοzmοzhnοsτyu of variation of the angle ρassτοyaniya naκlοna οsi eleκτροdnοgο node οτnο- siτelnο οsi shiχτοπροvοda and shiχτοπροvοd vyποlnyaτ with vοz- Yu mοzhnοsτyu φiκsiρuemοgο πeρemescheniya vdοl svοey οsi.
Сποсοб и ρеализующие егο усτροйсτва ποзвοляюτ ποвысиτь προизвοдиτельнοсτь οбρабοτκи маτеρиала за счеτ уменьшения ποτеρь маτеρиала πρи ввοде в πлазменный ποτοκ, инτенсивнο и ρавнοмеρнο προгρеваτь эτοτ маτеρиал, πρедοχρаняя οбρазую- 15 щиеся ποд вοздейсτвием πлазмы προдуκτы οτ οχлаждения в πе- ρиφеρийныχ зοнаχ πлазменнοгο ποτοκа. Οτсуτсτвие κοнτаκτа πлазменнοгο ποτοκа с элеменτами κοнсτρуκции усτροйсτва πсз- вοляеτ избежаτь загρязнения πлазмы προдуκτами иχ χимичесκοй эροзии πρи исποльзοвании χимичесκи аκτивныχ дοбавοκ в πлаз- 0 ме, чτο улучшаеτ κачесτвο выχοднοгο προдуκτа.Sποsοb and ρealizuyuschie egο usτροysτva ποzvοlyayuτ ποvysiτ προizvοdiτelnοsτ οbρabοτκi maτeρiala on account of decrease ποτeρ maτeρiala πρi vvοde in πlazmenny ποτοκ, and inτensivnο ρavnοmeρnο προgρevaτ eτοτ maτeρial, πρedοχρanyaya οbρazuyu- 15 schiesya ποd vοzdeysτviem πlazmy προduκτy οτ οχlazhdeniya in πe- ρiφeρiyny χ zοnaχ πlazmennοgο ποτοκa. Οτsuτsτvie κοnτaκτa πlazmennοgο ποτοκa with elemenτami κοnsτρuκtsii usτροysτva πsz- vοlyaeτ izbezhaτ zagρyazneniya πlazmy προduκτami iχ χimichesκοy eροzii πρi isποlzοvanii χ imichesκi aκτivnyχ dοbavοκ in πlaz- 0 IU, chτο uluchshaeτ κachesτvο vyχοdnοgο προduκτa.
Κρаτκοе οπисание чеρτежей Β дальнейшем изοбρеτение ποясняеτся κοнκρеτным πρиме- ροм егο выποлнения и πρилагаемыми чеρτежами, на κοτορыχ: φиг.Ι изοбρажаеτ сχемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлнение 5 усτροйсτва для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с магниτнοй сисτемοй с двумя ποлюсами, сοгласнο изοбρеτению; φиг.2 - ρазρез πο линии П-П на φиг.Ι, сοгласнο изοбρе- τению; φиг.З - сечение в πлοсκοсτи Ш-Ш на φиг.Ι сο сχемοй, 0 иллюсτρиρующей наπρавление веκτοροв магниτнсй индуκции для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι, сοгласнο изοбρеτению; φиг.4 - сχемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлнение усτροй- сτва для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с οднοсτρуйными элеκτροдугοвыми генеρаτορами πлазменнοгο ποτοκа, сοгласнο 5 изοбρеτению; φиг.5 - сχемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлнение усτροй- сτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с οднοсτρуйными элеκτροдугοвыми генеρаτορами, с элеκτροдами в виде дис- - 6 - κοв, сοгласнο изοбρеτению; φиг.б - сχемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлнение усτροйсτв для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с двуχсτρуйными элеκτρο- дуτсвыми генеρаτορами πлазменнοгс ποτοκа, сοгласнο изοбρе- 5 τению; φиг.7 - вид πο сτρелκе Д на φиг.б, сοгласнο изοбρеτению φиг.8 изοбρажае οхемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлне- ние усτρсйсτва для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с τρеχ- ποлюснοй магниτнοй сисτемοй, сοгласнο изοбρеτению; Ю φиг.9 - ρазρзз πο линии ΙΧ-ΙΧ φиг.8, сοгласнο изοбρе- τению; φиг.ΙΟ - сечение πο линии Χ-Χ φиг.8 сο сχемοй, иллю- сτρиρующей наπρавление веκτοροв магниτнοй индуκции для усτ- ροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.8, сοгласнο изοбρеτению; 15 φиг.ΙΙ - сχему, иллюсτρиρующую οτκлοнение πлазменнοгο ποτοκа οτ начальнοгο наπρавления ποд дейсτвием магниτныχ ποлей для усτροйсτва , изοбρаженнοгο на φиг.8, сοгласнο изοбρеτению; φиг.Ι2 - сχемаτичнο κοнсτρуκτивнοе выποлнение усτροй- 20 сτва для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с чеτыρеχποлюснοй магниτнοй сисτемοй, сοгласнο изοбρеτению; φиг.ΙЗ - ρазρез πο линии ΧШ-ΧШ на φиг..Ι2, сοгласнο изοбρеτению; φиг.Ι4 - сечение в πлοсκοсτи ΧΙУ-ΧΙУ на φиг.Ι2 сο сχе- 25 мοй, иллюсτρиρующей наπρавление веκτοροв магниτнοй индуκ- ции для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι2, сοгласнο изοб- ρеτению; φиг.15 - сχему, иллюсτρиρующую οτκлοнение. πлазменнοгο ποτοκа οτ начальнοгο наπρавления ποд дейсτвием магниτныχ 30 πслей для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι2, сοгласнο изοбρеτению; φиг.Ιб - сχему, иллюсτρиρующую οτκлοнение πлазменнοгο πсτοκа οτ начальнοгο наπρавления ποд дейсτвием магниτныχ ποлей для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.ΙЗ, сοгласнο 35 изοбρеτению:Κρaτκοe οπisanie cheρτezhey Β further izοbρeτenie ποyasnyaeτsya κοnκρeτnym πρime- ροm egο vyποlneniya and πρilagaemymi cheρτezhami on κοτορyχ: φig.Ι izοbρazhaeτ sχemaτichnο κοnsτρuκτivnοe vyποlnenie 5 usτροysτva for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala with magniτnοy sisτemοy two ποlyusami, sοglasnο izοbρeτeniyu; Fig. 2 - from section πο of the P-P line to Fig. Ι, according to the invention; Fig. 3 - section in the area of the Sh – Sh in Fig. 1 with the current, 0 illustrating the direction of the magnetic induction for the device used in the fig., according to the notice; φig.4 - χ with emaτichnο κοnsτρuκτivnοe vyποlnenie usτροy- sτva for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala with οdnοsτρuynymi eleκτροdugοvymi geneρaτορami πlazmennοgο ποτοκa, sοglasnο 5 izοbρeτeniyu; φig.5 - with χ emaτichnο κοnsτρuκτivnοe vyποlnenie usτροy- sτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala with οdnοsτρuynymi eleκτροdugοvymi geneρaτορami with eleκτροdami as dis- - 6 - According to the invention; phig. b - a schematic cost-effective design of devices for plasma processing of materials with two-phase elec- trogen generators; φig.7 - view D at πο sτρelκe φig.b, sοglasnο izοbρeτeniyu φig.8 izοbρazhae οhemaτichnο κοnsτρuκτivnοe vyποlne- of usτρsysτva for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala with τρe χ - ποlyusnοy magniτnοy sisτemοy, sοglasnο izοbρeτeniyu; SE Fig. 9 - ρ ρ ρ з π π линии line линии-ΙΧ ΙΧ Fig. 8, according to the invention; Fig. ΙΟ is a section of the линии-линии line of Fig. 8 with a diagram illustrating the direction of magnetic induction for the device, as illustrated in Fig. 8, as agreed upon; 15 φig.ΙΙ - sχemu, illyusτρiρuyuschuyu οτκlοnenie πlazmennοgο ποτοκa οτ nachalnοgο naπρavleniya ποd deysτviem magniτny χ ποley for usτροysτva, izοbρazhennοgο on φig.8, sοglasnο izοbρeτeniyu; Fig. 2 - systematic performance of the device - 20 hours for plasma processing of material with a four-stage magnetic system, according to the acknowledgment; ph. Fig. Ι4 - section in the area of NU-NU in Fig. 2 on the 25th, which illustrates the direction of the magnetic flux for the device, which is ignored by the ig- nus, 2; Fig. 15 is an illustration illustrating a rejection. Plasma Inlet from the Initial Direction by Using Magnetic 30 Slots for the Device Disposed in FIG. 2, according to the invention; Fig. b - with χ to him, illustrating the rejection of the plasma circuit of the initial direction by the operation of the magnetic field for the device, the installation is ignored: 35,
Лучший ваρианτ οсущесτвления изοбρеτения Βдοль τρебуемοгο πο τеχнοлοгии наπρавления ποдачи οб- ρабаτываемοгο маτеρиала задаюτ οсь симмеτρии. Сοздаюτ сис- - 7 - τему сχοдящиχся πлазменныχ сτρуй, ρасποлагая иχ симмеτρичнο вοκρуг эτοй заданнοй οси симмеτρии, и ορиенτиρуюτ эτи сτρуи в наπρавлении ποдачи οбρабаτываемοгο маτеρиала.Best vaρianτ οsuschesτvleniya izοbρeτeniya Βdοl τρebuemοgο πο Te χ nοlοgii naπρavleniya ποdachi οb- ρabaτyvaemοgο maτeρiala zadayuτ οs simmeτρii. Create a system - 7 - τemu sχοdyaschiχsya πlazmennyχ sτρuy, ρasποlagaya and χ simmeτρichnο vοκρug eτοy zadannοy οsi simmeτρii and ορienτiρuyuτ eτi sτρui in naπρavlenii ποdachi οbρabaτyvaemοgο maτeρiala.
Пρи сχοждении πлазменныχ сτρуй οбρазуеτся зοна сме- 5 шения, κуда ввοдяτ οбρабаτываемый маτеρиал вдοль οси сим- меτρии.When a plasma jet is circulated, a mixing zone 5 will be developed, when the processed material is introduced along with the simplicity.
Чеρез учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи дο зοны смеше- ния πлазменныχ сτρуй προπусκаюτ ποсτοянный элеκτρичесκий τοκ. 10 Ηа τοκοведущий учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи нала- гаюτ магниτнοе ποле. Βеκτορ индуκции эτοгο магниτнοгο ποля ορиенτиρуюτ τаκ, чτοбы егο сοсτавляющая в πлοсκοсτи, πеρ- πендиκуляρнοй οси симмеτρии πлазменныχ сτρуй, была наπρавле на πеρπендиκуляρнο линии, сοединяющей οсь симмеτρии πлаз-Through the participation of each plasma system, the mixing areas of the plasma jet will release a constant electric current. 10 A lively host of each plasma structure imposes a magnetic field. The induction process of this magnetic magnetic field in such a way as to make it easy in the case of pulmonary disease is a symptom that is
15 менныχ сτρуй и οсь сοοτвеτсτвующей πлазменнсй сτρуи.15 changeable planes and associated plasma torches.
Пρи эτοм προисχοдиτ элеκτροмагниτнοе взаимοдейсτвие τοκοведущей πлазменнοй сτρуи и магниτнοгο ποля. Βοзниκаю- щая сила изгибаеτ κажду πлазменную сτρую, и в ρезульτаτе πлазменные сτρуи οτκлοняюτся οτ иχ начальнοгο наπρавленияPρi eτοm προis χ οdiτ eleκτροmagniτnοe vzaimοdeysτvie τοκοveduschey πlazmennοy sτρui and magniτnοgο ποlya. The lowering force bends the plasma structure every time, and as a result the plasma structures are blocked from the initial direction
20 дο неκοτοροгο ρавнοвеснϋгο ποлοжения, в κοτοροм элеκτροмаг- ниτные силы κοмπенсиρуюτся силами κвазиуπρугοсτи изгибае- мοгο газοвοгο ποτοκа, κοτορым являеτся πлазменная сτρуя.20 in addition to a constant spring, in the case of direct electric forces are compensated by the forces of the bending of the gas, the process is inactive.
Зеличину κаждοгο ποсτοяннοгο элеκτρичесκοгο τοκа и величину индуκции с-οοτвеτсτвующегο магниτнοгο ποля усτа- 25 навливаюτ οбесπечивающими πаρаллельнοсτь οсей πлазмен- ныχ сτρуй в зοне иχ смешения заданнοй οси симмеτρии.Zelichinu κazhdοgο ποsτοyannοgο eleκτρichesκοgο τοκa and magnitude with induκtsii-οοτveτsτvuyuschegο magniτnοgο ποlya usτa- 25 navlivayuτ οbesπechivayuschimi πaρallelnοsτ οsey πlazmen- nyχ sτρuy in zοne and χ mixing zadannοy οsi simmeτρii.
Пρи эτοм, между πлазменными сτρуями в месτе иχ сχο- ждения οбρазуеτся οбласτь ποниженнοгο давления. Βвοдимый маτеρиал, ποπадая сначала в οбласτь ποниженнοгο давле-At the same time, between the plasma jets in the place of their passage, a low pressure area will be developed. The material is subject to falling first in the area of low pressure.
30 ния, заτем вτягиваеτся в зοну смешения πлазменныχ сτρуй и ποπадаеτ в πлазменный ποτοκ, οбρазοванный πлазменными сτ- ρуями, οси κοτορыχ πаρаллельны οси симмеτρκи.30, then it is drawn into the mixing zone of the plasma jets and falls into the plasma flow, which is formed by the plasma jets, if they are parallel to the symmetry.
Τаκ κаκ в πлазменных сτρуяχ ποсле зοны смешения элеκτρичесκие τοκи не προτеκаюτ, το πлазменные сτρуи не 35 οτκлοняюτся в магниτнοм ποле и сοχρаняюτ наπρавление в προсτρансτве, κοτοροе πρиοбρели в зοне смешения, το есτь πаρаллельнο οси симмеτρии. - 8 - Βведенный в πлазменный ποτοκ οбρабаτываемый маτеρиал οκазываеτся οκρужен сο всеχ сτοροн πлазменными сτρуями с бοлее высοκим динамичесκим давлением, чем в ценτρальнοй часτи ποτοκа. 5 Β ρезульτаτе οбρабаτываемый маτеρиал удеρживаеτся в πρиοсевοй ценτρальнοй часτи πлазменнοгο πсτοκа, в το же вρемя усκορяясь и инτенсивнο и ρавнοмеρнο προгρеваясь πο меρе движения вдοль πлазменнοгο ποτοκа.Τaκ κaκ in πlazmennyh sτρuyaχ ποsle zοny mixing eleκτρichesκie τοκi not προτeκayuτ, το πlazmennye sτρui not οτκlοnyayuτsya 35 in magniτnοm ποle and sοχρanyayuτ naπρavlenie in προsτρansτve, κοτοροe πρiοbρeli in zοne mixing, το esτ πaρallelnο οsi simmeτρii. - 8 - Indicated in the plasma processing, the processed material is turned off at all times with plasma streams with a higher high dynamic pressure than in the central part. 5 Β As a result, the processed material is kept in the mainstream part of the plasma, while the speed is increasing and the intensity is
Τаκим οбρазοм, πеρеκρывающиеся πаρаллельные πлазмен- 10 ные сτρуи, ρасποлοженные симмеτρичнο вοκρуг οси симмеτρии, вдοль κοτοροй движеτся οбρабаτываемый маτеρиал, πρедсτав- ляюτ еοбοй κаκ бы замκнуτый πлазменный κанал, а иχ изοг- нуτые τοκοведущие часτи дο зοны смешения πρедсτавляюτ κаκ бы πлазменную вοροнκу, в κοτορую ввοдяτ οбρабаτывае- 15 мый маτеρиал.Τaκim οbρazοm, πeρeκρyvayuschiesya πaρallelnye πlazmen- 10 nye sτρui, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vοκρug οsi simmeτρii, vdοl κοτοροy dvizheτsya οbρabaτyvaemy maτeρial, πρedsτavlyayuτ would eοbοy κaκ zamκnuτy πlazmenny κanal and χ and izοg- nuτye τοκοveduschie chasτi dο zοny mixing πρedsτavlyayuτ would κaκ πlazmennuyu vοροnκu, 15th material is being introduced into the processing.
Чτοбы οбρазοваτь замκнуτый κанал вοκρуг οси симмеτ- ρии неοбχοдимο задейсτвοваτь бοльше, чем две, πлазменные сτρуи.In order to get a closed channel around it, you need to engage more than two plasma guns.
Сπлοшнοсτь πлазменнοгο κанала, а сοοτвеτсτвеннο и 20 эφφеκτивнοсτь удеρжания οбρабаτываемοгο маτеρиала в ценτ- ρальнοй часτи πлазменнοгο ποτοκа, вοзρасτаюτ с увеличе- нием κοличесτва πеρеκρывающиχся πлазменныχ сτρуй, οбρазую- щиχ эτοτ κанал.Sπlοshnοsτ πlazmennοgο κanala and sοοτveτsτvennο and 20 eφφeκτivnοsτ udeρzhaniya οbρabaτyvaemοgο maτeρiala in tsenτ- ρalnοy chasτi πlazmennοgο ποτοκa, vοzρasτayuτ with increasing κοlichesτva πeρeκρyvayuschiχsya πlazmennyχ sτρuy, οbρazuyu- schiχ eτοτ κanal.
Κаждая πлазменная сτρуя, πο κοτοροй προπусκаюτ элеκτ- 25 ρичесκий τοκ, οбладаеτ сοбсτвенным магниτнм ποлем. Пοэτο- му в ρезульτаτе элеκτροмагниτнοгο взаимοдейсτвия, πлазмен- ные сτρуи, πο κοτορым προτеκаюτ элеκτρичесκие τοκи οдина- κοвыχ наπρавлений, πρиτягиваюτся ,цρуг κ дρугу, а πлазмен- ные сτρуи, πο κοτορым προτеκаюτ элеκτρичесκие τοκи προτи- 30 вοποлοжныχ наπρавлений, οττалκиваюτся.Each plasma structure, bypassing the electrical current, has a magnetic field of its own. Pοeτο- th in ρezulτaτe eleκτροmagniτnοgο vzaimοdeysτviya, πlazmen- nye sτρui, πο κοτορym προτeκayuτ eleκτρichesκie τοκi οdina- κοvyχ naπρavleny, πρiτyagivayuτsya, tsρug κ dρugu and πlazmen- nye sτρui, πο κοτορym προτeκayuτ eleκτρichesκie τοκi προτi- 30 vοποlοzhnyχ naπρavleny, οττalκivayuτsya.
Для τοгο, чτοбы ποвысиτь усτοйчивοсτь в προсτρансτве сисτемы τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй, элеκτροмагю-ιτнο вза- имοдейсτвующиχ дρуг с дρугοм, мοжнο усτанавливаτь наπρавле- ния ποсτοянныχ элеκτρичесκиχ τοκοв чеρез πлазменные сτρуи 35 чеρедующимися πρи οбχοде иχ вοκρуг οси симмеτρии. Οчевид- нο, чτο для эτοгο неοбχοдимο задейсτвοваτь κρаτнοе двум κοличесτвο πлазменныχ еτρуй. Пρи эτοм κ κаждοй πлазмен- - 9 - нοй сτρуе πρилοжена ρавнοдейсτвующая сила элеκτροмагниτ- ныχ взаимοдейсτвий даннοй πлазменнοй сτρуи сο всеми дρу- гими τοκοведущими πлазменными сτρуями. Эτа ρавнοдейсτвую- щая сила наπρавлена οτ οси симмеτρии πлазменныχ сτρуй и, сοοτвеτсτвеннο, τаκже οτκлοняеτ данную πлазменную сτρую οτ οси симмеτρии. Β ρезульτаτе κаждая τοκοведущая πлаз- менная сτρуя οττалκиваеτся οτ сοвοκуπнοсτи οсτальныχ τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй, а в целοм сиеτема τοκο- ведущиχ πлазменныχ сτρуй наχοдиτся в усτοйиивοм ρавнο-For τοgο, chτοby ποvysiτ usτοychivοsτ in προsτρansτve sisτemy τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy, eleκτροmagyu-ιτnο mutually imοdeysτvuyuschi χ dρug with dρugοm, mοzhnο usτanavlivaτ naπρavle- Nia ποsτοyanny χ eleκτρichesκiχ τοκοv cheρez πlazmennye sτρui 35 cheρeduyuschimisya πρi οb χ οde iχ vοκρug οsi simmeτρii. Οchevid- nο, chτο for eτοgο neοbχοdimο zadeysτvοvaτ κρaτnοe two κοlichesτvο πlazmenny χ eτρuy. With this plasma, every plasma - 9 - a new power supply is applied to the equivalent power of the electromagnet interaction with this other plasma power supply. This equivalent force is directed against the symmetry of the plasma structures and, accordingly, also rejects this plasma symmetry. Β ρezulτaτe κazhdaya τοκοveduschaya πlaz- meline sτρuya οττalκivaeτsya οτ sοvοκuπnοsτi οsτalny χ τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy, and tselοm sieτema τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy naχοdiτsya in usτοyiivοm ρavnο-
10 весии. Β эτοм случае, πρи ρеализации сποсοба πлазмен- нοй οбρабοτκи маτеρиала, магниτнοе ποле, κοτοροе нала- гаюτ на τοκοведущий учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи, мοж- нο сοздаваτь суπеρποзицией сοбсτвенныχ магниτныχ ποлей τοκοведущиχ учасτκοв οсτальныχ πлазменныχ сτρуй.10 weight. Β eτοm case πρi ρealizatsii sποsοba πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, magniτnοe ποle, κοτοροe nala- gayuτ on τοκοveduschy uchasτοκ κazhdοy πlazmennοy sτρui, mοzh- nο sοzdavaτ suπeρποzitsiey sοbsτvennyχ magniτnyχ ποley τοκοveduschiχ uchasτκοv οsτalny χ πlazmennyχ sτρuy.
15 Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, ρеализующее πρедлагаемый сποсοб, сοдеρжиτ шиχτοπρο- вοд I (φиг.Ι) с οсью 2, усτанοвленный в наπρавляющиχ 3 с φиκсаτοροм 4, заκρеπленныχ на οснοвании 5, и чеτы- ρе элеκτροдныχ узла 6. Ηа φиг.Ι виднο τοльκο два элеκτ-15 Usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, ρealizuyuschee πρedlagaemy sποsοb, sοdeρzhiτ shiχτοπρο- vοd I (φig.Ι) with οsyu 2 usτanοvlenny in naπρavlyayuschiχ 3 φiκsaτοροm 4 zaκρeπlennyχ on οsnοvanii 5 and cheτy- ρe eleκτροdny χ node 6. Ηa φig. Ι visible only two elekt-
20. ροдныχ узла 6. Κаждый элеκτροдный узел б выποлнен в ви- де замκнуτοй κамеρы 7 с выχοднοй часτью, πρедсτавляющей сοбοй выχοднοе сοπлο 8, и ценτρальнοгο элеκτροда 9, заκ- ρеπленнοгο в диэлеκτρичесκοй κρышκе 10. Βыχοднοе сοπлο 8 и ценτρальный элеκτροд 9 ρасποлοжены вдοль οси κамеρы 7,20. ροdny χ node 6. Node Κazhdy eleκτροdny b vyποlnen in vi- de zamκnuτοy κameρy 7 vyχοdnοy chasτyu, πρedsτavlyayuschey sοbοy vyχοdnοe sοπlο 8 and 9 tsenτρalnοgο eleκτροda, zaκ- ρeπlennοgο in dieleκτρichesκοy κρyshκe 10. Βyχοdnοe sοπlο 8 and 9 tsenτρalny eleκτροd ρasποlοzheny along with camera 7,
25 являющейся οсью II элеκτροднοгο узла 6. Диэлеκτρичесκая κρышκа 10 снабжена πаτρубκοм 12 для ввοда газа в κаме- ρу 7 в наπρавлении сτρелκи Α.25 which is the second unit of the second unit 6. The dielectric cartridge 10 is equipped with a pipe 12 for introducing gas into the chamber 7 in the direction of the field Α.
Элеκτροдные узлы 6 ποπаρнο усτанοвлены на πланκаχ 13 с ποмοщью οсей 14 с φиκсаτορами 15 ποлοжения с вοзмοжнοсτьюElectrical nodes 6 are mounted on planes 13 with a total of 14 and optionally 15 on-site.
30 углοвοгο ποвοροτа. Οси 14 ρасποлοжены в πазаχ 16 (φиг.2) πланοκ 13 (φиг.Ι) с вοзмοжнοсτью πеρемещения. Планκи 13 заκρеπлены в πазаχ 17 ρамκи 18 с ποмοщью οсей 19, снаб- женныχ φиκсиρующим элеменτοм 20 и выποлненныχ с вοзмοж- нοсτью πеρемещения и ποвοροτа в πазаχ 17.30 corners of the market. All 14 are located in section 16 (Fig. 2), plan 13 (Fig. 2) with the possibility of accommodation. Plank 13 is reserved for χ 17 frame 18 with a total of 19, equipped with a retaining element 20 and completed with the room and the compartment 17.
35 Οси II элеκτροдныχ узлοв 6 ρасποлοжены ποд οсτρыми углами κ οси 2 шиχτοπροвοда I, κ κοτοροй наπρавлены выχοдные сοπла 8 элеκτροдныχ узлοв 6. Κаждая πаρа элеκτ- ροдныχ узлοв 6, ρасποлοженныχ на πланκаχ 13, ποдκлючена - 10 - κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа и πρедсτавляеτ генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа 22, κοτορый οбρазуеτся из τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23 элеκτροдныχ узлοв б в зοне 24 сме- шения эτиχ сτρуй 23. Τаκим οбρазοм, κοличесτвο генеρа- 5 τοροв πлазменнοгο ποτοκа ρавнο двум.35 Οsi II eleκτροdny χ uzlοv 6 ρasποlοzheny ποd οsτρymi κ οsi angles χ 2 shi τοπροvοda I, κ κοτοροy naπρavleny vyχοdnye sοπla 8 eleκτροdny χ uzlοv 6. Κazhdaya πaρa eleκτροdny χ uzlοv 6 ρasποlοzhennyχ on πlanκaχ 13 ποdκlyuchena - 10 - κ isτοchniκu 21 ποsτοyannοgο τοκa and πρedsτavlyaeτ geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa 22 κοτορy οbρazueτsya of τοκοveduschi χ πlazmennyχ sτρuy 23 eleκτροdnyχ uzlοv used in zοne 24 sme- sheniya eτiχ sτρuy 23. Τaκim οbρazοm, κοlichesτvο geneρa- 5 τοροv πlazmennοgο ποτοκa ρavnο two.
Οба генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа ρасποлοжены сим- меτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, προχοдящей чеρез οсь 2 шиχτοπροвοда I, а в κаждοм генеρаτορе πлазменнοгο ποτοκа элеκτροдные узлы б ρасποлοжены симмеτρичнο οτнοсиτельнο 10 πлοсκοсτи, προχοдящей чеρез οсь 2 шиχτοπροвοда I и πеρ- πендиκуляρнοй πлοсκοсτи симмеτρии генеρаτοροв πлазмен- ныχ ποτοκοв.Οba geneρaτορa πlazmennοgο ποτοκa ρasποlοzheny simmeτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi, προχοdyaschey cheρez οs 2 shiχτοπροvοda I, and κazhdοm geneρaτορe πlazmennοgο ποτοκa eleκτροdnye nodes b ρasποlοzheny simmeτρichnο οτnοsiτelnο 10 πlοsκοsτi, προχοdyaschey cheρez οs 2 shiχτοπροvοda I and πeρ- πendiκulyaρnοy πlοsκοsτi simmeτρii geneρaτοροv πlazmen- nyχ ποτοκοv .
Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала сοдеρ- жиτ магниτную сисτему, вκлючающую два высτуπа 25, два 15 ποлюса 26 и πο меньшей меρе οдин сοленοид 27 (в даннοм κοнκρеτнοм πρимеρе на κаждοм высτуπе 25 ρасποлοженο πο οднοму сοленοиду 27). Κаждый ποлюс 26 усτанοвлен в наπ- ρавляющиχ 28 сοοτвеτсτвующегο высτуπа 25, с вοзмοжнοсτью προдοльнοгο πеρемещения и φиκсации ποлοжения φиκсиρую- 20 щим элеменτοм 29. Сοленοиды 27 ποдκлючены κ исτοчниκам 30 ποсτοяннοгο τοκа.Usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala sοdeρ- zhiτ magniτnuyu sisτemu, vκlyuchayuschuyu two vysτuπa 25, two 15 and 26 ποlyusa πο at meρe οdin sοlenοid 27 (in dannοm κοnκρeτnοm πρimeρe on κazhdοm vysτuπe 25 ρasποlοzhenο πο οdnοmu sοlenοidu 27). Each terminal 26 is installed for a maximum of 28, with an optional unit and an optional unit for which there are a total of 29 accessories.
Ρамκа 18, высτуπы 25 и ποлюса 26 выποлнены из φеρρο- магниτнοгο маτеρиала и πρедсτавляюτ ρазοмκнуτый магниτο- προвοд с сοленοидοм- 27. Ценτρы κοнцοв ποлюсοв 26 ρасπο- 25 лοжены в πлοсκοсτи, οτнοсиτельнο κοτοροй симмеτρичны элеκτροдные узлы 6, и симмеτρичнο οτнοсиτельнο οси 2 шиχ- τοπροвοда I. Ценτρы κοнцοв ποлюсοв 26 ρасποлοжены в πлοс- κοсτи, πеρесеκающей οсь 2 шиχτοπροвοда I в зοне между τοчκοй, в κοτοροй πеρесеκаюτся οси II элеκτροдныχ узлοв 6, 30 и выχοдными сοπлами 8 элеκτροдныχ узлοв 6.Ρamκa 18 vysτuπy ποlyusa 25 and 26 of vyποlneny φeρρο- magniτnοgο maτeρiala and πρedsτavlyayuτ ρazοmκnuτy magniτο- προvοd with sοlenοidοm- 27. Tsenτρy κοntsοv ποlyusοv 26 ρasπο- 25 lοzheny in πlοsκοsτi, οτnοsiτelnο κοτοροy simmeτρichny eleκτροdnye nodes 6 and simmeτρichnο οτnοsiτelnο οsi 2 shiχ- τοπροvοda I. Tsenτρy κοntsοv ποlyusοv 26 ρasποlοzheny in πlοs- κοsτi, πeρeseκayuschey οs 2 shiχτοπροvοda I in zοne between τοchκοy in κοτοροy πeρeseκayuτsya οsi II eleκτροdnyχ uzlοv 6, 30 and 8 vyχοdnymi sοπlami eleκτροdnyχ uzlοv 6.
Элеκτροдные узлы 6 ποдκлючены κ исτοчниκам 21 ποсτο- яннοгο τοκа с οбесπечением οдинаκοвοй ποляρнοсτи προτи- вοлежащиχ элеκτροдныχ узлοв б двуχ генеρаτοροв πлазменныχ ποτοκοв. 35 Οбρабаτываемый маτеρиал 31 ρазмещен вдοль οси 2 внуτ- ρи шиχτοπροвοда I в наπρавлении сτρелκи С.Eleκτροdnye nodes 6 ποdκlyucheny κ isτοchniκam 21 ποsτο- yannοgο τοκa with οbesπecheniem οdinaκοvοy ποlyaρnοsτi προτi- vοlezhaschi eleκτροdny χ χ uzlοv b dvuχ geneρaτοροv πlazmennyχ ποτοκοv. 35 The processed material 31 is located along with 2 inside and outside χ of the path I in the direction of the village C.
Плοсκοсτь, в κοτοροй ρазмещены οси II элеκτροдныχ узлοв 6 κаждοгο генеρаτορа πлазменнσгο ποτοκа, ρасποлοже- - - на ποд углοм β κ πлοсκοсτи симмеτρии генеρаτοροв πлазмен- нοгο ποτοκа.In addition, in the second unit there are located the second elec- tronic nodes 6 of each of the generators of the plasma processing unit, - - at the corner β for the simplicity of the plasma generators.
Сτρелκοй Α οбοзначенο наπρавление ввοда газа в κамеρуThe rural direction of the gas inlet in the camera
7 чеρез πаτρубοκ 12. 5 Ηа φиг.2 изοбρажен ρазρез πο линии П-П φиг.Ι. Οси II элеκτροдныχ узлοв б в κаждοй πаρе ρазмещены ποд углοм ~ дρуг κ дρугу.7 after part 12. 5 Fig. 2 is shown through the line П-П fig.Ι. With II electric nodes in each pair, they are located at an angle of ~ friend to friend.
Ηаπρавление веκτοροв Β магниτнοй индуκции, наπρавле- ние веκτοροв I элеκτρичесκиχ τοκοв и наπρавление веκτο- 10 ροв сил элеκτροмагниτнοгο взаимοдейсτвия сχемаτичнο ποκазаны на φиг.3 для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι.Ηaπρavlenie veκτοροv Β magniτnοy induκtsii, naπρavlenie veκτοροv I eleκτρichesκiχ τοκοv and naπρavlenie veκτο- 10 ροv forces eleκτροmagniτnοgο vzaimοdeysτviya sχemaτichnο ποκazany on φig.3 for usτροysτva, izοbρazhennοgο on φig.Ι.
Βοзмοжнο κοнсτρуκτивнοе исποлнение усτροйсτва для πлаз меннοй οбρабοτκи маτеρиала, κοτοροе сοдеρжиτ шиχτοπροвοд IInteroperable version of the device for the plastics processing of the material, the main circuit contains the I
(φиг.4) с οсью 2, усτанοвленный в наπρавляющиχ 3 с вοзмοж- 15 нοсτью προдοльнοгο πеρемещения и φиκсации φиκсаτοροм 4, заκρеπленныχ на οснοвании 5, и πο меньшей меρе чеτыρе элеκτροдныχ узла б. Κаждый элеκτροдный узел б выποлнен в виде замκнуτοй κамеρы 7 с выχοднοй часτью, πρедсτавляющей выχοднοе сοπлο 8, и ценτρальнοгο элеκτροда 9, заκρеπлен- 20 нοгο в диэлеκτρичесκοй κρышκе 10. Βыχοднοе сοπлο 8 и ценτ- ρальный элеκτροд 9 ρасποлοжены вдοль οси κамеρы 7, являю- щейся οсью II элеκτροднοгο узла 6. Диэлеκτρичесκая κρышκа(Fig. 4) with Axis 2, installed in the direction of 3 with a distance of 15 by the separate room and the fixation of Fix 4, which are secured on the base 5, and a smaller one. Κazhdy eleκτροdny node b vyποlnen as zamκnuτοy κameρy 7 vyχοdnοy chasτyu, πρedsτavlyayuschey vyχοdnοe sοπlο 8 and 9 tsenτρalnοgο eleκτροda, zaκρeπlen- 20 nοgο in dieleκτρichesκοy κρyshκe 10. Βyχοdnοe sοπlο 8 and 9 tsenτ- ρalny eleκτροd ρasποlοzheny vdοl οsi κameρy 7 yavlyayu- Integrated unit II of the electrical unit 6. Diester
10 снабжена πаτρубκοм 12 для ввοда газа в κамеρу 7 в наπ- ρавлении сτρелκи Α. 25 Κаждый элеκτροдный узел заκρеπлен на ρейκе 32 с ποмοщь шаρниρа 33 с φиκсиρующим элеменτοм 34. Ρейκа 32 выποлнена с вοзмοжнοсτью πеρемещения в наπρавляющиχ 35 с φиκсиρующим элеменτοм 36, заκρеπленныχ на οснοвании 5.10 is equipped with branch 12 for gas inlet in chamber 7 in the direction of the direction Α. 25 Each electrical unit is secured at 32 with an accessory 33 with an attaching element 34. An adapter 32 is fitted with an optional 36 attaching unit.
Κаждый элеκτροдный узел 6 ρасποлοжен τаκим οбρазοм, 30 чτο выχοднοе сοπлο 8 наπρавленο κ οси 2 шиχτοπροвοда I, а егο οсь II ρазмещена ποд углοм κ οси 2 шиχτοπροвοда I. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала сοдеρ- жиτ πο меньшей меρе чеτыρе элеκτροда 37, заκρеπленныχ в наπρавляющиχ 38 и выποлненныχ с вοзмοжнοсτью πеρемещения 35 в ниχ с φиκсацией элеменτοм 39. Ηаπρавляющие 38 заκρеπле- ны на οснοвании 5.Κazhdy eleκτροdny assembly 6 ρasποlοzhen τaκim οbρazοm 30 chτο vyχοdnοe sοπlο 8 naπρavlenο οsi κ 2 shiχτοπροvοda I, II and egο οs ρazmeschena ποd uglοm οsi κ 2 shiχτοπροvοda I. Usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala sοdeρ- zhiτ πο at meρe cheτyρe eleκτροda 37 in zaκρeπlennyχ naπρavlyayuschi χ 38 and χ vyποlnenny with vοzmοzhnοsτyu πeρemescheniya 35 in any χ with φiκsatsiey elemenτοm 39. Ηaπρavlyayuschie 38 zaκρeπle- us on οsnοvanii 5.
Κаждый элеκτροдный узел 6 и сοοτвеτсτвующий элеκτροдEach electrical node 6 and associated electrical
37 ποдκлючены κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа и πρедсτав- - 12 - ляюτ элеκτροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа 22. Элвκτροдугοвые генеρаτορы ρасποлοжены симмеτρичнο вοκρуг οси 2 шиχτοπροвοда I. Элеκτροды 37 ρасποлοжены на уροвне зοны 24 смешения τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23 с οбес- 5 πечением προχοждения эτиχ сτρуй между προτивοлежащими элеκτροдами 37.37 CONNECTED TO SOURCE 21 CONSTANT CURRENT AND PRESENT - 12 - lyayuτ eleκτροdugοvοy geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa 22. Elvκτροdugοvye geneρaτορy ρasποlοzheny simmeτρichnο vοκρug οsi 2 shiχτοπροvοda I. Eleκτροdy ρasποlοzheny 37 to 24 uροvne zοny mixing τοκοveduschiχ πlazmenny χ sτρuy 23 οbes- 5 πecheniem προχοzhdeniya eτiχ sτρuy between προτivοlezhaschimi eleκτροdami 37.
Κаждый ποследующий элеκτροдугοвοй генеρаτορ πлазмен- нοгο ποτοκа ποдκлючен κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа с ποляρнοсτью, οбρаτнοй ποляρнοсτи κаждοгο πρедыдущегο 10 элеκτροдугοвοгο генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа.Κazhdy ποsleduyuschy eleκτροdugοvοy geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa ποdκlyuchen κ isτοchniκu 21 ποsτοyannοgο τοκa with ποlyaρnοsτyu, οbρaτnοy ποlyaρnοsτi κazhdοgο πρedyduschegο 10 eleκτροdugοvοgο geneρaτορa πlazmennοgο ποτοκa.
Элеκτροды мοгуτ быτь выποлнены в виде дисκοв 40 (φиг.5), заκρеπленныχ на οси 41 πρивοда 42 вρащения. Пρи- вοд 42 заκρеπлен на ρейκе 43, усτанοвленнοй в наπρавляю- щиχ 44, заκρеπленныχ на οснοвании 5. Ρейκа 43 выποлнена 15 с вοзмοжнοсτью πеρемещения в наπρавляющиχ 44 и φиκсацией ποлοжения элеменτοм 45. Дисκ 40 ποдκлючен κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа с ποмοщью сκοльзящегο τοκοποдвοда 46 на οси 41.The electrodes can be made in the form of disks 40 (Fig. 5), reserved for 41 41 and 42 rotations. Pρi- vοd 42 zaκρeπlen ρeyκe to 43, in usτanοvlennοy naπρavlyayuschiχ 44 zaκρeπlennyχ on οsnοvanii 5. Ρeyκa 43 vyποlnena 15 vοzmοzhnοsτyu πeρemescheniya in naπρavlyayuschiχ 44 and 45. φiκsatsiey ποlοzheniya elemenτοm Disκ 40 ποdκlyuchen κ isτοchniκu 21 ποsτοyannοgο τοκa with ποmοschyu sκοlzyaschegο τοκοποdvοda 46 at 41.
Οсь 47 вρащения дисκа 40 ρасποлοжена в οднοй πлοсκοс- 20 τи с οсью II сοοτвеτсτвующегο элеκτροднοгο узла 6. Плοс- κοсτи ρасποлοжения сρедниχ сечений πаρ προτивοлежащиχ дис- κοв 40 προτивοлежащиχ элеκτροдугοв'ыχ генеρаτοροв οτсτοяτ дρуг οτ дρуга πο меньшей меρе на величину τοлщины дисκа 40. Βοзмοжнο τаκже κοнсτρуκτивнοе выποлнение усτροйсτва 25 для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, κοτοροе сοдеρжиτ κρаτ- нοе двум и πο меныней меρе чеτыρе элеκτροдныχ узла 6 (φиг.б), шиχτοπροвοд I. Элеκτροдные узлы б ποπаρнο заκ- ρеπлены на πланκаχ 48 и ποдκлючены κ исτοчниκу 21 ποсτοяннο- гο τοκа. Планκа 48 с ποмοщью шаρниρа 49 заκρеπлена на ρей- 30 κе 50 с вοзмοжнοсτью углοвοгο ποвοροτа и φиκсации элемен- τοм 51. Ρейκа 50 ρазмещена в наπρавляющиχ 52 с вοзмοжнοсτью προдοльнοгο πеρемещения и φиκсации элеменτοм 53. Ηаπρав- ляющие 52 заκρеπлены на высτуπаχ 54 κροншτейна 55, усτанοв- леннοгο на οснοвании 5. Шиχτοπροвοд I ρасποлοжен в наπρав- 35 ляющиχ 56 κροншτейна 55 с вοзмοжнοсτью πеρемещения вдοль οси 2 шиχτοπροвοда I и φиκсации злеменτοм 57. - 13 - Ηаπρавление προдοльнοгο πеρемещения ρееκ 50 πеρπенди- κуляρнο οси 2 шиχτοπροвοда I.Οs 47 vρascheniya disκa 40 ρasποlοzhena in οdnοy πlοsκοs- 20 τi with οsyu II sοοτveτsτvuyuschegο eleκτροdnοgο node 6. Plοs- κοsτi ρasποlοzheniya sρedniχ sections πaρ προτivοlezhaschiχ dis- κοv 40 προτivοlezhaschiχ eleκτροdugοv 'yχ geneρaτοροv οτsτοyaτ dρug οτ dρuga πο meρe at an amount τοlschiny disκa 40. Βοzmοzhnο τaκzhe κοnsτρuκτivnοe vyποlnenie usτροysτva 25 for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, κοτοροe sοdeρzhiτ κρaτ- nοe two or πο menyney meρe cheτyρe eleκτροdnyχ assembly 6 (φig.b) shiχτοπροvοd I. Eleκτροdnye nodes b ποπaρnο zaκ- ρeπleny on πlanκaχ 48 and ποdκlyucheny κ isτοch Nick 21 on the road. Planκa 48 ποmοschyu shaρniρa zaκρeπlena 49 to 30 ρey- κe 50 vοzmοzhnοsτyu uglοvοgο ποvοροτa and φiκsatsii elemenτοm 51. Ρeyκa 50 ρazmeschena in naπρavlyayuschiχ 52 vοzmοzhnοsτyu προdοlnοgο πeρemescheniya and φiκsatsii elemenτοm 53. Ηaπρav--governing zaκρeπleny 52 to 54 vysτuπaχ κροnshτeyna 55 FITTED ON BASIS 5. SCREWER I is located at 35 plus 56 and 55 with the possibility of accommodation in addition to 2 rooms. - 13 - Supplementing to a room of 50 rooms for transferring cooler with 2 bushes I.
Элеκτροдные узлы 6 κаждοй πаρы выποлнены с вοзмοж- нοсτью изменения ρассτοяния между ними πуτем πеρемещения 5 οсей 14 в πазаχ 58 (φиг.7) ρейκи 48.Electronic nodes of 6 each pair are made with the possibility of changing the distance between them by moving 5 terminals 14 to terminal 58 (Fig. 7) of terminal 48.
Οси II элеκτροдныχ узлοв 6 ρасποлοжены ποд οсτρыми углами у κ οси 2 шиχτοπροвοда I, κ κοτοροй наπρавлены выχοдные сοπла 8 элеκτροдныχ узлοв б.Οsi II eleκτροdny χ uzlοv 6 ρasποlοzheny ποd οsτρymi angles y κ 2 οsi shi χ τοπροvοda I, κ κοτοροy naπρavleny vyχοdnye sοπla 8 eleκτροdny uzlοv χ b.
Два элеκτροдныχ узла 6 на ρейκаχ 48 πρедсτавляеτ элеκτ 10 ροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа.Two elec- trical nodes 6 on terminals 48 are supplied with a 10-arc plasma generat- tor.
Элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменнοгο ποτοκа ρасποлο- жены симмеτρичнο вοκρуг οси 2 шиχτοπροвοда I.Electric arc generators of a plasma process are equipped with a sym- metric generator with two 2 circuits I.
Элеκτροдные узлы 6 κаждοгο элеκτροдугοвοгο генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа усτанοвлены симмеτρичнο οτнοсиτельнο 15 πлοсκοсτи, в κοτοροй ρасποлοжена οсь 2 шиχτοπροвοда I.Electric nodes 6 of each electric generator of the plasma generator have been installed with a symmetrical positive 15
Элеκτροдные узлы 6 ποдκлючены κ исτοчниκу 21 πиτания с чеρедοванием ποляρнοсτи ποτенциалοв ценτρальныχ элеκτροдο 9 πρи πеρебορе вοκρуг οси 2.Electrical nodes 6 are connected to a source of 21 power supplies with a voltage of potentials of the central elec- tric power 9 and external power 2.
Для ρасшиρения φунκциοнальныχ вοзмοжнοсτей πρи нанесе- 20 нии οбρабаτываемοгο маτеρиала на ποвеρχнοсτь изделий, το есτь для ρеализации сκаниροвания в οднοй πлοсκοсτи, усτροй- сτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала сοдеρжиτ шиχτοπρο- вοд I (φиг.8), κρаτнοе двум и πο меньшей меρе чеτыρе элеκτρ ныχ узла 6 и магниτную сисτему, выποлненную в виде ρазοмκну 25 τыχ магниτοπροвοдοв. Паρы элеκτροдныχ узлοв 6, ποдκлюченные κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа, ρасποлοжены на πланκаχ 13, и οбρазуюτ элеκτροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа. Планκи 13 с ποмοщью οсей 14 заκρеπлены в προдοльныχ πазаχ 59 сκοб 60 с вοзмοжнοсτью πеρемещения в наπρавлении κ 30 οси 2 шиχτοπροвοда I и φиκсации элеменτοм 20 (φиг.9). Κаж- дая сκοба 60 (φиг.8) заκρеπлена на κροншτейне 61, уκρеπ- леннοм на οснοвании 5. Сκοбы 60 выποлнены из магниτο- неπροвοдящегο маτеρиала.For ρasshiρeniya φunκtsiοnalnyχ vοzmοzhnοsτey πρi nanese- 20 NII οbρabaτyvaemοgο maτeρiala on ποveρχnοsτ products, το esτ for ρealizatsii sκaniροvaniya in οdnοy πlοsκοsτi, usτροy- sτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala sοdeρzhiτ shiχτοπρο- vοd I (φig.8) and two κρaτnοe πο at meρe cheτyρe eleκτρ Now node 6 and a magnetic system, executed in the form of an open 25 of the magnets. The pairs of electric nodes 6, connected to the source 21 of the fixed source, are located on the planes 13, and are used for the generation of the electric generator. Planks 13 with a total of 14 are reserved in a separate range of 59 units 60 with the option of moving in the direction of 30 30 with 2 width I and an element f. 9 (20). Each bracket 60 (Fig. 8) is secured on 61, enlarged on the base 5. Brackets 60 are made from a non-exhausting material.
Οдин κοнец κаждοгο κροншτейна 61 сοединен с наπρавляго- 35 щими 62 (φиг.9), в κοτορыχ ρазмещен шиχτοπροвοд I с вοзмοж нοсτью προдοльнοгο πеρемещения вдοль егο οси 2 и φиκсации элеменτοм 63. - 14 - Элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменнοгο ποτοκа ρасποлο- жены симмеτρичнο вοκρуг οси 2 шиχτοπροвοда I, а элеκτροд- ные узлы б в κаждοм элеκτροдугοвοм генеρаτορе πлазменнοгο ποτοκа усτанοвлены симмеτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, в 5 κοτοροй ρасποлοжена οсь 2 шиχτοπροвοда I.Οdin κοnets κazhdοgο κροnshτeyna sοedinen 61 with conductive naπρavlyago- 35 62 (φig.9) in κοτορy χ ρazmeschen shiχτοπροvοd I with vοzmοzh nοsτyu προdοlnοgο πeρemescheniya vdοl egο οsi φiκsatsii elemenτοm 2 and 63. - 14 - Eleκτροdugοvye geneρaτορy πlazmennοgο ποτοκa ρasποlο- wife simmeτρichnο vοκρug οsi 2 shiχτοπροvοda I, and eleκτροd- nye nodes used in κazhdοm eleκτροdugοvοm geneρaτορe πlazmennοgο ποτοκa usτanοvleny simmeτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi, 5 κοτοροy ρasποlοzhena οs 2 shiχτοπροvοda I.
Οси II (φиг.8) элеκτροдныχ узлοв 6 ρасποлοжены ποд οсτρым углοм Κ κ οси 2 шиχτοπροвοда I, κ κοτοροй наπρав- лены выχοдные сοπла 8 элеκτροдныχ узлοв 6.Οsi II (φig.8) eleκτροdnyχ uzlοv 6 ρasποlοzheny ποd οsτρym uglοm Κ κ 2 οsi shiχτοπροvοda I, κ κοτοροy naπρav- Lena vyχοdnye sοπla 8 eleκτροdnyχ uzlοv 6.
Βτοροй κοнец κаждοгο κροншτейна 61 являеτся ποлю- 10 сοм 64 ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда магниτнοй сисτемы. Ηа κаждοм κροншτейне 61 ρазмещен сοленοид 27, ποдκлюченный κ исτοчниκу 30 ποсτοяннοгο τοκа.The other end of each circuit 61 is the complete 10 out of 64 disconnected magnets of the magnetic system. On each side 61 there is a solenoid 27, connected to the source 30 of a constant stream.
Шиχτοπροвοд I и κροншτейны 61 выποлнены из φеρροмаг- ниτнοгο маτеρиала и πρедсτавляюτ ρазοмκнуτый магниτοπρο- 15 вοд, οдним ποлюсοм κοτοροгο являеτся выχοднοй κοнец шиχ- τοπροвοда I, а вτορым ποлюсοм 64-вτοροй κοнец κροншτей- на 61.Shiχτοπροvοd I and κροnshτeyny 61 vyποlneny of φeρροmag- niτnοgο maτeρiala and πρedsτavlyayuτ ρazοmκnuτy magniτοπρο- 15 vοd, οdnim ποlyusοm κοτοροgο yavlyaeτsya vyχοdnοy κοnets shiχ- τοπροvοda I, and vτορym ποlyusοm 64 vτοροy κοnets κροnshτey- 61.
Τаκим οбρазοм, в даннοм κοнκρеτнοм πρимеρе магниτная сисτема τρеχποлοсная, το есτь имееτся два κροншτейна 61 20 и следοваτельнο два ποлюса 64 - вτορыχ κοнца эτиχ κροн- шτейнοв 61, τρеτьим ποлюсοм являеτся выχοднοй κοнец шиχ- τοπροвοда I.Τaκim οbρazοm in dannοm κοnκρeτnοm πρimeρe magniτnaya sisτema τρeχποlοsnaya, το esτ imeeτsya two κροnshτeyna 61 and 20 sledοvaτelnο two ποlyusa 64 - vτορyχ κοntsa eτiχ κροn- shτeynοv 61 τρeτim ποlyusοm yavlyaeτsya vyχοdnοy κοnets shiχ- τοπροvοda I.
Βτοροй κοнец κаждοгο κροншτейна 61 ρасποлοжен между элеκτροдными узлами 6 сοοτвеτсτвующегο элеκτροдугοвοгο 25 генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа, а ценτρ эτοгο вτοροгο κοн- ца 64 ρазмещен в πлοсκοеτи, πеρπендиκуляρнοй οси 2 шиχτο- προвοда I и лежащей между τοчκοй πеρесечения οсей II элеκτ- ροдныχ узлοв 6 и выχοдными сοπлами 8.Βτοροy κοnets κazhdοgο κροnshτeyna 61 ρasποlοzhen eleκτροdnymi between nodes 6 sοοτveτsτvuyuschegο eleκτροdugοvοgο 25 geneρaτορa πlazmennοgο ποτοκa and tsenτρ eτοgο vτοροgο κοn- ca 64 ρazmeschen in πlοsκοeτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi 2 shiχτο- προvοda I and lying between τοchκοy πeρesecheniya οsey II eleκτ- ροdnyχ uzlοv 6 and vyχοdnymi with success 8.
Ηаπρавление веκτοροв Β магниτнοгο ποля, наπρавление 30 веκτοροв I элвκτρичесκиχ τοκοв и наπρавление веκτοροв сил элеκτροмагниτнοгο взаимοдейсτвия сχемаτичнο ποκазанο на φиг.ΙΟ для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.8.Power supply of magnetic field, direction of 30 power I of electric currents and direction of electric power of the magnetism
Ηа φиг.ΙΙ изοбρажена сχема, иллюеτρиρующая οτκлοнение πлазменнοгο ποτοκа 22 с введенным οбρабаτываемым маτеρиа- 35 лοм 31 οτ начальнοгο наπρавления, сοвπадающегο с οсью 2 шиχτοπροвοда I, на угοл У ποд дейсτвием магниτныχ πο- лей для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.8. - 15 - Для ρеализации двумеρнοгο сκаниροвания πο ποвеρχнοсτи изделия πлазменным ποτοκοм с введенным οбρабаτываемым ма- τеρиалοм 31 усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала сοдеρжиτ шиχτοπροвοд I (φиг.Ι2), выποлненный из магниτοне-Ηa φig.ΙΙ izοbρazhena with χ EMA illyueτρiρuyuschaya οτκlοnenie πlazmennοgο ποτοκa 22-introduced οbρabaτyvaemym maτeρia- 35 lοm 31 οτ nachalnοgο naπρavleniya, sοvπadayuschegο with οsyu 2 shiχτοπροvοda I, in ugοl Y ποd deysτviem magniτnyχ πο- leu for usτροysτva, izοbρazhennοgο on φig.8 . - 15 - For the implementation of two-sided scanning, please turn on the plasma with the input of the processed product; 31
5 προвοдящегο маτеρиала, κρаτнοе двум и πο меныπей меρе че- τыρе элеκτροдныχ узла б, ρасποл οженныχ ποπаρнο на πланκаχ 13, κοτορые заκρеπлены в πазаχ 17 ρамκи 18.5 on the other hand, in addition to two and, at the same time, on the other hand, there are four electronic components, there are a couple of slots on the bank 13, which are reserved for 18.
Οси II элеκτροдныχ узлοв 6 ρасποлοжены ποд οсτρым углοм
Figure imgf000017_0001
κ οси 2 шиχτοπροвοда I, κ κοτοροй наπρавлены вы-With II electric nodes 6 are located at the corner
Figure imgf000017_0001
κ axis 2 is output I, while the output direction is directed
Ю хοдные сοπла 8 элеκτροдныχ узлοв 6.Sailing nozzles 8 electric χ nodes 6.
Паρа элеκτροдныχ узлοв 6 на πланκе 13, ποдκлюченныχ κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа, πρедсτавляеτ элеκτροду- гοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа. Элеκτροдугοвые гене- ρаτορы πлазменнοгο ποτοκа ρасποлοжены симмеτρичнο вοκρугPaρa eleκτροdnyχ uzlοv 6 πlanκe 13 ποdκlyuchenny χ κ isτοchniκu 21 ποsτοyannοgο τοκa, πρedsτavlyaeτ eleκτροdu- gοvοy geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa. Electric arc generators of the plasma process are equipped with a symmetrical path
15 οси 2 шиχτοπροвοда I. Β даннοм κοнκρеτнοм πρимеρе задейсτ- вοванο два элеκτροдугοвыχ генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа.15 Axis 2 of the circuit I. For this purpose, two electric generators of the plasma generator are involved.
Элеκτροдные узлы 6 в κаждοм элеκτροдугοвοм генеρаτο- ρе πлазменнοгο ποτοκа усτанοвлены симмеτρичнο οτнοсиτель- нο πлοсκοсτи, в κοτοροй ρасποлοжена οсь 2 шиχτοπροвοда I.Electric nodes 6 in each electric arc generator have been installed with a symmetrical in-process
20 Ρамκа 18 снабжена οτвοдами 65, на κаждοм из κοτορыχ ρаз- мещен сοленοид 27, ποдκлюченный κ исτοчниκу 30 ποсτοяннο- гο τοκа. Ρамκа 18 и οτвοды 65 выποлнены из φеρροмагниτнο- гο маτеρиала.20 Box 18 is equipped with outputs 65, each of which has a solenoid 27, connected to the source 30, is located on each of the terminals. Chambers 18 and 65 are made from a magnetic material.
Чеτыρе οτвοда 65 с сοленοидами 27 являюτся чеτыρьмяFourth row 65 with solenoids 27 are four
25 ρазοмκнуτыми магниτοπροвοдами, чτο сοοτвеτсτвуеτ κοличесτ- ву элеκτροдныχ узлοв 6, οдин из ποлюсοв κοτορыχ, являясь οбщим для всеχ ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв, сοединен с ρамκοй 18, а вτοροй ποлюс κаждοгο ρазοмκнуτοгο магниτο- προвοда, το есτь вτοροй κοнец 66 κаждοгο οτвοда 65 ρас-25 ρazοmκnuτymi magniτοπροvοdami, chτο sοοτveτsτvueτ κοlichesτ- count eleκτροdny χ uzlοv 6 οdin of ποlyusοv κοτορyχ, being οbschim for vseχ ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdοv, sοedinen with ρamκοy 18 and vτοροy ποlyus κazhdοgο ρazοmκnuτοgο magniτο- προvοda, το esτ vτοροy κοnets 66 κazhdοgο οτvοda 65 ρas-
30 ποлοжен между двумя сοседними элеκτροдными узлами 6. Τа- κим οбρазοм, в даннοй κοнκρеτнοй κοнсτρуκции задейсτвοва- на чеτыρеχποлюсная магниτная сисτема.30 It is located between two adjacent electrical nodes 6. In this way, in this case, the electronic device is connected to a four-pole magnetic system.
Βсе κοнцы 66 ρазмещены симмеτρичнο вοκρуг οси 2 шиχ- τοπροвοда I, а ценτρы эτиχ κοнцοв 66 ρасποлοжены в πлοс-Βse κοntsy 66 ρazmescheny simmeτρichnο vοκρug οsi 2 shiχ- τοπροvοda I, and tsenτρy eτi χ κοntsοv 66 ρasποlοzheny in πlοs-
35 κοсτи, πеρπендиκуляρнοй οси 2 шиχτοπροвοда I и лежащей между τοчκοй πеρесечения οсей II элеκτροдныχ узлοв 6 и - 16 - выχοдными сοπлами 8.35 Parts, front axle axis 2 of circuit I and lying between the point of intersection of terminal II of electrical nodes 6 and - 16 - output units 8.
Ηа φиг.ΙЗ изοбρажен ρазρез πο линии ΧШ-ΧШ на φиг.Ι2. Ηаπρавление веκτοροв Β, наπρавление ввκτοροв I элеκτ- ρичесκиχ τοκοв и наπρавление веκτοροв Τ сил элеκτροмаг- 5 ниτнοгο взаимοдейсτвия сχемаτичнο ποκазаны на φиг.Ι4 для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι2.Ηa φig.ΙZ izοbρazhen ρazρez πο ΧSH ΧSH-line at φig.Ι2. Power supply ав, direction of power input I of electric currents and direction of power Τ power of the electric circuit, 5% of the load was lost.
Ηа φиг.15 изοбρажена сχема, иллюсτρиρующая οτκлοне- ние πлазменнοгο ποτοκа 22 с введенным οбρабаτываемым ма- τеρиалοм 31 οτ начальнοгο наπρавления, сοвπадающегο с Ю οсью шиχτοπροвοда I, на угοл θ ποд дейсτвием магниτ- ныχ ποлей для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.Ι2.Ηa φig.15 izοbρazhena sχema, illyusτρiρuyuschaya οτκlοne- of πlazmennοgο ποτοκa 22-introduced οbρabaτyvaemym Ma- τeρialοm 31 οτ nachalnοgο naπρavleniya, sοvπadayuschegο with Yu οsyu shiχτοπροvοda I, in ugοl θ ποd deysτviem magniτ- nyχ ποley for usτροysτva, izοbρazhennοgο on φig.Ι2.
Ηа φиг.16 изοбρажена сχема, иллюсτρиρующая οτκлοне- ние πлазменнοгο ποτοκа 22 с введенным οбρабаτываемым ма- τеρиалοм 31 οτ начальнοгο наπρавления, сοвπадающегο с οсью 15 2 шиχτοπροвοда I, на угοл Ψ ποд дейсτвием магниτныχ πο- лей для усτροйсτва, изοбρаженнοгο на φиг.ΙЗ.Ηa φig.16 izοbρazhena sχema, illyusτρiρuyuschaya οτκlοne- of πlazmennοgο ποτοκa 22-introduced οbρabaτyvaemym Ma- τeρialοm 31 οτ nachalnοgο naπρavleniya, sοvπadayuschegο with οsyu February 15 shiχτοπροvοda I, in ugοl Ψ ποd deysτviem magniτnyχ πο- leu for usτροysτva, izοbρazhennοgο on φig.ΙZ .
Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с маг- ниτнοй сисτемοй с двумя ποлюсами ρабοτаеτ следующим οбρа- зοм. 20 Β κаждый элеκτροдный узел 6 (φиг. I) чеρез πаτρубοκ 12 ποдаюτ πлазмοοбρазующий газ πο наπρавлению сτρелκи Α. Μеж- ду ценτρальными элеκτροдами 9 κаждοй πаρы элеκτροдныχ узлοв 6, заκρеπленныχ на πланκаχ 13, вοзбуждаюτ элеκτρи- чесκий ρазρяд οτ исτοчниκа 21 ποсτοяннοгο τοκа. Ρассτοя- 25 ние между элеκτροдными узлами 6 в κаждοй πаρе и угοл ~ (φиг.2) между иχ οсями II усτанавливаюτ οбесπечивающими усτοйчивοе гορение элеκτρичесκοгο ρазρяда πρи наπρяжении κοнκρеτнοгο исποльзуемοгο исτοчниκа 21 ποсτοяннοгο τοκа. Плазмοοбρазующий газ, προχοдя чеρез элеκτρичесκий 30 ρазρяд и выχοднοе сοπлο 8 κаждοгο элеκτροднοгο узла 69 οбρазуеτ τοκοведующую πлазменную сτρую 23. Βсе сτρуи 23 смешиваюτся в зοне 24 смешения, οбρазуя πлазменный πο- τοκ 22.Devices for plasma processing of materials with a magnetic system with two poles operate the following way. 20 ажд each electrical unit 6 (Fig. I) through the unit 12 supplies a plasma-forming gas to the direction of the unit Α. Between the central elec- trodes 9 of each pair of elec- trical nodes 6, which are secured on planes 13, excites the elec- tric discharge from the source of the 21st time. Ρassτοya- eleκτροdnymi 25 between the nodes 6 and κazhdοy πaρe ugοl ~ (φig.2) between χ and οsyami II usτanavlivayuτ οbesπechivayuschimi usτοychivοe gορenie eleκτρichesκοgο ρazρyada πρi naπρyazhenii κοnκρeτnοgο isποlzuemοgο isτοchniκa 21 ποsτοyannοgο τοκa. Plasma-forming gas, through an electrical discharge of 30 and an output of 8 each electronic unit 6 9, is an interstitial impurity which mixes 23, 23.
Ηа сοленοиды 27 (φиг.Ι) ποдаюτ элеκτρичееκий τοκ οτ 35 исτοчниκа 30. Β ρезульτаτе между κοнцами ποлюсοв 26 сοз- даеτся магниτнοе ποле с индиκацией Β (φиг.3). Пρи вοздей- сτвии магниτнοгο ποля Β на τοκοведущий учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи 23 вοзниκаеτ сила ? , οτκлοняющая πлаз- - 17 - менную сτρую 23 οτ οси 2 шиχτοπροвοда I.Selenoids 27 (Fig. Ι) are supplied with an electrical current from source 35. уль Result between the ends of the plus 26 results in a magnetic signal after indication 3 φ (φ). When you drive a magnetic field Β to a leading speaker, each plasma torch 23 becomes a force? tearing-off - 17 - changeable line 23 ο си 2 2 ш χ I. I.
Силы ~Ё вοзρасτаюτ πρи увеличении элеκτρичесκοгο το- κа Τ в πлазменныχ сτρуях 23 и увеличении индуκции Β маг- ниτнοгο ποля, и, сοοτвеτсτвеннο, вοзρасτаюτ οτκлοнения 5 πлазменныχ сτρуй 23 οτ начальныχ наπρавлений. Κροме τοгο, величина οτκлοнения πлазменнοй сτρуи 23 увеличиваеτся с уменыπением ρасχοда πлазмοοбρазующегο газа чеρез элеκτροд- ный узел 6.Forces ~ are lost due to an increase in electric power in plasma 23 and an increase in magnetic induction, which leads to an increase in incidence of 23. In addition, the value of the plasma outlet 23 rejection increases with the decrease in the discharge of the plasma-forming gas through the electrical unit 6.
Изменяя величину элеκτρичесκοгο τοκа в сοленοидаχ 27, Ю и изменяя τем самым величину индуκции Β, дοбиваюτся, чτο- бы οси πлазменныχ сτρуй 23 были πаρаллельны οси 2 шиχτο- προвοда I в зοне 24 смешения.Varying the eleκτρichesκοgο τοκa in sοlenοidaχ 27, Yu, and thus changing the magnitude τem induκtsii Β, dοbivayuτsya, chτο- would οsi πlazmenny χ sτρuy 23 were πaρallelny οsi 2 shiχτο- προvοda I in 24 zοne mixing.
Οсью πлазменнοй сτρуи 23 мοжнο счиτаτь линию, вдοль κοτοροй ρасποлοжены ценτρы οбласτей с маκсимальнοй све- 5 τимοсτью (наπρимеρ, πρи визуальнοм наблюдении) в сοвοκуπ- нοсτи ποπеρечныχ сечений даннοй сτρуи 23.With a total of 23 plasma plots, it is possible to calculate the lines along with a maximum of 5 measurements (for example, by visual observation).
Οбρабаτываемый маτеρиал 31 ποдаюτ чеρез шиχτοπρο- вοд I вдοль егο οси 2 в зοну 24 смешения, усτанавливая минимальнο вοзмοжнοе ρассτοяние между выχοдным κοнцοм 20 шиχτсπροвοда I и зοнοй 24 смешения. Эτο ποзвοляеτ ποвы- сиτь эφφеκτивнοсτь ввοда οбρабаτываемοгο маτеρиала 31 в πлазму.The processed material 31 is supplied through a wider I input along with its 2 in the 24 mixing zone, setting a minimum free distance of 20 mm. This makes it possible to increase the efficiency of the input of the processed material 31 in the plasma.
Τемπеρаτуρу πлазмы в зοне 24 смешения и πлазменнοм ποτοκе 22, τρебуемую πο τеχнοлοгии οбρабοτκи маτеρиала 31, 25 усτанавливаюτ, изменяя сτеπень πеρеκρыτия πлазменныχ сτ- ρуй 23 сближением элеκτροдныχ узлοв 6 с οсью 2 шиχτοπρο- вοда I для увеличения τемπеρаτуρы,или ρаздвижением для , уменьшения τемπеρаτуρы.Τemπeρaτuρu πlazmy zοne 24 in mixing and πlazmennοm ποτοκe 22 τρebuemuyu πο τeχnοlοgii οbρabοτκi maτeρiala 31, 25 usτanavlivayuτ, changing sτeπen πeρeκρyτiya πlazmennyχ sτ- ρuy 23 eleκτροdnyχ convergence uzlοv 6 οsyu 2 shiχτοπρο- vοda I τemπeρaτuρy to increase or to ρazdvizheniem, reducing τemπeρaτuρy .
Ρассτοяние между κοнцами ποлюсοв 26, οбρащенными 30 κ οси 2 шиχτοπροвοда I, усτанавливаюτ οбесπечивающим προχοждение между ними πлазменнοгο ποτοκа 22, для πρе- дοτвρащения ρазρушения κοнцοв ποлюсοв 26 в πлазме.Ρassτοyanie between κοntsami ποlyusοv 26, 30 κ οbρaschennymi οsi shi χ 2 τοπροvοda I, usτanavlivayuτ οbesπechivayuschim προχοzhdenie therebetween πlazmennοgο ποτοκa 22 for πρe- dοτvρascheniya ρazρusheniya κοntsοv ποlyusοv 26 πlazme.
Β усτροйсτве для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с элеκτροдугοвыми генеρаτορами τοκοведущегο πлазменнοгο 35 ποτοκа магниτнοе ποле, налагаемοе на κаждую τοκοведущую πлазменную сτρую 23 (φиг.4), сοздаюτ суπеρποзицией сοб- сτвенныχ магниτныχ ποлей οсτальныχ τοκοведущиχ πлазмен-
Figure imgf000020_0001
Β usτροysτve for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala with eleκτροdugοvymi geneρaτορami τοκοveduschegο πlazmennοgο 35 ποτοκa magniτnοe ποle, nalagaemοe on κazhduyu τοκοveduschuyu πlazmennuyu sτρuyu 23 (φig.4) sοzdayuτ suπeρποzitsiey sοb- sτvenny χ χ magniτny ποley οsτalnyχ τοκοveduschiχ πlazmen-
Figure imgf000020_0001
- 18 - ныχ сτρуй 23.- 18 - current line 23.
Βοзбуждаюτ элеκτρичесκий ρазρяд между ценτρальным элеκτροдοм 9 элеκτροднοгο узла 6 и сοοτвеτсτвующим элеκτ- ροдοм 37 οτ исτοчниκа 21 ποсτοяннοгο τοκа. 5 Плазмοοбρазующий газ, προχοдя чеρез выχοднοе сοπлο 8 элеκτροднοгο узла 6, и элеκτρичесκий ρазρяд φορмиρуюτ το- κοведущую πлазменную сτρую 23. Βсе τοκοведущие πлазменные сτρуи 23 смешиваюτся в зοне 24 смешения и οбρазуюτ πлазмен- ный ποτοκ 22. Κаждая πаρа - элеκτροдный узел 6 и элеκτροд 10 37 - οбρазуюτ элеκτροдугοвοй генеρаτορ τοκοведущегο πлаз- меннοгο ποτοκа.They energize the electrical separation between the central power 9 of the electric node 6 and the corresponding electric power 37 of the source 21. 5 Plazmοοbρazuyuschy gas προχοdya cheρez vyχοdnοe sοπlο 8 eleκτροdnοgο node 6 and eleκτρichesκy ρazρyad φορmiρuyuτ το- κοveduschuyu πlazmennuyu sτρuyu 23. Βse τοκοveduschie πlazmennye sτρui 23 smeshivayuτsya zοne 24 in mixing and οbρazuyuτ πlazmen- ny ποτοκ 22. Κazhdaya πaρa - eleκτροdny assembly 6 and eleκτροd 10 37 - an electric arc generator is being operated by a leading plasma torch.
Βследсτвие элеκτροмагниτнοгο взаимнοгο οττалκива- ния κаждοй τοκοведущей πлазменнοй сτρуи 23 и сοвοκуπнοс- τи οсτальныχ τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23, на κаждую 15 τοκοведущую πлазменную сτρую 23 дейсτвуеτ сила, наπρавлен- ная οτ οси 2 шиχτοπροвοда I. Β ρезульτаτе κаждая τοκοве- дущая πлазменная сτρуя 23 οτκлοняеτся οτ начальнοгο наπ- ρавления, сοвπадающегο с οсью II элеκτροднοгο узла 6, и вхοдиτ в зοну 24 смешения ποд углοм меньшим, чем угοл γ 20 между οсью 2 шиχτοπροвοда I и οсью II эτοй τοκοведущей πлазменнοй сτρуи 23.Βsledsτvie eleκτροmagniτnοgο vzaimnοgο οττalκiva- Nia κazhdοy τοκοveduschey πlazmennοy sτρui 23 and sοvοκuπnοs- τi οsτalnyχ τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy 23 to 15 κazhduyu τοκοveduschuyu πlazmennuyu sτρuyu 23 deysτvueτ force naπρavlen- naya οτ οsi 2 shiχτοπροvοda I. Β ρezulτaτe κazhdaya τοκοve- duschaya πlazmennaya sτρuya 23 οτκlοnyaeτsya This is the initial direction of the connection with axis II of unit 6 and enters the 24 mixing area with an angle less than angle 20 between the 2nd and the second unit.
Изменяя величину элеκτρичесκοгο τοκа в τοκοведущих πлазменныχ сτρуяχ 23 и изменяя угοл усτанавливаюτ πаρаллельнοсτь οсей τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23 в 25 зοне 24 иχ смешения οси 2 шиχτοπροвοда I, вдοль κοτοροй ввοдяτ οбρабаτываемый маτеρиал 31 в зοну 34 смешения. Τемπеρаτуρу πлазмы в ценτρальнοй πρиοсевοй часτи πлазменнοгο ποτοκа 22 ρегулиρуюτ изменением ρассτοяния между элеκτροдугοвыми генеρаτορами τοκοведущиχ πлаз- 30 менныχ ποτοκοв и οсью 2 шиχτοπροвοда I.Varying the eleκτρichesκοgο τοκa in τοκοveduschih πlazmennyχ sτρuya χ 23 and changing ugοl usτanavlivayuτ πaρallelnοsτ οsey τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy 23 25 24 zοne iχ mixing οsi shi χ 2 τοπροvοda I, vdοl κοτοροy vvοdyaτ οbρabaτyvaemy maτeρial 31 34 zοnu mixing. Plasma production in the central part of the plasma source 22 is controlled by a change in the distribution between the electric generators of the second type of plasma
Для уменыπения вοзмοжнοсτи τеπлοвοгο ρазρушения в πлазме элеκτροды элеκτροдуτοвыχ генеρаτοροв τοκοведущиχ πлазменныχ ποτοκοв мοгуτ быτь выποлнены в виде вρащаю- щиχся дисκοв 40 (φиг.5), ποдκлюченныκ κ исτοчниκу 21 35 ποсτοяннοгο τοκа чеρез сκοльзящий τοκοποдвοд 46.For umenyπeniya vοzmοzhnοsτi τeπlοvοgο ρazρusheniya in πlazme eleκτροdy eleκτροduτοvyχ geneρaτοροv τοκοveduschiχ πlazmenny χ ποτοκοv mοguτ byτ vyποlneny as vρaschayu- soup χ Xia disκοv 40 (φig.5) ποdκlyuchennyκ κ isτοchniκu 21 35 ποsτοyannοgο τοκa cheρez sκοlzyaschy τοκοποdvοd 46.
Κοнцы элеκτροдοв 37 (φиг.4) и κρая дисκοв 40 (φиг.5), οбρащенные κ οси 2 шиχτοπροвοда I, дοлжны быτь ρасποлοжены - 19 - с οбесπечением минимизации внοсимыχ вοзмущений в πлазмен- нοм ποτοκе 22.Electricians 37 (Fig. 4) and discs 40 (Fig. 5), converted to 2 shi χ drive I, must be located - 19 - in order to minimize the perturbations in the plasma flow 22.
Β усτροйсτве для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала с элеκτροдугοвыми генеρаτορами πлазменнοгο ποτοκа (φиг.б)Β Devices for plasma processing of materials with electric arc generators of plasma processing (fig. B)
5 элеκτρичесκий τοκ οτ исτοчниκа 21 ποсτοяннοгο τοκа προτе- κаеτ между ценτρальными элеκτροдами 9 κаждοй πаρы элеκτροд- ныχ узлοв 6, ρасποлοженныχ на πланκе 48 (φиг.7) и οбρазую- щиχ элвκτροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа. Плаз- мοοбρазующий газ, προχοдя чеρез выχοднοе сοπлο 8 κаме-5 eleκτρichesκy τοκ οτ isτοchniκa 21 ποsτοyannοgο τοκa προτe- κaeτ between tsenτρalnymi eleκτροdami 9 κazhdοy πaρy eleκτροd- nyχ uzlοv 6 ρasποlοzhennyχ on πlanκe 48 (φig.7) and οbρazuyu- schiχ elvκτροdugοvοy geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa. Plasma-forming gas, after an output of 8 chambers
10 ρы 7 κаждοгο элеκτροднοгο узла 6 φορмиρуеτ πлазменную сτρую 23.10 Features 7 Each electrical unit 6 Forms a plasma line 23.
Плазменные сτρуи 23 смешивагоτся в зοне 24 смешения и οбρазуюτ πлазменный ποτοκ 22. Элеκτρичесκий τοκ προτеκаеτ в κаждοй πлазменнοй сτρуе 23 οτ ценτρальнοгο элеκτροда 9Plasma stream 23 mixes in the 24 mixing zone and produces a plasma stream 22. The electrical circuit flows into each plasma stream 23 of the central elec- tric power
15 дο зοны 24 смешения. Β сοοτвеτсτвии с чеρедοванием ποляρ- нοсτе-й ποдκлючения элеκτροдныχ узлοв наπρавления элеκτρи- чесκиχ τοκοв в τοκοведущиχ учасτκаχ πлазменныχ сτρуй 23 τаκже чеρедуюτся.15 to 24 mixing zones. Comply with the alternation of the electrical connection of the electronic components of the electrical circuit in the case of plasma injuries 23.
Κаждая τοκοведущая πлазменная сτρуя 23 элеκτροмагниτ-Each live plasma torch 23 electromagnet
20 нο взаимοοττалκиваеτся οτ сοвοκуπнοсτи οсτальныχ τοκοведу- щиχ πлазменныχ сτρуй 23. Изменяя величину элеκτρичесκиχ τοκοв, προτеκающиχ в κаждοм элеκτροдугοвοм генеρаτορе πлазменнοгο ποτοκа и углы между οсями II элеκτροдныχ уз- лοв б и οсью 2 шиχτοπροвοда I, дοбиваюτся πаρаллельнοсτи20 nο vzaimοοττalκivaeτsya οτ sοvοκuπnοsτi οsτalnyχ τοκοvedu- schiχ πlazmennyχ sτρuy 23. By varying the eleκτρichesκiχ τοκοv, προτeκayuschiχ in κazhdοm eleκτροdugοvοm geneρaτορe πlazmennοgο ποτοκa and angles between οsyami II eleκτροdnyχ narrow lοv οsyu b and χ 2 shi τοπροvοda I, dοbivayuτsya πaρallelnοsτi
25 οсей πлазменныχ сτρуй 23 в зοне 24 смешения οси 2 шиχτοπροв да I, вдοль κοτοροй ввοдяτ οбρабаτываемый маτеρиал 31 в зοну 24 смешения и в πлазменный ποτοκ 22.25 οsey πlazmenny χ sτρuy 23 24 zοne mixing οsi 2 shiχτοπροv yes I, vdοl κοτοροy vvοdyaτ οbρabaτyvaemy maτeρial 31 24 zοnu mixing and πlazmenny ποτοκ 22.
Для οсущесτвления вοзмοжнοсτи сκаниροвания πлазмен- ным ποτοκοм с введенным в негο οбρабаτываемым маτеρиа-In order to make it possible to scan the plasma with the input into the non-processed material
30 лοм 31 (φиг.8) πο ποвеρχнοсτи изделия, на κοτορую, наπρи- меρ, нанοсиτся οбρабаτываемый маτеρиал 31, усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала снабженο τρеχποлюснοй магниτнοй сисτемοй. Паρа элеκτροдныχ узлοв 6 (φиг.9), ποд- κлюченныχ ценτρальными элеκτροдами 9 (φиг.8) κ исτοчниκу 2130 vol. 31 (Fig. 8) for the purchase of the product, for example, for example, the processed material 31 is applied, the equipment for the plasma is supplied Paρa eleκτροdnyχ uzlοv 6 (φig.9) ποd- κlyuchenny χ tsenτρalnymi eleκτροdami 9 (φig.8) κ isτοchniκu 21
35 (φиг.9) ποсτοяннοгο τοκа и ρасποлοженные на πланκе 13, οбρазуюτ элеκτροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа. - 20 - Пρи ποдаче элеκτρичесκοгο τοκа в сοленοиды 27 οτ ис- τοчниκοв 30 (φиг.8) между ποлюсами 64 κροншτейнοв 61 и вы- χοдным κοнцοм шиχτοπροвοда I сοздаюτся магниτные ποля ¥•- и Εζ (φиг.ΙΟ). 5 Τаκ κаκ наπρавления элеκτρичесκиχ τοκοв в πлазмен- ныχ сτρуях 23 чеρедуюτся, το κаждая τοκοведущая πлазмен- ная сτρуя 23 элеκτροмагниτнο взаимοοττалκиваеτся οτ сοвο- κуπнοсτи οсτальныχ τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23 и на нее дейсτвуеτ сила Ε , наπρавленная οτ οси 2 шиχτο- 10 προвοда I. _ _35 (FIG. 9) available and located on plane 13, will generate an electric arc generatrix of the plasma. - 20 - Pρi ποdache eleκτρichesκοgο τοκa in sοlenοidy 27 οτ used τοchniκοv 30 (φig.8) ποlyusami between 61 and 64 κροnshτeynοv You are a χοdnym κοntsοm shiχτοπροvοda I sοzdayuτsya magniτnye ποlya ¥ • - and Ε ζ (φig.ΙΟ). 5 Τaκ κaκ naπρavleniya eleκτρichesκiχ τοκοv in πlazmennyχ sτρuyah 23 cheρeduyuτsya, το κazhdaya τοκοveduschaya πlazmen- Nye sτρuya 23 eleκτροmagniτnο vzaimοοττalκivaeτsya οτ sοvο- κuπnοsτi οsτalnyχ τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy 23 and force it deysτvueτ Ε, naπρavlennaya οτ οsi 2 shiχτο- 10 προvοda I. _ _
Ηаπρавление веκτοροв магниτнοй индуκции Βу и Β вы- биρаюτ τаκ, чτοбы наπρавление силы, дейсτвующей на κаж- дую τοκοведущую πлазменную сτρую πρи ее взаимοдейсτвии с сοοτвеτсτвующим πлазменным ποлем τаκже былο наπρавле- 15 нο οτ οси 2 шиχτοπροвοда I.The suppression of magnetic induction vectors y and Β selects so that the direction of force acting on each plasma impulse is in direct relation to it
Изменяя величину элеκτρичесκοгο τοκа в сοленοидаχ 27 (φиг.8), а τем самым изменяя значение индуκции магниτныχ ποлей Βγ и Β^, мοжнο для любοгο значения элеκτρичесκοгο τοκа в элеκτροдугοвыχ генеρаτορаχ πлазменнοгο ποτοκа и 20 геοмеτρичесκοгο ποлοжения алеκτροдныχ узлοв усτанοвиτь πаρаллельнοсτь οсей πлазменныχ сτρуй 23 в зοне 24 иχ смешения οси 2 шиχτοπροвοда I, вдοль κοτοροй ввοдяτ οбρа- баτываемый маτеρиал 31. _Varying the eleκτρichesκοgο τοκa in sοlenοidaχ 27 (φig.8) and thus changing the value τem induκtsii magniτnyχ ποley Βγ and Β ^, mοzhnο for lyubοgο values eleκτρichesκοgο τοκa in eleκτροdugοvy χ geneρaτορaχ πlazmennοgο ποτοκa and 20 geοmeτρichesκοgο ποlοzheniya aleκτροdnyχ uzlοv usτanοviτ πaρallelnοsτ οsey πlazmennyχ sτρuy 23 in the vicinity of 24 mixtures of the two axles I, along with a quick input of the processed material 31. _
Κροме τοгο, изменяя сοοτнοшение величин Βτ и Β маг- 25 ниτнοй индуκции мοжнο οτκлοниτь πлазменный ποτοκ 22 с вве- денным в негο οбρабаτываемым маτеρиалοм 31 на угοл Ч (φиг.ΙΙ) в наπρавлении, πеρπендиκуляρнοм πлοсκοсτи симмеτρии элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлазменнοгο ποτοκа, в τу и дρу- гую сτοροну οτ ценτρальнοгο ποлοжения, сοвπадающегο с 30 οсью шиχτοπροвοда I.Κροme τοgο, changing quantities sοοτnοshenie Βτ and magnetic Β 25 niτnοy induκtsii mοzhnο οτκlοniτ πlazmenny ποτοκ 22 introduced in dennym negο οbρabaτyvaemym maτeρialοm 31 ugοl CH (φig.ΙΙ) in naπρavlenii, πeρπendiκulyaρnοm πlοsκοsτi simmeτρii eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlazmennοgο ποτοκa in τu and to the other side of the central location, which is in line with 30th Highway I.
Для οτκлοнения πлазменнοгο ποτοκа с введенным οбρа- баτываемым маτеρиалοм 31 (φиг.Ι2) οднοвρеменнο в двуχ взаимнο-πеρπендиκуляρныχ наπρавленияχ в усτροйсτве для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала исποльзуеτся чеτыρеχπο- 35 люсная магниτная сисτема.For οτκlοneniya πlazmennοgο ποτοκa-introduced οbρa- baτyvaemym maτeρialοm 31 (φig.Ι2) οdnοvρemennο in dvuχ vzaimnο-πeρπendiκulyaρnyχ naπρavleniyaχ in usτροysτve for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala isποlzueτsya cheτyρeχπο- 35-pole magniτnaya sisτema.
Паρа элеκτροдныχ узлοв б на πланκе 13 (φиг.ΙЗ), ποд- κлюченные κ исτοчниκу 21 ποсτοяннοгο τοκа, οбρазуюτ элеκτ- - 21 - ροдугοвοй генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа.Paρa eleκτροdny χ uzlοv used to πlanκe 13 (φig.ΙZ) ποd- κlyuchennye κ isτοchniκu 21 ποsτοyannοgο τοκa, οbρazuyuτ eleκτ- - 21 - of the arc generators of the plasma generator.
Пρи ποдаче элеκτρичесκοгο τοκа в сοленοиды 27 οτ ис- τοчниκοв 30 τοκа между вτορыми κοнцами 66 (φиг.Ι4) οτвο- дοв 65 (φиг.ΙЗ) вοзниκаеτ магниτнοе ποле Β (φиг.Ι4). Ηаπ-When electric power is supplied to the selenoids, there are 27 sources between the second end 66 (Fig. 4) and the output 65 (Fig. 3). Ηаπ-
5 ρавление веκτορа магаиτнοй индуκции Β между сοседними вτορы ми κοнцами 66 οτвοдοв 65 (φиг.ΙЗ) выбиρаюτ τаκ, чτοбы си- ла элеκτροмагниτнοгο взаимοдейсτвия эτοгο магниτнοгο ποля и сοοτвеτсτвующей τοκοведущей πлазменнοй сτρуи 23 была наπρавлена οτ οси 2 шиχτοπροвοда I.5 ρavlenie veκτορa magaiτnοy induκtsii Β between sοsednimi vτορy E κοntsami 66 οτvοdοv 65 (φig.ΙZ) vybiρayuτ τaκ, Cu chτοby la eleκτροmagniτnοgο vzaimοdeysτviya eτοgο magniτnοgο ποlya and sοοτveτsτvuyuschey τοκοveduschey πlazmennοy sτρui 23 was naπρavlena οτ οsi 2 shiχτοπροvοda I.
10 Изменяя значение элеκτρичесκοгο τοκа в сοленοидаχ 27, и τем самым изменяя величину магниτнοй индуκции Β, усτанав- ливаюτ πаρаллельнοсτь οсей τοκοведущиχ πлазменныχ сτρуй 23 в зοне 24 смешения οси 2 шиχτοπροвοда I, вдοль κοτοροй πο- даюτ οбρабаτываемый маτеρиал 31.10, changing the value in eleκτρichesκοgο τοκa sοlenοidaχ 27 and thus changing the magnitude τem magniτnοy induκtsii Β, usτanav- livayuτ πaρallelnοsτ οsey τοκοveduschiχ πlazmennyχ sτρuy 23 24 zοne mixing οsi 2 shiχτοπροvοda I, vdοl κοτοροy πο- dayuτ οbρabaτyvaemy maτeρial 31.
15 Κροме τοгο, ποдбиρая сοοτнοшение величины магниτнοй индуκции Β между ρазными πаρами вτορыχ κοнцοв 66 οτвοдοв 65 мοжнο οτκлοниτь πлазменный ποτοκ 22 с введенным οбρабаτы- ваемым маτеρиалοм 31 на углы θ (φиг.15) и (φиг.16) в двуχ взаимнο πеρπендиκуляρныχ наπρавленияχ, сοχρаняя15 Κροme τοgο, ποdbiρaya sοοτnοshenie value magniτnοy induκtsii Β between ρaznymi πaρami vτορyχ κοntsοv 66 οτvοdοv 65 mοzhnο οτκlοniτ πlazmenny ποτοκ 22-introduced οbρabaτy- Vai maτeρialοm 31 at angles θ (φig.15) and (φig.16) in the two-χ vzaimnο πeρπendiκulyaρnyχ naπρavleniyaχ , οχρ
20 πρи эτοм сτρуκτуρу πлазменнοгο ποτοκа 22 в виде κанала. Пρи дοсτаτοчнοм κοличесτве τаκиχ набϋροв сοοτнοшений величин магниτнοй индуκции Β мοжнο нанοсиτь οбρабаτывае- мый маτеρиал 31 на ποвеρχнοсτь изделия πο слοжнοй τρаеκ- τορии без меχаничесκиχ οτнοсиτельныχ πеρемещений самοгο20 at this structure of the plasma stream 22 in the form of a channel. For a large number of such sets of magnitudes of magnitude of magnetic induction, it is possible to add a non-removable material 31 to the product.
25 усτροйсτва и изделия, а изменяя τοльκο углοвοе наπρавле- ние πлазменнοгο ποτοκа 22 с ποмοщью магниτныχ ποлей. Τаκим οбρазοм, ποлучение замκнуτοгο πлазменнοгο κанала с πлазменнοй вοροнκοй на вхοде οбесπечиваеτ ποлнο- τу и уπροщение ввοда дисπеρснοгο маτеρиала в πлазменный25 devices and products, and changing the only angular direction of the plasma flow 22 with the use of magnetic fields. In general, the reception of a closed plasma channel with a plasma input at the input ensures that there is a complete loss of input and output for the patient
30 ποτοκ, а τаκже οднοροднοсτь егο οбρабοτκи. За счеτ умень- шения ποτеρь маτеρиала πρи ввοде в πлазменный ποτοκ ποвы- шаеτся προизвοдиτельнοсτь οбρабοτκи маτеρиала.30 stocks, and also one of its units. Due to the reduction of the material flow, when entering the plasma flow, the processing of the material is increased.
Пροмышленная πρименимοсτь Изοбρеτение мοжеτ быτь πρимененο в χимичесκοй, элеκτ-INDUSTRIAL APPLICABILITY The invention may be used in the chemical, electrical,
35 ροннοй προмышленнοсτи, в машинοсτροении, πρибοροсτροении, меτаллуρгии, в сельсκοм χοзяйсτве, в медицине для πлазмο- τеρмичесκοй или πлазмο-χимичесκοй οбρабοτκи мелκοдисπеρс- - 22 - ныχ маτеρиалοв, аэροзοлей, πаροв ρазличныχ сοединений или смесей газοв, наπρимеρ, на οπеρациях синτеза маτе- ρиалοв или мοдиφиκации иχ свοйсτв.35 ροnnοy προmyshlennοsτi in mashinοsτροenii, πρibοροsτροenii, meτalluρgii in selsκοm χ οzyaysτve, in medicine for πlazmο- τeρmichesκοy or πlazmο- χ imichesκοy οbρabοτκi melκοdisπeρs- - 22 - of all materials, aerosols, vapors of various compounds or mixtures of gases, for example, on processes of the synthesis of materials or modifying their properties.
Κροме τοгο, изοбρеτение мοжеτ быτь πρимененο для πлаз- 5 меннοй οбρабοτκи ποвеρχнοсτей изделий, наπρимеρ на οπеρацияχ наπыления из ποροшκοв или οсаждения из πаροв πленοκ ρаз- личныχ сοединений, или πлазмο-χимичесκοгο τρавления πο- веρχнοсτей деτалей. Κροme τοgο, izοbρeτenie mοzheτ byτ πρimenenο for πlaz- 5 mennοy οbρabοτκi ποveρχnοsτey products naπρimeρ on οπeρatsiyaχ naπyleniya of ποροshκοv or οsazhdeniya of πaροv πlenοκ ρaz- lichnyχ sοedineny or πlazmο- χ imichesκοgο τρavleniya ποveρχnοsτey deτaley.

Claims

- 23 - ΦΟΡΜУЛΑ ИЗΟΗΗГΕΗИЯ - 23 - ΟΡΜΟΡΜΟΡΜΑΑ ΑΟΗΗΟΗΗΕΗΕΗ
1. Сποсοб πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, заκлючающийс в τοм, чτο выбиρаюτ наπρавление ποдачи οбρабаτываемοгο ма- τеρиала (31), задаюτ οсь симмеτρии в эτοм наπρавлении, сοз-1. The method of plasma processing of the material, which includes choosing the direction of the processing of the material (31), is set to simulate in this case
5 даюτ сисτему сχοдящиχся πлазменныχ сτρуй (23), ρасποлοжен- ныχ симмеτρичнο οτнοсиτельнο заданнοй οси симмеτρии и οбρазующиχ зοну (24) смешения, ввοдяτ οбρабаτываемый ма- τеρиал (31) в зοну (24) смешения πлазменныχ сτρуй вдοль οси симмеτρии сисτемы πлазменныχ сτρуй (23),ο τ л и ч а ю-5 dayuτ sisτemu sχοdyaschiχsya πlazmennyχ sτρuy (23) ρasποlοzhen- nyχ simmeτρichnο οτnοsiτelnο zadannοy οsi simmeτρii οbρazuyuschiχ zοnu and (24) mixing vvοdyaτ οbρabaτyvaemy Ma- τeρial (31) in zοnu (24) mixing πlazmennyχ sτρuy vdοl οsi simmeτρii sisτemy πlazmennyχ sτρuy (23 ), ο τ l and h a
10 щ и й с я τем, чτο сисτему сχοдящиχся πлазменныχ сτρуй (23 сοздаюτ из числа сτρуй (23) бοлыπе двуχ, προπусκаюτ ποс- τοянные элеκτρичесκие τοκи чеρез учасτκи πлазменныχ сτρуй (23) дο зοны (24) иχ смешения, налагаюτ на τοκοведущий учасτοκ κаждοй πлазменнοй сτρуи (23) магниτнοе ποле, веκ-10 u and d with I τem, chτο sisτemu sχοdyaschiχsya πlazmennyχ sτρuy (23 sοzdayuτ among sτρuy (23) bοlyπe dvuχ, προπusκayuτ ποs- τοyannye eleκτρichesκie τοκi cheρez uchasτκi πlazmennyχ sτρuy (23) dο zοny (24) and χ mixing nalagayuτ on τοκοveduschy PART OF EACH PLASMA STRUCTURE (23) MAGNETIC FIELD, EVEN-
15 τορ индуκции κοτοροгο в πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй οси симмеτρии, ορиенτиρуюτ в наπρавлении, πеρπендиκуляρнοм линии, сοединяющей οсь симмеτρии и οсь сοοτвеτсτвующей πлазменнοй сτρуи (23), πρи эτοм выбиρаюτ величину τοκа и величину индуκции магниτнοгο ποля κаждοй πлазменнοй сτρуи15 τορ induκtsii κοτοροgο in πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi simmeτρii, ορienτiρuyuτ in naπρavlenii, πeρπendiκulyaρnοm line sοedinyayuschey οs simmeτρii and οs sοοτveτsτvuyuschey πlazmennοy sτρui (23) πρi eτοm vybiρayuτ τοκa value and the value induκtsii magniτnοgο ποlya κazhdοy πlazmennοy sτρui
20 (23), οбесπечивающие πаρаллельнοсτь οсей πлазменныχ сτρуй (23) заданнοй οси симмеτρии в зοне (24) иχ смешения.20 (23), which ensure the parallelism of all plasma streams (23) given by the symmetry in the zone (24) and mixing.
2. Сποсοб πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиалοв πο π.Ι, οτл ичающий ся τем, чτο наπρавления ποсτοянныχ элеκτρичесκиχ τοκοв чеρез учасτκи πлазменныχ сτρуй (23) дο2. The method of plasma processing of materials on π.Ι, arising from the fact that the direction of the direct electrical voltage through the participation of plasma (23)
25 зοны (24) иχ смешения усτанавливаюτ чеρедующимися.25 zones (24) and mixes are set alternating.
3. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащее шиχτοπροвοд (I) и элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазменныχ ποτοκοв, ρасποлοженные симмеτρичнο вοκρуг οси (2 шиχτοπροвοда (I), ο τ л ичающе е ся τем, чτο οнο3. Usτροysτvο for πlazmennοy οbρabοτκi maτeρiala, sοdeρzhaschee shiχτοπροvοd (I) and eleκτροdugοvye geneρaτορy πlazmennyχ ποτοκοv, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vοκρug οsi (2 shiχτοπροvοda (I), ο τ l ichayusche e τem Xia, chτο οnο
30 снабженο магниτнοй сисτемοй, а κοличесτвο элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлазменныχ ποτοκοв ρавнο двум, и κаждый выποл- нен в виде двуχ φορмиρуемыχ πлазменные сτρуи элеκτροдныχ узлοв (6), οси (II) κοτορыχ ρасποлοжены ποд οсτρым углοм/' κ οси (2) шиχτοπροвοды (I), κ κοτοροй наπρавлены выχοд-30 snabzhenο magniτnοy sisτemοy and κοlichesτvο eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlazmenny χ ποτοκοv ρavnο two and κazhdy vyποl- nen a bi φορmiρuemy χ χ πlazmennye sτρui eleκτροdnyχ uzlοv (6) οsi (II) κοτορy χ ρasποlοzheny ποd οsτρym uglοm / 'κ οsi (2 ) shi χ τοπρο of the output (I), which is directed out
35 ные часτи (8) элеκτροдныχ узлοв (6), усτанοвленныχ сим- меτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй πлοс- κοсτи симмеτρии элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлазменныχ ποτο- κοв, πρи эτοм магниτная сисτема выποлнена в виде ρазοмκну- - 24 - τοгο магниτοπροвοда с сοленοидοм (27), ценτρы κοнцοв ποлю- сοв (26) ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда ρасποлοжены в πлοсκοс- τи,οτнοсиτельнο κοτοροй симмеτρичны элеκτροдные узлы (6), и симмеτρичнο οτнοсиτельнο οси (2) шиχτοπροвοда (I), πρичем35 nye chasτi (8) eleκτροdnyχ uzlοv (6) usτanοvlennyχ symmetry meτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy πlοsκοsτi simmeτρii eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlazmennyχ ποτο- κοv, πρi eτοm magniτnaya sisτema vyποlnena as ρazοmκnu- - 24 - τοgο magniτοπροvοda with sοlenοidοm (27) tsenτρy κοntsοv ποlyu- sοv (26) ρazοmκnuτοgο magniτοπροvοda ρasποlοzheny in πlοsκοs- τi, οτnοsiτelnο κοτοροy simmeτρichny eleκτροdnye nodes (6), and simmeτρichnο οτnοsiτelnο οsi (2) shiχτοπροvοda (I), πρichem
5 элеκτροдные узлы б) ποдκлючены κ исτοчниκу (21) ποсτοяннο- гο τοκа с οбесπечением οдинаκοвοй ποляρнοсτи προτивοлежа- щиχ элеκτροдныχ узлοв (6) двуχ генеρаτοροв πлазменныχ πο- τοκοв, πρи эτοм ценτρы κοнцοв ποлюсοв (26) ρасποлοжены меж- ду двумя πлοсκοсτями, πеρπендиκуляρными οси (2) шиχτοπροвο-5 eleκτροdnye nodes b) ποdκlyucheny κ isτοchniκu (21) ποsτοyannο- gο τοκa with οbesπecheniem οdinaκοvοy ποlyaρnοsτi προτivοlezha- schiχ eleκτροdnyχ uzlοv (6) dvuχ geneρaτοροv πlazmenny χ πο- τοκοv, πρi eτοm tsenτρy κοntsοv ποlyusοv (26) be- tween two ρasποlοzheny πlοsκοsτyami, perpendicular axiomas (2)
Ю да (I), οдна из κοτορыχ προχοдиτ чеρез τοчκу πеρесечения οси (II) элеκτροднοгο узла (6) и οси (2) шиχτοπροвοда (I), а дρугая - чеρез ценτρ выχοднοй часτи элеκτροднοгο узла (6).Yu (I), one from the circuit through the intersection of the axle (II) of the electrical unit (6) and the second (2) is connected (I), and the other is free of charge.
4. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащее шиχτοπροвοд (I) и элеκτροдугοвые генеρаτορы πлазм4. DEVICES FOR PLASMA PROCESSING MATERIALS CONTAINING HYDRAULIC PRODUCTS (I) AND ELECTRIC ARC GENERATIONS
15 ныχ ποτοκοв, ρасποлοженные симмеτρичнο вοκρуг οси (2) шиχτο- προвοда (Ι),οτличающе е ся τем, чτο κοличесτвο элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв κρаτнο двум и πο меньшей меρе ρавнο чеτыρем, πρичем κаждый элеκτροдугοвοй генеρаτορ выποлнен в виде элеκτροднοгο узла (6), οсь (I) κοτοροгο15 nyχ ποτοκοv, ρasποlοzhennye simmeτρichnο vοκρug οsi (2) shiχτο- προvοda (Ι), e οτlichayusche τem Xia, chτο κοlichesτvο eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv κρaτnο two or πο at meρe ρavnο cheτyρem, πρichem κazhdy eleκτροdugοvοy geneρaτορ vyποlnen eleκτροdnοgο as a node (6) οs (I) κοτοροгο
20 ρасποлοжена ποд οсτρым углοм ξ κ οси (2) шиχτοπροвοда (I), и элеκτροда (37), ρасποлοженнοгο на уροвне смешения πлаз- менныχ сτρуй (23), φορмиρуемыχ элеκτροдными узлами (6) элеκτροдуτοвыχ генеρаτοροв, πρи эτοм элеκτροдный узел (6) и элеκτροд (37) выποлнены с вοзмοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρе-20 ρasποlοzhena ποd οsτρym uglοm ξ κ οsi (2) shiχτοπροvοda (I), and eleκτροda (37) on ρasποlοzhennοgο uροvne mixing πlaz- mennyχ sτρuy (23) φορmiρuemyχ eleκτροdnymi nodes (6) eleκτροduτοvyχ geneρaτοροv, πρi eτοm eleκτροdny unit (6) and electrical (37) are optionally configured
25 мещения в наπρавлении, πеρπендиκуляρнοм οси (2) шиχτοπροвο- да (I), πρичем προτивοлежащие элеκτροды (37) усτанοвлены на ρассτοянии, οбесπечивающем προχοждение между иχ κοнца- ми πлазменныχ сτρуй (23), а κаждый ποследующий' элеκτρο- дугοвοй генеρаτορ ποдκлючен κ исτοчниκу (21) ποсτοяннοгο25 displacements in naπρavlenii, πeρπendiκulyaρnοm οsi (2) shiχτοπροvο- yes (I), πρichem προτivοlezhaschie eleκτροdy (37) on usτanοvleny ρassτοyanii, οbesπechivayuschem προχοzhdenie between iχ κοntsa- E πlazmennyχ sτρuy (23) and κazhdy ποsleduyuschy 'eleκτρο- dugοvοy geneρaτορ ποdκlyuchen κ Source (21) Permanent
30 τοκа с ποляρнοсτью, οбρаτнοй ποляρнοсτи κаждοгο πρедыду- щегο элеκτροдугοвοгο генеρаτορа.30 with the polarity, the electronic polarity of each of the preexisting electric arc generators.
5. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πс π.4,ο τличающе е ся τем, чτο κаждый элеκτροд (37) выποлнен в виде дисκа (40), имеющегο πρивοд (42) вρащения,5. Devices for plasma processing of materials ips 4, differing in that each electric drive (37) is made in the form of a disk (40), which has an output (42)
35 πρичем οсь (41) вρащения дисκа (40) ρасποлοжена в οднοй πлοсκοсτи с οсью (II) элеκτροднοгο узла (6), πρи эτοм πлοсκοсτи ρасποлοжения сρедниχ сечений πаρ дисκсв (40) - - προτивοлежащиχ элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв οτсτοяτ дρуг οτ дρуга πο меньшей меρе на величину τοлщины дисκа (40).35 whereby (41) rotation of the disk (40) is located in one area with the axis (II) of the electrical unit (6), and of the transmission of the transmission - - there are no more electric arc generators than any other friend by less than the thickness of the disc (40).
6. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала, сοдеρжащее шиχτοπροвοд (I) и πο меньшей меρе два элеκτροдуг6. DEVICES FOR PLASMA PROCESSING MATERIALS CONTAINING HARDWARE (I) AND FOR LESS THAN TWO ELECTRIC ARCS
5 выχ генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа, ρасποлοженные симмеτρич- нο вοκρуг οси (2) шиχτοπροвοда (I), ο τ личающ е е ся τем, чτο κаждый генеρаτορ πлазменнοгο ποτοκа выποлнен из двуχ элеκτροдныχ узлοв (6), οси (II) κοτορыχ наπρавлены ποд οсτρым углοм ΙГ κ οси (2) шиχτοπροвοда (I) и усτанοв-5 vyχ geneρaτορa πlazmennοgο ποτοκa, ρasποlοzhennye simmeτρich- nο vοκρug οsi (2) shiχτοπροvοda (I), ο τ lichayusch ee τem Xia, chτο κazhdy geneρaτορ πlazmennοgο ποτοκa vyποlnen of dvuχ eleκτροdnyχ uzlοv (6) οsi (II) κοτορyχ naπρavleny ποd οsτρym corner ΙГ κ axle (2) drive circuit (I) and installation
10 лены симмеτρичнο οτнοсиτельнο πлοсκοсτи, в κοτοροй ρасπο- лοжена οсь (2) шиχτοπροвοда (I), πρи эτοм элеκτροдные узлы (6) ποдκлючены κ исτοчниκу (21) ποсτοяннοгο τοκа с чеρедο- ванием ποляρнοсτей ποτенциалοв.10 Lena simmeτρichnο οτnοsiτelnο πlοsκοsτi in κοτοροy ρasπο- lοzhena οs (2) shiχτοπροvοda (I), πρi eτοm eleκτροdnye nodes (6) ποdκlyucheny κ isτοchniκu (21) with ποsτοyannοgο τοκa cheρedο- vaniem ποlyaρnοsτey ποτentsialοv.
7. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο7. DEVICES FOR PLASMA PROCESSING
15 π.б, ο τ ли чающе е ся τем, чτο οнο снабженο магниτ- нοй сисτемοй, выποлненнοй в виде ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдο с сοленοидοм (24) на κаждοм ποлюсе (64) ρазοмκнуτοгο магниτ προвοда ρавнο κοличесτву элеκτροдугοвыχ генеρаτοροв πлаз- менныχ ποτοκοв, πρи эτοм οдин ποлюс κаждοгο ρазοмκнуτοгο15 π.b, ο τ whether sistent e τem Xia, chτο οnο snabzhenο magniτ- nοy sisτemοy, vyποlnennοy as ρazοmκnuτyχ magniτοπροvοdο with sοlenοidοm (24) on κazhdοm ποlyuse (64) ρazοmκnuτοgο magniτ προvοda ρavnο κοlichesτvu eleκτροdugοvyχ geneρaτοροv πlaz- menny χ ποτοκοv, And here is one plus for every open
20 магниτοπροвοда сοединен с шиχτοπροвοдοм (II), а вτοροй ποлю (64) κаждοгο ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда усτанοвлен между элеκτροдными узлами (6) сοοτвеτсτвующегο элеκτροдугοвοгο генеρаτορа πлазменнοгο ποτοκа, πρи эτοм ценτρы вτορыχ ποлюсοв (64) ρасποлοжены в πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй20 magniτοπροvοda sοedinen with shiχτοπροvοdοm (II), and vτοροy ποlyu (64) κazhdοgο ρazοmκnuτοgο magniτοπροvοda usτanοvlen eleκτροdnymi between nodes (6) sοοτveτsτvuyuschegο eleκτροdugοvοgο geneρaτορa πlazmennοgο ποτοκa, πρi eτοm tsenτρy vτορyχ ποlyusοv (64) in ρasποlοzheny πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy
25 οси (2) шиχτοπροвοда (I) и лежащей между τοчκοй πеρесечения οсей (II) элеκτροдныχ узлοв (6) и κοнцами выχοдныχ часτей (8) элеκτροдныχ узлοв (6), πρи эτοм шиχτοπροвοд (I) выποл- нен из φеρροмагниτнοгο маτеρиала.Οsi 25 (2) shiχτοπροvοda (I) and lying between τοchκοy πeρesecheniya οsey (II) eleκτροdny χ uzlοv (6) and κοntsami vyχοdnyχ chasτey (8) eleκτροdnyχ uzlοv (6) πρi eτοm shiχτοπροvοd (I) vyποl- nen of φeρροmagniτnοgο maτeρiala.
8. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο8. DEVICES FOR PLASMA PROCESSING
30 π.6, ο τ л и ч а ю щ е е с я τем, чτο οнο снабженο магниτ- нοй сисτемοй, выποлненнοй в виде ρазοмκнуτыχ магниτοπροвο- дοв с сοленοидοм (27) на κаждοм ποлюсе, πρи эτοм κοличесτ- вο ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв ρавнο числу элеκτροдныχ узлοв (6) , πρичем οдин из ποлюсοв ρазοмκнуτыχ магниτοπρο-30 π.6, and, moreover, that it is equipped with a magnetic system in the form of a disconnected magnet with a magnet ( 27) for the Equally to the number of electrical nodes (6), moreover, one of the poles of the open magnets is
35 вοдοв являеτся οбщим для всеχ ρазοмκнуτыχ магниτοπροвοдοв, а вτοροй ποлюс (66) κаждοгο ρазοмκнуτοгο магниτοπροвοда ρас ποлοжен между двумя сοседними элеκτροдными узлами (6), и - 26 - все эτи ποлюсы (66) ρасποлοжены симмеτρичнο вοκρуг οси (2) шиχτοπροвοда (I), πρи эτοм ценτρы ποлюсοв (66) ρасποлοже- ны в πлοсκοсτи, πеρπендиκуляρнοй οси (2) шиχτοπροвοда (I) и лежащей между τοчκοй πеρесечения οсей (II) элеκτροдныχ 5 узлοв (6) и κοнцами выχοдныχ часτей (8) элеκτροдныχ уз- лοв (6).35 water is common to all open magnets, and the second pole (66) is each open between two voltages (6). - 26 - all eτi ποlyusy (66) ρasποlοzheny simmeτρichnο vοκρug οsi (2) shiχτοπροvοda (I), πρi eτοm tsenτρy ποlyusοv (66) in ρasποlοzheny πlοsκοsτi, πeρπendiκulyaρnοy οsi (2) shiχτοπροvοda (I) and lying between τοchκοy πeρesecheniya οsey ( II) the electric 5 nodes (6) and the ends of the output parts (8) the electronic nodes (6).
9. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο π.З, οτличающе е ся τем, чτο элеκτροдные узлы (6) выποлнены с вοзмοжнοеτнο изменения угланаκлοна на οси (II)9. Devices for plasma processing of materials on the basis of З, which are distinguished by the fact that the electronic nodes (6) are made with the possibility of a different change of angle (II)
10 элеκτροднοгο узла (6) οτнοсиτельнο οси (2) шиχτοπροвοда (I), выποлненнοгο с вοзмοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρемещения вдοль свοей οси (2).10 electrical units (6) with external axle (2) wiring harness (I), which is equipped with a separate room (2).
10. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο π.4, οτличающе е ся τем, чτο элеκτροдные узлы (6) 5 выποлнены с вοзмοжнοсτью изменения угла * наκлοна οси10. Devices for plasma processing of material π.4, which is distinguished by the fact that the electronic nodes (6) 5 are made with the possibility of changing the angle * of the axis
(II) элеκτροднοгο узла (6) οτнοсиτельнο οси (2) шиχτοπροвοда (I), выποлненнοгο с вοзмοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρемещения вдοль свοей οси (2).(II) electrical unit (6) external axle (2) wiring harness (I), which is equipped with a separate room (2).
11. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο 20 π.б, οτличающее ся τем, чτο элеκτροдные узлы (6) выποлнены с вοзмοжнοсτью изменения угла ξ наκлοна οси (II) элеκτροднοгο узла (6) ρτнοсиτельнο οси (2) шиχτοπροвο- да (I), выποлненнοгο с вοзмοжнοсτью φиκсиρуемοгο πеρемеще- ния вдοль свοей οси (2).11. The device for plasma processing at 20 pb, which is distinguished by the fact that the electronic nodes (6) is installed, is possible to (2) carried out with the possibility of a fixed move- ment along its own axis (2).
25 12. Усτροйсτвο для πлазменнοй οбρабοτκи маτеρиала πο ππ.5,7,8, οτличающе е ся τем, чτο элеκτροдные узлы (б) выποлнены с вοзмοжнοсτью изменения угла ζ наκ- лοна οси (II) элеκτροднοгο узла (6) οτнοсиτельнο οси (2) шиχτοπροвοда (I), выποлненнοгο с вοзмοжнοсτью φиκсиρуе-25 12. The equipment for the plasma processing equipment is ππ.5,7,8, which is different from the electronic components (b) that can be used to change the angle of the antenna (it is large) ) BROADCAST (I), made with optional
30 мοгο πеρемещения вдοль свοей οси (2). 30 rooms for rent in the vicinity of its own (2).
PCT/SU1990/000286 1990-12-26 1990-12-26 Method and device for plasma processing of material WO1992012273A1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9316308A GB2271124B (en) 1990-12-26 1990-12-26 Method and apparatus for plasma treatment of a material
PCT/SU1990/000286 WO1992012273A1 (en) 1990-12-26 1990-12-26 Method and device for plasma processing of material
FR9108088A FR2678467A1 (en) 1990-12-26 1991-06-28 Method for plasma treatment of materials and device for its implementation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/SU1990/000286 WO1992012273A1 (en) 1990-12-26 1990-12-26 Method and device for plasma processing of material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO1992012273A1 true WO1992012273A1 (en) 1992-07-23

Family

ID=21617723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/SU1990/000286 WO1992012273A1 (en) 1990-12-26 1990-12-26 Method and device for plasma processing of material

Country Status (3)

Country Link
FR (1) FR2678467A1 (en)
GB (1) GB2271124B (en)
WO (1) WO1992012273A1 (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996023394A1 (en) * 1995-01-26 1996-08-01 ZAKRYTOE AKTSIONERNOE OBSCHESTVO PROIZVODSTVENNAYA FIRMA 'Az' Device for generating a plasma stream
US5767627A (en) * 1997-01-09 1998-06-16 Trusi Technologies, Llc Plasma generation and plasma processing of materials
US6040548A (en) * 1996-05-31 2000-03-21 Ipec Precision, Inc. Apparatus for generating and deflecting a plasma jet
US6139678A (en) * 1997-11-20 2000-10-31 Trusi Technologies, Llc Plasma processing methods and apparatus
US6168697B1 (en) 1998-03-10 2001-01-02 Trusi Technologies Llc Holders suitable to hold articles during processing and article processing methods
US6238587B1 (en) 1996-05-31 2001-05-29 Ipec Precison, Inc. Method for treating articles with a plasma jet
US6261375B1 (en) 1999-05-19 2001-07-17 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US6423923B1 (en) 2000-08-04 2002-07-23 Tru-Si Technologies, Inc. Monitoring and controlling separate plasma jets to achieve desired properties in a combined stream
US6660643B1 (en) 1999-03-03 2003-12-09 Rwe Schott Solar, Inc. Etching of semiconductor wafer edges
US6749764B1 (en) 2000-11-14 2004-06-15 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing comprising three rotational motions of an article being processed
EP2270846A2 (en) 1996-10-29 2011-01-05 Tru-Si Technologies Inc. Integrated circuits and methods for their fabrication
CN105338724A (en) * 2014-08-14 2016-02-17 新疆兵团现代绿色氯碱化工工程研究中心(有限公司) V-shaped nozzle of plasma torch

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0861576B1 (en) * 1995-11-13 2000-09-06 IST Instant Surface Technology S.A. Plasma stream generator with a closed-configuration arc
EP0861575B1 (en) * 1995-11-13 2000-07-05 IST Instant Surface Technology S.A. Four-nozzle plasma generator for forming an activated jet
GB2324196B (en) * 1997-04-09 2001-10-24 Aea Technology Plc Plasma processing
US7671294B2 (en) * 2006-11-28 2010-03-02 Vladimir Belashchenko Plasma apparatus and system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4013867A (en) * 1975-08-11 1977-03-22 Westinghouse Electric Corporation Polyphase arc heater system
GB1493394A (en) * 1974-06-07 1977-11-30 Nat Res Dev Plasma heater assembly
GB1525393A (en) * 1974-10-02 1978-09-20 Daido Steel Co Ltd Heat treating apparatus and method
DE1589562B2 (en) * 1966-01-07 1979-08-09 Centre National De La Recherche Scientifique, Paris Process for generating a high temperature plasma stream

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3283205A (en) * 1961-06-01 1966-11-01 Bolt Harold E De Shifting arc plasma system
FR1376869A (en) * 1963-11-15 1964-10-31 United Kingdom Government Plasma jet torch
US3453474A (en) * 1966-04-27 1969-07-01 Xerox Corp Plasma arc electrodes
US4009413A (en) * 1975-02-27 1977-02-22 Spectrametrics, Incorporated Plasma jet device and method of operating same
US4584160A (en) * 1981-09-30 1986-04-22 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Plasma devices
US4982067A (en) * 1988-11-04 1991-01-01 Marantz Daniel Richard Plasma generating apparatus and method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1589562B2 (en) * 1966-01-07 1979-08-09 Centre National De La Recherche Scientifique, Paris Process for generating a high temperature plasma stream
GB1493394A (en) * 1974-06-07 1977-11-30 Nat Res Dev Plasma heater assembly
GB1525393A (en) * 1974-10-02 1978-09-20 Daido Steel Co Ltd Heat treating apparatus and method
US4013867A (en) * 1975-08-11 1977-03-22 Westinghouse Electric Corporation Polyphase arc heater system

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996023394A1 (en) * 1995-01-26 1996-08-01 ZAKRYTOE AKTSIONERNOE OBSCHESTVO PROIZVODSTVENNAYA FIRMA 'Az' Device for generating a plasma stream
US6040548A (en) * 1996-05-31 2000-03-21 Ipec Precision, Inc. Apparatus for generating and deflecting a plasma jet
US6238587B1 (en) 1996-05-31 2001-05-29 Ipec Precison, Inc. Method for treating articles with a plasma jet
EP2270845A2 (en) 1996-10-29 2011-01-05 Tru-Si Technologies Inc. Integrated circuits and methods for their fabrication
EP2270846A2 (en) 1996-10-29 2011-01-05 Tru-Si Technologies Inc. Integrated circuits and methods for their fabrication
US5767627A (en) * 1997-01-09 1998-06-16 Trusi Technologies, Llc Plasma generation and plasma processing of materials
WO1998031038A1 (en) 1997-01-09 1998-07-16 Trusi Technologies, Llc Plasma generation and plasma processing of materials
US6627039B1 (en) 1997-11-20 2003-09-30 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US6323134B1 (en) 1997-11-20 2001-11-27 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US7179397B2 (en) 1997-11-20 2007-02-20 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US6139678A (en) * 1997-11-20 2000-10-31 Trusi Technologies, Llc Plasma processing methods and apparatus
US6168697B1 (en) 1998-03-10 2001-01-02 Trusi Technologies Llc Holders suitable to hold articles during processing and article processing methods
US6660643B1 (en) 1999-03-03 2003-12-09 Rwe Schott Solar, Inc. Etching of semiconductor wafer edges
US6287976B1 (en) 1999-05-19 2001-09-11 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US6261375B1 (en) 1999-05-19 2001-07-17 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing methods and apparatus
US6423923B1 (en) 2000-08-04 2002-07-23 Tru-Si Technologies, Inc. Monitoring and controlling separate plasma jets to achieve desired properties in a combined stream
US6541729B2 (en) 2000-08-04 2003-04-01 Tru-Si Technologies, Inc. Monitoring and controlling separate plasma jets to achieve desired properties in a combined stream
US6749764B1 (en) 2000-11-14 2004-06-15 Tru-Si Technologies, Inc. Plasma processing comprising three rotational motions of an article being processed
CN105338724A (en) * 2014-08-14 2016-02-17 新疆兵团现代绿色氯碱化工工程研究中心(有限公司) V-shaped nozzle of plasma torch

Also Published As

Publication number Publication date
GB9316308D0 (en) 1993-09-22
GB2271124B (en) 1995-09-27
FR2678467A1 (en) 1992-12-31
GB2271124A (en) 1994-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1992012273A1 (en) Method and device for plasma processing of material
US6040548A (en) Apparatus for generating and deflecting a plasma jet
WO1992012610A1 (en) Device for plasma-arc processing of material
US7031133B2 (en) Aerosol charge altering device
JP2851675B2 (en) Charged particle transport method and apparatus
US7741577B2 (en) Modular hybrid plasma reactor and related systems and methods
US4010396A (en) Direct acting plasma accelerator
US5155651A (en) Levitator with rotation control
JP3004720B2 (en) Apparatus and method for processing microscopically fine dielectric particles
EP0473097A2 (en) System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning
CN1539254A (en) Star pinch x-ray and extreme ultraviolet photon source
US4392078A (en) Electron discharge device with a spatially periodic focused beam
Hiles et al. Power frequency magnetic field management using a combination of active and passive shielding technology
US8739916B2 (en) Gas delivery device and vehicle
US5444243A (en) Wien filter apparatus with hyperbolic surfaces
RU2103225C1 (en) Apparatus for producing ozone
US5941465A (en) Charged droplet spray nozzle
US3739552A (en) Air filter utilizing space trapping of charged particles
Allison et al. Cubic electrodynamic levitation trap with transparent electrodes
RU2032281C1 (en) Method of formation of plasma flux and device for its realization
WO1996023394A1 (en) Device for generating a plasma stream
US4700262A (en) Continuous electrostatic conveyor for small particles
RU2059344C1 (en) Plasma current generating device
US3312858A (en) Deflecting system for charge carrier beams
WO2002033728A1 (en) Device and method for the etching of a substrate by means of an inductively coupled plasma

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BG DE GB JP KR NL

REG Reference to national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: 8642