TWI684636B - 有機發光裝置及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
提出一種有機發光裝置，其包含：基板；在該基板上之陽極；在該陽極上且包括發光層之有機層；在該有機層上之陰極；在該陰極上之光學輔助層；以及在該光學輔助層上之覆蓋層，其中，在可見光區域中，光學輔助層相較於該覆蓋層具有較低的折射率與較高的吸收係數。
Description
相關申請案之交互參照
於2014年11月6日向韓國智慧財產局提出且發明名稱為「有機發光裝置及其製造方法(Organic Light-Emitting Device and Method of Fabricating the Same)」之韓國專利申請案號10-2014-0153734，其全文併入本文作為參考。
一個或多個實施例係關於一種有機發光裝置以及其製造方法，且更具體的是，關於一種能夠減低外部光源的反射的有機發光裝置以及製造該有機發光裝置的方法。
有機發光裝置是一種自發光裝置，其包括陽極、陰極以及設置在陽極與陰極之間的有機發光層。從陽極提供的電洞與從陰極提供的電子在有機發光層中結合且產生激子。這些激子從激發態變成基態，因而產生光。
由於自發射的有機發光裝置不需要獨立光源，因此有機發光裝置可在低電壓下操作且可被配置成薄型輕量裝置。此外，由於有機發光裝置的高品質性能，諸如廣視角、高對比度、以及短反應時間，有機發光裝置作為形成下一世代顯示裝置的組件吸引了眾多目光。
然而，有機發光裝置可能遭遇對比度下降或在表現黑色上有問題，其肇因於反射從外部接收的光(例如，外部光源)的金屬電極和金屬線。為了降低這些外部光源的反射的發生，偏光板以及補償膜被應用於有機發光裝置，但是仍然有由於隨著成本和溫度變異，膜性能的變化所造成之可靠度的問題。
根據一個或多個例示性實施例，提供一種有機發光裝置，其包括：基板；形成在該基板上的陽極；形成在該陽極上且包括發光層的有機層；形成在該有機層上的陰極；形成在該陰極上的光學輔助層；以及形成在該光學輔助層上的覆蓋層。這裡，在可見光區域中，光學輔助層相較於覆蓋層可具有較低折射率以及較高吸收係數。
在可見光區域中，光學輔助層可具有在約1.1至約2.0之範圍中的折射率，以及在約1至約3之範圍中的吸收係數。
在約400 nm至約550 nm之間的波長區域中，光學輔助層的折射率可在約1.1至約1.5之範圍內，且在約550 nm至約700 nm之間的波長區域中，光學輔助層的折射率可在約1.5至約2之範圍內。
在約400 nm至約550 nm之間的波長區域中，光學輔助層的折射率與覆蓋層的折射率之間的差異可在約0.5至約2.0之範圍內。這裡，在約550 nm至約700 nm之間的波長區域中，光學輔助層的折射率與覆蓋層的折射率之間的差異可小於在約400 nm至約550nm之間的波長區域中的光學輔助層的折射率與覆蓋層的折射率之間的差異。
同時，當相比於在約400 nm至約550 nm之間的波長區域中的光學輔助層的吸收係數，光學輔助層在約550 nm至約700 nm之間的波長區域中可具有高吸收係數。
光學輔助層可包括鐿(ytterbium，Yb)。
有機層可進一步包括在陽極與發光層之間的電洞傳輸區域以及在陰極與發光層之間的電子傳輸區域。
電子傳輸區域可包括與用於形成光學輔助層之材料以相同材料製成的電子注入層。
覆蓋層可包括三芳胺(triarylamine)衍生物、咔唑衍生物、苯并咪唑衍生物、三唑衍生物、或其組合；或ITO、IZO、SiO2
、SiNx
、Y2
O3
、WO3
、MoO3
、Al2
O3
、或其組合。
陰極可包括諸如銀(Ag)的第一金屬，以及諸如至少一個金屬，例如，鋁(Al)、鉑(Pt)、鐿(Yb)、釹(Nd)、以及鎂(Mg)的第二金屬。第二金屬之含量基於第一金屬的100重量份可為約10至約20重量份的範圍。
陽極可為反射電極。
覆蓋層可包括具有彼此不同折射率的複數個層。
陰極可進一步包括至少一個中間層在陰極中，中間層以用於形成光學輔助層之材料的相同材料製成。這裡，光學輔助層以及中間層可包括鐿(Yb)。
根據一個或多個例示性實施例，提供一種製造有機發光裝置的方法，該方法包含：提供基板；形成陽極於基板上；形成包含有發光層的有機層在陽極上；形成陰極在有機層上；形成光學輔助層在陰極上；以及形成覆蓋層於光學輔助層上。
在可見光區域中，相較於覆蓋層，光學輔助層可具有低折射率以及高吸收係數。
在形成陰極之後，光學輔助層的形成可接續地發生在與用以陰極形成的腔室相同的腔室中。
有機層可進一步包含形成在陽極與發光層之間的電洞傳輸區域、以及形成在陰極與發光層之間的電子傳輸區域。
電子傳輸區域可包括電子注入層，且該電子注入層、陰極、以及光學輔助層可在相同的腔室中依序地形成。
電子注入層與光學輔助層可以相同的材料製成。
在這裡光學輔助層可包括鐿(Yb)。
現將參考附圖於下文中對例示性實施例作更完整地描述；然而，其可以不同的形式被實施且不應當被解釋為對於本文所闡述的實施例的限制。反而，提供這些實施例以使得這些揭示將徹底且完整，且將完全傳達例示性執行方式給本發明所屬技術領域中具有通常知識者。
在圖式中，層和區域的尺度可為了描繪的清晰度而被誇大。將理解的是當層或元件被稱為在另一層或基板「上」，其可直接地在其他層或基板上，或中介層也可存在。進一步，將被理解的是當一層被稱為在另一層「下」，其可直接在其下，且一個或多個中介層也可存在。此外，也應當被理解的是當一個層被指稱為在兩個層「之間」，其可為兩個層之間的唯一一層，或一個或多個中介層也可存在。相同的元件符號通篇指代相同的元件。
第1圖係根據一實施例的有機發光裝置10的截面示意圖。有機發光裝置10包括基板100，以及依序地形成在基板100上之第一電極110、有機層120、第二電極130、光學輔助層140、以及覆蓋層150。以下將詳細描述有機發光裝置10的每個層。
針對作為基板100的用途，可使用被用在典型的有機發光裝置中的任何基板。基板100可為玻璃基板或透明塑膠基板，其每一個具有優異的機械強度、熱穩定性、透明度、表面光滑度、易處理性、以及防水性。此外，基板100可以不透明材料形成，諸如矽或是不鏽鋼。
第一電極110可被形成在基板100上，且第一電極110可為陽極。這裡，第一電極110可為反射電極。第一電極110可包括，舉例來說，以銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)、或其合金製成的反射膜；以及具有高功函數且形成在反射膜上的透明電極層或半透明電極層。
透明電極層或半透明電極層可以，舉例來說，以銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、氧化鋅(ZnO)、鋁鋅氧化物(AZO)、銦鎵氧化物(IGO)、氧化銦(In2
O3
)、或氧化錫(SnO2
)來形成。
有機層120可包括發光層(EML)，且電洞傳輸區域可形成在EML和第一電極110之間，且電子傳輸區域可形成在EML和第二電極130之間。電洞傳輸區域可包括電洞注入層(HIL)、電洞傳輸層(HTL)、以及電子阻擋層(EBL)的至少一個。電子傳輸區域可包括電洞阻擋層(HBL)、電子傳輸層(ETL)、以及電子注入層(EIL)的至少一個。有機層120可形成為約1000Å至約10,000 Å的範圍內的厚度。
第二電極130可形成在有機層120上，且第二電極130可為陰極。這裡，第二電極130可為透射式或半透射式電極。第二電極130可以形成，舉例來說，以Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg、或其合金製成且具有低功函數的薄膜。詳細來說，第二電極130可由包含Ag以及至少一金屬，例如：Al、Pt、Yb、Nd、以及Mg的合金來製成。這裡，在合金內的Ag的含量(即，重量)可與其他金屬的含量相同，或大於其他金屬的含量。舉例來說，Ag對其他合金的金屬的重量比例可為50：50至90：10的範圍內，或在60：40至80：20的範圍內。舉例來說，第二電極130可以Ag-Mg合金形成，其中Ag對Mg的重量比例是在60：40至80：20的範圍內。替選地，第二電極130可以由包括至少一金屬，例如：銀(Ag)、金(Au)、鉑(Pt)、銅(Cu)、錳(Mn)、鈦(Ti)、鈷(Co)、鎳(Ni)、以及鎢(W)，與至少一金屬，例如：鐿(Yb)、鈧(Sc)、釩(V)、釔(Y)、銦(In)、鈰(Ce)、釤(Sm)、銪(Eu)、以及鋱(Tb)的合金來形成。這些金屬膜可藉由調整膜的厚度而形成為透明或半透明電極。因此，從有機層120產生的光可透過第二電極130發射。舉例來說，第二電極130可形成為約50 Å至約300 Å的範圍內的厚度。
在第二電極130上的光學輔助層140相較於用於形成覆蓋層150的材料可以具有低折射率以及高吸收係數的材料來形成。舉例來說，在可見光區域中，光學輔助層140可以具有在約1.1至約2的範圍內的折射率，以及在約1至約3的範圍內的吸收係數(或衰減係數)的材料來形成。這裡，折射率是複折射率的實部，且吸收係數是複折射率的虛部。
光學輔助層140的材料可具有低折射率，特別是在可見光區域的短波長區域而非可見光區域中的長波長區域，以及高吸收係數，特別是在可見光區域中的長波長區域而非短波長區域。舉例來說，在約400 nm至約550 nm之間的波長區域中，光學輔助層140的材料的折射率可在約1.1至約1.5的範圍內，且在約550 nm至約700 nm之間的波長區域中，光學輔助層的材料的折射率可在約1.5至約2之範圍內。在約550 nm至約700 nm的波長區域內，光學輔助層140的材料的吸收係數可在約1.5至約3的範圍內。用於光學輔助層140的材料的折射率與用於覆蓋層150的材料的折射率之間的差異，舉例來說，在約400 nm至約550 nm之間的波長區域中，是約0.5至約2.0的範圍內，且/或在約550 nm至約700 nm之間的波長區域中，是約0.1至約1.0之範圍內。在一些實施例中，光學輔助層140可具有比第二電極130高的折射率。
用於形成光學輔助層140的材料的實例包括Yb、Mg以及類似物。光學輔助層140的厚度可為，舉例來說，在約 1 nm至約100 nm的範圍內。
在可見光區域的短波長區域中的光學輔助層140的低折射率可導致光學輔助層140的折射率與覆蓋層150的折射率在其之間的介面有較大的差異，以及在光學輔助層140的折射率與第二電極130的折射率在其之間的介面有較大的差異。因此，短波長區域的相長干涉(constructive interference)可在光學輔助層140內發生。此外，在可見光區域中的長波長區域內，光學輔助層140的高折射率可導致光學輔助層140的折射率與覆蓋層150的折射率在其之間的介面中有較小的差異。因此，長波長區域的相長干涉可發生在光學輔助層140與覆蓋層150結合的區域之內。亦即，在可見光的短波長區域內具有低折射率及在可見光的長波長區域內具有高折射率的材料可被用於形成光學輔助層140，以使得可見光的所有區域可被相長干涉增強。因此，有機發光裝置10可增進光萃取效能。
此外，由於光學輔助層140相較於覆蓋層150的高吸收係數，光學輔助層140可藉由吸收外部光源增進其對比值。人眼對於黃色或紅色相較於藍色或綠色更敏感。因此，光學輔助層140可由於外部光的吸收而增加對比值。由於在可見光區域中的長波長光的吸收的增加，藉由EML產生的光也可藉由光學輔助層140來吸收。然而，藉由光學輔助層140增加的相長干涉可防止光萃取效能的降低。
形成在光學輔助層140上的覆蓋層150可包括有機材料、無機材料、或其組合。
覆蓋層150的有機材料可包括三芳胺衍生物、咔唑衍生物、苯并咪唑衍生物、三唑衍生物、或其混合物。覆蓋層150的有機材料的實例可為N,N’-雙(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基-[1,1’-聯苯]-4,4’-二胺(4,4'-bis[N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino]biphenyl，TPD)、4,4',4"-三[(3-甲基苯基)苯胺]三苯胺(4,4',4"-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]triphenylamine，m-MTDATA)、1,3,5-三[N,N-二(2-甲基苯基)-胺基]-苯(1,3,5-tris[N,N-bis(2-methylphenyl)-amino]-benzene，o-MTDAB)、1,3,5-三[N,N-二(3-甲基苯基)-胺基]-苯(1,3,5-tris[N,N-bis(3-methylphenyl)-amino]-benzene，m-MTDAB)、1,3,5-三[N,N-二(4-甲基苯基)-胺基]-苯(1,3,5-tris[N,N-bis(4-methylphenyl)-amino]-benzene，p-MTDAB)、4,4'-二[N,N-二(3-甲基苯基)-胺基]-二苯基甲烷(4,4'-bis[N,N-bis(3-methylphenyl)-amino]-diphenylmethane，BPPM)、4,4'-二咔唑基-1,1’-聯苯基(4,4'-dicarbazolyl-1,1’-biphenyl，CBP)、4,4',4"-三(N-咔唑)三苯胺(4,4',4"-tris(N-carbazol)triphenylamine，TCTA)、2,2',2"-(1,3,5-苯基)三-[1-苯基-1H-苯并咪唑](2,2',2"-(1,3,5-benzentolyl)tris-[1-phenyl-1H-benzoimidazole]，TPBI)、3-(4-聯苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑(3-(4-biphenyl)-4-phenyl-5-t-butylphenyl-1,2,4-triazol，TAZ)、以及其類似物。
覆蓋層150的無機材料可包括ITO、IZO、SiO2
、SiNx、Y2
O3
、WO3
、MoO3
、或Al2
O3
。
覆蓋層150的厚度可為約10 nm至約1,000 nm的範圍內。覆蓋層150可藉由交替地使用具有高折射率的材料以及具有低折射率的材料來形成二或多層。因此，多層的覆蓋層150可造成相長干涉，因而增加光萃取的效能。
第2圖係為根據另一個實施例的有機發光裝置20的截面示意圖。第2圖的有機發光裝置20係不同於第1圖的有機發光裝置10，因為在第二電極230中增加了中間層232。中間層232可以與光學輔助層240由相同的材料形成。中間層232可形成為約1 nm至約100 nm的範圍內的厚度。有機發光裝置20可藉由使用中間層232配置成多共振結構，且因此可增加光萃取效能。第二電極230可選地包含彼此間隔的二層或更多的中間層232。舉例來說，第二電極230可具有第二電極/中間層/第二電極/中間層/第二電極的堆疊結構。當第二電極230包括兩個或更多個中間層232時，可吸收更多可見範圍內的長波長的光。因此，有機發光裝置20可減少光反射。
第3圖係為根據另一個實施例的有機發光裝置30的截面示意圖。第3圖的有機發光裝置30包括有機層320。有機層320依序地包括HIL 321、HTL 323、EML 325、ETL 327、以及EIL 329。有機發光裝置30的基板100、第一電極110、第二電極130、光學輔助層140、以及覆蓋層150可被定義為與第1圖的有機發光裝置10相同。
HIL 321可以，舉例來說以酞青素化合物來形成，諸如銅酞青素、二胺或三胺化合物，諸如N,N'-聯苯-N,N'-二-[4-(苯基-m-甲苯基-胺基)-苯基]-聯苯-4,4'-二胺(N,N'-diphenyl-N,N'-bis-[4-(phenyl-m-tolyl-amino)-phenyl]-biphenyl-4,4'-diamine，DNTPD)、 4,4',4"-三[(3-甲基苯基)苯胺]三苯胺(4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine，m-MTDATA)、4,4'4"-三(N,N-二苯胺基)三苯胺(4,4'4"-三(N,N-diphenylamino)triphenylamine，TDATA)、或4,4', 4"-三{N,-(2-萘基)-N-苯胺}-三苯胺(4,4', 4"-tris{N,-(2-naphthyl)-N-phenylamino}-triphenylamine，2T-NATA)、或高分子化合物，諸如聚(3,4-乙烯二氧噻吩)/聚(4-苯乙烯磺酸鈉(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/poly(4-styrenesulfonate，PEDOT/PSS)、聚苯胺/十二烷基苯磺酸(polyaniline/dodecylbenzenesulfonic acid，PANI/DBSA)、聚苯胺/樟腦磺酸(polyaniline/camphor sulfonicacid，PANI/CSA)、或聚苯胺/聚(4-苯乙烯磺酸鈉) (PANI/PSS)，但用於形成HIL321的材料的實例不限於此。
HTL 323可以，舉例來說以咔唑衍生物形成，諸如N-苯基咔唑(N-phenylcarbazole)或聚乙烯咔唑、三苯胺基化合物，諸如N,N'-二(3-甲基苯基)-N,N'-二苯基-[1,1-二苯基]-4,4'-二胺(N,N'-bis(3-methylphenyl)-N,N'-diphenyl-[1,1-biphenyl]-4,4'-diamine，TPD)或4,4',4"-三(N-咔唑)三苯胺(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)triphenylamine，TCTA)、或N,N'-二(1-萘基)-N,N'-二苯基聯苯胺(N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenylbenzidine，NPB)，但用於形成HTL323的材料的實例不限於此。
HIL321及HTL 323的至少一個可進一步包括用於增進層的導電特性的電荷產生材料。電荷產生材料可為，舉例來說p-摻質。p-摻質的非限制性實例為醌衍生物，諸如四氰基醌二甲烷(TCNQ)以及2,3,5,6-四氟-四氰-1,4-苯醌二甲烷(2,3,5,6-tetrafluoro-tetracyano-1,4-benzoquinonedimethane，F4-TCNQ)、或是金屬氧化物，諸如氧化鎢或氧化鉬，但不限於此。
EML 325可包括，舉例來說，基質和摻質。
針對作為基質的用途，可使用任何所屬技術領域中合適的材料。其實例包括三(8-羥基喹啉)鋁(tris(8-quinolinolate)aluminum，Alq3
)、4,4'-二(N-咔唑)-1,1'-聯苯(4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl，CBP)、聚(n-乙烯基咔唑(poly(n-vinylcabazole，PVK)、, 9,10-二(萘-2-基)蒽(9,10-di(naphthalene-2-yl)anthracene，ADN)、4,4',4"-三(咔唑-9-基)-三苯胺(4,4',4"-tris(carbazol-9-yl)-triphenylamine，TCTA)、1,3,5-三(N-苯基苯並咔唑-2-基)苯基(1,3,5-tris(N-phenylbenzimidazole-2-yl)benzene，TPBI)、3-叔丁基-9,10-二(2-萘)蒽(3-tert-butyl-9,10-di(naphth-2-yl) anthracene，TBADN)、二苯乙烯芳香基(distyrylarylene，DSA)、E3或4,4′-二(9-咔唑)-2,2′-二甲基-聯苯(4,4′-bis(9-carbazolyl)-2,2′-dimethyl-biphenyl，CDBP)，但不限於此。
針對作為摻質的用途，可使用任何所屬技術領域中已知的合適材料。其實例包括螢光摻質、磷光摻質、或延遲的螢光摻質。磷光摻質可為包括銥(Ir)、鉑(Pt)、鋨(Os)、錸(Re)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hr)、或兩個或更多這些元素的組合的有機金屬複合物，但磷光摻質不限於此。
紅色摻質的實例包含八乙基卟吩鉑(II) (Pt(II) octaethylporphine，PtOEP)、三(2-苯基異喹啉)合銥(tris(2-phenylisoquinoline)iridium，Ir(piq)3
)、或二(2-(2’-苯并噻吩)-吡啶-N,C3’)合銥(乙醯丙酮)(bis(2-(2’-benzothienyl)-pyridinato-N,C3’)iridium(acetylacetonate)，Btp2
Ir(acac))，但不限於此。
綠色摻質的實例包括三(2-苯基吡啶)合銥(tris(2-phenylpyridine) iridium，Ir(ppy)3
)、二(2-苯基吡啶)(乙醯丙酮)合銥(III)(bis(2-phenylpyridine)(acetylacetonato)iridium(III)，Ir(ppy)2
(acac))、三(2(4-甲苯基)苯基吡啶)合銥(tris(2-(4-tolyl)phenylpiridine)iridium，Ir(mppy)3
)、或10-(2-苯并噻唑基)-1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H,11H-[1] 苯并芘基[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮(10-(2-benzothiazolyl)-1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H,11H-[1]benzopyrano [6,7,8-ij]-quinolizin-11-one，C545T)，但不限於此。
藍色摻質的實例包括二[3,5-二氟-2-(2-吡啶)苯基](吡唳甲酸根)合銥(III) (bis[3,5-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl](picolinato)iridium(III)，F2
Irpic)、(F2
ppy)2
Ir(tmd)、Ir(dfppz)3、4,4’-二(2,2’-二苯基乙烯-1-基)聯苯(4,4’-bis(2,2’-diphenylethen-1-yl)biphenyl，DPVBi)、4,4'-二[4-(二苯基胺)苯乙烯基]聯苯(4,4'-bis[4-(diphenylamino)styryl]biphenyl，DPAVBi)、或2,5,8,11-四叔丁基苝(2,5,8,11-tetra-tert-butyl perylene，TBPe)，但不限於此。
ETL 327可以，舉例來說，諸如Alq3
、2,9-二甲基-4,7-聯苯基-1,10-啡啉(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline，BCP)、4,7-聯苯-1,10-啡啉(4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline，Bphen)、3-(4-聯苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑(3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole，TAZ)、4-(萘-1-基)-3,5-聯苯-4H-1,2,4-三唑(4-(naphthalen-1-yl)-3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole，NTAZ)、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑(2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole，tBu-PBD)、二(2-甲基-8-羥基喹啉-N1,O8)-(1,1’-聯苯-4-羥基)鋁(bis(2-methyl-8-quinolinolato-N1,O8)-(1,1’-Biphenyl-4-olato)aluminum，BAlq)、二(苯并喹啉-10-酚鹽)鈹(beryllium bis(benzoquinolin-10-olate)，Bebq2
)、或9,10-二(萘-2-基)蒽(9,10-di(naphthalene-2-yl)anthrascene，ADN)來形成，但用於形成ETL327的材料的實例不限於此。
ETL 327可進一步包括含金屬的材料，且該含金屬材料可包括鋰(Li)複合物。Li複合物的非限制性實例可為羥基喹啉鋰(lithium quinolate，LiQ)。
EIL 329可以，舉例來說，以鹼金屬、鹼土金屬、鹼金屬與鹼土金屬的鹵化物、氧化物或碳酸鹽來形成。例如，EIL 329可包括，例如：Li、Ca、Sr、LiF、NaCl、CsF、CsCl、MgF2
、CaF2
、SrF2
、BaF2
、Li2
O、Na2
O、MgO、SrO、BaO、Li2
CO3
、以及MgCO3
。在一些實施例中，EIL 329可包括至少一個金屬，例如Yb、Sc、V、Y、In、Ce、Sm、Eu、以及Tb。舉例來說，EIL 329可包括Yb。在一些其他實施例中，除了至少一個金屬以外，例如：Yb、Sc、V、Y、In、Ce、Sm、Eu、以及Tb以外，EIL 329可包括，舉例來說鹼金屬的鹵化物或鹼土金屬的鹵化物。
在一些實施例中，有機發光裝置30可包括用於形成EIL329的Yb、Ag及Mg (其中Ag的含量優於Mg的含量)則用於形成第二電極130，且Yb再次用於形成光學輔助層。
第4圖係為根據另一個實施例的有機發光裝置40的截面示意圖。第4圖的有機發光裝置40包括基板100、第一電極110、有機層320、第二電極230、光學輔助層140、以及覆蓋層150，其中有機層320包括HIL 321、HTL 323、EML 325、ETL 327、以及EIL 329。有機發光裝置40的基板100、第一電極110、有機層320、光學輔助層140、以及覆蓋層150可被定義與第3圖的有機發光裝置30的相同。此外，有機發光裝置40的第二電極230可進一步包括中間層232，其被定義為與有機發光裝置20的中間層相同。
第5圖係根據另一個實施例的有機發光裝置50的截面示意圖。參考第5圖，有機發光裝置50是包含有紅色子像素R、綠色子像素G以及藍色子像素B的全彩裝置。
有機發光裝置50具有基板500，以及在每個子像素R、G及B中依序地堆疊在基板500上的第一電極510、有機層520、第二電極530、光學輔助層540、以及覆蓋層550的堆疊結構。基板500、第一電極510、有機層520、光學輔助層540、以及覆蓋層550可被定義與第1圖的有機發光裝置10的基板100、第一電極110、有機層120、光學輔助層140以及覆蓋層150相同。雖然在第5圖描述的有機層520在每個子像素R、G及B中是分開的，但是有機層520的其他層，除了EML之外，可共同形成在所有子像素R、G及B之上。在一些實施例中，有機層520可在每個子像素R、G及B裡被形成為不同厚度，以使得有機發光裝置50可具有共振結構。
第二電極530是共同地形成在所有子像素R、G及B之上的層。這裡，第二電極530可以是如第1圖的有機發光裝置10的第二電極130的單層，或是可額外地包括如第2圖的有機發光裝置20的中間層232的中間層。
光學輔助層540是共同地形成在所有子像素R、G及B之上的層。
第6圖係根據另一個實施例的有機發光裝置60的截面示意圖。參考第6圖，有機發光裝置60是包括紅色子像素R、綠色子像素G、以及藍色子像素B的全彩裝置。有機發光裝置60不同於有機發光裝置50在於光學輔助層640是僅形成在綠色子像素G與紅色子像素R中，並不形成在藍色子像素B中。在這方面，有機發光裝置60可在長波長具有高吸收係數，且因此在吸收外部光源下可增加對比度之改進。
第7圖係包括根據一實施例的有機發光裝置的有機發光顯示裝置1的截面示意圖。
參考第7圖，有機發光顯示裝置1包括基板101、在基板上101上之薄膜電晶體(TFT)、電性連結至TFT的第一電極110、在第一電極110上的有機層120、在有機層120上的第二電極130、在第二電極130上的光學輔助層140、以及在光學輔助層140上的覆蓋層150。
任何被用於典型的有機發光顯示裝置中的基板可被用作為基板101。基板101可為玻璃基板或透明塑膠基板，即，具有優異的機械強度、熱穩定性、透明度、表面光滑度、易處理性、以及防水性的任何基板。替選地，基板101可以不透明材料形成，諸如矽或是不鏽鋼。
為了有機發光裝置的操作，裝置/佈線層103可設置在基板101上，其中裝置/佈線層103包括驅動TFT、開關TFT (未示出)、電容器、以及與這些TFT或電容器連結的佈線。
驅動TFT可包括主動層710、閘極電極730、以及源極電極750a及汲極電極750b。這裡，主動層710以及閘極電極730可透過閘極絕緣層721絕緣。絕緣層723可在閘極電極730與源極電極750a和汲極電極750b之間。層間絕緣層725可在驅動TFT與第一電極110之間。
為了防止外部異物，像是在基板101與裝置/佈線層之間的濕氣或氧氣滲透基板101且侵入裝置/佈線層103與有機發光裝置，有機發光顯示裝置1可進一步包括障壁層102。這裡，障壁層102可以無機材料及/或有機材料形成。
有機發光裝置可在裝置/佈線層103上。有機發光裝置可包括第一電極110、在第一電極110上的有機層120、在有機層120上的第二電極130、在第二電極130上的光學輔助層140、以及在光學輔助層140上的覆蓋層150。有機發光裝置可為第1圖的有機發光裝置10。
在一實施例中，第一電極110可為陽極且第二電極130可為陰極。來自第一電極110的電洞以及來自第二電極130的電子朝向有機層120移動。電洞及電子重組以產生激子。這些激子從激發態轉變成基態，因而產生光。在一些實施例中，像素定義層104可設置在裝置/佈線層103以及第一電極110上，以定義像素。
第一電極110可與在裝置/佈線層103上的驅動TFT的源極電極750a或汲極電極750b電性連結。
在一實施例中，描述有機發光顯示裝置的配置使得驅動TFT被形成在裝置/佈線103上，但配置不限於此。舉例來說，有機發光顯示裝置可形成各種結構，諸如其中第一電極110與TFT的主動層是在相同層上的結構、其中第一電極110與TFT的閘極電極730是在相同層上的結構、或其中第一電極110與源極電極750a和汲極電極750b是在相同層上的結構。
本文提供的例示性結構是驅動TFT的閘極電極730形成在主動層上，但結構不限於此。舉例來說，有機發光顯示裝置可具有在主動層以下的TFT的閘極電極730。
在一些實施例中，第2圖的有機發光裝置20而非第1圖的有機發光裝置10可被應用到有機發光顯示裝置1上。此外，有機層120可包括，如第3圖及第4圖的有機發光裝置30及40中顯示的，HIL 321、HTL 323、EML 325、ETL 327、以及EIL 329。在一些實施例中，有機層120可包括這些層的僅一部分或是可進一步包括其他層。
第7圖的有機發光顯示裝置1係配置以具有僅單一像素，但如第5圖或第6圖所描述的，包括紅色子像素、綠色子像素、以及藍色子像素的全彩有機發光裝置可被應用至有機發光顯示裝置1中。
下文將連結第7圖來描述根據實施例的有機發光裝置的結構以及根據實施例的製造有機發光裝置的方法。
用於形成有機發光裝置或有機發光顯示裝置的每個層的材料、或有機發光裝置或有機發光顯示裝置的每個層的厚度可參考上文提供的說明。
再次參考第7圖，有機發光顯示裝置可包括在基板101上的裝置/佈線層103、第一電極110、有機層120、第二電極130、光學輔助層140、以及覆蓋層150。
障壁層102可在裝置/佈線層103被形成之前形成在基板101上，且障壁層102可以無機材料及/或有機材料來形成。在此觀點，障壁層102可作用以防止外部異物滲透基板101且侵入裝置/佈線層103以及有機發光裝置。
為了有機發光裝置的操作，裝置/佈線層103可包括驅動TFT、電容器(未示出)、以及佈線(未示出)。
第一電極110、有機層120、以及第二電極130可以陳述的順序依序地形成在裝置/佈線層103上。
第一電極110可為反射電極，且第二電極130可為透射電極或半透射電極。如此，從有機層120產生的光可直接朝向第二電極130發射或可被第一電極110反射而朝向第二電極130發射。這裡，第二電極130可作為半透射電極，以形成被第一電極110和第二電極130定義的共振結構。第一電極110可藉由，舉例來說，沉積方法或濺射方法來形成。第二電極130可藉由，舉例來說，真空沉積方法來形成。
有機層120可以低分子有機材料或高分子有機材料來形成。有機層120可藉由各種方法來形成，諸如真空沉積、旋轉塗佈、鑄製(casting)、以及朗謬-布洛傑(Langmuir-Blodgett，LB)方法。例示性的實施例提供有機發光裝置形成在裝置/佈線層103上的情形，但結構不限於此。舉例來說，裝置/佈線層103以及有機發光裝置可被形成在相同的層上。
光學輔助層140可被形成在第二電極130上，藉由使用真空沉積方法。第二電極130以及光學輔助層140的成形可連續地在相同的真空沉積腔室中執行。替選地，在包括EIL的有機層120的情況中，EIL、第二電極130、以及光學輔助層140的成形可連續地在相同的真空沉積腔室中執行。
舉例來說，當第二電極130是以Ag及Mg的合金形成且光學輔助層140是以Yb形成時，這些Ag、Mg、以及Yb材料源可在相同的腔室中準備。在第二電極130的成形期間，開啟Ag及Mg材料源以共沉積Ag及Mg而同時Yb材料源是關閉的。接著，關閉Ag及Mg材料源而同時開啟Yb材料源，以沉積Yb。另外，在Yb源開啟的同時，Ag和Mg是被關閉的，以形成EIL，且接著Yb源關閉的同時開啟Ag及Mg源，以共沉積Ag及Mg，因而形成第二電極130，且接著Ag及Mg材料源被關閉，而同時開啟Yb材料源，以形成由Yb製成的光學輔助層140。
藉由在相同的真空沉積腔室中連續地形成第二電極130及光學輔助層140，有機發光裝置以及有機發光顯示裝置可以相同的方法製造。因此，製造產品的製程時間和成本可降低。
覆蓋層150可使用各種方法被形成在光學輔助層140上，諸如真空沉積、旋轉塗佈、鑄製、以及LB方法。
在一些實施例中，有機發光顯示裝置1可使用有機發光裝置20而非有機發光裝置10。此外，有機層120可包括，如第3圖及第4圖的有機發光裝置30及40中顯示的，HIL 321、HTL 323、EML 325、ETL 327、以及EIL 329。在一些其他實施例中，有機層120可包括這些層的僅一些或是可進一步包括其他層。
此外，包括第5圖的全彩有機發光裝置50或第6圖的全彩有機發光裝置60的有機發光顯示裝置可藉由參考製造第7圖的有機發光顯示裝置1的方法來製造。
亦即，根據這些實施例的有機發光裝置可以不同結構配置，諸如發射單色、多色或白色的有機發光裝置。
折射率的測量
第8圖是根據波長，顯示光學輔助層以及覆蓋層的化合物A(如下示)的Yb的折射率以及吸收係數的示圖。
在第8圖之示圖中，折射率表示複折射率的實部，且吸收係數表示複折射率的虛部。這裡，折射率以及吸收係數係藉由使用橢圓偏振計來測量。
參考第8圖之示圖，Yb的折射率低於化合物A的折射率。這裡，波長越短，Yb的折射率越小。因此，Yb的折射率與化合物A的折射率之間的差異增加。由於Yb的折射率相對於化合物A來說較小，Yb可在陰極電極與覆蓋層之間使用，使得從有機層發射的光可被相長干涉影響。
此外，參考第8圖之示圖，Yb的吸收係數高於化合物A的吸收係數。亦即，在陰極電極的頂部上使用Yb層的情況下，被Yb層吸收的外部光以及藉由陰極電極的反射的外部光可有效地減少。
＜化合物A＞
反射率模擬
第9圖是顯示根據使用Yb的光學輔助層的厚度的有機光學元件的模擬反射率結果之示圖。在第9圖的模擬中，假設有機光學元件具有空氣/光學輔助層/陰極/有機層/陽極且不使用偏光板的堆疊結構。這裡，在光源是自然日光(D6500)的假定條件下模擬反射率。在第9圖之示圖中，有著光學輔助層的反射率除以在相同結構中沒有光學輔助層的反射率，產生有機光學元件的相對反射率。參考第9圖，確認的是隨著使用Yb的光學輔助層的厚度的增加，反射率降低約50%。
提供以下的實施例以及比較例以凸顯一個或多個實施例的特性，但將理解的是實施例和比較例不應當被解釋為實施例的範疇的限制，比較例也不被解釋為自外於實施例的範疇。進一步，將理解的是實施例不限定於特定在實施例以及比較例中被描述的細節。
面板的反射率以及效能的測量
實施例1
在低溫多晶矽基板(LTPS)的頂部上，有機發光裝置是以ITO(7 nm)/HTL/EML/ETL/Yb (1.5 nm)/Ag:Mg (體積比例90：10，10%體積的Mg)(9 nm)/Yb (1 nm)/覆蓋層 (85 nm)的堆疊結構製成。
比較例1
在LTPS的頂部上，有機發光裝置是以ITO (7 nm)/HTL/EML/ETL/LiQ (1.5 nm)/Ag：Mg (體積比例10：90，90%體積的Mg) (15 nm)/覆蓋層(65 nm)的堆疊結構製成。
比較例2
在LTPS的頂部上，有機發光裝置是以ITO (7 nm)/HTL/EML/ETL/Yb (1.5 nm)/Ag:Mg (體積比例90：10，10%體積的Mg) (9 nm)/覆蓋層(85 nm)的堆疊結構製成。
在實施例1、比較例1以及比較例2中，化合物A被使用作為覆蓋層。
下表1顯示實施例1以及比較例1及2的面板的值，值係藉由使用包含鏡面反射(SCI)以及排除鏡面反射(SCE)反射比測量所獲得。這裡，SCI及SCE的Y值越小，面板具有越小的反射率。SCI和SCE反射比是使用Minolta反射率計來測量。
表1 
參考表1，外部光源反射值以比較例1的面板、實施例1的面板、以及比較例2的面板的順序增加。這裡，實施例1的面板顯示比比較例1的面板要稍微大的外部光反射值，但比較例2的面板顯示比其他面板要稍微大的外部光反射值。
表1顯示當比較例2的面板的效能被視作100時實施例1、比較例1及2的面板的效能值。這裡，面板的效能值係藉由測量其目前效能(Cd/mA)來相互比較。
參考表1，效能優劣依序為比較例2、實施例1以及比較例1的有機發光裝置。
亦即，比較例1的有機發光裝置有最小的外部光反射以及最差的效能，然而比較例2的有機發光裝置具有優異的效能以及明顯高的光反射。同時，實施例1的有機發光裝置具有與比較例1的有機發光裝置較相似的光反射值。實施例1的有機發光裝置具有與比較例2的有機發光裝置相似的效能。如此，實施例1的有機發光裝置就外部光反射以及效能兩者而言具有優異的特性。
模擬
使用陰極以及光學輔助層的多層的有機發光裝置模擬其相關效能。
以下具有多層結構的有機發光裝置在實施例2及實施例3中模擬其相關效能。
實施例2 (單層)
Ag/ITO/HTL/EML/ETL/EIL/陰極/Yb/CPL
實施例3 (多層)
Ag/ITO/HTL/EML/ETL/EIL/陰極/Yb/CPL/Yb/CPL
CPL是在實施例2及實施例3中的覆蓋層。
第10圖是顯示根據有機發光裝置的發光色度座標的Y值之實施例2及實施例3的有機發光裝置(藍色二極體)的模擬效能。這裡，發光顏色的範圍限制於藍色區域。當色度座標的Y值變高時，藍色波長朝向長波長移動，其相應覆蓋層的厚度增加。
參考第10圖，相對於所有模擬的波長而言，實施例3的有機發光裝置具有比實施例2的有機發光裝置更佳的效能。亦即，具陰極/光學輔助層(或中間層)/陰極/光學輔助層/覆蓋層的結構之有機發光裝置被發現相較於具陰極/光學輔助層/覆蓋層的結構之有機發光裝置具有較佳的效能。
如上所述，根據一個或多個上述例示性實施例，陰極以及覆蓋層之間的光學輔助層之應用可增進光萃取效能且以有效的方式減少光反射。
例示性實施例已經在本文中揭露，且雖然使用特定的術語，其僅被使用且詮釋為通用性和描述性意義，而非用於限制的目的。在一些情況中，將對本發明所屬技術領域中具有通常知識者顯而易見的是，被描述與一特定實施例連結的特徵、特性、及/或元件可被單獨地使用，或可與被描述與其他實施例連結的特徵、特性、及/或元件組合，除非另有特別說明。因此，將被本發明所屬技術領域中具有通常知識者理解的是，多種形式和細節上的變化可在不背離如下述申請專利範圍中闡述的本發明的精神和範疇下發生。
1‧‧‧有機發光顯示裝置
10、20、30、40、50、60‧‧‧有機發光裝置
100、101、500‧‧‧基板
102‧‧‧障壁層
103‧‧‧裝置/佈線層
104‧‧‧像素定義層
110、510‧‧‧第一電極
120、320、520‧‧‧有機層
130、230、530‧‧‧第二電極
140、240、540、640‧‧‧光學輔助層
150、550‧‧‧覆蓋層
232‧‧‧中間層
321‧‧‧電洞注入層
323‧‧‧電洞傳輸層
325‧‧‧發光層
327‧‧‧電子傳輸層
329‧‧‧電子注入層
710‧‧‧主動層
721‧‧‧閘極絕緣層
723‧‧‧絕緣層
725‧‧‧層間絕緣層
730‧‧‧閘極電極
750a‧‧‧源極電極
750b‧‧‧汲極電極
R‧‧‧紅色子像素
G‧‧‧綠色子像素
B‧‧‧藍色子像素
藉由參考附圖詳細描述例示性實施例，特徵將對本發明所屬技術領域中具有通常知識者而言變得顯而易見，其中：
第1圖描述根據一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第2圖描述根據另一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第3圖描述根據另一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第4圖描述根據另一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第5圖描述根據另一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第6圖描述根據另一實施例的有機發光裝置的截面示意圖；
第7圖描述包括根據一實施例的有機發光裝置的有機發光顯示裝置的截面示意圖；
第8圖描述根據波長顯示覆蓋層及光學輔助層的折射率與吸收係數的示圖；
第9圖描述顯示根據光學輔助層的厚度，有機發光裝置的模擬反射率結果的示圖；以及
第10圖描述顯示實施例2及實施例3的有機發光裝置相對於發光色度座標的Y值的模擬效率結果的示圖。
10‧‧‧有機發光裝置
100‧‧‧基板
110‧‧‧第一電極
120‧‧‧有機層
130‧‧‧第二電極
140‧‧‧光學輔助層
150‧‧‧覆蓋層
Claims (20)
- 一種有機發光裝置，其包含： 一基板； 一陽極，於該基板上； 一有機層，於該陽極上且包含一發光層； 一陰極，於該有機層上； 一光學輔助層，於該陰極上；以及 一覆蓋層，於該光學輔助層上， 其中，在一可見光區域，該光學輔助層相較於該覆蓋層具有較低折射率以及較高吸收係數。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中在該可見光區域，該光學輔助層具有在約1.1至約2.0之範圍內的折射率以及在約1至約3的範圍內的吸收係數。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中在約400nm至約550nm之間的波長區域中，該光學輔助層的折射率係在約1.1至約1.5的範圍內，且在約550nm至約700nm之間的波長區域中，該光學輔助層的折射率係在約1.5至約2的範圍內。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中在約400nm至約550nm之間的波長區域中，該光學輔助層的折射率與該覆蓋層的折射率之間的差異係在約0.5至約2.0的範圍內。
- 如申請專利範圍第4項所述之有機發光裝置，其中在約550nm至約700nm之間的波長區域中，該光學輔助層的折射率與該覆蓋層的折射率之間的差異係小於在約400nm至約550nm之間的波長區域中的該光學輔助層的折射率與該覆蓋層的折射率之間的差異。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該光學輔助層在約550nm至約700nm之間的波長區域中相較於在約400nm至約550nm之間的波長區域中具有較高吸收係數。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該光學輔助層包括鐿(Yb)。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該有機層進 一步包含： 一電洞傳輸區域，其在該陽極與該發光層之間；以及 一電子傳輸區域，其在該陰極與該發光層之間。
- 如申請專利範圍第8項所述之有機發光裝置，其中該電子傳輸區域包括與該光學輔助層相同之材料的一電子注入層。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該覆蓋層包含三芳胺衍生物、咔唑衍生物、苯并咪唑衍生物、三唑衍生物、ITO、IZO、SiO2 、氮矽化物(SiNx)、Y2 O3 、WO3 、MoO3 、Al2 O3 、或其組合。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該陰極包括銀(Ag)的一第一金屬以及鋁(Al)、鉑(Pt)、鐿(Yb)、釹(Nd)、與鎂(Mg)之至少一個的一第二金屬，且該第一金屬的含量比該第二金屬的含量還大。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該陽極為一反射電極。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該覆蓋層包括彼此具有不同折射率的複數個層。
- 如申請專利範圍第1項所述之有機發光裝置，其中該陰極進一步包括至少一個中間層，該中間層係以用於形成該光學輔助層的材料的相同材料來製作。
- 如申請專利範圍第14項所述之有機發光裝置，其中該光學輔助層以及該中間層包括鐿(Yb)。
- 一種製造有機發光裝置的方法，該方法包含： 提供一基板； 形成一陽極在該基板上； 形成包括一發光層的一有機層在該陽極上； 形成一陰極在該有機層上； 形成一光學輔助層在該陰極上；以及 形成一覆蓋層在該光學輔助層上， 其中在一可見光區域，該光學輔助層相較於該覆蓋層具有較低折射率以及較高吸收係數。
- 如申請專利範圍第16項所述之方法，其中在形成該陰極之後，在與用以形成該陰極的一腔室相同的該腔室中接續執行形成該光學輔助層。
- 如申請專利範圍第17項所述之方法，其中： 該有機層進一步包含在該陽極與該發光層之間的一電洞傳輸區域，以及在該陰極與該發光層之間的一電子傳輸區域， 該電子傳輸區域包括一電子注入層，且 該電子注入層、該陰極、以及該光學輔助層係在該相同腔室中依序地形成。
- 如申請專利範圍第18項所述之方法，其中該電子注入層以及該光學輔助層係以相同材料形成。
- 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該光學輔助層包括鐿(Yb)。
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