TWI777608B - 用於霧化裝置的流體分流件 - Google Patents

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Abstract

一種用於霧化裝置的流體分流件，包括一本體。本體包括相反設置的第一、二側。第一側沿本體的中心軸線徑向向外依序具有中心區、圍繞中心區且朝第二側凹陷以定義而成的環形溝渠，及圍繞環形溝渠的斜坡區。中心區自第一側朝第二側凹陷以定義有連通環形溝渠的入口溝渠。環形溝渠沿中心軸線的各徑向具有溝渠寬度，且溝渠寬度自環形溝渠與其入口溝渠交接處沿中心軸線的轉動方向具有一起始寬度與一終止寬度，溝渠寬度是自起始寬度朝終止寬度的轉動方向遞減。斜坡區是沿中心軸線的各徑向向外自其與環形溝渠交接處朝向第二側與背向第二側兩者其中一者的一傾斜方向傾斜。

Description

用於霧化裝置的流體分流件
本發明是有關於一種流體分流構件，特別是指一種用於霧化裝置的流體分流件。
在各類的技術產業中，當其需要在大面積區域上覆蓋一層材料甚或是實施造粒時，多半是必需使用到霧化裝置來實施。一般來說，現有的霧化裝置的基本配件包括一用以輸入一氣體的氣體管路、一用以輸入一液體的液體管路，及一匯流模組。該匯流模組帶有一用以接收來自前述液體管路的液體與來自前述氣體管路的氣體使其輸出離開該現有霧化裝置外的流體分流件。
在現有的霧化裝置中多半是著重於外部型態的設計，但是流體的均勻化才是影響霧化裝置整體性能的主要因素。為確保流體流向的穩定性，傳統流體分流件的流道設計是以流體供應端的截面積大於流體出口端的截面積作為其設計基礎(即，一入多出)。
參閱圖1與圖2，一種現有的流體分流件1，其包括一用以接收一流體10的入口流道11、複數呈環形間隔配置且連通該入 口流道11並用以分流該流體10的分流道12，及一呈環形配置且連通該等分流道12並彙集該等分流道12內的流體10的出口狹縫13。
具體來說，圖1與圖2所示的流體分流件1，為上層與下層間的分流道12呈現1/4偏移的流體流向，圖3與圖4所示的流體分流件1，為上層與下層間的分流道12呈現1/2偏移的流體流向，而圖5與圖6所示的流體分流件1，則是上層與下層間的分流道12呈現對齊排列的流體流向。雖然該流體分流件1能使該流體10達成分流的效用。然而，一入多出的流道設計往往導致流體間的交互作用加劇。特別是多個分流道12的流道設計，縱算是其每一分流道12出口的流量穩定；然而，相鄰分流道12間仍存在有交互作用導致流體無法均勻化的問題。
申請人利用計算流體力學(computational fluid dynamics；以下簡稱CFD)對該現有的流體分流件1進行流速的取樣模擬，其是取自該現有流體分流件1最下層分流道12之出口狹縫13處的流速，而取樣條件是以每18°為一個取樣點共取樣20點(請見圖7)，且設定流入該現有流體分流件1內的流體10與流量各為液體與40L/hr。根據圖8與表1.所顯示的流速取樣模擬結果可知，雖然上下層分流道12間呈1/2偏移的分流效果最佳；然而，不論是流速上下層分流道12間呈偏移或是對齊，該等取樣點的流速卻皆落在0.18M/sec.至0.155M/sec.間起伏震盪，且變異係數高達到 5.24%至6.18%間，證實相鄰分流道12間存在有交互作用以致於該流體10無法均勻化。因此，縱算是該現有流體分流件1能使該流體10達到分流效果，卻無法使該流體10流至該出口狹縫13處的流速均勻化。
Figure 110120966-A0305-02-0005-2
此外，圖1、圖3與圖5所示的現有流體分流件1，僅為其入口流道11、各分流道12與出口狹縫13的空間，前述空間實際上 是由霧化裝置的金屬框架與供應流體輸送的金屬管路所共同界定而成，且上層與下層間的分流道12為了要達到偏移與對齊等動作，更需透過複雜的零組件才得以完成。因此，該現有流體分流件1除了存在有流體無法均勻化的問題外，其結構設計也甚為複雜。
經上述說明可知，在解決流體均勻化的問題下亦簡化流體分流件的結構，是所屬技術領域中的相關技術人員有待突破的課題。
因此，本發明的目的，即在提供一種能提高流體均勻性且結構簡化之用於霧化裝置的流體分流件。
於是，本發明用於霧化裝置的流體分流件，是用於分流一流體，其包括一本體。該本體包括相反設置的一第一側與一第二側。該第一側沿該本體的一中心軸線徑向向外依序具有一中心區、一圍繞該中心區且朝該第二側凹陷以定義而成的環形溝渠，及一圍繞該環形溝渠的斜坡區。該中心區自該第一側朝該第二側凹陷以定義有一連通該環形溝渠的入口溝渠。該環形溝渠沿該中心軸線的各徑向具有一溝渠寬度，且該溝渠寬度自該環形溝渠與其入口溝渠的交接處沿該中心軸線的一第一轉動方向具有一起始寬度(Wx)與一終止寬度(W0)，該溝渠寬度是自該起始寬度(Wx)朝該終止寬度(W0)的第一轉動方向遞減。該斜坡區是沿該中心軸線的各徑向向外 自其與該環形溝渠的交接處朝向該第二側與背向該第二側兩者其中一者的一傾斜方向傾斜。
本發明的功效在於：僅配置有該入口流道、環形溝渠與斜坡區，無須眾多的分流道分流該流體，結構簡化，且能使該流體沿該環形溝渠雙向擴張至全周後再統一朝向該斜坡區擴張，一方面利用呈遞減的溝渠寬度來輔助該環形溝渠內之流體的擴張速度，透過該終止寬度W0以分擔該流體朝上擴張至該斜坡區的緩衝時間，另一方面仰賴該斜坡區的傾斜方向使自該環形溝渠擴張至該斜坡區的流體均勻且連續地沿該中心軸線的徑向向外擴張。
2:本體
20:入口貫孔
21:第一側
211:中心區
2111:入口溝渠
212:環形溝渠
213:斜坡區
22:第二側
221:中心區
2211:入口溝渠
222:環形溝渠
223:斜坡區
3:四流體霧化裝置
31:上基座
311:頂壁
312:圍壁
32:下基座
321:底壁
322:圍壁
33:輸入管道
a:中心軸線
Wx:起始寬度
W0:終止寬度
R1:第一轉動方向
R2:第二轉動方向
1:液體分流件
10:流體
11:入口流道
12:分流道
13:出口狹縫
本發明的其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一立體圖，說明一種現有的流體分流件的上層與下層的分流道間呈現1/4偏移的實施態樣；圖2是圖1的一示意圖，說明當一流體進入該現有流體分流件內的流向與交互作用；圖3是一立體圖，說明該現有流體分流件的上層與下層的分流道間呈現1/2偏移的實施態樣；圖4是圖3的一示意圖，說明當該流體進入該現有流體分流件內 的流向與交互作用；圖5是一立體圖，說明該現有流體分流件的上層與下層的分流道間呈現對齊的實施態樣；圖6是圖5的一示意圖，說明當該流體進入該現有流體分流件內的流向與交互作用；圖7是一俯視示意圖，說明利用CFD對該現有流體分流件進行流速模擬時的取樣點；圖8是一流速對取樣序號曲線圖，說明該現有流體分流件經CFD模擬顯示於圖7的取樣點的結果；圖9是一立體圖，說明本發明之用於霧化裝置的流體分流件的一第一實施例；圖10是一俯視圖，說明本發明該第一實施例的一第一側的一環型溝渠與一斜坡區的俯視結構；圖11是沿圖10的直線XI-XI所取得的一剖視圖，說明本發明該第一實施例的斜坡區的一傾斜方向；圖12是一立體圖，說明本發明之用於霧化裝置的流體分流件的一第二實施例；圖13是一俯視圖，說明本發明該第二實施例的第一側的環型溝渠與斜坡區的俯視結構；圖14是沿圖13的直線XIV-XIV所取得的一剖視圖，說明本發 明該第二實施例的斜坡區的傾斜方向；圖15是一俯視示意圖，說明利用CFD對本發明該第二實施例進行流速模擬時的取樣點；圖16是一流速對取樣序號曲線圖，說明本發明該第二實施例經CFD模擬顯示於圖15的取樣點的結果；圖17是一立體圖，說明本發明之用於霧化裝置的流體分流件的一第三實施例；圖18是一俯視圖，說明本發明該第三實施例的第一側的環型溝渠與斜坡區的俯視結構；圖19是沿圖18的直線XIX-XIX所取得的一剖視圖，說明本發明該第三實施例的第一側斜坡區的傾斜方向與一第二側的斜坡區的傾斜方向；圖20是一示意圖，說明當本發明該等實施例安裝於一四流體霧化裝置時的一外部混合式使用狀態圖；及圖21是一示意圖，說明當本發明該等實施例安裝於該四流體霧化裝置時的一內部混合式使用狀態圖。
在本發明被詳細描述的前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。
參閱圖9、圖10與圖11，本發明用於霧化裝置的流體分流件的一第一實施例，是安裝在一霧化裝置(圖未示)內並用於分流一流體(圖未示)，以使被分流後的流體經由該霧化裝置的一出口狹縫(圖未示)噴出。本發明該第一實施例的流體分流件包括一由不鏽鋼所製成的本體2。該本體2包括相反設置的一第一側21與一第二側22。在本發明該第一實施例中，該本體2的外觀是呈一圓盤狀，且該第一側21與第二側22分別是呈該圓盤狀的本體2的上側與下側。
該第一側21沿該本體2的一中心軸線a徑向向外依序具有一中心區211、一圍繞該中心區211且朝該第二側22凹陷以定義而成的環形溝渠212，及一圍繞該環形溝渠212的斜坡區213。
該中心區211自該第一側21朝該第二側22凹陷以定義有一連通該環形溝渠212的入口溝渠2111。該環形溝渠212沿該中心軸線a的各徑向具有一溝渠寬度，且該溝渠寬度自該環形溝渠212與其入口溝渠2111的交接處沿該中心軸線a的一第一轉動方向R1具有一起始寬度Wx與一終止寬度W0，該溝渠寬度是自該起始寬度Wx朝該終止寬度W0的第一轉動方向R1遞減。該斜坡區213是沿該中心軸線a的各徑向向外自其與該環形溝渠212的交接處朝向該第二側22與背向該第二側22兩者其中一者的一傾斜方向傾斜。
進一步來說，當該流體是一氣體時，基於氣體並不受重 力的影響；因此，該傾斜方向是沿該中心軸線a的各徑向向外自該斜坡區213與該環形溝渠212的交接處朝向該第二側傾斜22。當該流體是一液體時，基於液體會受重力所影響；因此，該傾斜方向是沿該中心軸線a的各徑向向外自該斜坡區213與該環形溝渠212的交接處背向該第二側22傾斜。
具體來說，在本發明該第一實施例中，該流體分流件的本體2之第一側21是用於分流該氣體，且該本體2之第一側21的斜坡區213的傾斜方向是如圖11所示，沿該中心軸線a的各徑向向外自該斜坡區213與該環形溝渠212的交接處朝向該第二側22傾斜(也就是徑向向外朝向下側傾斜)。
參閱圖12、圖13與圖14，本發明用於霧化裝置的流體分流件的一第二實施例大致上是相同於該第一實施例，其不同處是在於，本發明該第二實施例的流體分流件的本體2之第一側21是用於分流該液體。具體來說，該本體2之第一側21的斜坡區213的傾斜方向是如圖14所示，沿該中心軸線a的各徑向向外自該斜坡區213與該環形溝渠212的交接處背向該第二側22傾斜(也就是徑向向外朝向上側傾斜)。此處需進一步參閱圖13補充說明的是，所謂的起始寬度Wx，是自該中心軸線a朝該入口溝渠2111之下側切點延伸至該環形溝渠212與該斜坡區213交接處的寬度，而所謂的終止寬度W0，則是自該中心軸線a朝該入口溝渠2111之上側切點延伸至該 環形溝渠212與該斜坡區213交接處的寬度。
雖然本發明該第二實施例是基於該流體是受重力所影響的液體，以致於該傾斜方向是如圖14所示，沿該中心軸線a的各徑向向外自該斜坡區213與該環形溝渠212的交接處背向該第二側22傾斜(也就是徑向向外朝向上側傾斜)。然而，此處更需進一步補充說明的是，當該液體的流量大幅提升時，該斜坡區213的傾斜方向也能如同該第一實施例般，徑向向外朝下傾斜。
參閱圖15與圖16，申請人同樣利用CFD對本發明該第二實施例的流體分流件進行流速的取樣模擬，其取樣條件同樣是以每18°為一個取樣點共取樣20點(請見圖15)，且設定流入該第二實施例的流體分流件內的流體與流量各為液體與40L/hr，並設定該霧化裝置之出口狹縫(圖未示)的間隙有0.1mm、0.15mm與0.2mm等三組條件。
Figure 110120966-A0305-02-0012-4
Figure 110120966-A0305-02-0013-5
根據圖16與上述表2.所顯示的流速取樣模擬結果可知，縮減出口狹縫的間隙能使流體流速提升，增加出口狹縫的間隙能使降低流體流速。此外，當出口狹縫間隙設定為0.1mm時，自該等取樣點所取得的流速僅落在約0.319M/sec.至0.331M/sec.間，流速起伏不大且流速穩定，其變異係數僅1.36%；當出口狹縫間隙設定為0.15mm時，自該等取樣點所取得的流速也僅落在約0.214M/sec.至0.223M/sec.間，流速起伏小於出口狹縫間隙0.1mm的條件且流速相當穩定，其變異係數僅1.35%；當出口狹縫間隙設定為0.2mm時，自該等取樣點所取得的流速也約落在0.093M/sec.至0.098M/sec.間，流速起伏不大且流速穩定，其變異係數僅1.54%。經前述模擬說明可證實，本發明該第二實施例不論是出口狹縫增加或是縮減，皆能使該液體在各個取樣點呈現出趨近一致的流速，並達到流速均勻化的功效。
詳細來說，自本發明該第二實施例之入口溝渠2111被引入內至該環形溝渠212的液體，能依據該環形溝渠212的圓周方向雙向擴張至全周後再統一朝向該斜坡區213擴張；其中，設定該液體流入該環形溝渠212的匯集點的目標流速為平均速度的1/2以決定該環形溝渠212之溝渠寬度的遞減量。更具體地說，本發明該第二實施例一方面是利用該環形溝渠212的溝渠寬度遞減的結構，來輔助該環形溝渠212內之液體的擴張速度，透過該終止寬度W0的寬度來分擔該液體朝上擴張至該斜坡區213的緩衝時間；另一方面仰賴該斜坡區213的傾斜方向使自該環形溝渠212擴張至該斜坡區213的液體均勻且連續地沿該中心軸線a的徑向向外且朝上擴張。
參閱圖17、圖18與圖19，本發明用於霧化裝置的流體分流件的一第三實施例，大致上是相同於該第二實施例，其不同處是在於，本發明該第三實施例是用於同時分流氣體與液體。
具體來說，本發明該第三實施例的本體2還包括至少一入口貫孔20。該入口貫孔20貫穿該本體2的第一側21與第二側22，且位在該第一側21的中心區211。
該本體2的第二側22沿該中心軸線a徑向向外依序具有一配置有該入口貫孔20的中心區221、一圍繞該中心區221且朝該第一側21凹陷以定義而成的環形溝渠222，及一圍繞該環形溝渠222的斜坡區223。
該第二側22的中心區221自該第二側22朝該第一側21凹陷有一連通該第二側22的環形溝渠222的入口溝渠2211，且該第二側22之入口溝渠2211連通該入口貫孔20。該第二側22的環形溝渠222沿該中心軸線a的各徑向具有一溝渠寬度，且該第二側22的溝渠寬度自其環形溝渠222與其入口溝渠2211的交接處沿該中心軸線a的一第二轉動方向R2具有一起始寬度Wx與一終止寬度W0。該第二側22的溝渠寬度是自其起始寬度Wx朝其終止寬度W0的第二轉動方向R2遞減。在本發明該第三實施例中，該第二轉動方向R2是相反於該第一轉動方向R1。該流體分流件的本體2的第二側22的斜坡區223的一傾斜方向，是沿該中心軸線a的各徑向向外自其斜坡區223與其環形溝渠222的交接處朝向該第一側21與背向該第一側21兩者其中一者傾斜。
在本發明該第三實施例中，該本體2第二側22之斜坡區223的傾斜方向是如圖19所示，沿該中心軸線a的各徑向向外自其斜坡區223與其環形溝渠222的交接處朝向該第一側21傾斜(也就是徑向向外朝向上側傾斜)，用以分流氣體。詳細來說，當本發明該第三實施例用於該霧化裝置(圖未示)時，液體可自該本體2之第一側21的入口溝渠2111依序流向該環形溝渠212與該斜坡區213，氣體則可透過該霧化裝置的輸入管道(圖未示)經由該本體2的入口貫孔20引入以依序流經該第二側22的入口溝渠2211、環形 溝渠222與斜坡區223，當液體與氣體各自於第一側21斜坡區213與第二側22斜坡區223分別同時徑向向外且朝上擴張時，即可在第一側21斜坡區213外緣及第二側22斜坡區223外緣相互衝擊。為清楚說明本發明該等實施例實際用於霧化裝置時的使用狀態，申請人特別以以下圖20與圖21來輔助說明流體與液體在流入各實施例後的流向與衝擊狀態。
參閱圖20，顯示有本發明該等實施例被安裝於一四流體霧化裝置3的使用狀態圖，且圖20是一外部混合式的四流體霧化裝置3。有關於外部混合的相關解釋，容後予以說明。
詳細來說，該四流體霧化裝置3沿各實施例之中心軸線a包括彼此間隔設置的一上基座31及一下基座32，更包括四個貫穿該上基座31的輸入管道33；其中，本發明該等實施例是夾置於該上基座31與下基座32間，由上而下依序為該第一實施例、第二實施例與該第三實施例，四個輸入管道33中的其中兩者是用以分別輸入一第一氣體與一第二氣體，四個輸入管道33中的剩餘兩者是用以分別輸入一第一液體與一第二液體。被安裝於該四流體霧化裝置3的第一、二實施例是進一步地配置有貫穿各本體2的第一、二側21、22且位在各中心區211的貫孔(圖未示)，以供連通前述輸入管道33引入液體與氣體。
詳細來說，當該第一、二氣體自該其中兩個輸入管道33 分別引入至該第一實施例之本體2第一側(上側)21之入口溝渠2111與該第三實施例之本體2第二側(下側)22之入口溝渠2211後，該第一氣體能自該第一實施例之本體2第一側(上側)21的入口溝渠2111依序流至其環形溝渠212以朝其斜坡區213徑向向外朝下擴張，而該第二氣體能自該第三實施例之本體2第二側(下側)22的入口溝渠2211依序流至其環形溝渠222以朝其斜坡區223徑向向外朝上擴張。此外，當該第一、二液體自該剩餘兩個輸入管道33分別引入至該第二實施例之本體2第一側(上側)21之入口溝渠2111與該第三實施例之本體2第一側(上側)21之入口溝渠2111後，該第一液體能自該第二實施例之本體2第一側(上側)21的入口溝渠2111依序流至其環形溝渠212以朝其斜坡區213徑向向外朝上擴張，而該第二液體能自該第三實施例之本體2第一側(上側)21的入口溝渠2111依序流至其環形溝渠212以朝其斜坡區213徑向向外朝上擴張。
因此，當該第一氣體於該第一實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213裡徑向向外朝下擴張的同時，該第一液體是於該第二實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213裡徑向向外朝上擴張，使該第一氣體與第一液體分別於該第一實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213外周緣與該第二實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213外周緣互相衝擊。同樣地，當該第二氣體於 該第三實施例之本體2第二側(下側)22的斜坡區223裡徑向向外朝上擴張的同時，該第二液體是於該第三實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213裡徑向向外朝上擴張，使該第二氣體與第二液體於分別該第三實施例之本體2第二側(下側)21的斜坡區223外周緣與該第三實施例之本體2第一側(上側)21的斜坡區213外周緣互相衝擊。如圖20所標示的A處，便是前述該第二氣體與第二液體的第一次衝擊點A。
再參閱圖20，該上基座31具有一頂壁311，及一自該頂壁311的一周緣向下延伸的圍壁312。該下基座32具有一底壁321，及一自該底壁321的一周緣朝上延伸的圍壁322。由圖20顯示可知，該上基座31的圍壁312的一底緣的水平高度，是高於該第一、二實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213的外周緣，且該上基座31的圍壁312底緣與該第一、二實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213的外周緣間形成有一上側出口狹縫；而該下基座32的圍壁322的一頂緣的水平高度，則是低於該第三實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213外周緣與第二側(下側)22斜坡區223外周緣交接處，該下基座32的圍壁322頂緣與該第三實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213外周緣與第二側(下側)22斜坡區223外周緣交接處間形成有一下側出口狹縫。由此可知，上段所記載的第一次衝擊點A是位在該四流體霧化裝置3之上、下基座31、32的 外部。因此，該第二氣體與該第二液體是位在該四流體霧化裝置3的外部衝擊混合；同理，該第一氣體與第一液體也是位在該四流體霧化裝置3的外部衝擊混合。當該第一氣體與第一液體及該第二氣體與第二液體各自衝擊混合成第一氣液混合流體與第二氣液混合流體後，該第一、二氣液混合流體會順著其自身的慣性在圖20所標示的B處衝擊混合以徑向向外噴射出最終的造粒體；其中，圖20所標示的B處便是第二次衝擊點B。由前述說明可知，所謂的外部混合，意指著氣體與液體的第一次衝擊點A位在該四流體霧化裝置3的外部。
參閱圖21，顯示有本發明該等實施例被安裝於該四流體霧化裝置3的使用狀態圖，且圖21是一內部混合式的四流體霧化裝置。由圖21顯示可知，該上基座31的圍壁312底緣的水平高度，是低於該第一、二實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213的外周緣，而該下基座32的圍壁322頂緣的水平高度，則是高於該第三實施例之本體2第一側(上側)21斜坡區213外周緣與第二側(下側)22斜坡區223外周緣交接處。由此可知，該第一次衝擊點A是位在該四流體霧化裝置3之上、下基座31、32的內部；因此，該第二氣體與該第二液體是位在該四流體霧化裝置3的內部衝擊混合；同理，該第一氣體與第一液體也是位在該四流體霧化裝置3的內部衝擊混合。本發明雖然是以圖20與圖21所示的四流體霧化裝置3來舉例說 明該等實施例的使用狀態。然而，須知道的是，該等實施例並不限於應用於四流體霧化裝置，其也可以是應用於二流體霧化裝置或三流體霧化裝置。
此處需進一步補充說明的是，所屬技術領域的相關技術人員皆知，噴霧造粒一般是使液體(如，混有溶劑、陶瓷粉末與分散劑的溶液或漿料)與氣體經快速衝擊混合所構成的產物。然而，決定最終造粒體的粒徑尺寸的關鍵是取決於一氣液混合流體總量中的氣體含量。也就是說，當氣液混合流體總量中的氣體含量越高時，最終產製的造粒體的粒徑尺寸就會越細小。然而，噴霧造粒的粒徑尺寸在縮小的同時，也受限於氣體的壓力。因此，往往使噴霧造粒的粒徑尺寸難以降低。
然而，本發明該等實施例之環形溝渠212、222與斜坡區213、223的結構設計，除了結構簡單無須如同該現有的流體分流件1般尚須配置有眾多的分流道12外。更值得一提的是，以本發明該第三實施例舉例來說，本發明可以增加該第三實施例之本體2的直徑尺寸，令該本體2第二側(下側)22的環形溝渠222的溝渠寬度增加，以在不受氣體壓力限制的條件下供應高流量的氣體，進而使氣液混合流體總量中的氣體含量大幅提升，並藉此達到造粒體尺寸細化的效果。
經本發明上述詳細說明可知，本發明該等實施例的結構 設計相較於該現有的流體分流件1結構更為簡化，無須如同該現有的流體分流件1配置有眾多的分流道12。此外，自本發明該第二實施例引出的液體流速，也相對該現有的流體分流件1更為均勻一致。又，在實際應用於霧化裝置時，可藉由增加該等實施例之本體2的直徑尺寸，來擴大該第一實施例之本體2上側21環形溝渠212的寬度與該第三實施例之本體2下側22環形溝渠222的寬度，以在不受氣體壓力的限制下增加氣體流量，從而使氣液混合流體總量中的氣體含量提升並細化最終產製的造粒體粒徑。
綜上所述，本發明用於霧化裝置的流體分流件除了結構簡化外，自本發明之流體分流件引出的液體流速，也甚為均勻一致，故確實能達成本發明的目的。
惟以上所述者，僅為本發明的實施例而已，當不能以此限定本發明實施的範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。
2:本體
21:第一側
211:中心區
2111:入口溝渠
212:環形溝渠
213:斜坡區
a:中心軸線
R1:第一轉動方向

Claims (4)

  1. 一種用於霧化裝置的流體分流件，是用於分流一流體，其包含： 一本體，包括相反設置的一第一側與一第二側，該第一側沿該本體的一中心軸線徑向向外依序具有一中心區、一圍繞該中心區且朝該第二側凹陷以定義而成的環形溝渠，及一圍繞該環形溝渠的斜坡區； 其中，該中心區自該第一側朝該第二側凹陷以定義有一連通該環形溝渠的入口溝渠； 其中，該環形溝渠沿該中心軸線的各徑向具有一溝渠寬度，且該溝渠寬度自該環形溝渠與其入口溝渠的交接處沿該中心軸線的一第一轉動方向具有一起始寬度(Wx)與一終止寬度(W 0)，該溝渠寬度是自該起始寬度(Wx)朝該終止寬度(W 0)的第一轉動方向遞減；及 其中，該斜坡區是沿該中心軸線的各徑向向外自其與該環形溝渠的交接處朝向該第二側與背向該第二側兩者其中一者的一傾斜方向傾斜。
  2. 如請求項1所述的用於霧化裝置的流體分流件，其中，該流體分流件的本體之第一側的斜坡區的傾斜方向是沿該中心軸線的各徑向向外自該斜坡區與該環形溝渠的交接處朝向該第二側傾斜。
  3. 如請求項1所述的用於霧化裝置的流體分流件，其中，該流體分流件的本體之第一側的斜坡區的傾斜方向是沿該中心軸線的各徑向向外自該斜坡區與該環形溝渠的交接處背向該第二側傾斜。
  4. 如請求項3所述的用於霧化裝置的流體分流件，其中，該本體還包括至少一入口貫孔，該入口貫孔貫穿該本體的第一側與第二側，且位在該第一側的中心區，該本體的第二側沿該中心軸線徑向向外依序具有一配置有該入口貫孔的中心區、一圍繞該中心區且朝該第一側凹陷以定義而成的環形溝渠，及一圍繞該環形溝渠的斜坡區； 其中，該第二側的中心區自該第二側朝該第一側凹陷有一連通該第二側的環形溝渠的入口溝渠，且該第二側之入口溝渠連通該入口貫孔； 其中，該第二側的環形溝渠沿該中心軸線的各徑向具有一溝渠寬度，且該第二側的溝渠寬度自其環形溝渠與其入口溝渠的交接處沿該中心軸線的一第二轉動方向具有一起始寬度(Wx)與一終止寬度(W 0)，該第二側的溝渠寬度是自其起始寬度(Wx)朝其終止寬度(W 0)的第二轉動方向遞減；及 其中，該流體分流件的本體的第二側的斜坡區的一傾斜方向，是沿該中心軸線的各徑向向外自其斜坡區與其環形溝渠的交接處朝向該第一側與背向該第一側兩者其中一者傾斜。
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