TWM566342U - Projector and its projection lens - Google Patents
Projector and its projection lens Download PDFInfo
- Publication number
- TWM566342U TWM566342U TW107203585U TW107203585U TWM566342U TW M566342 U TWM566342 U TW M566342U TW 107203585 U TW107203585 U TW 107203585U TW 107203585 U TW107203585 U TW 107203585U TW M566342 U TWM566342 U TW M566342U
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- lens
- projection
- optical system
- optical surface
- optical
- Prior art date
Links
Landscapes
- Lenses (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Abstract
一種投影機與投影鏡頭,該投影機包括有一影像光源產生裝置以及該投影鏡頭,該影像光源產生裝置用以產生影像光束,該投影鏡頭包括有一中繼光學系統,用以接收該影像光束;以及一投影光學系統,包括有至少一透鏡以及一反射件;當該中繼光學系統接收該影像光束時,該影像光束係通過該至少一透鏡,並經由該反射件反射後,再度通過該至少一透鏡,並投射至該成像面;其中,該反射件的有效直徑與該中繼光學系統中最大鏡徑之一該透鏡的鏡徑的比值為X,其滿足以下條件:1.5≦X≦4。
Description
本創作係與光學投影裝置有關;特別是指一種降低鬼影形成的投影機及其投影鏡頭。
隨著視訊技術的進步、光電科技的快速發展,如投影機之投影顯示裝置越來越普及,其除了可應用於工作場合中的會議之外,還可應用於如家庭娛樂之家庭劇院的放映,而其用以將影像清晰地呈現在成像面上之投影鏡頭更是核心元件之一。
為能在小空間也能達到清晰投影之效果,投影機的投影鏡頭逐漸往短焦投影鏡頭之方向進行設計,但為使短距離也能具有良好投射效果,短焦鏡頭通常會使用數量較多且體積較大的透鏡來達到短焦同時又高光學功率之效果。
惟習用的投影機與投影鏡頭,不但體積龐大且重量重,無法符合小型化與輕量化之要求,為改善上述缺點,遂有業者研發一種背投式投影機,即是在內部利用反射鏡將投影機之影像光束反射以投射至成像面上,以求達到小型化與輕量化之目的。然而,習用的背投式投影機於投影時,其鏡片組之間時常會出現多次的反射而產生光環、光斑等,例如在反射鏡與透鏡之間,透鏡與透鏡之間容易產生多次的反射,以至於在其投影畫面上常會出現有位置、形狀不定之重疊影、鬼影等缺陷,不僅有礙其投影畫面的美觀,更破壞了其投影畫面之構圖,造成使用者的困擾。
是以,如何降低或消除所出現的鬼影(ghost image)等瑕疵的產生,以提供高品質的投影畫面,是創作人所努力的方向之一。
有鑑於此,本創作之目的在於提供一種可有效改善鬼影問題的投影機及其投影鏡頭。
緣以達成上述目的,本創作提供的一種投影機,其包括有:一影像光源產生裝置,用以產生一影像光束;一投影鏡頭,用以接收該影像光束並投射至一成像面,該投影鏡頭包括一中繼光學系統以及一投影光學系統;該中繼光學系統位於該影像光源產生裝置以及該投影光學系統之間,用以接收該影像光束;該投影光學系統包括有一第一透鏡以及一第二透鏡,該第一透鏡具有相背對的一第一光學面以及一第二光學面,該第一光學面上設有一反射膜;該第二透鏡位於該第一透鏡以及該中繼光學系統之間,且該第二透鏡具有相背對的一第三光學面以及一第四光學面,該第四光學面面對該中繼光學系統;其中,當該中繼光學系統接收該影像光束後,該影像光束係自該第四光學面射入該第二透鏡,並由該第三光學面離開該第二透鏡,再由第二光學面射入該第一透鏡,並經由該反射膜反射後,自該第二光學面離開該第一透鏡,再由第三光學面射入該第二透鏡,再由該第四光學面離開該第二透鏡後,投射至該成像面。
緣以達成上述目的,本創作另提供一種投影鏡頭,用以接收一影像光束並投射至一成像面,其包括有:一中繼光學系統,用以接收該影像光束;一投影光學系統,包括有一第一透鏡以及一第二透鏡,該第一透鏡具有相背對的一第一光學面以及一第二光學面,該第一光學面上設有一反射膜;該第二透鏡位於該第一透鏡以及該中繼光學系統之間,且該第二透鏡具有相背對的一第三光學面以及一第四光學面,該第四光學面面對該中繼光學系統;其中,當該中繼光學系統接收該影像光束後,該影像光束係自該第四光學面射入該第二透鏡,並由該第三光學面離開該第二透鏡,再由第二光學面射入該第一透鏡,並經由該反射膜反射後,自該第二光學面離開該第一透鏡,再由第三光學面射入該第二透鏡,再由該第四光學面離開該第二透鏡後,投射至該成像面。
本創作之效果在於,該影像光束穿透該第二透鏡後,係自第一透鏡的第二光學面射入,並經由該反射膜反射再次由第一透鏡的第二光學面射出,並再次穿透該第二透鏡後,投射至成像面上。藉此,可使得影像光束重複通過投影光學系統,達到二次光學效果之光學設計,從而可有效縮小投影機、投影鏡頭的體積,並兼具有高光學校能。此外,該影像光束並不穿透該第一透鏡的第一光學面,而是經由該第一光學面上的反射膜反射後,自該第一透鏡的第二光學面離開並再度穿透該第二透鏡,透過上述設計,可降低影像光束在鏡片間產生不必要之多次反射的機會,從而可降低鬼影的產生,提升投影畫面的品質。
為能更清楚地說明本創作,茲舉一實施例並配合圖式詳細說明如後。請參圖1及圖2所示,為本創作一實施例之投影機100,其包括有一影像光源產生裝置10以及一投影鏡頭20。
該影像光源產生裝置10用以讀取一影像來源之影像資訊,且具有1片稜鏡F,並依據讀取的影像資訊產生對應之一通過該稜鏡F的影像光束P。該投影鏡頭20用以接收該影像光束P且經過預定效果之光學處理後投射至一成像面,例如可將影像光束P投射至一投影幕(projection screen)上,以在投影幕(相當於成像面)上形成一投影畫面。另外,於其他實際實施上,依據不同光學系統的應用,並不以設置有該稜鏡F為限,舉例而言,於一實施例中,所述的影像光源產生裝置10亦可不設置有稜鏡,而依據所讀取的影像資訊產生一影像光束P後直接射向投影鏡頭,而不以上述說明為限。
該投影鏡頭20包括有自接近該影像光源產生裝置10一側至遠離影像光源產生裝置10一側依序排列的一中繼光學系統22以及一投影光學系統24。
該中繼光學系統22主要由多個透鏡所組成,例如在本實施例中,該中繼光學系統22包括有10片透鏡,包括第三透鏡L3以及其他透鏡L4~L12,其中,第三透鏡L3以及透鏡L3~L5、L7、L10~L12為單層透鏡,透鏡L6、L8、L9為複合透鏡,所述的複合透鏡可由兩片或兩片以上之透鏡膠合而成,但不以此為限,另外,於一實施例中,在透鏡L7與透鏡L8之間可設置有一光圈ST。該中繼光學系統22用以接收該影像光束P,並依據所設計之光學效果傳導該影像光束P,例如可設計有如校正或補償其本身或所引入之色差或是如球差、彗差、像散、場曲、畸變等像差,或是進行光線路徑調整,如進行調焦、變焦等的光學設計等,但不以此為限。此外,於其他應用上,亦可根據不同的光學設計或特性的要求,對中繼光學系統22的透鏡數、鏡片形狀等透鏡參數與架構進行調整或改變。
該投影光學系統24主要包括有至少一透鏡G以及一反射件R1。於本實施例當中,該至少一透鏡G包括有一第一透鏡L1以及一第二透鏡L2,該第一透鏡L1具有一第一光學面S1以及一第二光學面S2,該第二透鏡L2位於該第一透鏡L1以及該中繼光學系統22之間,且該第二透鏡L2具有相背對的一第三光學面S3以及一第四光學面S4,該第四光學面S4面對該中繼光學系統22。於本實施例中,該第一透鏡L1與該第二透鏡L2皆為彎月形透鏡,該第一透鏡L1的該第一光學面S1為凸面,該第二光學面S2為凹面,該第二透鏡L2的該第三光學面S3為凹面,該第四光學面S4為凸面,該第三光學面S3與該第二光學面S2相面對。該反射件R1於本實施例中為一反射鏡,設置於該第一透鏡L1之第一光學面S1的一側。
於本實施例中,所述投影鏡頭100係滿足以下條件:1.5≦X≦4,其中,前述X為該反射件R1的有效直徑與該中繼光學系統22中最大鏡徑之一該透鏡的鏡徑的比值,例如,於本實施例中,所述反射件R1的有效直徑係指反射鏡的鏡徑,其鏡徑為52mm;該中繼光學系統22中最大鏡徑之透鏡為第三透鏡L3,其鏡徑為27.8mm,計算其X約為1.87,滿足前述條件。較佳者,所述投影鏡頭100係滿足以下條件:1.8≦X≦3.5,透過前述設計,本創作之投影機100可以在有效地縮減投影鏡頭20之系統長度、大小與體積的情況下,實現出光角度大之效果,並可據以設計出短焦、小型化的投影鏡頭與投影機。
另外,較佳者,所述投影鏡頭100還滿足以下條件:0.5≦Y≦4,其中,前述Y為該投影光學系統24中最大鏡徑之透鏡的鏡徑與該中繼光學系統22中最大鏡徑之透鏡的鏡徑的比值,例如,於本實施例當中,所述投影光學系統24中最大鏡徑之透鏡為第二透鏡L2,其鏡徑為53.4mm;所述中繼光學系統22最大鏡徑之透鏡為第三透鏡L3,其鏡徑為27.8mm,計算其Y約為1.92,滿足以上條件。較佳者,於一實施例當中,所述投影鏡頭係滿足以下條件:1.0≦Y≦3.5,透過上述設計,本創作之投影機100可以更近一步地在有效地縮減投影鏡頭20之系統長度、大小與體積的情況下,實現出光角度大之效果,並可據以設計出短焦、小型化的投影鏡頭與投影機。
藉此,請配合圖1及圖2所示,當該影像光源產生裝置10產生影像光束P時,該影像光束P進入該投影鏡頭20時,係先通過該中繼光學系統22,並自第四光學面S4射入該第二透鏡L2,並由該第三光學面S3離開該第二透鏡L2,再由第二光學面S2射入該第一透鏡L1,並且經由該反射件R1反射後,自該第一透鏡L1的第二光學面S2離開該第一透鏡L1,再由該第三光學面S3射入該第二透鏡L2,再由該第四光學面S4離開該第二透鏡L2後,投射至成像面(圖未示),例如投射至一投影幕,以形成投影畫面。
透過上述設計,影像光束P係重複通過該第二透鏡L2以及該第一透鏡L1而可達到二次光學效果,並且,透過前述中繼光學系統22以及投影光學系統24之鏡片的搭配與參數條件的設計,本創作的投影機與投影鏡頭可以在縮小鏡片的大小與體積的情況下,仍可有有效地達到高光學效能的設計,並可達到短焦以及小型化的效果。
另外,藉由本實施例之投影鏡頭的設計,該影像光束P是由第二透鏡L2的下半部入射至該投影光學系統24中,於後,再由第二透鏡L2的上半部離開該投影光學系統24而投射至成像面,如此一來,經反射件R1反射前的光學路徑與經反射件R1反射後的光學路徑部互相交錯,而可有效避免光學干涉,以提升投影成像品質。
另外,請配合圖3所示,於一實施例中,基於本說明書任一投影鏡頭的架構下,還包括有一第一遮光件B1設置於該反射件R1與該投影光學系統24的該至少一透鏡之間,例如,在本實施例中,所述的第一遮光件B1係設置於該反射件R1與該第一透鏡L1之間,用以遮蔽、阻擋或吸收射向第一遮光件B1的光線,較佳者,所述第一遮光件B1係由不透光的材質製成,其中,該第一遮光件B1的用途在於,當影像光束射向第一遮光件B1時,不論是自第一透鏡L1側射向第一遮光件B1的影像光束,或者經反射件R1反射後射向第一遮光件B1的影像光束,均可藉由第一遮光件B1遮蔽之。另外,除了可在第一透鏡L1與反射件R1設置有第一遮光件B1之外,於一實施例中,亦可在第一透鏡L1與第二透鏡L2之間設置有一第一遮光件B1’,藉以遮擋掉不必要之光線,例如雜散光等。
另外,於一實施例當中,該第一透鏡L1係依光軸A劃分有一第一半部(以圖3視角來看又可稱為上半部)以及一第二半部(以圖3視角來看又可稱為下半部),其中,該第二半部主要供影像光束通過,換言之,大多數的影像光束係經由第一透鏡L1的第二半部通過第一透鏡L1,而在第一半部與反射件R1之間係設置有該第一遮光件B1。亦即,較佳者,所述第一遮光件B1的延伸範圍係由光軸A延伸至反射件R1與第一透鏡L1的邊緣,或者稱之為第一遮光件B1係設置於該光軸A的一側,或者設置於光軸A以上的區域,另外,於一些實施例當中,可視需求設定第一遮光件B1的遮蔽範圍。另外一提的是,於一些實施例當中,所述第一遮光件B1可少部分地延伸到光軸A以下,不過較佳者,第一遮光件B1位於光軸A以上的部分將顯著多於光軸A以下的部分。其中,前述所稱光軸A以上與以下的判定,係以圖3的視角說明之,於其他應用上,所述的以上與以下,亦可能根據投影機擺設的方式不同而有所變更。
藉此,透過上述第一遮光件B1的設計,可有效地消除雜散光線,預防鬼影等瑕疵的產生,從而可有助於提升光學成像品質。
另外,請配合圖4所示,於一實施例中,亦可在第一透鏡L1與第二透鏡L2之間設置有一第二遮光件B2,該第二遮光件B2的材質與特性上的選用與第一遮光件B1大致相同,於此不再贅述。另外,較佳者,所述第二遮光件B2係相對靠近第二透鏡L2,且相對遠離第一透鏡L1。更進一步地,更佳者,所述第二遮光件B2係相對靠近第二透鏡L2的中央,且相對遠離第二透鏡L2的邊緣或外徑部分。
藉此,透過上述第二遮光件B2的設計,可進一步有效地消除雜散光線,預防鬼影等瑕疵的產生,從而可有助於提升光學成像品質。
請參圖5所示,為本創作一第二實施例的投影鏡頭200,其架構與前述第一實施例的投影鏡頭100大致相同,其中,其反射件R1的鏡徑為53.14mm,其中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為透鏡L12,其透鏡L12的鏡徑為24mm,經計算其X=2.21416,其除滿足1.5≦X≦4之條件之外,特別的是,更滿足以下條件:0.5≦
≦4,其中,D為該投影光學系統與該中繼光學系統之間的距離,M為該中繼光學系統中最大鏡徑之透鏡的鏡徑,舉例而言,於一實施例當中,所述投影光學系統與中繼光學系統之間的距離D係指第二透鏡L2與第三透鏡L3於光軸A上的距離,而中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為透鏡L12,該距離D為50.5mm,透鏡L12的鏡徑為24mm,經計算其
=2.1,滿足前述條件。較佳者,所述投影鏡頭200係滿足以下條件,0.7≦
≦3.5。透過前述設計,本創作之投影機可以在有效地縮減投影鏡頭之系統長度、大小與體積的情況下,實現出光角度大之效果,並可據以設計出短焦、小型化的投影鏡頭與投影機。
請參圖6所示,為本創作一第三實施例的投影鏡頭300,其架構與前述實施例的投影鏡頭大致上相同,特別的是,本實施例之投影光學系統的反射件係以設置於第一透鏡L1之第一光學面S1的反射膜R2為例,其中,所述反射膜R2可以是由在第一透鏡L1之第一光學面S1上鍍上如銀或鋁等金屬膜所構成,但並不以此為限,於其他應用上,亦可採用其他材質的反射膜,舉例而言,亦可使用介電質膜以構成該反射膜,例如使用陶瓷介電質鍍膜(Dielectric Coating),而不以上述的金屬膜為限。其中,於第三實施例的投影鏡頭300中,該反射膜R2的有效直徑(或最大鏡徑)為96.8mm,其中繼光學系統中最大鏡徑的透鏡為第三透鏡L3,其鏡徑為50mm,經計算其X=1.936,滿足:1.5≦X≦4;以及1.8≦X≦3等條件。透過前述設計,本創作之投影機100可以在有效地縮減投影鏡頭20之系統長度、大小與體積的情況下,實現出光角度大之效果,並可據以設計出短焦、小型化的投影鏡頭與投影機。
另外一提的是,前述第一透鏡L1的材質係可選用但不限於塑膠或玻璃,較佳者,於第三實施例中,該第一透鏡L1係由玻璃材質製成,藉以可採取較高溫的光學鍍膜製程,而可構成層數多且反射效率好的反射膜。
藉此,透過該影像光束P不穿出該第一透鏡L1之第一光學面S1,而是由設置於該第一光學面S1上的反射膜26對該影像光束P進行反射,以使得該影像光束P再度由第二光學面S2離開該第一透鏡L1的設計,可減少影像光束P品質的損失,以及降低影像光束P產生多餘、不必要之反射的機會,從而可降低或消除如鬼影、炫光等瑕疵,從而有助於提升成像品質。
補充一提的是,於本實施例中,在第一透鏡L1與第二透鏡L2之間同樣可設置有第一遮光件及/或第二遮光件,以遮蔽如雜散光等不必要之光線。
請參圖7所示,為本創作為本創作一第四實施例的投影鏡頭400,其架構與前述第一實施例的投影鏡頭100大致相同,其中,其反射件R1的鏡徑為49.64mm,其中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為第三透鏡L3,其鏡徑為31.6mm,經計算其X=1.5708,除滿足1.5≦X≦4之條件,除此之外,更滿足以下條件:0.5≦
≦4,其中,D為該投影光學系統與該中繼光學系統之間的距離,M為該中繼光學系統中最大鏡徑之透鏡的鏡徑,於本實施例中,D為第二透鏡L2與第三透鏡L3於光軸A上的距離,該距離D為27.34mm,而其中繼光學系統中最大鏡徑之透鏡為第三透鏡L3,第三透鏡L3的鏡徑為31.6mm,經計算其
=0.865,滿足前述條件。透過前述設計,本創作之投影機可以在有效地縮減投影鏡頭之系統長度、大小與體積的情況下,實現出光角度大之效果,並可據以設計出短焦、小型化的投影鏡頭與投影機。
另外,請參圖8所示,為本創作一第五實施例的投影鏡頭500,其架構與前述第一實施例的投影鏡頭100大致相同,其中,其反射件R1的鏡徑為54.28mm,其中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為透鏡L12,其透鏡L12的鏡徑為25.14mm,其投影光學系統當中最大鏡徑之透鏡為第二透鏡L2,其第二透鏡L2的鏡徑為53.5mm,其投影光學系統與中繼光學系統之間的距離為D,該距離D為36.82mm,經計算其X=2.1591,滿足1.5≦X≦4之條件;Y=2.1280,滿足0.5≦Y≦4之條件;
=1.4645,滿足0.5≦
≦4之條件。
請參圖9所示,為本創作一第六實施例的投影鏡頭600,其架構與前述第一實施例的投影鏡頭100大致相同,其中,其反射件R1的鏡徑為54.66mm,其中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為透鏡L12,其透鏡L12的鏡徑為25mm,其投影光學系統當中最大鏡徑之透鏡為第二透鏡L2,其第二透鏡L2的鏡徑為64mm,其投影光學系統與中繼光學系統之間的距離為D,該距離D為41.45mm,經計算其X=2.1864,滿足1.5≦X≦4之條件;Y=2.56,滿足0.5≦Y≦4之條件;
=1.658,滿足0.5≦
≦4之條件。
請參圖10所示,為本創作一第七實施例的投影鏡頭700,其架構與前述第一實施例的投影鏡頭100大致相同,其中,其中繼光學系統當中最大鏡徑的透鏡係為第三透鏡L3,其第三透鏡L3的鏡徑為36.8mm,其投影光學系統當中最大鏡徑之透鏡為第二透鏡L2,其第二透鏡L2的鏡徑為52mm,其投影光學系統與中繼光學系統之間的距離為D,該距離D為26.8mm,經計算其Y=1.4130,滿足0.5≦Y≦4之條件;
=0.7282,滿足0.5≦
≦4之條件。
值得一提的是,於其他應用上,上述各實施例的投影光學系統中不排除另外設置有一個或多個其他透鏡於第一透鏡L1、第二透鏡L2之間,而不以上述說明為限。但較佳者,於前述實施例當中,該投影光學系統24係只設置有該第一透鏡L1與該第二透鏡L2,如此一來,除了可降低該投影光學系統的透鏡數量,以降低其成本之外,基於透鏡數量的減少,更可減少透鏡之間產生不必要之光線反射的機會,從而可降低鬼影發生的機會,提高成像品質。另外,於一實施例當中,所述投影光學系統亦可設置有單一透鏡,而不以上述具有第一透鏡L1與第二透鏡L2的實施例為限。
補充一提的是,透過上述參數設計,本創作除了可有效地縮短系統總長,以設計出短焦、小型化的投影機與投影鏡頭之外,由於本實施例之投影鏡頭的反射件與所有透鏡都在同一光學軸線上,因此,即使中繼光學系統中最靠近投影光學系統的透鏡(如第三透鏡)需作切邊處理,仍就可輕易地找到其光學軸心,從而可有效地提升生產上的量測精準度與生產良率。
以上所述僅為本創作較佳可行實施例而已,於本實施例當中,投影機以及投影鏡頭的光學架構係採取遠心系統(telecentric system)的設計,但於其他應用上,並不以此為限,於一實施例中,亦可採用非遠心系統(non-telecentric system)的設計。舉凡應用本創作說明書及申請專利範圍所為之等效變化,理應包含在本創作之專利範圍內。
100‧‧‧投影機
10‧‧‧影像光源產生裝置
20‧‧‧投影鏡頭
22‧‧‧中繼光學系統
24‧‧‧投影光學系統
A‧‧‧光軸
B1,B1’‧‧‧第一遮光件
B2‧‧‧第二遮光件
D‧‧‧距離
F‧‧‧稜鏡
G‧‧‧透鏡
L1‧‧‧第一透鏡
L2‧‧‧第二透鏡
L3‧‧‧第三透鏡
L4~L12‧‧‧透鏡
P‧‧‧影像光束
R1‧‧‧反射件
R2‧‧‧反射膜
ST‧‧‧光圈
S1‧‧‧第一光學面
S2‧‧‧第二光學面
S3‧‧‧第三光學面
S4‧‧‧第四光學面
200,300,400,500,600,700‧‧‧投影鏡頭
10‧‧‧影像光源產生裝置
20‧‧‧投影鏡頭
22‧‧‧中繼光學系統
24‧‧‧投影光學系統
A‧‧‧光軸
B1,B1’‧‧‧第一遮光件
B2‧‧‧第二遮光件
D‧‧‧距離
F‧‧‧稜鏡
G‧‧‧透鏡
L1‧‧‧第一透鏡
L2‧‧‧第二透鏡
L3‧‧‧第三透鏡
L4~L12‧‧‧透鏡
P‧‧‧影像光束
R1‧‧‧反射件
R2‧‧‧反射膜
ST‧‧‧光圈
S1‧‧‧第一光學面
S2‧‧‧第二光學面
S3‧‧‧第三光學面
S4‧‧‧第四光學面
200,300,400,500,600,700‧‧‧投影鏡頭
圖1為本創作一第一實施例之投影機的架構圖。 圖2為上述實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖3為圖2的局部放大圖,揭露於一實施例中,設置有一第一遮光件。 圖4為圖2的局部放大圖,揭露於一實施例中,設置有一第二遮光件。 圖5為一第二實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖6為一第三實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖7為一第四實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖8為一第五實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖9為一第六實施例之投影鏡頭的架構圖。 圖10為一第七實施例之投影鏡頭的架構圖。
Claims (11)
- 一種投影鏡頭,用以接收一影像光束並投射至一成像面,其包括有: 一中繼光學系統,包括有複數透鏡,用以接收該影像光束; 一投影光學系統,包括有至少一透鏡以及一反射件,該至少一透鏡具有相背對的一第一光學面以及一第二光學面,該第一光學面面對該反射件,該第二光學面面對該中繼光學系統; 當該中繼光學系統接收該影像光束時,該影像光束係通過該第二光學面,並經由該反射件反射後,自該第二光學面離開該至少一透鏡,並投射至該成像面; 其中,該反射件的有效直徑與該中繼光學系統中最大鏡徑之一該透鏡的鏡徑的比值為X,其滿足以下條件:1.5≦X≦4。
- 如請求項1所述之投影鏡頭,其中該至少一透鏡包括有一第一透鏡以及一第二透鏡,該第一透鏡具有該第一光學面與該第二光學面,該第二透鏡具有相背對的一第三光學面以及一第四光學面;該影像光束係自該第四光學面射入該第二透鏡,並由該第三光學面離開該第二透鏡,再由第二光學面射入該第一透鏡,並經由該反射件反射後,自該第二光學面離開該第一透鏡,再由第三光學面射入該第二透鏡,再由該第四光學面離開該第二透鏡後,投射至該成像面。
- 如請求項2所述之投影鏡頭,其中該反射件為設置於該第一透鏡之該第一光學面的反射膜。
- 如請求項1所述之投影鏡頭,其中該投影光學系統中最大鏡徑之透鏡的鏡徑與該中繼光學系統中最大鏡徑之透鏡的鏡徑的比值為Y,其滿足以下條件:0.5≦Y≦4。
- 如請求項1所述之投影鏡頭,其中該投影光學系統與該中繼光學系統之間的距離為D,該中繼光學系統中最大鏡徑之透鏡的鏡徑為M,其滿足以下條件:0.5≦ ≦4。
- 如請求項1所述之投影鏡頭,包括有一第一遮光件位於該反射件以及該投影光學系統的該至少一透鏡之間。
- 如請求項6所述之投影鏡頭,其中該投影光學系統的該至少一透鏡依光軸劃分有一第一半部以及一第二半部,該第一半部與該反射件之間設置有該第一遮光件,該第二半部主要供該影像光束通過。
- 如請求項2所述之投影鏡頭,包括有一第一遮光件位於該第一透鏡以及該第二透鏡之間。
- 如請求項2所述之投影鏡頭,包括有一第二遮光件位於該第一透鏡以及該第二透鏡之間,且該第二遮光件相對靠近該第二透鏡,且相對遠離該第一透鏡。
- 如請求項9所述之投影鏡頭,其中該第二遮光件相對靠近該第二透鏡的中央,且相對遠離該第二透鏡的外周。
- 一種投影機,包括有: 一影像光源產生裝置,用以產生一影像光束;以及 一如請求項1至10任一項所述的投影鏡頭。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107203585U TWM566342U (zh) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | Projector and its projection lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107203585U TWM566342U (zh) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | Projector and its projection lens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWM566342U true TWM566342U (zh) | 2018-09-01 |
Family
ID=64398966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107203585U TWM566342U (zh) | 2018-03-20 | 2018-03-20 | Projector and its projection lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWM566342U (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112180669A (zh) * | 2019-07-03 | 2021-01-05 | 王志煌 | 投影装置 |
WO2024125044A1 (zh) * | 2022-12-13 | 2024-06-20 | 深圳昇旸光学科技有限公司 | 光学镜头模组及投影系统 |
-
2018
- 2018-03-20 TW TW107203585U patent/TWM566342U/zh unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112180669A (zh) * | 2019-07-03 | 2021-01-05 | 王志煌 | 投影装置 |
WO2024125044A1 (zh) * | 2022-12-13 | 2024-06-20 | 深圳昇旸光学科技有限公司 | 光学镜头模组及投影系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6605635B2 (ja) | 投射光学系およびプロジェクタ装置 | |
JP6172431B2 (ja) | 投射光学系 | |
JP5825047B2 (ja) | 画像表示装置 | |
US10338345B2 (en) | Optical image capturing system | |
US10627646B2 (en) | Image pickup optical system and image pickup apparatus | |
US10025092B1 (en) | Projector and projecting lens thereof | |
US10690883B2 (en) | Optical image capturing system | |
US11106122B2 (en) | Projecting device | |
TWM566342U (zh) | Projector and its projection lens | |
US7014342B2 (en) | Light guiding apparatus for an illumination system | |
JP2002236307A (ja) | ズームストロボ装置 | |
JP2002202455A (ja) | 撮影光学系および撮影装置 | |
JPS58152535A (ja) | 合焦機能を有する光学装置 | |
US8529074B2 (en) | Projector having projection optical system with inclined light blocking member | |
TW201530246A (zh) | 投影機及其投影鏡頭與投影方法 | |
TWI636292B (zh) | Projector and its projection lens | |
TWI680342B (zh) | 投影機及其投影鏡頭 | |
JP3380083B2 (ja) | 投影装置及び投影装置のピント調整方法 | |
TWM553823U (zh) | 投影機及其投影鏡頭 | |
JP6249005B2 (ja) | 投射光学系および画像表示装置 | |
TWI420230B (zh) | 間隔環及使用該間隔環的鏡頭模組 | |
JP2005300659A (ja) | ドーム型カメラおよびドームカバー | |
US3468600A (en) | Wide angle short photographic objectives | |
JPH04316010A (ja) | 集光用フレネルレンズ | |
WO2024098211A1 (en) | An optomechanical system and an electronic apparatus comprising said optomechanical system |