TWI455902B - 使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃、資訊記錄媒體用基板及資訊記錄媒體以及這些玻璃、基板以及資訊記錄媒體之製造方法 - Google Patents

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Claims (47)

  1. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,以莫耳%表示,其含有:SiO2 與Al2 O3 之合計為70%至85%,但,SiO2 的含量為50%以上,Al2 O3 之含量為3%以上;Li2 O、Na2 O及K2 O之合計為15%以上,但,Li2 O的含量為5至15%,Na2 O的含量為10至15%;CaO與MgO之合計為1至6%,但,CaO之含量多於MgO之含量;ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計超過0%且在4%以下;Li2 O、Na2 O及K2 O之合計含量對SiO2 、Al2 O3 、ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計含量的莫耳比((Li2 O+Na2 O+K2 O)/(SiO2 +Al2 O3 +ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 ))為0.28以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之玻璃,其中SiO2 的含量為60莫耳%以上,且SiO2 與Al2 O3 之合計含量為75莫耳%以上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之玻璃,其中以莫耳%表示時,CaO及MgO之合計含量多於SrO及BaO之合計含量,ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計含量對Li2 O、Na2 O、K2 O、MgO、CaO、SrO及BaO之合計含量的莫耳比((ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 )/(Li2 O+Na2 O+K2 O+MgO+CaO+SrO+ BaO))為0.035以上。
  4. 如申請專利範圍第1或2項中任一項之玻璃,其中,以莫耳%表示,含有:SiO2 50至75%、Al2 O3 3至15%、Li2 O 5至15%、Na2 O 10至15%、K2 O 0至3%、CaO超過0.5%且在5%以下、MgO 0%以上且不足3%、ZrO2 0.3至4%。
  5. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,以莫耳%表示,其含有:SiO2 50至75%、Al2 O3 3至15%、Li2 O 5至15%、Na2 O 10至15%、K2 O 0至3%、CaO超過0.5%且在5%以下、MgO 0%以上且不足3%但CaO之含量多於MgO之含量、ZrO2 0.3至4%;Li2 O、Na2 O及K2 O之合計含量對SiO2 、Al2 O3 及ZrO2 之合計含量的莫耳比((Li2 O+Na2 O+K2 O)/(SiO2 + Al2 O3 +ZrO2 ))為0.28以下。
  6. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,其係含有:SiO2 、Al2 O3 、選自由Li2 O、Na2 O及K2 O所構成之群中的一種以上之鹼金屬氧化物;及選自由MgO、CaO、SrO及BaO所構成之群中的一種以上之鹼土族金屬氧化物;以及選自由ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 所構成之群中的一種以上之氧化物;其中,SiO2 的含量為50莫耳%以上,且SiO2 與Al2 O3 之合計含量為70莫耳%以上;Li2 O的含量為5至15莫耳%,Na2 O的含量為10至15莫耳%;前述鹼金屬氧化物與前述鹼土族金屬氧化物之合計含量為15莫耳%以上;前述氧化物之合計含量對前述鹼金屬氧化物與前述鹼土族金屬氧化物之合計含量的莫耳比((ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 )/(Li2 O+Na2 O+K2 O+MgO+CaO+SrO+BaO))為0.035以上。
  7. 如申請專利範圍第6項之玻璃,其中SiO2 的含量為60莫耳%以上,且SiO2 與Al2 O3 之合計含量為75莫耳%以上。
  8. 如申請專利範圍第6或7項之玻璃,其中含有Li2 O及Na2 O之至少一者,且Li2 O與Na2 O之合計含量不足24莫耳%。
  9. 如申請專利範圍第6或7項之玻璃,其中Li2 O及Na2 O 之合計含量為22莫耳%以下。
  10. 如申請專利範圍第6或7項之玻璃,其中,以莫耳%表示,含有:SiO2 60至75%、Al2 O3 3至15%、ZrO2 0.3至4%。
  11. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之化學強化用鋁矽酸鹽玻璃,其係含有:選自由Li2 O、Na2 O及K2 O所構成之群中的一種以上之鹼金屬氧化物;及選自由MgO、CaO、SrO及BaO所構成之群中的一種以上之鹼土族金屬氧化物;以及選自由ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 所構成之群中的一種以上之氧化物;Li2 O的含量為5至15莫耳%,Na2 O的含量為10至15莫耳%,且Li2 O與Na2 O之合計含量為15至22莫耳%;ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計含量超過0%且在4%以下;前述氧化物之合計含量對前述鹼土族金屬氧化物之合計含量的莫耳比((ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 )/(MgO+CaO+SrO+BaO))為0.15以上。
  12. 如申請專利範圍第11項之玻璃,其中SiO2 的含量為50莫耳%以上,且SiO2 與Al2 O3 之合計含量為70莫耳%以上。
  13. 如申請專利範圍第11或12項之玻璃,其中SiO2 與Al2 O3 之合計含量為75莫耳%以上。
  14. 如申請專利範圍第11或12項之玻璃,其中ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計含量對Li2 O、Na2 O、K2 O、MgO、CaO、SrO及BaO之合計含量的莫耳比((ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 )/(Li2 O+Na2 O+K2 O+MgO+CaO+SrO+BaO))為0.035以上。
  15. 如申請專利範圍第11或12項之玻璃,其中以莫耳%表示,含有:Al2 O3 3%以上、Li2 O、Na2 O、K2 O、MgO、CaO、SrO及BaO之合計為超過15%、MgO、CaO、SrO及BaO之合計為超過0%且在5%以下。
  16. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,其係含有:SiO2 、Al2 O3 、選自由Li2 O、Na2 O及K2 O所構成之群中的一種以上之鹼金屬氧化物;及選自由MgO、CaO、SrO及BaO所構成之群中的一種以上之鹼土族金屬氧化物;以及選自由ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 所構成之群中的一種以上之氧化物;並具備:浸漬於保持在50℃之0.5Vol%的矽氟酸(H2 SiF)水溶液時之蝕刻率成為3.0nm/分鐘以下之耐酸性、與浸漬於保持在50℃之1質量%的氫氧化鉀水溶液時之蝕刻率成為0.1nm/分鐘以下之耐鹼性。
  17. 如申請專利範圍第16項之玻璃,其中,SiO2 的含量為50莫耳%以上,且SiO2 與Al2 O3 之合計含量為70莫耳%以上。
  18. 如申請專利範圍第16或17項之玻璃,其中SiO2 與Al2 O3 之合計含量為75莫耳%以上。
  19. 如申請專利範圍第16或17項之玻璃,其中具有如下之組成:前述鹼金屬氧化物與前述鹼土族金屬氧化物之合計含量為8莫耳%以上,且前述氧化物之合計含量對前述鹼金屬氧化物與前述鹼土族金屬氧化物之合計含量之莫耳比((ZrO2 +HfO2 +Nb2 O5 +Ta2 O5 +La2 O3 +Y2 O3 +TiO2 )/(Li2 O+Na2 O+K2 O+MgO+CaO+SrO+BaO))為0.035以上。
  20. 如申請專利範圍第16或17項之玻璃,其中,含有Li2 O及Na2 O之至少一者且Li2 O與Na2 O之合計含量為24莫耳%以下。
  21. 如申請專利範圍第16或17項之玻璃,其中,Li2 O與Na2 O之合計含量為22莫耳%以下。
  22. 如申請專利範圍第16或17項之玻璃,其中,以莫耳%表示,含有:SiO2 60至75%、Al2 O3 3至15%、ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計為0.3至4%。
  23. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,以質量%表示, 其含有:SiO2 57至75%、Al2 O3 5至20%但SiO2 與Al2 O3 之合計量為74%以上、ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、La2 O3 、Y2 O3 及TiO2 之合計超過0%且在6%以下、Li2 O超過1%且在9%以下、Na2 O 5至18%,但質量比Li2 O/Na2 O為0.5以下、K2 O 0至6%、MgO 0至4%、CaO超過0%且在5%以下,但MgO與CaO之合計量為5%以下且CaO之含量多於MgO之含量、SrO及BaO之合計為0至3%。
  24. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃,以質量%表示,其含有:SiO2 57至75%、Al2 O3 5至20%,但SiO2 與Al2 O3 之合計量為74%以上、ZrO2 超過0%且在5.5%以下、Li2 O超過1%且在9%以下、Na2 O 5至18%,但質量比Li2 O/Na2 O為0.5以下、K2 O 0至6%、MgO 0至4%、CaO超過0%且在5%以下,但MgO與CaO之合計 量為5%以下且CaO之含量多於MgO之含量、SrO及BaO之合計為0至3%、TiO2 0至1%。
  25. 如申請專利範圍第23或24項之玻璃,其中,SiO2 與Al2 O3 之合計含量超過79%。
  26. 如申請專利範圍第23或24項之玻璃,其中,含有Al2 O3 11%以上。
  27. 如申請專利範圍第23或24項之玻璃,其中,含有MgO 0.1至4%。
  28. 如申請專利範圍第23或24項之玻璃,其中,SiO2 、Al2 O3 、ZrO2 、Li2 O、Na2 O、K2 O、MgO、及CaO之合計含量為99%以上。
  29. 如申請專利範圍第1、2、5至7、11、12、16、17、23或24項中任一項之玻璃,其中,進一步含有Fe。
  30. 一種使用於資訊記錄媒體用基板之化學強化玻璃,其係藉由對如申請專利範圍第1至29項中任一項之玻璃實施化學強化處理所得到者。
  31. 一種資訊記錄媒體用玻璃基板,其係藉由如申請專利範圍第1至30項中任一項之玻璃所構成。
  32. 如申請專利範圍第31項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其中,主表面之粗糙度Ra不足0.25nm。
  33. 如申請專利範圍第31或32項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其係經施行化學強化處理。
  34. 如申請專利範圍第31或32項之資訊記錄媒體用玻璃基 板,其中,抗折強度為10kg以上。
  35. 如申請專利範圍第31或32項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其中,厚度為1mm以下。
  36. 如申請專利範圍第31或32項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其中,厚度為0.3mm以上。
  37. 如申請專利範圍第31或32項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其為圓盤狀。
  38. 如申請專利範圍第37項之資訊記錄媒體用玻璃基板,其中於中心部具有開口。
  39. 一種資訊記錄媒體用玻璃基板之製造方法,係包含下列步驟:將如申請專利範圍第1至30項中任一項之玻璃進行鏡面研磨加工之步驟;鏡面加工之後實施酸清洗及鹼清洗之清洗步驟。
  40. 如申請專利範圍第39項之資訊記錄媒體用玻璃基板之製造方法,其中,於前述研磨加工步驟與清洗步驟之間進一步含有實施化學強化處理。
  41. 如申請專利範圍第39或40項之資訊記錄媒體用玻璃基板之製造方法,其中,連續進行上述酸清洗與鹼清洗。
  42. 如申請專利範圍第39或40項之資訊記錄媒體用玻璃基板之製造方法,其中,上述酸清洗之後進行鹼清洗。
  43. 一種資訊記錄媒體,係於如申請專利範圍第31至38項中任一項之資訊記錄媒體用玻璃基板上具有資訊記錄層。
  44. 如申請專利範圍第43項之資訊記錄媒體,其為垂直磁 性記錄方式之磁性記錄媒體。
  45. 如申請專利範圍第44項之資訊記錄媒體,其中,於前述基板上,依序具有軟磁性基底層、非晶質基底層、結晶性基底層、垂直磁性記錄層、保護層及潤滑層。
  46. 如申請專利範圍第43至45項中任一項之資訊記錄媒體,其中,記錄密度為130Gbit/inch2 以上。
  47. 一種資訊記錄媒體之製造方法,其係依如申請專利範圍第39至42項中任一項之方法製造資訊記錄媒體用玻璃基板,並於前述玻璃基板上形成資訊記錄層。
TW096120676A 2006-06-08 2007-06-08 使用於資訊記錄媒體用基板之玻璃、資訊記錄媒體用基板及資訊記錄媒體以及這些玻璃、基板以及資訊記錄媒體之製造方法 TWI455902B (zh)

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