TWM642556U - 曝光裝置 - Google Patents

Abstract

本創作公開一種曝光裝置，用來對設置於長度介於1.5公尺至1.7公尺之間的一待光刻件的一外表面的一光阻層曝光。曝光裝置包括一光源、位置臨近於光源的一凹透鏡、以及間隔地設置於凹透鏡相對遠離光源的一側的一微透鏡陣列。光源用來發射一光線，並且光線能用來照射光阻層，使光阻層形成一圖案化光阻層。凹透鏡用來擴散光線，並且微透鏡陣列用來調整光線的行走路徑。

Description

曝光裝置

本創作涉及一種曝光裝置，特別是涉及一種無版縫曝光裝置。

現有的光刻曝光設備對一金屬滾輪或一金屬平板基材曝光時，為形成特定的圖案結構，往往會搭配光罩以進行曝光。然，為了能在曝光時形成更加精細的圖案，光罩的微結構的複雜度不斷提升，進而導致光罩的製造成本上升，也使得現有的光刻曝光設備的整體製造成本提升。

故，如何通過結構設計的改良，來克服上述的缺陷，已成為該項事業所欲解決的重要課題之一。

本創作實施例針對現有技術的不足提供一種曝光裝置，其能有效地改善現有曝光裝置所可能產生的缺陷。

本創作實施例公開一種曝光裝置，用來對設置於長度介於1.5公尺至1.7公尺之間的一待光刻件的一外表面的一光阻層曝光，所述曝光裝置包括：一光源，用來發射一光線，並且所述光線能用來照射所述光阻層，使所述光阻層形成一圖案化光阻層；一凹透鏡，位置臨近於所述光源，並且所述凹透鏡用來擴散所述光線；以及一微透鏡陣列，間隔地設置於所述凹透鏡相對遠離所述光源的一側，並且所述微透鏡陣列用來調整所述光線的行走路徑。

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的所述曝光裝置，其能通過“所述微透鏡陣列間隔地設置於所述凹透鏡相對遠離所述光源的一側，並且所述微透鏡陣列用來調整所述光線的行走路徑”的技術方案，取代製造成本與結構複雜度皆相對高的現有光罩，進而降低所述曝光裝置的整體製造成本。

為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與圖式，然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明，並非用來對本創作加以限制。

以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“曝光裝置”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不背離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外，本創作的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。此外，以下如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示，其僅是用以強調於後續說明中，所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中，但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本創作的保護範圍。

應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

請參閱圖1至圖2所示，其為本創作的實施例，需先說明的是，本實施例所對應到的附圖及其所提及的相關數量與外形，僅用來具體地說明本創作的實施方式，以便於了解本創作的內容，而非用來侷限本創作的保護範圍。

如圖1所示，本創作實施例提供一種曝光裝置100，用來對設置於一待光刻件200的一外表面201的一光阻層202曝光。其中，於本實施例中，所述待光刻件200較佳為長度介於1.5公尺至1.7公尺之間的一金屬滾輪，但本創作並不限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述待光刻件200也可以為一金屬平板。

需要說明的是，所述金屬滾輪與所述金屬平板較佳由鉻製成，但本創作並不限於此。舉例來說，所述金屬滾輪與所述金屬平板也可以由錫、鉛、鋅、鋁、銅、黃銅、鐵、鎳、鈷、鎢、不鏽鋼或其硬度大於不鏽鋼的金屬製成，而所述金屬滾輪與所述金屬平板的尺寸也能以依需求進行設計。

需要說明的是，所述光阻層202於本實施例中由正光阻劑形成，其可以是由酚醛樹脂（Phenol-formaldehyde resin）或環氧樹脂（Epoxy resin）等正光阻劑材料製成，但本創作並不限於此。舉例來說，所述光阻層202也可以由聚異戊二烯橡膠（Polyisoprene rubber）、環氧基聚合物（Epoxy-based polymer）、或硫醇烯聚合物（Thiol-enes（OSTE）polymer）等負光阻劑材料製成。

如圖1所示，所述曝光裝置100包括一光源1、位置臨近於所述光源1的一凹透鏡2、以及間隔地設置於所述凹透鏡2相對遠離所述光源1的一側的一微透鏡陣列3。其中，所述凹透鏡2用來擴散所述光線，但本創作並不限於此。舉例來說，如圖2所示，所述曝光裝置100也可以包含位於所述凹透鏡2與所述微透鏡陣列3之間的一反射鏡4。

如圖1所示，所述光源1用來發射一光線，並且所述光線能用來照射所述光阻層202，使所述光阻層202形成一圖案化光阻層。其中，所述光源1包含多個發光二極體（圖未繪），多個所述發光二極體用來發出波長範圍200~400奈米的紫外光，但本創作並不限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述光源也可以包含多個雷射二極體，多個所述雷射二極體用來發出波長範圍300~450奈米的雷射光。

需要說明的是，當多個所述發光二極體是用來發出紫外光時，多個所述發光二極體較佳用來發出波長365奈米的紫外光；當多個所述發光二極體是用來發出雷射光時，多個所述發光二極體較佳用來發出波長405奈米的雷射光。

如圖1所示，所述微透鏡陣列3用來調整所述光線的行走路徑，並且所述微透鏡陣列3包含多個凸透鏡單元31，多個所述凸透鏡單元31能用來匯聚所述光線。

如圖2所示，所述反射鏡4位於所述凹透鏡2與所述微透鏡陣列3之間，並且所述反射鏡4能用來改變所述光線的行走路徑。其中，所述反射鏡4和所述凹透鏡2之間的距離與所述反射鏡4和所述微透鏡陣列3之間的距離相同。

需要說明的是，所述光源1與所述凹透鏡2間隔有一擴散距離L1，並且所述擴散距離L1小於所述凹透鏡2與所述微透鏡陣列3之間的距離；所述微透鏡陣列3能用來與所述光阻層202間隔有一曝光距離L2，並且所述曝光距離L2小於所述凹透鏡與所述微透鏡陣列3之間的距離。其中，所述曝光距離L2介於10微米～20微米之間，但本創作並不限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述曝光距離L2也可以介於1微米～10微米之間。

[實施例的有益效果]

本創作的其中一有益效果在於，本創作所提供的所述曝光裝置100，其能通過“所述微透鏡陣列3間隔地設置於所述凹透鏡2相對遠離所述光源1的一側，並且所述微透鏡陣列3用來調整所述光線的行走路徑”的技術方案，取代製造成本與結構複雜度皆相對高的現有光罩，進而降低所述曝光裝置100的整體製造成本。

以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例，並非因此侷限本創作的申請專利範圍，所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本創作的申請專利範圍內。

100:曝光裝置 1:光源 2:凹透鏡 3:微透鏡陣列 31:凸透鏡單元 4:反射鏡 200:待光刻件 201:外表面 202:光阻層 L1:擴散距離 L2:曝光距離

圖1為本創作實施例的曝光裝置的示意圖。

圖2為本創作實施例的曝光裝置的另一示意圖。

100:曝光裝置

1:光源

2:凹透鏡

3:微透鏡陣列

31:凸透鏡單元

200:待光刻件

201:外表面

202:光阻層

L1:擴散距離

L2:曝光距離

Claims (10)

1. 一種曝光裝置，用來對設置於長度介於1.5公尺至1.7公尺之間的一待光刻件的一外表面的一光阻層曝光，所述曝光裝置包括： 一光源，用來發射一光線，並且所述光線能用來照射所述光阻層，使所述光阻層形成一圖案化光阻層； 一凹透鏡，位置臨近於所述光源，並且所述凹透鏡用來擴散所述光線；以及 一微透鏡陣列，間隔地設置於所述凹透鏡相對遠離所述光源的一側，並且所述微透鏡陣列用來調整所述光線的行走路徑。
2. 如請求項1所述的曝光裝置，其中，所述光源包含多個發光二極體，多個所述發光二極體用來發出波長範圍200~400奈米的紫外光。
3. 如請求項1所述的曝光裝置，其中，所述光源包含多個雷射二極體，多個所述雷射二極體用來發出波長範圍300~450奈米的雷射光。
4. 如請求項1所述的曝光裝置，其中，所述微透鏡陣列包含多個凸透鏡單元，多個所述凸透鏡單元能用來匯聚所述光線。
5. 如請求項1所述的曝光裝置，其中，所述光源與所述凹透鏡間隔有一擴散距離，並且所述擴散距離小於所述凹透鏡與所述微透鏡陣列之間的距離。
6. 如請求項1所述的曝光裝置，其中，所述微透鏡陣列能用來與所述光阻層間隔有一曝光距離，並且所述曝光距離小於所述凹透鏡與所述微透鏡陣列之間的距離。
7. 如請求項6所述的曝光裝置，其中，所述曝光距離介於10微米～20微米之間。
8. 如請求項6所述的曝光裝置，其中，所述曝光距離介於1微米～10微米之間。
9. 如請求項1所述的曝光裝置，其進一步包含一反射鏡，所述反射鏡位於所述凹透鏡與所述微透鏡陣列之間，並且所述反射鏡能用來改變所述光線的行走路徑。
10. 如請求項9所述的曝光裝置，其中，所述反射鏡和所述凹透鏡之間的距離與所述反射鏡和所述微透鏡陣列之間的距離相同。

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