TWI415801B - The treatment method and the processing device of the water containing the organic matter - Google Patents

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Description

含有機物之水的處理方法及處理裝置
本發明關於一種含有機物之水的處理方法及處理裝置，係適合於採用為在製造電子元件製造工廠所使用之超純水之系統，或來自電子元件製造工廠的廢水的處理設備等。
在電子元件製造工廠中，係使用超純水作為洗淨用水，超純水係將由工業用水或工廠所排出的廢水作為原水，一般而言藉由包含活性碳處理與後段之逆滲透(RO)膜分離處理的水流而製造。
活性碳處理之目的為原水中之氧化劑除去或有機物‧色度等的除去。由於在活性碳中，有機物被吸附濃縮，因此以此有機物作為營養源，活性碳塔內會成為微生物容易繁殖的環境。一般而言微生物在氧化劑存在下無法生存。因此，在暴露於氧化劑的活性碳流入水中並不存在微生物。然而，由於活性碳中之氧化劑除去機制係活性碳表面中之觸媒分解反應，而在塔內上部進行，因此活性碳塔內中部以及下部成為不存在氧化劑的狀態。因此，活性碳塔內部成為微生物的溫床，一般而言103 個/ml～107 個/ml程度之菌體會由活性碳塔漏出。
活性碳塔係在作為氧化劑除去、有機物除去手段的超純水製造裝置中不可欠缺的裝置。活性碳塔係如上所述容易成為微生物的溫床。為此，在流入活性碳塔之有機物濃度高的情況下，由活性碳塔流出之微生物造成後段所設置之安全過濾器或RO膜發生生物淤積，而有堵塞之情形。
作為解決上述問題手段，為了進行活性碳塔內之殺菌，一直以來是進行熱水殺菌或氯殺菌法。
熱水殺菌係將80℃以上之熱水流通至活性碳塔保持1小時以上的方法，而有長時間流通、保持高溫熱水的必要性。
就氯殺菌而言，於特開平5-64782號公報，曾經提出在逆洗水添加NaClO以進行逆洗的方法。在本法中，於逆洗水所流入之活性碳塔下部層表面，NaClO被分解，因此NaClO沒有遍及活性碳塔內全體，而無法得到充分之殺菌效果。
近年，環境基準以至水質基準有日益變為嚴格的傾向，對於放流水進行高度地淨化亦被期望著。由解決水不足的目的考量，為了回收各種廢水而再利用，亦期望有高度的水處理技術之開發。
由於RO膜分離處理可有效地除去水中之雜質(離子類、有機物、微粒子等)，因此近年來正逐漸被使用在多種區域。例如將由半導體製造程序所排出之含丙酮、異丙醇等的高濃度有機物或低濃度含有機物廢水回收，再利用的情況下，首先將其進行生物處理，除去有機物成分，對生物處理水進行RO膜處理，淨化的方法正廣泛被採用(例如特開2002-336886號公報)。
然而，將生物處理廢水流通至RO膜分離裝置的情況下，有由於微生物造成之有機物分解所生成的生物代謝物造成RO膜的膜面被阻塞，通量降低之情形。
在不使用生物處理，將該等含有機物廢水直接流通至RO膜分離裝置的情況下，由於流入RO膜分離裝置之TOC濃度高，因此在RO膜分離裝置內會成為微生物容易繁殖的環境。於是，由抑制RO膜分離裝置內的生物淤積之目的考量，在含有機物廢水進行大量添加黏泥控制劑。然而，由於黏泥控制劑為高價的，因此較為廉價的生物淤積抑制方法正被需求著。
另外，由電子元件製造工廠所排出的廢水中，由於有混入附著於RO膜分離裝置的膜面使通量降低之虞的非離子性界面活性劑的情況，因此RO膜分離處理無法適用於如此的非離子性界面活性劑含有廢水。
作為解決如此的問題，將由電子元件製造工廠、其他各區域所排出的高濃度至低濃度含有機物之水使用RO膜分離裝置處理‧回收時，防止在RO膜分離裝置內之有機物的膜面附著造成通量降低、生物淤積，進行長時間安定的處理，同時有效率地減低水中的TOC濃度而得到高水質的處理水之技術，本申請人先前提案了在含有機物之水添加該含有機物之水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑，同時，在積垢防止劑添加之前、後或同時將鹼劑添加於含有機物之水，使pH調整至9.5以上，其後RO分離處理的方法及裝置(特開2005-169372號公報)。
另外，亦提案了關於藉由添加積垢防止劑，同時對pH調整至9.5以上的廢水進行活性碳處理，其後RO膜分離處理，抑制活性碳塔以及RO膜分離裝置中之微生物之增殖、安定地得到處理水的方法及裝置(專利第3906855號公報)。在此方法中，活性碳塔係為了將混入原水的氧化劑及原水中之有機物吸附除去而設置。
另外，如此的方式，藉由在導入RO膜分離裝置的被處理水(以下有稱為「RO給水」的情況。)添加既定量之積垢防止劑，同時將pH調整至9.5以上，流通至RO膜分離裝置，成為可防止在RO膜分離裝置內之有機物的膜面附著造成通量的降低、或生物淤積，進行長時間安定的處理，同時有效率地減低水中的TOC濃度，得到高水質的處理水。
微生物無法生活在鹼性區域。為此，藉由將RO給水的pH調整至9.5以上，成為可在RO膜分離裝置內作出有營養源但是微生物無法生活的環境，並不需要進行如以往般的高價黏泥控制劑之添加，可抑制在RO膜分離裝置的生物淤積。
另外已知，有使通量降低之虞的非離子性界面活性劑，係在鹼性區域會由膜面脫附，藉由將RO給水的pH定為9.5以上，成為可抑制該等成分往RO膜面之附著。
在由電子元件製造工廠等排出的TOC含有廢水中，偶爾有成為積垢根源的鈣離子等混入的情況。在將RO給水的pH定為9.5以上的高pH之RO運轉條件下，即使極微量之鈣離子混入，亦會使得碳酸鈣等積垢生成，RO膜會立刻阻塞。於是，由抑制如此的積垢造成的膜面阻塞的目的考量，將RO給水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑添加於RO給水，防止積垢生成。
然而，將該含有機物之水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑添加於含有機物之水，同時，在積垢防止劑添加之前、後或同時，將鹼劑添加於含有機物之水，pH調整至9.5以上，在其後RO分離處理之方法中，於原水中硬度成分大量存在的情況下，即使添加積垢分散劑、其產生的積垢抑制效果不充分。為此，有在設置陽離子交換塔或軟化塔減低硬度負荷之後，使pH成為鹼性之必要。
於專利第3906855號公報之方法中，係將原水以活性碳塔處理後，以陽離子交換塔或軟化塔進行處理，其後以RO膜分離裝置進行處理。在此處理系統中，由塔內中之積垢生成控制之觀點看來，陽離子交換塔或軟化塔無法設定在高鹼性條件下運轉，因此，陽離子交換塔或軟化塔與其前段之活性碳塔，係有定為在中性條件下運轉之必要。此結果，在中性條件下的活性碳塔、與陽離子交換塔或軟化塔內，會成為黏泥容易繁殖的條件，而會因為由塔內剝離之生物薄膜導致設置於後段之RO膜分離裝置(或RO膜分離裝置之安全過濾器)有阻塞的情形。
為了抑制此黏泥的繁殖、考慮在原水添加殺菌劑，而由於次亞氯酸鈉(NaClO)等通常之殺菌劑大部分會被活性碳塔除去，因此在活性碳塔後段的陽離子交換塔或軟化塔中，得不到殺菌效果而無法抑制黏泥的繁殖。
專利文獻1：特開平5-64782號公報
專利文獻2：特開2002-336886號公報
專利文獻3：特開2005-169372號公報
專利文獻4：專利第3906855號公報
本發明目的為提供一種含有機物之水的處理方法及處理裝置，係在包含電子元件製造工廠所使用之超純水製造系統中之活性碳處理與後段之RO膜分離處理之水流中，可抑制活性碳塔內以及逆滲透膜分離裝置中之微生物之增殖，並可長時間進行安定處理。
另外，本發明目的為提供一種含有機物之水的處理方法及處理裝置，使用RO膜分離裝置對由大量含有硬度成分之電子元件製造工廠、其他各區域所排出的高濃度至低濃度含有機物之水進行處理‧回收時，抑制設置於RO膜分離裝置前段的活性碳塔或陽離子交換塔或軟化塔中黏泥的繁殖，同時防止RO膜分離裝置內有機物的膜面附著造成之通量降低及生物淤積，進行長時間安定的處理，同時有效率地減低水中TOC濃度，得到高水質的處理水。
第1態樣(aspect)之含有機物之水的處理方法，係包含氧化劑添加步驟，係將氧化劑添加於含有機物之水；活性碳處理步驟，係以活性碳處理經過該氧化劑添加步驟之上述含有機物之水；與逆滲透膜分離步驟，係將經過該活性碳處理步驟之上述含有機物之水流通至逆滲透膜分離手段之上述含有機物之水的處理方法，其特徵為使用結合氯系氧化劑作為上述氧化劑。
第2態樣之含有機物之水的處理方法，係如第1態樣，其中特徵為在上述氧化劑添加步驟中所添加之結合氯系氧化劑量係以結合氯濃度為1mg-Cl2 /L以上。
第3態樣之含有機物之水的處理方法，如第1或第2態樣，其中特徵為上述活性碳處理步驟，係將上述含有機物之水以SV20hr-1 以上流通至活性碳塔之步驟。
第4態樣之含有機物之水的處理方法，係如第1至第3之任1態樣，其中特徵為進一步包含：硬度成分除去步驟，係將經過上述活性碳處理步驟之上述含有機物之水流通至陽離子交換手段使硬度減低；積垢防止劑添加步驟，係於經過該硬度成分除去步驟之上述含有機物之水中添加經過該硬度成分除去步驟之上述含有機物之水中所含之鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑；與pH調整步驟，係該積垢防止劑添加步驟之前、後或同時，於上述含有機物之水中添加鹼，以使被導入後段之逆滲透膜分離手段之上述含有機物之水的pH成為9.5以上之方式進行調整。
第5態樣之含有機物之水的處理裝置，係在包含氧化劑添加手段，係將氧化劑添加於含有機物之水；活性碳處理手段，係以活性碳處理經過該氧化劑添加手段之上述含有機物之水；與逆滲透膜分離手段，係對經過該活性碳處理手段之上述含有機物之水進行逆滲透膜分離處理之上述含有機物之水的處理裝置中，特徵為使用結合氯系氧化劑作為上述氧化劑。
第6態樣之含有機物之水的處理裝置，係如第5態樣，其中特徵為上述氧化劑添加手段中，所添加之結合氯系氧化劑量為以結合氯濃度為1mg-Cl2 /L以上。
第7態樣之含有機物之水的處理裝置，係如第5或第6態樣，其中特徵為上述活性碳處理手段係活性碳塔，其流通水SV為20hr-1 以上。
第8態樣之含有機物之水的處理裝置，係如第5至第7之任1態樣，其中特徵為進一步包含：硬度成分除去手段，係包含流通有經過該活性碳處理手段之上述含有機物之水之陽離子交換手段；積垢防止劑添加手段，係於經過該硬度成分除去手段之上述含有機物之水添加經過該硬度成分除去手段之上述含有機物之水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑；與pH調整手段，係在該積垢防止劑添加手段之前、後或同時，於上述含有機物之水添加鹼，以使被導入後段之逆滲透膜分離手段之上述含有機物之水的pH成為9.5以上之方式調整。
根據本發明之含有機物之水的處理方法及處理裝置，結合氯系氧化劑一面進行活性碳塔內之生菌抑制，一面以高濃度由活性碳塔漏出，因此不用在活性碳塔之後段施以新的殺菌處理，可防止在後段RO膜分離裝置內有機物的膜面附著(有機物淤積)造成之通量降低、生物淤積，進行長時間安定的處理，同時可有效率地減低水中TOC濃度得到高水質的處理水。而且，只要為結合氯系氧化劑，若使用其進行RO膜之殺菌處理，即使RO膜為缺乏耐氯性的聚醯胺系複合膜，則膜透過率亦不會降低。
若結合氯系氧化劑之添加量為過少，則由活性碳塔漏出的結合氯系氧化劑之量變少，結果在後段中，無法得到充分的黏泥繁殖抑制效果。於是，如第2及第6態樣般，藉由將氧化劑添加量定為結合氯濃度1mg-Cl2 /L以上，可得到充分之漏出量。
另外，將添加結合氯系氧化劑之水流通至活性碳塔時，若其流通水SV小，則變成結合氯系氧化劑被活性碳塔除去，而不會漏出至活性碳塔的流出水中(以下有稱為「活性碳處理水」的情況。)，此結果，變成無法得到活性碳塔後段之殺菌效果。因此，如第3及第7態樣般，活性碳塔之流通水SV係以定為20hr-1 以上者為佳。
如第4及第8態樣般，藉由鹼之添加使RO給水的pH成為9.5以上之方式調整為適合的理由如同以下所述。
亦即，微生物無法生活在鹼性區域。為此，藉由RO給水的pH調整至9.5以上，成為可作出有營養源但是微生物無法生活的環境、可抑制在RO膜分離裝置之生物淤積。
另外已知，有使通量降低之虞的非離子性界面活性劑，係在鹼性區域會由膜面脫附，藉由使RO給水的pH成為9.5以上，成為可抑制該等成分往RO膜面之附著。
另外，如第4及第8態樣般，以硬度成分除去處理水之鈣離子濃度的5重量倍以上添加積垢分散劑為適合的理由如同以下所述。
亦即，藉由陽離子交換處理，可除去原水中所存在之鈣離子等離子類，然而原水中所存在之積垢成分為錯合物形成之物或懸浮化之物亦存在著，如此的物質，不會在陽離子交換處理被除去，而流入RO膜分離裝置，成為引起膜面中積垢生成的核物質。藉由將積垢防止劑添加於被處理水，可抑制如此的積垢核物質的膜面中之成長，而成為可完全抑制RO膜面中之積垢問題。如上所述，在將RO給水的pH定為9.5以上高pH的RO運轉條件下，即使極微量之鈣離子之混入，碳酸鈣等積垢亦會生成，RO膜立刻阻塞。於是，由抑制如此的積垢造成的膜面阻塞之目的考量，在第4及第8態樣，將該水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑添加於硬度成分除去後之水以防止積垢生成。
本發明除了適用於作為用於電子元件製造之工業用水的超純水之製造過程，其他還能有效地適用在電子元件製造區域、半導體製造區域、其他各種產業區域所排出之高濃度至低濃度TOC含有廢水之放流，或用於回收‧再利用之水處理方面。
於以下參照圖式對本發明之含有機物之水的處理方法及處理裝置之實施形態作詳細地說明。
圖1、2係表示本發明之含有機物之水的處理方法及處理裝置之實施形態的系統圖。圖中P為泵。
於圖1，將結合氯系氧化劑及凝集劑以及因應必要將pH調整劑，在凝集槽2中添加於經過原水儲槽1所導入的原水(工業用水等含有機物之水)之後，依序流通至壓力過濾塔3、活性碳塔4、過濾處理水槽5，其後經過安全過濾器6，導入至RO膜分離裝置7，進行RO膜分離處理。
於本發明所使用之結合氯系氧化劑並無特別限定，可使用氯胺(在氮上具有氯原子的氮化合物)等無機結合氯系氧化劑、氯胺T、二氯胺T、氯胺B等有機結合氯系殺菌劑。該等單獨使用1種，或混合2種以上使用皆可。
另外，於本發明所使用之結合氯系氧化劑之「結合氯」係如同以下所述。
氯會與水中之氨化合物反應而產生氯胺。所產生之氯胺則依照水之pH，有單氯胺(NH2 Cl)、二氯胺(NHCl2 )、三氯胺(NCl3 )。一般而言，自來水所含之氯胺，係單氯胺與二氯胺。將此單氯胺與二氯胺稱為結合氯，具有消毒效果。
結合氯在殺菌力方面劣於游離氯(殺菌力的大小為HOCl＞OCl- ＞無機氯胺＞有機氯胺。)，而結合氯有相較於游離氯為安定且長時間不會分解而殘留下來發揮消毒效果的特徵。另外，氯胺B、氯胺T為商品名，化學物質名分別如同以下所述。
氯胺B(N-氯-苯磺醯胺鈉)
氯胺T(N-氯-P-甲苯磺醯胺鈉3水合物)
在本發明中，亦可使用預先調整過的試藥作為結合氯系氧化劑，而結合氯系氧化劑係由於其使用困難，因此亦可在現場使氯系化合物與氨化合物反應，例如以下述之反應式使結合氯系氧化劑產生而使用。
NH3 +NaClO→NH2 Cl+H2 O
在與氯系化合物反應的氨化合物之中，尤其是由磺胺酸及/或其鹽所構成之結合氯系氧化劑，係水中安定性優異，因此適合作為實際使用。
本發明中之氯系化合物只要為與氨化合物反應而產生結合氯系氧化劑者，則並未特別受到限定，而可列舉例如次亞氯酸、次亞氯酸之鹼金屬鹽、氯(Cl2 )等。
添加的結合氯系氧化劑其結合氯濃度宜成為1mg-Cl2 /L以上，較佳為1～50mg-Cl2 /L之添加量。一般而言，結合氯系氧化劑，係由於活性碳中之分解除去性低，因此變成由後段活性碳塔4立刻漏出般，而可得到殺菌效果，而添加濃度為未滿1mg-Cl2 /L的情況、或活性碳塔4中之流通水SV為未滿20hr -1 的情況下，由活性碳塔4漏出之濃度變為極低，成為難以抑制設置於活性碳塔4內或後段的裝置(例如圖2之軟化塔8)中之黏泥增殖。另外，從結合氯系氧化劑即使過度大量添加，在藥劑成本層面為不適合的情形考量，係以結合氯濃度定為50mg-Cl2 /L以下者為佳。
另外，在原水中存在懸浮物質的情況下，如圖1所示，以藉由在添加結合氯系氧化劑之後，或在添加前進行pH調整至最適凝集pH區域，添加凝集劑預先進行凝集過濾等而除去懸浮物質之後、流通至活性碳塔者為佳。此情況，就所使用之凝集過濾手段而言，只要是施以壓力過濾、重力過濾、精密過濾、超過濾、加壓浮上、沉澱等處理可除去原水中所含的懸浮物質者即可，並無特別限定。
就流通有添加了結合氯系氧化劑、因應必要進行懸浮物質除去處理的原水之活性碳塔4所使用之活性碳而言，煤碳系、椰子殼系等、並無特別限定，形狀為粒狀活性碳、珠狀活性碳等，亦並未特別受到限定。
活性碳塔4之形式為流動床、固定床等，亦並未特別受到限定，而從抑制微粉碳漏出的觀點上考量，係以固定床為佳。
若此活性碳塔4之流通水SV過小，則如上所述，會變成結合氯系氧化劑受到活性碳塔4除去，活性碳處理水之結合氯系氧化劑濃度變低，變成無法得到在後段的黏泥增殖抑制效果。因此，以活性碳塔4之流通水SV定為20hr-1 以上者為佳。但是，若活性碳塔4之流通水SV過大，則無法充分得到活性碳塔4中來自原水之氧化劑除去效果，因此活性碳塔4之流通水SV，係特別以定為50hr-1 以下，尤其以20～40hr-1 者為佳。
另外，在本發明中以活性碳進行的處理，只要能除去來自原水之氧化劑者即可，並未受到活性碳塔任何的限定。但是由處理效率方面看來，係以使用活性碳塔為佳。
就在本發明中所使用之RO膜而言，並未特別受到限定，而宜為使用具有將1500mg/L之食鹽水以1.47MPa、25℃、pH7之條件進行RO膜分離處理時之鹽排除率(以下，簡稱為「鹽排除率」)為95%以上之脫鹽性能之聚乙烯基醇系之低淤積用RO膜者為佳。
於圖2，在經過原水儲槽1而導入的原水添加結合氯系氧化劑以及因應必要添加pH調整劑之後，依序流通至活性碳塔4、軟化塔8，其後，將積垢分散劑以成為軟化塔8排出水(以下有稱為「軟化處理水」的情況。)的鈣離子濃度的5倍量以上之方式添加之後，添加鹼將pH調整至9.5以上之後，經過中間儲槽9，以高pH狀態導入RO膜分離裝置7，進行RO膜分離處理。
在圖2中，結合氯系氧化劑之添加及活性碳塔4中的處理，係與圖1中的方式同樣地進行。
就流通有活性碳處理水之軟化塔8所使用之離子交換樹脂而言，離子交換基為H的H型陽離子交換樹脂、為Na的Na型陽離子交換樹脂、或螯合樹脂等，可除去原水中之硬度成分者即可，並未特別受到限定。另外，軟化塔8的型式為流動床、固定床等，亦並未特別受到限定。
另外，在本發明中，用於硬度成分除去的處理不限軟化塔，亦可為陽離子交換塔。另外，並未受到塔型式任何的限定，而與活性碳塔同樣地、由處理效率方面看來以塔形式為佳。
軟化塔8或陽離子交換塔之流通水SV係並無特別限制，由處理效率、硬度成分除去效果方面考量通常以SV10～40hr-1 進行處理。
就添加至軟化塔8的處理水的積垢防止劑而言，係以容易在鹼區域解離而與金屬離子形成錯合物的乙二胺四醋酸(EDTA)或氨三醋酸(NTA)等螯合系積垢防止劑為適合使用，而其他還可使用(甲基)丙烯酸聚合物及其鹽、馬來酸聚合物及其鹽等低分子量聚合物、乙二胺四亞甲基膦酸及其鹽、羥亞乙基二膦酸及其鹽、硝基三亞甲基膦酸及其鹽、膦酸丁烷三羧酸及其鹽等膦酸及膦酸鹽、六偏磷酸及其鹽、三聚磷酸及其鹽等無機聚合磷酸及無機聚合磷酸鹽等。該等積垢防止劑單獨使用1種，或併用2種以上皆可。
在本發明中，積垢防止劑之添加量定為軟化塔8流出水(添加有積垢防止劑之水)中之鈣離子濃度的5重量倍以上。在積垢防止劑之添加量為未滿軟化處理水中鈣離子濃度的5重量倍的情況，無法充分地得到積垢防止劑之添加效果。從積垢防止劑即使過度大量地添加，藥劑成本層面不適合的情形考量，係以定為軟化處理水中鈣離子濃度的5～50重量倍者為佳。
添加積垢防止劑之水，係接著添加鹼，使後段之RO膜分離裝置7所導入之水(RO給水)之pH成為9.5以上(宜為10以上，較佳為10.5～12)，例如pH10.5～11之方式調整。就此處所使用的鹼而言，氫氧化鈉、氫氧化鉀等，只要為可將RO給水的pH調整至9.5以上的無機物系鹼劑即可，並無特別限定。
另外，在本發明中、積垢分散劑、鹼之添加位置只要在軟化塔8與RO膜分離裝置7之間即可，並無特別限制、該等藥劑的添加順序亦為任意，而由在系統中，完全地抑制微生物之繁殖，同時完全抑制系統中之積垢生成之目的考量，係以添加積垢分散劑之後添加鹼而使RO給水的pH成為9.5以上之方式調整者為佳。
另外，在本發明中，亦可因應必要使用還原劑，將殘留之結合氯系氧化劑進行還原處理而分解除去。就此處所使用之還原劑而言，只要為可除去亞硫酸氫鈉等、結合氯系氧化劑者即可，並未特別受到限定。還原劑單獨使用1種，或混合2種以上使用皆可。還原劑之添加量只要為能完全除去殘留的結合氯系氧化劑般之量即可。還原劑通常在軟化塔8入口側添加。
如此的方式，就經過前處理的水所導入的RO膜分離裝置7之RO膜而言，係具有耐鹼性者，而可列舉例如聚醚醯胺複合膜、聚乙烯基醇複合膜、芳香族聚醯胺膜等，而宜為具有將1500mg/L之食鹽水以1.47MPa、25℃、pH7之條件進行RO膜分離處理時之鹽排除率(以下簡稱為「鹽排除率」。)為95%以上之脫鹽性能的聚乙烯基醇系之低淤積用RO膜。使用如此的低淤積用RO膜為適宜的理由如同以下所述。
亦即，上述低淤積用RO膜與通常所使用之芳香族聚醯胺膜比較，係失去膜表面之荷電性，而使親水性提升，因此在耐污染性方面非常優異。然而，對於大量含非離子性界面活性劑的水而言，其耐污染性效果減低，通量會逐時地降低。
另一方面，藉由將RO給水的pH調整至9.5以上，有使RO膜通量降低之虞的非離子性界面活性劑會由膜面脫附，因此即使在使用通常所使用之芳香族系聚醯胺膜的情況下，亦可抑制極端的通量降低。但是，在RO給水中之非離子性界面活性劑濃度高的情況下，其效果亦減低，長期而言通量會降低。
於是，在本發明中，為了解決如此的問題點，宜為藉由將具有上述特定脫鹽性能之聚乙烯基醇系之低淤積用RO膜、與使RO給水的pH定為9.5以上而流通的條件加以組合，對於高濃度的含非離子性界面活性劑之RO給水，亦不會引起通量降低，成為可進行長時間安定之運轉。
此RO膜為螺旋型、中空系型、管狀型等任何一種形式皆可。
RO膜分離裝置7之透過水(以下有稱為「RO處理水」的情況)，在接下來添加酸調整至pH4～8，因應必要進一步施以活性碳處理等之後，再利用或放流。就此處使用之酸而言，係並無特別限制，可列舉鹽酸、硫酸等礦酸。
另一方面，RO膜分離裝置7之濃縮水(以下有稱為「RO濃縮水」的情況)被排出至系統外，而被處理。
另外，圖1、2係表示本發明實施形態之一例，本發明只要不超過其要旨，則並不受到圖示者任何限定，例如以RO膜分離裝置進行的處理並不限一階段處理，亦可為2階段以上的多階段處理。再者，亦可設置用於pH調整或積垢防止劑等添加之混合槽。
[實施例]
於以下列舉實施例及比較例與參考例，對本發明作較具體地說明。
[圖1所表示之實施形態之實施例及比較例] ＜實施例1＞
將氯胺T以結合氯濃度成為5mg-Cl2 /L之方式添加至含TOC1mg/LasC的工業用水之後，以PAC(聚氯化鋁)添加量10mg/L、pH6之條件進行凝集過濾處理。將凝集過濾處理水以SV20hr-1 之條件流通至活性碳塔之後，以流通量60L/hr、回收率80%之條件流通至RO膜分離裝置(日東電工製超低壓芳香族聚醯胺型RO膜「ES-20」)。RO給水pH為5.5。
＜比較例1＞
將NaClO以游離氯濃度成為0.5mg-Cl2 /L之方式代替氯胺T添加至含TOC1mg/LasC的工業用水以外，係以與實施例1同條件進行處理。
＜實施例2～5＞
將氯胺T以結合氯濃度成為0.5mg-Cl2 /L(實施例2)、0.8mg-Cl2 /L(實施例3)、1mg-Cl2 /L(實施例4)、或3mg-Cl2 /L(實施例5)之方式添加至含TOC1mg/LasC的工業用水以外，係以與實施例1同條件分別進行處理。
＜實施例6～9＞
將氯胺T以結合氯濃度成為1mg-Cl2 /L之方式添加至TOC1mg/Las之C的廢水後，以PAC添加量10mg/L、pH6之條件進行凝集過濾處理。將凝集過濾處理水以SV10hr-1 (實施例6)、SV15hr-1 (實施例7)、SV20hr-1 (實施例8)，或SV30hr-1 (實施例9)之條件流通至活性碳以外，係以與實施例1同條件進行處理。
＜生菌繁殖抑制效果之評估＞
調查在實施例1及比較例1中，各點中之生菌數，將結果表示於表1。
由表1明顯地可知，在使用結合氯系氧化劑氯胺T的實施例1中，在全測定點中，生菌並未被觀測出來，相對於此，在比較例1中，在活性碳處理水有103 個/ml生菌在繁殖，藉由以往所使用之殺菌劑，相比於活性碳塔，較為無法抑制後段中黏泥之增殖。
＜RO膜壓差上昇抑制效果之評估＞
調查在實施例1及比較例1中，RO膜分離裝置壓差之逐日變化，將結果表示於圖3。
由圖3明顯地，在實施例1中，RO膜分離裝置壓差上昇並未被觀測出來，相對於此，在比較例1中，於流通開始約7個月壓差為到達約0.4MPa。由阻塞的RO膜分離裝置，任一者皆有黏泥的附著被觀測到。
＜結合氯濃度與生菌繁殖抑制效果之關係＞
調查實施例2～5中之活性碳給水(導入活性碳塔的水)及活性碳處理水(活性碳塔之流出水)之結合氯濃度與活性碳處理水之生菌數，將結果表示於表2。
由表2明顯地，在活性碳給水以結合氯濃度為1mg-Cl2 /L以上，由活性碳處理水生菌並未被觀測出來。
＜活性碳塔流通水SV與生菌繁殖抑制效果之關係＞
調查實施例6～9中之活性碳處理水之結合氯濃度與生菌數，將結果表示於表3。
由表3明顯地、在活性碳塔流通水SV20hr-1 以上，由活性碳處理水生菌並未被觀測出來。
由以上之結果可知，為了抑制活性碳塔中之黏泥增殖，必要的條件為活性碳塔給水以結合氯濃度為1mg/L以上，活性碳塔流通水SV為20hr-1 以上。
[圖2所表示之實施形態之實施例及比較例與參考例] ＜實施例10＞
將氯胺T以結合氯濃度成為5mg-Cl2 /L之方式添加至含非離子性界面活性劑之TOC濃度20mg/L、鈣濃度5mg/L的廢水之後，以PAC(聚氯化鋁)添加量20mg/L、pH6.5之條件進行凝集過濾處理。將凝集過濾處理水以SV20hr-1 之條件流通至固定床式活性碳塔之後、以SV15hr-1 之條件流通至軟化塔，其後，添加EDTA系積垢防止劑(栗田工業股份有限公司製WELLCLEANA801)10mg/L(軟化塔處理水之鈣離子濃度的5重量倍)，添加NaOH，設定成pH10.5之後，藉由RO膜分離裝置(日東電工製超低壓芳香族聚醯胺型RO膜「ES-20」)，以流通量60L/h、回收率80%之條件進行RO膜分離處理。另外，RO給水的pH為9.5。
＜比較例2＞
除了將NaClO以游離氯濃度成為0.5mg-Cl2 /L之方式代替氯胺T添加至含有含非離子性界面活性劑之TOC濃度20mg/L、鈣濃度5mg/L的廢水以外，係以與實施例10同條件進行處理。
＜實施例11～14＞
除了將氯胺T以結合氯濃度成為0.5mg-Cl2 /L(實施例11)、0.8mg-Cl2 /L(實施例12)、1mg-CL2 /L(實施例13)，或3mg-Cl2 /L(實施例14)之方式添加至含非離子性界面活性劑之TOC濃度20mg/L、鈣濃度5mg/L的廢水以外，係以與實施例10同條件分別進行處理。
＜實施例15～18＞
將氯胺T以結合氯濃度成為1mg-CL2 /L之方式添加至含有含非離子性界面活性劑之TOC濃度20mg/L、鈣濃度5mg/L的廢水之後，以PAC添加量20mg/L、pH6.5之條件進行凝集過濾處理。將凝集過濾處理水，以流通水SV10hr-1 (實施例15)、15hr-1 (實施例16)、20hr-1 (實施例17)、或30hr-1 (實施例18)流通至固定床式活性碳塔以外，係以與實施例1同條件分別進行處理。
＜參考例1、2＞
除了以RO給水的pH成為6(參考例1)，或8.5(參考例2)之方式調整軟化塔處理水之pH以外，係以與實施例10同條件分別進行處理。
＜生菌繁殖抑制效果之評估＞
調查在實施例10及比較例2中，各點中之生菌數，將結果表示於表4。
由表4明顯地可知，相對於在使用結合氯系氧化劑氯胺T的實施例10中，在全測定點中，生菌並未被觀測到，在比較例2中，在活性碳處理水為105 個/ml、在軟化塔處理水為106 個/ml(在添加鹼之前取樣)，有生菌在繁殖，藉由以往所使用之殺菌劑，相比於活性碳塔較為無法抑制後段中之黏泥之增殖。
＜RO膜壓差上昇抑制效果之評估＞
調查在實施例10、比較例2及參考例1、2中，RO膜分離裝置之通量之逐日變化，將結果表示於表5。
由表5明顯地，在實施例10中，RO膜分離裝置之通量降低並未被觀測出來，相對於此，比較例2中在30天後通量到達約0.5m3 /m2 ‧day。由阻塞的RO膜偵測到黏泥。另外，在參考例1、2中，雖然從流通開始到30天都沒有見到通量降低，但在60天後降低至0.7m3 /m2 ‧day、在90天後降低至0.4m3 /m2 ‧day程度。由阻塞的膜面沒有黏泥的痕跡，模組壓差之上昇並未被觀測出，因此暗示了界面活性劑造成的阻塞。
由此結果可知，使用結合氯系氧化劑，將RO給水的pH定為9.5以上，對於防止RO膜分離裝置之通量降低是有效的。
＜結合氯系氧化劑添加量與生菌繁殖抑制效果之關係＞
調查實施例11～14中之活性碳處理水及軟化處理水之生菌數，將結果表示於表6。
由表6可知，為了確實地抑制生菌之繁殖，係以活性碳塔給水的結合氯濃度成為1mg-Cl2 /L以上之方式添加結合氯系氧化劑為佳。
＜活性碳塔流通水SV與生菌繁殖抑制效果之關係＞
調查實施例15～18中之活性碳處理水及軟化塔處理水之生菌數，將結果表示於表7。
由表7可知，為了確實地抑制生菌繁殖，將活性碳塔的流通水SV係以定為20hr-1 以上為佳。
本申請係以2007年8月29日所申請的日本專利申請(特願2007-222758)為基礎，其內容係收取於此而作為參照。
1．．．原水儲槽
2．．．凝集槽
3．．．壓力過濾塔
4．．．活性碳塔
5．．．過濾處理水槽
6．．．安全過濾器
7．．．RO膜分離裝置
圖1為表示本發明之含有機物之水的處理方法及處理裝置之實施形態之系統圖。
圖2為表示本發明之含有機物之水的處理方法及處理裝置之其他實施形態之系統圖。
圖3為表示實施例1及比較例1中之RO膜分離裝置壓差逐時變化之圖形。
1．．．原水儲槽
2．．．凝集槽
3．．．壓力過濾塔
4．．．活性碳塔
5．．．過濾處理水槽
6．．．安全過濾器
7．．．RO膜分離裝置

Claims (4)

  1. 一種含有機物之水的處理方法，其係包含：氧化劑添加步驟，係將氧化劑添加於含有機物之水；活性碳處理步驟，係以活性碳處理經過該氧化劑添加步驟之該含有機物之水；與逆滲透膜分離步驟，係將經過該活性碳處理步驟之該含有機物之水流通至逆滲透膜分離手段；其特徵為使用結合氯系氧化劑作為該氧化劑，且(a)在該氧化劑添加步驟中所添加之結合氯系氧化劑量係以結合氯濃度為1~50mg-Cl2 /L，(b)該活性碳處理步驟，係將該含有機物之水以SV20~50hr-1 流通至活性碳塔之步驟，(c)結合氯系氧化劑由活性碳處理步驟漏出、流至該逆滲透膜分離步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項之含有機物之水的處理方法，其中進一步包含：硬度成分除去步驟，係將經過該活性碳處理步驟之該含有機物之水流通至陽離子交換手段，而使硬度減低；積垢防止劑添加步驟，係於經過該硬度成分除去步驟之該含有機物之水中添加經過該硬度成分除去步驟之該含有機物之水中所含之鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑；與pH調整步驟，係在該積垢防止劑添加步驟之前、後或同時，於該含有機物之水中添加鹼，以使被導入後段之 逆滲透膜分離手段之該含有機物之水的pH成為9.5以上之方式進行調整。
  3. 一種含有機物之水的處理裝置，其係包含：氧化劑添加手段，係將氧化劑添加於含有機物之水；活性碳處理手段，係以活性碳處理經過該氧化劑添加手段之該含有機物之水；與逆滲透膜分離手段，係對經過該活性碳處理手段之該含有機物之水進行逆滲透膜分離處理；其特徵為使用結合氯系氧化劑作為該氧化劑，(a’)在該氧化劑添加手段中所添加之結合氯系氧化劑量係以結合氯濃度為1~50mg-Cl2 /L，(b’)該活性碳處理手段為活性碳塔，且係將該含有機物之水以SV20~50hr-1 流通至活性碳塔，(c’)結合氯系氧化劑由活性碳塔漏出、流至該逆滲透膜分離步驟。
  4. 如申請專利範圍第3項之含有機物之水的處理裝置，其中進一步包含：硬度成分除去手段，係包含流通有經過該活性碳處理手段之該含有機物之水之陽離子交換手段；積垢防止劑添加手段，係於經過該硬度成分除去手段之該含有機物之水中添加經過該硬度成分除去手段之該含有機物之水中鈣離子之5重量倍以上之積垢防止劑；與pH調整手段，係在該積垢防止劑添加手段之前、後或同時，於該含有機物之水中添加鹼，以使被導入後段之 逆滲透膜分離手段之該含有機物之水的pH成為9.5以上之方式進行調整。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5177538B2 (ja) * 2008-10-03 2013-04-03 三浦工業株式会社 純水の製造方法、及び純水製造システム
JP5604913B2 (ja) * 2010-03-05 2014-10-15 栗田工業株式会社 水処理方法及び超純水製造方法
JP5604914B2 (ja) * 2010-03-05 2014-10-15 栗田工業株式会社 水処理方法及び超純水製造方法
CN102781850B (zh) * 2010-03-05 2014-12-24 栗田工业株式会社 水处理方法及超纯水的制造方法
SG184357A1 (en) * 2010-03-31 2012-11-29 Kurita Water Ind Ltd Combined chlorine agent, and manufacturing method and method of use for same
WO2011125764A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 栗田工業株式会社 逆浸透膜処理方法
JP5800618B2 (ja) * 2011-07-22 2015-10-28 伯東株式会社 スライム剥離方法
WO2013096284A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 3M Innovative Properties Company Filtration medium comprising a metal sulfide
US9868660B2 (en) * 2012-04-17 2018-01-16 Water Solutions, Inc. Methods and systems for reducing biofouling of microfiltration membranes
JP6093620B2 (ja) * 2013-03-29 2017-03-08 アクアス株式会社 貯蔵安定性の高い酸化性スライムコントロール剤組成物
CN104108813B (zh) * 2014-07-17 2016-06-08 中国石油天然气股份有限公司 炼化污水脱盐一体化处理工艺及装置
MY186884A (en) * 2015-02-24 2021-08-26 Organo Corp Method for modifying reverse osmosis membrane, reverse osmosis membrane, treatment method for boron-containing water, and method for operating separation membrane
WO2016201060A1 (en) * 2015-06-12 2016-12-15 Justeq, Llc Biocide composition and method
JP6691418B2 (ja) * 2016-04-08 2020-04-28 アクアス株式会社 微生物抑制剤組成物および微生物抑制方法
JP6823401B2 (ja) * 2016-08-23 2021-02-03 オルガノ株式会社 低分子有機物含有水の処理方法および逆浸透膜の改質方法
KR102291224B1 (ko) * 2016-10-25 2021-08-19 오르가노 코포레이션 역침투막을 이용하는 수처리 방법 및 수처리 장치
US11130691B2 (en) 2017-12-22 2021-09-28 Cabot Corporation Anti-scaling composition for water systems
CN109336244A (zh) * 2018-11-22 2019-02-15 沈阳有色金属研究院有限公司 一种处理碳载贵金属催化剂工业废水的方法
JP6973565B1 (ja) * 2020-05-28 2021-12-01 栗田工業株式会社 逆浸透膜処理方法
CN111704273A (zh) * 2020-06-29 2020-09-25 上海力脉环保设备有限公司 一种含金刚烷胺废水的处理装置及应用方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW574144B (en) * 2000-09-26 2004-02-01 Microbar Inc Simultaneous ammonia and fluoride treatment for wastewater
TW593161B (en) * 2001-08-13 2004-06-21 Toray Industries System for producing purified water
TW200626506A (en) * 2005-01-25 2006-08-01 Kurita Water Ind Ltd Processing method and process apparatus for treating water containing biologically treated water

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US148790A (en) * 1874-03-17 Improvement in harvester-droppers
JPS61245889A (ja) * 1985-04-23 1986-11-01 Unitika Ltd 浄水方法
JPH0811173B2 (ja) * 1987-11-20 1996-02-07 東レ株式会社 精製水の製造方法
JP3312483B2 (ja) * 1994-06-10 2002-08-05 東レ株式会社 逆浸透処理方法および造水方法
JP3231606B2 (ja) * 1995-12-08 2001-11-26 オルガノ株式会社 超純水製造装置
US6398965B1 (en) * 1998-03-31 2002-06-04 United States Filter Corporation Water treatment system and process
US6416668B1 (en) * 1999-09-01 2002-07-09 Riad A. Al-Samadi Water treatment process for membranes
JP2002010724A (ja) * 2000-06-29 2002-01-15 Babcock Hitachi Kk 海水中のアンモニア分解方法および装置
JP2004267830A (ja) * 2003-03-05 2004-09-30 Kurita Water Ind Ltd 生物処理水含有水の処理方法
JP4958384B2 (ja) * 2003-08-18 2012-06-20 栗田工業株式会社 半導体製造プロセスから排出される有機体炭素含有水の生物処理水の処理方法
FR2861604B1 (fr) * 2003-10-29 2007-02-16 Millipore Corp Module de purification d'un fluide contenant un agent de nettoyage, et procedes de fabrication et d'utilisation d'un tel module
JP3906855B2 (ja) * 2004-08-10 2007-04-18 栗田工業株式会社 有機物及び酸化剤含有排水の処理方法及び処理装置
JP4496795B2 (ja) * 2003-11-18 2010-07-07 栗田工業株式会社 有機物含有排水の処理方法及び処理装置
JP2005152688A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Kurita Water Ind Ltd 膜分離方法
JP2005230714A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Ebara Corp 圧力式液体処理塔

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW574144B (en) * 2000-09-26 2004-02-01 Microbar Inc Simultaneous ammonia and fluoride treatment for wastewater
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