TWI327897B - - Google Patents

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TWI327897B
TWI327897B TW096110300A TW96110300A TWI327897B TW I327897 B TWI327897 B TW I327897B TW 096110300 A TW096110300 A TW 096110300A TW 96110300 A TW96110300 A TW 96110300A TW I327897 B TWI327897 B TW I327897B
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rinsing
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rinsing liquid
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roll
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Inventor
Futoshi Shimai
Shigeru Kawata
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes

Description

1327897 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於對玻璃基板或半導體基板等各種基板表 面進行沖洗的沖洗作業所使用的沖洗輥。 【先前技術】 液晶用的玻璃基板或半導體基板,是在顯像處理等各 種處理執行後,使用純水等沖洗液進行沖洗處理。該沖洗 作業,是使用植設有多數刷毛的沖洗刷,一邊噴射沖洗液 一邊利用刷毛的刷除作用進行沖洗(例如參照專利文獻1 )° [專利文獻1]日本特開2001-204052號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] 上述專利文獻所記載的沖洗刷,因是將可噴出沖洗液 的流體出口配置成圓周形,所以從沖洗刷噴出的沖洗液會 滯留在基板表面上,導致顯像劑等應該沖洗的物質所污染 的沖洗液殘留在基板表面上造成問題。此外,從沖洗刷噴 出的沖洗液,於基板上是被供應成條狀,所以對於形成輸 送狀態的基板也會有沖洗不均勻的不利狀況發生。 本發明的目的是提供一種不會讓污染的沖洗液滯留在 基板上,可更進一步改善沖洗效果的沖洗輥。 -4- (2) (2)1327897 [用以解決課題之手段] 本發明的沖洗輥,其特徵爲, 具有:中空圓筒狀的輥本體,該輥本體具有沖洗液流 路構成用的內部空間;設置在輥本體外圍面的刷毛;及可 使述輥本體旋轉自如地連結於沖洗液供應導管的連結構 件, 上述輥本體的內部空間是連接於上述沖洗液供應導管 於上述輥本體,形成和上述內部空間連通可噴射沖洗 液的複.數噴射孔是沿著輥本體的軸線形成螺旋狀。 本發明的沖洗輥中,沖洗液噴射用的噴射孔因是沿著 輥軸線形成螺旋狀,所以從沖洗輥所噴出的沖洗液是經噴 射作用成往斜側方而不往後方推出殘留在基板上的污染沖 洗液。其結果,可使殘留在基板上的污染沖洗液迅速從基 板表面去除,消除污染沖洗液殘留在基板上造成的不利點 〇 再加上,對於基板沖洗液並不是噴射成條狀,而是朝 基板全面均勻噴射沖洗液,因此也可消除沖洗不均勻造成 的不利點。 本發明的沖洗輥最佳實施例,其特徵爲,刷毛是於相 鄰接的噴射孔間,以和噴射孔形成的螺旋間距相同的間距 植設成螺旋狀。藉由刷毛和噴射孔都是以相同的螺旋間距 形成’可使污染的沖洗液往基板側方推出的作用有更進一 步的效果。 -5- (3) 1327897 [發明效果] 本發明由於對基板上殘留的殘餘液加以掃除刷毛及沖 洗液噴射用的噴射孔都是形成螺旋狀,因此可消除污染沖 洗液殘留在基板上造成的不利點。再加上,因是對基板全 面均勻噴射沖洗液,所以也可防止沖洗不均勻的狀況發生 【實施方式】 [發明之最佳實施形態] 第1圖爲表示對各種處理後的玻璃基板進行沖洗的沖 洗作業中使用本發明沖洗輥的一例作業線圖。沖洗的玻璃 基板1是由搬運輥2以一定搬運速度朝箭頭符號方向搬運 。夾著搬運中的玻璃基板1將一對沖洗輥2於上下配置2 列。各沖洗輥3a、3b、3c、3d是被安裝成可上下方向移 φ 動,各沖洗輥的刷毛其對玻璃基板的壓入量是受到控制》 此外,各沖洗刷輥的旋轉方向是順時針旋轉,即是設定成 和玻璃基板的搬運方向爲相反方向。沖洗輥3a、3b、3c、 3d,其刷毛是抵接著玻璃基板1的表面,利用其掃除力刷 洗玻璃基板的同時,從沖洗輥朝玻璃基板噴出沖洗液沖洗 玻璃基板的表面。因此,玻璃基板1於搬運中,是由刷毛 的機械性掃除力加以刷洗的同時由噴射的沖洗液沖洗力加 以沖洗。 第2圖及第3圖是表示本發明的沖洗輕一例圖,第2 -6- (5) (5)1327897 【圖式簡單說明】 第1圖爲表示沖洗作業使用本發明沖洗輥的一例作業 線圖β 第2圖爲表示本發明沖洗輥的一例線圖性平面圖。 第3圖爲表示以包括第2圖所示沖洗輥之輥軸線的面 加以切剖時其線圖性剖面圖。
【主要元件符號說明】 1 :玻璃基板 2 :搬運輥 3 a〜3 d :沖洗_ 1〇 :輥本體 1 1 a、1 1 b :軸承 12a、12b :聯結器
14 :導管 1 5 :刷毛 1 6 :噴射孔
-8-

Claims (1)

  1. (1) 1327897 十、申請專利範圍 1- 一種沖洗輥,其特徵爲, ' 具有:中空圓筒狀的輥本體,該輥本體具有沖洗液流 • 路構成用的內部空間:設置在輥本體外圍面的刷毛;及可 使上述輕本體旋轉自如地連結於沖洗液供應導管的連結構 件, 上述輕本體的內部空間是連通於上述沖洗液供應導管 > 於上述輥本體形成和上述內部空間連通可噴射沖洗液 的複數噴射孔是沿著輥本體的軸線形成螺旋狀。 2.如申請專利範圍第1項所記載的沖洗輥,其中,刷 毛是於輥軸線方向相鄰接的噴射孔間,以和噴射孔形成的 螺旋間距相同的間距植設成螺旋狀。
    -9-
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