TWI831619B - 多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，導光板包含空白光學級塑膠板、上硬化膜層、下硬化膜層、反射金屬層、上保護層、下保護層及半穿透反射金屬膜層。上、下硬化膜層分別塗佈形成於空白光學級塑膠板正面與背面，反射金屬層濺鍍形成於下硬化膜層並具有一鏤空標識區，半穿透反射金屬膜層濺鍍形成於上硬化膜層，上、下保護層分別印刷形成於半穿透反射金屬膜層與反射金屬層，下保護層下方設置擴散膜、背光板、反射膜及光源即可構成背光模組。據此以減少疊構數量而有效簡化組裝製程及大幅降低厚度而具備薄型化優點。

Description

多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組

本發明係與導光板領域相關，尤其是一種多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組。

近年來，隨著光學產品技術之發展以及市場之各種應用需求，除了已被廣泛使用之照明燈具或應用於電子裝置內的供光模組等，亦出現各種具特殊發光效果的相關產品。

目前較大宗的特殊發光需求產品為裝飾用途之燈具或是設置於電子裝置上的發光裝置圖案等，該種產品除了基礎的發光要求外，往往還需呈現各類特殊的顯示表現，例如色彩變化，發光閃爍或具有倒影之顯示效果。以具有倒影顯示效果之裝置為例，目前的常見應用是作為廣告招牌、看板使用，因此較無體積上之限制，惟當應用至攜帶式電子裝置時，便需考量薄型化與顯示效果狀態。

是以，如何提供兼具優良倒影顯示效果與薄型化優點之光學產品，係為當前相關廠商需致力開發與改進之重要課題。有鑑於此，本發明人係集結多年從事相關行業之豐富經驗，構思並提出一種多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，以提供滿足市場需求之光學產品。

本發明之一目的，旨在提供一種多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，其係透過簡化光學疊構，而達到大幅降低整體厚度以符合攜帶型電子裝置薄型化需求，並保有優良顯示效能優點。

為達上述目的，本發明於一實施方式中係揭露一種多重倒影顯示效果之導光板，包含：一空白光學級塑膠板；一下硬化膜層，以塗佈製程形成於該空白光學級塑膠板之背面，且該下硬化膜層之厚度為微米等級；一反射金屬層，以濺鍍製程形成於該下硬化膜層，其中該反射金屬層具有一鏤空標識區，且該反射金屬層之厚度為奈米等級；一下保護層，以印刷製程形成於該反射金屬層，其中該下保護層之厚度為微米等級；一上硬化膜層，以塗佈製程形成於該空白光學級塑膠板之正面，且該上硬化膜層之厚度為微米等級；一半穿透反射金屬膜層，以濺鍍製程形成於該上硬化膜層，其中該半穿透反射金屬膜層之厚度為奈米等級；及一上保護層，以印刷製程形成於該半穿透反射金屬膜層，其中該上保護層之厚度為微米等級。透過特殊之導光板疊構，即可達到有效簡化光學產品厚度之功效，並在疊構數量減少之情況下，各層結構之間不必使用膠材貼合，而降低了組裝成本，且因疊構簡化，外部搭配使用之相關機構亦可一併降低結構複雜度。

基於上述實施方式，於另一實施方式中係揭露該空白光學級塑膠板之材質係選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)及其組合物，且厚度為0.75～1.25mm，以於作為基礎板材時具有較好之表現。

進一步地，於再一實施方式中，該反射金屬層之材質為鋁，且厚度為30～50nm，以具有較低的生產成本與優良反射表現。

考量生產之便利性與標識圖案的精準度，於一實施方式中係可使該鏤空標識區為一雷射雕刻鏤空標識區。

此外，關於半穿透反射金屬膜層之選擇，於再一實施方式中係揭露使該半穿透反射金屬膜層之材料為鉻，且厚度為10～30nm，以展現出較好的透光率表現。

另者，於次一實施方式中則揭示該上硬化膜層及該下硬化膜層之厚度為0.75～1.25μm，以在不大幅影響整體厚度之情況下保有優良之防刮與增強硬度之功效，而使整體產品具有更好的結構強度。

基於相同技術概念，本發明於另一實施方式中則揭露一種具有多重倒影顯示效果之背光模組，包含：一反射膜，該反射膜之厚度為微米等級；一背光板，疊設於該反射片，該背光板具有一出光面、一入光面及一光學網點圖案，該入光面係鄰接該出光面，該光學網點圖案係設置於該出光面或相對該出光面之一側面；一擴散膜，疊設於該出光面，且該擴散膜之厚度為微米等級；一光源，對應該入光面設置，以提供光線予該供光板；及一如上各實施方式所述之導光板，疊設於該擴散膜。導光板結合上述之擴散膜、背光板、反射膜及光源所構成之背光模組，同樣具有薄型化以及可降低組裝、生產成本之優點，應用上，當光線由背光板射出時，因應反射膜與導光板疊構即可產生對應鏤空標識區圖樣之特殊多重倒影出光效果。

承前述實施方式內容，考量背光模組之整體厚度表現，於再一實施方式中係揭示該反射膜之厚度為40～60μm，該擴散膜之厚度為40～60μm，以保有薄型化之優點。

接續，基於相同之技術概念，本發明於一實施方式係提出一種多重倒影顯示效果之導光板製造方法，包含以下步驟：塗佈形成一上硬化膜層於一空白光學級塑膠板之正面及塗佈形成一下硬化膜層於該空白光學級塑膠板之背面，其中該上硬化膜層及該下硬化膜層之厚度為微米等級；濺鍍形成一反射金屬層於該下硬化膜層，其中該反射金屬層之厚度為奈米等級；於該反射金屬層形成一鏤空標識區；印刷形成一下保護層於該反射金屬層，其中該下保護層之厚度為微米等級；濺鍍形成一半穿透反射金屬膜層於該上硬化膜層，其中該半穿透反射金屬膜層之厚度為奈米等級；及印刷形成一上保護層於該半穿透反射金屬膜層，而取得一導光板，其中該上保護層之厚度為微米等級。透過上述步驟流程，係可製成於應用上可具備優良顯示效果以及薄型化優點之導光板疊構產品，同時亦有效降低製程之複雜度與所耗時間成本。

承前述實施方式，於再一實施方式中係揭露在「於該反射金屬層形成一鏤空標識區」步驟中，係透過雷射雕刻該反射金屬層以形成該鏤空標識區，以利於快速生產並使鏤空標識區具有較精準的圖樣表現。

綜上所述，本發明所提出之多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，係透過對導光板疊構之重新設計而達到簡化組件與薄型化優點，同時亦保有可達到優良之多重倒影顯示效果之功效。並在該結構特徵下，由於導光板整體疊構係為透過如濺鍍、印刷、塗佈等製程而形成密不可分之堆疊結構，故可避免使用膠材將多種不同元件相互貼合固定之組裝工序，於製程上即可具備易於生產，大幅降低製造成本之優勢。進一步地，本發明亦提出諸多前述導光板可續以附加之細部技術特徵，如前各段落所列舉之實施示例。

誠如前述，基於攜帶型電子裝置衍生之多重倒影圖樣顯示需求，故如何將原先屬大體積之模組構件移植應用至如筆電、平板電腦、甚至智慧型手錶等電子裝置，並需符合小型電子裝置的薄型化要求與顯示效能，即為相關廠商現今努力之目標。有鑑於此，本發明人係構思並提出一種多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，以有效地降低整體厚度並保有優異的出光效能，進而提供更符合市場需求之光學產品，以下即透過文字搭配圖示對本發明之技術特徵進行詳細說明，其中各圖所示之結構尺規、比例等僅為示意，以利於說明與表示本發明之技術特徵，合先敘明。

請參閱第1及2圖，其係為本發明一實施方式之導光板立體示意圖及背光模組剖面示意圖，於此先針對導光板進行說明。導光板1係包含一空白光學級塑膠板10、一下硬化膜層11、一反射金屬層12、一下保護層13、一上硬化膜層14、一半穿透反射金屬膜層15及一上保護層16。

由空白光學級塑膠板10向下依序疊構有下硬化膜層11、反射金屬層12與下保護層13。下硬化膜層11係以塗佈製程形成於空白光學級塑膠板10之背面，且下硬化膜層11之厚度為微米等級。下硬化膜層11係用以增加其所附著板材之硬度，並可形成防刮效果，同時空白光學級塑膠板10表面因應下硬化膜層11亦可增強後續加工製程中其餘疊構膜層之附著性。反射金屬層12以濺鍍製程形成於下硬化膜層11，其中反射金屬層12具有一鏤空標識區121，且反射金屬層12之厚度為奈米等級。於應用時，鏤空標識區121即構成被點亮而為使用者觀視之圖樣，例如品牌徽標或其他欲顯現文字或圖案。下保護層13則以印刷製程形成於反射金屬層12，其中下保護層13之厚度為微米等級，且下保護層13係可提供防刮等保護效能。

由空白光學級塑膠板10向上則依序疊構有上硬化膜層14、半穿透反射金屬膜層15與上保護層16。上硬化膜層14以塗佈製程形成於空白光學級塑膠板10之正面，且上硬化膜層14之厚度為微米等級。同樣地，上硬化膜層14也可用以增加其所附著板材之硬度，並能形成防刮效果以及提升後續加工製程中其他疊構膜層之附著性。半穿透反射金屬膜層15以濺鍍製程形成於上硬化膜層14，其中半穿透反射金屬層15之厚度為奈米等級，而半穿透反射金屬膜層15係可反射部分光線且同時讓部分光線穿透，藉此可以讓下方的光源傳達到觀察者眼中，且同時產生鏡面效果，使鏤空標識區121欲傳達的影像來回反射，產生多重倒影的視覺表現。上保護層16則以印刷製程形成於半穿透反射金屬層15，其中上保護層16之厚度為微米等級，並同樣具有防刮之保護效能。

藉此，透過為上述疊構狀態之單一導光板1組件，即可達到有效減少組件數量與厚度的功效，以符合應用至攜帶型電子裝置之需求。並且，導光板1中的各層結構，皆有其厚度尺規限制，例如上硬化膜層14、下硬化膜層11、上保護層16及下保護層13之厚度係為微米等級，而屬於相當薄之層體結構，半穿透反射金屬膜層15和反射金屬層12之厚度則相較於其他層結構更下降一個層級，而為奈米等級，據此可知導光板1確實屬於非常薄之疊構結構。而導光板1於後續應用時即可供以形成對應鏤空標識區121圖樣之多重倒影顯示效果。

請再繼續參閱第2圖，進一步地，本發明係提出一種具有多重倒影顯示效果之背光模組2，其包含一反射膜20、一背光板21、一擴散膜22、一光源23及一如上所述之導光板1。背光模組2之反射膜20厚度係為微米等級，背光板21疊設於反射膜20且背光板21具有一出光面211、一入光面212及一光學網點圖案213，入光面212鄰接於出光面211，光學網點圖案213設置於出光面211或相對出光面211之一側面。於本實施方式之背光板21，其出光面211係為背光板21之頂側表面，而入光面212則為背光板21之側面，而形成由板材側邊接收光線之應用狀態。而光學網點圖案213係供以使背光板21之光線可由出光面211形成出光，光學網點圖案213可由多個網點所構成，並該些網點之形狀、大小與分佈狀態係可因應出光需求而調整設置。擴散膜22疊設於出光面211，且擴散膜22之厚度為微米等級，讓自出光面211射出之光線可經由擴散膜22而形成更為均勻之出光狀態。光源23則對應入光面212設置，以提供光線予背光板21，其中，光源23之結構示例可例如為包含電路板231與LED232之結構，並電路板231係可設置於LED232之底側或後側；據此，電路板231與光源23即可搭配背光板21之外型設計，不以方形為限，從多個入光面212提供多種色彩之光線。第2圖所示即為電路板231設置於LED232底側之狀態，而使反射膜20可呈堆疊設置於電路板231上。如前所述之導光板1係疊設於擴散膜22上，以接收由擴散膜22射出之光線。

請再一併參閱第3圖，其係為本發明一實施方式之顯示狀態應用示意圖。於應用時，光源23之光線進入背光板21並自其出光面211射出穿過擴散膜22後，即可點亮導光板1中反射金屬層12之鏤空標誌區121，同時因應反射膜20與半穿透反射金屬膜層15之作用，鏤空標識區121的圖樣會來回反射而形成多重倒影之顯示狀態，第3圖中係以虛線表示鏤空標識區121圖樣的倒影，如此可達到凸顯出鏤空標識區121圖樣以提升對使用者於觀看上之吸引力。而因應導光板1特殊疊構所帶來之厚度減縮功效，背光模組2亦在整體厚度上具備薄型化優勢，而適於配置在攜帶式電子裝置產品。

進一步地，於一實施狀態中係可使反射膜20之厚度為40～60μm，擴散膜22之厚度為40～60μm，如此即可達到兼具薄型化需求又可充分發揮反射、均勻出光之功效。更具體地說，實際應用上可使反射膜20及擴散膜22之厚度分別為50μm或55μm左右。

基於前述的導光板1與背光模組2技術，進一步地，考量整體結構強度、生產成本及出光表現等因素，於一實施狀態中係可使空白光學級塑膠板10之材質係選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)及其組合物，例如兩者特定比例的混合物：苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物(MS)，且厚度為0.75～1.25mm，其中一較適切的示例係為空白光學級塑膠板10之厚度為1mm左右。

此外，關於反射金屬層12，係可使反射金屬層12之材質為鋁或銀，且厚度為30～50nm。其中特別一提地，選擇鋁進行濺鍍而形成反射金屬層12，係可於生產製造方面具有降低成本的優勢，並於一實施狀態中，可使反射金屬層12之厚度例如為40nm或45nm。

接著關於鏤空標識區121的部分，欲於反射金屬層12形成鏤空標識區121，係可透過如雷射雕刻、CNC刀具刮除或是在濺鍍形成反射金屬層12時設置光罩結構，再於反射金屬層12成形後移除光罩結構等方式形成。以鏤空標識區121為一雷射雕刻鏤空標識區為例，其具體作法可在反射金屬層12成形後，藉由雷射加工在反射金屬層12上雕刻出所需的圖樣，並去除預定圖樣範圍內的金屬，即可形成鏤空標識區121。而若是採CNC刀具刮除方式形成鏤空標識區121，則可在反射金屬層12濺鍍成形後，透過CNC機具的鑽石刀將預定圖樣範圍內的金屬刮除，即可形成鏤空標識區121。若是採移除光罩結構之方案，則是在濺鍍形成反射金屬層12時，即先依據預定圖樣在下硬化膜層11對應設置光罩結構，以於濺鍍時遮蔽該些區域而使金屬不會附著於下硬化膜層上，待反射金屬層12成形後再移除光罩結構即可形成鏤空標識區121。

另考量生產成本以及顯示效能等要件，則可使半穿透反射金屬膜層15之材料為鉻，且厚度為10～30nm。選擇鉻材料係可達到維持所需的顯示表現並能降低材料成本之功效，而基於薄型化與優良顯示效果的雙向需求，限定半穿透反射金屬膜層15厚度為10～30nm即可同時兼具上述功效，而使整體產品更為符合市場所需。其中，於一實施狀態中半穿透反射金屬膜層15之厚度可例如為20nm或25nm。

此外，亦可針對上硬化膜層14及下硬化膜層11之厚度予以設定，以更進一步地縮減整體體積厚度，於一實施狀態中，係可使上硬化膜層14及下硬化膜層11之厚度為0.75～1.25μm，以於確實提供防刮與提升硬度功效同時亦具備厚度上的優勢。其中，具體實施上係可使上硬化膜層14及下硬化膜層11之厚度為例如1μm或1.1μm。而關於上保護層16及下保護層13之厚度，一實施狀態中則可使兩者之厚度皆為50～70μm，例如為60μm。

接續地，針對導光板1之製造生產方面，本發明亦有提出對應之技術方案，請參閱第4圖，其係為本發明一實施方式之導光板製造方法步驟流程圖，並請復搭配參閱第1及2圖。所述導光板製造方法係包括以下步驟，首先，塗佈形成一上硬化膜層14於一空白光學級塑膠板10之正面及塗佈形成一下硬化膜層11於空白光學級塑膠板10之背面，其中上硬化膜層14和下硬化膜層11之厚度為微米等級(步驟S10)。

於上硬化膜層14及下硬化膜層11形成後，即可對空白光學級塑膠板10之上下兩側接續製成其餘堆疊結構，其中上下兩側的加工順序並無一定，換言之於實際製程上係可先加工空白光學級塑膠板10之頂側，再加工底側，反之亦可。於本實施方式即以先針對空白光學級塑膠板底側10進行加工之順序為例，但此僅為示例，實際上係如前述並無特定之加工步驟順序。下硬化膜層11形成後，再濺鍍形成一反射金屬層12於下硬化膜層11，其中反射金屬層12之厚度為奈米等級(步驟S11)，而後於反射金屬層12形成一鏤空標識區121(步驟S12)。接續再印刷形成一下保護層13於反射金屬層12，其中下保護層13之厚度為微米等級(步驟S13)。

接續，濺鍍形成一半穿透反射金屬膜層15於上硬化膜層14，其中半穿透反射金屬膜層15之厚度為奈米等級(步驟S14)，接著印刷形成一上保護層16於半穿透反射金屬膜層15，而取得一導光板1，其中上保護層16之厚度為微米等級(步驟S15)。

透過上述之製程方法，即可取得具備層疊結構之單一導光板產品，並在空白光學級塑膠板10之上下側逐一製成之各疊構層，係運用特定加工方式使得成形之各疊構層得以具備達到微米甚至奈米等級之厚度表現，而確實地降低整體結構厚度。

進一步地，鏤空標識區121可例如選擇雷射雕刻、CNC刀具加工或藉由濺鍍形成反射金屬層12時預先依據所需之徽標圖案或字樣所設置之光罩結構來讓該區域不附著反射金屬，而後再移除光罩結構以形成鏤空標識區121等方式而形成。舉例來說，係可在「於該反射金屬層12形成一鏤空標識區121」步驟，也就是步驟S12中，透過雷射雕刻反射金屬層12以形成鏤空標識區121。同理，若選擇CNC加工，則於該步驟中可透過CNC鑽石刀具刮除部分之反射金屬而形成鏤空標識區121，若選擇移除光罩結構之方式，則可透過在形成反射金屬層12時先設置光罩結構再於濺鍍後移除光罩結構即可形成鏤空標識區121。

經由上述步驟流程所取得之導光板1結構係可參閱第1、2圖所示，並各層結構之細部特徵與具備之功能功效係已於前述各段落予以說明，於此即不再贅述。

為設計出適用於攜帶型電子裝置之導光板疊構結構，本發明人亦先嘗試將多種結構與導光板以貼附組合之方式組成發光顯示結構，然而發現該種疊構除了結構元件繁多而較不利於組裝製造外，也無法更貼切薄型化需求以及優良的多重倒影顯示效果，故再經過不斷地調整遂而提出如本發明所述之導光板、製造方法及其背光模組。於此請參閱第5圖，其係為本發明實驗例之背光模組剖面示意圖，並請一併搭配參閱第2圖。如第5圖所示，可見實驗例之背光模組9由上而下地包含一第一保護膜90、一半穿透反射金屬膜91、一硬化膜92、一第一塑膠板93、一第二保護膜94、一第二塑膠板95、一增強型鏡面反射膜96、一擴散膜97、一背光板98及一反射膜99，另於背光板98之側邊係設置有光源A如LED，以形成側入光。其中，增強型鏡面反射膜96係為獨立產品，而須透過貼合工序與第二塑膠板95相互組設固定，欲點亮後形成之圖樣則是以鏤空形式設置於增強型鏡面反射膜96處，此外第一塑膠板93及第二塑膠板95分別作為背光模組9之主要結構載體，而具有一定厚度，其厚度皆落於毫米等級，並第一塑膠板可例如為0.5mm，第二塑膠板例如為1mm。而第一保護膜90、硬化膜92、第二保護膜94、增強型鏡面反射膜96等結構係可選擇為微米等級，並第一保護膜90及第二保護膜94之厚度可例如為60μm，硬化膜92之厚度可例如為1μm，增強型鏡面反射膜96之厚度可例如為50μm。在這樣的疊構下，所產生的較大缺點在於點亮後的倒影效果呈現不佳，且整體厚度仍無法滿足薄型化之需求，以在攜帶型電子裝置之應用而言，還是無法具備較好的產品表現。反觀本發明所述之導光板1及背光模組2，相較於實驗例之疊構，若以擴散膜上方的總體疊構厚度加以比較，在空白光學級塑膠板10與第二塑膠板95之厚度相同的情況下，所述導光板1之總體厚度係大幅小於實驗例之疊構，以上述之實驗例尺規與本發明所列舉之尺規示例加以比較，本發明之導光板1厚度約可減少550μm，而形成更薄的結構。再者，由於所述導光板1基本上係透過印刷、濺鍍、塗佈等製程即可製造形成一完整之光學疊構產品，在需要多重倒影顯示效果的目標下，搭配背面供光元件後無須再另外組裝其他組件即可進行使用，相對地亦可省去組裝貼合之加工工序。此外，由於所述導光板1之疊構更為簡化，因此後續搭配設置的外部機構如卡扣、固定件等亦可隨之簡化，而有利於降低終端產品的製造成本。

綜上所述，本發明之多重倒影顯示效果之導光板、製造方法及其背光模組，係具備厚度極薄且於倒影顯示效能上具有優良表現之功效。所述導光板係為在單一基礎板材上下分別堆疊設置各類厚度極薄之結構層，並使欲顯示之徽標圖案或字樣直接地位於反射金屬層處以及直接使半穿透反射金屬膜層一併成形於基礎板材上，因此所述導光板在應用上僅需搭配背光相關元件與另一反射元件即可形成多重倒影顯示效果，無須再另外與半穿透反射面板、其他光學片材、膜材以及設置有徽標的組件相互貼合組裝固定，站在終端產品面向而言，所述導光板亦具備簡化製程降低組裝成本之優點。換言之，以實際產品觀之，欲形成具有多重倒影效果之背光模組，僅需將所述導光板疊設於擴散膜、背光板、反射膜及光源上即可，無須先取得半穿透反射面板、習知導光板、用以設置徽標之反射膜、擴散膜、背光板、反射膜及光源等各項組件，再逐一堆疊組裝，因而大幅簡化組裝流程與所需元件成本，亦無需不斷地透過膠材將各組件相互貼合固定，同時亦可簡化搭配使用之外部機構如卡扣等結構設計。是以，透過本發明所提出之技術手段，確實提供了更為符合市場需求之薄型化且具備特殊顯示效果之光學產品。關於導光板、製造方法及其背光模組進一步可附加之技術特徵，本發明亦提出例如空白光學級塑膠板、反射金屬層、半穿透反射金屬膜層、上硬化膜層與下硬化膜層可選用的材料與厚度尺規條件，以更符合結構薄型化與顯示效能表現需求。針對背光模組中的擴散膜與反射膜厚度，亦有提出對應尺規條件，同樣可藉此達到保有所需功能同時亦有效降低整體厚度之功效。而關於鏤空標識區部分，本發明亦有列舉形成鏤空標識區之方案，如雷射雕刻，或是CNC加工、設置光罩等方案，而如前對應段落所述內容。上述可附加之技術特徵皆有助於使所述導光板、製造方法及其背光模組之效能更為提升。

1:導光板 10:空白光學級塑膠板 11:下硬化膜層 12:反射金屬層 121:鏤空標識區 13:下保護層 14:上硬化膜層 15:半穿透反射金屬膜層 16:上保護層 2:背光模組 20:反射膜 21:背光板 211:出光面 212:入光面 213:光學網點圖案 22:擴散膜 23:光源 231:電路板 232:LED 9:背光模組 90:第一保護膜 91:半穿透反射金屬膜 92:硬化膜 93:第一塑膠板 94:第二保護膜 95:第二塑膠板 96:增強型鏡面反射膜 97:擴散膜 98:背光板 99:反射膜 A:光源 S11～S15:步驟

第1圖，為本發明一實施方式之導光板立體示意圖。 第2圖，為本發明一實施方式之背光模組剖面示意圖。 第3圖，為本發明一實施方式之顯示狀態應用示意圖。 第4圖，為本發明一實施方式之導光板製造方法步驟流程圖。 第5圖，為本發明實驗例之背光模組剖面示意圖。

1:導光板

10:空白光學級塑膠板

11:下硬化膜層

12:反射金屬層

121:鏤空標識區

13:下保護層

14:上硬化膜層

15:半穿透反射金屬膜層

16:上保護層

Claims (10)

1. 一種多重倒影顯示效果之導光板，包含： 一空白光學級塑膠板； 一下硬化膜層，以塗佈製程形成於該空白光學級塑膠板之背面，且該下硬化膜層之厚度為微米等級； 一反射金屬層，以濺鍍製程形成於該下硬化膜層，其中該反射金屬層具有一鏤空標識區，且該反射金屬層之厚度為奈米等級； 一下保護層，以印刷製程形成於該反射金屬層，其中該下保護層之厚度為微米等級； 一上硬化膜層，以塗佈製程形成於該空白光學級塑膠板之正面，且該上硬化膜層之厚度為微米等級； 一半穿透反射金屬膜層，以濺鍍製程形成於該上硬化膜層，其中該半穿透反射金屬膜層之厚度為奈米等級；及 一上保護層，以印刷製程形成於該半穿透反射金屬膜層，其中該上保護層之厚度為微米等級。
2. 如請求項1所述之多重倒影顯示效果之導光板，其中，該空白光學級塑膠板之材質係選自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)及其組合物，且厚度為0.75～1.25mm。
3. 如請求項1所述之多重倒影顯示效果之導光板，其中，該反射金屬層之材質為鋁，且厚度為30～50nm。
4. 如請求項1所述之多重倒影顯示效果之導光板，其中，該鏤空標識區係為一雷射雕刻鏤空標識區。
5. 如請求項1所述之多重倒影顯示效果之導光板，其中，該半穿透反射金屬膜層之材料為鉻，且厚度為10～30nm。
6. 如請求項1所述之多重倒影顯示效果之導光板，其中，該上硬化膜層及該下硬化膜層之厚度為0.75～1.25μm。
7. 一種具有多重倒影顯示效果之背光模組，包含： 一反射膜，該反射膜之厚度為微米等級； 一背光板，疊設於該反射膜，該背光板具有一出光面、一入光面及一光學網點圖案，該入光面係鄰接該出光面，該光學網點圖案係設置於該出光面或相對該出光面之一側面； 一擴散膜，疊設於該出光面，且該擴散膜之厚度為微米等級； 一光源，對應該入光面設置，以提供光線予該背光板；及 一如請求項1至6其中任一項所述之導光板，疊設於該擴散膜。
8. 如請求項7所述之具有多重倒影顯示效果之背光模組，其中，該反射膜之厚度為40～60μm，該擴散膜之厚度為40～60μm。
9. 一種多重倒影顯示效果之導光板製造方法，包含以下步驟： 塗佈形成一上硬化膜層於一空白光學級塑膠板之正面及塗佈形成一下硬化膜層於該空白光學級塑膠板之背面，其中該上硬化膜層及該下硬化膜層之厚度為微米等級； 濺鍍形成一反射金屬層於該下硬化膜層，其中該反射金屬層之厚度為奈米等級； 於該反射金屬層形成一鏤空標識區； 印刷形成一下保護層於該反射金屬層，其中該下保護層之厚度為微米等級； 濺鍍形成一半穿透反射金屬膜層於該上硬化膜層，其中該半穿透反射金屬膜層之厚度為奈米等級；及 印刷形成一上保護層於該半穿透反射金屬膜層，而取得一導光板，其中該上保護層之厚度為微米等級。
10. 如請求項9所述之多重倒影顯示效果之導光板製造方法，其中，在「於該反射金屬層形成一鏤空標識區」步驟中，係透過雷射雕刻該反射金屬層以形成該鏤空標識區。