TWI789740B - 發光二極體封裝結構及發光二極體封裝結構製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明揭露一種發光二極體封裝結構及發光二極體封裝結構製造方法。發光二極體封裝結構包含基板、發光晶片、色轉換封裝體及透明封裝體。色轉換封裝體包覆設置於基板上的發光晶片的所有出光面,色轉換封裝體摻有色轉換粒子,且部分的色轉換粒子露出於色轉換封裝體的至少一側面。透明封裝體不摻有任何色轉換粒子,且透明封裝體與色轉換封裝體的各個側面相連接,而遮蔽露出於任一個側面的色轉換粒子。本發明的發光二極體封裝結構在高濕度的環境中,發光二極體封裝結構的外表面不容易出現黑斑的問題。
Description
本發明涉及一種發光二極體封裝結構及發光二極體封裝結構製造方法,特別是適合應用於高濕度環境中的發光二極體封裝結構及其製造方法。
現有常見的發光二極體封裝結構,主要包含一基板、一發光晶片及一封裝體,發光晶片設置於基板,封裝體摻有螢光粉,封裝體包覆發光晶片,而發光晶片發出的光束,通過封裝體後將轉換為白光。此種發光二極體封裝結構,在設置於高溫、高濕度的環境中時,露出於封裝體的任一個側面的螢光粉,容易受環境影響而發生質變,發生質變的螢光粉可能會變成黑色物質,從而影響發光二極體封裝結構的出光效果。
本發明公開一種發光二極體封裝結構及發光二極體封裝結構製造方法,用以改善習知的發光二極體封裝結構,在接觸到外部液體或是水氣時,在發光二極體封裝結構的封裝體的切割面容易出現黑點的問題。
本發明的其中一實施例公開一種發光二極體封裝結構製造方法,其包含:一固定步驟:將多個發光晶片間隔地固定於一基板;一色轉換封裝結構成型步驟:於基板上形成一色轉換封裝結構;色轉換封裝結構包覆發光晶片的所有發光面;色轉換封裝結構內摻有至少一種色轉換粒子;發光晶片所發出的光束通過色轉換封裝結構後將轉換為白光;一去除步驟:去除
部分的色轉換封裝結構,以將色轉換封裝結構切割為多個色轉換封裝體,各個色轉換封裝體包覆一個發光晶片,且色轉換封裝體具有一頂面及四個側面,頂面的周緣與四個側面相連接;各個側面為切割面,而部分的色轉換粒子外露於至少一個側面或頂面;一透明封裝結構成型步驟:於基板上形成一透明封裝結構,透明封裝結構連接各個色轉換封裝體的各個側面;透明封裝結構內不摻有任何色轉換粒子;一切割步驟:切割透明封裝結構及基板,以形成多個發光二極體封裝結構,各個發光二極體封裝結構包含基板的一部分、一個發光二晶片、一個色轉換封裝體及由部分的透明封裝結構所構成的一透明封裝體,各個透明封裝體是包覆其所連接的色轉換封裝體的四周及頂面,而由任一個側面或頂面外露的色轉換粒子是被透明封裝體遮蔽。
本發明的其中一實施例公開一種發光二極體封裝結構,其包含:一基板;一發光晶片,其固定設置於所述基板;一色轉換封裝體,其設置於所述基板,且所述色轉換封裝體包覆所述發光晶片的所有發光面;所述色轉換封裝體內摻有至少一種色轉換粒子;所述發光晶片所發出的光束通過所述色轉換封裝體後將轉換為白光;所述色轉換封裝體具有一頂面及四個側面,所述頂面的周緣與四個所述側面相連接;各個所述側面為切割面,而部分的所述色轉換粒子外露於至少一個所述側面或頂面;一透明封裝體,其設置於所述基板,所述透明封裝體內不摻有任何色轉換粒子,所述透明封裝體包覆所述色轉換封裝體的四周,而由任一個所述側面或頂面外露的所述色轉換粒子是被所述透明封裝體遮蔽;透明封裝體包含四個側部及一頂部,四個側部與色轉換封裝體的四個側面相連接,頂部與色轉換封裝體的頂面相連接,由頂面外露的色轉換粒子是被頂部遮蔽;側部的厚度介於0.05~0.5公釐;頂部的厚度介於0.05~0.5公釐。
綜上所述,本發明的發光二極體封裝結構及本發明的發光二極體封裝結構製造方法所製造出的發光二極體封裝結構,通過透明封裝體的
設計,可以讓外露於色轉換封裝體的色轉換粒子,相對不容易發生質變的問題,特別是在發光二極體封裝結構處於高溫、高濕度的環境中。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
100:發光二極體封裝結構
1:基板
11:頂面
1A:電連接結構
2:發光晶片
21:頂發光面
22:側發光面
2A:接腳結構
2B:導線
3:色轉換封裝體
31:頂面
32:側面
3A:色轉換粒子
3B:色轉換粒子
4:透明封裝體
4A:頂部
4B:側部
4D1:厚度
4D2:厚度
5:反射結構
6:色轉換封裝結構
61:頂面
7:透明封裝結構
71:頂面
W:長度
D:寬度
H:高度
C:焊接結構
S1、S2、SX、S3、S4、S5:流程步驟
圖1為本發明的發光二極體封裝結構的示意圖。
圖2為本發明的發光二極體封裝結構的剖面側視圖。
圖3為本發明的發光二極體封裝結構的基板、發光晶片及色轉換封裝體的剖面側視圖。
圖4為本發明的發光二極體封裝結構的第二實施例的剖面側視圖。
圖5為本發明的發光二極體封裝結構的第三實施例的剖面側視圖。
圖6為本發明的發光二極體封裝結構的第四實施例的剖面示意圖。
圖7為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第一實施例的流程示意圖。
圖8至圖11為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第一實施例的流程示意圖。
圖12為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第一實施例的切割步驟前所製作出的構件局部剖面示意圖。
圖13為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第二實施例的流程示意圖。
圖14為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第二實施
例的切割步驟前所製作出的構件的局部剖面示意圖。
圖15為本發明的發光二極體封裝結構製造方法的第二實施例所製造出的多個發光二極體封裝結構的示意圖。
於以下說明中,如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示,其僅是用以強調於後續說明中,所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中,但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。
請一併參閱圖1至圖3,圖1為本發明的發光二極體封裝結構100的示意圖,圖2為本發明的發光二極體封裝結構100的剖面側視圖,圖3為本發明的發光二極體封裝結構100的基板1、發光晶片2及色轉換封裝體3的剖面側視圖。本發明的發光二極體封裝結構100包含:一基板1、一發光晶片2、一色轉換封裝體3及一透明封裝體4。發光晶片2固定設置於基板1。基板1例如可以是BT樹脂基板、玻璃纖維板(FR4)、複合基板(CEM)、陶瓷基板、樹脂金屬複合基板(EMC/SMC)等,於此不加以限制。在其中一個實施例中,發光二極體封裝結構100的高度H介於0.3~0.8公釐,發光二極體封裝結構100的寬度W介於0.3~1.6公釐,發光二極體封裝結構100的長度D介於0.3~1.6公釐,具體來說,本發明的發光二極體封裝結構100特別適合應用為Mini LED。
發光晶片2具有一頂發光面21及四個側發光面22,發光晶片2所發出的光束是通過頂發光面21及四個側發光面22向外射出。發光晶片2可以是包含多個接腳結構2A,基板1包含多個電連接結構1A,而發光晶片2的接腳結構2A通過焊接結構C與多個電連接結構1A相連接;也就是說,發光晶片2可以是利用覆晶技術(Flip Chip)固定於基板1上。
色轉換封裝體3設置於基板1,且色轉換封裝體3包覆發光晶片2的所有發光面(頂發光面21及各個側發光面22),亦即,發光晶片2由頂發光
面21或是任一個側發光面22向外射出的光束,都會進入色轉換封裝體3中。色轉換封裝體3內摻有至少一種色轉換粒子3A,而發光晶片2所發出的光束通過色轉換封裝體3後將轉換為白光。舉例來說,發光晶片2可以能發出藍光光束,而色轉換封裝體3內可以摻有綠色螢光粉及紅色螢光粉,或者,發光晶片2可以能發出UV光,而色轉換封裝體3內可以摻有綠色螢光粉、紅色螢光粉及藍色螢光粉。
在實際應用中,色轉換封裝體3內所摻有的色轉換粒子3A的種類及數量,可依據發光晶片2所發出的光束的波長決定,於此不加以限制。所述色轉換粒子3A例如可以是量子點(Quantum dot)、氟化物螢光粉(KSF)、硫化物螢光粉(sulfide phosphor)、矽酸鹽螢光粉(silicate phosphor)、鋁酸鹽螢光粉(YAG,TAG,LuAG)、氮化物螢光粉(nitride phosphor)、氮氧化物螢光粉(CASON,BSON)等,於此不加以限制。舉例來說,發光晶片2可以是發出波長為470nm~430nm奈米的光束,而色轉換封裝體3可以是由摻有KSF(氟化物螢光粉、紅色)及β-SiAlON(氮化物螢光粉、綠色)的矽膠(silicone)或環氧樹脂(epoxy)組成。發光晶片2例如也可以是波長410nm以下的UV LED,而色轉換封裝體3可以是由摻有CASON(氮氧化物螢光粉、紅色)及BSON(氮氧化物螢光粉、綠色)的SBCA(磷酸化合物螢光粉、藍色)組成。
色轉換封裝體3具有一頂面31及四個側面32,頂面31的周緣與四個側面32相連接。各個側面32為切割面,而部分的色轉換粒子3B外露於至少一個側面32,於此所指的「切割面」是指色轉換封裝體3被相關工具(例如Dicing saw切割機)切割後的面,由於色轉換粒子3A基本上是不規則地分布於構成色轉換封裝體3的材料(例如矽膠、環氧樹脂等)中,因此,色轉換封裝體3被切割時,各個切割面基本上都會有外露於該切割面的色轉換粒子3B。為利區隔「切割面」及未切割面兩者的不同,於本實施例的圖1至圖3
中,色轉換封裝體3的側面32是以凹凸不平狀表示,而色轉換封裝體3的頂面31則是以水平狀表示。
透明封裝體4設置於基板1,透明封裝體4內不摻有任何色轉換粒子3A,透明封裝體4包覆色轉換封裝體3的四周,而由任一個側面32外露的色轉換粒子3B是被透明封裝體4遮蔽。透明封裝體4例如可以是由矽膠(silicone)、環氧樹脂(epoxy)等材料組成。在較佳的實施例中,透明封裝體4的折射率可以是介於1.3~1.6。較佳的,透明封裝體4相對於任一個側面32的厚度4D1介於0.05~0.5公釐。
本發明的透明封裝體4主要是用來遮蔽外露於色轉換封裝體3的側面32的色轉換粒子3B,而使發光二極體封裝結構100在高溫、高濕度等環境中時,外露於各側面32的色轉換粒子3B不容易受環境影響而發生質變的問題。舉例來說,由硫化物螢光粉(sulfide phosphor)在接觸水氣時,將會發生質變而變成黑色物質,變成黑色物質的色轉換粒子3B不但無法發揮色轉換的功能,還會影響發光二極體封裝結構100的發光效果。
依上所述,本發明的發光二極體封裝結構100通過透明封裝體4的設計,外露於色轉換封裝體3的側面32的色轉換粒子3B,因為已經被透明封裝體4所遮蔽,所以即使發光二極體封裝結構100處於高溫、高濕度等環境中時,該些色轉換粒子3B仍然不容易發生質變等問題。
承上,習知的發光二極體封裝結構,不具有本發明的透明封裝體,因此,習知的發光二極體封裝結構,在高溫、高濕度的環境中,外露於切割面的色轉換粒子將容易發生氧化的問題,從而使得發光二極體封裝結構產生黑斑等問題,進而會影響發光二極體封裝結構的出光效果。
請參閱圖4,其為本發明的發光二極體封裝結構的第二實施例的剖面側視圖。本實施例與前述實施例其中一個不同之處在於:發光晶片2
是通過兩條導線2B與基板1電性連接,即,發光晶片2是以打線接合(wire bonding)技術固定於基板1上。
本實施例與前述實施例另一個不同之處在於:透明封裝體4與色轉換封裝體3兩者是由不相同的材質構成,且透明封裝體4的邵氏硬度大於色轉換封裝體3的邵氏硬度,色轉換封裝體3的邵氏硬度A(Shore A)可以是介於30~90度(HA),而透明封裝體4的邵氏硬度D(Shore D)則可以是介於30~90度(HD)。舉例來說,色轉換封裝體3的主要成分可以是矽膠,而透明封裝體4的主要成分可以是矽膠或環氧樹脂,但不以此為限。其中,邵氏硬度A(Shore A)的最大值為95度,而邵氏硬度A(Shore A)95度大致等於邵氏硬度D(Shore D)30度。
更進一步來說,通過使色轉換封裝體3的邵氏硬度A(Shore A)介於30~90度(HA),且使透明封裝體4的邵氏硬度D(Shore D)介於30~90度(HD)的設計,當發光二極體封裝結構100處於溫度變化大的環境中時,兩條導線2B將相對不容易因為色轉換封裝體3的熱脹冷縮而發生斷裂的問題。另外,通過使透明封裝體4的硬度大於色轉換封裝體3的硬度的設計,可以有效地避免外部的水氣或是液體,與外露於色轉換封裝體3的側面32的色轉換粒子3B相接觸。
請參閱圖5,其為本發明的發光二極體封裝結構的第三實施例的剖面側視圖。本實施例與前述實施例最大不同之處在於:基板1設置有發光晶片2的一頂面11(如圖8所標示),設置有一反射結構5,反射結構5能反射發光晶片2所發出的光束。通過反射結構5的設置,將可以最有效地利用發光晶片2所發出的光束。
請參閱圖6,其為本發明的發光二極體封裝結構的第四實施例的剖面側視圖。本實施例與前述實施例其中一個不同之處在於:色轉換封裝體3的頂面31包含至少一拋痕結構,而部分的色轉換粒子3B是外露於頂面
31。於此所述的「拋痕結構」是指在色轉換封裝體3的製造過程中,利用相關工具對色轉換封裝體3的頂面31進行拋光作業,據以於頂面31所留下的痕跡。於本實施例圖中,是使色轉換封裝體3的頂面31以凹凸不平狀,來表示頂面31包含拋痕結構。
本實施例與前述實施例的另一個不同之處在於:透明封裝體4包含四個側部4A及一頂部4B,四個側部4A與色轉換封裝體3的四個側面32相連接,頂部4B與頂面31相連接,由頂面31外露的頂面31的色轉換粒子3B是被頂部4B遮蔽。其中,四個側部4A及頂部4B是一體成型地設置。在實際應用中,側部4A的厚度4D1可以是介於0.05~0.5公釐,且頂部4B的厚度4D2可以是介於0.05~0.5公釐。
依上所述,通過透明封裝體4的頂部4B的設計,露出於色轉換封裝體3的頂面31的色轉換粒子3B,將不會直接露出於發光二極體封裝結構100外,而即使發光二極體封裝結構100在高溫、高濕度的環境中,露出於色轉換封裝體3的頂面31的色轉換粒子3B,也將因為被透明封裝體4遮蔽,而不容易發生質變等問題。
值得一提的是,在不同的實施例中,若是色轉換封裝體3的頂面31為切割面(關於切割面的定義請參閱前述實施例,於此不再贅述),則透明封裝體4同樣是包覆整個色轉換封裝體3,而透明封裝體4的頂部4B是對應遮蔽,由頂面31外露的色轉換粒子3B。
綜合上述,本發明的發光二極體封裝結構,通過透明封裝體的設置,可以有效地遮蔽外露於色轉換封裝體的側面或是頂面的色轉換粒子,如此,當發光二極體封裝結構設置於高濕度或是高溫的環境中時,該些外露於色轉換封裝體的側面或是頂面的色轉換粒子,將不會發生質變而變成黑斑。
請一併參閱圖7至圖12,本發明的發光二極體封裝結構製造方法可以包含以下步驟:一固定步驟S1:將多個發光晶片2間隔地固定於一基板1(如圖8所示);一色轉換封裝結構成型步驟S2:於基板1上形成一色轉換封裝結構6(如圖9所示);色轉換封裝結構6包覆發光晶片2的所有發光面;色轉換封裝結構6內摻有至少一種色轉換粒子3A;發光晶片2所發出的光束通過色轉換封裝結構6後將轉換為白光;一去除步驟S3:去除部分的色轉換封裝結構6,以將色轉換封裝結構6切割為多個色轉換封裝體3,各個色轉換封裝體3包覆一個發光晶片2,且色轉換封裝體3具有一頂面31及四個側面32,頂面31的周緣與四個側面32相連接(如圖10所示);各個側面32為切割面,而部分的色轉換粒子3B外露於至少一個側面32;一透明封裝結構成型步驟S4:於基板1上形成一透明封裝結構7,透明封裝結構7連接各個色轉換封裝體3的各個側面32(如圖11及圖12所示);透明封裝結構7內不摻有任何色轉換粒子3A;其中,透明封裝結構7的一頂面71是與各個透明封裝體3的頂面31大致齊平;一切割步驟S5:切割透明封裝結構7及基板1,以形成多個發光二極體封裝結構100(如圖1所示),各個發光二極體封裝結構100包含基板1的一部分、一個發光晶片2、一個色轉換封裝體3及由部分的透明封裝結構7所構成的一透明封裝體4,各個透明封裝體4是包覆其所連接的色轉換封裝體3的四周,而由任一個側面32外露的色轉換粒子3B是被透明封裝體4遮蔽。
在其中一個具體實施例中,於所述固定步驟S1中,可以是以覆晶(Flip Chip)技術將多個發光晶片2固定於基板1上,且色轉換封裝體3是由
包含摻有多個色轉換粒子3A的一材料組成,所述材料的邵氏硬度D(Shore D)是介於30~90度(HD),而透明封裝體4則是由未摻有多個色轉換粒子3A的材料組成;也就是說,色轉換封裝體3及透明封裝體4兩者大致上是由相同的材料組成,而色轉換封裝體3及透明封裝體4兩者的差異主要是在於是否摻有色轉換粒子3A。
在另一個具體實施例中,於固定步驟S1中,可以是以打線接合(Wire bonding)技術,將多個發光晶片2固定於基板1,且色轉換封裝體3的邵氏硬度A(Shore A)是介於30~90度(HA),而透明封裝體4的邵氏硬度D(Shore D)是介於30~90度(HD),即透明封裝體4的邵氏硬度是大於色轉換封裝體3的邵氏硬度,舉例來說,色轉換封裝體3可以是由摻有多個色轉換粒子3A的矽膠所組成,而透明封裝體4則可以是由矽膠或環氧樹脂所組成。
在實際應用中,於色轉換封裝結構成型步驟S2中,可以是利用一模具形成色轉換封裝結構6,而色轉換封裝結構6的頂面61則會是呈現為平坦狀,但色轉換封裝結構6的成型方式不以此為限。
請一併參閱圖13至圖15,本實施例所舉的發光二極體封裝結構製造方法與前述實施例不同之處在於:於色轉換封裝結構成型步驟S2及去除步驟S3之間,還包含一磨平步驟SX:利用一拋光設備,對色轉換封裝結構6相反於基板1的一頂面61(如圖9所示)進行拋光;於透明封裝結構成型步驟S4中,是使透明封裝結構7包覆各個色轉換封裝體3,而由各個色轉換封裝體3的一頂面31外露的色轉換粒子3B是被透明封裝結構7遮蔽。而於切割步驟S5後所形成的各個發光二極體封裝結構100的透明封裝體4則是包覆其所連接的色轉換封裝體3的頂面31及各個側面32。
進一步來說,若是在所述色轉換封裝結構成型步驟S2中所形成的色轉換封裝結構6相反於基板1的頂面61非呈現為平坦狀的情況下,或
者,欲使色轉換封裝結構6相反於基板1的頂面61更為平坦,則可以是於色轉換封裝結構成型步驟S2及去除步驟S3之間,加入所述磨平步驟SX。
需特別說明的是,在利用拋光設備對色轉換封裝結構6的頂面61進行拋光作業時,難以避免會使色轉換封裝結構6所包含的部分色轉換粒子3B露出,因此,本實施例除了包含磨平步驟SX外,於透明封裝結構成型步驟S4中,還使透明封裝結構7包覆各個色轉換封裝體3,藉此,最終製作出的發光二極體封裝結構100,即使在高溫、高濕的環境中,露出於色轉換封裝體3的頂面31的色轉換粒子3B也相對不容易變質。
上述本發明的發光二極體封裝結構可以是利用本發明的發光二極體封裝結構製造方法製造,但不以此為限。
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例,非因此侷限本發明的專利範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的保護範圍內。
1:基板
1A:電連接結構
2:發光晶片
21:頂發光面
22:側發光面
2A:接腳結構
3:色轉換封裝體
31:頂面
32:側面
3A:色轉換粒子
3B:色轉換粒子
4:透明封裝體
4D1:厚度
4D2:厚度
C:焊接結構
Claims (10)
- 一種發光二極體封裝結構製造方法,其包含:一固定步驟:將多個發光晶片間隔地固定於一基板;一色轉換封裝結構成型步驟:於所述基板上形成一色轉換封裝結構;所述色轉換封裝結構包覆所述發光晶片的所有發光面;所述色轉換封裝結構內摻有至少一種色轉換粒子;所述發光晶片所發出的光束通過所述色轉換封裝結構後將轉換為白光;一去除步驟:去除部分的所述色轉換封裝結構,以將所述色轉換封裝結構切割為多個色轉換封裝體,各個所述色轉換封裝體包覆一個所述發光晶片,且所述色轉換封裝體具有一頂面及四個側面,所述頂面的周緣與四個所述側面相連接;各個所述側面為切割面,而部分的所述色轉換粒子外露於至少一個所述側面或所述頂面;一透明封裝結構成型步驟:於所述基板上形成一透明封裝結構,所述透明封裝結構連接各個所述色轉換封裝體的各個所述側面;所述透明封裝結構內不摻有任何色轉換粒子;一切割步驟:切割所述透明封裝結構及所述基板,以形成多個發光二極體封裝結構,各個所述發光二極體封裝結構包含所述基板的一部分、一個所述發光二晶片、一個所述色轉換封裝體及由部分的所述透明封裝結構所構成的一透明封裝體,各個所述透明封裝體是包覆其所連接的所述色轉換封裝體的四周及所述頂面,而由任一個所述側面或所述頂面外露的所述色轉換粒子是被所述透明封裝體遮蔽。
- 如請求項1所述的發光二極體封裝結構製造方法,其中, 於所述色轉換封裝結構成型步驟中,是利用一模具形成所述色轉換封裝結構,而所述色轉換封裝結構的頂面是呈現為平坦狀。
- 如請求項1所述的發光二極體封裝結構製造方法,其中,於所述色轉換封裝結構成型步驟及所述去除步驟之間,還包含一磨平步驟:利用一拋光設備,對所述色轉換封裝結構相反於所述基板的所述頂面進行拋光;於所述切割步驟後所形成的各個所述發光二極體封裝結構的所述透明封裝體則是包覆其所連接的所述色轉換封裝體的所述頂面及各個所述側面。
- 如請求項1所述的發光二極體封裝結構製造方法,其中,於所述固定步驟中,是以打線接合技術將多個所述發光晶片固定於所述基板;其中,所述色轉換封裝體的邵氏硬度A(Shore A)介於30~90度,所述透明封裝體的邵氏硬度D(Shore D)介於30~90度,而所述透明封裝體的邵氏硬度大於所述色轉換封裝體的邵氏硬度。
- 如請求項1所述的發光二極體封裝結構製造方法,其中,於所述固定步驟中,是以覆晶技術將多個所述發光晶片固定於所述基板上;所述色轉換封裝體是由包含摻有多個所述色轉換粒子的一材料組成,所述材料的邵氏硬度D介於30~90度,所述透明封裝體是由未摻有多個所述色轉換粒子的所述材料組成。
- 一種發光二極體封裝結構,其包含:一基板;一發光晶片,其固定設置於所述基板;一色轉換封裝體,其設置於所述基板,且所述色轉換封裝 體包覆所述發光晶片的所有發光面;所述色轉換封裝體內摻有至少一種色轉換粒子;所述發光晶片所發出的光束通過所述色轉換封裝體後將轉換為白光;所述色轉換封裝體具有一頂面及四個側面,所述頂面的周緣與四個所述側面相連接;各個所述側面為切割面,而部分的所述色轉換粒子外露於至少一個所述側面或所述頂面;一透明封裝體,其設置於所述基板,所述透明封裝體內不摻有任何色轉換粒子,所述透明封裝體包覆所述色轉換封裝體的四周,而由任一個所述側面或所述頂面外露的所述色轉換粒子是被所述透明封裝體遮蔽;所述透明封裝體包含四個側部及一頂部,四個所述側部與所述色轉換封裝體的四個所述側面相連接,所述頂部與所述色轉換封裝體的所述頂面相連接,由所述頂面外露的所述色轉換粒子是被所述頂部遮蔽;所述側部的厚度介於0.05~0.5公釐;所述頂部的厚度介於0.05~0.5公釐。
- 如請求項6所述的發光二極體封裝結構,其中,所述色轉換封裝體的所述頂面包含至少一拋痕結構,部分的所述色轉換粒子外露於所述頂面。
- 如請求項6所述的發光二極體封裝結構,其中,所述色轉換封裝體的頂面為切割面,而部分的所述色轉換粒子外露於所述頂面。
- 如請求項6所述的發光二極體封裝結構,其中,所述色轉換封裝體的邵氏硬度A(Shore A)介於30~90度,所述透明封裝體的邵氏硬度D(Shore D)介於30~90度,而所述透明封裝體的邵氏硬度大於所述色轉換封裝體的邵氏硬度,所述發光晶片通過多條導線與所述基板電性連接。
- 如請求項6所述的發光二極體封裝結構,其中,所述發光晶片包含多個接腳結構,所述基板包含多個電連接結構,所述發光晶片的所述接腳結構通過焊接結構與多個所述電連接結構相連接,所述色轉換封裝體是由包含摻有多個所述色轉換粒子的一材料組成,所述材料的邵氏硬度D(Shore D)介於30~90度,所述透明封裝體是由未摻有多個所述色轉換粒子的所述材料組成。
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