TWM572450U

TWM572450U - Omni-directional auxiliary measuring device

Info

Publication number: TWM572450U
Application number: TW107210903U
Authority: TW
Inventors: 江宛儒
Original assignee: 迪恩邑興業有限公司
Priority date: 2018-08-09
Filing date: 2018-08-09
Publication date: 2019-01-01

Abstract

一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其包含有：一羅盤本體、一基座、一觀測鏡組、一U形支架與一定位組件，其中基座頂面設有一置放平台，所述基座與置放平台間是透過一樞接單元做連結，觀測鏡組包含一望遠鏡以及平行設於其上之一定位器，以該望遠鏡透過一連接座樞組於所述U形支架上，將令所述觀測鏡組可視使用時之實際需求在所述U形支架上做測量角度之旋轉，U形支架是架設於所述置放平台的頂面前方，且該U形支架的一側板上係貫穿有一限位孔，定位組件具有結合在所述連接座一側邊上的一限位塊，該限位塊上貫穿有弧狀延伸的一旋轉槽。

Description

堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置

本創作係有關於一種「堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置」，尤指一種地理堪輿用之輔助器具。

按，目前習知的堪輿羅盤輔助測量裝置，多如附件所示，其係鈞局於94年4月1日所核准專利證書號第M260725號之「堪輿羅盤之輔助測量裝置改良」，其主要包括：羅盤本體(20)、輔助架(21)以及架設於該輔助架(21)羅盤置放平台(22)一側之雷射觀測鏡組(23)；其特徵在於：其中該雷射觀測鏡組(23)具有雙向雷射定位器(231)，令沿該觀測鏡兩端即可各觀測一雷射定位點，而該兩定位點可零誤差準確定位出兩點間所構成之垂直平面或一直線者；另，該雷射觀測鏡組(23)垂直設置於該置放平台(22)之支架(24)係呈U型伸展，而U型之深度則大於該觀測鏡軸樞點起算的翻轉半徑者，俾使該雷射觀測鏡組(23)向下旋轉進行校準時，該雷射定位器(231)下垂投射定位點可校準該羅盤(20)基準線(200)之最前端延伸至最後端者。

然，如上所述之習知結構於實際應用中仍存在有下述之問題點：(一)其雷射觀測鏡組(23)只能在水平位置獲得定位，當所述雷射觀測鏡組(23)脫離該水平位置時便不受限制而能隨意轉動，並可能在轉動過程與旁物發生碰撞，經常碰撞下恐容易造成所述雷射觀測鏡組(23)損壞或嚴重影響其精度，使用上仍有極待改良之處者；(二)其雷射觀測鏡組(23)只能在水平位置獲得定位，當所述雷射觀測鏡組(23)脫離該水平位置時便不受限制而能隨意轉動，因此如果使用者要進行不同角度之測量時，就需要以手部持續扶住該雷射觀測鏡組(23)，使用上之便利性欠佳，也容易因為手部扶住所述雷射觀測鏡組(23)之自然晃動即產生不必要之人為誤差。

是以，如何針對上述習知堪輿羅盤輔助測量裝置所存在之缺點進行研發改良，實為相關業界所需努力研發之目標，本創作人有鑑於此，乃思及創作的意念，遂以多年的經驗加以設計，經多方探討並試作樣品試驗，及多次修正改良，乃推出本創作。

習知雷射觀測鏡組只能在水平位置獲得定位，當所述雷射觀測鏡組脫離該水平位置時便不受限制而能隨意轉動，此乃欲解決之技術問題點者。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其包含有：一羅盤本體、一基座、一觀測鏡組、一U形支架與一定位組件，其中，羅盤本體為一般之羅盤構造，其上標示有方位並設有指北針以及基礎線，俾令該羅盤本體可於堪輿觀測時提供使用，基座頂面設有一置放平台，該置放平台可供所述羅盤本體置放，且可在所述羅盤本體完成校準後透過所述置放平台對該羅盤本體進行固定，又所述基座與置放平台間是透過一樞接單元做連結，該樞接單元包含有一上旋轉軸與一下旋轉軸，以該上旋轉軸與下旋轉軸之交錯設置，係令所述置放平台能在所述基座上進行左、右或前、後角度之調整，觀測鏡組包含一望遠鏡以及平行設於其上之一定位器，以該望遠鏡之中段部位透過一連接座樞組於所述U形支架上，將令所述觀測鏡組可視使用時之實際需求在所述U形支架上做測量角度之旋轉，U形支架是以準確垂直之形態架設於所述置放平台的頂面前方，讓所述定位器的投射光點動線能恰好對準該U形支架的中間位置，及該U形支架的一側板上係貫穿有一限位孔，定位組件具有結合在所述連接座一側邊上的一限位塊，該限位塊上貫穿有弧狀延伸的一旋轉槽，以該旋轉槽與所述限位孔的對位提供一螺栓做穿置，並以一螺帽鎖結在所述螺栓穿出所述限位孔的螺紋段上，便能在所述螺帽放鬆時讓所述觀測鏡組以該旋轉槽依循著所述螺栓做轉動，當調整至所需位置時，則又能透過所述螺帽的立即鎖緊，以該螺帽與所述螺栓擴大的螺栓頭對所述限位塊與所述U形支架的側板進行夾固，俾避免所述觀測鏡組調整後因不受限制而再隨意轉動或需要一直用手扶著，藉此，俾以得到一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置者。

(一)本創作提供堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其任何時間點都能利用所述螺帽的鎖緊，來防止所述觀測鏡組隨意轉動下即與旁物發生碰撞而容易造成該觀測鏡組損壞或嚴重影響其精度，調整完畢後也能利用該設計，讓使用者能空出雙手進行其他的工作，而不需用手一直扶住所述觀測鏡組，該在使用上除較方便外，也能避免因為手部扶住所述觀測鏡組之自然晃動即產生不必要之人為誤差。

(二)本創作提供堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其利用所述上旋轉軸與下旋轉軸之交錯設置，係令所述置放平台能在所述基座上進行左、右或前、後角度之調整，俾令所述羅盤本體之量測使用可更全面者。

本創作部分：

(10)‧‧‧羅盤本體

(11)‧‧‧基礎線

(20)‧‧‧基座

(21)‧‧‧置放平台

(22)‧‧‧上旋轉軸

(23)‧‧‧下旋轉軸

(30)‧‧‧觀測鏡組

(31)‧‧‧望遠鏡

(32)‧‧‧定位器

(33)‧‧‧連接座

(40)‧‧‧U形支架

(41)‧‧‧側板

(411)‧‧‧限位孔

(50)‧‧‧定位組件

(51)‧‧‧限位塊

(511)‧‧‧旋轉槽

(512)‧‧‧凹部

(52)‧‧‧螺栓

(53)‧‧‧螺帽

第一圖：係本創作之立體組合圖。

第二圖：係本創作之立體分解圖。

第三圖：係本創作之組合平面圖。

第四圖：係本創作觀測鏡組之調整狀態圖。

第五圖：係本創作觀測鏡組調整後之鎖緊狀態圖。

第六圖：係本創作置放平台之左、右擺動圖。

第七圖：係本創作置放平台之前、後擺動圖。

第八圖：係本創作另一較佳實施例圖。

為使貴審查委員對本創作之目的、特徵及功效能夠有更進一步之瞭解與認識，以下茲請配合【圖式簡單說明】列舉實施例，詳述說明如后：首先，請由第一圖至第三圖所示觀之，其包含有：一羅盤本體(10)、一基座(20)、一觀測鏡組(30)、一U形支架(40)與一定位組件(50)，其中，羅盤本體(10)為一般之羅盤構造，其上標示有方位並設有指北針以及基礎線(11)，俾令該羅盤本體(10)可於堪輿觀測時提供使用，基座(20)頂面設有一置放平台(21)，該置放平台(21)可供所述羅盤本體(10)置放，且可在所述羅盤本體(10)完成校準後透過所述置放平台(21)對該羅盤本體(10)進行固定，又所述基座(20)與置放平台(21)間是透過一樞接單元做連結，該樞接單元包含有一上旋轉軸(22)與一下旋轉軸(23)，以該上旋轉軸(22)與下旋轉軸(23)之交錯設置，係令所述置放平台(21)能在所述基座(20)上進行左、右(請同時由第六圖所示觀之)或前、後(請同時由第七圖所示觀之)角度之調整，觀測鏡組(30)包含一望遠鏡(31)以及平行設於其上之一定位器(32)，以該望遠鏡(31)之中段部位透過一連接座(33)樞組於所述U形支架(40)上，將令所述觀測鏡組(30)可視使用時之實際需求在所述U形支架(40)上做測量角度之旋轉，U形支架(40)是以準確垂直之形態架設於所述置放平台(21)的頂面前方，讓所述定位器(32)的投射光點動線能恰好對準該U形支架(40)的中間位置，及該U形支架(40)的一側板(41)上係貫穿有一限位孔(411)，定位組件(50)具有結合在所述連接座(33)一側邊上的一限位塊(51)，該限位塊(51)上貫穿有弧狀延伸的一旋轉槽(511)，以該旋轉槽(511)與所述限位孔(411)的對位提供一螺栓(52)做穿置，並以一螺帽(53)鎖結在所述螺栓(52)穿出所述限位孔(411)的螺紋段上，便能在所述螺帽(53)放鬆時讓所述觀測鏡組(30)以該旋轉槽(511)依循著所述螺栓(52)做轉動，當調整至所需位置時，則又能透過所述螺帽(53)的立即鎖緊，以該螺帽(53)與所述螺栓(52)擴大的螺栓頭對所述限位塊(51)與所述U形支架(40)的側板(41)進行夾固，俾避免所述觀測鏡組(30)調整後因不受限制而再隨意轉動或需要一直用手扶著。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述基座(20)是一可夾固在矮牆或墓碑等物件上之夾持裝置(請同時由第一圖至第七圖所示觀之)。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述基座(20)是一可穩固擺放在地面上之腳架(請同時由第八圖所示觀之)。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器(32)是一可發出雷射光之雷射定位器。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器(32)是一可發出紅外線之紅外線定位器。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器(32)是一單向定位器。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器(32)是一雙向定位器。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述限位塊(51)上係貫穿有半圓形狀的所述旋轉槽(511)。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述限位塊(51)的一側表面上係形成有一凹部(512)，俾以該凹部(512)提供所述螺栓(52)擴大的螺栓頭做容置。

本創作提供一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述螺帽(53)是一手旋螺帽。

其實際使用時，所述觀測鏡組(30)是利用所述螺帽(53)於放鬆後的轉動(請同時由第四圖所示觀之)，而令所述羅盤本體(10)與基座(20)在量測前能先進行準確之校正，該在校正後還能透過所述螺帽(53)的立即鎖緊，以該螺帽(53)與所述螺栓(52)擴大的螺栓頭對所述限位塊(51)與所述U形支架(40)的側板(41)進行夾固(請同時由第五圖所示觀之)，俾避免所述觀測鏡組(30)調整後因不受限制而再隨意轉動或需要一直用手扶著，使用上將相對方便者。

藉上述具體實施例之結構，可得到下述之效益：(一)其任何時間點都能利用所述螺帽(53)的鎖緊，來防止所述觀測鏡組(30)隨意轉動下即與旁物發生碰撞而容易造成該觀測鏡組(30)損壞或嚴重影響其精度，調整完畢後也能利用該設計，讓使用者能空出雙手進行其他的工作，而不需用手一直扶住所述觀測鏡組(30)，該在使用上除較方便外，也能避免因為手部扶住所述觀測鏡組(30)之自然晃動即產生不必要之人為誤差；(二)其利用所述上旋轉軸(22)與下旋轉軸(23)之交錯設置，係令所述置放平台(21)能在所述基座(20)上進行左、右或前、後角度之調整，俾令所述羅盤本體(10)之量測使用可更全面者。

綜上所述，本創作確實已達突破性之結構設計，而具有改良之創作內容，同時又能夠達到產業上之利用性與進步性，且本創作未見於任何刊物，亦具新穎性，當符合專利法相關法條之規定，爰依法提出新型專利申請，懇請鈞局審查委員授予合法專利權，至為感禱。

唯以上所述者，僅為本創作之一較佳實施例而已，當不能以之限定本創作實施之範圍；即大凡依本創作申請專利範圍所作之均等變化與修飾，皆應仍屬本創作專利涵蓋之範圍內。

Claims

一種堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其包含有：一羅盤本體、一基座、一觀測鏡組、一U形支架與一定位組件，其中，羅盤本體為一般之羅盤構造，其上標示有方位並設有指北針以及基礎線，俾令該羅盤本體可於堪輿觀測時提供使用，基座頂面設有一置放平台，該置放平台可供所述羅盤本體置放，且可在所述羅盤本體完成校準後透過所述置放平台對該羅盤本體進行固定，觀測鏡組包含一望遠鏡以及平行設於其上之一定位器，以該望遠鏡透過一連接座樞組於所述U形支架上，將令所述觀測鏡組可視使用時之實際需求在所述U形支架上做測量角度之旋轉，U形支架是以準確垂直之形態架設於所述置放平台的頂面前方，讓所述定位器的投射光點動線能恰好對準該U形支架的中間位置，其特徵在於：所述基座與置放平台間是透過一樞接單元做連結，該樞接單元包含有一上旋轉軸與一下旋轉軸，以該上旋轉軸與下旋轉軸之交錯設置，係令所述置放平台能在所述基座上進行左、右或前、後角度之調整，所述U形支架的一側板上則貫穿有一限位孔，定位組件具有結合在所述連接座一側邊上的一限位塊，該限位塊上貫穿有弧狀延伸的一旋轉槽，以該旋轉槽與所述限位孔的對位提供一螺栓做穿置，並以一螺帽鎖結在所述螺栓穿出所述限位孔的螺紋段上，便能在所述螺帽放鬆時讓所述觀測鏡組以該旋轉槽依循著所述螺栓做轉動，當調整至所需位置時，則又能透過所述螺帽的立即鎖緊，以該螺帽與所述螺栓擴大的螺栓頭對所述限位塊與所述U形支架的側板進行夾固，俾避免所述觀測鏡組調整後因不受限制而再隨意轉動或需要一直用手扶著。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述基座是一可夾固在矮牆或墓碑等物件上之夾持裝置。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述基座是一可穩固擺放在地面上之腳架。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器是一可發出雷射光之雷射定位器。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器是一可發出紅外線之紅外線定位器。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器是一單向定位器。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述定位器是一雙向定位器。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述限位塊上係貫穿有半圓形狀的所述旋轉槽。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述限位塊的一側表面上係形成有一凹部，俾以該凹部提供所述螺栓擴大的螺栓頭做容置。
如請求項1所述之堪輿羅盤之全方位輔助測量裝置，其中，所述螺帽是一手旋螺帽。